JP2018518314A5 - - Google Patents

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  1. 電気穿孔法システムにおいて、
    電気穿孔法処置のために生物組織内に一時的に挿入するよう構成された互いに隣接する少なくとも2つの電極を有する電気穿孔プローブと、
    前記プローブに電気的に接続したパルス発生器であって、1つ又はそれ以上の電気パルスのパルスシーケンスを使用して前記電気穿孔プローブを駆動させ、前記プローブに電流伝送して前記プローブの電極近傍の生物組織に不均一な電場を誘導するよう構成されており、前記不均一な電場は前記生物組織における標的処置領域に制御された電場勾配を生じさせるものである、該パルス発生器と、
    を備える、電気穿孔法システム。
  2. 請求項1記載の電気穿孔法システムにおいて、前記不均一な電場は、50μV/μm〜500μV/μmの範囲にわたる電場勾配を有する、電気穿孔法システム。
  3. 請求項1又は2記載の電気穿孔法システムにおいて、前記電極は、隣接方向に比較的細長く、前記電極の周長は前記電極の長さよりも小さい、電気穿孔法システム。
  4. 請求項3記載の電気穿孔法システムにおいて、前記プローブは、少なくとも1対の隣接電極を有し、各電極は、1mm以下の長さを有する、電気穿孔法システム。
  5. 請求項1からのいずれか一項記載の電気穿孔法システムにおいて、さらに、前記プローブを介して送給される前記パルスシーケンスを制御するため前記パルス発生器の選択的制御を可能にするよう構成されたコントローラを備える、電気穿孔法システム。
  6. 請求項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、さらに、駆動すべき電極を選択できるよう構成されている、電気穿孔法システム。
  7. 請求項又は記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、さらに、キャリヤ溶液特性に基づいて前記パルスシーケンスの電気パルスパラメータを制御するよう構成されている、電気穿孔法システム。
  8. 請求項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、前記誘導された不均一な電場における標的電位勾配に基づいて前記電気パルスパラメータを計算するよう構成されている、電気穿孔法システム。
  9. 請求項からのいずれか一項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、処置環境内に前記プローブを挿入した状態で前記処置環境のための動作特性を測定するよう構成されている、電気穿孔法システム。
  10. 請求項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、さらに、前記測定した動作特性に基づいてパルス送給中に誘導される電場電圧を予測し、前記測定した動作特性に基づいてパルス送給のための電気パルスパラメータを決定するよう構成されている、電気穿孔法システム。
  11. 請求項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記コントローラは、前記測定した動作特性に基づいて電気パルスの送給をトリガするよう構成されている、電気穿孔法システム。
  12. 請求項1から11のいずれか一項記載の電気穿孔法システムにおいて、前記電気穿孔プローブは、さらに、少なくとも1つの治療剤送達構造を有する、電気穿孔法システム。
  13. 請求項12記載の電気穿孔法システムにおいて、さらに、前記治療剤の前記生物組織への送達を制御するよう構成された治療剤送達コントローラを備える、電気穿孔法システム。
  14. 電気穿孔法処置のために生物組織内に一時的に挿入するよう構成され、パルス発生器に接続可能な互いに隣接する少なくとも2つの電極を有する電気穿孔プローブであって、前記電極は、1つ又はそれ以上の電気パルスのパルスシーケンスを使用して駆動されて前記プローブへの電流伝送を生じるとき、前記プローブの電極近傍の生物組織に不均一な電場を誘導する構成にされており、前記不均一な電場は前記生物組織における標的処置領域に制御された電場勾配を生じさせるものである、電気穿孔プローブ。
  15. 請求項14記載の電気穿孔プローブにおいて、各電極は、長さが1mm以下であり、電極の長さよりも小さい電極周長を有する、電気穿孔プローブ。
  16. 請求項14または15記載の電気穿孔プローブにおいて、前記プローブは、任意な1つ又はそれ以上の治療剤、キャリヤ溶液、又は他の化学物質を送達するための、少なくとも1つの流体送達構造を有する、電気穿孔プローブ。
  17. システムプロセッサ及びメモリを備えている電気穿孔法システムコントローラであって、該コントローラは、1つ又はそれ以上の電気パルスのパルスシーケンス及び前記パルスシーケンスのための電気パルスパラメータを決定し、少なくとも2つの連続する電極を含む電気穿孔プローブに印加されるとき、電気穿孔法処置のための前記プローブの電極近傍における生物組織内に不均一な電場を誘導するよう構成されており、前記不均一な電場は生物組織における標的処置エリアに制御された電場勾配を生じさせるものである、電気穿孔法システムコントローラ。
  18. 請求項17記載の電気穿孔法システムコントローラにおいて、前記パルスシーケンスのための前記電気パルスパラメータは、キャリヤ溶液特性に基づいて決定され、前記コントローラは、前記誘導された不均一な電場における標的電位勾配に基づいて前記電気パルスパラメータを計算するよう構成されている、電気穿孔法システムコントローラ。
  19. 請求項18記載の電気穿孔法システムコントローラにおいて、前記コントローラは、さらに、処置環境内にプローブを挿入した状態で前記処置環境のための動作特性を測定し、前記測定した動作特性に基づいてパルス送給中に誘導される電場電圧を予測し、前記測定した動作特性に基づいてパルス送給のための電気パルスパラメータを決定するよう構成されている、電気穿孔法システムコントローラ。
  20. 請求項17から19のいずれか一項記載の電気穿孔法システムコントローラにおいて、さらに、電気穿孔プローブ構成、標的処置領域、及びキャリヤ溶液に基づいて、1つ又はそれ以上のパルスシーケンス及び電気パルスパラメータに対して電気穿孔法処置の成果をモデル化するよう構成されている、電気穿孔法システムコントローラ。
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