JP2018181964A - Ceramic substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、セラミックからなる基板本体の少なくとも表面側に金属枠により形成されたキャビティを有するセラミック基板、およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a ceramic substrate having a cavity formed by a metal frame on at least the surface side of a substrate body made of ceramic, and a method of manufacturing the same.
例えば、セラミックからなる箱形状のパッケージ本体において、キャビティが開口する矩形枠状の表面に沿って垂直断面が幅広な枠形状の第1メタライズ層を形成し、該第1メタライズ層の上面における内外方向の中間位置に沿って垂直断面が幅狭(帯状)な枠形状の第2メタライズ層を形成すると共に、該第2メタライズ層の内周側および外周側である上記第1メタライズ層の上面に配設したロウ材を介して、該ロウ材および上記第2メタライズ層の上方に矩形枠状の金属枠を接合したセラミックパッケージが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
上記セラミックパッケージにおける第1メタライズ層は、その上面が平坦状であるため、該第1メタライズ層の内外方向における所定の位置に沿って、前記第2メタライズ層を精度良く形成することができる。
For example, in a box-shaped package body made of ceramic, a frame-shaped first metallized layer having a wide vertical cross section is formed along the rectangular frame-shaped surface where the cavity is opened, and the inward and outward directions on the upper surface of the first metallized layer Forming a second metallized layer in a frame shape having a narrow (striped) vertical cross section along the middle position of the second metallized layer and disposed on the upper surface of the first metallized layer on the inner and outer peripheral sides of the second metallized layer. There has been proposed a ceramic package in which a rectangular frame-shaped metal frame is joined to the upper side of the brazing material and the second metallized layer through the brazing material provided (see, for example, Patent Document 1).
Since the upper surface of the first metallized layer in the ceramic package is flat, the second metallized layer can be formed with high accuracy along a predetermined position in the inner and outer direction of the first metallized layer.
しかし、近年のセラミックパッケージに対する小型化および薄肉化の要求に対応すべく、キャビティの開口部を囲む矩形枠状の前記表面に沿って、あるいは平坦な表面の周辺部に沿って、内外方向の幅が比較的狭い第1メタライズ層を形成した場合、該第1メタライズの表面は、外周側から上記キャビティ側に向かって緩く湾曲して下がる曲面となり易い。そのため、かかる曲面のうち、内周側であるキャビティ側の勾配が外周側の勾配よりも大きくなることに起因して、前記セラミックパッケージの製造時において、第1メタライズ層の上面におけるキャビティ側に幅狭である帯状の第2メタライズ層を、導電性ペーストにより形成した場合、該導電性ペーストがキャビティ側にずれたり、垂れ落ちる場合があった。従って、前記第1および第2メタライズ層の上方に金属枠をロウ付けで強固に接合させた小型のセラミックパッケージを得ることは、著しく困難とされていた。 However, in order to meet the demand for downsizing and thinning of ceramic packages in recent years, the width in the inward and outward direction along the rectangular frame-like surface surrounding the opening of the cavity or along the periphery of the flat surface. When the first metallized layer having a relatively narrow width is formed, the surface of the first metallized layer tends to be a curved surface which is gently curved and lowered from the outer peripheral side toward the cavity side. Therefore, the width of the curved surface on the upper surface of the first metallized layer at the time of manufacturing the ceramic package is at the time of manufacturing the ceramic package due to the gradient on the cavity side on the inner peripheral side becoming larger than the gradient on the outer peripheral side. When the narrow strip-like second metallized layer is formed of a conductive paste, the conductive paste may be displaced to the cavity side or may drop. Therefore, it has been considered extremely difficult to obtain a small ceramic package in which a metal frame is firmly joined to the upper side of the first and second metallized layers by brazing.
本発明は、背景技術で説明した問題点を解決し、セラミックからなる基板本体の表面(即ち、平坦な表面の周辺あるいはキャビティが開口する矩形枠状の表面)に沿って、幅広のメタライズ層と、該メタライズ層の上面における上記キャビティ側ないし実装領域側に沿って幅の狭い帯状メタライズ部とが所要の位置に精度良く形成され、これらの上方に金属枠が強固に接合されたセラミック基板、およびその製造方法を提供する、ことを課題とする。 The present invention solves the problems described in the background art, and forms a wide metallized layer along the surface of the substrate body made of ceramic (that is, around the flat surface or a rectangular frame-like surface having an open cavity). A ceramic substrate in which narrow strip-like metallized portions having a narrow width along the cavity side or mounting region side on the upper surface of the metallized layer are precisely formed at required positions, and a metal frame is firmly bonded to them above them; It is an object to provide a method for manufacturing the same.
本発明は、前記課題を解決するため、前記基板本体の平坦な表面の周辺に沿って形成された幅広のメタライズ層における湾曲した上面において、該上面の実装領域側に沿って凹部を形成し、該凹部の少なくとも一部と幅の狭い帯状メタライズ層とが側面視で重複するか、前記凹部の外周側に帯状メタライズ層を形成する、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明のセラミック基板(請求項1)は、セラミックからなり、平面視の外形が矩形状で且つ対向する表面および裏面と、該表面と裏面との間に位置する側面とを有する基板本体と、平面視で少なくとも上記基板本体の表面の中央側に位置する電子部品の実装領域と、平面視で上記実装領域の外側に位置する上記基板本体の表面の外周部に沿って形成された平面視が矩形枠状のメタライズ層と、を備えたセラミック基板であって、上記メタライズ層の上面において、上記側面側よりも上記実装領域側に沿って凹部が形成されており、上記メタライズ層の上面には、該メタライズ層の各辺に沿って形成された帯状メタライズ部を有し、該帯状メタライズ部は、上記メタライズ層の上面において、側面視で少なくとも一部が上記凹部と重複しているか、あるいは、該凹部と上記基板本体の側面との間に形成されている、ことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention forms a recess along the mounting area side of the upper surface on a curved upper surface of a wide metallized layer formed along the periphery of the flat surface of the substrate body. The invention is conceived on the idea that at least a part of the recess and a narrow strip-like metallized layer overlap in a side view, or a band-like metallization layer is formed on the outer peripheral side of the recess.
