JP2018101558A - Organic el display panel and method for manufacturing the same for reducing generation of consecutive dark dot accompanying bank repair - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、有機EL表示パネルに関し、特に、バンクの補修に伴う連続滅点の発生を減少させる改良に関する。 The present disclosure relates to an organic EL display panel, and more particularly to an improvement that reduces the occurrence of continuous dark spots due to repair of a bank.
有機EL表示パネルのバンクとは、基板上又は基板の上方に行列状に配置された絶縁材料の隔壁のことであり、行方向に延伸する行バンク、列方向に延伸する列バンクの2種がある。複数の行バンク、複数の列バンクにより区画される領域は「矩形領域」と呼ばれ、ここに有機機能層を形成することで有機EL表示素子が構成される。
以下、従来の有機EL表示パネルの製造方法の概要について説明する。従来の有機EL表示パネルの製造方法は、基板上にバンクを形成しておいて、バンクで区画された矩形領域に発光層などの有機機能層を形成する。この有機機能層の形成にはウェット方式が広く用いられる。ウェット方式とは、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を含むインクをインクジェットで矩形領域に塗布することにより有機機能層を形成するという工法である。特許文献1は、補修材を用いた堰形成に先立ち、バンク成形体の予備焼成を行う有機EL表示パネルの製造方法を開示している。
A bank of an organic EL display panel is a partition made of an insulating material arranged in a matrix on or above a substrate. There are two types of banks: a row bank extending in the row direction and a column bank extending in the column direction. is there. A region partitioned by a plurality of row banks and a plurality of column banks is called a “rectangular region”, and an organic EL display element is configured by forming an organic functional layer therein.
Hereinafter, an outline of a conventional method for producing an organic EL display panel will be described. In a conventional method for manufacturing an organic EL display panel, a bank is formed on a substrate, and an organic functional layer such as a light emitting layer is formed in a rectangular region partitioned by the bank. A wet method is widely used to form this organic functional layer. The wet method is a method of forming an organic functional layer by applying an ink containing a high molecular material or a low molecule with good thin film formability to a rectangular region by inkjet.
ところで、従来技術では、ウェット方式によるインク塗布において、ある矩形領域を対象として吐出されたインク液が、列バンクの垣根を越えて隣接する矩形領域に漏れ出すことがある。このようなインク液の漏洩は、列バンクの形成不良や、列バンクに付着していた異物を原因として発生する。インク液の漏洩を避けるため、従来の有機EL表示パネルの製造工程では、行バンク、列バンクの形成後にバンクの欠陥部の有無を検査する。列方向の複数の画素でインク漏洩が生じたようなパネルは、出荷対象とすることはできないから、従来の製法では、混色が生じる可能性の高低に係らず、発見された欠陥部を囲む全ての画素に対して補修を施すという安全策をとっていた。 By the way, in the prior art, in the ink application by the wet method, the ink liquid ejected for a certain rectangular area may leak to the adjacent rectangular area beyond the line bank. Such leakage of the ink liquid occurs due to defective formation of the row bank or foreign matter attached to the row bank. In order to avoid leakage of the ink liquid, in the conventional manufacturing process of the organic EL display panel, the presence or absence of a defective portion of the bank is inspected after the row bank and the column bank are formed. Panels in which ink leakage has occurred at multiple pixels in the column direction cannot be shipped, so in the conventional manufacturing method, all the enclosing defects are found, regardless of the possibility of color mixing. Safety measures were taken to repair the pixels.
しかしながら、リペアを施した画素は構造上滅点になるため、上述したような欠陥部を囲む全ての画素を対象としたリペアでは、リペアによる滅点が欠陥部の周囲に集中してしまう。このような集中により滅点の存在が目立ってしまい、表示品位の低下を引き起こしてしまうという問題があった。
本開示の目的は、列方向の画素への混色の影響を回避しつつも、滅点を分散させて目立たなくすることができる有機EL表示パネルを提供することである。
However, the repaired pixel becomes a dark spot due to the structure, and in the repair for all the pixels surrounding the defective portion as described above, the dark spots due to the repair are concentrated around the defective portion. Due to such concentration, there is a problem in that the presence of dark spots becomes conspicuous and causes deterioration in display quality.
An object of the present disclosure is to provide an organic EL display panel that can disperse dark spots and make it inconspicuous while avoiding the influence of color mixing on pixels in the column direction.
本開示の一態様に係る有機EL表示パネルは、
基板と、
基板上の複数の画素のそれぞれに対応する位置に配置された画素電極と、
画素電極の列方向における端縁を覆い、行方向に延伸する複数の行バンクと、
画素電極の行方向における端縁を覆い、列方向に延伸する複数の列バンクと、
複数の隣接する列バンクと、複数の隣接する行バンクとで区切られた矩形領域に形成された複数の有機発光層と、
画素電極に対向する共通電極とを備え、
前記複数の列バンクのうち、何れかに欠陥部が存在していて、前記欠陥部が存する列バンクの両側にある第1矩形領域及び第2矩形領域と、第1矩形領域と同じ列位置にある第3矩形領域と、第2矩形領域と同じ列位置にある第4矩形領域とには、補修材からなる堰が、行バンクよりも背高姿勢で形成されており、
第1矩形領域と、第3矩形領域との間、及び、第2矩形領域と、第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させてあることを特徴とする。
An organic EL display panel according to one embodiment of the present disclosure is provided.
A substrate,
A pixel electrode disposed at a position corresponding to each of a plurality of pixels on the substrate;
A plurality of row banks covering edges in the column direction of the pixel electrodes and extending in the row direction;
A plurality of column banks covering edges of the pixel electrodes in the row direction and extending in the column direction;
A plurality of organic light emitting layers formed in a rectangular region delimited by a plurality of adjacent column banks and a plurality of adjacent row banks;
A common electrode facing the pixel electrode,
A defect portion exists in any of the plurality of column banks, and the first rectangular region and the second rectangular region on both sides of the column bank in which the defect portion exists, and at the same column position as the first rectangular region In a third rectangular area and a fourth rectangular area at the same column position as the second rectangular area, a weir made of repair material is formed in a taller posture than the row bank,
At least one rectangular area without a weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area and between the second rectangular area and the fourth rectangular area. And
本開示では、第1矩形領域と、第3矩形領域との間、及び、第2矩形領域と、第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させるので、堰を設けることで滅点となる矩形領域が、欠陥部の周囲に集中して配置されることはなくなる。堰形成により滅点となる矩形領域の存在が、目立たなくなるので、本開示では、バンクリペアに伴う表示品位の低下を回避することができる。 In the present disclosure, at least one rectangular region without a weir is interposed between the first rectangular region and the third rectangular region and between the second rectangular region and the fourth rectangular region. By providing the weir, the rectangular area that becomes a dark spot is not concentrated around the defect portion. Since the presence of the rectangular region that becomes a dark spot due to the formation of the weir becomes inconspicuous, in the present disclosure, it is possible to avoid the deterioration in display quality caused by the bank repair.
<本開示の一態様に到った経緯>
発明者らは、これまでの研究過程において、インク材の混色に起因した発生有機EL表示パネルの表示品位低下について検討を重ねてきた。
はじめに、列バンクの欠陥部に起因して発生する、インク材の混色について説明する。
図1(a)は、5つの列バンク51c1、51c2、51c3、51c4、51c5と、5つの行バンク52r1、52r2、52r3、52r4、52r5とにより仕切られた4×4画素に対応する矩形領域を示す。本図の「R」「G」「B」は、本図の矩形領域のそれぞれが、行方向に並ぶ赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素に対応していることを示す。赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素のそれぞれに階調を設定して、同時に発光させることで、RGBの各原色が、独自の階調を有した自然色画素を構成することができる。なお、図3における赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素のそれぞれを「サブ画素」という。本開示の「画素」は、RGBセット画素、サブ画素(RGBの原色毎の画素)の双方を包含する概念であり、表現する対象物によってこれらを使い分ける。この図1の4×4画素に対応する矩形領域において、列バンク51c3のうち、行バンク52r3と、行バンク52r4との間に、欠陥部が発見されたとする。この欠陥部の存在を看過したまま、インク材の塗布を行い、有機発光層の形成を開始したとすると、この欠陥部を通じたインク漏れが発生して、行バンク51c3を境界として隣接する2つの画素G(2、3)、B(3、3)に混色が発生する。ラインバンク方式では、行バンクの高さが低く設定されているため、混色の範囲が、列バンク51c3を介して隣接する2つのサブ画素列に及ぶ。これにより、図1(b)に示すように、X=2の座標に位置する全てのサブ画素、X=3の座標に位置する全てのサブ画素が滅点(混色による滅点)となる。図1(c)は、混色の範囲が列方向の全てのサブ画素に及んだ有機EL表示パネルを示す。この有機EL表示パネルでは、1920×1080個のRGBセットの画素のうち、縦1080個のサブ画素の範囲に混色による表示不良が及んでいる。そのため、かかる有機EL表示パネルを製品として出荷することはできない。そこで、従来のラインバンク方式の有機EL表示パネルの製造ではバンクリペアを行う。バンクリペアでは、欠陥部に隣接する2つのサブ画素、及び、その、1つ上に位置する2つのサブ画素をリペア対象として選び、これらのリペア対象を仕切る行バンクに堰を形成することでなされる。図2(a)は、混色の疑いがあるとして堰領域が形成された複数の矩形領域のレイアウトを示す。かかるレイアウトにおいて、G(2、2)、B(3、2)、G(3、2)、B(3、3)は、列バンクと同じ高さの堰が形成されている。
<Background to the Aspect of the Present Disclosure>
Inventors have repeatedly examined the deterioration of the display quality of the generated organic EL display panel due to the color mixture of ink materials in the research process so far.
First, the color mixing of the ink material caused by the defective portion of the column bank will be described.
FIG. 1A shows a rectangular area corresponding to 4 × 4 pixels partitioned by five column banks 51c1, 51c2, 51c3, 51c4, 51c5 and five row banks 52r1, 52r2, 52r3, 52r4, 52r5. Show. “R”, “G”, and “B” in the drawing indicate that each of the rectangular regions in the drawing corresponds to a red sub-pixel, a green sub-pixel, and a blue sub-pixel arranged in the row direction. By setting gradations for each of the red sub-pixel, green sub-pixel, and blue sub-pixel and causing them to emit light simultaneously, each primary color of RGB can form a natural color pixel having a unique gradation. In addition, each of the red subpixel, the green subpixel, and the blue subpixel in FIG. 3 is referred to as a “subpixel”. The “pixel” of the present disclosure is a concept that includes both RGB set pixels and sub-pixels (pixels for each RGB primary color), and these are properly used depending on the object to be expressed. In the rectangular area corresponding to 4 × 4 pixels in FIG. 1, it is assumed that a defective portion is found between the row bank 52r3 and the row bank 52r4 in the column bank 51c3. If the ink material is applied and the formation of the organic light emitting layer is started while ignoring the existence of the defective part, ink leakage through the defective part occurs, and two adjacent banks with the row bank 51c3 as a boundary are generated. Color mixing occurs in the pixels G (2, 3) and B (3, 3). In the line bank method, since the height of the row bank is set low, the mixed color range extends to two adjacent sub-pixel columns via the column bank 51c3. As a result, as shown in FIG. 1B, all subpixels located at the coordinates of X = 2 and all subpixels located at the coordinates of X = 3 become dark spots (dark spots due to color mixing). FIG. 1C shows an organic EL display panel in which the mixed color range extends to all the sub-pixels in the column direction. In this organic EL display panel, a defective display due to color mixing has spread in the range of 1080 subpixels out of 1920 × 1080 RGB set pixels. Therefore, such an organic EL display panel cannot be shipped as a product. Therefore, bank repair is performed in the manufacture of a conventional line bank type organic EL display panel. In bank repair, two sub-pixels adjacent to the defective part and two sub-pixels positioned one above are selected as repair targets, and a weir is formed in a row bank that partitions these repair targets. The FIG. 2 (a) shows a layout of a plurality of rectangular regions in which weir regions are formed because there is a suspicion of color mixing. In this layout, G (2, 2), B (3, 2), G (3, 2), B (3, 3) are formed with weirs having the same height as the column bank.
