JP2018181523A - Manufacturing method of organic el display panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an organic EL display panel capable of reducing quality deterioration accompanying repair by reducing occurrence of bleeding and overflow of paste and suppressing collapse of the shape of a repair spot.SOLUTION: A manufacturing method of an organic EL display panel includes a step of forming a plurality of banks 14 arranged in parallel and extending in one direction on a substrate 11, a step of detecting defects 3 in the formed banks 14, and a step of repairing the detected defects by installing a solid repair part 5 on the substrate 11.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本開示は、有機材料の電界発光現象を利用した有機EL(Electro Luminescence)素子が行列状に配された有機EL表示パネルの製造方法に関し、特にバンクを形成する工程に関する。   The present disclosure relates to a method of manufacturing an organic EL display panel in which organic EL (Electro Luminescence) elements utilizing an electroluminescence phenomenon of an organic material are arranged in a matrix, and in particular to a process of forming a bank.

近年、発光型の表示装置として、有機EL表示パネルが実用化されている。有機EL表示パネルにおいて、各有機EL素子は、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む発光層が配設された基本構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発生する電流駆動型の発光素子である。   In recent years, organic EL display panels have been put to practical use as light emitting display devices. In the organic EL display panel, each organic EL element has a basic structure in which a light emitting layer containing an organic light emitting material is disposed between a pair of electrodes of an anode and a cathode, and when driven, between the pair of electrodes It is a current-driven light emitting element generated as a result of recombination of holes injected from the anode to the light emitting layer and electrons injected from the cathode to the light emitting layer when a voltage is applied.

有機EL表示パネルの製造において、基板上をバンクで区画し、各区画に発光層が形成される。バンクは、感光性の熱硬化性樹脂を用いてフォトリソグラフィー法でバンク形状にパターニングして、加熱焼成することによって形成される。
発光層の形成には、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を含む発光層形成用のインクを、インクジェット法等で凹空間に塗布するウェット方式が多く用いられている。このウェット方式によれば、大型のパネルにおいても発光層をはじめとする有機機能層を比較的容易に形成することができる。
In the manufacture of the organic EL display panel, the substrate is partitioned by banks, and a light emitting layer is formed in each partition. The bank is formed by patterning in a bank shape by a photolithographic method using a photosensitive thermosetting resin, and heating and baking.
In order to form a light emitting layer, a wet method is often used in which an ink for forming a light emitting layer containing a polymer material or a low-molecular-weight thin film-forming property is applied to a concave space by an inkjet method or the like. According to this wet method, the organic functional layer including the light emitting layer can be relatively easily formed even in a large panel.

特開2016−71992号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-71992

上記のような有機EL表示パネルの製造過程においてバンクに部分的な決壊が生じていたり、異物が付着するといった欠陥が発生すると、その後の工程で発光層を形成する際に、その欠陥部が存在するバンクを挟んで塗布される異なる色のインク同士が混合されて混色が生じることがある。この混色は、特に列方向に延伸するバンクを設ける構成において、バンクに沿って複数画素に拡大し、重大な表示不良を引き起こす可能性がある。   If a defect such as partial breakage occurs in the bank or foreign matter adheres in the manufacturing process of the organic EL display panel as described above, the defective portion is present when forming the light emitting layer in the subsequent steps In some cases, different colors of ink applied to one another across a bank may be mixed to cause color mixing. This color mixing may extend to a plurality of pixels along the banks, particularly in the configuration where the banks extend in the column direction, and may cause a serious display failure.

そこで、例えば、特許文献1には、バンクに存在する欠陥部の周囲を囲むように熱硬化性のペースト状の補修材を塗布し、加熱焼成することによって堰を形成し、混色の拡大を抑制する技術が開示されている。
しかしながら、ペースト状の補修材を塗布すると、にじみやあふれが発生し、不要な場所に補修材が付着する可能性がある。また、ペーストの特性によっては堰を所望の形状に形成することが困難であり、堰の形状が崩れる可能性がある。その結果、有機EL素子の品質に悪影響を与える可能性がある。
Therefore, for example, in Patent Document 1, a thermosetting paste-like repair material is applied so as to surround the periphery of the defect portion present in the bank, and heat curing is performed to form wrinkles, thereby suppressing the expansion of color mixture. Technology is disclosed.
However, when the paste-like repair material is applied, bleeding and overflow occur, and the repair material may adhere to unnecessary places. In addition, depending on the characteristics of the paste, it is difficult to form the crucible into a desired shape, and the shape of the crucible may be broken. As a result, the quality of the organic EL element may be adversely affected.

本開示は、上記課題に鑑み、有機EL表示パネルの製造過程のバンクの補修において、ペーストのにじみやあふれの発生を減少させ、補修箇所の形状の崩れを抑えることにより、補修に伴う品質劣化を低減すること可能な有機EL表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems, the present disclosure reduces the occurrence of paste bleeding and overflow in the repair of banks in the manufacturing process of the organic EL display panel, and suppresses the collapse of the shape of the repair portion, thereby deteriorating the quality associated with the repair. It aims at providing the manufacturing method of the organic EL display panel which can be reduced.

本開示の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法は、基板上に一方向に延伸する互いに並列に配された複数のバンクを形成する工程と、形成されたバンクにおける欠陥部を検出する工程と、基板上に固体状のリペアパーツを設置することにより、検出された欠陥部に対する補修を行う工程と、を含むことを特徴とする。   In a method of manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present disclosure, a step of forming a plurality of banks arranged in parallel to one another extending in one direction on a substrate, and detecting a defective portion in the formed bank And a step of repairing the detected defect by installing a solid repair part on the substrate.

本開示の有機EL表示パネルの製造方法によれば、ペースト状の補修材を用いずに補修を行うことができ、ペーストのにじみやあふれの発生を減少させることができる。また、既に形状が整っているリペアパーツを用いて補修を行うので、ペーストの特性に依存せずに、補修箇所の形状を崩れさせることなく補修することが可能である。   According to the method of manufacturing an organic EL display panel of the present disclosure, repair can be performed without using a paste-like repair material, and the occurrence of paste bleeding and overflow can be reduced. In addition, since the repair is performed using the repair parts which are already in shape, it is possible to repair without breaking the shape of the repair portion without depending on the characteristics of the paste.

有機EL表示装置の構成を示す模式ブロック図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of an organic electroluminescence display. 表示パネルの表示面側から見た概略構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the schematic structure seen from the display surface side of a display panel. 表示パネルをA−A’線で切断した一部拡大断面図である。It is the partially expanded sectional view which cut | disconnected the display panel by the A-A 'line | wire. 表示パネルの製造過程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of a display panel. バンクの欠陥部を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the defective part of a bank. バンクの欠陥部を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the defective part of a bank. バンクの欠陥部において混色が発生していることを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically that color mixing has generate | occur | produced in the defective part of a bank. バンクの補修により形成された堰を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the weir formed by repair of the bank. バンクの補修処理の一例を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows an example of repair processing of a bank. バンクの補修に用いるディスペンサ装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the dispenser apparatus used for repair of a bank. 欠陥部の周辺に設定された塗布位置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the application position set around the defect part. 接着剤ペーストを塗布する様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a mode that an adhesive paste is apply | coated. バンクの補修に用いるマニピュレータ装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the manipulator apparatus used for repair of a bank. リペアパーツを設置する様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a mode that repair parts are installed. 堰の形成により混色領域の範囲が制限されることを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically that the range of a color mixing area | region is limited by formation of a haze. 補修により再構成されたバンクを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the bank reconfigure | reconstructed by repair. バンクの補修処理の一例を示すフローチャートである。It is a flow chart which shows an example of repair processing of a bank. 欠陥部の周辺に設定された切込位置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cut-in position set around the defect part. バンクの一部を除去する様子を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a mode that a part of bank is removed. バンクの再構成により混色領域の発生が抑制されることを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically that generation | occurrence | production of a color mixing area | region is suppressed by the reconfiguration | reconstruction of a bank. リペアパーツの形状を模式的に示す図である。It is a figure which shows the shape of repair parts typically.

≪実施形態の概要≫
本開示の態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法は、基板上に一方向に延伸する互いに並列に配された複数のバンクを形成する工程と、形成されたバンクにおける欠陥部を検出する工程と、基板上に固体状のリペアパーツを設置することにより、検出された欠陥部に対する補修を行う工程と、を含むことを特徴とする。
<< Summary of Embodiment >>
In a method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1 of the present disclosure, a step of forming a plurality of banks arranged in parallel with each other and extending in one direction on a substrate, and detecting a defective portion in the formed bank And a step of repairing the detected defect by installing a solid repair part on the substrate.

本開示の態様2に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、欠陥部に対する補修は、複数のバンクによって形成される複数の凹空間のうちの欠陥部の存在するバンクの両側の凹空間における欠陥部の近傍にリペアパーツを設置することにより、欠陥部を取り囲む堰を形成する工程を含むことを特徴とする。   In the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 2 of the present disclosure, in the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1, the repair of the defective portion is a defect among the plurality of concave spaces formed by the plurality of banks. It is characterized by including the process of forming the weir which surrounds a defective part by installing a repair part near the defective part in the concave space of the both sides of the bank in which a part exists.

