JP2018198290A - Peeling device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウエーハの表面に貼着されたフィルムを剥離する剥離装置に関する。 The present invention relates to a peeling apparatus for peeling a film attached to the surface of a wafer.
シリコン等のインゴットから切り出されてスライスされたウエーハの表面には、うねりが形成されている。うねりを除去するため、ウエーハの表面には、保護部材として液状樹脂を介してテープが貼着される。ウエーハの表面形状は液状樹脂に転写され、液状樹脂を硬化させた後にウエーハの反対面を研削加工することでうねりが除去される。研削後は、硬化した樹脂及びテープがウエーハから剥離される。 Waviness is formed on the surface of a wafer that is cut out from an ingot such as silicon. In order to remove waviness, a tape is attached to the surface of the wafer via a liquid resin as a protective member. The surface shape of the wafer is transferred to the liquid resin, and the undulation is removed by grinding the opposite surface of the wafer after the liquid resin is cured. After grinding, the cured resin and tape are peeled from the wafer.
ところで、ウエーハの表面に液状樹脂を供給してテープを貼着する際、液状樹脂が押し広げられることで、液状樹脂はウエーハの外周(エッジ)からはみ出される。このようなウエーハの外周からはみ出した樹脂及びテープ(保護部材)を剥離する装置として、例えば、特許文献1に記載の剥離装置が提案されている。 By the way, when the liquid resin is supplied to the surface of the wafer and the tape is attached, the liquid resin is pushed out and spreads out from the outer periphery (edge) of the wafer. As an apparatus for peeling off the resin and tape (protective member) protruding from the outer periphery of the wafer, for example, a peeling apparatus described in Patent Document 1 has been proposed.
剥離後の保護部材は、例えば所定の回収箱(ゴミ箱)に回収される。このとき、シート状の保護部材が折れ曲がり易くなっているため、かさばる。この結果、回収箱がすぐに満杯になり、作業者が回収箱から保護部材を回収する頻度が多くなることが想定される。 The protective member after peeling is collected in a predetermined collection box (trash box), for example. At this time, since the sheet-like protective member is easily bent, it is bulky. As a result, it is assumed that the collection box becomes full immediately, and the frequency with which the operator collects the protection member from the collection box increases.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、剥離後の保護部材をゴミ箱に回収する際にかさばることを抑制し、その回収頻度を少なくすることができる剥離装置を提供することを目的の1つとする。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a peeling apparatus that can suppress bulkiness when collecting a protective member after peeling into a trash can and reduce its collection frequency. One.
本発明の一態様の剥離装置は、ウエーハより広い面積でウエーハの外周からはみ出したはみ出し部を有するフィルムと、フィルムとウエーハの他方の面との間に形成する樹脂層とを備えて、ウエーハの他方の面全面を保護するシート状の保護部材をウエーハから剥離して装置内のゴミ箱に破棄する剥離装置であって、他方の面に保護部材を形成したウエーハの一方の面を吸引保持する保持手段と、保持手段が保持したウエーハに貼着される保護部材のはみ出し部を把持する把持手段と、把持手段と保持手段とを相対的に離合する方向に移動させウエーハから保護部材を剥離する剥離手段と、剥離手段によりウエーハから剥離され把持手段が把持する保護部材をゴミ箱に積層させる積層手段とを備え、積層手段は、ウエーハから剥離した把持手段が把持する保護部材を傾斜落下させる傾斜落下手段と、傾斜落下手段に沿って傾斜落下した保護部材を水平姿勢にするとともに保護部材をゴミ箱に落下させるゴミ箱の上に水平方向に配設される2本の水平棒とを備え、2本の水平棒の間隔は、傾斜落下手段に近い一方の端より他方の端が大きく上矢視ハの字に形成し、傾斜落下した保護部材が2本の水平棒に移送されたら間隔の広い方から保護部材を落下させゴミ箱内に保護部材を積層させることを特徴とする。 A peeling apparatus according to one embodiment of the present invention includes a film having a protruding portion that protrudes from the outer periphery of a wafer in a larger area than the wafer, and a resin layer formed between the film and the other surface of the wafer. A peeling device that peels a sheet-like protective member that protects the entire other surface from the wafer and discards it in a trash can in the device, and holds and holds one surface of the wafer on which the protective member is formed on the other surface The gripping means for gripping the protruding portion of the protective member that is adhered to the wafer held by the holding means, and the gripping means, and the peeling means for moving the gripping means and the holding means in a relatively separating direction to peel the protective member from the wafer And a laminating means for laminating a protective member peeled off from the wafer by the peeling means and held by the gripping means on the trash box, the laminating means being a gripping hand peeled off from the wafer. 2 is disposed in a horizontal direction on a trash box for horizontally dropping the protective member inclined and dropped along the inclined dropping means, and for dropping the protective member into the trash box. Two horizontal bars, and the distance between the two horizontal bars is such that the other end is larger than one end close to the inclined dropping means and is formed in a letter C shape, and the two protective members that are inclined and dropped are two. When transferred to the horizontal bar, the protective member is dropped from the wider side and the protective member is stacked in the trash box.
