JP2018206697A - Transparent conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明導電性フィルムに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film.
特許文献１には、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）導電膜を有し、反射率曲線の極小値が２８０〜７００ｎｍの波長範囲にあり、波長３８０〜７８０ｎｍにおける平均反射率が２．５％以下である透明導電積層体が記載されている。また、特許文献１には、透過光色調がａ＊値とｂ＊値とも−２．０以上２．０以下とすることで、ニュートラル色調の透過光が得られることや、ＣＮＴ導電膜を用いることにより、耐屈曲性に優れることが記載されている。
また、特許文献２には、プラズマディスプレイパネルの前面に貼り付ける透光性の前面シートの前面側の表面が黒化処理された遮光体からなるメッシュを有するディスプレイパネル装置が記載されている。
Patent Document 1 includes a carbon nanotube (CNT) conductive film, a minimum value of a reflectance curve is in a wavelength range of 280 to 700 nm, and an average reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm is 2.5% or less. A conductive laminate is described. Further, Patent Document 1 discloses that a transmitted light color tone is set to −2.0 or more and 2.0 or less for both a * value and b * value, so that a neutral color transmitted light can be obtained, or a CNT conductive film is used. Therefore, it is described that it is excellent in bending resistance.
Patent Document 2 describes a display panel device having a mesh made of a light-shielding body whose front side surface of a translucent front sheet to be attached to the front side of a plasma display panel is blackened.
しかし、特許文献１に記載の発明では、導電層がＣＮＴからなるため、表面抵抗値を低くすることが難しく、電極として用いる場合に大面積化が難しいという問題があった。
また、特許文献２に記載の発明では、モアレを防止するにはメッシュの格子パターンに所定の傾斜角度を付与する必要があり、ディスプレイの設計や組立に際して制約があり、コスト高の問題があった。
However, in the invention described in Patent Document 1, since the conductive layer is made of CNT, it is difficult to reduce the surface resistance value, and there is a problem that it is difficult to increase the area when used as an electrode.
In addition, in the invention described in Patent Document 2, it is necessary to give a predetermined inclination angle to the mesh pattern of the mesh in order to prevent moire, and there is a limitation in designing and assembling the display, resulting in a problem of high cost. .
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、導電性及び視認性の優れた透明導電性フィルムを提供することを課題とする。 This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the transparent conductive film excellent in electroconductivity and visibility.
前記課題を解決するため、本発明は、ポリマーフィルムを含む基材と、前記基材上に形成されたランダム網目状の導電層を備える透明導電性フィルムであって、透過色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、かつ反射色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、前記透明導電性フィルムの全光線透過率が７０％以上であり、前記導電層の表面抵抗値が１５Ω／□以下であることを特徴とする透明導電性フィルムを提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a transparent conductive film comprising a base material including a polymer film and a random network-like conductive layer formed on the base material, wherein a * and b of transparent colors * Is within ± 2 and the reflection colors a * and b * are both within ± 2, the total light transmittance of the transparent conductive film is 70% or more, and the surface of the conductive layer A transparent conductive film having a resistance value of 15 Ω / □ or less is provided.
また、本発明は、ポリマーフィルムを含む基材と、前記基材上に形成されたランダム網目状の導電層を備える透明導電性フィルムであって、波長４００〜８００ｎｍにおける分光反射率において、最大反射率をＲｍａｘ、最小反射率をＲｍｉｎとするとき、１００×（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）により定義される反射率均一性（％）が１０％以下であり、前記透明導電性フィルムの全光線透過率が７０％以上であり、前記導電層の表面抵抗値が１５Ω／□以下であることを特徴とする透明導電性フィルムを提供する。 Further, the present invention is a transparent conductive film comprising a base material including a polymer film and a random network-like conductive layer formed on the base material, and has a maximum reflection in a spectral reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm. When the reflectance is Rmax and the minimum reflectance is Rmin, the reflectance uniformity (%) defined by 100 × (Rmax−Rmin) / (Rmax + Rmin) is 10% or less, and the total light of the transparent conductive film A transparent conductive film having a transmittance of 70% or more and a surface resistance value of the conductive layer of 15 Ω / □ or less is provided.
前記透過色及び前記反射色において、√（（ａ＊）２＋（ｂ＊）２）が１．５以下であることが好ましい。
直径５ｍｍの棒に沿って２０回の曲げを行う屈曲試験を経た後の前記表面抵抗値の変化率が−１０％〜＋１０％の範囲内であることが好ましい。
In the transmitted color and the reflected color, √ ((a * ) 2 + (b * ) 2 ) is preferably 1.5 or less.
It is preferable that the rate of change of the surface resistance value after being subjected to a bending test in which bending is performed 20 times along a 5 mm diameter rod is within a range of −10% to + 10%.
前記導電層が、銀ナノ粒子を含むことが好ましい。
前記透明導電性フィルムが、前記導電層の上にトップコート層を有することが好ましい。
前記トップコート層が紫外線吸収剤を含むことが好ましい。
前記基材が、前記導電層とは反対の側にバックコート層を有することが好ましい。
前記導電層が、前記基材とは反対側の表面に黒化処理層を有することが好ましい。
The conductive layer preferably contains silver nanoparticles.
The transparent conductive film preferably has a topcoat layer on the conductive layer.
The top coat layer preferably contains an ultraviolet absorber.
It is preferable that the base material has a back coat layer on the side opposite to the conductive layer.
The conductive layer preferably has a blackening treatment layer on the surface opposite to the substrate.
また、本発明は、上記の透明導電性フィルムを備えてなる表示装置を提供する。
また、本発明は、上記の透明導電性フィルムの製造方法であって、基材上に、銀と乳化剤を水とトルエンの溶媒中に含む導電層形成用塗布液を塗布し、乾燥させてランダム網目状の導電層を形成する工程と、前記導電層を有機溶媒処理、及び酸処理により低抵抗化する工程と、低抵抗化された前記導電層をいぶし液により黒化処理する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法を提供する。
Moreover, this invention provides the display apparatus provided with said transparent conductive film.