こうして形成された堰は、列バンクと同等の高さを有するから、欠陥部を通じてインク材の流れ込みが発生したとしても、図2(b)に示すようにその流れ込みによる混色の影響は、欠陥部を囲む4つのサブ画素に留まる。このような堰形成によるリペアにより、たとえ欠陥部によるインク材の混色が発生したとしても、発生する滅点は、2つの異色滅点、2つの同色滅点に留まる。 Since the thus formed weir has the same height as the row bank, even if the ink material flows in through the defective portion, the influence of the color mixture due to the flowing in as shown in FIG. It remains in the four sub-pixels surrounding. Even if color mixing of the ink material due to the defective portion occurs due to the repair due to such dam formation, the generated dark spots remain at two different color dark spots and two same color dark spots.
異色滅点とは、行方向で連続する2つの矩形領域の有機発光層が発光不良に陥ることで生じる滅点であり、同色滅点とは、列方向で連続する2つの矩形領域の有機発光層が発光不良に陥ることで生じる滅点である。上記の同色滅点、異色滅点には、混色によるものと、列バンクリペアのため、堰形成を行うことで生じるものとがある。堰形成では、補修材が吐出された箇所の端部にまでインク材が及ばず、アノードメタルと、カソードとの間にショートが発生するからである。 The different color disappearance point is a dark spot generated when the organic light emitting layer of two rectangular regions continuous in the row direction falls into light emission failure, and the same color disappearance point is the organic light emission of two rectangular regions continuous in the column direction. It is a dark spot that occurs when the layer falls into a defective light emission. The same color discoloration point and the different color discoloration point include those caused by color mixture and those caused by forming a weir for column bank repair. This is because in the dam formation, the ink material does not reach the end of the portion where the repair material is discharged, and a short circuit occurs between the anode metal and the cathode.
ここで問題になるのは、発見される欠陥部と、そのうち混色をもたらす深刻な欠陥部との比率である。図1(d)は、欠陥部が存在するものの、後段の有機発光層形成工程において、インクの混色が発生しなかった複数の列バンクを示す。インクの混色が発生しなかったため、かかるサブ画素を表示させたとしても、サブ画素が滅点になることはない。従来のバンクリペアは、実際には混色が発生しなかった列バンクの周囲に対してリペアを施し、いたずらに滅点になるサブ画素を増やしていた。図2(c)は、混色が発生しなかったにも係らず、堰形成がなされることで、滅点になってしまったサブ画素を示す。図2(c)では、Gサブ画素、Bサブ画素が滅点になっているため、1つのRGBセットをなさない。そのようにGサブ画素、Bサブ画素が滅点になったRGBセットが、列方向に2つ連続しているので、画素の欠落が視聴者に認識される。 The problem here is the ratio of the defective portion to be found and the serious defective portion that causes color mixing. FIG. 1D shows a plurality of row banks in which no ink color mixture occurred in the subsequent organic light emitting layer forming step, although there were defective portions. Since the ink color mixture did not occur, even if such a sub-pixel is displayed, the sub-pixel does not become a dark spot. In the conventional bank repair, repair is performed on the periphery of a column bank where color mixing has not actually occurred, and the number of sub-pixels that become mischievous points is increased. FIG. 2C shows a sub-pixel that has become a dark spot due to the formation of a weir despite the absence of color mixing. In FIG. 2C, since the G sub-pixel and the B sub-pixel are dark spots, one RGB set is not formed. Since two RGB sets in which the G sub-pixel and the B sub-pixel are dark spots are consecutive in the column direction, the lack of pixels is recognized by the viewer.
発明者らの検討によると、かかる比率は10対1程度である。しかし10個の欠陥部のうち、1つが混色をもたらすものであれば、基板自体が不良になってしまうから、安全策として、発見された全ての欠陥部をリペアの対象にしていた。図2(d)は、発見された10個の欠陥部に対してリペアが施された有機EL表示パネルの画素レイアウトを示す。同色滅点の連続及び異色滅点の連続による画素欠落が10個存在するので、表示品位は決して高いとはいえない。 According to the study by the inventors, this ratio is about 10 to 1. However, if one of the ten defective portions causes color mixing, the substrate itself becomes defective. Therefore, as a safety measure, all detected defective portions are targeted for repair. FIG. 2D shows a pixel layout of the organic EL display panel in which repairs are made to the ten defective portions that have been found. Since there are ten pixel omissions due to a series of the same color disappearance points and different color disappearance points, it cannot be said that the display quality is high.
列方向に存在する複数の画素が、滅点になる可能性があるにせよ、混色の恐れがあった画素にリペアを施すのは、欠落となる画素をいたずらに増やすことになり、改善の余地が大きいという問題がある。
<本開示を実施するための形態の概要>
1)有機EL表示パネルの態様としては、複数の画素が行列状に配された有機EL表示パネルであって、
基板と、
基板上の複数の画素のそれぞれに対応する位置に配置された画素電極と、
画素電極の列方向における端縁を覆い、行方向に延伸する複数の行バンクと、
画素電極の行方向における端縁を覆い、列方向に延伸する複数の列バンクと、
複数の隣接する列バンクと、複数の隣接する行バンクとで区切られた矩形領域に形成された複数の有機発光層と、
画素電極に対向する共通電極とを備え、
前記複数の列バンクのうち、何れかに欠陥部が存在していて、前記欠陥部が存する列バンクの両側にある第1矩形領域及び第2矩形領域と、第1矩形領域と同じ列位置にある第3矩形領域と、第2矩形領域と同じ列位置にある第4矩形領域とには、補修材からなる堰が、行バンクよりも背高姿勢で形成されており、
第1矩形領域と、第3矩形領域との間、及び、第2矩形領域と、第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させてあることを特徴とする。
これにより、第1矩形領域と、第3矩形領域との間、及び、第2矩形領域と、第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させているので、欠陥部に隣接する画素の真上、真下の行に混色が発生しなかった場合、滅点は分散して、飛び飛びの位置に出現する。滅点の連続が少なくなり、滅点集中による画素欠落が視聴者に意識されなくなるから、堰形成による滅点発生が表示不良につながることはなくなる。
Even if multiple pixels in the column direction may become a dark spot, repairing a pixel that has a possibility of color mixture will increase the number of missing pixels and there is room for improvement. There is a problem that is large.
<Outline of Embodiment for Implementing the Present Disclosure>
1) As an aspect of the organic EL display panel, an organic EL display panel in which a plurality of pixels are arranged in a matrix,
A substrate,
A pixel electrode disposed at a position corresponding to each of a plurality of pixels on the substrate;
A plurality of row banks covering edges in the column direction of the pixel electrodes and extending in the row direction;
A plurality of column banks covering edges of the pixel electrodes in the row direction and extending in the column direction;
A plurality of organic light emitting layers formed in a rectangular region delimited by a plurality of adjacent column banks and a plurality of adjacent row banks;
A common electrode facing the pixel electrode,
A defect portion exists in any of the plurality of column banks, and the first rectangular region and the second rectangular region on both sides of the column bank in which the defect portion exists, and at the same column position as the first rectangular region In a third rectangular area and a fourth rectangular area at the same column position as the second rectangular area, a weir made of repair material is formed in a taller posture than the row bank,
At least one rectangular area without a weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area and between the second rectangular area and the fourth rectangular area. And
Thereby, at least one rectangular area without a weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area, or between the second rectangular area and the fourth rectangular area. Therefore, when no color mixture occurs in the line immediately above and directly below the pixel adjacent to the defective portion, the dark spots are dispersed and appear at the jumped positions. Since the number of dark spots is reduced and the viewer is not aware of missing pixels due to dark spot concentration, the occurrence of dark spots due to dam formation does not lead to display defects.
2)第3矩形領域、第4矩形領域の何れかを、隔てて配置する有機EL表示パネルの態様としては、前記基板の列方向において、前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域とが隣接しており、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間に、堰がない矩形領域を1つ介在させている態様とすることができる。この態様では、同色滅点、異色滅点の発生数はそれぞれ1個になり、同色滅点、異色滅点は連続しないから、滅点集中による画素欠落が視聴者に意識されることはなくなる。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。 2) As an aspect of the organic EL display panel in which any one of the third rectangular region and the fourth rectangular region is spaced apart, the first rectangular region and the third rectangular region are arranged in the column direction of the substrate. It is possible to adopt an aspect in which one rectangular region that is adjacent and does not have a weir is interposed between the second rectangular region and the fourth rectangular region. In this aspect, the number of occurrences of the same color disappearance point and the different color disappearance point is one, and the same color disappearance point and the different color disappearance point are not continuous. This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
3)第3矩形領域、第4矩形領域の双方を、隔てて配置する態様としては、前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間のそれぞれ、前記堰がない矩形領域を1つ介在させている態様とすることができる。この態様では、同色滅点の発生数は0個、異色滅点の発生数は2個になり、同色滅点は連続しないので、滅点集中による画素欠落が視聴者に意識されることはなくなる。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。 3) As a mode in which both the third rectangular area and the fourth rectangular area are arranged apart from each other, the second rectangular area and the fourth rectangular area are provided between the first rectangular area and the third rectangular area. One rectangular area without the weir may be interposed between each area. In this aspect, the number of occurrences of the same color disappearance point is 0, the occurrence number of different color disappearance points is 2, and the same color disappearance point is not continuous. . This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
4)第3矩形領域、第4矩形領域の一方を隔てて配置し、他方を、更に距離を空けて配置する態様としては、前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間に前記堰がない矩形領域を1つ介在させており、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間に、前記堰がない矩形領域を2つ介在させた態様とすることができる。異色滅点の発生数は1個のみになるので、滅点集中による画素欠落の影響は最小化される。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。 4) As a mode in which one of the third rectangular region and the fourth rectangular region is arranged apart and the other is arranged with a further distance, the first rectangular region and the third rectangular region are arranged between the first rectangular region and the third rectangular region. One rectangular region without a weir may be interposed, and two rectangular regions without the weir may be interposed between the second rectangular region and the fourth rectangular region. Since the number of different color dark spots is only one, the influence of missing pixels due to dark spot concentration is minimized. This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
5)尚、基板からの列バンクの高さは、前記行バンクよりも高くしてもよい。
6)有機EL表示パネルを製造する製造方法の局面としては、基板上の複数の画素のそれぞれに対応する位置に画素電極を形成する工程、
画素電極の列方向における端縁を覆うよう複数の行バンクを形成して、行方向に延伸させる工程、
画素電極の行方向における端縁を覆うよう複数の列バンクを形成して、列方向に延伸させることで、基板上の領域を、複数の矩形領域に区切る工程、
形成された複数の列バンクの中から欠陥部を検出する工程、
検出された1の欠陥部が存する列バンクの両側にある第1矩形領域及び第2矩形領域と、第1矩形領域と同じ列位置にある第3矩形領域と、第2矩形領域と同じ列位置にある第4矩形領域とに、補修材からなる堰を、行バンクよりも背高姿勢で形成する工程、
複数矩形領域のそれぞれに、有機発光材料を含むインクを塗布して乾燥することで有機発光層を形成する工程、
前記画素電極に対向するよう、共通電極を形成する工程を含み、
前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間、及び、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させる態様とすることができる。こうして、第3矩形領域、第4矩形領域を選択することで、インクの流動を抑止する堰は、欠陥部が存在する列バンクに隣接する第1、第2矩形領域から、非滅点画素を隔てた矩形領域に形成される。欠陥部に隣接する画素の真上、真下の行に混色が発生しなかった場合、堰設置により滅点となる画素は、一行置きに発生する。滅点は分散して、飛び飛びの位置に出現するので、滅点の連続が少なくなり、堰形成による滅点発生が表示不良につながることはなくなる。
5) The height of the column bank from the substrate may be higher than that of the row bank.