この構成によれば、剥離後の保護部材が傾斜落下手段に沿って落下され、2本の水平棒に移送される。2本の水平棒の間隔は、移送方向下流側に向かうに従って広がるため、剥離後の保護部材は、丸まることなくゴミ箱内に落下する。この結果、複数の保護部材がゴミ箱内に積層され、ゴミ箱内で複数の保護部材がかさばることを抑制することが可能である。このため、ゴミ箱内に多くの保護部材を廃棄することができ、その回収頻度を少なくすることが可能である。 According to this configuration, the peeled protection member is dropped along the inclined dropping means and transferred to the two horizontal bars. Since the distance between the two horizontal bars increases toward the downstream side in the transfer direction, the peeled protective member falls into the trash box without being rounded. As a result, a plurality of protective members are stacked in the trash can, and the plurality of protective members can be prevented from being bulky in the trash can. For this reason, many protective members can be discarded in the trash box, and the collection frequency can be reduced.
本発明によれば、剥離後の保護部材をゴミ箱に回収する際にかさばることを抑制し、その回収頻度を少なくすることができる。 According to the present invention, it is possible to suppress bulkiness when collecting the protective member after peeling into the trash can, and to reduce the collection frequency.
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る剥離装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る剥離装置の全体斜視図である。なお、本実施の形態に係る剥離装置は、図1に示すように剥離専用の装置構成に限定されず、例えば、研削加工、研磨加工、洗浄等の一連の動作が全自動で実施されるフルオートタイプの加工装置に組み込まれてもよい。また、図1において、X軸方向手前側を剥離装置の前側、X軸方向奥側を剥離装置の後側とし、Y軸方向手前側を剥離装置の左側、Y軸方向奥側を剥離装置の右側とする。また、図1に示すウエーハは、説明の便宜上、大きさを誇張して表している。 Hereinafter, the peeling apparatus according to the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an overall perspective view of the peeling apparatus according to the present embodiment. Note that the peeling apparatus according to the present embodiment is not limited to the apparatus configuration dedicated to peeling as shown in FIG. 1, and for example, a full operation in which a series of operations such as grinding, polishing, and cleaning are performed fully automatically. It may be incorporated in an auto type processing apparatus. In FIG. 1, the front side of the X-axis direction is the front side of the peeling device, the back side of the X-axis direction is the back side of the peeling device, the front side of the Y-axis direction is the left side of the peeling device, and the back side of the Y-axis direction is the peeling device. On the right side. The wafer shown in FIG. 1 is exaggerated in size for convenience of explanation.
図1に示すように、剥離装置1は、円形のウエーハWに貼り付けられた保護部材Pを剥離するように構成される。ウエーハWは、例えばデバイスパターンが形成される前のアズスライスウエーハであり、円柱状のインゴットをワイヤーソーでスライスして形成される。 As shown in FIG. 1, the peeling apparatus 1 is configured to peel a protective member P attached to a circular wafer W. The wafer W is, for example, an as-sliced wafer before a device pattern is formed, and is formed by slicing a cylindrical ingot with a wire saw.
ウエーハWは、シリコン、ガリウムヒソ、シリコンカーバイド等のワークに限定されるものではない。例えば、セラミック、ガラス、サファイア系の無機材料基板、板状金属や樹脂の延性材料、ミクロンオーダーからサブミクロンオーダの平坦度(TTV:Total Thickness Variation)が要求される各種加工材料をウエーハWとしてもよい。ここでいう平坦度とは、例えばウエーハWの被研削面を基準面として厚み方向を測定した高さのうち、最大値と最小値との差を示す。 The wafer W is not limited to a work such as silicon, gallium burs and silicon carbide. For example, wafers can be made of ceramic, glass, sapphire inorganic substrates, ductile materials such as plate metals and resins, and various processing materials that require flatness (TTV: Total Thickness Variation) from the micron order to the submicron order. Good. The flatness referred to here indicates, for example, the difference between the maximum value and the minimum value among the heights measured in the thickness direction using the surface to be ground of the wafer W as a reference surface.