本開示の態様3に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、欠陥部に対する補修は、欠陥部の存在するバンクの欠陥部を含む一部分を除去する工程と、欠陥部の存在するバンクの除去された箇所にリペアパーツを設置する工程と、を含むことを特徴とする。
本開示の態様4に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、欠陥部に対する補修は、感光性材料を含むペーストを塗布する工程と、塗布されたペーストの上にリペアパーツを設置する工程と、紫外線を照射してペーストを硬化させる工程と、を含むことを特徴とする。
In the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 3 of the present disclosure, in the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1, the repair for the defective portion removes a portion including the defective portion of the bank in which the defective portion exists. It is characterized by including a process, and a process of installing repair parts in a removed part of a bank where a defect exists.
In the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 4 of the present disclosure, in the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1, the defective portion is repaired by applying a paste containing a photosensitive material; It is characterized by including the steps of: installing a repair part on the paste; and curing the paste by irradiating ultraviolet light.

本開示の態様5に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、更に、バンクを形成する工程の前に、基板外にリペアパーツを作成する工程を含むことを特徴とする。
本開示の態様6に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、更に、バンクと同じ材料を用いてフォトリソグラフィー法で基板上にリペアパーツを形成する工程を含むことを特徴とする。
In the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 5 of the present disclosure, in the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1, further, before the step of forming a bank, the step of forming repair parts outside the substrate It is characterized by including.
In the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 6 of the present disclosure, in the method of manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1, a repair part is further formed on the substrate by photolithography using the same material as the bank. It is characterized by including a process.

≪実施の形態≫
[1.有機EL表示パネルの構成]
図1は、実施形態1に係る表示パネル100を有する有機EL表示装置1の構成を示す模式ブロック図である。
図1に示すように、有機EL表示装置1は、表示パネル100と、これに接続された駆動制御部101とを有している。表示パネル100は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機EL素子10が基板上にマトリクス状に配列されている。駆動制御部101は、4つの駆動回路102〜105と制御回路106とから構成されている。
<< Embodiment >>
[1. Configuration of Organic EL Display Panel]
FIG. 1 is a schematic block diagram showing the configuration of the organic EL display device 1 having the display panel 100 according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes a display panel 100 and a drive control unit 101 connected thereto. The display panel 100 is a panel utilizing an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements 10 are arranged in a matrix on a substrate. The drive control unit 101 includes four drive circuits 102 to 105 and a control circuit 106.

なお、表示パネル100に対する駆動制御部101の配置などは、これに限られない。
図2は、表示パネル100の表示面側から見た概略構成を模式的に示す平面図である。図3は、表示パネル100を図2のA−A’線で切断した一部拡大断面図である。表
示パネル100は、いわゆるトップエミッション型であって、Z方向側が表示面となっている。
The arrangement of the drive control unit 101 with respect to the display panel 100 is not limited to this.
FIG. 2 is a plan view schematically showing a schematic configuration as viewed from the display surface side of the display panel 100. As shown in FIG. FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the display panel 100 taken along line AA ′ of FIG. The display panel 100 is a so-called top emission type, and the Z direction side is a display surface.

図3に示すように、表示パネル100は、その主な構成として、下地基板11、画素電極12、バンク14、有機発光層15、共通電極17を備える。そして、赤(R),緑(G),青(B)の何れかの発光色に対応する有機発光層15を有する有機EL素子10をサブピクセルとし、図2に示すように、サブピクセルがマトリクス状に配設されている。
なお、図2においては、共通電極17を取り除いた状態を示している。
[2.有機EL表示パネルの構成材料]
(1)下地基板
下地基板11は、基板本体部、TFT(薄膜トランジスタ)層、層間絶縁層を有する。
As shown in FIG. 3, the display panel 100 includes a base substrate 11, a pixel electrode 12, a bank 14, an organic light emitting layer 15, and a common electrode 17 as main components thereof. Then, assuming that the organic EL element 10 having the organic light emitting layer 15 corresponding to any of the red (R), green (G) and blue (B) light emission colors is a sub pixel, as shown in FIG. It is arranged in a matrix.
Note that FIG. 2 shows a state in which the common electrode 17 is removed.
[2. Material of Organic EL Display Panel]
(1) Base Substrate The base substrate 11 has a substrate main body, a TFT (thin film transistor) layer, and an interlayer insulating layer.

基板本体部は、表示パネル100の基材となる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル樹脂、アルミナ等の絶縁性材料のいずれかで形成することができる。
TFT層は、基板本体部の表面にサブピクセル毎に設けられており、各々には薄膜トランジスタ素子を含む画素回路が形成されている。
The substrate main body portion is a portion to be a base material of the display panel 100, and can be formed of any of insulating materials such as non-alkali glass, soda glass, polycarbonate resin, polyester resin, and alumina.
The TFT layer is provided for each sub-pixel on the surface of the substrate main body, and a pixel circuit including a thin film transistor element is formed in each of the sub-pixels.

層間絶縁層は、TFT層上に形成されている。層間絶縁層は、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の有機絶縁材料、SiO(酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)等の無機絶縁材料からなり、TFT層と画素電極12との間の電気的絶縁性を確保すると共に、TFT層の上面に段差が存在してもそれを平坦化して、画素電極12を形成する下地面への影響を抑える機能を持つ。   The interlayer insulating layer is formed on the TFT layer. The interlayer insulating layer is made of an organic insulating material such as polyimide resin, acrylic resin, novolac type phenol resin, or an inorganic insulating material such as SiO (silicon oxide) or SiN (silicon nitride). In addition to ensuring electrical insulation between them, it has the function of suppressing the influence on the underlying surface on which the pixel electrode 12 is formed, by planarizing the step even if there is a step on the upper surface of the TFT layer.

(2)画素電極
画素電極12は、サブピクセル毎に個別に設けられた画素電極であり、例えば、Ag(銀)、Al(アルミニウム)、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)等の光反射性導電材料からなる。本実施形態において、画素電極12は、陽極である。
(2) Pixel electrode The pixel electrode 12 is a pixel electrode provided individually for each sub-pixel, and, for example, Ag (silver), Al (aluminum), aluminum alloy, Mo (molybdenum), APC (silver, palladium, It consists of light-reflective electrically-conductive materials, such as an alloy of copper. In the present embodiment, the pixel electrode 12 is an anode.

(3)バンク
下地基板及び画素電極の上面には、Y方向に伸長する平面視にて短冊状のバンク14が複数本並列に設けられている。このバンク14は、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。
バンク材料としては、熱を加えることによって硬化する熱硬化型の樹脂からなる組成物を用いる。そして、この組成物には、UV光を照射することによって重合を開始させる光重合開始剤などが含まれる。
(3) Bank On the upper surface of the base substrate and the pixel electrode, a plurality of strip-like banks 14 are provided in parallel in a plan view extending in the Y direction. The bank 14 is made of an insulating organic material (for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac phenolic resin, etc.).
As the bank material, a composition comprising a thermosetting resin which is cured by the application of heat is used. Then, the composition contains a photopolymerization initiator and the like which causes the polymerization to be initiated by irradiation with UV light.

樹脂の種類としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。
また、この樹脂構造の中に、フッ素を含むフッ化ポリマーを導入してもよい。フッ化ポリマーとしては、フッ素化ポリオレフィン系樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアクリル樹脂などのフッ素樹脂を含む感光性レジストが挙げられる。
As a kind of resin, the thermosetting resin which has ethylenic double bond, such as a (meth) acroyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, is mentioned, for example. Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to these resin, for example, an epoxy compound and a polyisocyanate compound.
In addition, a fluorine-containing fluorinated polymer may be introduced into this resin structure. Examples of fluorinated polymers include photosensitive resists containing a fluorine resin such as a fluorinated polyolefin resin, a fluorinated polyimide resin, and a fluorinated polyacrylic resin.

フッ化ポリマーを導入した樹脂の具体例としては、フルオロエチレンとビニルエーテルとの共重合体であるルミフロン(LUMIFLON、登録商標、旭硝子)が挙げられる。
あるいは、樹脂に撥インク剤を添加してもよい。
各バンク14の断面は、図3に示されるように台形であって、バンク14同士の間には、バンク14によって区画された溝空間が形成され、そこに有機発光層15が形成されている。
As a specific example of the resin which introduce | transduced the fluorinated polymer, Lumiflon (LUMIFLON (trademark), Asahi Glass) which is a copolymer of fluoroethylene and vinyl ether is mentioned.
Alternatively, an ink repellent may be added to the resin.
The cross section of each bank 14 is trapezoidal as shown in FIG. 3, and a groove space partitioned by the banks 14 is formed between the banks 14 and the organic light emitting layer 15 is formed there. .

このバンク14は、有機発光層15をウェット法で形成するときに、塗布されたインクがあふれ出ないようにする構造物として機能する。
(4)有機発光層
有機発光層15は、キャリア(正孔と電子)が再結合して発光する部位であって、R,G,Bのいずれかの色に対応する有機材料を含む。
The bank 14 functions as a structure that prevents the applied ink from overflowing when the organic light emitting layer 15 is formed by a wet method.
(4) Organic light emitting layer The organic light emitting layer 15 is a site where carriers (holes and electrons) recombine to emit light, and includes an organic material corresponding to any color of R, G, and B.

