JP2018509651A - レジスト変形を決定するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2015年3月16日に出願された米国特許出願第62/133,782号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
−プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層と反射面を有するマトリックスアドレッサブル表面である。このような装置の基本原理は、(例えば)反射面のアドレスエリアが回折放射として入射放射線を反射し、非アドレスエリアが非回折放射して入射放射線を反射することである。適切なフィルタを使用すると、当該非回折放射を反射ビームからフィルタで除去し、回折放射のみを残すことができ、このように、ビームはマトリックスアドレッサブル表面のアドレッシングパターンに応じてパターン付きになる。必要なマトリックスアドレッシングは適切な電子手段を使用して実行することができる。このようなミラーアレイに関する詳細情報は、例えば、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第5,296,891号及び第5,523,193号から入手することができる。
−プログラマブルLCDアレイ。このような構造の一例は、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第5,229,872号に示されている。
∂CF(z1,z2,・・・,zN)/∂zN=0、ここで、n=1,2,・・・Nである。
−放射ビームBを調節するための照明システムIL。この特定のケースでは照明システムは放射源SOも含む。
−パターニングデバイスMA(例えばレチクル)を保持するためのパターニングデバイスホルダが設けられ、アイテムPSに対してパターニングデバイスを正確に位置決めするための第1のポジショナに接続された第1のオブジェクトテーブル(例えばマスクテーブル)MT。
−基板W(例えばレジストコートシリコンウェーハ)を保持するための基板ホルダが設けられ、アイテムPSに対して基板を正確に位置決めするための第2のポジショナに接続された第2のオブジェクトテーブル(基板テーブル)WT。
−パターニングデバイスMAの照射部分を基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(「レンズ」)PS(例えば、屈折、反射、又は反射屈折光学システム)。
−ステップモードでは、パターニングデバイステーブルMTは本質的に静止状態に保持され、パターニングデバイスイメージ全体が一度に(即ち、単一「フラッシュ」で)ターゲット部分Cに投影される。次に、異なるターゲット部分CをビームPBで照射できるように、基板テーブルWTがx方向及び/又はy方向にシフトする。
−スキャンモードでは、所与のターゲット部分Cが単一「フラッシュ」で露光されないことを除いて、本質的に同じシナリオが適用される。その代わりに、パターニングデバイステーブルMTは速度vで所与の方向(いわゆる「スキャン方向」、例えばy方向)に移動可能であり、従って、投影ビームBはパターニングデバイスイメージの上をスキャンするようになり、同時に、基板テーブルWTは速度V=Mvで同じ方向又は反対方向に同時に移動し、MはレンズPLの倍率である(典型的に、M=1/4又は1/5)。このように、解像度について妥協する必要なしに、相対的に大きいターゲット部分Cを露光することができる。
[00143] −ソースコレクタモジュールSO
[00144] −放射ビームB(例えばEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)IL
[00145] −パターニングデバイス(例えばマスク又はレチクル)MAを支持するように構築され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(例えばマスクテーブル)MT
[00146] −基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WT
[00147] −基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを投影するように構成された投影システム(例えば反射型投影システム)PS
1.第1の方向に対して垂直な任意の方向にいかなる変形も存在しないかのように第1の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることと、
第1の方向にいかなる変形も存在しないかのように第2の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることであって、第2の方向が第1の方向とは異なるものであることと、
第1の方向の変形の特性及び第2の方向の変形の特性に基づいて、レジスト層の3次元変形の少なくとも1つの特性を求めることと、
を含む、コンピュータで実行される方法。
2.第2の方向が第1の方向に対して垂直である、条項1に記載の方法。
3.第1の方向にいかなる変形も存在しないかのように第3の方向の変形の少なくとも1つの特性を求めることを更に含む、条項1乃至条項2のいずれか1項に記載の方法。
4.3次元変形の少なくとも1つの特性を求めることが、第3の方向の変形の特性に更に基づくものである、条項3に記載の方法。
5.第1、第2、及び第3の方向が互いに垂直である、条項3乃至条項4のいずれか1項に記載の方法。
6.3次元変形の特性がエッジ変位誤差の変化である、条項1乃至条項5のいずれか1項に記載の方法。
7.第1の方向の変形の特性が第1の方向におけるレジスト層内の位置の変位である、条項1乃至条項6のいずれか1項に記載の方法。
8.第2の方向の変形の特性が第2の方向におけるレジスト層内の位置の変位である、条項1乃至条項7のいずれか1項に記載の方法。
9.レジスト層が基板上にある、条項1乃至条項8のいずれか1項に記載の方法。
10.第1の方向が基板に対して垂直である、条項9に記載の方法。
11.第2の方向が基板に対して平行である、条項9に記載の方法。