保護部材Pは、ウエーハWの外径以上の外径を有するフィルムFの全面に例えば光硬化性の樹脂層Rを塗布して構成される。すなわち、保護部材Pは、ウエーハWより広い面積でウエーハWの外周からはみ出したはみ出し部Eを有するフィルムFと、フィルムFとウエーハWの下面(他方の面)との間に形成する樹脂層R(図2参照)とを備える。 The protective member P is configured by applying, for example, a photocurable resin layer R to the entire surface of the film F having an outer diameter equal to or larger than the outer diameter of the wafer W. That is, the protective member P has a resin layer R formed between the film F having a protruding portion E that protrudes from the outer periphery of the wafer W in a larger area than the wafer W, and the lower surface (the other surface) of the wafer W. (See FIG. 2).
樹脂層Rは、例えば紫外線光が照射されることによって硬化され、フィルムFは、当該樹脂層Rを介してウエーハWの下面に固着される。これにより、ウエーハWの下面は、シート状の保護部材Pによって全体的に覆われ、保護される。また、ウエーハWの外周側において、はみ出し部Eの上面には、樹脂層Rの一部がはみ出している。なお、樹脂層Rの材質は特に限定されず、適宜変更が可能である。 The resin layer R is cured by, for example, irradiation with ultraviolet light, and the film F is fixed to the lower surface of the wafer W via the resin layer R. Thereby, the lower surface of the wafer W is entirely covered and protected by the sheet-like protection member P. Further, on the outer peripheral side of the wafer W, a part of the resin layer R protrudes from the upper surface of the protruding portion E. In addition, the material of the resin layer R is not specifically limited, It can change suitably.
また、スライス後のウエーハWの表面には、うねりが形成される。このうねりは、保護部材Pが貼り付けられた状態でウエーハWの上面が研削加工されることにより、予め除去されている。 Further, waviness is formed on the surface of the wafer W after slicing. This undulation is removed in advance by grinding the upper surface of the wafer W with the protective member P attached.
上記したように、剥離装置1は、樹脂層RとフィルムFからなる保護部材PをウエーハWから剥離し、更に、剥離した保護部材Pを装置内のゴミ箱5に破棄するように構成される。具体的に剥離装置1は、上面視矩形状の基台10の上面からZ軸方向に立ち上がる立壁部11の側面に、ウエーハWを保持して搬送する保持手段2と、保護部材Pのはみ出し部Eを把持する把持手段3と、ウエーハWから保護部材Pを剥離する剥離手段4とを設けて構成される。保持手段2が立壁部11の上側に配置されており、把持手段3及び剥離手段4が保持手段2の下方に配置されている。
As described above, the peeling device 1 is configured to peel the protective member P made of the resin layer R and the film F from the wafer W, and to discard the peeled protective member P in the
保持手段2は、保護部材Pを下方に向けてウエーハWの上面(一方の面)を保持するように構成される。具体的に保持手段2は、ウエーハWと略同径の搬送パッド20でウエーハWの上面を吸引保持する。搬送パッド20は、ウエーハWを吸引保持するポーラスチャックであり、円板状の枠体の下面にセラミックス等の多孔質材で構成される保持面21(図2参照)が形成されている。保持面21に生じる負圧によって、ウエーハWを吸引保持することが可能となっている。
The
搬送パッド20は、Y軸方向に延在するアーム22の先端(左端)に吊り下げて支持される。保持手段2は、昇降手段23によってZ軸方向に昇降可能に構成されると共に、水平移動手段24によってX軸方向に移動可能に構成される。昇降手段23は、アーム22の基端を支持するZ軸テーブル25をモータ駆動のガイドアクチュエータでZ軸方向に移動させる。水平移動手段24は、Z軸テーブル25を支持するX軸テーブル26をモータ駆動のガイドアクチュエータでX軸方向に移動させる。なお、昇降手段23及び水平移動手段24は、モータ駆動のガイドアクチュエータに限定されず、例えばエア駆動のガイドシリンダで構成されてもよい。
The
把持手段3は、一対の爪部30によって、はみ出し部Eの一部分をフィルムFの厚み方向で挟持するように構成される。一対の爪部30は対向配置されており、互いに離間接近可能に構成される。把持手段3は、剥離手段4の一部を構成するアーム40の先端に設けられている。