この有機発光層15は、上記のバンク14によって区画されたY方向に伸長する溝状の凹空間(図6の溝空間20)に形成されている。
そして、互いに色の異なる有機発光層15は、バンク14を挟んで配置されている。
有機発光層15の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)、ポリフルオレン、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
The organic light emitting layer 15 is formed in a groove-shaped concave space (the groove space 20 in FIG. 6) which extends in the Y direction and is partitioned by the bank 14 described above.
The organic light emitting layers 15 having different colors are disposed with the bank 14 interposed therebetween.
As a material of the organic light emitting layer 15, for example, polyparaphenylene vinylene (PPV), polyfluorene, oxinoid compound, perylene compound, coumarin compound, azacoumarin compound, oxazole compound, oxadiazole compound, perinone compound, pyrrolopyrrole compound, naphthalene Compound, anthracene compound, fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone Compounds, styryl compounds, butadiene compounds, dicyanomethylenepyran compounds, dicyanomethylenethiopyran compounds , Fluorescein compounds, pyrilium compounds, thiapyrilium compounds, selenapyrilium compounds, telluropyrilium compounds, aromatic aldadiene compounds, oligophenylene compounds, thioxanthene compounds, cyanine compounds, acridine compounds, metal complexes of 8-hydroxyquinoline compounds, 2-bipyridine compounds Metal complexes of Schiff salts, complexes of Schiff salts and Group III metals, fluorescent materials such as oxine metal complexes, and rare earth complexes.

(5)共通電極
共通電極17は、例えば、ITO、IZO等の導電性を有する光透過性材料で形成され全てのサブピクセルに亘って設けられている。
本実施形態において、共通電極17は陰極である。
(6)リペアパーツ
なお、バンク14に欠陥部が検出されると、リペアパーツ5を用いて検出された欠陥部に対する補修を行う。
(5) Common electrode The common electrode 17 is formed of a light transmitting material having conductivity, such as ITO or IZO, for example, and provided over all the sub-pixels.
In the present embodiment, the common electrode 17 is a cathode.
(6) Repair Parts If a defective part is detected in the bank 14, repair is performed on the detected defective part using the repair part 5.

リペアパーツ5は、塗布されたインクがあふれ出ないようにする構造物として機能し、予め補修に適する形状に形成された固体状の構造物であり、撥水性を有する。本実施の形態において、リペアパーツ5の形状は、上面から見ると矩形をしており、短辺がバンク14のX方向の幅と同程度であり、長辺がバンク14によって区画される溝空間20のX方向の幅と同程度であり、高さがバンク14と同程度であり、断面がバンクと同様に台形である。   The repair part 5 functions as a structure that prevents the applied ink from overflowing, is a solid structure previously formed in a shape suitable for repair, and has water repellency. In the present embodiment, the shape of repair part 5 is rectangular when viewed from the top, and the short side is approximately the same as the width of bank 14 in the X direction, and the long side is a groove space partitioned by bank 14. The width is about the same as the width of the X direction 20, the height is the same as the bank 14, and the cross section is trapezoidal like the bank.

リペアパーツ5は、例えば、熱硬化性の感光性樹脂を、下地基板11とは異なるリペアパーツ作成用の基板上に、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングし、加熱焼成することにより作成される。
このリペアパーツ5は、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。リペアパーツ5の構成材料としては、熱を加えることによって硬化する熱硬化型の樹脂からなる組成物を用いる。そして、この組成物には、UV光を照射することによって重合を開始させる光重合開始剤などが含まれる。樹脂の種類としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。また、この樹脂構造の中に、フッ素を含むフッ化ポリマーを導入してもよい。フッ化ポリマーとしては、フッ素化ポリオレフィン系樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアクリル樹脂などのフッ素樹脂を含む感光性レジストが挙げられる。フッ化ポリマーを導入した樹脂の具体例としては、フルオロエチレンとビニルエーテルとの共重合体であるルミフロン(LUMIFLON、登録商標、旭硝子)が挙げられる。あるいは、樹脂に撥インク剤を添加してもよい。
The repair part 5 is formed, for example, by patterning a thermosetting photosensitive resin on a substrate for repair parts different from the base substrate 11 using a photolithography method, and heating and baking.
The repair part 5 is made of an insulating organic material (for example, acrylic resin, polyimide resin, novolac phenol resin, etc.). As a constituent material of the repair part 5, a composition made of a thermosetting resin that is cured by applying heat is used. Then, the composition contains a photopolymerization initiator and the like which causes the polymerization to be initiated by irradiation with UV light. As a kind of resin, the thermosetting resin which has ethylenic double bond, such as a (meth) acroyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, is mentioned, for example. Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to these resin, for example, an epoxy compound and a polyisocyanate compound. In addition, a fluorine-containing fluorinated polymer may be introduced into this resin structure. Examples of fluorinated polymers include photosensitive resists containing a fluorine resin such as a fluorinated polyolefin resin, a fluorinated polyimide resin, and a fluorinated polyacrylic resin. As a specific example of the resin which introduce | transduced the fluorinated polymer, Lumiflon (LUMIFLON (trademark), Asahi Glass) which is a copolymer of fluoroethylene and vinyl ether is mentioned. Alternatively, an ink repellent may be added to the resin.

リペアパーツ5は、バンク材料と同じ材料を用いて作成されていてもよく、また、異なる材料を用いて作成されていてもよい。
(7)接着剤ペースト
リペアパーツ5は、感光性の接着剤ペースト6により下地基板11上に固定される。
この接着剤ペースト6は、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。接着剤ペースト6の構成材料としては、熱を加えることによって硬化する熱硬化型の樹脂からなる組成物を用いる。そして、この組成物には、UV光を照射することによって重合を開始させる光重合開始剤などが含まれる。樹脂の種類としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。また、この樹脂構造の中に、フッ素を含むフッ化ポリマーを導入してもよい。フッ化ポリマーとしては、フッ素化ポリオレフィン系樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアクリル樹脂などのフッ素樹脂を含む感光性レジストが挙げられる。フッ化ポリマーを導入した樹脂の具体例としては、フルオロエチレンとビニルエーテルとの共重合体であるルミフロン(LUMIFLON、登録商標、旭硝子)が挙げられる。あるいは、樹脂に撥インク剤を添加してもよい。
[3.有機EL表示パネルの製造方法]
図4は、表示パネル100の製造過程を示すフローチャートである。
The repair part 5 may be made of the same material as the bank material, or may be made of a different material.
(7) Adhesive Paste The repair part 5 is fixed on the base substrate 11 by the photosensitive adhesive paste 6.
The adhesive paste 6 is made of an insulating organic material (for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac phenolic resin, etc.). As a constituent material of the adhesive paste 6, a composition made of a thermosetting resin that is cured by the application of heat is used. Then, the composition contains a photopolymerization initiator and the like which causes the polymerization to be initiated by irradiation with UV light. As a kind of resin, the thermosetting resin which has ethylenic double bond, such as a (meth) acroyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, is mentioned, for example. Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to these resin, for example, an epoxy compound and a polyisocyanate compound. In addition, a fluorine-containing fluorinated polymer may be introduced into this resin structure. Examples of fluorinated polymers include photosensitive resists containing a fluorine resin such as a fluorinated polyolefin resin, a fluorinated polyimide resin, and a fluorinated polyacrylic resin. As a specific example of the resin which introduce | transduced the fluorinated polymer, Lumiflon (LUMIFLON (trademark), Asahi Glass) which is a copolymer of fluoroethylene and vinyl ether is mentioned. Alternatively, an ink repellent may be added to the resin.
[3. Manufacturing method of organic EL display panel]
FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing process of the display panel 100.

表示パネル100の製造方法について、図4のフローチャートに基づいて説明する。
まず、下地基板11を準備する。下地基板11は、公知のTFTの製造方法により製造することができる。
次に、下地基板11上に、真空蒸着法またはスパッタ法によって、金属材料からなる画素電極12を、サブピクセル毎に形成する(ステップS1)。
The manufacturing method of the display panel 100 is demonstrated based on the flowchart of FIG.
First, the base substrate 11 is prepared. The base substrate 11 can be manufactured by a known TFT manufacturing method.
Next, the pixel electrode 12 made of a metal material is formed on the base substrate 11 for each sub-pixel by vacuum evaporation or sputtering (step S1).