6) As an aspect of the manufacturing method for manufacturing the organic EL display panel, a step of forming a pixel electrode at a position corresponding to each of a plurality of pixels on the substrate;
Forming a plurality of row banks so as to cover edges in the column direction of the pixel electrodes, and extending in the row direction;
Forming a plurality of column banks so as to cover edges in the row direction of the pixel electrodes, and extending in the column direction, thereby dividing a region on the substrate into a plurality of rectangular regions;
Detecting a defect from a plurality of formed row banks;
The first rectangular area and the second rectangular area on both sides of the column bank where the detected one defective portion exists, the third rectangular area at the same column position as the first rectangular area, and the same column position as the second rectangular area A step of forming a weir made of a repair material with a taller posture than the row bank in the fourth rectangular region in
Forming an organic light emitting layer by applying an ink containing an organic light emitting material to each of the plurality of rectangular regions and drying;
Forming a common electrode to face the pixel electrode;
A mode in which at least one rectangular region without a weir is interposed between the first rectangular region and the third rectangular region and between the second rectangular region and the fourth rectangular region. It can be. In this way, by selecting the third rectangular region and the fourth rectangular region, the weir that suppresses the flow of ink removes the non-dotted pixels from the first and second rectangular regions adjacent to the column bank in which the defective portion exists. Formed in separated rectangular areas. When no color mixture occurs in the line immediately above and immediately below the pixel adjacent to the defective portion, the pixels that become dark spots due to the weir installation occur every other line. Since the dark spots are dispersed and appear at the jumping positions, the continuous dark spots are reduced, and the occurrence of the dark spots due to the weir formation does not lead to display defects.
7)第3矩形領域、第4矩形領域の何れかを隔てて選ぶ製造方法の態様としては、
前記基板の列方向において、前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域とが隣接しており、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間に、前記堰がない矩形領域を1つ介在させる態様とすることができる。この態様では、同色滅点、異色滅点の発生数はそれぞれ1個になり、同色滅点、異色滅点は連続しないから、滅点の存在による画素欠落が視聴者に意識されることはなくなる。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。
7) As an aspect of the manufacturing method for selecting either the third rectangular region or the fourth rectangular region apart,
In the row direction of the substrate, the first rectangular region and the third rectangular region are adjacent to each other, and a rectangular region without the weir is between the second rectangular region and the fourth rectangular region. One mode can be adopted. In this aspect, the number of occurrences of the same color discoloration point and the different color discoloration point is one, and the same color discoloration point and the different color discoloration point are not continuous. . This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
8)第3矩形領域、第4矩形領域の双方を隔て配置する製造方法の態様としては、
前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間のそれぞれ、堰がない矩形領域を1つ介在させる態様とすることができる。
この態様では、同色滅点の発生数は0個、異色滅点の発生数は2個になり、同色滅点は連続しないので、滅点の集中による画素欠落が視聴者に意識されることはなくなる。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。
8) As an aspect of the manufacturing method in which both the third rectangular area and the fourth rectangular area are arranged apart from each other,
One rectangular region without a weir can be interposed between the first rectangular region and the third rectangular region, and between the second rectangular region and the fourth rectangular region. .
In this aspect, the number of occurrences of the same color disappearance point is 0, the occurrence number of different color disappearance points is 2, and the same color disappearance point is not continuous. Disappear. This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
9)第3矩形領域、第4矩形領域の一方を隔てて配置し、他方を更に隔てて配置する製造方法の態様としては、前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間に前記堰がない矩形領域を1つ介在させており、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間に、前記堰がない矩形領域を2つ介在させる態様とすることができる。異色滅点の発生数は1個のみになるので、滅点集中による表示品位への影響は最小化される。これにより、列バンクの欠陥部の存在に左右されない、高品位の有機EL表示パネルの製造が可能になる。 9) As an aspect of the manufacturing method in which one of the third rectangular region and the fourth rectangular region is arranged apart and the other is arranged further apart, the above-described method is performed between the first rectangular region and the third rectangular region. One rectangular region without a weir may be interposed, and two rectangular regions without the weir may be interposed between the second rectangular region and the fourth rectangular region. Since the number of occurrence of the different color dark spots is only one, the influence on the display quality due to the dark spot concentration is minimized. This makes it possible to manufacture a high-quality organic EL display panel that is not affected by the presence of defective portions in the column bank.
10)尚、基板からの列バンクの高さは、前記行バンクよりも高くしてもよい。
<実施の形態1>
[有機EL表示装置の全体構成]
図3は、実施形態1に係る有機EL表示パネル100を有する有機EL表示装置1の構成を示す模式ブロック図である。
10) The height of the column bank from the substrate may be higher than that of the row bank.
<
[Overall configuration of organic EL display device]
FIG. 3 is a schematic block diagram illustrating a configuration of the organic
図3に示すように、有機EL表示装置1は、有機EL表示パネル100と、これに接続された駆動制御部101とを有している。有機EL表示パネル100は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、図2に示すように、複数の有機EL素子が基板上にマトリクス状に配列されている。駆動制御部101は、走査線駆動回路102、103と、信号線駆動回路104、105と、制御回路106とから構成されている。
As shown in FIG. 3, the organic
走査線駆動回路102、103は、フレーム画像を構成する複数の画素ラインのうち、何れかを選択する内容の走査線信号を出力する。
信号線駆動回路104、105は、複数の画素ラインのうち、何れかを選択する内容の走査線信号が走査線駆動回路102、103から出力されれば、当該走査線信号により選択された画素ラインに属する複数の有機EL素子に対して、ライン画素信号を出力する。ライン画素信号は、ライン画素の個々の画素の原色成分毎の輝度(各画素の原色成分のそれぞれがどれだけの明るさをもつかを示す)からなり、複数の有機EL素子のうち、選択された画素ラインと、位置的に対応するものに、当該輝度値を供給する。そうすると、各有機EL素子には、座標(i,j)に位置する画素の、k番目の原色成分の輝度Y(i,j,k)に応じた値の増幅電流であるId(Y(i,j,k))が流れる。ここで走査線駆動回路11、12、信号線駆動回路13、14の接続線のうち、滅点に対応するものは断線されている、滅点に対応する矩形領域には堰が形成されているため、インクの未塗布部分が存在しており、かかる未塗布部分において後述する画素電極と、共通電極とのショートが発生するからである。なお、有機EL表示パネル100に対する駆動制御部101の配置などは、これに限られない。
The scanning
The signal
[有機EL表示パネルの構成]
図4は、有機EL表示パネル100の表示面側から見た概略構成を模式的に示す平面図である。図4に示すように、有機EL表示パネル10の表示面には、行バンク12r1、12r2、12r3が列方向に形成される。これらの行バンクは、行方向に延伸することで、有機EL表示パネルの平面を複数の帯状領域に分割する。これら帯状領域は、走査線信号により選択される領域であり、フレーム画像の一行分のライン画素に対応する。
[Configuration of organic EL display panel]
FIG. 4 is a plan view schematically showing a schematic configuration viewed from the display surface side of the organic
列バンク11c11、11c21、11c31、11c41は、行方向に形成される。列バンクは、有機EL表示パネルの平面上を列方向に延伸することで、複数帯状領域のそれぞれを、複数の矩形領域(R(1,1)、G(2,1)、B(3,1)、R(4,1)、G(5,1)、B(6,1)、R(7,1)、G(8,1)、R(1,2)、G(2,2)、B(3,2)、R(4,2)、G(5,2)、B(6,2)、R(7,2)、G(8,2)、R(1,3)、G(2,3)、B(3,3)、R(4,3)、G(5,3)、B(6,3)、R(7,3)、G(8,3)・・・・・)に分割する。これらの矩形領域は、表示しようとするフレーム画像を構成するRGBセット画素のそれぞれのサブ画素に対応する。これらの矩形領域の参照符号は、表示しようとする原色の区別(RGBの区別)を示すアルファベットと、座標値との組み合わせからなる。原色サブ画素に対応する矩形領域のそれぞれ下方には、有機EL素子と、対応する駆動回路とが存在する。行方向に並ぶ赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素の有機EL素子に輝度を設定して同時に発光させることで、RGBの各原色が、独自の階調を有した自然色画素を構成することができる。 The column banks 11c11, 11c21, 11c31, 11c41 are formed in the row direction. The column bank extends in the column direction on the plane of the organic EL display panel so that each of the plurality of band-shaped regions is divided into a plurality of rectangular regions (R (1,1), G (2,1), B (3, 1), R (4,1), G (5,1), B (6,1), R (7,1), G (8,1), R (1,2), G (2,2 ), B (3,2), R (4,2), G (5,2), B (6,2), R (7,2), G (8,2), R (1,3) , G (2,3), B (3,3), R (4,3), G (5,3), B (6,3), R (7,3), G (8,3)・ ・ ・ ・). These rectangular areas correspond to the sub-pixels of the RGB set pixels constituting the frame image to be displayed. The reference numerals of these rectangular areas are a combination of an alphabet indicating the primary color to be displayed (RGB distinction) and coordinate values. Below each rectangular area corresponding to the primary color sub-pixel, there is an organic EL element and a corresponding drive circuit. By setting the luminance to the organic EL elements of the red subpixel, green subpixel, and blue subpixel arranged in the row direction and causing them to emit light simultaneously, each primary color of RGB constitutes a natural color pixel having a unique gradation. be able to.