The gripping means 3 is configured to sandwich a part of the protruding portion E in the thickness direction of the film F by the pair of
剥離手段4は、Y軸方向に延在するアーム40と、アーム40の基端を支持するX軸テーブル41とを有している。アーム40は、延在方向を軸に把持手段3を回転可能に支持すると共に、X軸テーブル41上で上下に昇降可能に構成される。X軸テーブル41は、例えばモータ駆動のガイドアクチュエータでX軸方向へ移動可能に構成される。なお、アーム40やX軸テーブル41を駆動させる構成は、モータ駆動のガイドアクチュエータに限定されず、例えばエア駆動のガイドシリンダで構成されてもよい。
The peeling means 4 has an
詳細は後述するが、剥離手段4は、把持手段3と保持手段2とを相対的に離合する方向に移動させることでウエーハWから保護部材Pを剥離する。すなわち、剥離手段4は、把持手段3と保持手段2とを相対移動させる移動手段を構成する。
Although the details will be described later, the peeling means 4 peels the protective member P from the wafer W by moving the gripping means 3 and the holding means 2 in a relatively separating direction. That is, the peeling unit 4 constitutes a moving unit that moves the gripping unit 3 and the
保持手段2と剥離手段4との間には、保護部材Pの剥離をガイドするガイドローラ42が設けられている。ガイドローラ42は、Y軸方向に延在し、ウエーハWの直径より長い円柱形状を有している。詳細は後述するが、保護部材Pを剥がす際、ガイドローラ42の円筒面がフィルムFの下面に当接する。
Between the holding means 2 and the peeling means 4, a
剥離手段4の下方には、剥離後の保護部材Pを回収するゴミ箱5が設けられている。ゴミ箱5は、上方がウエーハWより大きく開放された上面視方形状を有している。また、ゴミ箱5には、X方向で対向する一辺の上端部分に一対の光学センサ50が設けられている。一対の光学センサ50は、一方が発光部で、他方が受光部で構成される。光学センサ50は、発光部から発生される光を受光部が受け、受光部の受光量変化に基づいて、ゴミ箱5に回収された保護部材Pが満杯になったかどうかを検知する。
Below the peeling means 4 is provided a
このように構成される剥離装置1は、うねりが除去された後のウエーハWの上面を保持手段2で吸引保持し、ウエーハW外周のはみ出し部Eを把持手段3で把持する。そして、保持手段2とはみ出し部Eとを互いに離合する方向に移動させることで、ウエーハWから保護部材Pを剥離する。剥離後の保護部材Pは、ゴミ箱5に破棄される。ゴミ箱5が保護部材Pで満杯になると、光学センサ50の出力に応じて、オペレータに対して報知がなされる。
The peeling device 1 configured as described above sucks and holds the upper surface of the wafer W after the waviness is removed by the holding means 2, and holds the protruding portion E on the outer periphery of the wafer W by the holding means 3. Then, the protective member P is peeled from the wafer W by moving the holding means 2 and the protruding portion E in a direction to separate them from each other. The protective member P after peeling is discarded in the
ところで、従来では、剥離後の保護部材をゴミ箱内に自由落下させて破棄する場合、保護部材が可撓性を有するため、ゴミ箱内で保護部材が折れ曲がり、かさばってしまう。保護部材の材質によっては、保護部材が所定方向に丸まってしまい、かさばる要因と成り得る。このようにゴミ箱内で保護部材がかさばる結果、ゴミ箱がすぐに満杯になってしまう。このため、作業者がゴミ箱から保護部材を回収する頻度、又は、ゴミ箱を交換する頻度が増え、作業効率低下の要因と成り得る。 By the way, conventionally, when the protective member after peeling is dropped freely in the trash box and discarded, the protective member is flexible, and the protective member is bent and bulky in the trash box. Depending on the material of the protective member, the protective member may be rounded in a predetermined direction, which may be a bulky factor. As a result of the bulk of the protective member in the trash can, the trash can fills up quickly. For this reason, the frequency with which an operator collects the protective member from the trash box or the frequency with which the trash box is replaced increases, which may be a factor in reducing work efficiency.