次に、バンク14を形成する(ステップS2)。
まず、バンク材料として、ネガ型感光性樹脂組成物を用意し、このバンク材料を、下地基板11及び画素電極12の上面に一様に塗布する。そして、塗布したバンク材料の層をフォトリソグラフィー法でバンク形状にパターニング形成する。すなわち、そのバンク材料層上に、形成しようとするバンク14のパターンに合わせた開口を有するマスクを重ねて、マスクの上から露光する。その後、余分なバンク材料をアルカリ現像液で洗い出すことによって、バンク材料をパターニングして、バンクパターンを形成する。現像処理により、下地基板11上に、バンク成形体(未焼成のバンク)がパターン形成される。そして、隣接するバンク成形体同士の間には、溝空間20が形成されている。
Next, the bank 14 is formed (step S2).
First, a negative photosensitive resin composition is prepared as a bank material, and this bank material is uniformly coated on the upper surface of the base substrate 11 and the pixel electrode 12. Then, the layer of the applied bank material is patterned and formed into a bank shape by photolithography. That is, a mask having an opening matched to the pattern of the bank 14 to be formed is superimposed on the bank material layer, and exposure is performed from above the mask. The bank material is then patterned to form a bank pattern by washing out excess bank material with an alkaline developer. By the development processing, a bank molded body (an unbaked bank) is pattern-formed on the base substrate 11. A groove space 20 is formed between adjacent bank moldings.

次に、形成したバンク成形体を加熱して焼成する。焼成時の加熱方法としては、例えば、熱風乾燥炉において、下地基板11上に形成されたバンク成形体に熱風を当てて加熱する。その他、赤外線ランプで熱線を照射する方法、ホットプレートで加熱する方法で行うこともできる。焼成によってバンク14が形成される。このように形成されたバンク14に対して、さらに、次の工程で塗布するインクに対するバンク14の表面の接触角を調節する処理をしてもよい。あるいは、バンク14の表面に撥液性を付与するために、所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理したり、プラズマ処理を施してもよい。   Next, the formed bank compact is heated and fired. As a heating method at the time of firing, for example, in a hot air drying furnace, the bank molded body formed on the base substrate 11 is heated by applying hot air. In addition, the method of irradiating a heat ray with an infrared ray lamp and the method of heating with a hot plate can also be performed. The bank 14 is formed by firing. The bank 14 thus formed may be further processed to adjust the contact angle of the surface of the bank 14 with the ink applied in the next step. Alternatively, in order to impart liquid repellency to the surface of the bank 14, the surface may be treated with a predetermined alkaline solution, water, an organic solvent or the like, or may be subjected to plasma treatment.

次に、各バンク14における欠陥部3の有無を調べて(ステップS3)、欠陥部3があればその欠陥部3に対する補修を行う(ステップS4)。
本実施の形態では、検出した欠陥部3の近傍において、バンク14の同士の間の溝空間20にリペアパーツを設置することにより、欠陥部3を取り囲む堰を形成することが、欠陥部3に対する補修である。欠陥部3に対する補修について、詳細は後述する。
Next, the presence or absence of the defective portion 3 in each bank 14 is checked (step S3), and if there is the defective portion 3, the defective portion 3 is repaired (step S4).
In the present embodiment, it is possible to form a weir surrounding defect portion 3 by installing a repair part in groove space 20 between banks 14 in the vicinity of detected defect portion 3 with respect to defect portion 3. It is repair. The details of the repair for the defective portion 3 will be described later.

続いて、バンク14同士の間の溝空間20に、発光層形成用のインクを塗布する。このインクは、有機発光層15を構成する有機材料と溶媒を混合したものであって、各溝空間20内にインクジェット法を用いて塗布する。そして、塗布されたインク層15aに含まれる溶媒を蒸発させて乾燥し、必要に応じて加熱焼成することによって、各溝空間20内に有機発光層15が形成される(ステップS5)。   Subsequently, an ink for forming a light emitting layer is applied to the groove space 20 between the banks 14. This ink is a mixture of an organic material forming the organic light emitting layer 15 and a solvent, and is applied in each groove space 20 using an inkjet method. Then, the solvent contained in the applied ink layer 15a is evaporated and dried, and if necessary, the organic light emitting layer 15 is formed in each groove space 20 by heating and baking (step S5).

次に、有機発光層15およびバンク14の上に、共通電極17を形成する(ステップS6)。例えば、共通電極17は、ITO、IZO等の材料をスパッタ法等で成膜する。
以上の工程を経て表示パネル100が完成する。
[4.バンクの欠陥部]
バンク14の欠陥部3について、図5を用いて説明する。
Next, the common electrode 17 is formed on the organic light emitting layer 15 and the bank 14 (step S6). For example, the common electrode 17 is formed of a material such as ITO or IZO by sputtering or the like.
The display panel 100 is completed through the above steps.
[4. Bank defects]
The defective portion 3 of the bank 14 will be described with reference to FIG.

図5に示す例では、1本のバンク14の上に、異物が付着して欠陥部3となっている。
このようにバンク14上に異物があると、バンク14を挟んで隣接する溝空間20にインクを塗布してドーム状に盛ったインク層が形成されると、インク層が異物に接触して、発光色の異なるインク(例えば赤色インクと緑色インク)が混ざってしまう可能性がある。
In the example shown in FIG. 5, foreign matter adheres on one bank 14 to form a defective portion 3.
When foreign matter is present on the bank 14 in this manner, ink is applied to the groove space 20 adjacent to the bank 14 to form a dome-shaped ink layer, and the ink layer contacts the foreign matter. There is a possibility that inks of different luminescent colors (for example, red ink and green ink) may be mixed.

図6(a)に示す例では、1本のバンク14の中に異物が入り込み、その異物がバンク14の壁面を隣の溝空間まで貫通して欠陥部3となっている。
図6(b)に示す例では、1本のバンク14の下に異物が入り込んで、その異物が隣の溝空間まで貫通して欠陥部3となっている。
このように、バンク14の中や下に異物が存在する場合でも、異物とバンク材料との密着性が悪い場合には、隙間が生じてインクの流通路ができたり、異物が繊維片の場合はインクを吸収するので、異物自体がインクの流通路となる。従って、異物を挟んで隣り合う溝空間に形成されたインク層の間で混色が生じる原因となる。
In the example shown in FIG. 6A, the foreign matter enters one bank 14, and the foreign matter penetrates the wall surface of the bank 14 to the adjacent groove space to form the defect portion 3.
In the example shown in FIG. 6B, the foreign matter intrudes under one bank 14, and the foreign matter penetrates to the adjacent groove space to form the defect portion 3.
As described above, even when foreign matter is present inside or below the bank 14, if the adhesion between the foreign matter and the bank material is poor, a gap is created to form an ink flow path, or the foreign matter is a fiber piece Since the ink absorbs the ink, the foreign matter itself becomes the ink flow path. Therefore, color mixing occurs between ink layers formed in groove spaces adjacent to each other with foreign matter interposed therebetween.

図6(c)に示す例では、バンク14の一部が決壊して欠陥部3となっている。このようなバンク14における決壊は、例えば、バンク材料層に対する露光工程で、露光が不十分で重合があまりなされたかった箇所が、次の現像工程で洗い流されることによって発生する。このように決壊が生じた場合も、その決壊を介して隣り合う溝空間に形成されたインク層の間で混色が生じる。   In the example shown in FIG. 6C, a part of the bank 14 is broken and becomes the defective portion 3. Such breakage in the bank 14 occurs, for example, in the exposure step to the bank material layer, where the portion which has been insufficiently exposed and desired to be polymerized is washed away in the next development step. Even in the case where a break occurs in this way, color mixing occurs between ink layers formed in adjacent groove spaces through the break.

図7は、欠陥部3を有するバンク14に隣接する一方の溝空間20に、赤色のインクが塗布されてインク層15a(R)、他方の溝空間20に緑色のインクが塗布されてインク層15a(G)が形成された状態を示す平面図である。図に示すように、欠陥部3を有するバンク14の周囲で、インク層15a(R)の赤色インクとインク層15a(G)の緑色インクが、欠陥部3を介して混ざり合ってできる混色領域は、各インク層15a内で広がる。この混色領域は、Y方向に長く伸びることがあり、その長さが1cm程度になることもある。   In FIG. 7, red ink is applied to one groove space 20 adjacent to the bank 14 having the defect portion 3, and the green ink is applied to the ink layer 15 a (R) and the other groove space 20. It is a top view which shows the state in which 15a (G) was formed. As shown in the figure, a mixed color area formed by mixing the red ink of the ink layer 15 a (R) and the green ink of the ink layer 15 a (G) around the bank 14 having the defect portion 3 through the defect portion 3. Spreads in each ink layer 15a. This mixed color region may extend long in the Y direction, and its length may be about 1 cm.

このような混色による有機ELパネルの品質劣化を低減するために、欠陥部3の検出及び欠陥部3に対する補修を行う。
[5.欠陥部の検出方法]
図4のステップS3における欠陥部3の検出方法について説明する。
欠陥部3の検出は、例えば、ステップS2で形成したバンク14の表面画像を撮影し、その表面画像のパターン検査によって行う。
In order to reduce the quality deterioration of the organic EL panel due to such color mixing, detection of the defective portion 3 and repair of the defective portion 3 are performed.
[5. Method of detecting defects]
A method of detecting the defective portion 3 in step S3 of FIG. 4 will be described.
The detection of the defective portion 3 is performed, for example, by photographing a surface image of the bank 14 formed in step S2 and inspecting a pattern of the surface image.

