JP2018524459A - 放射線硬化性組成物、膜、ならびにそのような膜の製造および使用 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
(i)放射線硬化性組成物を膜にパターン状に膜に施用する段階;および
(ii)照射し、これにより、膜上に存在する放射線硬化性組成物を硬化する段階;
を含む、テクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜の調製プロセスであって、該放射線硬化性組成物が、
a)エチレン性不飽和基を1個含む、10〜65重量%の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量(“NAMW”)を有する、3〜60重量%の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜55重量%の不活性溶媒(1以上);
d)0〜10重量%のラジカル開始剤(1以上);および
e)0.5〜25重量%の増粘剤(1以上);
を含む、前記調製プロセスを提供する。
図1の上半分において、放射線硬化性組成物(3)は、スキージー(9)を用いてスクリーン(2)に押しつけられる。組成物の一部(3)はスクリーン(2)の孔(4)を通過して膜(1)上に移る。図1の下半分では、スクリーンを通過して、スクリーンの孔に対応するパターンになっている放射線硬化性組成物部分(3)を持つ膜(1)を、見ることができる。
段階(i)では、放射線硬化性組成物を、任意の望ましい技術を用いて、例えば、印刷方法により、膜にパターン状に施用することができる。適した印刷方法としては、インクジェット印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、および特にスクリーン印刷が挙げられる。
段階(i)および(ii)は、膜の片面または両面に1回または1回より多く実施することができる。例えば、膜の片面または両面に1より多くのパターンで硬化性組成物を施用することにより、複雑なテクスチャー処理表面形状を作り出すことができる。放射線硬化性組成物は、異なる印刷段階ごとに異なっていることができ、または同じであることができる。
放射線源は、組成物を硬化するのに必要な放射線の波長および強度をもたらす任意の放射線源であることができる。硬化のための紫外線源の典型例は、Fusion UV Systemsにより供給されている出力600ワット/インチ(240W/cm)のDバルブである。あるいは、同供給者からのVバルブおよびHバルブである。
段階(ii)は、組成物が膜に施用されてから好ましくは2分以内、より好ましくは60秒以内に開始する。
該プロセスで用いられる膜(すなわち、組成物が施用される前のもの)の厚さは、好ましくは500μm未満、より好ましくは200μm未満、特に10〜150μm、例えば20〜100μm、例えば約50μmである。
電気抵抗、選択透過率および水中膨潤%は、J.of Membrane Science,319(2008)の217〜218頁にDlugolecki et alにより記載されている方法により測定することができる。
テクスチャー%=(テクスチャーの領域/膜の全領域)×100%
[式中:
テクスチャーの領域は、膜の該当する側の平面から外側に伸長している膜の領域であり、テクスチャーと膜の平面の接触部分(例えば、突出部のベース領域)で測定する;
膜の全領域は、膜が平坦でテクスチャー処理されていない場合に膜の該当する側面が有するはずの全有効領域(有効は、膜の使用中に液体と接触する領域を意味する、すなわち、水密シールを形成する膜の領域を除く)である]。
本明細書において、われわれは、テクスチャー%を、膜の全領域に対するテクスチャー領域の比率ともよぶ。
テクスチャー処理表面形状は、突出部のベースで測定して、好ましくは10:1〜1:10、より好ましくは7:1〜1:7、特に5:1〜1:5、さらに特に2.5:1〜1:2.5の平均長さ(L)と平均幅(W)の比を有する突出部を含む。連続リブが用いられ、粒子が2個のリブ間で液体の通過を完全に遮断する可能性がある場合と比べ、上記のLとWの比では、しばしば対流を良好にし閉塞問題を少なくすることができるので、これらの優先傾向が生じる。
Hは、LおよびWより小さいことが好ましい。膜を用いるときに膜の膨潤およびカールを低減することができるので、この優先傾向が生じる。
硬化性イオン性化合物は、アニオン性基またはカチオン性基を含む。組成物のpHに応じて、これらの基は部分的または全体的に塩の形態にあってもよい。硬化性イオン性化合物は、1以上の(好ましくは1個だけ)エチレン性不飽和基の存在により硬化性になることができる。
好ましいエチレン性不飽和基は、(メタ)アクリル基、より好ましくは(メタ)アクリレートまたは(メタ)アクリルアミド基、特にアクリル基、例えば、アクリレートまたはアクリルアミド基である。
成分b)の分子量は、以下の式を満たすことが好ましい:
(W×m) > 架橋剤の分子量
[式中:
mは、架橋剤中に存在するエチレン性不飽和基の数であり;mは2〜6、好ましくは2〜4、特に2または3、さらに特に2である;および
Wは、350、より好ましくは200、特に100、さらに特に85または77である]。