That is, the ceramic substrate according to the present invention (claim 1) is a substrate body made of ceramic, having a rectangular outer shape in plan view and having opposing front and back surfaces, and a side surface located between the front and back surfaces. And a plane formed along the outer peripheral portion of the surface of the substrate main body located outside the mounting region in plan view, and the mounting region of the electronic component positioned at least on the center side of the surface of the substrate main body in plan view A ceramic substrate comprising a metallized layer having a rectangular frame shape, wherein a recess is formed on the upper surface of the metallized layer along the mounting region side more than the side surface side, and the upper surface of the metallized layer And a strip-shaped metallized portion formed along each side of the metallized layer, wherein the strip-shaped metallized portion overlaps at least a part with the recess in a side view on the upper surface of the metallized layer. And have either or are formed between the concave portion and the side surface of the substrate main body, characterized in that.
これによれば、以下の効果(1)〜(3)を奏することが可能となる。
(1)前記メタライズ層の上面において、前記側面側よりも前記実装領域側の位置に沿って前記凹部が形成され、上記メタライズ層の上面には、該メタライズ層の各辺に沿って形成された帯状メタライズ部を有すると共に、該帯状メタライズ部は、上記メタライズ層の上面において、側面視で少なくとも一部が上記凹部と重複しているか、あるいは、該凹部と前記基板本体の側面との間に形成されている。その結果、製造時において導電性ペーストからなる未焼成の帯状メタライズ部は、上記凹部によって、極端ないし過度に上記実装領域側にずれて形成されたり、該実装領域側に垂れ落ちて形成されておらず、上記凹部のほぼ真上か該凹部よりも前記側面側の位置に平面視で矩形状で、且つ側面視で全周がほぼ同じレベルに形成されている。
(2)上記効果(1)に起因して、帯状メタライズ部とその内周側と外周側の前記メタライズ層の上方に接合材(例えば、ロウ材)を介して、後述する金属枠をその全周に沿って精度良く強固に接合することが可能となる。
(3)上記効果(1)に起因して、前記帯状メタライズ部が実装領域側にずれることに基づく該実装領域の狭小化を抑制することができる。
(4)上記効果(2)に起因して、追って前記実装領域に所要の電子部品を実装した後、前記金属枠の上面に沿って金属製の蓋板をシーム溶接により容易に溶接できるため、上記金属枠に囲まれたキャビティ内を確実に封止可能にできる。
According to this, it is possible to achieve the following effects (1) to (3).
(1) The concave portion is formed on the upper surface of the metallized layer along the position closer to the mounting area than the side surface side, and the upper surface of the metallized layer is formed along each side of the metallized layer A strip-shaped metallized portion is provided, and the strip-shaped metallized portion at least partially overlaps the recess in a side view on the upper surface of the metallized layer, or is formed between the recess and the side surface of the substrate body It is done. As a result, the unbaked strip-shaped metallized portion made of a conductive paste at the time of manufacture is formed to be extremely deviated to the mounting region side or dropped to the mounting region side due to the concave portion. In addition, it is formed in a rectangular shape in a plan view at a position approximately directly above the recess or at the side surface side with respect to the recess, and the entire circumference is formed at substantially the same level in a side view.
(2) Due to the above effect (1), a metal frame to be described later is provided above the band-like metallized portion and the metallized layer on the inner and outer peripheral sides thereof via a bonding material (for example, a brazing material) It becomes possible to join firmly and precisely along the circumference.
(3) Due to the effect (1), narrowing of the mounting area can be suppressed based on the band-like metallized portion being shifted to the mounting area side.
(4) Due to the above effect (2), after a required electronic component is mounted on the mounting area later, a metal cover plate can be easily welded by seam welding along the upper surface of the metal frame, The inside of the cavity surrounded by the metal frame can be reliably sealed.
尚、前記基板本体を構成する前記セラミックは、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライトなどの高温焼成セラミック、あるいは、例えば、カラス−セラミックなどの低温焼成セラミックからなる。
また、前記基板本体の少なくとも表面は、平面視が矩形状の平面であるか、あるいは、該表面の中央側に開口するキャビティの開口部を囲む平面視が矩形枠状の形態である。該基板本体は、表面が平面の場合、少なくとも1層のセラミック層からなり、上記キャビティを有する形態では、2層以上のセラミック層が積層されている。
更に、前記実装領域は、前記基板本体の平坦面からなる表面の平面視における中央側に位置しているか、あるいは、平面視が矩形枠状である前記基板本体の表面に開口する前記キャビティの底面のほぼ全域である。かかる実装領域には、複数の実装用パッドが形成されている。
また、前記メタライズ層および帯状メタライズ部は、前記基板本体のセラミックが前記高温焼成セラミックの場合には、タングステンあるいはモリブデンが用いられ、前記低温焼成セラミックの場合には、銅あるいは銀が用いられる。
加えて、前記凹部には、例えば、側面視の断面がV字形状の形態であるか、あるいは、隣接する傾斜面と水平状面とからなる段部の形態などが含まれる。
The ceramic constituting the substrate main body is made of, for example, a high temperature sintered ceramic such as alumina, aluminum nitride or mullite, or a low temperature sintered ceramic such as a crow-ceramic.
Further, at least the surface of the substrate main body is a flat surface having a rectangular shape in a plan view, or a planar shape having a rectangular frame shape in a plan view surrounding the opening of the cavity opening on the center side of the surface. The substrate body is composed of at least one ceramic layer when the surface is flat, and in the mode having the cavity, two or more ceramic layers are laminated.
Furthermore, the mounting area is located on the center side in plan view of the surface formed by the flat surface of the substrate body, or the bottom surface of the cavity is open on the surface of the substrate body having a rectangular frame shape in plan view. Almost the entire area of A plurality of mounting pads are formed in the mounting area.