なお、このような検出工程において、下地基板11上に形成されるバンク14の中で、いくつかのバンク14に欠陥部3が検出される可能性もあれば、すべてのバンク14において欠陥部3がゼロである可能性もある。
[6.欠陥部を有するバンクの補修方法]
検出された欠陥部3に対する補修について説明する。
In this detection step, among the banks 14 formed on the base substrate 11, there is a possibility that the defective portion 3 is detected in some of the banks 14, the defective portion 3 in all the banks 14 May be zero.
[6. Repairing method of bank having defective portion]
The repair of the detected defective portion 3 will be described.

本実施の形態において、欠陥部3に対する補修は、図8に示すように、検出した欠陥部3の周囲を囲むようにリペアパーツ5を設置することにより、インクをせき止める堰を形成することによって行う。
図9のフローチャートに示すように、欠陥部3の周囲に感光性の接着剤ペースト6(以下、単にペースト6と称す)を塗布し(ステップS21)、ペースト6を塗布した位置にリペアパーツ5を設置し(ステップS22)、UV光を照射し、ペースト6を硬化させてリペアパーツ5を固定する(ステップS23)、との工程により、欠陥部3に対する補修を行う。
In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the repair of the defective portion 3 is performed by forming a weir for stopping the ink by installing the repair part 5 so as to surround the periphery of the detected defective portion 3. .
As shown in the flowchart of FIG. 9, a photosensitive adhesive paste 6 (hereinafter simply referred to as paste 6) is applied around the defect portion 3 (step S21), and the repair part 5 is applied at the position where the paste 6 is applied. The defective portion 3 is repaired by the process of installing (step S22), irradiating UV light, curing the paste 6, and fixing the repair part 5 (step S23).

欠陥部3の周囲にペースト6を塗布する工程について、詳細に説明する。図10は、ペースト6の塗布に用いるディスペンサ装置200の一例を示す概略構成図である。ディスペンサ装置200においては、ベース201上に、下地基板11を載置するテーブル202と、ディスペンサ212が取り付けられたヘッド部210とを有している。そして、テーブル202は、コントローラ230の指示に基づいてY方向に移動でき、ヘッド部210は、コントローラ230の指示によって、X方向及びZ方向に移動できるようになっている。従って、ヘッド部210に取り付けられているディスペンサ212は、コントローラ230の指示によって、テーブル202上に載置された下地基板11の上方で、下地基板11に対して、X方向、Y方向、Z方向に相対移動することができる。   The process of applying the paste 6 around the defect portion 3 will be described in detail. FIG. 10 is a schematic configuration view showing an example of a dispenser device 200 used for applying the paste 6. The dispenser device 200 includes, on a base 201, a table 202 on which the base substrate 11 is placed, and a head unit 210 to which a dispenser 212 is attached. The table 202 can be moved in the Y direction based on an instruction from the controller 230, and the head unit 210 can be moved in the X direction and the Z direction according to an instruction from the controller 230. Therefore, the dispenser 212 attached to the head unit 210 is directed by the controller 230 to the base substrate 11 above the base substrate 11 placed on the table 202 in the X, Y, and Z directions. You can move relative to

ディスペンサ装置200が備えるディスペンサ212は、ニードル式のディスペンサであって、その先端部分にペースト6を収納するタンク214が取り付けられ、タンク214内を貫通するようにニードル213が上下に移動することによって、ニードル213に付着させたペースト6をマイクロリットル単位で塗布できるようになっている。
このディスペンサ212におけるニードル213の駆動は、コントローラ230からの制御信号に基づいてなされる。
The dispenser 212 included in the dispenser device 200 is a needle type dispenser, and a tank 214 for storing the paste 6 is attached to the tip portion thereof, and the needle 213 moves up and down so as to penetrate the inside of the tank 214. The paste 6 adhered to the needle 213 can be applied in microliter units.
Driving of the needle 213 in the dispenser 212 is performed based on a control signal from the controller 230.

なお、ディスペンサ装置200のコントローラ230の記憶部231においては、検出された欠陥部3の位置が保存されている。ディスペンサ装置200は、記憶部231に記憶された欠陥部3の位置を基準にして、欠陥部3の周辺に設定された位置にペーストを塗布する。
ここでは、欠陥部3を有するバンク14の両側に隣接する各溝空間20の中に、欠陥部3をY方向に挟んだ2つの点、欠陥部3が存在するバンク14の隣のバンク14に亘るラインに沿って設定された複数の位置にペースト6を塗布する。
In the storage unit 231 of the controller 230 of the dispenser device 200, the detected position of the defect portion 3 is stored. The dispenser apparatus 200 applies the paste to a position set around the defect 3 based on the position of the defect 3 stored in the storage unit 231.
Here, in each groove space 20 adjacent to both sides of the bank 14 having the defect portion 3, two points sandwiching the defect portion 3 in the Y direction, the bank 14 next to the bank 14 in which the defect portion 3 exists The paste 6 is applied to a plurality of positions set along the extending line.

図11(a)は、欠陥部3の周辺に設定された塗布位置を示す図である。
当図に示すように、欠陥部3を有するバンク14の両側に隣接する溝空間20の中に、異物3の中央部を基準として、Y方向に距離a1離れた点A1を通ってX方向に伸長する堰形成ラインと、Y方向と反対の方向に距離a2離れた点A2を通ってX方向に伸長する堰形成ラインに沿って、それぞれ塗布点P1,P2,P3,P4を設定する。
FIG. 11A is a view showing the application position set around the defect portion 3.
As shown in the figure, in the groove space 20 adjacent to both sides of the bank 14 having the defect portion 3 with respect to the central portion of the foreign object 3, through the point A1 separated by a distance a1 in the Y direction in the X direction Application points P1, P2, P3 and P4 are set along the extending wrinkle forming line and the wrinkle forming line extending in the X direction through a point A2 separated by a distance a2 in the direction opposite to the Y direction.

ここで、距離a1と距離a2は同じであっても、異なっていてもよいが、点A1と点A2とで異物3の全体が挟み込まれ、且つあまり大き過ぎないように、適度な長さに設定する。
図11(b)は、下地基板11において、点A1を通る堰形成ラインに沿った断面を模式的に示す図である。
Here, the distance a1 may be the same as or different from the distance a2, but the length of the foreign substance 3 is set to an appropriate length so that the entire foreign substance 3 is sandwiched between the points A1 and A2 and not too large. Set
FIG. 11B is a view schematically showing a cross section of the base substrate 11 along the wrinkle forming line passing through the point A1.

ディスペンサ装置200は、このように設定した塗布点P1,P2,P3,P4において、順次、ニードル213でペースト6を塗布する。
図12(a)〜(g)は、塗布点P1,P2…に、ペースト6を順次塗布する様子を示す図である。
まず図12(a),(b)に示すように、ニードル213、タンク214を塗布点P1に位置させて、ニードル213を下方に移動してニードル213にペースト6を付着させて、ニードル213を塗布点P1に近づけることによってペースト6を塗布点P1に塗布する。
The dispenser apparatus 200 applies the paste 6 sequentially with the needle 213 at the application points P1, P2, P3, and P4 set as described above.
12 (a) to 12 (g) are diagrams showing how the paste 6 is sequentially applied to the application points P1, P2,.
First, as shown in FIGS. 12 (a) and 12 (b), the needle 213 and the tank 214 are positioned at the application point P1, and the needle 213 is moved downward to adhere the paste 6 to the needle 213 and The paste 6 is applied to the application point P1 by approaching the application point P1.

ペーストは、塗布されるまでは流動性を有するが、塗布後は山形状が維持され、図12(c)に示すように、塗布点P1にペースト6の山が形成される。続いて、図12(d),(e)に示すように、ニードル213をタンク241内に引き上げて、ニードル213、タンク214を、塗布点P2に移動させる。そして、ニードル213を下方に移動して、ペースト6を付着させたニードル213を塗布点P2に近づけることによってペースト6を塗布点P2に塗布する。それによって図12(f)に示すように、塗布点P2に形成されるペースト6の山は、塗布点P1に形成されているペースト6の山と繋がる。続いて、図12(g)に示すように、ニードル213を引き上げて、塗布点P3に移動させる。そして、同様にして、塗布点P3にペースト6の山を形成して、塗布点P2にペースト6の山とつなげる。このようにして、欠陥部3を有するバンク14上の点A1から、隣のバンク14に亘る形状で、ペースト6の山が連なることになる。   The paste has fluidity until it is applied, but the mountain shape is maintained after application, and as shown in FIG. 12C, a peak of the paste 6 is formed at the application point P1. Subsequently, as shown in FIGS. 12D and 12E, the needle 213 is pulled up into the tank 241, and the needle 213 and the tank 214 are moved to the application point P2. Then, the needle 213 is moved downward, and the needle 213 to which the paste 6 is attached is brought close to the application point P2, thereby applying the paste 6 to the application point P2. Thus, as shown in FIG. 12 (f), the peaks of the paste 6 formed at the application point P2 are connected to the peaks of the paste 6 formed at the application point P1. Subsequently, as shown in FIG. 12 (g), the needle 213 is pulled up and moved to the application point P3. Then, similarly, a peak of the paste 6 is formed at the application point P3 and connected to the peak of the paste 6 at the application point P2. In this manner, the peaks of the paste 6 are continuous in a shape extending from the point A1 on the bank 14 having the defect portion 3 to the adjacent bank 14.