成分b)として用いることができ、2〜6個のアクリルアミド基を有する架橋剤の例としては、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−エチレンビスアクリルアミド、N,N’−プロピレンビスアクリルアミド、N,N’−ブチレンビスアクリルアミド、N,N’−(1,2−ジヒドロキシエチレン)ビスアクリルアミド、1,4−ジアクリロイルピペラジン、1,4−ビス(アクリロイル)ホモピペラジン、トリアクリロイル−トリス(2−アミノエチル)アミン、トリアクロイル(triacroyl)ジエチレントリアミン、テトラアクリロイルトリエチレンテトラミン、および1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジンが挙げられる。
不活性溶媒を包含させることは、組成物の粘度および/または表面張力を低下させて、いくつかの点でプロセスをより容易にするほか、スクリーンを介した組成物の透過を増大させるのに有用であることができ、そして、組成物の固体成分の溶解に有用であることができる。
不活性溶媒(成分c))は、好ましくは60℃未満、より好ましくは40℃未満、特に20℃未満の融点を有する。
−100℃を超える沸点を有するジオール(例えば、エチレングリコールおよびプロピレングリコールを含まない);
−100℃を超える沸点を有するトリオール(例えばグリセロールを含まない);
−100℃を超える沸点を有するカーボネート(例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−t−ブチルジカーボネートおよびグリセリンカーボネートを含まない);
−ジメチルホルムアミド;
−N−メチル−2−ピロリジノン;および
−上記の2以上を含む混合物。
該組成物は、好ましくは0または0.01〜10重量%、より好ましくは0.05〜5重量%、特に0.1〜2重量%の成分d)を含む。該組成物は、1または1より多くの光開始剤を成分d)として含むことができる。
放射線硬化性組成物は、低剪断速度で測定したときに高い粘度を有することが好ましい(これは、スクリーン印刷段階で生じた表面形状を、組成物が硬化されるときまで保持するのに有用である)。
放射線硬化性組成物はさらに、h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、少なくとも800ダルトン、例えば800〜8000ダルトンのNAMWを有する架橋剤を、含んでいてもよい。
少なくとも800ダルトンのNAMWを有する市販の架橋剤は、Sartomerから入手可能であり、脂肪族ウレタン(例えば、CN9002、CN910、CN9245S、CN962、CN964、CN965、CN966、CN991、CN996およびCN998);芳香族ウレタン(例えば、CN9761およびCN9170);ポリエステルアクリレート(例えば、CN2203、CN2609およびCN704);エポキシ官能性オリゴマー(例えば、CN186、CN790、CN2003EUおよびCNUVE150/80);シリコーンオリゴマー(例えば、CN9800およびCN990);メラミンオリゴマー(例えば、CN9890);アクリルオリゴマー(例えば、CN146、CN704、CN816、CN820、CN821、CN823およびCN824)を包含する。
とりわけ好ましい観点において、本発明の第1の観点のプロセスで用いられ、本発明の第2の観点を提供する放射線硬化性組成物は、
a)アクリル基を1個と、スルホ、カルボキシ、ホスファト、第四級アミノおよび第三級アミノ基から選択される1以上の酸性または塩基性基とを含む、12〜60重量%(好ましくは20〜50重量%)の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量(“NAMW”)を有する、4〜50重量%(好ましくは9〜25重量%)の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜50重量%(好ましくは7〜35重量%)の不活性溶媒(1以上);
d)0.01〜10重量%(好ましくは0.05〜5重量%)のラジカル開始剤(1以上);
e)0.05μm未満の平均粒子サイズおよび/または50m2/gを超える(例えば150m2/gを超える)BET表面積を有する形態にある親水性の金属酸化物、カーボンブラック、粘土および炭酸カルシウムから選択される無機充填剤を含む、1〜15重量%(好ましくは2〜12重量%)の増粘剤(1以上);および
h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800〜8000ダルトンのNAMWを有する、1〜15重量%(好ましくは1.5〜12重量%)の架橋剤(1以上);
を含む。
所望により、該組成物は、さらなる構成成分、例えば、100℃未満の沸点を有する不活性溶媒、フロー/レベリング剤、スリップ剤、および/または安定剤を含む。
(A)多孔質支持体に、本発明の第2の観点に従った放射線硬化性組成物を含浸させる段階;
(B)照射し、これにより多孔質支持体中に存在する放射線硬化性組成物を硬化することにより、膜を形成する段階;
