JP2018510226A - 硬化性組成物および膜 - Google Patents

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Abstract

成分(i)0〜60重量%の非イオン架橋剤(1以上);(ii)アニオン基および少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む、20〜85重量%の硬化性イオン化合物(1以上);(iii)15〜45重量%の溶媒(1以上);(iv)0〜10重量%の光開始剤(1以上);および(v)2〜45重量%の構造改質剤(1以上);成分(v):(ii)のモル比は0.25〜0.65である;を含む、硬化性組成物。該組成物は、(逆)電気透析のための膜の調製に有用である。【選択図】なし

Description

本発明は、硬化性組成物、膜の調製におけるそれらの使用、およびそのような膜の使用に関する。
逆電気透析(“RED”)は、異なる塩濃度の2つのイオン溶液を混合することにより電気を発生させる公知の技術である。この技術では、典型的には、交互になっているカチオンおよびアニオン交換膜を有する膜スタック、電極(典型的にはスタックの各末端にある)、逆電気透析ユニットを貫く濃縮イオン溶液のための第1のチャネル、および逆電気透析ユニットを貫く希釈イオン溶液のための第2のチャネルを含む、逆電気透析ユニットが用いられる。濃縮イオン溶液を第1のチャネルにに通して供給し、希釈イオン溶液を第2のチャネルに通して供給すると、第1のチャネル中の濃縮溶液からの溶質が膜を通り抜けて第2のチャネル中の希釈溶液に移動し、これに伴いスタック末端の電極間で出力電気が発生する。膜の各対の間の濃度差によって発生する電位差は小さいが、この電位差は、膜スタック中の2つの溶液を分離する交互になっているカチオンおよびアニオン交換膜の数が増加すると増大する。REDは、環境に優しい方法での電力生産に関し興味深いものである。REDユニットから出てくるイオン溶液は、通常、例えば川または海に放出することにより廃棄される。ガスおよび電気の価格が高い時代には、発電効率を最大化することが望ましい。
REDに現在使われている膜で直面する問題の1つは、多価イオン、特にマグネシウムイオンに対する電気抵抗が非常に大きいことである。また、イオン交換膜の選択透過性は、多価イオンの存在により悪影響を受ける。塩の流れにおけるマグネシウムイオンの存在は、REDユニットの電力出力を著しく低下させる可能性がある(Tufa et al.,RSC Adv.,2014,4,42617およびPost et al,J.Membrane Sc.330,2009,65−72により説明されているように)。
RSC Adv.,2014,4,42617 J.Membrane Sc.330,2009,65−72
本発明は、多価イオン、特にマグネシウムイオンに対し低い電気抵抗を有する膜を提供することによって、イオン溶液中の多価イオンに起因する問題に対処するものである。本発明の硬化性組成物および膜を用いることにより、RED装置の電力出力を増大させることができる。
国際公開WO2013/136336号には、既に形成されている膜を特定の多価金属で後処理することを含む、濾過膜の一時的修飾方法が記載されている。
本発明の第1の観点に従って、成分:
(i)0〜60重量%の非イオン架橋剤(1以上);
(ii)アニオン基および少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む、20〜85重量%の硬化性イオン化合物(1以上);
(iii)15〜45重量%の溶媒(1以上);
(iv)0〜10重量%の光開始剤(1以上);および
(v)2〜45重量%の構造改質剤(1以上);
成分(v):(ii)のモル比は0.25〜0.65である;
を含む、硬化性組成物を提供する。
図1は、本発明に従った逆電気透析ユニットにおける総電力密度に対する供給物組成および膜タイプの影響を示している。
一般的に言うと、成分(v):(ii)のモル比は、好ましくは0.25〜0.50、特に0.25〜0.499である。
成分(v):(ii)のモル比は、成分(v)のモル数が、成分(ii)からの組成物中に存在するイオン基のモル数の50%〜100%(好ましくは60%〜99%、特に80%〜99%)であるようなものであることが好ましい。したがって、成分(v)が二価である場合、成分(v):(ii)のモル比は、好ましくは0.25〜0.5、より好ましくは0.3〜0.499、特に0.4〜0.499である。成分(v)が三価である場合、成分(v):(ii)のモル比は、好ましくは0.167〜0.333、より好ましくは0.20〜0.333、特に0.267〜0.333である。
硬化性組成物は、組成物中の化合物がゲル化する可能性を低下させるために、好ましくは6未満、より好ましくは5未満のpHを有する。硬化性組成物は、0.1を超えるpHを有することが好ましい。
組成物の好ましいpHは、硬化性イオン化合物が遊離酸の形態にあるか塩の形態にあるかに、ある程度依存する。硬化性イオン化合物が遊離酸の形態にある場合、組成物は、好ましくは0.1〜5、より好ましくは0.4〜2.5、特に約0.8のpHを有する。硬化性イオン化合物の少なくとも95%が塩の形態にある場合、組成物は、好ましくは0.5〜6、より好ましくは0.5〜5、特に1〜4のpHを有する。
非イオン架橋剤は、アニオン基を含まない、例えば、イオン化カルボキシ、スルホおよびホスファト基を含まない、任意の架橋剤であることができる。
非イオン架橋剤の主な役割は、組成物の成分(ii)を架橋することである。したがって、一般に、組成物の成分(ii)と共有結合を形成することができる非イオン架橋剤、例えば、少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む非イオン架橋剤が選ばれる。
硬化性組成物が0重量%の成分(i)を含む場合、成分(ii)は、アニオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む1以上の硬化性イオン化合物(1以上)を含むことが好ましい。この場合、成分(ii)が架橋をもたらす。所望により、成分(i)の量は0重量%ではなく、成分(ii)は、アニオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む1以上の硬化性イオン化合物(1以上)を含む。この場合、硬化性組成物は、少なくとも2つの架橋剤(すなわち、成分(i)および成分(ii)に由来するもの)を含む。
成分(i)は、組成物中に、好ましくは少なくとも2重量%、より好ましくは少なくとも4重量%、特に少なくとも8重量%の量で存在する。
架橋剤含有率が比較的高い場合、一般に、高い選択透過性が高い電気抵抗と共にもたらされるが、架橋剤含有率が比較的低い場合、形成する膜構造はより開いており、選択透過性は若干低くなる。架橋剤含有率が比較的低いと、より高い硬化性イオン化合物の含有率およびより高い膨潤度が可能になり、これら両方は、低い電気抵抗を有する膜を得るのに有用であることができる。
低い電気抵抗を有する膜が望ましい場合、組成物中に存在する成分(ii)の量は多いことが好ましい一方、より多量の成分(ii)に適応させるために、成分(i)の量は低減させる。したがって、低い電気抵抗を有する膜を調製するために、成分(i)の好ましい含有率は、1〜20重量%(例えば4〜20重量%)、より好ましくは2〜15重量%(例えば、6〜15重量%または6〜12重量%)、特に約4〜約10重量%である。この量の成分(i)であっても、良好な選択透過性を有し、過度の膨潤を有さない、適度に強い膜を得ることができる。
高い選択透過率を有する膜が望ましい場合、架橋することができる化合物の全量(例えば、アニオン基および2つ以上のエチレン性不飽和基を含む成分(ii)の量+成分(i)の量)を、一般に、より多く、好ましくは10〜48重量%(例えば、14〜48重量%、22〜43重量%または28〜38重量%)、より好ましくは12〜35重量%、特に14〜30重量%の量で選択する。
第1の態様において、本明細書中で言及する重量%は、成分(i)〜(v)の全重量に対して計算する。第2の態様において、本明細書中で言及する重量%は、硬化性組成物の全重量に対して計算する。
非イオン架橋剤は、好ましくは2または3つのエチレン性不飽和基、より好ましくは2つのエチレン性不飽和基を有する。
好ましいエチレン性不飽和基は、メタクリル基および特にアクリル基である。好ましいアクリル基は、式HC=CH−C(=O)−のものである。とりわけ好ましいアクリル基は、アクリレート(HC=CH−C(=O)−O−)およびアクリルアミド(HC=CH−C(=O)−N<)基である。