上記工程を繰り返し、図11(a)に示すように、1つの欠陥部3に対して4つの堰形成ライン上にペースト6を塗布し、欠陥部3の周囲にペースト6を塗布する工程を完了する。
次に、リペアパーツ5を設置する工程について詳細に説明する。図13は、リペアパーツ5の設置に用いるマニピュレータ装置300の一例を示す概略構成図である。マニピュレータ装置300においては、ベース301上に、下地基板11を載置するテーブル302と、リペアパーツ5を載置するテーブル303と、撮像素子311が取り付けられたヘッド部310と、それぞれプローブ321が取り付けられた2つのアーム部320とを有している。
The above steps are repeated, and as shown in FIG. 11A, the paste 6 is applied to four defect forming lines for one defect portion 3, and the step of applying the paste 6 around the defect portion 3 is completed. Do.
Next, the process of installing the repair part 5 will be described in detail. FIG. 13 is a schematic configuration view showing an example of a manipulator device 300 used for installing the repair part 5. In the manipulator apparatus 300, a table 302 on which the base substrate 11 is mounted, a table 303 on which the repair part 5 is mounted, a head unit 310 to which the imaging element 311 is attached, and a probe 321 are mounted on the base 301 And two arm portions 320.

ヘッド部310は、コントローラ330の指示によって、X方向及びY方向に移動できるようになっている。そして、テーブル302に載置された下地基板11の上面に沿って撮像素子を移動させながら、下地基板11の上面の画像データを取得し、取得した画像をモニタ340に表示することができる。
2つのアーム部320は、それぞれ独立に、コントローラ330の指示によって、X方向、Y方向及びZ方向に移動できると共に、プローブ321の姿勢をX軸、Y軸、及び、Z軸回りに変化させることができるようになっている。これにより、テーブル302に載置された下地基板11及びテーブル303に載置されたリペアパーツ5に対して、プローブ321を任意の方向及び距離で任意の姿勢を取らせることができる。なお、本実施の形態において、プローブ321は、タングステン製のものを用いる。
The head unit 310 can be moved in the X direction and the Y direction according to an instruction from the controller 330. Then, while moving the imaging element along the upper surface of the base substrate 11 placed on the table 302, image data of the upper surface of the base substrate 11 can be acquired, and the acquired image can be displayed on the monitor 340.
The two arm units 320 can move independently in the X direction, Y direction and Z direction according to the instruction of the controller 330, and change the attitude of the probe 321 around the X axis, Y axis and Z axis It is possible to As a result, with respect to the base substrate 11 placed on the table 302 and the repair part 5 placed on the table 303, it is possible to make the probe 321 take any posture in any direction and distance. In the present embodiment, the probe 321 is made of tungsten.

図14(a)〜(e)は、マニピュレータ装置300を操作して、リペアパーツ5を下地基板11の上に設置する様子を示す図である。
まず、図14(a)に示すように、アーム部320を操作してプローブ321をテーブル303の上に移動させ、プローブ321の姿勢を制御してテーブル303に載置されたリペアパーツ5を把持する。続いて、図14(b)に示すように、プローブ321でリペアパーツ5を把持したまま、アーム部320を操作してリペアパーツ5をテーブル302に載置された下地基板11上の接着剤ペースト塗布した位置の上に移動させる。次に、図14(c)に示すようにアーム部320を操作してプローブ321を下方に移動させてリペアパーツ5を下地基板11上に塗布されたペースト6に接触させる。続いて、図14(d)に示すように、プローブ321の姿勢を制御してリペアパーツ5から離し、アーム部320を操作してプローブ321をリペアパーツ5の上方に移動させた後、下方に移動させてリペアパーツ5を下地基板11に押し付ける。その後、図14(e)に示すように、アーム部320を操作してプローブ321を引き上げ、リペアパーツ5の下地基板11への設置を完了する。
FIGS. 14 (a) to 14 (e) are diagrams showing how the repair part 5 is installed on the base substrate 11 by operating the manipulator device 300. FIG.
First, as shown in FIG. 14A, the arm portion 320 is operated to move the probe 321 onto the table 303, the attitude of the probe 321 is controlled, and the repair part 5 placed on the table 303 is gripped. Do. Subsequently, as shown in FIG. 14B, while holding the repair part 5 by the probe 321, the arm portion 320 is operated to place the adhesive paste on the base substrate 11 on which the repair part 5 is placed on the table 302. Move to the position where it was applied. Next, as shown in FIG. 14C, the arm portion 320 is operated to move the probe 321 downward to bring the repair part 5 into contact with the paste 6 applied on the base substrate 11. Subsequently, as shown in FIG. 14D, the attitude of the probe 321 is controlled to separate from the repair part 5 and the arm part 320 is operated to move the probe 321 to the upper side of the repair part 5 and then downward. It is moved to press the repair part 5 against the base substrate 11. Thereafter, as shown in FIG. 14E, the arm portion 320 is operated to pull up the probe 321, and the installation of the repair part 5 on the base substrate 11 is completed.

上記工程を繰り返し、図11(a)に示すように、1つの欠陥部3に対して4つの堰形成ライン上にリペアパーツ5を設置し、図8のリペアパーツ5を設置する工程を完了する。
リペアパーツ5を設置した後、露光装置を用いてペースト6にUV光を照射し、ペースト6を硬化させてリペアパーツ5を固定することにより、欠陥部3に対する補修が完了する。
[7.効果]
本実施の形態によれば、図8に示すように、欠陥部3を有するバンク14の両側にある溝空間20の各々には、リペアパーツ5が対で設けられており、このリペアパーツ5によって溝空間20は、欠陥部3に近接する空間部分からなる第1空間SAと、欠陥部3に近接しない空間部分からなる2つの第2空間SBとに仕切られている。そして、欠陥部3は、2つの第1空間SAによって囲まれている。
The above steps are repeated, as shown in FIG. 11A, the repair parts 5 are installed on four wrinkle forming lines for one defect portion 3 and the process of installing the repair parts 5 in FIG. 8 is completed. .
After installing the repair part 5, the paste 6 is irradiated with UV light using an exposure device, and the paste 6 is cured to fix the repair part 5, thereby completing the repair of the defective portion 3.
[7. effect]
According to the present embodiment, as shown in FIG. 8, repair parts 5 are provided in pairs in each of groove spaces 20 on both sides of bank 14 having defect portion 3. The groove space 20 is divided into a first space SA consisting of a space part close to the defect 3 and two second spaces SB consisting of a space part not close to the defect 3. And the defect part 3 is enclosed by two 1st space SA.

バンク14の欠陥部3を補修した上で、各溝空間20に有機発光層15を形成すると、第1空間SA、第2空間SBにも、インクが塗布され、有機発光層15が形成される。従って、発光層が形成された後のパネルにおいては、第1空間SAに形成された有機発光層15と、第2空間SBに形成された有機発光層15とが、リペアパーツ5によって仕切られた状態となる。   When the organic light emitting layer 15 is formed in each groove space 20 after repairing the defective portion 3 of the bank 14, the ink is also applied to the first space SA and the second space SB, and the organic light emitting layer 15 is formed. . Therefore, in the panel after the light emitting layer is formed, the organic light emitting layer 15 formed in the first space SA and the organic light emitting layer 15 formed in the second space SB are partitioned by the repair part 5 It becomes a state.

図15は、本実施の形態にかかる有機EL表示パネルにおいて、異物3を有するバンク14の周囲に堰5が形成された後、そのバンク14に隣接する一方の溝空間20に、赤色のインクが塗布されてインク層15a(R)、他方の溝空間20に緑色のインクが塗布されてインク層15a(G)が形成された状態を示す平面図である。
図7に示すように、欠陥部3を有するバンク14の周囲にリペアパーツ5が設置されていないと、インク層15a(R)の赤色インクとインク層15a(G)の緑色インクが、欠陥部3を介して混ざり合ってできる混色領域は、各インク層15a内で広がる。
FIG. 15 shows that in the organic EL display panel according to the present embodiment, after the ridges 5 are formed around the bank 14 having the foreign material 3, red ink is in one groove space 20 adjacent to the bank 14. It is a top view which shows the state in which green ink was apply | coated and it apply | coated to the other groove space 20, and ink layer 15a (G) was formed.
As shown in FIG. 7, if the repair part 5 is not installed around the bank 14 having the defective portion 3, the red ink of the ink layer 15 a (R) and the green ink of the ink layer 15 a (G) are defective portions. A mixed color area formed by mixing via 3 spreads in each ink layer 15a.

一方、欠陥部3を有するバンク14の周囲にリペアパーツ5を設置されていると、溝空間20が、リペアパーツ5の対に挟まれた欠陥部3に近接する第1空間SAと、リペアパーツ5の対の外側にある欠陥部3に近接しない2つの第2空間SBとに仕切らる。そのため、図15に示すように混色領域は第1空間SAの範囲に制限される。
このように、欠陥部3によって生じる混色領域の範囲が、欠陥部3に近接する狭い第1空間SAに制限されるので、混色範囲の広がりを抑制する効果が得られ、表示パネル100における発光色不良を低減できる。
On the other hand, when the repair part 5 is installed around the bank 14 having the defective portion 3, the groove space 20 is in the first space SA close to the defective portion 3 sandwiched between the repair parts 5 and the repair part It divides into two 2nd space SB which does not adjoin to the defect part 3 which exists on the outer side of 5 pairs. Therefore, as shown in FIG. 15, the color mixing area is limited to the range of the first space SA.
As described above, the range of the color mixing area generated by the defect portion 3 is limited to the narrow first space SA adjacent to the defect portion 3, so that the effect of suppressing the spread of the color mixing range can be obtained. Defects can be reduced.