を含むプロセスにより調製することを含む。
高速コーティング機による施用に十分な流動性を有する組成物を生産するために、段階(A)で用いられる放射線硬化性組成物は、例えば1.5s−1の剪断速度において、35℃で測定して5000mPa.s未満、より好ましくは、35℃で測定して1〜1500mPa.sの粘度を有することが好ましい。もっとも好ましくは、段階(A)で用いられる組成物の粘度は、35℃で測定して2〜500mPa.sである。スライドビードコーティングなどのコーティング方法の場合、好ましい粘度は、35℃で測定して2〜150mPa.sである。
テクスチャー処理膜は固定支持体を用いてバッチ式で調製することが可能であるが、本発明の利益を十分に得るためには、移動膜をスクリーン印刷することにより連続式でテクスチャー処理膜を調製することが、はるかに好ましい。膜は、連続的に巻き戻されるロールの形態にあることができ、または、膜は、連続的に駆動されているベルト上に載っていることができる(または、これらの方法の組み合わせであってもよい)。そのような技術を用いると、組成物を連続式で膜に施用することができ、または、大規模なバッチ式で施用することができる。
(a)多孔質支持体に第1の放射線硬化性組成物を含浸させるための第1の硬化性組成物施用ステーション;
(b)照射し、これにより多孔質支持体中に存在する放射線硬化性組成物を硬化し、これにより膜を形成するための、第1の照射源;
(c)第2の放射線硬化性組成物を膜上に施用するための第2の硬化性組成物施用ステーション;
(d)照射し、これにより第2の放射線硬化性組成物を持つ膜を硬化し、これによりテクスチャー処理膜を形成するための、第2の照射源;
(e)テクスチャー処理膜収集ステーション;および
(f)第1の放射線硬化性組成物を含浸させた多孔質支持体を第1の照射源へ移動させる手段、形成した膜を第2の硬化性組成物施用ステーションへ移動させるための手段、第2の放射線硬化性組成物を持つ膜を第2の照射源へ移動させる手段、およびテクスチャー処理膜をテクスチャー処理膜収集ステーションへ移動させる手段。
便宜上、同じ意味を、段階(f)のすべてを実施するために用いることができ、例えば、一連のベルトおよび/またはローラーを用いて、上記(f)に記載した移動のすべてを実施することができる。
本発明の第5の観点に従って、本発明の第1〜第3の観点に従ったプロセスにより得られるテクスチャー処理膜の、イオン交換プロセス、例えば、エネルギーの発生、水の処理、または塩および/もしくは金属の採取のための電気透析または逆電気透析における使用を提供する。
以下の実施例において、以下の略語を用いる:
AMPSは、Hang−Zhou(中国)からの2−アクリロイルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸である。
MBAは、Sigma AldrichからのNAMWが154のN,N’−メチレンビスアクリルアミド架橋剤である。
HDDAは、Sartomerからのヘキサンジオールジアクリレートである。
IPAは、82.6℃の沸点を有する不活性溶媒、Shellからの2−プロパノールである。
EGは、197.3℃の沸点を有するSigma Aldrichからの不活性溶媒、エチレングリコールである。
DMIは、225℃の沸点を有するSigma Aldrichからの不活性溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである。
AeroSil(登録商標)380は、Evonikからの平均粒子サイズが7nmで比表面積が380m2/gであるヒュームドシリカ粒子である(親水性金属酸化物増粘剤)。
LiOH.H2Oは、水酸化リチウム一水和物である。
BYK(登録商標)−425は、BYK Chemieからのポリウレタン系レオロジー制御剤の50重量%溶液である。
界面活性剤は、Air Productsからのポリエーテルシロキサン界面活性剤である。
実施例Ex1〜Ex8および比較例CEx1〜CEx3
以下の表1および2に示す成分を、架橋剤および増粘剤を除き、均質溶液が形成するまで60℃で一緒に混合した。その後、架橋剤および増粘剤を加え、混合物を再び撹拌して、放射線硬化性組成物を得た。Whatman(登録商標)PanpehaTMpH試験紙(pH範囲0〜14)を用いてpHを測定した;必要な場合、少量の濃NaOH溶液を加えることによりpHを調整した。
2 スクリーン
3 放射線硬化性組成物
4 孔
5 イオン交換膜
7 突出部
9スキージー
本発明は以下の態様を含む。
[1]
a)エチレン性不飽和基を1個含む、10〜65重量%の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、3〜60重量%の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜55重量%の不活性溶媒(1以上);
d)0〜10重量%のラジカル開始剤(1以上);および
e)0.5〜25重量%の増粘剤(1以上);
を含む、放射線硬化性組成物。
[2]