2つのエチレン性不飽和基を含み、成分(i)として用いることができる適した非イオン架橋剤の例としては、ポリ(エチレングリコール)ジアクリレート、ビスフェノール−Aエポキシアクリレート、ビスフェノールAエトキシレートジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ネオペンチルグリコールエトキシレートジアクリレート、プロパンジオールエトキシレートジアクリレート、ブタンジオールエトキシレートジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールエトキシレートジアクリレート、ポリ(エチレングリコール−コ−プロピレングリコール)ジアクリレート、ポリ(エチレングリコール)−ブロック−ポリ(プロピレングリコール)−ブロック−ポリ(エチレングリコール)ジアクリレート、および、ポリエチレングリコールと他の構成単位、例えば、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリイミド、ポリスルホンとのコポリマーのジアクリレート、ならびにこれらの2つ以上を含む組合わせが挙げられる。2つのアクリル基を含む他の適した架橋剤は、イソホロンジアクリルアミド、N,N’−(1,2−ジヒドロキシエチレン)ビス−アクリルアミド、N,N−メチレン−ビス−アクリルアミド、N,N’−エチレンビス(アクリルアミド)、ビス(アミノプロピル)メチルアミンジアクリルアミドである。とりわけ好ましい架橋剤は、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、1,4−ジアクリロイルピペラジンおよび1,4−ビス(アクリロイル)ホモピペラジンである。
2つより多くのエチレン性不飽和基を含み、成分(i)として用いることができる適した非イオン架橋剤の例としては、グリセロールエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、ペンタエリトリトールエトキシレートテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンエトキシレートテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールエトキシレートヘキサアクリレート、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリアリルオキシ−1,3,5−トリアジン、およびこれらの2つ以上を含む組合わせが挙げられる。
組成物中に存在する架橋剤(例えば、成分(i)および(ii)に由来する)の全量は、好ましくは5〜70重量%、より好ましくは8〜60重量%、特に10〜50重量%である。
成分(i):(ii)の比は、得られる膜に望ましい性質に応じて選択されるほか、成分(ii)が、イオン基および2つ以上のエチレン性不飽和基を含む任意の硬化性イオン化合物を含むか否かにも依存する。
成分(i)は、1つまたは1つより多くの非イオン架橋剤を含んでいてもよい。非イオン架橋剤は、2つのエチレン性不飽和基を有する化合物と、2つより多く(例えば3つ)のエチレン性不飽和基を有する化合物とを含む混合物を含んでいてもよい。
成分(ii)は、組成物中に、好ましくは少なくとも25重量%、より好ましくは少なくとも35重量%の量で存在する。一般に、膜の電荷密度を最大化したい場合、上記範囲の上端または上端近くである成分(ii)の量を選択する。
成分(i)と(ii)のモル比は、好ましくは0〜1.0、より好ましくは0.1〜0.7である。
成分(ii)として用いることができる好ましい硬化性イオン化合物は、アニオン基としての酸性基(例えば、スルホ、カルボキシおよび/またはホスファト基)および少なくとも1つのエチレン性不飽和基(例えば、成分(i)に関し上記したようなもの)を含む。成分(i)中に存在することができるエチレン性不飽和基は、成分(ii)中に存在するエチレン性不飽和基のいくつかまたはすべてと、同一または異なっていることができる。酸性基は、部分的または完全に塩の形態にあることができる。好ましい塩は、リチウム塩、アンモニウム塩、ナトリウム塩およびカリウム塩、ならびにそれらの2つ以上を含む混合物である。
成分(ii)として用いることができる、アニオン基および1つのエチレン性不飽和基を含む硬化性イオン化合物の例としては、アクリル酸、ベータカルボキシエチルアクリレート、マレイン酸、無水マレイン酸、ビニルスルホン酸、ホスホノメチル化アクリルアミド、(2−カルボキシエチル)アクリルアミド、および2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。
成分(ii)として用いることができる、アニオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む硬化性イオン化合物の例としては、以下の化合物およびその塩が挙げられる:
Figure 2018510226
硬化性イオン化合物が塩の形態にある場合、それらは、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、もしくはリチウム塩、またはそれらの2つ以上を含む混合物の形態にあることが好ましい。
成分(i)および(ii)を合わせた全重量%は、好ましくは30〜90重量%、より好ましくは30〜85重量%、特に40〜80重量%である。硬化性組成物は、1つまたは1つより多くの非イオン架橋剤を成分(i)として含むことができる。
とりわけ好ましい態様において、成分(i)は、2つのアクリルアミド基を有する非イオン架橋剤(1以上)からなり、成分(ii)は、1または2つのエチレン性不飽和基および1つ以上のアニオン基(1以上)を有する硬化性イオン化合物(1以上)からなる。
成分(ii)のエチレン性不飽和基は、(メタ)アクリルアミド基であることが好ましい。これは、(メタ)アクリルアミド基が、とりわけ良好な耐加水分解性を有する膜をもたらすことができるためである。
一般に、成分(i)は膜に強度をもたらす一方、可撓性を低下させる可能性がある。
成分(ii)は、エチレン性不飽和基を1つしか有さない場合、架橋剤として働くことができない。しかしながら、成分(i)と反応することはできる。エチレン性不飽和基を1つしか有さない成分(ii)は、得られる膜に望ましい程度の可撓性をもたらすことができ、これは、きつく巻き付けた膜を必要とする用途にとりわけ有用である。成分(ii)はまた、アニオン基の存在により、電荷の異なるイオンを膜が区別するのに役立つ。
一態様において、該組成物は、成分(i)および(ii)以外に、10重量%未満、より好ましくは5重量%未満のエチレン性不飽和化合物を含む。好ましい態様では、組成物は、成分(i)および(ii)以外にエチレン性不飽和化合物を含まない。
成分(ii)は、アニオン基および少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む1つまたは1つより多くの硬化性イオン化合物を含んでいてもよい。成分(ii)または各成分(ii)に存在するエチレン性不飽和基は、同一または異なっていることができる。
組成物中に存在する成分(iii)の量は、組成物が均質溶液の形態にあることを確実にするのに要する最低量、または最低量より5%未満多いと同時に、15〜45重量%の範囲にあることが好ましい。溶媒の目的は、組成物の他の成分を溶解するのを補助することであり、溶媒は、成分(i)または(ii)に共重合性を示さず、例えば、溶媒は、エチレン性不飽和基を有さない。極性溶媒、特に水性溶媒は、とりわけ良好に成分(ii)を溶解するので好ましい。
成分(iii)の少なくとも40重量%(成分(iii)の全量に対し)は水であることが好ましく、より好ましくは、少なくとも60重量%は水である。組成物中に存在する成分(iii)の量は、好ましくは少なくとも16重量%、特に少なくとも20重量%であり、好ましくは40重量%未満、より好ましくは35重量%未満である。
溶媒は、水であるか、水と水混和性有機溶媒を含む混合物であることが好ましい。水混和性有機溶媒が存在することにより、水不混和性溶媒も、組成物が均質溶液を形成するような少量なら許容される可能性がある。
溶媒が水と有機溶媒を含む場合、水:有機溶媒の重量比は、好ましくは2超:3、より好ましくは10:1〜1:1、より好ましくは10:1〜1:2、特に4:1〜1:1、さらに特に3:1〜2:1である。
好ましい有機溶媒としては、C1−4−アルコール(例えば、メタノール、エタノールおよびプロパン−2−オール)、ジオール(例えば、エチレングリコールおよびプロピレングリコール)、トリオール(例えば、グリセロール)、カーボネート(例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−t−ブチルジカーボネートおよびグリセリンカーボネート)、ジメチルホルムアミド、アセトン、N−メチル−2−ピロリジノン、およびそれらの2つ以上を含む混合物が挙げられる。とりわけ好ましい有機溶媒は、プロパン−2−オール、メタノールおよびそれらの混合物である。