また、ペースト状の補修材を成形することにより堰を形成する場合と比較して、ペーストの使用量を削減することができる。これにより、ペーストのにじみやあふれの発生を減少させることができる。
また、既に形状が整っているリペアパーツ5を用いるので、ペーストの特性に依存せず、形状が崩れにくく、平面度が高く撥水性が強い堰を形成することができる。
[8.変形例]
実施の形態に係る表示パネル100を説明したが、本開示は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、表示パネル10の変形例を説明する。
In addition, the amount of paste used can be reduced as compared to the case where a wrinkle is formed by molding a paste-like repair material. This can reduce the occurrence of paste bleeding and overflow.
In addition, since the repair part 5 which is already in shape is used, it does not depend on the characteristics of the paste, it is difficult to lose its shape, and it is possible to form wrinkles having high flatness and strong water repellency.
[8. Modified example]
Although the display panel 100 according to the embodiment has been described, the present disclosure is not limited at all to the above embodiment except for the essential characteristic components. For example, an embodiment obtained by applying various modifications to those skilled in the art to the embodiment, and an embodiment realized by arbitrarily combining components and functions in each embodiment without departing from the spirit of the present invention. Are also included in the present disclosure. Below, the modification of the display panel 10 is demonstrated as an example of such a form.

(1)上述の実施の形態において、欠陥部3に対する補修は、図8に示すように、検出した欠陥部3の周囲を囲むようにリペアパーツ5を設置することにより、インクをせき止める堰を形成することによって行うとしたが、欠陥部3に対する補修はこの限りではない。
欠陥部3に対する補修は、例えば図16に示すように、バンク14の欠陥部3を含む一部分を除去し、その除去された部分にリペアパーツ5を設置することにより、バンク14を再構成するとしてもよい。
(1) In the above-described embodiment, as shown in FIG. 8, the repair part 5 is installed to surround the periphery of the detected defect 3 as shown in FIG. But the repair of the defect 3 is not limited to this.
For example, as shown in FIG. 16, repair of the defective portion 3 is performed by removing a portion including the defective portion 3 of the bank 14 and reconfiguring the bank 14 by installing the repair part 5 in the removed portion. It is also good.

この補修方法では、図17のフローチャートに示すように、欠陥部3を含むバンク14の一部分を除去し(ステップS31)、除去した部分に感光性のペースト6を塗布し(ステップS32)、ペースト6を塗布した位置にリペアパーツ5を設置し(ステップS33)、UV光を照射し、ペースト6を硬化させてリペアパーツ5を固定する(ステップS34)、との工程により、欠陥部3に対する補修を行う。   In this repair method, as shown in the flowchart of FIG. 17, a portion of the bank 14 including the defect portion 3 is removed (step S31), and the photosensitive paste 6 is applied to the removed portion (step S32). The repair part 5 is installed at the position where it is applied (step S33), UV light is irradiated, the paste 6 is cured and the repair part 5 is fixed (step S34), and the repair for the defective portion 3 is performed. Do.

バンク14の欠陥部3を含む一部分を除去する工程について詳細に説明する。
図18は、欠陥部3の周辺に設定された切込位置を示す図である。当図に示すように、欠陥部3を有するバンク14の両側に隣接する溝空間20の中に、異物3の中央部を基準として、Y方向に距離b1離れた点B1と、Y方向と反対の方向に距離b2離れた点B2を切込位置として設定する。ここで、距離b1と距離b2は同じであっても、異なっていてもよいが、点B1と点B2とで欠陥部3の全体が挟み込まれ、且つあまり大き過ぎないように、適度な長さに設定する。
The process of removing a portion including the defective portion 3 of the bank 14 will be described in detail.
FIG. 18 is a diagram showing a cutting position set around the defect portion 3. As shown in the figure, in the groove space 20 adjacent to both sides of the bank 14 having the defect portion 3, a point B1 separated by a distance b1 in the Y direction and a Y direction opposite to the center portion of the foreign object 3 A point B2 separated by a distance b2 in the direction of is set as the cut-in position. Here, the distance b1 and the distance b2 may be the same or different, but an appropriate length so that the entire defect 3 is sandwiched between the points B1 and B2 and is not too large. Set to

図19(a)〜(d)は、マニピュレータ装置300を操作して、バンク14の一部分を除去する様子を示す図である。
まず、図19(a)に示すように、アーム部320を操作してプローブ321をテーブル302の上に移動させ、プローブ321の姿勢を制御してバンク14に設定された切込位置B1及びB2に切り込みを入れる。続いて、図19(b)に示すように、プローブ321の姿勢を制御して、Y方向においてバンク14の切込位置B1と切込位置B2との間、Z方向においてバンク14と下地基板11の間に差し込む。次に、図19(c)に示すようにアーム部320を操作してプローブ321を持ち上げて、バンク14の切込位置B1と切込位置B2の間の欠陥部3を含む部分(以下、欠陥部分14xとする)をめくる。その後、図19(d)に示すように、プローブ321の姿勢を制御して欠陥部分14xを把持し、アーム部320を操作してプローブ321を引き上げ、バンク14から欠陥部分14xを除去する。
FIGS. 19 (a) to 19 (d) are diagrams showing how the manipulator device 300 is operated to remove a part of the bank 14. FIG.
First, as shown in FIG. 19A, the arm portion 320 is operated to move the probe 321 onto the table 302, and the attitude of the probe 321 is controlled to set the cutting positions B1 and B2 set in the bank 14. Make a cut. Subsequently, as shown in FIG. 19B, the attitude of the probe 321 is controlled to set the bank 14 and the base substrate 11 in the Z direction between the cutting position B1 and the cutting position B2 of the bank 14 in the Y direction. Plug in between Next, as shown in FIG. 19C, the arm portion 320 is operated to lift the probe 321, and a portion including the defective portion 3 between the cut position B1 and the cut position B2 of the bank 14 (hereinafter referred to as a defect Turn up part 14x). Thereafter, as shown in FIG. 19D, the attitude of the probe 321 is controlled to grip the defective portion 14x, and the arm portion 320 is operated to pull up the probe 321 to remove the defective portion 14x from the bank 14.

バンク14から欠陥部分14x除去した後、除去した部分に感光性のペースト6を塗布する工程では、図9のステップS21と同様に、複数の塗布位置を設定し、設定された塗布位置に、ディスペンサ装置200を用いてペーストの塗布を行う。
感光性のペースト6を塗布した後、ペースト6を塗布した部分にリペアパーツ5を設置する工程は、図9のステップS22と同様に、マニピュレータ装置300を用いて、予め作成されたリペアパーツ5をペーストの上面に設置する。このとき、リペアパーツ5の形状は、上面から見ると矩形をしており、短辺がバンク14のX方向の幅と同程度であり、長辺がバンク14から除去した欠陥部分の長さb1+b2と同程度であり、高さがバンク14と同程度であり、断面がバンク14と同様に台形のものを用いる。
In the process of applying the photosensitive paste 6 to the removed portion after removing the defective portion 14x from the bank 14, as in step S21 of FIG. 9, a plurality of application positions are set, and the dispenser is set to the set application position. The paste is applied using the apparatus 200.
After applying the photosensitive paste 6, in the step of installing the repair part 5 on the part to which the paste 6 is applied, the repair part 5 created in advance using the manipulator device 300 is the same as step S22 of FIG. Place on top of paste. At this time, the shape of the repair part 5 is rectangular when viewed from the top, and the short side is about the same as the width of the bank 14 in the X direction, and the long side is the length b1 + b2 of the defective portion removed from the bank 14 The height is the same as that of the bank 14 and the cross section is trapezoidal as in the case of the bank 14.

リペアパーツ5を設置した後、ペースト6にUV光を照射してペーストを硬化させる工程は、図9のステップS23と同様に、露光装置を用いてペースト6にUV光を照射する。
これらの工程により、図16に示すように、バンク14の欠陥部3を含む一部分を除去し、その除去された部分にリペアパーツ5を設置することにより、バンク14を再構成することができる。
After installing the repair part 5, in the step of irradiating the paste 6 with UV light to harden the paste, the paste 6 is irradiated with UV light using an exposure device as in step S23 of FIG. 9.
By these steps, as shown in FIG. 16, the bank 14 can be reconfigured by removing a portion including the defective portion 3 of the bank 14 and installing the repair part 5 in the removed portion.