そこで、本件発明者は、剥離後の保護部材Pを落下させる際に、保護部材Pが折れ曲がらないようにその形状(姿勢)をコントロールしてゴミ箱5まで案内し、ゴミ箱5内で複数の保護部材Pを一定の姿勢で積層することを着想した。具体的には、ゴミ箱5の上方に、剥離後の保護部材Pをゴミ箱5内に積層させる積層手段6を設ける構成とした。
Therefore, the present inventor controls the shape (posture) of the protective member P so that the protective member P does not bend when dropping the peeled protective member P, and guides it to the
積層手段6は、保護部材Pをゴミ箱5に案内させる第1ガイド手段7及び第2ガイド手段8によって構成される。第1ガイド手段7は、ゴミ箱5の後下方において、把持手段3及び剥離手段4の下方に設けられており、前方に向かうに従って下方に傾斜する一対のガイドレール70によって構成される。
The stacking means 6 is composed of first guide means 7 and second guide means 8 for guiding the protection member P to the
ガイドレール70は、例えば円形断面を有する棒状に形成され、保護部材Pの外形と略同一の長さを有している。また、ガイドレール70の先端(下端)部分が、水平方向に屈曲されている。当該先端部分は、ゴミ箱5のX方向後方側における一辺の上端部分に配置されている。また、一対のガイドレール70は、ゴミ箱5のY方向における中心線を挟んで対向するようにして、保護部材Pの外径より十分に小さい間隔D1で平行に配置されている(図5B参照)。詳細は後述するが、第1ガイド手段7は、剥離後の保護部材Pを傾斜落下させる傾斜落下手段を構成する。
The
第2ガイド手段8は、ゴミ箱5の上方を前後に跨ぐように水平に延びる一対のガイドレール80によって構成される。ガイドレール80は、例えば円形断面を有する棒状に形成され、保護部材Pの外径より大きい長さで延在する。ガイドレール80の一端(後端)は、ゴミ箱5のX方向後方側における一辺の上端部分に位置し、他端(先端)がゴミ箱5のX方向前方側における一辺の上端部分に位置している。
The 2nd guide means 8 is comprised by a pair of
また、図5Bに示すように、一対のガイドレール80は、保護部材Pの外径より小さい間隔で、ゴミ箱5のY方向における中心線を挟んで対向するように配置されている。更に一対のガイドレール80は、後方から前方に向かうに従って、その対向間隔が大きくなるように、上面視(上矢視)ハの字を形成する。すなわち、一対のガイドレール80は、後端側(第1ガイド手段7に近い側)の間隔D2より先端側の間隔D3が大きくなるように配置される。また、間隔D2は間隔D1より大きくなっており、一対のガイドレール80の後端が、一対のガイドレール70の先端を左右で挟むように配置される。すなわち、一対のガイドレール80の後端と、一対のガイドレール70の先端は、Y方向から見て重なっている(図5A参照)。詳細は後述するが、第2ガイド手段8は、第1ガイド手段7に沿って傾斜落下した保護部材Pの姿勢を水平にすると共に、保護部材Pをゴミ箱5に落下させる姿勢矯正手段を構成する。
Further, as shown in FIG. 5B, the pair of
これらの構成によれば、積層手段6を構成する第1ガイド手段7及び第2ガイド手段8によって剥離後の保護部材Pをガイドすることで、保護部材Pを水平に広げた状態でゴミ箱5内に落下させることができる。これにより、ゴミ箱5内で複数の保護部材Pがかさばることなく積層される。この結果、ゴミ箱5内に多くの保護部材Pを廃棄することができ、その回収頻度を少なくすることが可能となる。
According to these structures, the protective member P after peeling is guided by the first guide means 7 and the second guide means 8 constituting the stacking means 6, so that the protective member P is horizontally spread in the
次に、図2から図5を参照して本実施の形態に係る剥離装置の動作、すなわち、保護部材の剥離方法について説明する。図2は、本実施の形態に係る剥離装置の保持工程及び把持工程の一例を示す図である。図3は、本実施の形態に係る剥離装置の剥離工程の一例を示す図である。図3A、Bは、剥離工程の動作遷移図を示す。図4は、本実施の形態に係る剥離装置の傾斜落下準備工程の一例を示す図である。図5は、本実施の形態に係る剥離装置の傾斜落下工程及び積層工程の一例を示す図である。図5Aは剥離装置の側面模式図を示し、図5Bは剥離装置の上面模式図を示す。また、図5では、説明の便宜上、光学センサを省略している。 Next, the operation of the peeling apparatus according to the present embodiment, that is, the method for peeling the protective member will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a holding process and a gripping process of the peeling device according to the present embodiment. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a peeling process of the peeling apparatus according to the present embodiment. 3A and 3B show operation transition diagrams of the peeling process. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of the inclined drop preparation process of the peeling apparatus according to the present embodiment. FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the inclined dropping process and the laminating process of the peeling apparatus according to the present embodiment. 5A shows a schematic side view of the peeling device, and FIG. 5B shows a schematic top view of the peeling device. In FIG. 5, the optical sensor is omitted for convenience of explanation.