Further, the present invention is a method for producing the above transparent conductive film, wherein a conductive layer forming coating solution containing silver and an emulsifier in a solvent of water and toluene is applied on a substrate and dried to randomly. A step of forming a network-like conductive layer, a step of reducing the resistance of the conductive layer by organic solvent treatment and acid treatment, and a step of blackening the conductive layer reduced in resistance by a squeezing solution. The manufacturing method of the transparent conductive film characterized by including at least is provided.
本発明によれば、導電性及び視認性の優れた透明導電性フィルムを提供することができる。 According to the present invention, a transparent conductive film excellent in conductivity and visibility can be provided.
以下、好適な実施形態に基づいて、本発明を説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on preferred embodiments.
図１に、本実施形態の透明導電性フィルムを模式的に示す。この透明導電性フィルム２３は、ポリマーフィルム１１を含む基材１０と、基材１０上に形成された導電層２１を備えている。基材１０は、透明導電性フィルム用基材である。導電層２１は、ランダム網目状の細線２０から構成されている。 In FIG. 1, the transparent conductive film of this embodiment is typically shown. The transparent conductive film 23 includes a base material 10 including the polymer film 11 and a conductive layer 21 formed on the base material 10. The base material 10 is a base material for transparent conductive films. The conductive layer 21 is composed of random mesh-like thin wires 20.
ポリマーフィルム１１に使用されるポリマーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリカーボネート、ナイロン等のポリアミド、ポリイミド、ポリエチレン（ＰＥ）やポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等が挙げられるが、これらに限定されない。中でも特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルであることが好ましい。 Examples of the polymer used for the polymer film 11 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyamides such as polycarbonate and nylon, polyimides, polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP), polyvinyl chloride, and polychlorinated. Although vinylidene etc. are mentioned, it is not limited to these. Of these, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) are particularly preferable.
導電層２１は、導体微粒子、乳化剤、結合剤、溶媒を含む導電層形成用塗布液から構成されることが好ましい。導電層形成用塗布液に用いられる導体微粒子としては、金属粒子が好ましく、金属ナノ粒子がより好ましい。金属粒子としては、金、銀、白金、パラジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等の金属又はこれらの合金が挙げられる。２種以上の金属粒子が含まれてもよい。導体微粒子は中でも特に銀微粒子であることが好ましい。 The conductive layer 21 is preferably composed of a coating liquid for forming a conductive layer containing conductive fine particles, an emulsifier, a binder, and a solvent. As the conductive fine particles used in the coating liquid for forming the conductive layer, metal particles are preferable, and metal nanoparticles are more preferable. Examples of the metal particles include metals such as gold, silver, platinum, palladium, iron, cobalt, nickel, copper, and zinc, or alloys thereof. Two or more types of metal particles may be included. In particular, the conductive fine particles are preferably silver fine particles.
導電層形成用塗布液に用いられる乳化剤としては、例えば、モノ脂肪酸ソルビタン、モノ脂肪酸グリセロール等の非イオン性界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ドデシル硫酸ナトリウム等のイオン性界面活性剤が挙げられる。乳化剤の使用は、１種でも２種以上でもよい。 Examples of the emulsifier used in the coating liquid for forming the conductive layer include nonionic surfactants such as mono fatty acid sorbitan and mono fatty acid glycerol, and ionic surfactants such as alkylbenzene sulfonate and sodium dodecyl sulfate. One type or two or more types of emulsifiers may be used.
導電層形成用塗布液に用いられる結合剤としては、セルロースエーテル、セルロースエステル、尿素樹脂、ウレタン樹脂、変性ウレア等が挙げられる。結合剤の使用は、１種でも２種以上でもよい。 Examples of the binder used in the conductive layer forming coating solution include cellulose ether, cellulose ester, urea resin, urethane resin, and modified urea. The binder may be used alone or in combination of two or more.
導電層形成用塗布液は、溶媒として、水又は水溶性溶媒の１種又は２種以上と、疎水性あるいは水と相分離可能な有機溶媒の１種又は２種以上とを含むことが好ましい。水以外の水溶性溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセロール、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性有機溶媒が挙げられる。疎水性あるいは水と相分離可能な有機溶媒としては、石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン類、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ニトロメタン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。 It is preferable that the coating liquid for forming a conductive layer includes one or more of water or a water-soluble solvent and one or more of an organic solvent that is hydrophobic or phase-separable from water as a solvent. Examples of water-soluble solvents other than water include water-soluble organic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, glycerol, acetone, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, and N-methylpyrrolidone. Examples of the organic solvent that is hydrophobic or phase-separable from water include petroleum ether, hexane, heptanes, toluene, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, trichloroethylene, nitromethane, cyclopentanone, cyclohexanone, and the like.
導電層形成用塗布液は、少なくとも、導体微粒子と、親水性・疎水性の異なる２種以上の溶媒とを含むことが好ましい。乳化剤、結合剤、その他の添加剤は、任意に添加することが可能である。均一に混合された導電層形成用塗布液を基材上に塗布した後、乾燥すると、乾燥過程において、極性の異なる溶媒が相分離を起こし、導体微粒子が移動して線状に凝集しつつ、導体微粒子から分離した溶媒の液滴が開口部２４を形成し、導体微粒子からなる細線２０が、自己組織化によりランダムネットワーク状に形成される。ランダム網目状の導電層２１により、ディスプレイの前面に配置をしたときに、透明導電性フィルム２３のモアレが抑制される。 The conductive layer forming coating solution preferably contains at least conductive fine particles and two or more solvents having different hydrophilicity and hydrophobicity. An emulsifier, a binder, and other additives can be optionally added. When the uniformly mixed conductive layer forming coating solution is applied on the substrate and then dried, the solvent having different polarity causes phase separation in the drying process, and the conductive fine particles move and aggregate in a linear shape. The solvent droplets separated from the conductive fine particles form the openings 24, and the thin wires 20 made of the conductive fine particles are formed in a random network by self-organization. The random mesh-like conductive layer 21 suppresses moire of the transparent conductive film 23 when arranged on the front surface of the display.