有機溶媒は、組成物の全成分の均質溶液を提供するのに有用であることができる。多くの有機溶媒は組成物の粘性および/または表面張力を好都合に低下させて、いくつかの点で製造プロセスをより容易にするため、有機溶媒を包含させることは、膜の調製プロセスにおいても利点を有する可能性がある。
一態様において、成分(iii)は、低い沸点、例えば100℃未満の沸点を有する。低沸点を有する溶媒は蒸発により容易に除去することができ、溶媒を除去するための洗浄段階の必要性が回避される。
硬化性組成物に最適な成分(iii)の量は、溶媒(1以上)、硬化性イオン化合物(1以上)、および非イオン架橋剤(1以上)の相互作用にある程度依存し、各組み合わせについて簡単な実験により決定することができる。
成分(iii)は、1つまたはより多くの溶媒を含んでいてもよい。
組成物は、成分(iv)を、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.05〜5重量%、特に0.1〜2重量%の量で含む。硬化性組成物は、1つまたは1つより多くの光開始剤を成分(iv)として含むことができる。
アクリルアミド、ジアクリルアミドおよび高級アクリルアミドの場合、タイプIの光開始剤が好ましい。タイプIの光開始剤の例は、本明細書中で参考として援用する国際公開WO2007/018425号、14頁、23行〜15頁、26行に記載されている通りである。特に好ましい光開始剤としては、アルファ−ヒドロキシアルキルフェノン、例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−tert−ブチル−)フェニルプロパン−1−オン、ならびに、アシルホスフィンオキシド、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシドおよびビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシドが挙げられる。
光開始剤が組成物中に存在する場合、重合防止剤も包含されていることが好ましい(例えば2重量%未満の量で)。重合防止剤は、例えば貯蔵中の組成物の早期硬化を妨げるのに有用である。適した防止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、4−t−ブチル−カテコール、フェノチアジン、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジノールオキシ、フリーラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジノールオキシ、フリーラジカル、2,6−ジニトロ−sec−ブチルフェノール、トリス(N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミン)アルミニウム塩、IGM ResinsからのOmnistabTM IN 515、516、518、520、522および526、RahnからのGenoradTM 16、18、20、21および22重合防止剤、ならびに前記のものの2つ以上を含む混合物が挙げられる。
構造改質剤(v)は、成分(ii)中に存在するアニオン基(1以上)とイオン結合を形成することができることが好ましい。このようにして、構造改質剤は、成分(ii)の隣接する分子を特定距離で離して‘ロックする’ことができ、これにより、組成物の硬化によって得られる膜の構造に影響を及ぼす。特定のイオン半径を有するか、カチオン基/アミン基の間に特定の距離を有する構造改質剤を選択すると、望ましい細孔サイズがもたらされ、したがって、構造改質剤の影響を受けているサイズを有する細孔を通過するには大きすぎる半径を有するイオンを退けることができる。構造改質剤によって改変された構造は、硬化性組成物を硬化したときに形成する膜の構造である。構造改質剤は、成分(ii)の2つ(またはそれより多く)のイオン基をクラスターにし、これが続いて硬化により適所に固定されると考えられる。このようにして、成分(v)を含まない組成物から得た膜におけるイオン基のランダムな分布と比較して、膜におけるイオン基のより構造化された分布が得られる。
成分(v)は、25℃において、pH1の水に対し、好ましくは水1kgあたり少なくとも20g、より好ましくは水1kgあたり少なくとも100gの溶解度を有する。
構造改質剤は、多価金属塩と、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む有機化合物とからなる群より選択されることが好ましい。多価金属塩は、成分(ii)の隣接する分子を密接して一緒に‘ロック’するのに有用であるが、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む有機化合物は、成分(ii)の隣接する分子をさらに遠くに離して‘ロック’するのに有用である。
好ましい多価金属塩は、二価金属塩および三価以上の金属塩である。
構造改質剤として用いることができる二価金属塩の例としては、二価マグネシウム、ベリリウム、カルシウム、クロム、ストロンチウム、バリウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、鉛、銅、銀、マンガン、鉄、スズ、カドミウムおよび亜鉛塩、ならびにそのような塩の2つ以上を含む混合物を挙げることができる。特に好ましいのは、マグネシウム、カルシウムおよびストロンチウム塩である。塩は、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、水素化物、水酸化物、硝酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、すなわちリン酸一水素塩およびリン酸二水素塩、硫酸塩、チオ硫酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、シュウ酸塩、シアン酸塩および/またはチオシアン酸塩から選択される1以上のアニオンを含むことが好ましい。
成分(ii)に存在する特に好ましいアニオン基(1以上)は、4〜13、より好ましくは5〜12のpKaを有する。より高いpHでは場合によってはゲル化が起こる可能性があり、膜の形成を試みているときにこれは望ましくないので、この優先傾向が生じる。成分(ii)中に存在する特に好ましいアニオン基(1以上)は、水酸化物、酢酸塩、クエン酸塩、シュウ酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、リン酸一水素塩およびリン酸二水素塩基、およびそれらの2つ以上の組み合わせである。これらのアニオン基ではpH制御が通常容易であり、配合法がより確固たるものになる。成分(ii)中に存在することができるアニオン基(1以上)の組み合わせは、5〜12のpKaを有するアニオン基を少なくとも1つ含むことが好ましく、例えば、リン酸水素カルシウム基と水酸化カルシウム基の組み合わせを用いることができる。典型的には、成分(ii)中に存在するアニオン基(1以上)は対イオン(カチオン)を含む。一態様において、対イオン(カチオン)は、多価金属および一価金属、例えば、カルシウムおよびリチウム対イオンの混合物を含む。例えば、組成物中に、成分(v)としてのリン酸水素カルシウムと水酸化リチウム(成分(v)ではない)の混合物を包含させることができ、多価(例えばカルシウム)塩と一価(例えばリチウム)塩のモル比は1より大きいことが好ましい。本明細書中で言及する塩の重量%は、全体としての塩、すなわちカチオンおよびアニオンの両方をさす。
三価以上の金属塩の例として、鉄(III)塩、クロム(III)および(VI)塩、アルミニウム(II)および(III)塩、ガリウム塩、チタン(III)および(IV)塩、ジルコニウム(III)および(IV)塩、バナジウム(III)、(IV)および(V)塩、スズ(IV)塩、スカンジウム塩、インジウム塩、イットリウム塩を挙げることができる。
本発明の第1の観点に従った好ましい組成物において、構造改質剤は、カルシウム、マグネシウムもしくはストロンチウムカチオンと、水酸化物、酢酸、クエン酸、シュウ酸、炭酸、重炭酸、リン酸、リン酸一水素もしくはリン酸二水素アニオンとを含む塩、ならびに/または、エチレンジアミンおよびトリエチレンジアミンからなる群より選択される有機アミン、からなる群より選択される。
アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含み、構造改質剤として用いることができる有機化合物の例としては、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,6−ジアミンヘキサン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(トリエチレンジアミン、DABCO)、ピペラジン、ベンゼン−1,2−ジアミン、ベンゼン−1,3−ジアミン、シクロヘキサン−1,2−ジアミン、シクロヘキサン−1,3−ジアミン、プロパン−1,1,1−トリアミン、および2つ以上の化合物を含む混合物が挙げられる。特に好ましいものは、エチレンジアミンおよびトリエチレンジアミンである。
一態様において、例えばマグネシウムイオンの除去の場合、構造改質剤のイオン半径は、得られる膜を用いて除去することになるイオン、すなわち膜を透過するイオンのイオン半径より大きい。構造改質剤のイオン半径は、除去することになるイオンより少なくとも10pm大きいことが好ましい。このようにして、膜の構造は、適切な構造改質剤を選ぶことにより望ましい用途に適合させることができる。マグネシウムイオンを除去するための構造改質剤のイオン半径は、好ましくは少なくとも80pm、より好ましくは少なくとも95pmである。
他の態様において、例えばカルシウムイオンの除去の場合、構造改質剤のイオン半径は、得られる膜を用いて除去することになるイオンのイオン半径と同一である。構造改質剤としてのカルシウム塩の使用は、意外にも良好な結果をもたらす。マグネシウムまたはカルシウムイオンの除去を意図した膜を作製する場合、成分(v)は、1以上のカルシウム塩を含むことが好ましい。
成分(v)は、1つまたは1つより多くの構造改質剤を含んでいてもよい。成分(v)は、1つ以上の多価金属塩と、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む1以上の有機化合物とを含んでいてもよい。
硬化性組成物は、(vi)エチレン性不飽和基を1つ有しアニオン基を有さない硬化性化合物(1以上)を、0〜20重量%、好ましくは0〜10重量%含有していてもよい。
硬化性組成物は、他の成分、例えば、酸、pH調整剤、防腐剤、粘度調整剤、安定剤、分散剤、消泡剤、有機/無機塩、アニオン性、カチオン性、非イオン性および/または両性界面活性剤、緩衝剤などを含有していてもよい。
硬化性組成物は、上記で具体的に言及または排除していない他の成分を含有していてもよい。
組成物は、放射線硬化性、例えばUV(紫外線)−硬化性であることが好ましい。
硬化速度は、硬化性組成物にアミン相乗剤を包含させることにより向上させることができる。適したアミン相乗剤は、例えば、遊離アルキルアミン、例えば、トリエチルアミンまたはトリエタノールアミン;芳香族アミン、例えば、2−エチルヘキシル−4−ジメチルアミノベンゾエート、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、ならびに、ポリアリルアミンおよびその誘導体のようなポリマーアミンである。
エチレン性不飽和アミン(例えばアクリル化アミン)のような硬化性アミン相乗剤が好ましい。これは、該相乗剤は硬化により膜中に組み込まれる能力を有するので、これを用いると臭気がより少なくなるためであり、そしてまた、該相乗剤が、最終的な(アニオン透過性)膜に有用であることができる塩基性基を含有することができるためである。
用いる場合、アミン相乗剤の量は、好ましくは0.1〜10重量%、より好ましくは0.3〜3重量%である。
上記のことを考慮して、本発明のとりわけ好ましい硬化性組成物は、成分:
(i)2〜40重量%の非イオン架橋剤(1以上);
(ii)(a)アニオン基および1つの(すなわち1つだけ)エチレン性不飽和基を含む、20〜60重量%の硬化性イオン化合物(1以上);および
(b)アニオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む、0〜60重量%の硬化性イオン化合物(1以上);
(iii)15〜45重量%の溶媒(1以上);
(iv)0〜5重量%の光開始剤(1以上);および
(v)成分(ii)(特に、多価金属塩(1以上)、および/または、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む有機化合物(1以上))とイオン結合を形成することができる、4〜35重量%の構造改質剤(1以上);
成分(v):(ii)のモル比は0.25〜0.65である;
を含む。
望ましい場合、湿潤剤として、または表面張力を調整するために、界面活性剤または界面活性剤の組合わせを組成物中に包含させてもよい。放射線硬化性界面活性剤などの市販の界面活性剤を利用することができる。該組成物での使用に適した界面活性剤としては、非イオン界面活性剤、イオン界面活性剤、両性界面活性剤、およびそれらの組合わせが挙げられる。
好ましい界面活性剤としては、フルオロ界面活性剤、ケイ素系界面活性剤、およびその混合物が挙げられる。ケイ素系界面活性剤としては、ポリシロキサン、特に水および/またはアルコールに溶解するものが挙げられる。適した界面活性剤としては、EvonikからのTego(登録商標)Glide 100、110、130、410、432、435、440、450、ZG−400およびTego(登録商標)Twin 4100、Air Products and ChemicalsからのDynol(登録商標)810および960、DuPontからのCapstone(登録商標)界面活性剤、例えば、FS−10、FS−30、FS−31、FS−32、FS−34、FS−35、FS−3100、FS−50、FS−51、FS−61、FS−63、FS−64およびFS−65、ならびに3MからのFC−5120が挙げられる。
硬化性組成物の成分は、組成物の調製および/もしくは貯蔵中、または硬化段階の間に、相分離が生じないように選択することが好ましい。このようにして、得られる膜に多孔質構造が生じる可能性を低下させる。
エチレン性不飽和基は、(メタ)アクリル基であることが好ましい。
硬化性組成物は、メタクリル化合物(例えば、メタクリレートおよびメタクリルアミド化合物)を含まないか実質的に含まない、すなわち、硬化性組成物は、アクリル基を含まず1以上のメタクリル基を含む化合物を、10重量%以下、より好ましくは4重量%以下しか含まないことが好ましい。
硬化性組成物は、ジビニルベンゼンを含まないか、実質的に含まないことが好ましい。
硬化性組成物は、スチレンを含まないか、実質的に含まないことが好ましい。
硬化性組成物は、染料および顔料を含まないか、実質的に含まないことが好ましい。これは、組成物中に染料または顔料を包含させる必要がないためである。
したがって、好ましい硬化性組成物は、ジビニルベンゼン、染料、顔料、スチレン、メタクリル化合物、およびテトラアルキル置換第四級アンモニウム基を有する化合物を含まないか、実質的に含まない。
本発明の第2の観点に従って、以下の段階:
(i)硬化性組成物を支持体に施用する段階;および
(ii)該組成物を硬化して膜を形成する段階;
該硬化性組成物は、本発明の第1の観点で定義したとおりである;
を含む、膜の調製プロセスを提供する。
該プロセスはさらに、構造改質剤の少なくとも一部を膜から除去する段階を含んでいてもよい。構造改質剤が多価金属塩であるか多価金属塩を含む場合、構造改質剤の一部またはすべてを、例えばイオン交換および/または洗浄により、膜から除去することができる。
これまで、そのような膜は、しばしば多くの段階を有する緩慢でエネルギー集約的なプロセスで作製されることが多かった。本発明により、長期間にわたり継続的に実施して比較的安価に膜を大量生産することができる簡単なプロセスでの膜の製造が可能になる。
該プロセスは、硬化した組成物と支持体を分離するさらなる段階を含んでいてもよい。しかしながら、望ましい場合このさらなる段階は省くことができ、これにより、硬化した組成物と多孔質支持体を含む複合膜が生じる。
膜は、カチオン交換膜であることが好ましい。
膜の厚さは、存在する場合は支持体を含めて、好ましくは250μm未満、より好ましくは10〜200μm、もっとも好ましくは20〜150μmである。
膜は、膜および任意の多孔質支持体および得られる膜と接触し続ける任意の多孔質補強材料の全乾燥重量に基づき、好ましくは少なくとも0.1meq/g、より好ましくは少なくとも0.3meq/g、特に0.6meq/g超、さらに特に1.0meq/g超のイオン交換容量を有する。イオン交換容量は、Dlugolecki et alによってJ.of Membrane Science,319(2008)の217頁に記載されているような滴定によって測定することができる。
膜は、小さなカチオン(例えばNa)に関し、好ましくは80%超、より好ましくは85%超、特に90%超の選択透過性を有する。REDの場合、80%超の選択透過性は、満足のゆく結果を得るのに十分であることが見いだされた。他の施用、例えばEDの場合、より高い選択透過性が好ましい。