本実施の形態に係る保護部材Pの剥離方法は、保持工程(図2参照)と、把持工程(図2参照)と、剥離工程(図3参照)と、傾斜落下準備工程(図4参照)と、傾斜落下工程(図5参照)と、積層工程(図6参照)とをこの順に実施して構成される。 The protective member P peeling method according to the present embodiment includes a holding step (see FIG. 2), a gripping step (see FIG. 2), a peeling step (see FIG. 3), and an inclined drop preparation step (see FIG. 4). And an inclined dropping process (see FIG. 5) and a stacking process (see FIG. 6) in this order.
図2に示すように、保持工程では、保護部材Pが下方に向けられた状態で搬送パッド20の中心とウエーハWの中心とが一致するように、ウエーハWの上面が搬送パッド20に吸引保持される。そして、把持工程では、保護部材Pの外周の一部分(はみ出し部E)が、一対の爪部30によって把持される。このとき、ガイドローラ42がウエーハWの一端側(一対の爪部30が把持した側)に位置するように、保持手段2が位置付けられる。更にガイドローラ42は、フィルムFの下面に当接しており、ウエーハW及び保護部材Pは、搬送パッド20とガイドローラ42との間で挟まれた状態となっている。
As shown in FIG. 2, in the holding step, the upper surface of the wafer W is sucked and held by the
次に剥離工程が実施される。図3Aに示すように、保持手段2及び把持手段3は、互いに離合する方向に移動され、はみ出し部Eがウエーハの外周縁から引き剥がされる。具体的に把持手段3は、フィルムFの把持位置から後方にずれた位置を支点に回転しながら下方に移動される。この結果、一対の爪部30近傍の保護部材PがウエーハWの外周から引き剥がされ、保護部材Pは、ガイドローラ42に当接しながら(案内されて)略直角に屈曲される。
Next, a peeling process is implemented. As shown in FIG. 3A, the holding means 2 and the gripping means 3 are moved in a direction separating from each other, and the protruding portion E is peeled off from the outer peripheral edge of the wafer. Specifically, the gripping means 3 is moved downward while rotating around a position shifted backward from the gripping position of the film F. As a result, the protective member P in the vicinity of the pair of
更に図3Bに示すように、把持手段3の回転角度と高さを調整しながら、把持手段3を前方、すなわち、ウエーハWの外周から中央を基準とする逆側の外周に向かって移動させると共に、保持手段2も後方に向かって移動させる。このように、保持手段2及び把持手段3を保持面21の面方向に沿って互いに離合する方向に相対移動させることにより、保護部材Pの全体をウエーハWから剥離することが可能である。なお、図3では、保持手段2及び把持手段3を前後方向に相対移動させて保護部材Pを剥離する構成としたが、この構成に限定されない。例えば、把持手段3を前方に移動させず下方に移動させ続け、保護部材Pを直角に屈曲させて全体を剥離させてもよい。
Further, as shown in FIG. 3B, while adjusting the rotation angle and height of the gripping means 3, the gripping means 3 is moved forward, that is, from the outer periphery of the wafer W toward the outer periphery on the opposite side with respect to the center. The holding means 2 is also moved rearward. In this way, the entire protection member P can be peeled from the wafer W by relatively moving the holding means 2 and the gripping means 3 along the surface direction of the holding
次に傾斜落下準備工程に移行する。図4に示すように、ウエーハWから保護部材Pを剥離した直後においては、はみ出し部Eの一端が一対の爪部30によって把持されたまま、保護部材Pの他端側が自重によって垂れ下がる。具体的に保護部材Pは、一対の爪部30によって把持されたはみ出し部Eの一端を起点に下方に向かって直角に屈曲され、鉛直方向に沿うようにして垂れ下がっている。把持手段3は、はみ出し部Eを把持した状態を維持しながら、X方向後側に移動され、第1ガイド手段7(図5参照)の近傍に位置付けられる。
Next, the process proceeds to the inclined fall preparation process. As shown in FIG. 4, immediately after the protective member P is peeled off from the wafer W, the other end of the protective member P hangs down by its own weight while one end of the protruding portion E is held by the pair of
次に傾斜落下工程及び積層工程が実施される。図5Aに示すように、はみ出し部Eを把持する把持手段3は、第1ガイド手段7の近傍に位置付けられ、保護部材PのフィルムF側が一対のガイドレール70の傾斜面に当接される。これにより、保護部材Pは、一対のガイドレール70に沿うように鉛直方向に対して僅かに傾斜される。 Next, an inclined dropping process and a lamination process are performed. As shown in FIG. 5A, the gripping means 3 that grips the protruding portion E is positioned in the vicinity of the first guide means 7, and the film F side of the protective member P is in contact with the inclined surfaces of the pair of guide rails 70. Thereby, the protection member P is slightly inclined with respect to the vertical direction along the pair of guide rails 70.