図5は、有機EL表示パネル100を図2のA−A'線で切断した一部拡大断面図である。有機EL表示パネル100は、いわゆるトップエミッション型であって、Z方向側が表示面となっている。図5に示すように、有機EL表示パネル100は、その主な構成として、下地基板21、画素電極22、ホール注入層23、バンク11c11、11c21、有機発光層25、電子輸送層26、共通電極27、封止層28を備える。そして、赤(R),緑(G),青(B)の何れかの発光色に対応する有機発光層25を有する有機EL素子を原色サブ画素とし、図2に示すように、原色サブ画素がマトリクス状に配設されている。
FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view of the organic
[下地基板]
下地基板21は、基板本体部21a、TFT(薄膜トランジスタ)層21b、層間絶縁層21cを有する。
基板本体部21aは、有機EL表示パネル100の基材となる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル樹脂、アルミナ等の絶縁性材料のいずれかで形成することができる。
[Base substrate]
The
The
TFT層21bは、基板本体部21aの表面に原色サブ画素毎に設けられており、各々には薄膜トランジスタ素子を含む画素回路が形成されている。
層間絶縁層21cは、TFT層21b上に形成されている。層間絶縁層21cは、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の有機絶縁材料、SiO(酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)等の無機絶縁材料からなり、TFT層21bと画素電極22との間の電気的絶縁性を確保すると共に、TFT層21bの上面に段差が存在してもそれを平坦化して、画素電極22を形成する下地面への影響を抑える機能を持つ。
The
The interlayer insulating
[画素電極]
画素電極22は、原色サブ画素毎に個別に設けられた画素電極であり、例えば、Ag(銀)、Al(アルミニウム)、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)等の光反射性導電材料からなる。本実施形態において、画素電極22は、陽極である。
[Pixel electrode]
The
なお、画素電極22の表面にさらに公知の透明導電膜を設けてもよい。透明導電膜の材料としては、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛(IZO)を用いることができる。透明導電膜は、画素電極22とホール注入層23の間に介在し、各層間の接合性を良好にする機能を有する。
[ホール注入層]
ホール注入層23は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物、あるいは、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料からなる層である。上記の内、酸化金属からなるホール注入層23は、ホールを安定的に、またはホールの生成を補助して、有機発光層25に対しホールを注入および輸送する機能を有する。
A known transparent conductive film may be further provided on the surface of the
[Hole injection layer]
The
[バンク]
ホール注入層23の表面には、Y方向に伸長する平面視にて短冊状のバンク11c11、11c21が複数本並列に設けられている。このバンク11c11、11c21は、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。
[bank]
On the surface of the
各バンク11c11、11c21の断面は、図5に示されるように台形であって、行バンクにより区画される帯状領域のうち、バンク11c11、11c21同士の間には、バンク11c11、11c21によって区画された矩形領域が形成され、そこに有機発光層25が形成されている。
このバンク11c11、11c21は、有機発光層25をウェット法で形成するときに、塗布されたインクがあふれ出ないようにする構造物として機能する。
The cross section of each bank 11c11, 11c21 is trapezoidal as shown in FIG. 5, and among the band-like regions defined by row banks, the banks 11c11, 11c21 are defined by the banks 11c11, 11c21. A rectangular region is formed, and the organic
The banks 11c11 and 11c21 function as a structure that prevents the applied ink from overflowing when the organic
[有機発光層]
有機発光層25は、キャリア(正孔と電子)が再結合して発光する部位であって、R,G,Bのいずれかの色に対応する有機材料を含む。この有機発光層25は、上記のバンク11c11、11c21によって区画されたY方向に伸長する溝状の凹空間(図5の矩形領域20)に形成されている。
[Organic light emitting layer]
The organic
そして、互いに色の異なる有機発光層25は、バンク11c11、11c21を挟んで配置されている。
有機発光層25の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)、ポリフルオレン、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
The organic
Examples of the material of the organic
[電子輸送層]
電子輸送層26は、共通電極27から注入された電子を有機発光層25へ輸送する機能を有し、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などで形成されている。
[共通電極]
共通電極27は、例えば、ITO、IZO等の導電性を有する光透過性材料で形成され全ての原色サブ画素に亘って設けられている。本実施形態において、共通電極27は陰極である。
[Electron transport layer]
The
[Common electrode]
The
[封止層]
封止層28は、ホール注入層23、有機発光層25、電子輸送層26、共通電極27を水分及び酸素から保護するために設けられている。
なお、図示はしないが、封止層28の上に、ブラックマトリクス、カラーフィルター等が形成されていてもよい。
[Sealing layer]
The
Although not shown, a black matrix, a color filter, or the like may be formed on the
[表示パネルの製造方法]
図6は、有機EL表示パネル100の製造過程を示す模式工程図である。図7は、有機EL表示パネル100の製造工程の中、バンク形成工程、発光層形成工程を模式的に示す断面図である。有機EL表示パネル100の製造方法について、図6の工程図に基づいて図5、図7を参照しながら説明する。
[Display panel manufacturing method]
FIG. 6 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the organic
まず、基板本体部21a上にTFT層21bを形成する(ステップS1)。
続いて、TFT層21bの上に、絶縁性に優れる有機材料を用いてフォトレジスト法で層間絶縁層21cを形成して下地基板21を得る(ステップS2)。層間絶縁層21cの厚みは例えば約4μmである。なお、図5の断面図および図7の工程図には現れないが、層間絶縁層21cを形成するときに、コンタクトホール(図示せず)を形成する。
First, the
Subsequently, an
次に、下地基板21上に、真空蒸着法またはスパッタ法によって、厚み400[nm]程度の金属材料からなる画素電極22を、原色サブ画素毎に形成する(ステップS3)。
続いて、スパッタ法などで酸化タングステンを、下地基板21および画素電極22上に一様に成膜することによって、ホール注入層23を形成する(ステップS4)。
次に、バンク11c11、11c21を形成する(ステップS5〜S10)。まずバンク材料として、ネガ型感光性樹脂組成物を用意し、このバンク材料を、図7(a)に示すように、ホール注入層23上に一様に塗布する。
Next, the
Subsequently, a
Next, banks 11c11 and 11c21 are formed (steps S5 to S10). First, a negative photosensitive resin composition is prepared as a bank material, and this bank material is uniformly applied on the
バンク材料としては、熱を加えることによって硬化する熱硬化型の樹脂のからなる組成物を用いる。そして、この組成物には、UV光を照射することによって重合を開始させる光重合開始剤などが含まれる。
樹脂の種類としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。
As the bank material, a composition made of a thermosetting resin that is cured by applying heat is used. The composition includes a photopolymerization initiator that initiates polymerization by irradiation with UV light.
As a kind of resin, the thermosetting resin which has ethylenic double bonds, such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, is mentioned, for example. Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to these resin, for example, an epoxy compound, a polyisocyanate compound.
また、この樹脂構造の中に、フッ素を含むフッ化ポリマーを導入してもよい。フッ化ポリマーとしては、フッ素化ポリオレフィン系樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアクリル樹脂などのフッ素樹脂を含む感光性レジストが挙げられる。
フッ化ポリマーを導入した樹脂の具体例としては、フルオロエチレンとビニルエーテルとの共重合体であるルミフロン(LUMIFLON、登録商標、旭硝子)が挙げられる。
Further, a fluorinated polymer containing fluorine may be introduced into the resin structure. Examples of the fluorinated polymer include a photosensitive resist containing a fluorinated resin such as a fluorinated polyolefin resin, a fluorinated polyimide resin, and a fluorinated polyacrylic resin.
Specific examples of the resin into which the fluorinated polymer is introduced include LUMIFLON (registered trademark, Asahi Glass), which is a copolymer of fluoroethylene and vinyl ether.
樹脂にフッ素が導入されることによって、形成される堰に撥インク性を付与することができる。
あるいは、樹脂に撥インク剤を添加してもよい。撥インク剤の添加量は0.01〜10wt%とする。撥インク剤の添加量をこの範囲にすることにより、樹脂組成物の貯蔵安定性が良好で、且つ形成される堰のインクに対する撥液性も良好となる。続いて、塗布したバンク材料の層をフォトリソグラフィー法でバンク形状にパターニング形成する(ステップS5)。
By introducing fluorine into the resin, ink repellency can be imparted to the formed weir.
Alternatively, an ink repellent agent may be added to the resin. The amount of ink repellent added is 0.01 to 10 wt%. By making the addition amount of the ink repellent within this range, the storage stability of the resin composition is good, and the liquid repellency of the weir to be formed is also good. Subsequently, the applied bank material layer is patterned into a bank shape by photolithography (step S5).
すなわち、図7(b)に示すように、そのバンク材料層上に、形成しようとするバンク11c11、11c21のパターンに合わせた開口を有するマスクを重ねて、マスクの上から露光する。
その後、余分なバンク材料をアルカリ現像液で洗い出すことによって、バンク材料をパターニングして、バンクパターンを形成する。図7(c)に示すように、下地基板21上に、バンク11c11〜11c31の成形体(未焼成のバンク)がパターン形成される。そして、隣接するバンク11c11〜11c31の成形体同士の間には、矩形領域20が形成されている。
That is, as shown in FIG. 7B, a mask having an opening corresponding to the pattern of the banks 11c11 and 11c21 to be formed is overlaid on the bank material layer and exposed from above the mask.
Thereafter, the bank material is patterned by washing out the excess bank material with an alkaline developer to form a bank pattern. As shown in FIG. 7C, the formed bodies (unfired banks) of the banks 11
次に、形成したバンク11c11〜11c31の成形体を加熱して予備焼成する(ステップS6)。予備焼成時の加熱方法としては、例えば、図7(d)に示すように、熱風乾燥炉において、下地基板21上に形成されたバンク11c11〜11c31の成形体に熱風を当てて加熱する。その他、赤外線ランプで熱線を照射する方法、ホットプレートで加熱する方法で行うこともできる。
Next, the formed bodies of the formed banks 11c11 to 11c31 are heated and preliminarily fired (step S6). As a heating method at the time of pre-baking, for example, as shown in FIG. 7 (d), in a hot air drying furnace, hot air is applied to the molded body of the banks 11
下地基板21の温度は加熱に伴って徐々に上昇し、最高温度である加熱温度T1で一定の時間維持した後、徐々に下降する。
このときの加熱温度T1は、バンク材料の熱硬化(重合反応)をある程度進めることができ、且つ重合反応の完了までは至らない温度である。加熱時間(加熱温度T1で維持する時間)は20分〜30分程度である。
The temperature of the
The heating temperature T1 at this time is a temperature at which the thermosetting (polymerization reaction) of the bank material can proceed to some extent and does not reach the completion of the polymerization reaction. The heating time (time for maintaining at the heating temperature T1) is about 20 to 30 minutes.
通常、熱硬化性樹脂は100℃以上になれば熱硬化が開始されて重合が進むので、加熱温度T1は100℃以上設定することが好ましい。
一方、加熱温度T1を200℃程度の高温にすると、予備焼成の段階で熱硬化性樹脂の重合が進み過ぎて、本焼成後のバンク成形体の表面の撥液性が損なわれやすい。従って、加熱温度T1は、本焼成時における加熱温度T2と比べて低い温度に設定し、150℃以下に設定することが好ましい。
Usually, when the thermosetting resin reaches 100 ° C. or higher, thermosetting is started and polymerization proceeds. Therefore, the heating temperature T1 is preferably set to 100 ° C. or higher.
On the other hand, when the heating temperature T1 is set to a high temperature of about 200 ° C., the polymerization of the thermosetting resin proceeds excessively at the preliminary baking stage, and the liquid repellency of the surface of the bank molded body after the main baking is likely to be impaired. Therefore, the heating temperature T1 is preferably set to a temperature lower than the heating temperature T2 at the time of the main firing, and is set to 150 ° C. or lower.