導電層２１が、銀ナノ粒子を含むことが好ましい。銀ナノ粒子とは、銀のナノ粒子である。ナノ粒子は、粒子径が１μｍ未満の粒子である。より好ましいナノ粒子は、粒子径が２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の粒子である。 The conductive layer 21 preferably contains silver nanoparticles. Silver nanoparticles are silver nanoparticles. Nanoparticles are particles having a particle size of less than 1 μm. More preferable nanoparticles are particles having a particle diameter of 20 nm or more and 100 nm or less.
導電層２１が形成される側の基材１０の表面に、アンダーコート層１２等により親水性処理が施されている場合には、金属微粒子が網目状に積層されやすくなるため、好ましい。親水性のアンダーコート層１２としては、特に限定されないが、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂、メタクリレート系樹脂、ポリアミド、ポリビニルアルコール類、デンプン等の多糖類、セルロース誘導体、ゼラチン等のタンパク質、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリアクリルアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン等が挙げられる。 In the case where the surface of the base material 10 on the side where the conductive layer 21 is formed is subjected to a hydrophilic treatment by the undercoat layer 12 or the like, it is preferable because the metal fine particles are easily laminated in a mesh shape. The hydrophilic undercoat layer 12 is not particularly limited, but is polyester, polyurethane, acrylic resin, methacrylate resin, polyamide, polyvinyl alcohol, starch and other polysaccharides, cellulose derivatives, gelatin and other proteins, polyvinylpyrrolidone, Examples include polyvinyl butyral, polyacrylamide, epoxy resin, melamine resin, urea resin, polythiophene, polypyrrole, and polyaniline.
導電層２１が形成されない側の基材１０の表面に、バックコート層１３が施されてもよい。本実施形態のバックコート層１３は、導電層２１とは反対の側の基材１０の表面に積層されている。バックコート層１３としては、透明な樹脂層が挙げられる。樹脂層としては、アクリル系樹脂、ポリエステル、ポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、フッ素系樹脂などが挙げられる。 The backcoat layer 13 may be applied to the surface of the substrate 10 on the side where the conductive layer 21 is not formed. The back coat layer 13 of this embodiment is laminated on the surface of the substrate 10 on the side opposite to the conductive layer 21. An example of the back coat layer 13 is a transparent resin layer. Examples of the resin layer include acrylic resin, polyester, polyolefin such as polypropylene and polyethylene, polylactic acid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyamide, polyvinyl chloride, polyurethane, and fluorine resin.
透明導電性フィルム２３は、導電層２１の上にトップコート層２２を有することが好ましい。トップコート層２２としては、細線２０と開口部２４との段差を埋め、透明導電性フィルム２３の平坦性と透明性を確保することができる透明樹脂が好ましい。開口部２４上におけるトップコート層２２の厚さは、細線２０の厚さより大きいことが好ましい。透明樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。トップコート層２２としては、熱可塑性樹脂層、紫外線硬化性樹脂層、透明接着剤層、透明粘着剤層、反射防止層、ハードコート層などが挙げられる。トップコート層２２の上に、さらに他の透明な樹脂フィルム等が積層されてもよい。 The transparent conductive film 23 preferably has a topcoat layer 22 on the conductive layer 21. As the top coat layer 22, a transparent resin capable of filling the level difference between the fine wire 20 and the opening 24 and ensuring the flatness and transparency of the transparent conductive film 23 is preferable. The thickness of the top coat layer 22 on the opening 24 is preferably larger than the thickness of the thin wire 20. Transparent resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polypropylene and polyethylene, polycarbonate resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyamide resins, polyimide resins, fluorine resins, silicone resins, epoxy resins, etc. Is mentioned. Examples of the top coat layer 22 include a thermoplastic resin layer, an ultraviolet curable resin layer, a transparent adhesive layer, a transparent pressure-sensitive adhesive layer, an antireflection layer, and a hard coat layer. Another transparent resin film or the like may be further laminated on the top coat layer 22.
第１実施形態の透明導電性フィルム２３は、透過色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、かつ反射色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内である。透明導電性フィルム２３の透過色及び反射色において、√（（ａ＊）２＋（ｂ＊）２）が１．５以下であることが好ましい。また、透明導電性フィルム２３の反射色の明るさを示すＬ＊値が３１以下であることが好ましい。これらの値は、ＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間により規定される。 In the transparent conductive film 23 of the first embodiment, both the a * and b * of the transmitted color are within ± 2, and the a * and b * of the reflected color are both within ± 2. In the transmitted color and reflected color of the transparent conductive film 23, √ ((a * ) 2 + (b * ) 2 ) is preferably 1.5 or less. Moreover, it is preferable that L * value which shows the brightness of the reflective color of the transparent conductive film 23 is 31 or less. These values are defined by the CIE L * a * b * color space.
第２実施形態の透明導電性フィルム２３は、波長４００〜８００ｎｍにおける分光反射率において、反射率均一性が１０％以下である。ここで、最大反射率をＲｍａｘ、最小反射率をＲｍｉｎとするとき、反射率均一性（％）は、１００×（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）と定義される。 The transparent conductive film 23 of the second embodiment has a reflectance uniformity of 10% or less in the spectral reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm. Here, when the maximum reflectance is Rmax and the minimum reflectance is Rmin, the reflectance uniformity (%) is defined as 100 × (Rmax−Rmin) / (Rmax + Rmin).