保護部材Pが一対のガイドレール70に沿わされた状態で、一対の爪部30が互いに離間されると、はみ出し部Eの把持が解除される。保護部材Pは、自重により一対のガイドレール70に沿って斜め下方に傾斜落下する。一対のガイドレール70の先端は水平方向に屈曲しており、一対のガイドレール70の先には一対のガイドレール80が位置しているため、保護部材Pは、傾斜落下時の勢いにより、移動方向が斜め下方から水平方向に変換され、第1ガイド手段7から第2ガイド手段8に移動(移送)される。
When the pair of
一対のガイドレール80に沿って保護部材Pが水平方向に移動する際、保護部材Pは、Y方向における中央部分が自重によって落ち込み、正面視U字状に屈曲される。このとき、一対のガイドレール70の間隔が、移動方向上流側から下流側に向かうに従って広がるため、保護部材Pは、U字形状を元の水平形状に戻しながら一対のガイドレール80の先端側からゴミ箱5内に落下される。
When the protective member P moves in the horizontal direction along the pair of
保護部材Pは、前側が先に一対のガイドレール80の下方に落ち込んだら、のちに後側が一対のガイドレール80の下方に落ち込む。このとき、保護部材Pは、全体として姿勢が水平となるように矯正された状態でゴミ箱5に落下するため、複数の保護部材Pを一定の姿勢でゴミ箱5内に積層することが可能である。このように、一対のガイドレール80を据え広がりとなるように配置し、間隔の広い方から保護部材Pを落下させたことで、シート状の保護部材Pの姿勢を水平に矯正した状態でゴミ箱5内に積層することができる。
When the front side of the protective member P first falls below the pair of
以上のように、本実施の形態によれば、剥離後の保護部材Pが第1ガイド手段7(一対のガイドレール70)に沿って落下され、第2ガイド手段8(一対のガイドレール80)に移送される。一対のガイドレール80の間隔は、移送方向下流側に向かうに従って広がるため、剥離後の保護部材Pは、丸まることなくゴミ箱内に落下する。この結果、複数の保護部材Pがゴミ箱5内に積層され、ゴミ箱5内で複数の保護部材Pがかさばることを抑制することが可能である。このため、ゴミ箱5内に多くの保護部材Pを廃棄することができ、その回収頻度を少なくすることが可能である。
As described above, according to the present embodiment, the peeled protective member P is dropped along the first guide means 7 (the pair of guide rails 70), and the second guide means 8 (the pair of guide rails 80). It is transferred to. Since the distance between the pair of
なお、本実施の形態では、剥離装置単体の構成について説明したが、この構成に限定されない。本発明は、例えば、研削、研磨、切削等、各種加工を実施する各種加工装置に適用されてもよい。 In addition, although this Embodiment demonstrated the structure of the peeling apparatus single-piece | unit, it is not limited to this structure. The present invention may be applied to various processing apparatuses that perform various processes such as grinding, polishing, and cutting.
また、加工対象のワークとして、加工の種類に応じて、例えば、半導体デバイスウエーハ、光デバイスウエーハ、パッケージ基板、半導体基板、無機材料基板、酸化物ウエーハ、生セラミックス基板、圧電基板等の各種ワークが用いられてもよい。半導体デバイスウエーハとしては、デバイス形成後のシリコンウエーハや化合物半導体ウエーハが用いられてもよい。光デバイスウエーハとしては、デバイス形成後のサファイアウエーハやシリコンカーバイドウエーハが用いられてもよい。また、パッケージ基板としてはCSP(Chip Size Package)基板、半導体基板としてはシリコンやガリウム砒素等、無機材料基板としてはサファイア、セラミックス、ガラス等が用いられてもよい。さらに、酸化物ウエーハとしては、デバイス形成後又はデバイス形成前のリチウムタンタレート、リチウムナイオベートが用いられてもよい。 In addition, as workpieces to be processed, various workpieces such as semiconductor device wafers, optical device wafers, package substrates, semiconductor substrates, inorganic material substrates, oxide wafers, raw ceramic substrates, piezoelectric substrates, etc., may be used depending on the type of processing. May be used. As the semiconductor device wafer, a silicon wafer or a compound semiconductor wafer after device formation may be used. As the optical device wafer, a sapphire wafer or a silicon carbide wafer after device formation may be used. Further, a CSP (Chip Size Package) substrate may be used as the package substrate, silicon or gallium arsenide may be used as the semiconductor substrate, and sapphire, ceramics, glass, or the like may be used as the inorganic material substrate. Further, as the oxide wafer, lithium tantalate or lithium niobate after device formation or before device formation may be used.