意外にも、成分(v)の存在により、多価イオンだけでなく一価イオンに関しても低い電気抵抗を有する膜がもたらされる。
膜は、0.5Mのイオン濃度の塩化ナトリウム溶液で測定して、好ましくは15オーム.cm未満、より好ましくは5オーム.cm未満、もっとも好ましくは3オーム.cm未満の電気抵抗を有する。
本発明の第2の観点に従ったプロセスから得た膜は、0.5MのMgClに関し、好ましくは10オーム.cm未満、より好ましくは7オーム.cm未満、より好ましくは5オーム.cm未満の電気抵抗を有する。本発明の第2の観点に従ったプロセスから得た膜のマグネシウムイオンに関する電気抵抗とナトリウムイオンに関する電気抵抗の比は、0.5Mの濃度で測定して、好ましくは3未満、より好ましくは2.5未満である。したがって、本発明の第2の観点に従ったプロセスから得た膜は、多価イオンに関し、0.5Mの塩化マグにシウムを用いて測定して、好ましくは7オーム.cm未満、特に5オーム.cm未満の低い電気抵抗を有し、一価イオンに関し、0.5Mの塩化ナトリウムを用いて測定して、好ましくは5オーム.cm未満、特に3オーム.cm未満の低い電気抵抗を有し、マグネシウムイオンに関する膜の電気抵抗とナトリウムイオンに関する膜の電気抵抗の比は、3未満、より好ましくは2.5未満であることが好ましい。電気抵抗は、以下の実施例の節に記載する方法により決定することができる。
膜は、好ましくは100%未満、より好ましくは75%未満、もっとも好ましくは60%未満の、水中での膨潤を示す。膨潤度は、架橋剤の量、非硬化性化合物の量、および硬化段階での適切なパラメーターの選択により、さらに多孔質支持体の性質により、制御することができる。
選択透過性および水中での膨潤%は、J.of Membrane Science,319(2008)の217〜218頁にDlugolecki et alにより記載されている方法により測定することができる。
典型的には、イオン交換膜は実質的に非孔質であり、例えば、細孔は、標準的走査型電子顕微鏡(SEM)の検出限界より小さい。したがって、Jeol JSM−6335F電界放出型SEM(2kVの加速電圧を印加、作動距離4mm、絞り4、厚さ1.5nmのPtでコーティングした試料、倍率100000倍、傾斜視野3°)を用いると、平均細孔サイズは概して5nmより小さく、好ましくは2nmより小さい。
得られる膜は、イオンは膜を通過することができるが水分子は膜を通過しないように、低い透水度を有することが好ましい。膜は、好ましくは1×10−7/m.s.kPa未満、より好ましくは1×10−8/m.s.kPa未満、もっとも好ましくは5×10−9/m.s.kPa未満、特に1×10−9/m.s.kPa未満の透水度を有する。好ましい透水度は、膜の使用目的に依存する。
膜の網状構造は、架橋剤(1以上)、構造改質剤(1以上)および硬化性化合物(1以上)の素性(identity)および量、ならびにそれらの官能性、例えば、それらが1分子あたりに含有する架橋性基の数により、かなりの程度まで決定される。
硬化プロセスの間に、硬化性組成物は支持体の上面上に層を形成することができ、または支持体の細孔中に完全または部分的に浸透し、これにより含浸複合膜を形成することができる。硬化性組成物を支持体の両側に施用して、対称性を持つ複合膜を達成することもできる。好ましい態様では、支持体を該組成物で飽和させ、飽和した支持体を電子ビームまたは紫外線照射により硬化する。
本発明のプロセスは、望ましい場合、例えば得られた膜を洗浄および/または乾燥する、さらなる段階を含有することができる。
硬化性組成物を支持体の表面に施用する前に、例えば支持体の湿潤性および付着力を向上させる目的で、支持体を、コロナ放電処理、プラズマグロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、化学的処理などに付すことができる。
支持体を処理して、その表面エネルギーを例えば70mN/mを超える値に改変することもできる。
固定支持体を用いてバッチ式で膜を調製することが可能であるが、本発明の利益を十分に得るためには、移動支持体を用いて連続式で膜を調製することが、はるかに好ましい。支持体は、連続的にほどかれるロールの形態にあることができ、または、支持体は、連続的に駆動されているベルト上に載っていることができる(または、これらの方法の組み合わせであってもよい)。そのような技術を用いると、硬化性組成物を連続式で支持体に施用することができ、または、大規模なバッチ式で施用することができる。
硬化性組成物は、任意の適した方法、例えば、カーテンコーティング、ブレードコーティング、エアーナイフコーティング、ナイフオーバーロールコーティング、スライドコーティング、ニップロールコーティング、フォワードロールコーティング、リバースロールコーティング、マイクロロールコーティング、ディップコーティング、フーラード(foulard)コーティング、キスコーティング、ロッドバーコーティングまたはスプレーコーティングにより、支持体に施用することができる。多層のコーティングを同時または逐次的に行うことができる。多層をコーティングする場合、硬化性組成物は同一または異なっていることができる。多層の同時コーティングでは、カーテンコーティング、スライドコーティングおよびスロットダイコーティングが好ましい。硬化性組成物(1以上)は、支持体の片側または支持体の両側に施用することができる。
一態様では、同一または異なっていることができる少なくとも2つの硬化性組成物を、支持体に、例えば同時または逐次的に施用する。硬化性組成物は、支持体の同一側面または異なる側面に施用することができる。したがって、施用段階は、各施用の間に硬化を実施するか否かに関わらず、1回より多く実施することができる。異なる側面に施用する場合、得られる複合膜は対称的または非対称的であることができ、硬化性組成物の層は、同一または異なる厚さを有することができる。同一側面に施用する場合、少なくとも1つの上層と、該上層より支持体に近い少なくとも1つの底層とを含む複合膜を形成することができる。この態様において、上層および底層は、任意の介在層と一緒になって膜を構成し、多孔質支持体は、得られる複合膜に強度を与える。
したがって、好ましいプロセスにおいて、硬化性組成物は、移動支持体に連続的に、より好ましくは、1以上の硬化性組成物施用ステーション(1以上)と、組成物を硬化するための1以上の照射源(1以上)と、膜収集ステーションと、支持体を硬化性組成物施用ステーション(1以上)から照射源(1以上)そして膜収集ステーションへ移動させる手段とを含む製造ユニットにより、施用される。
硬化性組成物施用ステーション(1以上)は照射源(1以上)に対し上流の位置に置くことができ、照射源(1以上)は膜収集ステーションに対し上流の位置に置く。
高速コーティング機による施用に十分な流動性を有する硬化性組成物を生産するために、硬化性組成物は、35℃で測定して5000mPa.s未満、より好ましくは、35℃で測定して1〜1500mPa.sの粘度を有することが好ましい。もっとも好ましくは、硬化性組成物の粘度は、35℃で測定して2〜500mPa.sである。スライドビードコーティングなどのコーティング方法の場合、好ましい粘度は、35℃で測定して2〜150mPa.sである。粘度は、スピンドルSCA−18を取り付け、30rpmで回転させた、Brookfieldからの粘度計、モデルLVDV−II+を用いて測定することができる。
適したコーティング技術を用いて、硬化性組成物を、5m/分を超える、好ましくは10m/分を超える、より好ましくは15m/分を超える速度、例えば20m/分を上回る速度、または、30m/分もしくは最高100m/分に達し得るようなさらに速い速度で移動している支持体に、施用することができる。
硬化は、ラジカル重合により、好ましくは電磁線を用いて実施することが好ましい。放射線源は、組成物を硬化するのに必要な放射線の波長および強度をもたらす任意の放射線源であることができる。硬化のための紫外線源の典型例は、Fusion UV Systemsにより供給されている出力600ワット/インチ(240W/cm)のDバルブである。あるいは、同供給者からのVバルブおよびHバルブである。
硬化性組成物に光開始剤が包含されていない場合、組成物を、電子ビーム暴露により、例えば50〜300keVの暴露を用いて硬化することができる。硬化は、プラズマまたはコロナ暴露により達成することもできる。
硬化中に、成分(i)および(ii)が重合してポリマー膜を形成する。硬化は、膜が30秒以内に形成するのに十分な速さで起こることが好ましい。望ましい場合、続いてさらなる硬化を施用して完了させることができるが、一般にこれは必要ではない。