不活性溶媒が、ジオール、トリオール、ポリアルキレングリコールエーテル、カーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、N−メチル−2−ピロリジノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン、スルホラン、ニトロメタン、2−メトキシエチルエーテル、ジオキサン、トリエチルホスフェート;または上記の2以上を含む混合物を含む、[1]に記載の組成物。
[3]
不活性溶媒が、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−メトキシエチルエーテル、または上記の2以上を含む混合物を含む、[1]に記載の組成物。
[4]
d)0.01〜10重量%の光開始剤(1以上)
を含む、[1]〜[3]のいずれか一項に記載の組成物。
[5]
a)アクリル基を1個と、スルホ、カルボキシ、ホスファト、第四級アミノおよび第三級アミノ基から選択される1以上の酸性または塩基性基とを含む、12〜60重量%の硬化性イオン性化合物(1以上)
を含む、[1]〜[4]のいずれか一項に記載の組成物。
[6]
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、4〜55重量%の架橋剤(1以上)
を含む、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の組成物。
[7]
h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800〜8000ダルトンの数平均分子量を有する、1〜15重量%の架橋剤(1以上)
を含む、[1]〜[6]のいずれか一項に記載の組成物。
[8]
増粘剤e)がレオロジー改質剤および/または粒状固体を含む、[1]〜[7]のいずれか一項に記載の組成物。
[9]
e)0.05μm未満の平均粒子サイズおよび/または50m2/gを超えるBET表面積を有する形態にある親水性金属酸化物、カーボンブラック、粘土および炭酸カルシウムから選択される無機充填剤を含む、1〜15重量%の増粘剤(1以上)
を含む、[1]〜[8]のいずれか一項に記載の組成物。
[10]
a)アクリル基を1個と、スルホ、カルボキシ、ホスファト、第四級アミノおよび第三級アミノ基から選択される1以上の酸性または塩基性基とを含む、12〜60重量%の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、4〜55重量%の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜50重量%の不活性溶媒(1以上);
d)0.01〜10重量%のラジカル開始剤(1以上);
e)0.05μm未満の平均粒子サイズおよび/または50m2/gを超えるBET表面積を有する形態にある親水性の金属酸化物、カーボンブラック、粘土および炭酸カルシウムから選択される無機充填剤を含む、1〜15重量%の増粘剤(1以上);および
h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800〜8000ダルトンの数平均分子量を有する、1〜15重量%の架橋剤(1以上);
を含む、[1]に記載の組成物。
[11]
f)2〜40重量%の水
を含む、[1]〜[10]のいずれか一項に記載の組成物。
[12]
段階(i)および(ii):
(i)放射線硬化性組成物を膜にパターン状に施用する段階;および
(ii)照射し、これにより、膜上に存在する放射線硬化性組成物を硬化する段階;
を含む、テクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜の調製方法であって、該放射線硬化性組成物が、[1]〜[11]のいずれか一項で定義したとおりである、前記調製方法。
[13]
段階(i)が、放射線硬化性組成物を膜上にパターン状にスクリーン印刷することを含む、[12]に記載の方法。
[14]
硬化中に組成物の成分の一部またはすべてが重合して望ましい表面形状を形成する、[12]または[13]に記載の方法。
[15]
段階(i)で用いられる放射線硬化性組成物が、20℃において測定して、1.5s−1の剪断速度で少なくとも10Pa.sの粘度、および1000s−1の剪断速度で<10Pa.sの粘度を有する、[12]〜[14]のいずれか一項に記載の方法。
[16]
20℃において1.5s−1の剪断速度で測定したときの粘度の、20℃において1000s−1の剪断速度で測定したときの粘度に対する比が、1.5〜5000である、[12]〜[15]のいずれか一項に記載の方法。
[17]
テクスチャー処理表面形状が、5〜500μmの平均高さを有する突出部を含む、[12]〜[16]のいずれか一項に記載の方法。
[18]
スクリーン印刷が、回転式スクリーン印刷、フラットベッド式スクリーン印刷またはロータリー・ストップ・シリンダー式スクリーン印刷を含む、[13]に記載の方法。
[19]
スクリーン印刷が、放射線硬化性組成物を、回転式管状スクリーンを介して膜に施用することを含む、[13]に記載の方法。
[20]
テクスチャー処理表面形状が、10:1〜1:10の平均長さと平均幅の比を有する突出部を含む、[12]〜[19]のいずれか一項に記載の方法。
[21]