図20は、リペアパーツ5を用いてバンク14を再構成した後、そのバンク14に隣接する一方の溝空間20に、赤色のインクが塗布されてインク層15a(R)、他方の溝空間20に緑色のインクが塗布されてインク層15a(G)が形成された状態を示す平面図である。
図7に示すように、欠陥部3を有するバンク14の周囲にリペアパーツ5が設置されていないと、インク層15a(R)の赤色インクとインク層15a(G)の緑色インクが、欠陥部3を介して混ざり合ってできる混色領域は、各インク層15a内で広がる。
In FIG. 20, after the bank 14 is reconstructed using the repair part 5, the red ink is applied to one groove space 20 adjacent to the bank 14 to form the ink layer 15a (R), and the other groove space 20. It is a top view which shows the state in which the green ink was apply | coated to and the ink layer 15a (G) was formed.
As shown in FIG. 7, if the repair part 5 is not installed around the bank 14 having the defective portion 3, the red ink of the ink layer 15 a (R) and the green ink of the ink layer 15 a (G) are defective portions. A mixed color area formed by mixing via 3 spreads in each ink layer 15a.

一方、リペアパーツ5を設置してバンク14が再構成されていると、もはやバンク14に欠陥部3が存在しないため、混色領域は発生しない。
このようにリペアパーツ5を用いてバンク14を再構成する補修方法においては、混色領域が発生しないため、表示パネル100における発光色不良を低減することができる。
(2)上述の実施の形態において、リペアパーツ5は、予め作成してストックしているものを用いるとしているが、これに限られるものではない。例えば、図2のステップS2で下地基板11上にバンク14を形成する際に、下地基板11の余白領域にリペアパーツ5を作成し、バンク14の補修をする際に、下地基板11の余白領域に作成されたリペアパーツ5を用いるとしてもよい。このとき、リペアパーツ5は、バンク14と同じ方法により作成することができる。すなわち、リペアパーツ材料として、ネガ型感光性樹脂組成物を用意し、このリペアパーツ材料を、下地基板11の余白領域上に一様に塗布する。そして、塗布したリペアパーツ材料の層をフォトリソグラフィー法でパターニング形成する。すなわち、そのリペアパーツ材料層上に、形成しようとするリペアパーツ5のパターンに合わせた開口を有するマスクを重ねて、マスクの上から露光する。その後、余分なリペアパーツ材料をアルカリ現像液で洗い出すことによって、リペアパーツ材料をパターニングする。現像処理により、下地基板11の余白領域上に、リペアパーツ成形体(未焼成のリペアパーツ)がパターン形成される。そして、形成したリペアパーツ成形体を加熱して焼成することによりリペアパーツ5が完成する。
On the other hand, when the repair parts 5 are installed and the bank 14 is reconfigured, no color mixing area occurs because the defective portion 3 no longer exists in the bank 14.
As described above, in the repair method for reconfiguring the bank 14 using the repair parts 5, no color mixing area is generated, so that the emission color defect in the display panel 100 can be reduced.
(2) In the above-mentioned embodiment, although the repair parts 5 use what is created and stocked beforehand, it is not restricted to this. For example, when forming the bank 14 on the base substrate 11 in step S2 of FIG. 2, the repair part 5 is created in the margin area of the base substrate 11 and the margin area of the base substrate 11 is prepared when repairing the bank 14 The repair part 5 created in the above may be used. At this time, the repair part 5 can be created by the same method as the bank 14. That is, a negative photosensitive resin composition is prepared as a repair part material, and the repair part material is uniformly applied on the margin area of the base substrate 11. Then, a layer of the applied repair part material is patterned and formed by photolithography. That is, a mask having an opening matched to the pattern of repair parts 5 to be formed is superimposed on the repair parts material layer, and exposure is performed from above the mask. Thereafter, the repair part material is patterned by washing out excess repair part material with an alkaline developer. By the development processing, a repair part molded body (an unbaked repair part) is pattern-formed on the margin area of the base substrate 11. Then, the formed repair part molding is heated and fired to complete the repair part 5.

(3)上述の実施の形態では、リペアパーツ5の形状は、図21(a)に示すように断面が台形であるとしたが、この限りではない。例えば、図21(b)に示すように断面が半円形であってもよく、図21(c)に示すように断面が三角形であってもよい。
(4)上述の実施の形態では、ディスペンサ装置200を用いて下地基板11上にペースト6を塗布するとしたが、インクジェット方式によりペースト6を塗布してもよい。
(3) In the above-mentioned embodiment, although the shape of repair part 5 presupposed that a cross section is a trapezoid as shown to Fig.21 (a), it is not this limitation. For example, as shown in FIG. 21 (b), the cross section may be semicircular, or as shown in FIG. 21 (c), the cross section may be triangular.
(4) In the above embodiment, the paste 6 is applied onto the base substrate 11 using the dispenser device 200. However, the paste 6 may be applied by an inkjet method.

(5)上述の実施の形態において、画素電極12と有機発光層15との間にホール注入層が形成されてもよく、また、有機発光層15と共通電極17との間に電子輸送層が形成されてもよい。
ホール注入層は、ホールの生成を補助し、有機発光層15に対して安定的にホールを注入及び輸送する機能を有する。ホール注入層は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物、あるいは、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料からなる層である。
(5) In the above embodiment, a hole injection layer may be formed between the pixel electrode 12 and the organic light emitting layer 15, and an electron transport layer is formed between the organic light emitting layer 15 and the common electrode 17. It may be formed.
The hole injection layer has a function of assisting the generation of holes and injecting and transporting holes stably to the organic light emitting layer 15. The hole injection layer is made of, for example, an oxide such as silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), iridium (Ir) or PEDOT A layer of conductive polymer material such as a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid).

電子輸送層は、共通電極17から注入された電子を有機発光層15へ輸送する機能を有し、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などで形成される。   The electron transport layer has a function of transporting electrons injected from the common electrode 17 to the organic light emitting layer 15. For example, oxadiazole derivative (OXD), triazole derivative (TAZ), phenanthroline derivative (BCP, Bphen) And so on.

本開示に係る有機EL表示パネル、及び有機EL表示装置は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、又はその他表示パネルを有する様々な電子機器に広く利用することができる。   The organic EL display panel and the organic EL display device according to the present disclosure can be widely used for a television set, a device such as a personal computer, a mobile phone, or various other electronic devices having a display panel.

1 有機EL表示装置
3 欠陥部
5 リペアパーツ
10 有機EL素子
11 下地基板
12 画素電極
14 バンク
15 有機発光層
15a インク層
17 共通電極
20 凹空間(溝空間)
100 表示パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 organic electroluminescence display 3 defect part 5 repair parts 10 organic electroluminescent element 11 base substrate 12 pixel electrode 14 bank 15 organic light emitting layer 15a ink layer 17 common electrode 20 concave space (groove space)
100 display panel

Claims (6)

基板上に一方向に延伸する互いに並列に配された複数のバンクを形成する工程と、
形成されたバンクにおける欠陥部を検出する工程と、
前記基板上に固体状のリペアパーツを設置することにより、検出された欠陥部に対する補修を行う工程と、を含む
有機EL表示パネルの製造方法。
Forming a plurality of banks arranged in parallel with one another extending in one direction on a substrate;
Detecting a defect in the formed bank;
And a step of repairing the detected defective portion by placing a solid repair part on the substrate.
前記欠陥部に対する補修は、前記複数のバンクによって形成される複数の凹空間のうちの前記欠陥部の存在するバンクの両側の凹空間における前記欠陥部の近傍に前記リペアパーツを設置することにより、前記欠陥部を取り囲む堰を形成する工程を含む
請求項1記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The repair with respect to the defective portion is performed by installing the repair part in the vicinity of the defective portion in the concave space on both sides of the bank in which the defective portion is present among the plurality of concave spaces formed by the plurality of banks. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, further comprising the step of forming a weir surrounding the defect portion.
前記欠陥部に対する補修は、
前記欠陥部の存在するバンクの前記欠陥部を含む一部分を除去する工程と、
前記欠陥部の存在するバンクの除去された箇所に前記リペアパーツを設置する工程と、
を含む
請求項1記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The repair for the said defective part is
Removing a portion including the defective portion of the bank in which the defective portion is present;
Installing the repair part at a removed portion of the bank where the defective portion exists;
A method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, comprising:
前記欠陥部に対する補修は、
感光性材料を含むペーストを塗布する工程と、
塗布されたペーストの上に前記リペアパーツを設置する工程と、
紫外線を照射して前記ペーストを硬化させる工程と、
を含む
請求項1記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The repair for the said defective part is
Applying a paste containing a photosensitive material;
Placing the repair part on the applied paste;
Irradiating ultraviolet light to cure the paste;
A method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, comprising:
更に、前記バンクを形成する工程の前に、前記基板外に前記リペアパーツを作成する工程を含む、
請求項1記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method further includes the step of producing the repair part outside the substrate before the step of forming the bank.
A method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1.
更に、前記バンクと同じ材料を用いてフォトリソグラフィー法で前記基板上に前記リペアパーツを形成する工程を含む
請求項1記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, further comprising the step of forming the repair part on the substrate by photolithography using the same material as the bank.
JP2017076973A 2017-04-07 2017-04-07 Manufacturing method of organic el display panel Pending JP2018181523A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112614959A (en) * 2020-12-16 2021-04-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel, preparation method thereof and display device

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