JP2018521843A5 - - Google Patents
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Claims (16)
- フィードガスを精製するための圧力スイング吸着システムであって、
フィードポート、生成物ポート、および該フィードガスからの１種またはそれより多くの不純物を吸着して生成物ガスを生産するように設計された吸着材料をそれぞれ有する、第１の吸着床および第２の吸着床、
該フィードガスを該吸着床の該フィードポートへと導くように設計され、該生成物ガスを、該吸着床の該生成物ポートへと、および該吸着床の該生成物ポートから外へと導くように設計され、圧力均等化工程およびパージ工程中に、第１の吸着床と第２の吸着床との間でガスを移動させるように設計された、配管ネットワーク、
該フィードガスおよび該生成物ガスの流れを該配管ネットワークへと導くように設計された第１の回転弁アセンブリ、
圧力均等化工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間でガスの流速を決定するように設計された第１のオリフィス、ならびに
パージ工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間を流れるガスの流速を決定するように設計された第２のオリフィス
を含む、圧力スイング吸着システム。 - 第１のオリフィスが、固定された流量制限となるように設計されている、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- 第１のオリフィスの穴のサイズが、システム工学の設計計算に基づき試運転前に決定される、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- 第２のオリフィスが、固定された流量制限となるように設計されている、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- 第１のオリフィスが、第１の回転弁に統合されている、請求項５に記載の圧力スイング吸着システム。
- 前記第１及び第２の吸着床が、定置型である、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- 前記均等化工程および前記パージ工程の少なくとも１つの間における第１の吸着床と第２の吸着床との間の前記ガスの流速を調整することができない、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- 制御器をさらに含み、該制御器は、第１の回転弁と連通し、第１の回転弁の位置を調整するように設計されている、請求項１に記載の圧力スイング吸着システム。
- フィードガスを精製するための圧力スイング吸着システムであって、
フィードポート、生成物ポート、および該フィードガスからの１種またはそれより多くの不純物を吸着して生成物ガスを生産するように設計された吸着材料をそれぞれ有する、第１の吸着床および第２の吸着床、
該フィードガスを該吸着床の該フィードポートへと導くように設計され、該生成物ガスを、該吸着床の該生成物ポートへと、および該吸着床の該生成物ポートから外へと導くように設計され、均等化工程およびパージ工程中に、第１の吸着床と第２の吸着床との間でガスを移動させるように設計された、配管ネットワーク、
該フィードガス流および生成物ガス流の流れを該配管ネットワークへと導くように設計された第１の回転弁、
該フィードガス流および生成物ガス流の流れを該配管ネットワークへと導くように設計された第２の回転弁、
均等化工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間のガスの流速を規制するように設計された第１のオリフィス、ならびに
パージ工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間を流れるガスの流速を規制するように設計された第２のオリフィス
を含む、圧力スイング吸着システム。 - 第１の吸着床および第２の吸着床が、第１の回転弁および第２の回転弁のローターと共に回転する、請求項９に記載の圧力スイング吸着システム。
- フィードガス流を精製するための、第１の吸着床および第２の吸着床を有する圧力スイング吸着システムを作動させる方法であって、
第１の吸着床および第２の吸着床の少なくとも一方を吸着モードで作動させること；
第１の吸着床および第２の吸着床の少なくとも一方を再生モードで作動させること；
均等化工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間でガスを移動させること、ここで該ガスの流速は、第１のオリフィスを通じて規制される；および、
パージ工程の間に、第１の吸着床と第２の吸着床との間で生成物ガスを移動させること、ここですべての生成物ガスの流速は、第２のオリフィスを通じて規制される、
を含む、方法。 - 制御器により第１及び第２の回転弁を制御すること、及び制御器により第１及び第２の回転弁の位置を調整すること、をさらに含む、請求項９に記載のシステム。
- 前記均等化工程中に、第１の吸着床と第２の吸着床との間を移動する前記ガスの流速を、調整することができない、請求項１１に記載の方法。
- 前記パージ工程中に、第１の吸着床および第２の吸着床の少なくとも一方へと導かれる前記生成物ガスの流速を、調整することができない、請求項１１に記載の方法。
- 前記フィードガスが、不純物を含有する水素である、請求項１１に記載の方法。
- 前記第１のオリフィスが、前記第１の回転弁及び第２の回転弁の少なくとも１つの通路に統合されている、請求項９に記載のシステム。
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