テクスチャー処理表面形状が突出部を含み、その少なくとも80%がすべての方向で20mm未満の最大寸法を有する、[12]〜[20]のいずれか一項に記載の方法。
[22]
テクスチャー処理表面形状が、すべての方向で0.04〜10mmの最大寸法を有する突出部を含む、[12]〜[21]のいずれか一項に記載の方法。
[23]
テクスチャー処理表面形状が、互いに平均して少なくとも0.1mm離れている突出部を含む、[12]〜[22]のいずれか一項に記載の方法。
[24]
放射線硬化性組成物が膜の移動中に膜に施用される、[12]〜[23]のいずれか一項に記載の連続的方法。
[25]
さらに、段階(i)で用いられる膜を、段階(A)および(B):
(A)多孔質支持体に放射線硬化性組成物を含浸させる段階;
(B)照射し、これにより多孔質支持体中に存在する放射線硬化性組成物を硬化することにより、膜を形成する段階;
を含むプロセスにより調製することを含む、[12]〜[24]のいずれか一項に記載の方法。
[26]
膜の全領域に対するテクスチャー領域の比率が2〜40%である、[12]〜[25]のいずれか一項に記載の方法。
[27]
突出部の少なくとも80%がすべての方向で20mm未満の最大寸法を有する、[12]〜[26]のいずれか一項に記載の方法。
[28]
テクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜の調製のための、[1]〜[11]のいずれか一項に記載の組成物の使用。
[29]
段階(i)で用いられる放射線硬化性組成物が、段階(A)で用いられる放射線硬化性組成物より高い粘度を有する、[25]に記載の方法。
[30]
[12]〜[27]のいずれか一項に記載の方法により得られるテクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜。
[31]
[30]に記載のテクスチャー処理イオン交換膜を1枚以上含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、容量性脱イオン機器、拡散透析装置、または膜蒸留モジュール。
Claims (31)
- a)エチレン性不飽和基を1個含む、10〜65重量%の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、3〜60重量%の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜55重量%の不活性溶媒(1以上);
d)0〜10重量%のラジカル開始剤(1以上);および
e)0.5〜25重量%の増粘剤(1以上);
を含む、放射線硬化性組成物。 - 不活性溶媒が、ジオール、トリオール、ポリアルキレングリコールエーテル、カーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、N−メチル−2−ピロリジノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン、スルホラン、ニトロメタン、2−メトキシエチルエーテル、ジオキサン、トリエチルホスフェート;または上記の2以上を含む混合物を含む、請求項1に記載の組成物。
- 不活性溶媒が、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−メトキシエチルエーテル、または上記の2以上を含む混合物を含む、請求項1に記載の組成物。
- d)0.01〜10重量%の光開始剤(1以上)
を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。 - a)アクリル基を1個と、スルホ、カルボキシ、ホスファト、第四級アミノおよび第三級アミノ基から選択される1以上の酸性または塩基性基とを含む、12〜60重量%の硬化性イオン性化合物(1以上)
を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。 - b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、4〜55重量%の架橋剤(1以上)
を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。 - h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800〜8000ダルトンの数平均分子量を有する、1〜15重量%の架橋剤(1以上)
を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の組成物。 - 増粘剤e)がレオロジー改質剤および/または粒状固体を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
- e)0.05μm未満の平均粒子サイズおよび/または50m2/gを超えるBET表面積を有する形態にある親水性金属酸化物、カーボンブラック、粘土および炭酸カルシウムから選択される無機充填剤を含む、1〜15重量%の増粘剤(1以上)
を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。 - a)アクリル基を1個と、スルホ、カルボキシ、ホスファト、第四級アミノおよび第三級アミノ基から選択される1以上の酸性または塩基性基とを含む、12〜60重量%の硬化性イオン性化合物(1以上);