本実施形態の透明導電性フィルム２３は、これらの特徴を有することにより、黄色味や青味を帯びることなく、色味が良好な視認性が得られる。本実施形態の透明導電性フィルム２３は、第１実施形態の特徴と、第２実施形態の特徴を併せ持つことが好ましい。特に、本実施形態の透明導電性フィルム２３がディスプレイ等の表示装置に使用された場合、透明導電性フィルム２３の色味が映像に影響を与えにくく、画面の大面積化に対応することができる。 The transparent conductive film 23 of the present embodiment has these characteristics, so that visibility with good color can be obtained without being yellowish or bluish. The transparent conductive film 23 of the present embodiment preferably has both the characteristics of the first embodiment and the characteristics of the second embodiment. In particular, when the transparent conductive film 23 of the present embodiment is used in a display device such as a display, the color of the transparent conductive film 23 hardly affects the image and can cope with an increase in the screen area. .
導電層２１が、基材１０とは反対側の表面に黒化処理層を有することが好ましい。黒化処理層は、黒色の金属めっき層、顔料層等であってもよい。あるいは、黒化処理層が、導電層２１を構成する金属の化学変化によって生じる黒色の金属化合物から構成されてもよい。黒色の金属化合物を生じ得る金属の化学変化としては、酸化、硫化、セレン化、テルル化、塩化などが挙げられる。導電層２１が銀を含む場合は、導電層２１の表面に含まれる銀の黒化により黒化処理層を形成することができる。銀の黒化処理は、いぶし液等の黒化処理液を用いて容易に行うことができる。 It is preferable that the conductive layer 21 has a blackening treatment layer on the surface opposite to the substrate 10. The blackening treatment layer may be a black metal plating layer, a pigment layer, or the like. Alternatively, the blackening treatment layer may be composed of a black metal compound generated by a chemical change of the metal constituting the conductive layer 21. Metallic chemical changes that can produce a black metal compound include oxidation, sulfidation, selenization, tellurization, chlorination, and the like. When the conductive layer 21 contains silver, a blackening treatment layer can be formed by blackening silver contained on the surface of the conductive layer 21. The blackening treatment of silver can be easily performed using a blackening treatment liquid such as an smoldering liquid.
トップコート層２２が紫外線吸収剤を含んでもよい。紫外線吸収剤は、４００ｎｍより短波長域におけるトップコート層２２の透過率が２０％以下となるように添加されることが好ましい。黒化処理層が銀化合物を含む場合、紫外線による銀化合物の感光（還元）を抑制することにより、黒化処理層の劣化を防ぐことができる。 The topcoat layer 22 may contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is preferably added so that the transmittance of the topcoat layer 22 in a wavelength region shorter than 400 nm is 20% or less. When the blackening treatment layer contains a silver compound, deterioration of the blackening treatment layer can be prevented by suppressing the exposure (reduction) of the silver compound by ultraviolet rays.
透明導電性フィルム２３の全光線透過率は、７０％以上であることが好ましい。ここで、全光線透過率とは、透明導電性フィルム２３の全面にわたる平均の全光線透過率である。導電層２１が細線２０においては不透明であっても、開口部２４において透明である場合、開口部２４における全光線透過率と、細線２０を除いた開口部２４の面積比に応じて、求められる。 The total light transmittance of the transparent conductive film 23 is preferably 70% or more. Here, the total light transmittance is an average total light transmittance over the entire surface of the transparent conductive film 23. If the conductive layer 21 is opaque in the thin wire 20 but is transparent in the opening 24, it is determined according to the total light transmittance in the opening 24 and the area ratio of the opening 24 excluding the thin wire 20. .
透明導電性フィルム２３の表面抵抗値は、１５Ω／□以下が好ましい。透明導電性フィルム２３の表面抵抗値とは、導電層２１の表面抵抗値である。表面抵抗値は、細線２０と開口部２４の分布にも依存する。その場合は、開口部２４の面積より十分に広い領域における表面抵抗値をランダムに複数箇所で測定した平均値が１５Ω／□以下であることが好ましい。 The surface resistance value of the transparent conductive film 23 is preferably 15 Ω / □ or less. The surface resistance value of the transparent conductive film 23 is the surface resistance value of the conductive layer 21. The surface resistance value also depends on the distribution of the thin wire 20 and the opening 24. In that case, it is preferable that the average value obtained by randomly measuring the surface resistance value in a region sufficiently wider than the area of the opening 24 at a plurality of locations is 15Ω / □ or less.
透明導電性フィルム２３は、直径５ｍｍの棒に沿って２０回の曲げを行う屈曲試験を経た後の表面抵抗値の変化率が−１０％〜＋１０％の範囲内であることが好ましい。これにより、耐屈曲性が優れた透明導電性フィルム２３を得ることができる。屈曲試験の方法は、棒の外周面が基材１０の背面側となるように、透明導電性フィルム２３の長さ方向の略中央部に直径５ｍｍの棒を当て、導電層２１が外側となるよう、断面Ｕ字状の１８０°曲げと曲げからの解放を２０回繰り返す方法である。表面抵抗値の変化率は、屈曲試験の前後で、透明導電性フィルム２３の略中央部の屈曲させた領域の表面抵抗値を測定して、算出することができる。 The transparent conductive film 23 preferably has a change rate of the surface resistance value in a range of −10% to + 10% after undergoing a bending test in which bending is performed 20 times along a bar having a diameter of 5 mm. Thereby, the transparent conductive film 23 excellent in bending resistance can be obtained. In the bending test method, a bar having a diameter of 5 mm is applied to a substantially central portion in the length direction of the transparent conductive film 23 so that the outer peripheral surface of the bar is on the back side of the substrate 10, and the conductive layer 21 is on the outside. In this way, the 180 ° bending with a U-shaped cross section and the release from bending are repeated 20 times. The rate of change of the surface resistance value can be calculated by measuring the surface resistance value of the bent region at the substantially central portion of the transparent conductive film 23 before and after the bending test.