The metallized layer and the band-like metallized portion may use tungsten or molybdenum when the ceramic of the substrate body is the high temperature fired ceramic, and copper or silver when the low temperature fired ceramic is used.
In addition, the concave portion includes, for example, a V-shaped cross section in a side view or a stepped portion including an adjacent inclined surface and a horizontal surface.
また、本発明には、前記メタライズ層の上面は、前記基板本体の側面側から前記凹部に向かって高さが徐々に低くなる上向きに凸の第1曲面と、前記凹部と前記実装領域との間に位置し、且つ平面視の幅が第1曲面よりも狭い上向きに凸の第2曲面とからなる、セラミック基板(請求項2)も含まれる。
これによれば、前記メタライズ層の上面に形成された帯状メタライズ部は、少なくとも前記凹部によって、前記実装領域側にずれたり、垂れ落ちたりして形成されていないため、前記効果(1)〜(4)を確実に得るが可能となる。
尚、前記第1曲面は、側面視で前記基板本体の側面側が最高部で且つ前記凹部側が最低部となる連続形状の曲線を呈し、前記第2曲面は、側面視で前記凹部側に最高部を有し且つ前記実装領域側が最低部となる連続形状の曲線を呈する。
Further, according to the present invention, the upper surface of the metallized layer is an upwardly convex first curved surface whose height gradually decreases from the side surface side of the substrate body toward the concave portion, the concave portion, and the mounting area. Also included is a ceramic substrate (Claim 2), which is located between and has an upwardly convex second curved surface whose width in plan view is narrower than the first curved surface.
According to this, since the strip-like metallized portion formed on the upper surface of the metallized layer is not formed at least by the concave portion so as to be shifted to the mounting region side or dropped off, the effects (1) to (5) It is possible to obtain 4) with certainty.
The first curved surface exhibits a continuous curve in which the side surface side of the substrate main body is the highest portion and the concave portion side is the lowest portion in side view, and the second curved surface is the highest portion in the concave portion side in side view And has a continuous-shaped curve in which the mounting area side is the lowest.
更に、本発明には、前記メタライズ層の上面の上方には、前記帯状メタライズ部の前記実装領域側および前記基板本体の側面側に配設される接合部を介して、平面視が矩形枠状の金属枠が接合されている、セラミック基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、前記帯状メタライズ部の上方および前記メタライズ層の前記実装領域側および前記基板本体の側面側の上方に、前記接合部を介して、前記金属枠がその全周を同じレベルにして確実に接合されているので、前記効果(4)を確実に奏することができる。
尚、前記金属枠は、例えば、コバール(Fe−29%Ni−17%Co)、42アロイ(Fe−42%Ni)、あるいは、194合金(Cu−2.3%Fe−0.03%P)などからなる。
また、前記接合部は、例えば、ロウ付けにより形成され、該ロウ付けに用いるロウ材には、例えば、銀ロウ(Ag−15%Cu)が適用される。
Furthermore, according to the present invention, the rectangular frame shape in plan view is provided above the upper surface of the metallized layer via the bonding portion disposed on the mounting region side of the strip-like metallized portion and the side surface side of the substrate main body. Also included is a ceramic substrate (Claim 3) to which the metal frame of 4 is bonded.
According to this, the metal frame makes the entire circumference the same level via the joint portion above the strip-shaped metallized portion and above the mounting region side of the metallized layer and the side surface side of the substrate body. Since the bonding is performed reliably, the effect (4) can be reliably obtained.
The metal frame is, for example, Kovar (Fe-29% Ni-17% Co), 42 alloy (Fe-42% Ni), or 194 alloy (Cu-2.3% Fe-0.03% P). And so on.
Further, the joint portion is formed, for example, by brazing, and silver brazing (Ag-15% Cu) is applied to a brazing material used for the brazing, for example.
一方、本発明によるセラミック基板の製造方法(請求項4)は、前記セラミック基板の製造方法であって、追って前記基板本体となる複数の基板領域を平面視で縦横に隣接して併有するセラミックグリーンシートにおいて、隣接する2つの基板領域を区分する切断予定面に跨り、該2つの基板領域ごとの表面における電子部品の実装領域の外周側で、且つ上記切断予定面に沿って、平面視が矩形枠状で且つ上向きに凸である未焼成のメタライズ層を形成する工程と、平面視で上記未焼成のメタライズ層の上面において、上記基板領域ごとの上記切断予定面側よりも実装領域側に沿って、凹部を形成する工程と、上記メタライズ層の上面において、側面視で少なくとも一部が上記凹部と重複する位置ごと、あるいは、該凹部と上記切断予定面との間ごとの位置に、未焼成の帯状メタライズ部を形成する工程と、を含む、ことを特徴とする。
前記のような製造方法によれば、前記効果(1)〜(4)を奏する前記セラミック基板を確実に製造することが可能となる(効果(5))。
On the other hand, the method for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention (claim 4) is a method for manufacturing a ceramic substrate according to the present invention, wherein a plurality of substrate regions to be the substrate main body In the sheet, a plan view is rectangular on the outer periphery side of the mounting area of the electronic component on the surface of each of the two substrate areas and along the planned cutting surface, straddling the planned cutting surface dividing the two adjacent substrate regions. Forming an unbaked metallized layer which is frame-shaped and convex upward, and in the upper surface of the unbaked metallized layer in plan view, along the mounting area side rather than the planned cutting surface side for each substrate area A step of forming a recess, and in the upper surface of the metallized layer, at each position where at least a portion overlaps the recess in a side view, or the recess and the surface to be cut The position of each between, and forming a strip-shaped metallization of unfired, and characterized in that.
According to the manufacturing method as described above, it becomes possible to reliably manufacture the ceramic substrate exhibiting the effects (1) to (4) (effect (5)).