b)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800未満の数平均分子量を有する、4〜55重量%の架橋剤(1以上);
c)100℃を超える沸点を有する、5〜50重量%の不活性溶媒(1以上);
d)0.01〜10重量%のラジカル開始剤(1以上);
e)0.05μm未満の平均粒子サイズおよび/または50m2/gを超えるBET表面積を有する形態にある親水性の金属酸化物、カーボンブラック、粘土および炭酸カルシウムから選択される無機充填剤を含む、1〜15重量%の増粘剤(1以上);および
h)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を含み、800〜8000ダルトンの数平均分子量を有する、1〜15重量%の架橋剤(1以上);
を含む、請求項1に記載の組成物。 - f)2〜40重量%の水
を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の組成物。 - 段階(i)および(ii):
(i)放射線硬化性組成物を膜にパターン状に施用する段階;および
(ii)照射し、これにより、膜上に存在する放射線硬化性組成物を硬化する段階;
を含む、テクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜の調製方法であって、該放射線硬化性組成物が、請求項1〜11のいずれか一項で定義したとおりである、前記調製方法。 - 段階(i)が、放射線硬化性組成物を膜上にパターン状にスクリーン印刷することを含む、請求項12に記載の方法。
- 硬化中に組成物の成分の一部またはすべてが重合して望ましい表面形状を形成する、請求項12または13に記載の方法。
- 段階(i)で用いられる放射線硬化性組成物が、20℃において測定して、1.5s−1の剪断速度で少なくとも10Pa.sの粘度、および1000s−1の剪断速度で<10Pa.sの粘度を有する、請求項12〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 20℃において1.5s−1の剪断速度で測定したときの粘度の、20℃において1000s−1の剪断速度で測定したときの粘度に対する比が、1.5〜5000である、請求項12〜15のいずれか一項に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状が、5〜500μmの平均高さを有する突出部を含む、請求項12〜16のいずれか一項に記載の方法。
- スクリーン印刷が、回転式スクリーン印刷、フラットベッド式スクリーン印刷またはロータリー・ストップ・シリンダー式スクリーン印刷を含む、請求項13に記載の方法。
- スクリーン印刷が、放射線硬化性組成物を、回転式管状スクリーンを介して膜に施用することを含む、請求項13に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状が、10:1〜1:10の平均長さと平均幅の比を有する突出部を含む、請求項12〜19のいずれか一項に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状が突出部を含み、その少なくとも80%がすべての方向で20mm未満の最大寸法を有する、請求項12〜20のいずれか一項に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状が、すべての方向で0.04〜10mmの最大寸法を有する突出部を含む、請求項12〜21のいずれか一項に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状が、互いに平均して少なくとも0.1mm離れている突出部を含む、請求項12〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 放射線硬化性組成物が膜の移動中に膜に施用される、請求項12〜23のいずれか一項に記載の連続的方法。
- さらに、段階(i)で用いられる膜を、段階(A)および(B):
(A)多孔質支持体に放射線硬化性組成物を含浸させる段階;
(B)照射し、これにより多孔質支持体中に存在する放射線硬化性組成物を硬化することにより、膜を形成する段階;
を含むプロセスにより調製することを含む、請求項12〜24のいずれか一項に記載の方法。 - 膜の全領域に対するテクスチャー領域の比率が2〜40%である、請求項12〜25のいずれか一項に記載の方法。
- 突出部の少なくとも80%がすべての方向で20mm未満の最大寸法を有する、請求項12〜26のいずれか一項に記載の方法。
- テクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜の調製のための、請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 段階(i)で用いられる放射線硬化性組成物が、段階(A)で用いられる放射線硬化性組成物より高い粘度を有する、請求項25に記載の方法。