本実施形態の透明導電性フィルムは、各種の装置に備えることができる。装置としては、表示装置、電子機器、電気機器、輸送機器、家電装置、産業用装置等が挙げられる。透明導電性フィルムの用途としては、特に限定されないが、タッチパネル、有機ＥＬ等の透明電極基板、ヒーター、電磁波シールド材等が挙げられる。 The transparent conductive film of this embodiment can be provided in various apparatuses. Examples of the device include a display device, an electronic device, an electric device, a transportation device, a home appliance, and an industrial device. Although it does not specifically limit as a use of a transparent conductive film, A transparent electrode substrate, such as a touch panel and organic EL, a heater, an electromagnetic wave shielding material, etc. are mentioned.
本実施形態の透明導電性フィルム用基材の製造方法は、ポリマーフィルム１１の表面にアンダーコート層１２を積層する工程、ポリマーフィルム１１又はアンダーコート層１２の表面を親水化する工程、導電層２１が形成される側とは反対の側にバックコート層１３を形成する工程等を有することができる。 The manufacturing method of the base material for transparent conductive films of this embodiment is the process of laminating the undercoat layer 12 on the surface of the polymer film 11, the process of hydrophilizing the surface of the polymer film 11 or the undercoat layer 12, and the conductive layer 21. A step of forming the back coat layer 13 on the side opposite to the side on which is formed.
本実施形態の透明導電性フィルムの製造方法は、透明導電性フィルム用基材１０上に、銀と乳化剤を水とトルエンの溶媒中に含む導電層形成用塗布液を塗布し、乾燥させてランダム網目状の導電層２１を形成する工程を少なくとも含む。導電層形成用塗布液に含まれる銀ナノ粒子の粒子径は、１μｍ未満が好ましく、２０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下がより好ましい。 The manufacturing method of the transparent conductive film of this embodiment apply | coats the coating liquid for conductive layer formation which contains silver and an emulsifier in the solvent of water and toluene on the base material 10 for transparent conductive films, it is made to dry and it is random. It includes at least a step of forming the mesh-like conductive layer 21. The particle diameter of the silver nanoparticles contained in the conductive layer forming coating solution is preferably less than 1 μm, and more preferably 20 nm or more and 100 nm or less.
導電層形成用塗布液の塗布方法は、特に限定されないが、スクリーン印刷、スピンコート、ディップコート、グラビアコート、メイヤーバー、インクジェット、減圧押出コート等が挙げられる。透明導電性フィルム用基材１０がバックコート層１３を有する場合、バックコート層１３を形成する工程と、導電層２１を形成する工程の順序は任意である。 A method for applying the coating liquid for forming the conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include screen printing, spin coating, dip coating, gravure coating, Mayer bar, ink jet, and reduced pressure extrusion coating. When the substrate 10 for transparent conductive films has the backcoat layer 13, the order of the process of forming the backcoat layer 13 and the process of forming the conductive layer 21 is arbitrary.
導電層２１を形成する工程においては、基材１０上において導電層形成用塗布液を乾燥させた後、導電層２１の抵抗率を低下させるための低抵抗化処理を行ってもよい。低抵抗化処理としては、酸処理、有機溶媒処理が挙げられる。酸処理に先だって有機溶媒処理を行うことが好ましい。有機溶媒処理の後には、有機溶媒の乾燥処理を行ってもよい。 In the step of forming the conductive layer 21, after the conductive layer forming coating solution is dried on the substrate 10, a resistance reduction process for reducing the resistivity of the conductive layer 21 may be performed. Examples of the resistance reduction treatment include acid treatment and organic solvent treatment. It is preferable to perform an organic solvent treatment prior to the acid treatment. After the organic solvent treatment, an organic solvent drying treatment may be performed.
酸処理に用いられる酸は、特に限定されず、種々の有機酸、無機酸から選択することができる。有機酸としては、酢酸、シュウ酸、プロピオン酸、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、ベンゼンスルホン酸などが挙げられる。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などが挙げられる。これらは、水溶液であってもよい。中でも無機酸で処理することが好ましく、塩酸、硫酸、硝酸が好ましい。 The acid used for the acid treatment is not particularly limited, and can be selected from various organic acids and inorganic acids. Examples of the organic acid include acetic acid, oxalic acid, propionic acid, lactic acid, citric acid, malic acid, and benzenesulfonic acid. Examples of inorganic acids include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and the like. These may be aqueous solutions. Of these, treatment with an inorganic acid is preferred, and hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid are preferred.
有機溶媒処理に用いられる有機溶媒は、特に限定されず、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ヘキサン、ヘプタンなどのアルカン類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの双極性非プロトン溶媒、トルエン、キシレン、アニリン、エチルエーテル、クロロホルム等の少なくとも１種が挙げられる。有機溶媒の中でも特にメチルエチルケトンを含むことが好ましい。 The organic solvent used for the organic solvent treatment is not particularly limited, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, hexane, heptane and the like And a dipolar aprotic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide, and at least one of toluene, xylene, aniline, ethyl ether, chloroform, and the like. Among organic solvents, it is particularly preferable to contain methyl ethyl ketone.
透明導電性フィルム２３の視認性を向上するため、導電層２１を形成した後、導電層２１の表面を黒化するための黒化処理を行うことが好ましい。導電層２１の低抵抗化処理と黒化処理を行う場合は、低抵抗化処理の後に、黒化処理を行うことが好ましい。黒化処理を行う方法は、上述した黒化処理層が形成される方法であればよく、特に限定されないが、黒めっき処理又はいぶし液処理が好ましい。 In order to improve the visibility of the transparent conductive film 23, it is preferable to perform a blackening process for blackening the surface of the conductive layer 21 after forming the conductive layer 21. When the resistance reduction process and the blackening process of the conductive layer 21 are performed, it is preferable to perform the blackening process after the resistance reduction process. The method for performing the blackening treatment is not particularly limited as long as it is a method for forming the above-described blackening treatment layer, but the black plating treatment or the smoldering liquid treatment is preferable.