12.基板が、第1の方向及び第2の方向の変形の特性のうちの少なくとも1つを抑制する、条項9に記載の方法。
13.基板と直接接触しているレジスト層の一部分が第1の方向のゼロ変位を有する、条項9に記載の方法。
14.基板と直接接触しているレジスト層の一部分が第2の方向のゼロ変位を有する、条項9に記載の方法。
15.第1の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることが、第1の方向のある距離における工学ひずみを統合することを含む、条項1乃至条項14のいずれか1項に記載の方法。
16.第2の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることが、第2の方向の剪断応力と法線応力とのバランスを取ることを含む、条項1乃至条項15のいずれか1項に記載の方法。
17.レジスト層がポジ型現像液で現像される、条項1乃至条項16のいずれか1項に記載の方法。
18.レジスト層がネガ型現像液で現像される、条項1乃至条項16のいずれか1項に記載の方法。
19.現像時に溶解されるレジスト層の一部分がゼロというヤング率を有する、条項1乃至条項18のいずれか1項に記載の方法。
20.3次元変形の特性に基づいてデバイス製造プロセス又はデバイス製造装置のパラメータを調整することを更に含む、条項1乃至条項19のいずれか1項に記載の方法。
21.レジスト層が、デバイス製造プロセス中に又はデバイス製造装置の使用中に、1つ以上の物理的又は化学的処理を受けることになる、条項20に記載の方法。
22.デバイス製造プロセスが、リソグラフィ、エッチング、デポジション、ドーピング、メトロロジ、及びこれらの組み合わせからなるグループから選択される、条項20乃至条項21のいずれか1項に記載の方法。
23.デバイス製造装置が、ステッパ、エッチャー、スピナー、オーブン、光学メトロロジツール、電子顕微鏡、イオンインプランタ、デポジションチャンバ、及びこれらの組み合わせからなるグループから選択される、条項20乃至条項21のいずれか1項に記載の方法。
24.パラメータがデザインレイアウトのパラメータである、条項20乃至条項21のいずれか1項に記載の方法。
25.パラメータを調整した後にマスクを製造することを更に含む、条項24に記載の方法。
26.3次元変形の特性に基づいて、デザインレイアウトの複数のパターンのオーバラッピングプロセスウィンドウ(OPW)を決定することを更に含む、条項1乃至条項19のいずれか1項に記載の方法。
27.OPWに基づいて、複数のパターンから生成された欠陥の存在、存在の可能性、1つ以上の特性、又はこれらの組み合わせを決定又は予測することを更に含む、条項26に記載の方法。
28.リソグラフィ投影装置を使用して基板上にデザインレイアウトの一部分を結像するためのリソグラフィプロセスを改善するためのコンピュータで実行される方法であって、
多変数コスト関数を計算することであって、多変数コスト関数が基板上のレジスト層の変形の少なくとも1つの特性とリソグラフィプロセスの特性である複数の設計変数との関数であることと、
特定の終了条件が満足されるまで設計変数のうちの1つ以上を調整することによりリソグラフィプロセスの特性のうちの1つ以上を再構成することと、
を含む、コンピュータで実行される方法。
29.変形の特性が設計変数のうちの少なくともいくつかの関数である、条項28に記載の方法。
30.コスト関数がエッジ配置誤差の関数である、条項28乃至条項29のいずれか1項に記載の方法。
31.特性のうちの1つ以上がデザインレイアウトの少なくとも1つのパラメータを含む、条項28乃至条項30のいずれか1項に記載の方法。
32.デザインレイアウトのパラメータを再構成した後にマスクを製造することを更に含む、条項31に記載の方法。
33.レジスト層の変形の特性がレジスト層内のある位置におけるひずみである、条項28乃至条項32のいずれか1項に記載の方法。
34.レジスト層の変形の特性がレジスト層内の位置の変位である、条項28乃至条項32のいずれか1項に記載の方法。
35.多変数コスト関数を計算することが、
第1の方向に対して垂直な任意の方向にいかなる変形も存在しないかのように第1の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも第1の特性を求めることと、
第1の方向にいかなる変形も存在しないかのように第2の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも第2の特性を求めることであって、第2の方向が第1の方向とは異なるものであることと、
第1の特性及び第2の特性に基づいて変形の特性を求めることと、
を含む、条項28乃至条項32のいずれか1項に記載の方法。
36.多変数コスト関数を計算することが、3次元変形の特性に基づいて、デザインレイアウトの複数のパターンのオーバラッピングプロセスウィンドウ(OPW)を決定することを更に含む、条項35に記載の方法。
37.OPWに基づいて、複数のパターンから生成された欠陥の存在、存在の可能性、1つ以上の特性、又はこれらの組み合わせを決定又は予測することを更に含む、条項36に記載の方法。
38.複数の条件及び設計変数の複数の値において、確率変動或いは確率変動の関数であるか又は確率変動に影響を及ぼす変数の値を有する非一時的コンピュータ可読媒体。
Claims (15)
- 第1の方向に対して垂直な任意の方向にいかなる変形も存在しないかのように前記第1の方向におけるレジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることと、
前記第1の方向にいかなる変形も存在しないかのように第2の方向における前記レジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることであって、前記第2の方向が前記第1の方向とは異なるものであることと、
前記第1の方向の前記変形の前記特性及び前記第2の方向の前記変形の前記特性に基づいて、前記レジスト層の3次元変形の少なくとも1つの特性を求めることと、