次に、各バンク11c11〜11c31の成形体における欠陥部の有無を調べて(ステップS7)、欠陥部があれば、かかる欠陥部に隣り合う2つのサブ画素、及び、その上方の帯状領域に位置する2つのサブ画素を、リペア対象として特定する(ステップS8)。
こうしてリペア対象を特定した後、リペア対象となるサブ画素を区切る行バンクに沿って補修材を吐出することで堰を形成する(ステップS9)。
Next, the presence or absence of a defective portion in the molded body of each of the banks 11c11 to 11c31 is checked (step S7). If there is a defective portion, the two subpixels adjacent to the defective portion and the band-like region located above the two subpixels are located. The two sub-pixels to be identified are specified as repair targets (step S8).
After specifying the repair target in this way, the weir is formed by discharging the repair material along the row bank that divides the sub-pixel to be repaired (step S9).
後で詳述するが、堰形成は、検出した欠陥部の近傍において、バンク11c11〜11c31の成形体の同士の間の矩形領域20に補修材を塗布し乾燥することでなされる。図7(e)には、欠陥部が存在するバンク11c11〜11c31の成形体に隣接する矩形領域20に補修材が塗布されて、堰成形体13が形成された状態を示している。
その後、図7(f)に示すように、バンク11c11〜11c31の成形体と堰の成形体とを、加熱して本焼成することによって、2つの列バンク11c11、11c21と、これらの列バンクに介在する堰とが出来上がり、欠陥部の補修が完了する(ステップS10)。この本焼成では、バンク11c11〜11c31の成形体及び堰成形体を加熱して、熱硬化性樹脂の重合反応を完了させる。
As will be described in detail later, the weir formation is performed by applying a repair material to the
After that, as shown in FIG. 7 (f), the formed bodies of the banks 11c11 to 11c31 and the formed body of the weirs are heated and subjected to main firing, so that the two row banks 11c11 and 11c21 and the row banks are formed. The intervening weir is completed and the repair of the defective portion is completed (step S10). In the main firing, the molded body and the weir molded body of the banks 11c11 to 11c31 are heated to complete the polymerization reaction of the thermosetting resin.
加熱方法としては、上記予備焼成のときと同様、熱風乾燥炉で、下地基板21上に形成されたバンク11c11〜11c31の成形体に熱風を当てて加熱する方法の他、赤外線ランプで熱線を照射する方法や、ホットプレートで加熱する方法を用いることができる。そして、下地基板21の温度は加熱に伴って徐々に上昇し、最高温度である加熱温度T2で一定の時間維持した後、徐々に下降する。
As a heating method, as in the case of the pre-baking, in addition to a method in which hot air is applied to the molded body of the banks 11c11 to 11c31 formed on the
本焼成における加熱温度T2は、熱硬化性樹脂の重合を完了させるため、高温(200℃〜220℃)に設定し、加熱時間は例えば60分程度とする。
図7(f)には、本焼成によって、バンク11c11、11c21が形成されると共に堰が形成された状態、すなわち、補修されたバンク11c11、11c21が形成された状態を示している。
The heating temperature T2 in the main baking is set to a high temperature (200 ° C. to 220 ° C.) in order to complete the polymerization of the thermosetting resin, and the heating time is, for example, about 60 minutes.
FIG. 7F shows a state in which banks 11c11 and 11c21 are formed and weirs are formed by the main firing, that is, repaired banks 11c11 and 11c21 are formed.
このように形成されたバンク11c11、11c21に対して、さらに、次の工程で塗布するインクに対するバンク11c11、11c21の表面の接触角を調節する処理をしてもよい。あるいは、バンク11c11、11c21の表面に撥液性を付与するために、所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理したり、プラズマ処理を施してもよい。 The bank 11c11, 11c21 formed in this way may be further subjected to a process of adjusting the contact angle of the surface of the bank 11c11, 11c21 with the ink applied in the next step. Alternatively, in order to impart liquid repellency to the surfaces of the banks 11c11 and 11c21, surface treatment may be performed with a predetermined alkaline solution, water, an organic solvent, or the like, or plasma treatment may be performed.
続いて、図7(g)に示すように、バンク11c11、11c21同士の間の矩形領域20に、発光層形成用のインク25mを塗布する。このインクは、有機発光層25を構成する有機材料と溶媒を混合したものであって、各矩形領域20内にインクジェット法を用いて塗布する。
そして、塗布されたインク25mの層に含まれる溶媒を蒸発させて乾燥し、必要に応じて加熱焼成することによって、図7(h)に示すように、各矩形領域20内に有機発光層25が形成される(ステップS11)。
Subsequently, as shown in FIG. 7G,
Then, the solvent contained in the layer of the applied
次に、有機発光層25およびバンク11c11、11c21の上に、電子輸送層26を構成する材料を真空蒸着法で成膜して、電子輸送層26を形成する(ステップS12)。
そして、ITO、IZO等の材料を、スパッタ法等で成膜して、共通電極27を形成する(ステップS13)。そして、共通電極27の表面に、SiN、SiON等の光透過性材料をスパッタ法あるいはCVD法等で成膜して、封止層28を形成する(ステップS14)。以上の工程を経て有機EL表示パネル100が完成する。
Next, the material constituting the
A material such as ITO or IZO is formed by sputtering or the like to form the common electrode 27 (step S13). Then, a light-transmitting material such as SiN or SiON is formed on the surface of the
[欠陥部の検出]
[バンクの欠陥部を検出し補修する方法]
まず、インク混色の原因となる欠陥部について説明する。欠陥部には、バンク成形体の下あるいは中に異物が入り込むことで生じるものと、バンク成形体の一部が欠損することで生じるものとがある。
[Detection of defective parts]
[Method to detect and repair defective bank]
First, a defective portion that causes ink color mixture will be described. The defective part includes a part that is generated when a foreign substance enters under or inside the bank molded body and a part that is generated when a part of the bank molded body is lost.
前者の欠陥部(バンク成形体の下あるいは中に異物が入り込むことで生じる欠陥部)について説明する。異物は、例えば、製造装置に由来する金属片、空気中に存在する塵・埃の類である。そして、塵・埃は、繊維片であることが多い。
バンク成形体の中に異物が入り込んだ場合、その異物が列バンクの壁面を隣の矩形領域まで貫通することがある。また、1本のバンク成形体の下に異物が入り込むことで、その異物が隣の矩形領域まで貫通することもある。異物とバンク材料との密着性が悪い場合、バンク成形体の内部や下に入った異物によって隙間が生じてインクの筒抜けになってしまう。異物が繊維片の場合、インクが異物に吸収され、異物自体が流通路になってインクが他の矩形領域に漏れ出てしまう。
The former defective portion (defect portion caused by foreign matter entering under or inside the bank molded body) will be described. The foreign object is, for example, a metal piece derived from the manufacturing apparatus, or dust / dust that exists in the air. And dust is often a fiber piece.
When foreign matter enters the bank molded body, the foreign matter may penetrate the wall surface of the row bank to the adjacent rectangular area. Moreover, when a foreign substance enters under one bank molded object, the foreign substance may penetrate to the adjacent rectangular area. When the adhesion between the foreign matter and the bank material is poor, a gap is generated by the foreign matter inside or under the bank molded body, and the ink is unplugged. When the foreign matter is a fiber piece, the ink is absorbed by the foreign matter, and the foreign matter itself becomes a flow path, and the ink leaks to other rectangular areas.
後者の欠陥部(バンク成形体の欠損による欠陥部)について説明する。バンク成形体における欠損は、バンク材料層に対する露光不良が原因で発生する。このような露光不良箇所は、バンク素材の重合が充分でない。次段の現像工程におけるエッチング剤の洗い流しによってバンク成形体が決壊してしまう。そうすると、その決壊した列バンクを介して隣り合う矩形領域において、インクの混色が発生する。 The latter defect part (defect part by the defect | deletion of a bank molded object) is demonstrated. Defects in the bank molded body are caused by exposure failure to the bank material layer. In such a poorly exposed portion, the bank material is not sufficiently polymerized. The bank molded body is destroyed by washing away the etching agent in the subsequent development process. As a result, ink color mixture occurs in the rectangular regions adjacent to each other through the broken row bank.
発光層に混色領域が生じたパネルを用いて有機EL表示パネル10を製造すると、混色領域は、本来の発光色とは異なった発光色で発光する。一般に、異なる発光色の蛍光体が混合された場合、波長の長い蛍光体の発光色が優勢になる。
例えば赤色インクと緑色インクが混合されて生じた混色領域は、赤色で発光することになる。従って、緑色で発光すべき領域の中で、混色領域となった領域では、赤色で発光することになるので、この混色領域が広がると発光色不良の原因となる。
When the organic
For example, a mixed color region generated by mixing red ink and green ink emits red light. Therefore, in the region that should emit light in green, the region that is a mixed color region emits light in red, and if this mixed color region is widened, it causes light emission color defects.
以上説明したように、バンク成形体において異物や決壊が生じている箇所は、発光色が異なるインクの混色が生じて、発光色不良の原因となるので、この箇所を欠陥部としている。
バンク成形体の下あるいは中に異物が入り込むと、その箇所では、列バンク11が上に膨らんでバンク高さが高くなり、バンク成形体が決壊した箇所では、列バンク11の高さが低くなる。
As described above, the portion where the foreign matter or breakage has occurred in the bank molded body is caused by the color mixture of inks having different emission colors and causes the emission color defect.
When foreign matter enters under or inside the bank molded body, the
バンク11c11〜11c31の成形体における欠陥部の検出は、例えば、下地基板21上に形成したバンク11c11〜11c31の成形体の表面画像を撮影し、その表面画像のパターン検査によって行う。
図8は、バンク欠陥部の検出と、その補修に用いる補修装置の一例を示す概略構成図である。この補修装置200においては、ベース201上に、上記の下地基板21を載置するテーブル202と、撮像素子211及びディスペンサ212が取り付けられたヘッド部210とを有している。そして、テーブル202は、コントローラ230の指示に基づいてY方向に移動でき、ヘッド部210は、コントローラ230の指示によって、X方向及びZ方向に移動できるようになっている。
Detection of defective portions in the molded bodies of the banks 11c11 to 11c31 is performed, for example, by photographing a surface image of the molded bodies of the banks 11c11 to 11c31 formed on the
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing an example of a repair device used for detecting a bank defect portion and repairing it. The
従って、ヘッド部210に取り付けられている撮像素子211及びディスペンサ212は、コントローラ230の指示によって、テーブル202上に載置された下地基板21の上方で、下地基板21に対して、X方向、Y方向、Z方向に相対移動することができる。
この補修装置200を用いて、下地基板21の上面に沿って撮像素子211を移動させながら、下地基板21の上面の画像データを取得し、コントローラ230の記憶部231に記憶する。
Therefore, the
Using the
コントローラ230は、その画像データにおいて、各バンク11c11〜11c31の成形体における部分同士を次々に比較して、相違点を検出することによって、欠陥部の検出を行う。そして、欠陥部が検出された場合、検出された欠陥部の位置(欠陥部の中心OのX方向及びY方向の位置)を記憶部231に記憶する。
なお、このような検出工程において、下地基板21上に形成されるバンク11c11〜11c31の成形体の中で、いくつかのバンク11c11〜11c31の成形体に欠陥部が検出される可能性もあれば、すべてのバンク11c11〜11c31の成形体において欠陥部がゼロである可能性もある。そして、いずれかのバンク11c11〜11c31の成形体で欠陥部が検出された場合には、リペア対象の特定を行う。
In the image data, the
In addition, in such a detection process, there is a possibility that a defective part may be detected in the moldings of some banks 11c11 to 11c31 among the moldings of the banks 11c11 to 11c31 formed on the
[欠陥部を有するバンクの補修方法]
次に、補修装置200におけるテーブル202に載置されている下地基板21の上に、ディスペンサ212から堰形成用の補修材を、欠陥部の周囲を囲むように塗布して、堰を形成することによって、バンク11c11〜11c31の成形体の補修を行う。
補修装置200が備えるディスペンサ212は、ニードル式のディスペンサであって、その先端部分に補修材を収納するタンクが取り付けられ、タンク214内を貫通するようにニードル213が上下に移動することによって、ニードル213に付着させた補修材をマイクロリットル単位で塗布できるようになっている。
[How to repair banks with defective parts]
Next, a repair material for dam formation is applied from the
The
このディスペンサ212におけるニードル213の駆動は、コントローラ230からの制御信号に基づいてなされる。補修材としては、光や熱を加えることによって硬化する樹脂の組成物を用いることができる。
樹脂としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する硬化性の樹脂が挙げられる。
The
Examples of the resin include curable resins having an ethylenic double bond such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, and a vinyloxy group.