以上、本発明を好適な実施形態に基づいて説明してきたが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。 As mentioned above, although this invention has been demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
メイヤーバーを用いて、ＰＥＴ基材の表面に、銀ナノ粒子（粒子径５０〜１００ｎｍ）を含むＷ／Ｏ型エマルジョンからなる導電層形成用塗布液を、乾燥後の塗布量が２５ｇ／ｍ２となるように塗布した。基材上の塗布液を乾燥させ、ランダム網目状の導電層を形成した。乾燥条件は、温度２５℃、湿度５５％の環境下で１分間基材に平行に風をあてた後、１５０℃熱風乾燥オーブンで１分間乾燥する方法とした。 Using a Mayer bar, the coating amount for drying a conductive layer made of a W / O type emulsion containing silver nanoparticles (particle diameter: 50 to 100 nm) on the surface of a PET substrate is 25 g / m 2 after drying. It applied so that it might become. The coating liquid on the substrate was dried to form a random network-like conductive layer. The drying conditions were such that the air was blown in parallel with the substrate for 1 minute in an environment of temperature 25 ° C. and humidity 55%, and then dried in a 150 ° C. hot air drying oven for 1 minute.
有機溶媒処理及び酸処理からなる低抵抗化処理として、基材上の導電層にメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を接触させ、自然乾燥させた後、１５０℃熱風乾燥オーブンで１分間保持し、さらに、１Ｎの塩酸を導電層に接触させ、精製水で水洗した後、１５０℃熱風乾燥オーブンで１分間乾燥した。 As a resistance reduction treatment comprising an organic solvent treatment and an acid treatment, methyl ethyl ketone (MEK) is brought into contact with the conductive layer on the substrate, allowed to dry naturally, then held in a 150 ° C. hot air drying oven for 1 minute, and further, 1N Hydrochloric acid was brought into contact with the conductive layer, washed with purified water, and then dried in a hot air drying oven at 150 ° C. for 1 minute.
市販のいぶし液（商品名「銀黒」、エダミネ社製）と精製水を２：１の割合で混合して作製した黒化処理液に、基材上の導電層を接触させた後、素早く精製水にて水洗し、１００℃熱風乾燥オーブンで１分間乾燥し、透明導電性フィルムのサンプルを作製した。黒化処理時間は、黒化処理液に対する接触時間であり、０秒（無処理）のほか、１秒、３秒、５秒、１０秒、３０秒、６０秒、１２０秒、３００秒、６００秒、２４００秒の１０通りとした。本実施例において、無処理とは、黒化処理を施さないことをいう。 After bringing the conductive layer on the base material into contact with a blackening solution prepared by mixing a commercially available squirt solution (trade name “Silver Black”, manufactured by Edamine) and purified water in a ratio of 2: 1, quickly. The sample was washed with purified water and dried in a hot air drying oven at 100 ° C. for 1 minute to prepare a sample of a transparent conductive film. The blackening treatment time is a contact time with the blackening treatment liquid, and in addition to 0 seconds (no treatment), 1 second, 3 seconds, 5 seconds, 10 seconds, 30 seconds, 60 seconds, 120 seconds, 300 seconds, 600 10 seconds of 2400 seconds. In this embodiment, the term “no treatment” means that no blackening treatment is performed.
分光反射率を測定する際、各サンプルは、５ｃｍ×５ｃｍの寸法に切り出した後、背面からの入光を防止するため、＃４００サンドペーパーでサンプル背面を荒らし、黒色インキにて黒塗りした後、更にビニールテープを貼り付ける背面処理により、完全に遮光した。背面処理を施された各サンプルの分光反射率は、日本分光製分光光度計Ｖ６７０に積分球オプションＩＳＮ−４７０を取り付けて４００〜８００ｎｍの範囲で測定した。 When measuring the spectral reflectance, each sample was cut into 5cm x 5cm dimensions, and then the back of the sample was roughed with # 400 sandpaper and blacked with black ink to prevent light from entering from the back Further, the light was completely shielded by a back surface treatment with a vinyl tape. The spectral reflectance of each sample subjected to the back treatment was measured in the range of 400 to 800 nm by attaching an integrating sphere option ISN-470 to a spectrophotometer V670 manufactured by JASCO Corporation.
黒化処理後又は無処理の透明導電性フィルムの分光反射率を、波長範囲４００〜８００ｎｍとして分光光度計により測定した結果を図２〜５のグラフに示す。測定結果の重なり合いを避けるため、図２には黒化処理時間を０秒から５秒とした場合の結果を示し、図３には黒化処理時間を１０秒から６０秒とした場合の結果を示し、図４には黒化処理時間を１２０秒から６００秒とした場合の結果を示し、図５には黒化処理時間を２４００秒とした場合の結果を示した。 The results of measuring the spectral reflectance of the transparent conductive film after blackening treatment or without treatment with a spectrophotometer in the wavelength range of 400 to 800 nm are shown in the graphs of FIGS. In order to avoid overlapping of measurement results, FIG. 2 shows the result when the blackening processing time is changed from 0 second to 5 seconds, and FIG. 3 shows the result when the blackening processing time is changed from 10 seconds to 60 seconds. FIG. 4 shows the results when the blackening processing time is 120 seconds to 600 seconds, and FIG. 5 shows the results when the blackening processing time is 2400 seconds.
図２〜５のグラフから、黒化処理時間が０〜１０秒程度の間では、黒化処理時間が長くなるほど反射率が低下することが分かる。また、黒化処理時間が５〜１２０秒程度（より好ましくは１０〜６０秒程度）の間では、反射率均一性の値が小さくなった。また、黒化処理時間が１２０秒から６００秒程度の間では、わずかに反射率が上昇するが、黒化処理時間が６００秒と２４００秒の間では、分光反射率がほとんど変化しなくなった。 From the graphs of FIGS. 2 to 5, it can be seen that the reflectance decreases as the blackening processing time becomes longer when the blackening processing time is about 0 to 10 seconds. Further, the value of the reflectance uniformity was small during the blackening treatment time of about 5 to 120 seconds (more preferably about 10 to 60 seconds). Further, the reflectance slightly increased when the blackening treatment time was about 120 seconds to 600 seconds, but the spectral reflectance hardly changed when the blackening treatment time was between 600 seconds and 2400 seconds.