を含む、コンピュータで実行される方法。 - 前記第1の方向にいかなる変形も存在しないかのように第3の方向の変形の少なくとも1つの特性を求めることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 3次元変形の前記特性がエッジ変位誤差の変化である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の方向の変形の前記特性が前記第1の方向における前記レジスト層内の位置の変位であるか及び/又は前記第2の方向の変形の前記特性が前記第2の方向における前記レジスト層内の位置の変位である、請求項1に記載の方法。
- 前記レジスト層が基板上にあり、前記基板と直接接触している前記レジスト層の一部分が前記第1の方向のゼロ変位を有するか又は前記基板と直接接触している前記レジスト層の前記一部分が前記第2の方向のゼロ変位を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の方向における前記レジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることが、前記第1の方向のある距離における工学ひずみを統合することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の方向における前記レジスト層の変形の少なくとも1つの特性を求めることが、前記第2の方向の剪断応力と法線応力とのバランスを取ることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記レジスト層がネガ型現像液で現像される、請求項1に記載の方法。
- 現像時に溶解される前記レジスト層の一部分がゼロというヤング率を有する、請求項1に記載の方法。
- 3次元変形の前記特性に基づいてデバイス製造プロセス又はデバイス製造装置のパラメータを調整することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記レジスト層が、前記デバイス製造プロセス中に又は前記デバイス製造装置の使用中に、1つ以上の物理的又は化学的処理を受けることになる、請求項10に記載の方法。
- 3次元変形の前記特性に基づいて、デザインレイアウトの複数のパターンのオーバラッピングプロセスウィンドウ(OPW)を決定することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記OPWに基づいて、前記複数のパターンから生成された欠陥の存在、存在の可能性、1つ以上の特性、又はこれらの組み合わせを決定又は予測することを更に含む、請求項12に記載の方法。
- リソグラフィ投影装置を使用して基板上にデザインレイアウトの一部分を結像するためのリソグラフィプロセスを改善するためのコンピュータで実行される方法であって、
多変数コスト関数を計算することであって、前記多変数コスト関数が前記基板上のレジスト層の変形の少なくとも1つの特性と前記リソグラフィプロセスの特性である複数の設計変数との関数であることと、
特定の終了条件が満足されるまで前記設計変数のうちの1つ以上を調整することにより前記リソグラフィプロセスの前記特性のうちの1つ以上を再構成することと、
を含む、コンピュータで実行される方法。 - 前記レジスト層の変形の前記特性が前記レジスト層内のある位置におけるひずみであるか及び/又は前記レジスト層の変形の前記特性が前記レジスト層内の位置の変位である、請求項14に記載の方法。
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EP3531206A1 (en) * | 2018-02-23 | 2019-08-28 | ASML Netherlands B.V. | Systems and methods for improving resist model predictions |
WO2020141056A1 (en) * | 2018-12-31 | 2020-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Method for predicting resist deformation |
CN109708590B (zh) * | 2019-01-23 | 2020-04-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种反射镜绝对加工面形的计算方法及系统 |
KR20220093915A (ko) * | 2020-12-28 | 2022-07-05 | 삼성전자주식회사 | 반도체 집적회로 레이아웃의 확률적 취약점 검출 방법 및 이를 수행하는 컴퓨터 시스템 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008250139A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 露光装置における露光方法及び露光装置 |
JP2013162125A (ja) * | 2012-02-03 | 2013-08-19 | Asml Netherlands Bv | 3dレジストプロファイルのシミュレーション用のリソグラフィモデル |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
US5296891A (en) | 1990-05-02 | 1994-03-22 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Illumination device |
US5229872A (en) | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
WO1997033205A1 (en) | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Philips Electronics N.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
US6594012B2 (en) | 1996-07-05 | 2003-07-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