また、樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。
また、この樹脂構造の中に、フッ素が導入されているフッ化ポリマーを用いてもよい。
補修材の樹脂にフッ素が導入されることによって、形成される堰に撥インク性を付与することができる。あるいは、樹脂に各種の撥インク剤を添加してもよい。撥インク剤の添加量を0.01〜10wt%とすることで、樹脂組成物の貯蔵安定性が良好で、且つ形成される堰の撥インク性も良好となる。
Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to resin, for example, an epoxy compound and a polyisocyanate compound.
Moreover, you may use the fluoropolymer in which the fluorine was introduce | transduced in this resin structure.
By introducing fluorine into the resin of the repair material, ink repellency can be imparted to the weir formed. Alternatively, various ink repellent agents may be added to the resin. By making the addition amount of the ink repellent agent 0.01 to 10 wt%, the storage stability of the resin composition is good, and the ink repellency of the weir formed is also good.
なお、補修材の樹脂として、バンク11c11〜11c31の成形体を形成するバンク材料の樹脂と同じものを用いてもよい。ただしバンク材料の場合は、アルカリ現像液に可溶の酸成分が含まれているが、堰を形成する補修材には、アルカリ現像液に可溶の酸成分は含有しないことが好ましい。これは、堰成形体を形成するときには現像は行われず、酸成分が堰に残存すると堰の耐溶剤性が低下するためである。 In addition, you may use the same thing as resin of the bank material which forms the molded object of the bank 11c11-11c31 as resin of repair material. However, in the case of the bank material, an acid component soluble in the alkali developer is contained, but it is preferable that the repair material forming the weir does not contain an acid component soluble in the alkali developer. This is because when the weir compact is formed, development is not performed, and if the acid component remains in the weir, the solvent resistance of the weir decreases.
補修材には、このような樹脂組成物に、溶剤、光重合開始剤を適宜添加する。
溶剤としては、樹脂に対する溶解性を有するもので、沸点が150〜250℃程度の溶剤を1種類あるいは2種類以上用いることができる。
光重合開始剤としては、市販の各種光重合開始剤を用いることができる。
補修材の塗布時において、補修材の固形分は、例えば20〜90wt%に調整し、粘度は例えば10〜50cP(センチポイズ)に調整する。
To the repair material, a solvent and a photopolymerization initiator are appropriately added to such a resin composition.
As a solvent, it has the solubility with respect to resin, The solvent whose boiling point is about 150-250 degreeC can use 1 type, or 2 or more types.
Various commercially available photopolymerization initiators can be used as the photopolymerization initiator.
At the time of applying the repair material, the solid content of the repair material is adjusted to, for example, 20 to 90 wt%, and the viscosity is adjusted to, for example, 10 to 50 cP (centipoise).
光重合開始剤の添加量は、例えば全固形分に対して0.1〜50wt%、好ましくは5重量%〜30重量%である。
堰成形体の形成は、矩形領域20内において、堰13を形成しようとするライン(堰形成ライン)に沿って設定された複数の位置に、ディスペンサ212から補修材を塗布することによって行う。
The addition amount of a photoinitiator is 0.1-50 wt% with respect to the total solid content, for example, Preferably it is 5 weight%-30 weight%.
The formation of the dam body is performed by applying a repair material from the
[リペア対象となるサブ画素の特定]
補修装置200のコントローラ230においては、上記のようにバンク11c11〜11c31の成形体の画像データ、欠陥部の位置が保存されているので、ステップS8では、かかる欠陥部に隣り合う2つのサブ画素、及び、その上方の帯状領域に位置する2つのサブ画素を、リペア対象として特定する。ここで、図9に示すように、欠陥部が画面のj番目の帯状領域に存在していて、欠陥部に、サブ画素P(i、j)と、サブ画素P(i+1、j)とが隣り合っているものとする。この場合、サブ画素P(i、j)を左下画素とした2×3個のサブ画素、又は、2×4個のサブ画素の中から、リペア対象となるサブ画素を選ぶ。かかるリペア対象の選択パターンには、図10(a)〜(c)に示すものがある。図10(a)は、異色滅点リペアと呼ばれる選択パターンであり、欠陥部に隣接するP(i、j)、P(i+1、j)と、その1つ上のj−1番目の帯状領域j-1に帰属するサブ画素と、2つ上のj−2番目の帯状領域j−2に帰属するサブ画素とを、堰形成の対象として特定するものである。
[Identify sub-pixels to be repaired]
In the
図10(b)は、同色滅点リペアと呼ばれる選択パターンであり、欠陥部に隣接するP(i、j)、P(i+1、j)と、P(i、j)、P(i+1、j)の2つ上のj−2番目の帯状領域j−2に帰属する2つのサブ画素を、堰形成の対象として特定するものである。
図10(c)は、同色&異色滅点リペアと呼ばれる選択パターンであり、欠陥部に隣接するP(i、j)、P(i+1、j)と、P(i、j)、P(i+1、j)から1つの帯状領域を隔てたj−2番目の帯状領域j-2に帰属するサブ画素と、欠陥部に隣接するP(i、j)、P(i+1、j)から2つの帯状領域を隔てたj−3番目の帯状領域j−3に帰属するサブ画素とを、堰形成の対象として特定するものである。
FIG. 10B shows a selection pattern called the same-color-discolored dot repair, and P (i, j) and P (i + 1, j) adjacent to the defective portion and P (i, j) and P (i +1, j) Two subpixels belonging to the j-2th band-like region j-2 two above are specified as the targets for weir formation.
FIG. 10C shows a selection pattern called “same color & different color dark spot repair”, and P (i, j), P (i + 1, j), P (i, j), P adjacent to the defect portion. Subpixels belonging to the (j−2) -th band-shaped region j-2 that separates one band-shaped region from (i + 1, j), and P (i, j), P (i + 1, The sub-pixel belonging to the j-3th strip-shaped region j-3 that separates the two strip-shaped regions from j) is specified as a target for dam formation.
こうして、リペア対象として選択されたサブ画素の行バンクに沿った位置に、補修材吐出のための目標位置を設定する。
図中のP1、P2、P3、P4、P5は、リペア対象となる各サブ画素の行バンクに沿って設定された目標位置である。当図に示すように、リペア対象として選ばれたサブ画素の行バンクに沿って、目標点P1,P2,P3,P4を設定する。図10(d)は、堰形成ラインに沿った断面を模式的に示す図である。
Thus, a target position for discharging the repair material is set at a position along the row bank of the sub-pixel selected as the repair target.
P1, P2, P3, P4, and P5 in the figure are target positions set along the row bank of each sub-pixel to be repaired. As shown in the figure, target points P1, P2, P3, and P4 are set along the row bank of subpixels selected as repair targets. FIG. 10D is a diagram schematically showing a cross section along the weir formation line.
補修装置200は、リペア対象となるサブ画素を区切る行バンクに沿って設定された目標点P1,P2,P3,P4において、順次、ニードル213で補修材を吐出することによって堰成形体を形成する(図6のステップS8)。
図11(a)〜(g)は、目標点P1,P2…に、補修材を順次塗布することによって、堰成形体13が形成される様子を示す図である。
The
11 (a) to 11 (g) are diagrams showing how the weir molded body 13 is formed by sequentially applying repair materials to the target points P1, P2,...
まず図11(a),(b)に示すように、ニードル213、タンク214を目標点P1に位置させて、ニードル213を下方に移動してニードル213に補修材を付着させて、ニードル213を目標点P1に近づけることによって補修材を目標点P1に吐出する。
補修材は、吐出されるまでは流動性を有するが、吐出後は山形状が維持され、図11(c)に示すように、目標点P1に補修材の山が形成される。
First, as shown in FIGS. 11A and 11B, the
The repair material has fluidity until it is discharged, but after the discharge, the mountain shape is maintained, and as shown in FIG. 11C, a pile of the repair material is formed at the target point P1.
続いて、図11(d)に示すように、ニードル213をタンク214内に引き上げて、ニードル213、タンク214を、目標点P2に移動させる。そして、ニードル213を下方に移動して、補修材を付着させたニードル213を目標点P2に近づけることによって補修材を目標点P2に吐出する。それによって図10(e)に示すように、目標点P2に形成される補修材の山は、目標点P1に形成されている補修材の山と繋がる。
Subsequently, as shown in FIG. 11D, the
続いて、図10(f)に示すように、ニードル213を引き上げて、目標点P3に移動させる。そして、同様にして、目標点P3に補修材の山を形成して、目標点P2に補修材の山とつなげる。このようにして、欠陥部を有するバンク11c11〜11c31の成形体上から、隣のバンク11c11〜11c31の成形体に亘る形状で、補修材の山が連なることになる。そして、この塗布された補修材の山を、乾燥し、必要に応じて露光することによって堰成形体が形成される。また、その後の本焼成工程において、塗布された補修材が硬化するので、より安定した物性を有する堰が形成される。図10(a)〜(c)に示したリペア対象の選択パターンのうち何れを用いるかは、欠陥部の周辺部において、滅点がどのように分布しているかという滅点の分布に応じて定める。
Subsequently, as shown in FIG. 10 (f), the
図12は、リペア対象の特定手順を示すフローチャートである。本フローチャートのステップL1〜L3は、変数mを制御変数としたループ構造を規定する。変数mは、前段の検査工程で発見された複数欠陥部のそれぞれを指示する変数である。図12のフローチャートでは、変数mを初期化して(ステップL1)、ステップJ1〜J3、ステップS20〜S24の処理を実行する。かかるループの継続条件は、変数mが最大数以下になっていることである(ステップL2でYes)。この場合、変数mをインクリメントして(ステップL3)、ステップL1の直後まで戻る。かかるループの終了条件は、変数mが、発見された欠陥部の最大数を上回ることである(ステップL2でNo)。 FIG. 12 is a flowchart showing a repair target identification procedure. Steps L1 to L3 in this flowchart define a loop structure with the variable m as a control variable. The variable m is a variable that indicates each of the plurality of defective portions found in the previous inspection process. In the flowchart of FIG. 12, the variable m is initialized (step L1), and the processes of steps J1 to J3 and steps S20 to S24 are executed. The continuation condition for this loop is that the variable m is equal to or less than the maximum number (Yes in step L2). In this case, the variable m is incremented (step L3) and the process returns to immediately after step L1. An end condition for such a loop is that the variable m exceeds the maximum number of defective parts found (No in step L2).