また、上記実施の形態では、ガイドレール70、80が円形断面を有する棒状に形成される構成としたが、この構成に限定されない。ガイドレール70、80は、例えば、金属板を折り曲げた板状体で形成されてもよい。 In the above embodiment, the guide rails 70 and 80 are formed in a rod shape having a circular cross section. However, the present invention is not limited to this configuration. The guide rails 70 and 80 may be formed of a plate-like body obtained by bending a metal plate, for example.
また、本発明の各実施の形態を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。 Moreover, although each embodiment of the present invention has been described, as the other embodiment of the present invention, the above embodiment and modifications may be combined in whole or in part.
また、本発明の実施の形態は上記の各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施態様をカバーしている。 The embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various changes, substitutions, and modifications may be made without departing from the spirit of the technical idea of the present invention. Furthermore, if the technical idea of the present invention can be realized in another way by technological advancement or another derived technique, the method may be used. Accordingly, the claims cover all embodiments that can be included within the scope of the technical idea of the present invention.
以上説明したように、本発明は、剥離後の保護部材をゴミ箱に回収する際にかさばることを抑制し、その回収頻度を少なくすることができるという効果を有し、特に、ウエーハの表面に貼着されたフィルムを剥離する剥離装置に有用である。 As described above, the present invention has the effect of suppressing the bulkiness when collecting the protective member after peeling into the trash box, and reducing the collection frequency. In particular, it is applied to the surface of the wafer. It is useful for a peeling apparatus that peels off the attached film.
W ウエーハ
P 保護部材
R 樹脂層
F フィルム
E はみ出し部
1 剥離装置
2 保持手段
3 把持手段
4 剥離手段
6 積層手段
5 ゴミ箱
7 第1ガイド手段(傾斜落下手段)
8 第2ガイド手段
80 一対のガイドレール(2本の水平棒)
D2、D3 間隔
W Wafer P Protective member R Resin layer F Film E Protruding part 1
8 Second guide means 80 A pair of guide rails (two horizontal bars)
D2, D3 interval
Claims (1)
他方の面に該保護部材を形成したウエーハの一方の面を吸引保持する保持手段と、
該保持手段が保持したウエーハに貼着される該保護部材の該はみ出し部を把持する把持手段と、
該把持手段と該保持手段とを相対的に離合する方向に移動させウエーハから該保護部材を剥離する剥離手段と、
該剥離手段によりウエーハから剥離され該把持手段が把持する該保護部材を該ゴミ箱に積層させる積層手段とを備え、
該積層手段は、
ウエーハから剥離した該把持手段が把持する該保護部材を傾斜落下させる傾斜落下手段と、
該傾斜落下手段に沿って傾斜落下した該保護部材を水平姿勢にするとともに該保護部材を該ゴミ箱に落下させる該ゴミ箱の上に水平方向に配設される2本の水平棒とを備え、
該2本の水平棒の間隔は、該傾斜落下手段に近い一方の端より他方の端が大きく上矢視ハの字に形成し、
傾斜落下した該保護部材が該2本の水平棒に移送されたら該間隔の広い方から該保護部材を落下させ該ゴミ箱内に該保護部材を積層させることを特徴とする剥離装置。 A sheet-like shape that includes a film having a protruding portion that protrudes from the outer periphery of the wafer in a larger area than the wafer, and a resin layer formed between the film and the other surface of the wafer, and that protects the entire other surface of the wafer A peeling device that peels off the protective member from the wafer and discards it in the trash box in the device,
Holding means for sucking and holding one surface of the wafer having the protective member formed on the other surface;
A gripping means for gripping the protruding portion of the protective member to be adhered to the wafer held by the holding means;
Peeling means for moving the gripping means and the holding means in a relatively separating direction to peel the protective member from the wafer;
Laminating means for laminating the protective member peeled from the wafer by the peeling means and gripped by the gripping means on the trash can,
The laminating means includes
Tilted dropping means for tilting and dropping the protective member gripped by the gripping means peeled from the wafer;
Two horizontal rods disposed horizontally on the trash bin for placing the protective member inclined and dropped along the inclined dropping means in a horizontal posture and dropping the protective member into the trash bin,
The distance between the two horizontal bars is such that the other end is larger than the one end close to the inclined dropping means, and is formed in the shape of an arrow C.
A stripping device, wherein when the protective member that has fallen down is transferred to the two horizontal bars, the protective member is dropped from the wider side and the protective member is stacked in the trash box.
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