硬化は、組成物に紫外線または電子ビームを照射することにより達成することが好ましい。
硬化性組成物の硬化は、組成物を支持体に施用した後、好ましくは3分以内、より好ましくは60秒以内に開始する。
硬化は、硬化性組成物を好ましくは30秒未満、より好ましくは10秒未満、特に3秒未満、さらに特に2秒未満にわたり照射することにより達成される。連続的プロセスでは照射は連続的に行われ、硬化性組成物が照射ビームの中を通って移動する速度が、硬化の時間を決定する主因である。
硬化では紫外線を用いることが好ましい。適した波長は、硬化性組成物に包含される任意の光開始剤の吸収波長と波長が合っているという条件で、例えばUV−A(390〜320nm)、UV−B(320〜280nm)、UV−C(280〜200nm)、およびUV−V(445〜395nm)である。
適した紫外線源は、水銀アークランプ、炭素アークランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、旋回流プラズマアークランプ、金属ハロゲン化物ランプ、キセノンランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、レーザーおよび紫外線発光ダイオードである。中圧または高圧水銀蒸気タイプの紫外線発光ランプおよび紫外線発光ダイオードがとりわけ好ましい。ほとんどの場合、200〜450nmに発光極大を有するランプがとりわけ適している。
照射源のエネルギー出力は、好ましくは20〜1000W/cm、好ましくは40〜500W/cmであるが、望ましい暴露線量を実現することができるならばこれより高くても低くてもよい。暴露強度は、膜の最終構造に影響を及ぼす硬化の程度を制御するために用いることができるパラメーターの1つである。暴露線量は、好ましくは少なくとも40mJ/cm、より好ましくは80〜2000mJ/cm、特に100〜900mJ/cm、さらに特に150〜500mJ/cmである。暴露線量は、EIT,IncからのMicroCure(登録商標)RadiometerタイプMC−2により測定することができる。暴露時間は自由に選ぶことができるが、短いことが好ましく、典型的には10秒未満、より好ましくは5秒未満、特に3秒未満、さらに特に2秒未満、例えば0.1〜1秒である。
高コーティング速度において望ましい暴露線量に達するために、硬化性組成物が1回より多く照射されるように、1つより多くのUVランプを用いることができる。2つ以上のランプを用いる場合、すべてのランプが同等の線量を与えることができ、または各ランプが個々の設定を有することができる。例えば、第1のランプは第2およびそれに続くランプより高い線量を与えることができ、または、第1のランプの暴露強度はより低くてもよい。各ランプの暴露線量を変動させると、ポリマーマトリックス構造および最終架橋密度に影響を与えることができる。好ましい態様では、組成物を、2つ以上の照射源、例えば2つのランプを用いて相対する側(各側に1つ)から同時に照射することにより硬化する。2つ以上の照射源は、互いに同じ強度で組成物を照射することが好ましい。この対称的な配置を用いることにより、より高い架橋効率を達成することができ、膜のカールを低減または防止することができる。
紫外線または電子ビームの照射による硬化は、20〜60℃で実施することが好ましい。より高い温度を用いることもできるが、製造コストがより高くなる可能性があるため好ましくない。
好ましい支持体は多孔質であり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリアミドおよびそれらのコポリマーなどの織布状または不織布状合成ファブリックであるか、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、酢酸セルロース、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレンおよびそれらのコポリマーなどに基づく多孔質膜であることができる。
さまざまな多孔質支持体が、例えばFreudenberg Filtration Technologies(Novatexx材料)およびSefar AGから市販されている。
意外にも、アニオン基(例えば、スルホ、カルボキシルおよびホスファト基)を有するイオン交換膜は、選択透過性および導電率の点で良好な性質を示すことができると同時に、製造コストが本プロセスにより過度に高くない。
本プロセスにより、過度の可撓性または過度の剛性を示すことなく望ましい程度の可撓性を有する膜の調製が可能になる。溶媒が存在すると、硬化性組成物の被覆性が向上するほか、欠陥の数が少なく、カールする傾向が低く、使用中に良好な耐久性を保持する薄膜を、もたらすことができる。
本発明の第3の観点に従って、第1の観点に従った硬化性組成物を例えば本発明の第2の観点に従ったプロセスにより硬化することを含むプロセスにより得られる膜を提供する。
本発明の第3の観点に従った膜は、アニオン基を有する膜を必要とする他の用途にも用いることができる。
本発明の第3の観点に従った膜は、本発明の第2の観点に関し上記した特性を有することが好ましい。
本発明の膜は、ED、(C)EDI、EDR、FTC、ZDDおよびREDにとりわけ有用であるが、他の目的に用いることもできる。多価カチオンに関する膜の電気抵抗は小さいので、該膜は、例えばマグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、バリウムおよびラジウムイオンなどの多価イオンの除去にとりわけ適しており、これにより、該膜は硬水軟化に非常に適したものになっている。硬水軟化の施用は、例えば軟水を家庭に提供するために入口点(point-of-use)のシステムにおいて、および、使用点(point-of-use)のシステム、例えば洗濯機、コーヒーメーカー、食器洗い機などにおいて、見いだすことができる。
本発明の第4の観点に従って、水処理(例えば浄水)または発電のための、本発明の第3の観点に従った膜の使用を提供する。
本発明の第5の観点に従って、本発明の第3の観点に従った膜を1枚以上含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、または容量性脱イオン装置、例えば、フロースルーキャパシターを提供する。電気脱イオンモジュールは、連続電気脱イオンモジュールであることが好ましい。
図1は、実施例でより詳細に記載するように、本発明に従った逆電気透析ユニットにおける総電力密度に対する供給物組成および膜タイプの影響を示している。
電気透析もしくは逆電気透析ユニットまたは電気脱イオンモジュールまたは容量性脱イオン装置は、少なくとも1つのアノードと、少なくとも1つのカソードと、1枚以上の本発明の第3の観点に従った膜とを含むことが好ましい。該ユニットの1枚以上の膜が、アニオン基を有する本発明の第3の観点に従った膜と、カチオン基を有する他の膜とを含むことが好ましい。
好ましい態様において、該ユニットは、本発明の第3の観点に従った膜を、少なくとも3枚、より好ましくは少なくとも5枚、例えば、約36枚、約128枚、約600枚、または最高約1500枚含み、膜の数は用途に依存する。該膜は、例えば、プレート・アンド・フレーム(plate-and-frame)もしくは積層ディスク配置、またはスパイラル巻き(spiral-wound)設計で用いることができる。あるいは、アニオン基を有する本発明に従った連続的な第1の膜を、コンサーティーナ形状(concertina)(またはジグザグ)様式で折り畳むことができ、カチオン基(すなわち、第1の膜と相対する電荷のもの)を有する第2の膜を折り目の間に挿入して、複数のチャネルを形成することができる。このチャネルに沿って流体は進むことができ、該チャネルは、側壁としてアニオン膜およびカチオン膜を交互に有することができる。
本発明の第6の観点に従って、あるイオンを含む水性液体中の該イオンの濃度の低減プロセスであって、液体を本発明の第3の観点に従った膜と接触させて、該イオンが膜を通過することを可能にすることを含み、該イオンが、前記硬化性組成物中に存在する構造改質剤のイオン半径より少なくとも10pm小さいイオン半径を有する、前記プロセスを提供する。構造改質剤が、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む有機化合物である場合、構造改質剤のイオン半径は、アミノおよび第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基の間の距離である。
ここで、本発明を以下の非限定的な実施例により例示する。
実験方法
電気抵抗(“ER”)(オーム.cm)は、Dlugolecki et alによりJ.of Membrane Science,319(2008)の217〜218頁に記載されている方法により、以下を変更して測定した:
・補助膜は、日本のTokuyama SodaからのCMXおよびAMXであった;
・easy load IIモデル77200−62ギアポンプを備えたCole Parmerマスターフレックスコンソールドライブ(77521−47)を、すべての区画に用いた;
・各流れの流速は、Porter Instrument流量計(タイプ150AV−B250−4RVS)およびCole Parmer流量計(タイプG−30217−90)により制御して、475mL/分であった;
・膜の有効面積は3.14cmであった。
・電極として、0.5M NaCl、0.5M MgClまたは0.5M CaClを用いた。
選択透過性(“α(%)”)は、静止膜電位測定を用いることにより測定した。2つのセルを、検討中の膜により分離した。測定前に、膜を0.05M NaCl溶液中で少なくとも12時間にわたり平衡化した。異なるNaCl濃度を有する2つの流れを、検討中の膜の相対する側でセルに通した。一方の流れは0.05MのNaCl(Sigma Aldrichからのもの、最低純度99.5%)濃度を有し、もう一方の流れは0.5M NaClであった。両方の流れの流速は0.90dm/分であった。2つのカロメル参照電極(スイスのMetrohm AGからのもの)を、各セルに挿入したHaber−Lugginキャピラリー管に接続し、膜を介した電位差を測定するのに用いた。有効膜面積は3.14cmであり、温度は21℃であった。
定常状態に到達したとき、膜電位を測定した(ΔV測定値)。
膜の選択透過性(α(%))を以下の式に従って計算した:
α(%)=ΔV測定値/ΔV理論値×100%。
理論上の膜電位(ΔV理論値)は、ネルンストの式を用いて計算した選択透過性100%の膜の電位である。
実施例
以下の構成成分を用いて複合膜を調製した:
MBA Sigma AldrichからのN,N’−メチレンビスアクリルアミドである。
AMPS Hang−Zhou(中国)からの2−アクリロイルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸である。
BAMPS 米国特許公報第4034001号に記載されている通りに合成した1,1−ビス(アクリロイルアミド)−2−メチルプロパン−2−スルホン酸のアンモニウム塩である。
DABCO Sigma Aldrichからの1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(トリエチレンジアミン)である。
DarocurTM 1173 BASF Resins,Paint & Coatingsisからの光開始剤、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンである。
GenoradTM Rahnからの重合防止剤である。
IPA Shellからの2−プロパノールである(不活性有機溶媒)。
MeOH メタノールである。
LiOH.HO Chemetallからの水酸化リチウム一水和物である。
Ca(OH) Sigma Aldrichからの水酸化カルシウムである。
Mg(OH) Sigma Aldrichからの水酸化マグネシウムである。
CaHPO.2HO Sigma Aldrichからのリン酸水素カルシウム二水和物である。
Sr(OAc) Sigma Aldrichからの酢酸ストロンチウムである。
Viledon(登録商標)Novatexx 2223−10 Freudenberg Filtration Technologiesからの不織ポリオレフィン多孔質支持体である。
PW 純水(不活性溶媒)である。
界面活性剤 Evonikからのポリエーテルシロキサンである。
実施例1〜9
実施例Ex.1〜Ex.9の硬化性組成物を、表1に示す構成成分を混合することにより調製した。表1中、量はすべて関連成分の重量%である。
Figure 2018510226
膜M1〜M9の調製
表1に記載した各硬化性組成物を、100μm巻線バーを用いてアルミニウム製地下キャリヤー(underground carrier)に約5m/分の速度で手で施用した後、Viledon(登録商標)Novatexx 2223−19不織支持体に施用した。過剰な組成物をワイヤーバー(RK Print Coat Instruments Ltdによる標準KバーNo.0、ワイヤ直径0.05mm)を用いて擦り落とし、含浸支持体の片面を、D−バルブを取り付けたFusion UV SystemsからのLight Hammer LH6を強度100%、30m/分の速度で作動させて用いて、0.21J/cmの線量で紫外線を照射することにより硬化した(シングルパス)。Ex.1〜Ex.9の硬化性組成物から、それぞれ膜M1〜M9が生じた。
膜M1およびM2ならびに比較膜CM1の試験結果
(A)選択透過率および電気抵抗の結果
比較膜CM1として、成分(v)を含まない硬化性組成物から得たFujifilmからのタイプ1カチオン交換膜を用いた。
結果
Figure 2018510226
表2において、“ER”は、示したNaCl、MgClまたはCaClの0.5M溶液で試験したときの電気抵抗を意味する。“α(%)”は、上記のように測定した選択透過率を意味する。
Ex.1〜Ex.9でのER Mg/ER Naの比は、成分(v)を含まない組成物から作製した比較例CEx.1の場合よりはるかに小さかった。これは、多価イオンの場合と一価イオンの場合を比較した膜の相対的透過性を示している。
(B)電力密度の結果
膜スタックの調製
最初に、イオン交換膜M1、M2およびCM1を、それらを含有する膜スタックを組み立てる前に、0.5M NaCl溶液中で2時間という最小限の時間にわたり平衡化した。その後、膜スタックを、RedStack B.V.から購入した11×11cmクロスフロースタック中に10個のセル対を取り付けることにより構築した。各セル対はカチオン交換(上記膜M1、M2およびCM1のうち1つ)およびアニオン交換膜(Fujifilmから得たタイプ1アニオン交換膜)を包含し、3つのスタックすべてにおいて最外膜は膜CM1であった。したがって、得られた膜スタックは、濃縮イオン溶液が通過する濃縮物チャネルと、希釈イオン溶液が通過する希釈物(diluate)チャネルを包含していた。膜スタックはさらに、膜が離れた状態を維持して溶液が膜の間を通ることが可能になるように、濃縮物チャネルおよび希釈物チャネルの両方に不織スペーサー(厚さ220μm、Deukum GmbHからのもの)を包含していた。脈動吸収材を備えるCole−ParmerからのMasterflex蠕動ポンプを用いて、イオン溶液を濃縮物および希釈物チャネルに供給した。スタックの電力源として、MetrohmからのNOVAソフトウェアを備えたAutolab PGSTAT302Nを用いた。
各膜の正味の膜面積は、6.4×6.4cmであった。
スタックの電極区画中の電解液は、0.25M NaCl中の0.1M KFe(III)(CN)および0.1M KFe(II)(CN)であった。
測定手順
上記のように調製したスタックを逆電気透析装置に用いて、電気エネルギーを発生させた。膜M1、M2またはCM1を含む上記スタックで発生した正味の電力密度(W/m)を、以下のように測定した:
表3に示す4つの濃縮物溶液(CSA〜CSD)および4つの希釈物溶液(DSA〜DSD)を、3つの各スタックの濃縮物チャネルおよび希釈物チャネルにそれぞれ通して通過させた。各溶液は、53mL/分の割合(速度0.95cm/秒)、温度21℃で、0.27W/mの平均ポンプ輸送エネルギーを用いて流した。以下の表3において、量は、1リットルあたりのミリモル([mM])での関連イオンの濃度を示している。
Figure 2018510226
表3の導電率の数字は、スタックに入ったときの関連溶液の導電率を示している。溶液CSAおよびDSAは、水およびNaClだけを含有していた。溶液CSB/DSBおよびCSC/DSCでは、10mol%のNaClがそれぞれMgClまたはCaClのいずれかで置き換えられていた。溶液CSDおよびDSDは、それぞれ海水および河川水の組成に類似するように設計されていた。
スタックの正味の電力密度を決定するために、スタックにNaCl溶液CSA(濃縮物チャネルを通じて)およびDSA(希釈物チャネルを通じて)を供給し、10A/mの電流を20分間施用して平衡化を完了させた。各スタックについて、直流抵抗、平均電流および開路電位を、0〜20A/mそして0A/mに戻る11の電流ステップで測定した。2つの対応するデータ点が過度に異なっていた場合、平衡化を繰り返した。測定値が適度に整合性を示した場合、供給溶液CSAおよびDSBを、試験溶液CSBおよびDSBで、最初に濃縮物チャネルにおいてCSB、つぎに希釈物チャネルにおいてDSBで置き換えた。溶液CSBおよびDSBの直流抵抗、平均電流および開路電位の測定後、供給溶液を溶液CSAおよびDSAに戻した。つづいて、溶液CSCおよびDSCの直流抵抗、平均電流および開路電位を同様に測定した。類似の方法で供給溶液を溶液CSAおよびDSAに戻した後、溶液CSDおよびDSDの直流抵抗、平均電流および開路電位を同様に測定した。スタック抵抗を電極区画(ブランク)に対して補正した。