尚、前記切断予定面は、前記多数個取り用のセラミックグリーンシートに設定された仮想の断面であり、該グリーンシートを焼成し、且つ前記基板領域ごとに個片化した際に、前記セラミック基板ごとの基板本体における側面となる。
また、前記未焼成のメタライズ層の上面は、側面視で前記切断予定面側が最高部で且つ隣接する前記基板領域ごとの実装領域側が最低部となる連続形状の曲線を呈する。
更に、前記未焼成の帯状メタライズ部を形成する工程の後には、前記メタライズ層および帯状メタライズ部を有する前記グリーンシートを焼成する工程と、焼成後の上記メタライズ層の上面と焼成後の上記帯状メタライズ部の露出面に対し金属膜(例えば、ニッケルおよび金)を被覆するメッキ工程と、前記基板領域ごとに個片化する工程と、個々の基板本体における上記メタライズ層の上面の上方に、焼成済みの上記帯状メタライズ部の前記実装領域側および前記基板本体の側面側に配設する接合部(例えば、ロウ付け部)を介して、平面視が矩形枠状で且つ側面視が矩形状の金属枠を接合する工程と、が施される。
The planned cutting surface is a virtual cross section set in the ceramic green sheet for multiple-piece preparation, and the ceramic substrate is fired when the green sheet is fired and divided into individual substrate regions. Each side surface of the substrate body.
Further, the upper surface of the unbaked metallized layer exhibits a continuous curve having a maximum at the planned cutting surface side in a side view and a minimum at the mounting region side for each of the adjacent substrate regions.
Furthermore, after the step of forming the unbaked strip-shaped metallized portion, the step of firing the green sheet having the metallized layer and the strip-shaped metallized portion, the upper surface of the metallized layer after firing and the strip-shaped metallized after firing Step of plating a metal film (for example, nickel and gold) on the exposed surface of the portion, the step of singulating each substrate region, and firing above the upper surface of the metallized layer in each substrate body A metal frame having a rectangular frame shape in a plan view and a rectangular shape in a side view through a bonding portion (for example, a brazed portion) disposed on the mounting region side of the strip metallized portion and the side surface side of the substrate main body And a step of joining the
また、本発明には、前記凹部を形成する工程は、前記メタライズ層の上面における前記基板領域ごとの前記切断予定面側よりも実装領域側に沿って、押圧枠型を押し込むことよって行われる、セラミック基板の製造方法(請求項5)も含まれる。
これによれば、前記凹部を前記メタライズ層における前記の位置に確実に形成できるので、前記効果(5)を確実に奏することが可能となる。
尚、上記押圧枠型は、下端(先端)側の断面が鋭角のV字形状、あるいは先端に幅の狭い水平面を有し、平面視で全体が格子枠形状を呈する。
Further, in the present invention, the step of forming the concave portion is performed by pressing the pressing frame mold along the mounting area side with respect to the planned cutting surface side for each of the substrate areas on the upper surface of the metallized layer. A method of manufacturing a ceramic substrate (claim 5) is also included.
According to this, since the concave portion can be reliably formed at the position in the metallized layer, the effect (5) can be reliably exhibited.
The cross section of the lower end (tip) side has an acute V-shaped cross section on the lower end (tip end) side or a narrow horizontal surface at the tip, and the whole has a lattice frame shape in plan view.
以下において、本発明を実施するための形態について説明する。
図1は、本発明による一形態のセラミック基板1aに関して一部に水平断面を含む平面図を示し、図2(A)は、は図1中のX−X線の矢視に沿った部分垂直断面図である。
上記セラミック基板1aは、図1,図2(A)に示すように、セラミック層c1からなり、平面視の外形が長方形(矩形)状で且つ対向する表面3および図示しない裏面4と、該表面3と裏面4との間に位置する四辺の側面5とを有する平板形状の基板本体2aと、該基板本体2aの表面3の中央側に位置する電子部品(図示せず)用である仮想の実装領域9と、平面視で該実装領域9の外側に位置する上記表面3の外周部に沿って形成され、且つ平面視が矩形枠状のメタライズ層12と、を備えている。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 shows a plan view including a horizontal cross section in part with respect to a ceramic substrate 1a according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 (A) shows a partial vertical along the arrow of XX in FIG. FIG.
The ceramic substrate 1a is made of a ceramic layer c1 as shown in FIGS. 1 and 2A, and has a rectangular (rectangular) outer shape in plan view, and a
前記基板本体2aは、例えば、アルミナなどの単層のセラミック層c1からなる。また、平面視で前記実装領域9の内側における基板本体2aの表面3の中央側には、追って実装される図示しない電子部品と電気的に接続するための一対(複数)の実装用パッド10が形成されている。尚、前記基板本体2aの表面3または裏面4には、図示しない電解金属メッキ用の配線が形成されている。