ループでなされる処理は以下の通りである。m番目の欠陥サブ画素をP(i,j)とし(ステップS20)、ステップJ1、J2、J3からなる判定ステップを実行する。ステップJ1は、P(i、j)を左下のサブ画素とする2×4のサブ画素の範囲に周辺滅点画素が存在せず、2×4のサブ画素を確保することが可能かどうかの判定である。ここで周辺滅点画素とは、1〜m−1番目の欠陥部が存在することで、滅点となるサブ画素のことである。本フローチャートでは、そのような周辺滅点画素との連続を生じさせないように、リペアの対象となるサブ画素を選ぶ。ステップJ1がYesであれば、もっとも広い面積の確保が必要なリペア、つまり、同色&異色滅点リペアを実行する(ステップS21)。ステップJ2は、P(i、j)を左下画素とする2×3のサブ画素の範囲に周辺滅点画素が存在せず、2×3個のサブ画素を確保することが可能かどうかの判定である。有機EL表示パネルの複数の列バンクのうち、行方向又は列方向の左端、右端に存在していて、P(i、j)を左下サブ画素とする2×4個のサブ画素、2×3のサブ画素を確保できないような場合、ステップJ1、J2の判定はNoとなる。また、他の欠陥部による滅点が周辺に存在する場合も同様である。 The processing performed in the loop is as follows. The m-th defective sub-pixel is set to P (i, j) (step S20), and a determination step including steps J1, J2, and J3 is executed. Step J1 determines whether there is no peripheral dark spot pixel in the range of 2 × 4 subpixels where P (i, j) is the lower left subpixel, and it is possible to secure a 2 × 4 subpixel. It is a judgment. Here, the peripheral dark spot pixel is a sub-pixel that becomes a dark spot due to the presence of the 1st to (m-1) th defective portions. In this flowchart, sub-pixels to be repaired are selected so as not to cause continuity with such peripheral dark spot pixels. If Step J1 is Yes, the repair that needs to secure the widest area, that is, the same color & different color disappearance repair is executed (Step S21). Step J2 determines whether there are no peripheral dark pixels in the range of 2 × 3 sub-pixels with P (i, j) as the lower left pixel, and 2 × 3 sub-pixels can be secured. It is. Of the plurality of column banks of the organic EL display panel, 2 × 4 sub-pixels that exist at the left and right ends in the row direction or the column direction and have P (i, j) as the lower left sub-pixel, 2 × 3 If the sub-pixel cannot be secured, the determinations in steps J1 and J2 are No. The same applies to the case where there are dark spots due to other defective portions.
ステップJ1がNo、ステップJ2がNoである場合、もっとも画素面積を必要としないリペアを実行するとして、つまり、欠陥部を取り囲む2×2のサブ画素をリペア対象として特定する(ステップS22)。
ステップJ1がNoであっても、ステップJ2がYesであれば、周辺滅点画素の位置に応じて同色滅点リペア、異色滅点リペアを選択的に実行する。ステップJ3は、P(i、j−3)、P(i+1、j−3)の一方が、周辺滅点画素でないかどうかの判定である。一方のみが周辺滅点画素でない場合、異色滅点リペアを実行する(ステップS23)。両方が周辺滅点画素でない場合、同色滅点リペアを実行する(ステップS24)。
When Step J1 is No and Step J2 is No, it is assumed that repair that does not require the most pixel area is executed, that is, 2 × 2 sub-pixels surrounding the defective portion are specified as repair targets (Step S22).
Even if Step J1 is No, if Step J2 is Yes, the same color dark spot repair and the different color dark spot repair are selectively executed according to the positions of the peripheral dark spot pixels. Step J3 is a determination as to whether one of P (i, j-3) and P (i + 1, j-3) is not a peripheral dark spot pixel. If only one is not a peripheral dark spot pixel, a different color dark spot repair is executed (step S23). If both are not peripheral dark spot pixels, the same color dark spot repair is executed (step S24).
[異色滅点リペア]
図13(a)は、異色滅点リペアの処理手順を示すフローチャートである。P(i、j−3)、P(i+1、j−3)のうち、周辺滅点画素でないもののX座標をdstXとし(ステップS32)、P(i、j−3)、P(i+1、j−3)のうち、周辺滅点画素となるもののX座標をUndstXとする(ステップS33)。そして、P(i、j)、(i+1、j)の上端行バンク、P(dstX、j−2)、(undstX、j−1)の下端の行バンクに沿って堰を形成する(ステップS34)。
[Discolored spot repair]
FIG. 13A is a flowchart showing a processing procedure for repairing a different color blinking point. Of P (i, j-3) and P (i + 1, j-3), the X coordinate of the peripheral non-disappearing pixel is set to dstX (step S32), P (i, j-3), P (i Among the +1, j-3), the X coordinate of the peripheral dark spot pixel is set as UndstX (step S33). Then, weirs are formed along the upper row bank of P (i, j), (i + 1, j) and the row bank at the lower end of P (dstX, j-2), (undstX, j−1) (step S34). ).
異色滅点リペアが適用される状況としては、図14(a)のように欠陥部、滅点が分布している状況が考えられる。この状況は、欠陥部にG(2、13)、B(3、13)が隣接していて、G(2,13)の3つ上のサブ画素G(2、10)が滅点になっている状況を示す。かかる状況で、図12、図13の処理が実行されると、G(2、13)がP(i、j)、B(3、13)がP(i+1、j)になり、dstXはX=3、undstXはX=2に設定される(図13(a)のS32、S33)。B(3、13)の3つ上は滅点になっていないからである。そのため、図13(b)に示すように欠陥部に隣接するG(2、13)、B(3、13)の下端の行バンクに沿って、堰13c23、堰13c33を形成し、それと共に、G(2、12)、B(3、11)の上端の行バンクに沿って、堰13c22、堰13c31を形成する(図13(a)のS34)。こうして形成した堰による滅点の連続カウントは、異色滅点カウントが1回、同色滅点カウントが1回になる。これにより、欠落部が属する帯状領域には、Gサブ画素及びBサブ画素が滅点となったRGBセットが1つ存在し、その上の帯状領域に、Gサブ画素が滅点になったRGBセット画素と、Bサブ画素が滅点になったRGBセット画素とが1つずつ存在することになる。堰が形成されていないサブ画素が介在することにより、2つのサブ画素が滅点になったRGBセットは1つのみなるので、サブ画素の欠落がユーザに意識されることはない。また、同じ列位置に滅点が連続していないので、滅点の存在がユーザに意識されることはない。 As a situation where the different color dark spot repair is applied, a situation where defective portions and dark spots are distributed as shown in FIG. In this situation, G (2, 13) and B (3, 13) are adjacent to the defective part, and the sub-pixel G (2, 10) three above G (2, 13) becomes the dark spot. Shows the situation. In this situation, when the processes of FIGS. 12 and 13 are executed, G (2, 13) becomes P (i, j), B (3, 13) becomes P (i + 1, j), and dstX Is set to X = 3, and undstX is set to X = 2 (S32 and S33 in FIG. 13A). This is because three points above B (3, 13) are not a dark spot. Therefore, as shown in FIG. 13 (b), weirs 13c23 and weirs 13c33 are formed along the row banks at the lower end of G (2, 13) and B (3, 13) adjacent to the defective part, A weir 13c22 and a weir 13c31 are formed along the row bank at the upper end of G (2, 12) and B (3, 11) (S34 in FIG. 13A). Consecutive counts of dark spots by the weirs thus formed will be one different color dark spot count and one same color dark spot count. As a result, there is one RGB set in which the G sub-pixel and B sub-pixel become dark spots in the band-like area to which the missing part belongs, and the RGB area in which the G sub-pixel becomes dark spot in the band-like area above it. There is one set pixel and one RGB set pixel in which the B sub pixel is a dark spot. Since there is only one RGB set in which two sub-pixels become dark spots due to the interposition of sub-pixels in which no weir is formed, the user is not aware of missing sub-pixels. Further, since the dark spots are not continuous at the same row position, the user is not aware of the presence of dark spots.
一方、混色が発生した場合、図14(c)に示すように堰形成の対象になった2つの帯状領域に介在するサブ画素に、混色が及ぶ。そのため、混色発生時においては、図2に示したリペア(2×2個のサブ画素を対象としたリペア)と比較して、同色滅点の範囲が拡大する結果となる。ただし、混色をもたらさない欠陥部と、混色をもたらす欠陥部との比率は9対1であり、一個の孤立したサブ画素の滅点や幅が1画素の滅点列は人間の視覚にはほとんど認識されないから、図14(d)に示すように、混色をもたらさない欠陥部については、その存在が視聴者に意識されない。そのため、全ての欠陥部に対して2×2個のサブ画素についてのリペアを実行する場合と比較して、表示品位は向上する。 On the other hand, when color mixing occurs, as shown in FIG. 14C, the color mixing extends to the sub-pixels interposed in the two belt-like regions that are the targets of dam formation. Therefore, when color mixture occurs, the range of the same color disappearance point is expanded as compared with the repair shown in FIG. 2 (repair for 2 × 2 sub-pixels). However, the ratio of the defect portion that does not cause color mixture to the defect portion that causes color mixture is 9 to 1, and the dark spot sequence of one isolated sub-pixel or the width of one pixel is almost invisible to human vision. Since it is not recognized, as shown in FIG. 14D, the viewer is not aware of the presence of the defective portion that does not cause color mixing. Therefore, the display quality is improved as compared with the case where repair is performed on 2 × 2 sub-pixels for all defective portions.