電流密度に対する総電力密度のプロットから、最大電力密度を各スタックについて決定し、この値を用いて正味の電力密度を計算した。正味の電力密度を計算するために、測定した総電力密度からポンプ輸送エネルギーを差し引いた。結果を表4に示す。
Figure 2018510226
表4の結果は、本発明の膜M1およびM2では、特にマグネシウムおよび/またはカルシウムイオンを含有する供給流れに関し、比較膜CM1よりもはるかに大きな正味の電力密度が得られたことを示している。
図1は、本発明に従った逆電気透析ユニットにおける総電力密度に対する供給物組成および膜タイプの影響を示している。
図1において、膜M2を含み、溶液CSAおよびDSAを供給したREDユニット(黒丸点)は、本発明に従った膜M2を比較膜CM1で置き換えた点を除き同一のREDユニットに同じ溶液を通して通過させた場合(白丸点)より大きな電流密度の値を有していたことがわかる。
図1はまた、膜M2を含み、海水および河川水を模倣するために溶液CSDおよびDSDを供給したREDユニット(黒三角)は、本発明に従った膜M2を比較膜CM1で置き換えた点を除き同一のREDユニットに同じ溶液を通過させた場合(白三角)より大きな電流密度の値を有していたことを示している。

Claims (26)

  1. 成分:
    (i)0〜60重量%の非イオン架橋剤(1以上);
    (ii)アニオン基および少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む、20〜85重量%の硬化性イオン化合物(1以上);
    (iii)15〜45重量%の溶媒(1以上);
    (iv)0〜10重量%の光開始剤(1以上);および
    (v)2〜45重量%の構造改質剤(1以上);
    成分(v):(ii)のモル比は0.25〜0.65である;
    を含む、硬化性組成物。
  2. 非イオン架橋剤(1以上)が少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む、請求項1に記載の硬化性組成物。
  3. (v):(ii)のモル比が0.25〜0.499である、請求項1に記載の組成物。
  4. 成分(v)が、25℃においてpH1の水に対し水1kgあたり少なくとも20gの溶解度を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
  5. 構造改質剤(v)が、成分(ii)中に存在するアニオン基(1以上)とイオン結合を形成することができる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
  6. 構造改質剤が、多価金属塩と、アミノ基および第四級アンモニウム基から選択される少なくとも2つの基を含む有機化合物とからなる群より選択される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
  7. 構造改質剤が、カルシウムカチオン、マグネシウムカチオンもしくはストロンチウムカチオンと、水酸化物、酢酸、クエン酸、シュウ酸、炭酸、重炭酸、リン酸、リン酸一水素もしくはリン酸二水素アニオンとを含む塩、ならびに/または、エチレンジアミンおよびトリエチレンジアミンからなる群より選択される有機アミン、からなる群より選択される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
  8. 成分:
    (i)2〜40重量%の非イオン架橋剤(1以上);
    (ii)(a)アニオン基および1つのエチレン性不飽和基を含む、20〜60重量%の硬化性イオン化合物(1以上);および
    (b)アニオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む、0〜60重量%の硬化性イオン化合物(1以上);
    (iii)15〜45重量%の溶媒(1以上);
    (iv)0〜5重量%の光開始剤(1以上);および
    (v)少なくとも2つの前記アニオン基(1以上)とイオン結合を形成することができる、4〜35重量%の構造改質剤(1以上);
    成分(v):(ii)のモル比は0.25〜0.65である;
    を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
  9. 成分(i)が、イオン基および少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む硬化性イオン化合物であるか、そのような硬化性イオン化合物を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
  10. 非イオン架橋剤(1以上)が少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
  11. エチレン性不飽和基(1以上)がアクリル基である、請求項1〜10のいずれかに記載の硬化性組成物。
  12. 請求項1〜11のいずれか一項に記載の放射線硬化性組成物。
  13. 以下の段階:
    (i)硬化性組成物を支持体に施用する段階;および
    (ii)該組成物を硬化して膜を形成する段階;
    該硬化性組成物は、請求項1〜12のいずれか一項で定義したとおりである;
    を含む、膜の調製方法。
  14. 硬化を、電子ビームまたは紫外線を用いて実施する、請求項13に記載の方法。
  15. 組成物を、電子ビームまたは紫外線を30秒未満の時間にわたり照射することにより硬化する、請求項14に記載の方法。
  16. さらに、構造改質剤の少なくとも一部を膜から除去する段階を含む、請求項13〜15のいずれか一項に記載の方法。
  17. 構造改質剤が多価金属塩であるか多価金属塩を含み、構造改質剤の一部またはすべてをイオン交換および/または洗浄により膜から除去する、請求項16に記載の方法。
  18. 構造改質剤が、カルシウムカチオン、マグネシウムカチオンもしくはストロンチウムカチオンと、水酸化物、酢酸、クエン酸、シュウ酸、炭酸、重炭酸、リン酸、リン酸一水素もしくはリン酸二水素アニオンとを含む塩、ならびに/または、エチレンジアミンおよびトリエチレンジアミンからなる群より選択される有機アミン、からなる群より選択される、請求項16または17に記載の方法。
  19. 硬化性組成物が、硬化性組成物施用ステーションと、組成物を硬化するための照射源と、膜収集ステーションと、支持体を硬化性組成物施用ステーションから照射源そして膜収集ステーションへ移動させる手段とを含む製造ユニットにより、移動支持体に連続的に施用される、請求項13〜18のいずれか一項に記載の方法。
  20. 硬化性組成物を、5m/分を超える速度で移動している支持体に施用する、請求項19に記載の方法。
  21. 請求項1〜12のいずれか一項に記載の組成物を硬化することにより、および/または請求項13〜20のいずれか一項に記載の方法により、得たまたは得ることができる膜。
  22. 0.5Mのイオン濃度で測定したときに、マグネシウムイオンに関する膜の電気抵抗とナトリウムイオンに関する膜の電気抵抗の比が3未満である、請求項21に記載の膜。
  23. 0.5Mのイオン濃度で測定したときに、ナトリウムイオンに関する電気抵抗が3オーム.cm未満であり、マグネシウムイオンに関する電気抵抗が7オーム.cm未満である、請求項21または22に記載の膜。
  24. イオン分離法、浄水、脱塩、廃水処理、電気分解、パーベーパレーションまたは発電における、請求項21〜23のいずれか一項に記載の膜のイオン交換膜としての使用。
  25. 請求項21〜23のいずれか一項に記載の膜を1枚以上含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、連続電気脱イオンモジュール、または容量性脱イオン装置。
  26. あるイオンを含む水性液体中の該イオンの濃度の低減方法であって、液体を請求項21〜23のいずれかに記載の膜と接触させて、該イオンが膜を通過することを可能にすることを含み、該イオンが、前記硬化性組成物中に存在する構造改質剤のイオン半径より少なくとも10pm小さいイオン半径を有する、前記方法。
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