更に、図2(A)に示すように、前記メタライズ層12の上面は、前記基板本体2aの側面5側から前記実装領域9側に向かって、高さが徐々に低くなり且つ上向きに凸の第1曲面r1と、該第1曲面r1と上記実装領域9側との間に位置し、且つ平面視の幅が第1曲面r1よりも狭く且つ上向きに凸の第2曲面r2と、からなっている。かかる第1曲面r1と第2曲面r2との間で且つ平面視のメタライズ層12における実装領域9側には、垂直断面がほぼV字形状を呈する凹部13が、該メタライズ層12の全周に沿って形成されている。
尚、メタライズ層12の外側面は、前記基板本体2aの側面5と面一状である。
The
Furthermore, as shown in FIG. 2A, the upper surface of the metallized
The outer surface of the metallized
図1,図2(A)に示すように、前記凹部13のほぼ真上には、平面視が矩形枠状を呈し、且つ前記メタライズ層12よりも幅が狭いと共に、垂直断面がほぼ半円形状の帯状メタライズ層16が、該凹部13の全周に沿って形成されている。
尚、前記実装用パッド10、メタライズ層12、および帯状メタライズ層16などの導体は、主にタングステン(以下、単にWと記載する)あるいはモリブデン(以下、単にMoと記載する)からなる。
また、前記帯状メタライズ部16は、図2(B)に示すように、前記メタライズ層12の上面における第1曲面r1のうち、前記凹部13と前記基板本体2aの側面5側との間に形成されている形態であっても良い。
As shown in FIGS. 1 and 2A, a rectangular frame shape in plan view is formed almost right above the
The conductors such as the mounting
Further, as shown in FIG. 2B, the strip-shaped
更に、図1,図2(A),(B)に示すように、前記メタライズ層12の上面(第1曲面r1、凹部13、および第2曲面r2)の上方には、前記帯状メタライズ部16の実装領域9側に配設されたロウ付けによる接合部18と、前記基板本体2aの前記側面5側に配設されたロウ付けによる接合部19とを介して、垂直断面が長方形(矩形)状で且つ平面視が矩形枠状を呈する金属枠22が接合されている。該金属枠22は、例えば、42アロイあるいは194合金などからなる。かかる金属枠22、前記メタライズ層12、および上記ロウ付け部18に囲まれた基板本体2aの表面3上には、前記実装領域9を含むキャビティが形成されている。
尚、上記金属枠22の上面には、追って前記実装領域9に図示しない電子部品が実装された後、例えば、金属製の平板からなる蓋板30がシーム溶接などで接合される。その結果、上記電子部品を外部から確実に封止することができる。
Furthermore, as shown in FIGS. 1 and 2A and 2B, the strip-
After an electronic component (not shown) is mounted on the mounting
以上のようなセラミック基板1aによれば、前記メタライズ層12の上面において、前記基板本体2aの側面5側よりも実装領域9側に沿って前記凹部13が形成され、上記メタライズ層12の上面には、その各辺に沿って形成された帯状メタライズ部16を有すると共に、該帯状メタライズ部16は、上記メタライズ層12の上面において、側面視で一部が凹部13と重複しているか、あるいは、該凹部13と前記側面5側との間に形成されている。その結果、製造時において導電性ペーストからなる未焼成の帯状メタライズ部16は、上記凹部13によって該凹部13よりも上記実装領域9側にずれて形成されたり、垂れ落ちて形成されず、上記凹部13のほぼ真上か該凹部13よりも前記側面5側における所要の位置に、平面視が矩形状で且つ側面視で全周がほぼ同じレベルに形成されている。
According to the ceramic substrate 1a as described above, the
そのため、前記帯状メタライズ部16とその内周側と外周側の前記メタライズ層12の上方に前記接合部18,19を介して、前記金属枠22をその全周に沿って精度良く強固に接合できる。更に、該金属枠22に起因して、追って前記実装領域9に所要の電子部品を実装した後、上記金属枠22の上面に沿って金属製の蓋板30をシーム溶接により容易に溶接できるため、上記金属枠22に囲まれたキャビティ内を確実に封止することができる。
従って、前記セラミック基板1aによれば、前記効果(1)〜(4)を奏することが可能である。尚、前記基板本体2aは、複数のセラミック層を積層し、且つ該セラミック層同士間にメッキ用を含む内層配線層を有する形態としても良い。
Therefore, the
Therefore, according to the ceramic substrate 1a, the effects (1) to (4) can be exhibited. The
以下において、前記セラミック基板1aの製造方法を説明する。
予め、アルミナ粉末、バインダー樹脂、可塑剤、および溶剤などを適量ずつ配合して、セラミックスラリーを作成し、該セラミックスラリーをドクターブレード法によってシート状に成形することにより、図3(A)に示すように、追って前記基板本体2aごとのセラミック層c1となる複数の基板領域24を平面視で縦横に隣接して併有し、且つ対向する表面3および裏面4を有する多数個取り用のサイズであるセラミックグリーンシート(以下、単にグリーンシートと称する)g1を用意した。互いに隣接する上記基板領域24同士の境界、および外周側に位置する基板領域24と平面視でその外側に位置する耳部(図示せず)との境界は、仮想の切断予定面25により区分されている。
Hereinafter, a method of manufacturing the ceramic substrate 1a will be described.
Alumina powder, a binder resin, a plasticizer, a solvent, etc. are compounded beforehand to prepare a ceramic slurry, and the ceramic slurry is formed into a sheet by a doctor blade method, as shown in FIG. As described above, a plurality of
次いで、前記グリーンシートg1の前記基板領域24ごとにおける所定の位置に打ち抜き加工を行って、前記表面3と裏面4との間を貫通するビアホール(図示せず)を形成し、該ビアホール内ごとにW粉末あるいはMo粉末を含む導電性ペーストを充填した。その結果、図3(B)に示すように、上記所定の位置ごとに未焼成のビア導体21が形成された。
次に、前記基板領域24ごとの表面3および裏面4における所定の位置ごとに対し、前記同様の導電性ペーストを所要のパターンごとにスクリーン印刷した。
その結果、図3(B)に示すように、基板領域24ごとの表面3には、未焼成である一対の実装用パッド10が形成され、且つ上記基板領域24ごとの裏面4には、未焼成である複数の外部接続端子20が形成された。該外部接続端子20と上記実装用パッド10とは、上記ビア導体21を介して個別に接続されている。
Then, a punching process is performed at a predetermined position in each of the
Next, the same conductive paste as described above was screen-printed for each required pattern for each of predetermined positions on the
As a result, as shown in FIG. 3B, a pair of
更に、前記グリーンシートg1の表面3側で、且つ前記製品領域24同士の境界を区分する前記切断予定面25ごとに沿って、前記同様の導電性ペーストを所定の幅でスクリーン印刷した。その結果、図3(B),(C)に示すように、上記切断予定面25ごとに沿った上記表面3側に、垂直断面が上方に凸である円弧状の曲面(上面)rを有する弓形状で且つ未焼成のメタライズ層11が形成された。該メタライズ層11は、上記切断予定面25ごとに沿って、平面視で縦横に互いに直角に交差する格子形状に形成されていた。