背面処理を施されていない各サンプルを、白色を表示したディスプレイの前に設置し、ディスプレイの視認性として、白色の色味の変化、モアレの有無の主観評価を行った。色味の主観評価では、色味の変化がなく無彩色に感じられる場合を〇、色味が感じられる場合を×と評価した。モアレの主観評価では、モアレが発生しない場合を○、モアレが感じられる場合を×と評価した。 Each sample not subjected to the back treatment was placed in front of a display displaying white, and as a visibility of the display, a subjective evaluation was performed on the change in white color and the presence or absence of moire. In the subjective evaluation of the tint, the case where there was no change in the tint and a neutral color was felt was evaluated as ◯, and the case where the tint was felt was evaluated as x. In the subjective evaluation of moire, the case where no moire was generated was evaluated as ◯, and the case where moire was felt was evaluated as x.
表１に、黒化処理時間（秒）に対する全光線透過率（％）、表面抵抗値（Ω／□）、反射色及び透過色のａ＊及びｂ＊の測定値、分光反射率における最大反射率（％）、最小反射率（％）、反射率均一性（％）、色味及びモアレの主観評価の結果を示す。表１において、数値の単位は省略した。
全光線透過率は、日本電色製のヘーズメータ「ＮＤＨ４０００」を用いて測定を行った。
反射色・透過色は日本分光製分光光度計Ｖ６７０に積分球オプションＩＳＮ−４７０を取り付けて４００〜８００ｎｍの範囲で測定した反射スペクトル、及び透過スペクトルに対し、同装置附属の色彩計算ソフトを用いて算出した。
反射率均一性は、前述の分光反射率のデータから最大反射率（Ｒｍａｘ）、及び最小反射率（Ｒｍｉｎ）を求め、算出した。
表面抵抗値は、三菱ケミカルアナリテック製の抵抗率計ロレスタ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６１０型を使用して測定した。「Ｏ．Ｒ．」は、表面抵抗率が測定上限値を超えていて、測定不能であること（オーバーレンジ）を意味する。
表中のＣ＊ａｂは、√（（ａ＊）２＋（ｂ＊）２）の値を表す。
Table 1 shows the total light transmittance (%) with respect to the blackening treatment time (seconds), the surface resistance value (Ω / □), the measured values of a * and b * of the reflected color and transmitted color, and the maximum reflection in the spectral reflectance. The results of subjective evaluation of rate (%), minimum reflectance (%), reflectance uniformity (%), color and moire are shown. In Table 1, numerical units are omitted.
The total light transmittance was measured using a Nippon Denshoku haze meter “NDH4000”.
Reflection color and transmission color are measured using the color calculation software attached to the device for reflection spectrum and transmission spectrum measured in the range of 400-800 nm with the integrating sphere option ISN-470 attached to JASCO spectrophotometer V670. Calculated.
The reflectance uniformity was calculated by obtaining the maximum reflectance (Rmax) and the minimum reflectance (Rmin) from the spectral reflectance data described above.
The surface resistance value was measured using a resistivity meter Loresta-GP MCP-T610 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech. “OR” means that the surface resistivity exceeds the upper limit of measurement and cannot be measured (overrange).
C * ab in the table represents a value of √ ((a * ) 2 + (b * ) 2 ).
また、表２に、屈曲試験の結果を示す。屈曲試験は、次の方法により実施した。
（１）透明導電性フィルムから幅５ｃｍ、長さ１０ｃｍのサンプルを切り出す。
（２）長さ方向の略中央部に上記抵抗率計を用いて、透明導電性フィルムの屈曲試験前の表面抵抗値Ｓ１を測定する。
（３）直径５ｍｍの金属棒の外周面が基材の背面側となるように、透明導電性フィルムの長さ方向の略中央部に金属棒を当て、導電層が外側となる断面Ｕ字状の１８０°曲げと曲げからの解放を２０回繰り返す。
（４）長さ方向の略中央部に上記抵抗率計を用いて、透明導電性フィルムの屈曲試験後の表面抵抗値Ｓ２を測定する。
（５）屈曲試験前後の表面抵抗値Ｓ１、Ｓ２から、表面抵抗値の変化率（％）を次の式により算出する。
表面抵抗値の変化率＝［（Ｓ２−Ｓ１）／Ｓ１］×１００（％）
（６）表面抵抗値の変化率が−１０％〜＋１０％の範囲内であれば○、範囲外であれば×と評価する。
Table 2 shows the results of the bending test. The bending test was performed by the following method.
(1) A sample having a width of 5 cm and a length of 10 cm is cut out from the transparent conductive film.
(2) using the resistivity meter at a substantially central portion in the longitudinal direction, to measure the surface resistance values S 1 before bending test of the transparent conductive film.
(3) A U-shaped cross section in which the metal rod is applied to the substantially central portion in the length direction of the transparent conductive film so that the outer peripheral surface of the metal rod having a diameter of 5 mm is on the back side of the substrate, and the conductive layer is the outside. Repeat the 180 ° bend and release from the bend 20 times.
(4) using the resistivity meter at a substantially central portion in the longitudinal direction, measuring the surface resistance value S 2 after the bending test of the transparent conductive film.
(5) From the surface resistance values S 1 and S 2 before and after the bending test, the change rate (%) of the surface resistance value is calculated by the following equation.
Rate of change in surface resistance value = [(S 2 −S 1 ) / S 1 ] × 100 (%)
(6) If the rate of change of the surface resistance value is within the range of −10% to + 10%, it is evaluated as “good”, and if out of the range, it is evaluated as “poor”.
また、図６に、黒化処理時間（「いぶし液浸漬時間」）が０〜３００秒の場合における、表面抵抗値（Ω／□）、反射率均一性（％）、反射色のｂ＊値（「反射ｂ＊」）の結果をグラフとして示す。 FIG. 6 shows the surface resistance value (Ω / □), the reflectance uniformity (%), and the b * value of the reflected color when the blackening treatment time (“smoldering liquid immersion time”) is 0 to 300 seconds. The result of (“reflection b *”) is shown as a graph.