KR100512450B1 (ko) | 1996-12-24 | 2006-01-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 두개의물체홀더를가진이차원적으로안정화된위치설정장치와이런위치설정장치를구비한리소그래픽장치 |
US6433878B1 (en) * | 2001-01-29 | 2002-08-13 | Timbre Technology, Inc. | Method and apparatus for the determination of mask rules using scatterometry |
JP4954211B2 (ja) | 2005-09-09 | 2012-06-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 個別マスクエラーモデルを使用するマスク検証を行うシステムおよび方法 |
US20080304034A1 (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Dose control for optical maskless lithography |
NL1036189A1 (nl) | 2007-12-05 | 2009-06-08 | Brion Tech Inc | Methods and System for Lithography Process Window Simulation. |
JP5913979B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2016-05-11 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 |
NL2007577A (en) | 2010-11-10 | 2012-05-14 | Asml Netherlands Bv | Optimization of source, mask and projection optics. |
NL2008924A (en) * | 2011-06-22 | 2013-01-02 | Asml Netherlands Bv | System and method to ensure source and image stability. |
US8473878B2 (en) * | 2011-11-28 | 2013-06-25 | Synopsys, Inc. | Lithographically enhanced edge determination |
NL2009982A (en) * | 2012-01-10 | 2013-07-15 | Asml Netherlands Bv | Source mask optimization to reduce stochastic effects. |
WO2015007511A1 (en) * | 2013-07-19 | 2015-01-22 | Asml Netherlands B.V. | Determination and application of non-monotonic dose sensitivity |
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2008250139A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 露光装置における露光方法及び露光装置 |
JP2013162125A (ja) * | 2012-02-03 | 2013-08-19 | Asml Netherlands Bv | 3dレジストプロファイルのシミュレーション用のリソグラフィモデル |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
B. TOLLKUHN: "Simplified resist models for efficient simulation of contact holes and line ends", MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. Vol. 78-79, JPN6018032321, 13 January 2005 (2005-01-13), pages 509 - 514, ISSN: 0003864231 * |
CHAO FANG: "A Physics-based Model for Negative Tone Development Materials", JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, vol. 27, no. 1, JPN6018032319, 8 July 2014 (2014-07-08), pages 53 - 59, ISSN: 0004071432 * |
M. KOTERA: "Three-dimensional simulation of resist pattern deformation by surface tension at the drying process", MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. Vol. 78-79, JPN6018032320, 28 January 2005 (2005-01-28), pages 515 - 520, ISSN: 0003864230 * |
SANG-KON KIM: "Thermal Effect Study for a Chemically Amplified Resist", JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY, vol. 49, no. 3, JPN7018002839, September 2006 (2006-09-01), pages 1211 - 1216, ISSN: 0004071431 * |
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