尚、図3(C)は、図3(B)中の一点鎖線部分Cの拡大図であり、前記切断予定面25は、メタライズ層11の内部にも延びている。
次に、図3(C)の上方に示すように、垂直断面で下端(先端)側がV字形状(鋭い鋭角)であり、且つ平面視が格子枠形状を呈する押圧枠型26を、上記メタライズ層11ごとにおいて、互いに隣接する製品領域24ごとの前記実装用パッド10を含む前記実装領域9側ごとの位置に対して、下向きに押し込んだ。
Furthermore, the same conductive paste was screen-printed with a predetermined width on the
FIG. 3C is an enlarged view of a dashed-dotted line portion C in FIG. 3B, and the surface to be cut 25 extends also to the inside of the metallized
Next, as shown in the upper part of FIG. 3C, the above-mentioned metallizing is a
その結果、図3(D)に示すように、前記メタライズ層11ごとの上面において、隣接する一対の製品領域24ごとの前記実装領域9側ごとに沿って、断面がV字形状である左右一対の凹部13が形成された。
同時に、図示のように、前記切断予定面25と該凹部13との間に位置する上記メタライズ層11の上面は、上記切断予定面25から凹部13側に向かって徐々に低くなる上向きに凸の第1曲面r1となり、上記凹部13と前記実装領域9側との間に位置する上記メタライズ層11の上面は、平面視の幅が上記第1曲面r1よりも狭く、且つ凹部13から実装領域9側に向かって緩やかに低くなる上向きに凸の第2曲面r2となっていた。
As a result, as shown in FIG. 3D, on the upper surface of each of the metallized layers 11, the left and right pairs having a V-shaped cross section along each of the mounting
At the same time, as shown in the figure, the upper surface of the metallized
次いで、前記メタライズ層11の上面における左右一対の凹部13の長手方向(図示の前後方向)に沿って、前記同様の導電性ペーストをスクリーン印刷した。その結果、図3(E)に示すように、上記凹部13ごとのほぼ真上に沿って、垂直断面が半円形状の帯状メタライズ部16が、前記メタライズ層11の全周に沿って平面視で矩形枠状に形成された。尚、かかる帯状メタライズ部16は、前記導電性ペーストを図示しないディッピングなどを用いて形成しても良い。
尚、この間において、前記グリーンシートg1の周辺側に位置する図示しない耳部の外側辺には、複数のメッキ用電極が形成されている。該メッキ用電極は、例えば、前記裏面4に沿って形成された図示しないメッキ用の配線を介して、前記基板領域24ごとの外部接続端子20と個別に電気的に接続されている。
Next, the same conductive paste as described above was screen-printed along the longitudinal direction (front-rear direction in the drawing) of the pair of left and
In the meantime, a plurality of plating electrodes are formed on the outer side of the not-shown ear portion located on the peripheral side of the green sheet g1. The plating electrode is individually electrically connected to the
更に、前記実装用パッド10、前記凹部13を有するメタライズ層11、外部接続端子20、およびビア導体21が形成された前記グリーンシートg1を加熱して、脱脂および焼成を行った。その結果、該グリーンシートg1は、多数個取り用である大版のセラミック層c1に焼成されると共に、上記実装用パッド10やメタライズ層11などの導体も同時に焼成された。
次に、前記実装用パッド10やメタライズ層11などの焼成済みの導体を有する前記セラミック層c1を、図示しない電解ニッケルメッキ浴および電解金メッキ浴に順次浸漬して、電解ニッケルメッキと電解金メッキとを順次施した。その結果、上記実装用パッド10、メタライズ層11、帯状メタライズ部16、および外部接続端子20の外部に露出する表面ごとに、所要の厚みであるニッケル膜および金膜(何れも図示せず)が順次被覆された。
Further, the green sheet g1 on which the mounting
Next, the ceramic layer c1 having a fired conductor such as the mounting
更に、前記セラミック層c1およびメタライズ層11の前記切断予定面25ごとに沿って、高速回転する円形刃物(図示せず)を順次挿入するダイシング加工を行って、上記セラミック層c1を前記基板領域24ごとに分割した。
その結果、図4(A)に示すように、前記製品領域24は、対向する表面3および裏面4と、これらの四辺間に位置する側面5とを有する前記基板本体2aになった。同時に、前記メタライズ層11は、断面形状が該メタライズ層11の約半分であり、左右対称である一対のメタライズ層12になっていた。この際、前記切断予定面25は、隣接していた基板本体2aごとの側面5、および該側面5と面一状である前記メタライズ層12の外側面となっていた。
そして、図4(B)の左側で例示するように、前記メタライズ層12および帯状メタライズ部16の上方に、平面視が矩形枠状で且つ垂直断面が長方形状の金属枠22を用意し、且つこれを帯状メタライズ部16の上面に載置した。該金属枠22の底面の全体には、予め、ロウ材層17が接合されている。
尚、上記金属枠22は、例えば、42アロイからなり、上記ロウ材層17は、例えば、銀ロウ(Ag−15%Cuの合金)からなる。
Furthermore, dicing processing is performed by sequentially inserting a circular blade (not shown) rotating at a high speed along each of the ceramic layer c1 and the
As a result, as shown in FIG. 4A, the
Then, as illustrated on the left side of FIG. 4B, a
The
前記ロウ材層17を底面に有する金属枠22が、前記帯状メタライズ部16の上面に載置された状態で、前記メタライズ層12などを有する前記基板本体2aを加熱して、上記ロウ材層17の銀ロウを溶融した後、常温付近まで冷却した。
その結果、図4(B)の右側に例示するように、前記ロウ材層17は、前記メタライズ層12の第2曲面r2と金属枠22の底面との間に位置する接合部18となると共に、上記メタライズ層12の第1曲面r1と金属枠22の底面との間に位置する接合部19となって凝固した。そのため、上記金属枠22は、前記基板本体2aの表面3の周辺部およびメタライズ層12の上方において、その全周に沿ってほぼ同じレベルを保って強固にロウ付け(接合)されていた。
以上のような各工程を経た結果、複数の前記セラミック基板1aが得られた。
In a state where the
As a result, as illustrated on the right side of FIG. 4B, the
As a result of passing through the above steps, a plurality of the ceramic substrates 1a were obtained.