表１に示すように、透過色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、かつ反射色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内である場合、色味及びモアレがなく、視認性に優れていた。
また、反射率均一性（％）が１０％以下である場合、色味及びモアレがなく、視認性に優れていた。
さらに、透明導電性フィルムの全光線透過率が７０％以上であり、導電層の表面抵抗値が１５Ω／□以下であることにより、導電性及び視認性の優れる透明導電性フィルムが得られた。
また、表２に示すように、直径５ｍｍの棒に沿って２０回の曲げを行う屈曲試験を経た後の表面抵抗値の変化率が−１０％〜＋１０％の範囲内となる、耐屈曲性の優れる透明導電性フィルムが得られた。
As shown in Table 1, when both the a * and b * of the transmitted color are within ± 2 and the a * and b * of the reflected color are both within ± 2, there is no color and moire, It was excellent in visibility.
Further, when the reflectance uniformity (%) was 10% or less, there was no color and moire, and the visibility was excellent.
Furthermore, the transparent conductive film excellent in electroconductivity and visibility was obtained by the total light transmittance of a transparent conductive film being 70% or more and the surface resistance value of a conductive layer being 15 ohms / square or less.
In addition, as shown in Table 2, the bending resistance is such that the rate of change of the surface resistance value after being subjected to a bending test in which bending is performed 20 times along a 5 mm diameter rod is within a range of -10% to + 10%. An excellent transparent conductive film was obtained.
図７〜１３に、銀粒子から構成される導電層の電子顕微鏡写真を示す。なお、図７、図８、図１０、図１２は、図９、図１１、図１３より拡大倍率が１０倍大きい。 7 to 13 show electron micrographs of a conductive layer composed of silver particles. 7, 8, 10, and 12 are 10 times larger than those in FIGS. 9, 11, and 13.
まず、図７は、有機溶媒処理後で、酸処理前の銀粒子を示す。
図８及び図９は、酸処理後の銀粒子を示す。ここでは、白色の微小粒が見られる。
図１０及び図１１は、黒化処理時間が短く、導電層の表面抵抗値が低くなった黒化処理後の銀粒子を示す。図１０では、粒子表面が滑らかになったように観察される。また、図１１では、銀粒子表面が一部を除いて被覆されたように観察される。
図１２及び図１３は、黒化処理時間が長く、導電層の表面抵抗値が高くなった黒化処理後の銀粒子を示す。銀粒子の表面が黒化処理層となる物質に覆われているように観察される。
First, FIG. 7 shows silver particles after the organic solvent treatment and before the acid treatment.
8 and 9 show silver particles after acid treatment. Here, white fine particles are seen.
10 and 11 show silver particles after blackening treatment in which the blackening treatment time is short and the surface resistance value of the conductive layer is low. In FIG. 10, it is observed that the particle surface is smooth. Moreover, in FIG. 11, it observes as the silver particle surface was coat | covered except for a part.
12 and 13 show silver particles after blackening treatment in which the blackening treatment time is long and the surface resistance value of the conductive layer is high. It is observed that the surface of the silver particles is covered with a substance that becomes a blackening treatment layer.
１０…基材、１１…ポリマーフィルム、１２…アンダーコート層、１３…バックコート層、２０…ランダム網目状の細線、２１…導電層、２２…トップコート層、２３…透明導電性フィルム、２４…開口部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base material, 11 ... Polymer film, 12 ... Undercoat layer, 13 ... Backcoat layer, 20 ... Random mesh-like fine wire, 21 ... Conductive layer, 22 ... Topcoat layer, 23 ... Transparent conductive film, 24 ... Aperture.
Claims (11)
透過色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、かつ反射色のａ＊及びｂ＊がいずれも±２以内であり、
前記透明導電性フィルムの全光線透過率が７０％以上であり、前記導電層の表面抵抗値が１５Ω／□以下であることを特徴とする透明導電性フィルム。 A transparent conductive film comprising a base material including a polymer film, and a random mesh-like conductive layer formed on the base material,
The transmitted colors a * and b * are both within ± 2, and the reflected colors a * and b * are both within ± 2.
The transparent conductive film has a total light transmittance of 70% or more and a surface resistance value of the conductive layer of 15Ω / □ or less.
波長４００〜８００ｎｍにおける分光反射率において、最大反射率をＲｍａｘ、最小反射率をＲｍｉｎとするとき、１００×（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）により定義される反射率均一性（％）が１０％以下であり、
前記透明導電性フィルムの全光線透過率が７０％以上であり、前記導電層の表面抵抗値が１５Ω／□以下であることを特徴とする透明導電性フィルム。 A transparent conductive film comprising a base material including a polymer film, and a random mesh-like conductive layer formed on the base material,
In the spectral reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm, when the maximum reflectance is Rmax and the minimum reflectance is Rmin, the reflectance uniformity (%) defined by 100 × (Rmax−Rmin) / (Rmax + Rmin) is 10%. And
The transparent conductive film has a total light transmittance of 70% or more and a surface resistance value of the conductive layer of 15Ω / □ or less.
基材上に、銀と乳化剤を水とトルエンの溶媒中に含む導電層形成用塗布液を塗布し、乾燥させてランダム網目状の導電層を形成する工程と、
前記導電層を有機溶媒処理、及び酸処理により低抵抗化する工程と、
低抵抗化された前記導電層をいぶし液により黒化処理する工程と、
を少なくとも含むことを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 It is a manufacturing method of the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 9,
Applying a coating solution for forming a conductive layer containing silver and an emulsifier in a solvent of water and toluene on a base material, and drying to form a random mesh-shaped conductive layer;
Reducing the resistance of the conductive layer by organic solvent treatment and acid treatment;
A step of blackening the conductive layer having a reduced resistance with a scouring liquid;
A process for producing a transparent conductive film comprising at least
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