- 請求項12〜27のいずれか一項に記載の方法により得られるテクスチャー処理表面形状を有するイオン交換膜。
- 請求項30に記載のテクスチャー処理イオン交換膜を1枚以上含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、容量性脱イオン機器、拡散透析装置、または膜蒸留モジュール。
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GB201815405D0 (en) * | 2018-09-21 | 2018-11-07 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
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KR102507911B1 (ko) * | 2021-03-31 | 2023-03-07 | 도레이첨단소재 주식회사 | 양이온 교환막 및 이의 제조방법 |
KR102446115B1 (ko) * | 2021-03-31 | 2022-09-21 | 도레이첨단소재 주식회사 | 양이온 교환막용 음이온성 전해질 조성물 및 이를 포함하는 양이온 교환막 |
CN114177780B (zh) * | 2021-12-07 | 2023-08-25 | 天津大学 | 一种用于膜生物反应器的防污膜制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013514419A (ja) * | 2009-12-16 | 2013-04-25 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | 硬化性組成物及び膜 |
JP2014176840A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-09-25 | Fujifilm Corp | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
Family Cites Families (16)
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---|---|---|---|---|
WO2002014224A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Ionics, Incorporated | Device and method for electrodialysis |
EP1924342A1 (en) * | 2005-08-05 | 2008-05-28 | FUJIFILM Manufacturing Europe B.V. | Porous membrane and recording medium comprising same |
GB0706634D0 (en) * | 2007-04-04 | 2007-05-16 | Itm Fuel Cells Ltd | Membrane production |
EP1982757A1 (de) * | 2007-04-10 | 2008-10-22 | Stichting Voor De Technische Wetenschappen | Ionendurchlässige Membran und ihre Herstellung |
US20110290727A1 (en) * | 2009-01-19 | 2011-12-01 | Ronny Van Engelen | Process for Preparing Membranes |
DE102009002130A1 (de) * | 2009-04-02 | 2010-10-14 | Wacker Chemie Ag | Membranen auf Basis von Polyvinylalkohol |
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MX2012005124A (es) * | 2009-11-02 | 2012-09-28 | Itm Power Research Ltd | Preparacion de menbrana ionica. |
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2013514419A (ja) * | 2009-12-16 | 2013-04-25 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | 硬化性組成物及び膜 |
JP2014176840A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-09-25 | Fujifilm Corp | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
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