加えて、前記セラミック基板1aは、追って、その実装領域9内に位置する一対の前記実装用パッド10の上方に跨り、所要の電子部品(例えば、ICチップ)が実装されると共に、前記金属枠22の上面には、金属製の前記蓋板30がシーム溶接により接合される。
前記述したセラミック基板1aの製造方法によれば、前記効果(1)〜(4)を奏する複数のセラミック基板1aを確実に製造できる(効果(5))。
尚、前記グリーンシートg1を予め上下2層のグリーンシートにて用意し、両者の間にメッキ用配線を含む内層配線を形成した後、積層した形態としても良い。
また、前記帯状メタライズ部16は、前記図2(B)で示したように、前記メタライズ層12の上面における前記凹部13と前記基板本体2aの側面5側との間に位置する前記第1曲面r1の上における任意の位置に形成しても良い。
In addition, the ceramic substrate 1a straddles the upper side of the pair of mounting
According to the method of manufacturing the ceramic substrate 1a described above, the plurality of ceramic substrates 1a having the effects (1) to (4) can be reliably manufactured (effect (5)).
The green sheet g1 may be prepared in advance as a two-layered green sheet, and an inner layer wiring including a plating wiring may be formed between the two, and then laminated.
Further, as shown in FIG. 2B, the strip-shaped
図5(A)は、前記凹部13とは、異なる形態の凹部14を形成した前記メタライズ層12の付近を示す部分垂直断面図である。かかる凹部14は、図示のように、前記第2曲面r2側がほぼ水平な平面状であり、且つ第1曲面r1側が小さな曲面または傾斜面であって、全体として段部の断面形状を呈している。かかる段部形状の凹部14は、前記未焼成のメタライズ層11の上面(曲面r)に対し、下端(先端)に水平面を有する押圧枠型を押し込むことによって形成される。
図5(B)は、上記凹部14のほぼ真上に沿って前記帯状メタライズ層16を形成した前記同様の部分垂直断面図である。前記製造方法において、該帯状メタライズ部16を形成するための導電性ペーストを、図示のように凹部14のほぼ直上、あるいは該凹部14よりも外周側の前記第1曲面r1の上に、前記同様に形成しても、上記導電性ペーストは、上記凹部14によって前記第2曲面r2側にずれたり、垂れ落ちる事態を確実に阻止される。
従って、上記凹部14を含むメタライズ層12および帯状メタライズ部16を有する形態のセラミック基板1aであっても、前記効果(1)〜(4)が得られ、且つ前述した製造方法により確実に前記効果(5)を奏することが可能である。
FIG. 5A is a partial vertical cross-sectional view showing the vicinity of the metallized
FIG. 5B is a partial vertical cross-sectional view similar to the above, in which the strip-
Therefore, the effects (1) to (4) can be obtained even with the ceramic substrate 1a having the metallized
図6(A)は、前記とは異なる形態のセラミック基板1bを示す垂直断面図、図6(B)は、上記(A)中の一点鎖線部分Bの拡大図である。
上記セラミック基板1bは、図6(A),(B)に示すように、上下のセラミック層c1,c2を積層してなり、平面視の外形が長方形(矩形)状で且つ対向する表面3および裏面4と、該表面3と裏面4との間に位置する四辺の側面5とを有する全体が箱形状の基板本体2bと、該基板本体2bの表面3の中央側に開口するキャビティ6と、平面視が矩形枠状である上記表面3の全周に沿って前記同様に形成されたメタライズ層12および帯状メタライズ部16とを備えている。
上記基板本体2bは、平板形状である下層側のセラミック層c1の上面における周辺に沿って、矩形枠状のセラミック層c2を一体に積層した箱形状体である。
FIG. 6 (A) is a vertical sectional view showing a
The
The
また、前記キャビティ6は、表面3に開口する四辺の側面7と、該側面7の底辺に囲まれ且つ平面視が長方形状の底面8とからなる。該底面8は、実質的に前記実装領域9でもあり、且つかかる底面8には、一対(複数)の実装用パッドが形成されている。
更に、前記基板本体2bの表面3上には、前記同様のメタライズ層12、凹部13、該凹部13のほぼ直上に沿って形成された帯状メタライズ部16、およびこれらの上方に前記同様の接合部18,19を介して接合された金属枠22が形成されている。そのため、該金属枠22は、前記キャビティ6の開口部に沿って前記メタライズ層12の上方に殆んど同じレベルで強固に接合されている。
The
Furthermore, on the
そのため、図6(A)に示すように、一対の実装パッド10の上方に跨ってICチップなどの電子部品28を実装し、更に、上記金属枠22の上面に前記蓋板30をシーム溶接することで、上記電子部品28を外部から確実に封止できる。
従って、前記セラミック基板1bによっても、前記効果(1)〜(4)を奏することが可能である。
また、前記セラミック基板1bは、前述した製造方法に準じて確実に製造できる。そのため、該製造方法も、前記効果(5)を奏することが可能である。
尚、前記セラミック基板1bでも、前記図2(B)で示したように、帯状メタライズ部16を、前記メタライズ層12の上面における前記凹部13と前記基板本体2aの側面5側との間に位置する前記第1曲面r1の上に形成しても良い。
Therefore, as shown in FIG. 6A, an
Therefore, the effects (1) to (4) can be exhibited also by the
Further, the
Also in the
本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記基板本体を構成するセラミック層のセラミックは、ムライトや窒化アルミニウムなどの高温焼成セラミック、あるいは、ガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックとしても良い。後者の場合、前記メタライズ層12などの導体の素材には、銅あるいは銀が適用される。
また、前記キャビティは、前記基板本体2bの裏面4側にも、ほぼ上下対称にして更に形成されていても良い。
The present invention is not limited to the embodiments described above.
For example, the ceramic of the ceramic layer constituting the substrate body may be a high temperature fired ceramic such as mullite or aluminum nitride, or a low temperature fired ceramic such as glass-ceramic. In the latter case, copper or silver is applied to the material of the conductor such as the
Further, the cavity may be further formed on the back surface 4 side of the substrate
更に、前記帯状メタライズ部16は、前記メタライズ層11の凹部13,14のほぼ真上付近と、該メタライズ層11の上面における前記第1曲面r1の上との2箇所以上において、内外2重以上にして平行に形成しても良い。
また、前記接合部18,19は、隅肉溶接と同様な溝埋め溶接、レーザー溶接、あるいは工業用接着剤による接着によって形成することも可能である。
加えて、前記凹部13,14は、前記メタライズ層11の上面に、内外方向における2箇所以上に対し、互いに平行にして形成した形態としても良い。
Furthermore, the strip-shaped
The
In addition, the
本発明によれば、セラミックからなる基板本体の平坦な表面の周辺またはキャビティが開口する矩形枠状の表面に沿って、幅広のメタライズ層と、該メタライズ層の上面における上記キャビティ側ないし実装領域側に沿って帯状メタライズ部とが所要の位置に精度良く形成され、これらの上方に金属枠が強固に接合されたセラミック基板、およびその製造方法を確実に提供できる。 According to the present invention, a wide metallized layer and the above-mentioned cavity side or mounting area side on the upper surface of the metallized layer are formed along the rectangular frame-like surface around the flat surface or the cavity where the flat surface of the substrate body made of ceramic is opened. Thus, it is possible to reliably provide a ceramic substrate in which strip-like metallized portions are precisely formed at required positions, and a metal frame is firmly bonded to the upper side of these, and a manufacturing method thereof.
1a,1b…セラミック基板
2a,2b…基板本体
3……………表面
4……………裏面
5……………側面
8……………キャビティの底面(実装領域)
9……………実装領域
11,12…メタライズ層
13,14…凹部
16…………帯状メタライズ部
18,19…ロウ付け部
22…………金属枠
24…………基板領域
25…………切断予定面
c1,c2…セラミック層
1a, 1b ...
9 ........ Mounting
Claims (5)
平面視で少なくとも上記基板本体の表面の中央側に位置する電子部品の実装領域と、
平面視で上記実装領域の外側に位置する上記基板本体の表面の外周部に沿って形成された平面視が矩形枠状のメタライズ層と、を備えたセラミック基板であって、
上記メタライズ層の上面において、上記側面側よりも上記実装領域側に沿って凹部が形成されており、
上記メタライズ層の上面には、該メタライズ層の各辺に沿って形成された帯状メタライズ部を有し、
上記帯状メタライズ部は、上記メタライズ層の上面において、側面視で少なくとも一部が上記凹部と重複しているか、あるいは、該凹部と上記基板本体の側面との間に形成されている、
ことを特徴とするセラミック基板。 A substrate body made of ceramic, having a rectangular outer shape in plan view and having opposed front and back surfaces, and a side surface located between the front and back surfaces;
A mounting area of the electronic component at least the center of the surface of the substrate body in a plan view;
A ceramic substrate comprising: a metallized layer having a rectangular frame shape in a plan view formed along the outer peripheral portion of the surface of the substrate main body located outside the mounting region in a plan view;
In the upper surface of the metallized layer, a recess is formed along the mounting region side more than the side surface side,
The upper surface of the metallized layer has a strip-shaped metallized portion formed along each side of the metallized layer,
In the upper surface of the metallized layer, the strip-like metallized portion at least partially overlaps the concave portion in a side view, or is formed between the concave portion and the side surface of the substrate main body.
A ceramic substrate characterized by
ことを特徴とする請求項1に記載のセラミック基板。 The upper surface of the metallized layer is positioned between the upwardly convex first curved surface whose height gradually decreases from the side surface side of the substrate main body toward the concave portion, the concave portion and the mounting area, and is flat Consisting of an upwardly convex second curved surface whose width of view is narrower than the first curved surface,
The ceramic substrate according to claim 1, characterized in that:
ことを特徴とする請求項1または2に記載のセラミック基板。 A metal frame having a rectangular frame shape in plan view is joined to the upper side of the upper surface of the metallized layer through the joint portion disposed on the mounting region side of the strip-like metallized portion and the side surface side of the substrate main body Yes,
The ceramic substrate according to claim 1 or 2, characterized in that
追って前記基板本体となる複数の基板領域を平面視で縦横に隣接して併有するセラミックグリーンシートにおいて、隣接する2つの基板領域を区分する切断予定面に跨り、該2つの基板領域ごとの表面における電子部品の実装領域の外周側で、且つ上記切断予定面に沿って、平面視が矩形枠状で且つ上向きに凸である未焼成のメタライズ層を形成する工程と、
平面視で上記未焼成のメタライズ層の上面において、上記基板領域ごとの上記切断予定面側よりも実装領域側に沿って、凹部を形成する工程と、
上記メタライズ層の上面において、側面視で少なくとも一部が上記凹部と重複する位置ごと、あるいは、該凹部と上記切断予定面との間ごとの位置に、未焼成の帯状メタライズ部を形成する工程と、を含む、
ことを特徴とするセラミック基板の製造方法。 A method of manufacturing a ceramic substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein
In a ceramic green sheet having a plurality of substrate regions to be the substrate main body adjacent to each other vertically and horizontally in plan view, the surface to be cut across the two adjacent substrate regions is divided on the surface of each of the two substrate regions. Forming an unbaked metallized layer having a rectangular frame shape in plan view and convex upward on the outer peripheral side of the mounting region of the electronic component and along the planned cutting surface;
Forming a recess on the upper surface of the unbaked metallized layer in plan view and along the mounting area side of the planned cutting surface side of each substrate area;
Forming a non-fired strip-like metallized portion at an upper surface of the metallized layer at each position where at least a portion overlaps with the concave portion in a side view, or at every position between the concave portion and the surface to be cut; ,including,
A method of manufacturing a ceramic substrate characterized by
ことを特徴とする請求項4に記載のセラミック基板の製造方法。 The step of forming the concave portion is performed by pressing a pressing frame mold along the mounting area side with respect to the planned cutting surface side for each substrate area on the upper surface of the metallized layer.
A method of manufacturing a ceramic substrate according to claim 4, wherein the method comprises:
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