[同色滅点リペア]
図13(b)は、同色滅点リペアの処理手順を示すフローチャートである。P(i、j)、(i+1、j)の下端の行バンク、P(i、j−2)、(i+1、j−2)の上端の行バンクに沿って堰を形成する(ステップS35)。同色滅点リペアが適用される状況としては、図15(a)のように欠陥部、滅点が分布している状況が考えられる。この状況は、欠陥部にG(2、13)、B(3、13)が隣接していて、G(2,13)、B(3,13)から4つの帯状領域を隔てたサブ画素であるG(2,9)、B(3、9)が滅点になっている状況を示す。かかる状況で、図12、図13の処理が実行されると、G(2、13)がP(i、j)、B(3、13)がP(i+1、j)になり、これらから帯状領域を1つだけ隔てた2つのサブ画素がリペア対象として選ばれる。P(i、j)、P(i+1、j)から帯状領域を1だけ隔てた2つのサブ画素は滅点になっていないからである。そのため、図15(b)に示すように、欠陥部に隣接するG(2、13)、B(3、13)の下端の行バンクに沿って、堰13c23、堰13c33を形成し、それとともに、G(2、11)、B(3、11)の上端の行バンクに沿って、堰13c21、堰13c31を形成する(図13(b)のS35)。かかる堰形成により、異色滅点の連続カウントは2回になるが、同色滅点カウントは0回になる。図15(b)では、RGBセットのうち、Gサブ画素、Bサブ画素が滅点になったRGBセットが、1つの帯状領域置きに存在する。堰が形成されていない画素が介在することにより、Gサブ画素、Bサブ画素が滅点になったRGBセットが分散して出現するので、画素の欠落がユーザに意識されることはない。
[Same color flash repair]
FIG. 13B is a flowchart showing a processing procedure of the same color disappearance repair. A weir is formed along the row bank at the lower end of P (i, j), (i + 1, j) and the row bank at the upper end of P (i, j-2), (i + 1, j-2) (step S35). As a situation where the same color dark spot repair is applied, as shown in FIG. 15A, there may be a situation where defective portions and dark spots are distributed. In this situation, G (2, 13) and B (3, 13) are adjacent to the defective portion, and the sub-pixels are separated from G (2, 13) and B (3, 13) by four band-like regions. A situation where a certain G (2, 9), B (3, 9) is a dark spot is shown. In such a situation, when the processing of FIGS. 12 and 13 is executed, G (2, 13) becomes P (i, j) and B (3, 13) becomes P (i + 1, j). Two sub-pixels that are separated from each other by one band-like region are selected as repair targets. This is because the two sub-pixels that separate the band-like region by 1 from P (i, j) and P (i + 1, j) are not dark spots. Therefore, as shown in FIG. 15 (b), weirs 13c23 and weirs 13c33 are formed along the row banks at the lower end of G (2, 13) and B (3, 13) adjacent to the defective part, together with them. , G (2, 11), and B (3, 11), the weirs 13c21 and 13c31 are formed along the row banks at the upper end (S35 in FIG. 13B). Due to the formation of the weir, the continuous count of different color disappearance points is two, but the same color disappearance point count becomes zero. In FIG. 15B, among the RGB sets, there is an RGB set in which the G sub-pixel and the B sub-pixel become the dark spot every other band-like region. By interposing pixels in which no weir is formed, RGB sets in which the G sub-pixel and B sub-pixel become dark spots appear in a dispersed manner, so that the user is not aware of pixel loss.
一方、後段の有機発光層形成工程でインク材の混色が生じた場合、滅点画素の配置は図15(c)に示すものとなる。混色が生じた場合、同色滅点の個数が「2」、異色滅点の個数が「3」であるから、混色が生じた場合の同色滅点の個数、異色滅点の個数は、2×2個のサブ画素のリペアを施す場合と比較して増えている。また、同色滅点におけるサブ画素の連続数は「3」であり、同色滅点が大きくなっている。しかし、上述したように、混色を生じさせる欠陥部の個数は現実には少ないので、混色が生じた欠陥部において、異色滅点の数が増え、同色滅点が大きくなったとしても、表示品位に与える影響は小さい。 On the other hand, when color mixing of the ink material occurs in the subsequent organic light emitting layer forming step, the arrangement of the dark dot pixels is as shown in FIG. When the color mixture occurs, the number of the same color disappearance points is “2” and the number of the different color disappearance points is “3”. Therefore, when the color mixture occurs, the number of the same color disappearance points and the number of the different color disappearance points are 2 × Compared to the case of repairing two sub-pixels, the number is increased. Further, the number of consecutive sub-pixels at the same color disappearance point is “3”, and the same color disappearance point is larger. However, as described above, since the number of defective portions that cause color mixing is actually small, even if the number of different color darkening points increases and the same color darkening point increases in the defective portion where color mixing occurs, display quality is improved. The impact on is small.
[同色&異色滅点リペア]
図13(c)は、同色&異色滅点リペアの処理手順を示すフローチャートである。先ず、P(i、j−4)、P(i+1、j−4)のうち双方が周辺滅点画素であるか、一方が周辺滅点画素であるかを判定する(ステップJ5)。双方が周辺滅点画素であれば、そして、P(i、j)、(i+1、j)の下端の行バンクに沿って、P(i、j−2)、P(i+1、j−3)の上端の行バンクに沿って堰を形成する(ステップS41)。一方が周辺滅点画素である場合、P(i、j−4)、P(i+1、j−4)のうち、周辺滅点画素でないもののX座標をdstXとし(ステップS42)、P(i、j−4)、P(i+1、j−4)のうち、周辺滅点画素となるもののX座標をundstXとする(ステップS43)。そして、P(i、j)、(i+1、j)の上端行バンク、P(dstX、j−3)、(undstX、j−2)の下端の行バンクに沿って堰を形成する(ステップS44)。
[Same color & different color vanishing point repair]
FIG. 13C is a flowchart showing a processing procedure for repairing the same color and different color disappearance point. First, it is determined whether both of P (i, j-4) and P (i + 1, j-4) are peripheral dark spot pixels or one is a peripheral dark spot pixel (step J5). If both are peripheral dot pixels, then P (i, j-2), P (i + 1, j− along the row bank at the bottom of P (i, j), (i + 1, j) A weir is formed along the row bank at the upper end of 3) (step S41). If one is a peripheral dark spot pixel, the X coordinate of P (i, j-4), P (i + 1, j-4) that is not a peripheral dark spot pixel is set to dstX (step S42), and P ( Among i, j-4) and P (i + 1, j-4), the X coordinate of the peripheral dark spot pixel is set to undstX (step S43). Then, weirs are formed along the upper row banks of P (i, j) and (i + 1, j) and the lower row banks of P (dstX, j−3) and (undstX, j−2) (step S44). ).
同色&異色滅点リペアが適用される状況としては、図16(a)のように欠陥部、滅点が分布している状況が考えられる。この状況は、欠陥部にG(2、14)、B(3、14)が隣接していて、G(2,14)の4つ上のサブ画素G(2,10)が滅点になっている状況を示す。かかる状況で、図12、図13の処理が実行されると、G(2、14)がP(i、j)、B(3、14)がP(i+1、j)になり、X=3がdstX、X=2がundstXとして選ばれる(図13のS42、S43)。P(i+1、j)の4つ上は滅点になっていないからである。そのため、図16(b)に示すように、欠陥部に隣接するG(2、14)、B(3、14)の下端の行バンクに沿って、堰13c24、堰13c34を形成し、それと共にG(2、12)、B(3、11)の上端の行バンクに沿って、堰13c22、堰13c31を形成する(図13(b)のS44)。かかる堰形成により、異色滅点の連続カウントは1回になるが、同色滅点カウントは0回である。 As a situation where the same color & different color dark spot repair is applied, a situation in which defective portions and dark spots are distributed as shown in FIG. In this situation, G (2, 14) and B (3, 14) are adjacent to the defective part, and the sub-pixel G (2, 10) four above G (2, 14) becomes a dark spot. Shows the situation. In this situation, when the processes of FIGS. 12 and 13 are executed, G (2, 14) becomes P (i, j), B (3, 14) becomes P (i + 1, j), and X = 3 is selected as dstX, and X = 2 is selected as undstX (S42 and S43 in FIG. 13). This is because four points above P (i + 1, j) are not dark spots. Therefore, as shown in FIG. 16 (b), weirs 13c24 and 13c34 are formed along the row banks at the lower ends of G (2, 14) and B (3, 14) adjacent to the defective portion, and together with them A weir 13c22 and a weir 13c31 are formed along the row bank at the upper end of G (2, 12) and B (3, 11) (S44 in FIG. 13B). Due to the formation of the weir, the continuous count of different color disappearance points is one, but the same color disappearance point count is zero.
図16(b)では、帯状領域の内部に、Gサブ画素、Bサブ画素が滅点になったRGBセットが存在していて、堰が形成されていない画素が介在することにより、帯状領域を1つ空けて、Rサブ画素のみが滅点になったRGBセット、Bサブ画素のみが滅点になったRGBセットが存在する。
一方、後段の有機発光層形成工程でインク材の混色が生じた場合、滅点画素の配置は図16(c)に示すものとなる。混色が生じた場合、同色滅点の数は2個、異色滅点の数は「3」である。また、異色滅点の連続長は3、4であるから、混色が生じた場合、異色滅点の個数は増え、また、同色滅点が大きくなる。しかし、上述したように、混色を生じさせる欠陥部の個数は現実には少ないので、混色が生じた欠陥部において、異色滅点の数が増え、同色滅点が大きくなったとしても、表示品位に与える影響は小さい。図16(d)は、10個の欠陥部の全てに対して、同色滅点&異色滅点リペアがなされた有機EL表示パネルのレイアウトを示す。10個の欠陥部のうち、混色が発生しなかった9個の欠陥部に現れる滅点は、1個の異色滅点のみとなる。全ての欠陥部に対して2×2個のサブ画素に対してリペアを実行するのと比較して、同色滅点の連続カウント、同色滅点の連続カウントが存在することによる表示品位の劣化度合いは小さい。
In FIG. 16B, an RGB set in which the G sub-pixel and the B sub-pixel are dark spots exists inside the band-shaped area, and a pixel in which no weir is formed interposes the band-shaped area. There is an RGB set in which only one R sub-pixel is a dark spot, and only one B sub-pixel is a dark spot.
On the other hand, when color mixing of the ink material occurs in the subsequent organic light emitting layer forming step, the arrangement of the dark spot pixels is as shown in FIG. When color mixing occurs, the number of same color disappearance points is 2, and the number of different color disappearance points is “3”. Further, since the continuous lengths of the different color disappearance points are 3 and 4, when color mixing occurs, the number of different color disappearance points increases and the same color disappearance point increases. However, as described above, since the number of defective portions that cause color mixing is actually small, even if the number of different color darkening points increases and the same color darkening point increases in the defective portion where color mixing occurs, display quality is improved. The impact on is small. FIG. 16D shows a layout of the organic EL display panel in which the same color extinction points and different color extinction points are repaired for all the ten defect portions. Of the ten defect portions, the dark spot appearing in the nine defect portions where no color mixture has occurred is only one different color dark spot. Degree of display quality degradation due to the presence of a continuous count of the same color blinking point and a continuous count of the same color blinking point as compared to performing repair on 2 × 2 sub-pixels for all defective portions Is small.
こうして、異色滅点リペア、同色滅点リペア、同色&異色滅点リペアの何れかにより堰形成を行えば、かかる堰で囲まれる周辺滅点画素としてテーブルに登録し、以降のリペア対象の特定に用いる。
<変形例>
周辺滅点画素の配置に応じて、同色滅点リペア、異色滅点リペア、同色&異色滅リペア、2×2のサブ画素を対象としたリペアを選択的に実行することとしたが、同色滅点リペア、異色滅点リペア、同色&異色滅リペアの何れかのみを、画一的に実行してもよい。また、有機EL表示パネルの平面を画面中央部、画面端部に分けて、画面中央部に存在した欠陥部については、同色&異色滅点リペアを実行することとし、画面端部に存在した欠陥部については、同色滅点リペア、異色滅点リペアを実行することとしてもよい。複数の欠陥部について、交互に同色滅点リペア、異色滅点リペア、同色&異色滅リペアのそれぞれを選択してもよいし、同色滅点リペア、異色滅点リペア、同色&異色滅リペアをランダムに選択してもよい。
In this way, if weir formation is performed using any of the different color extinction point repair, the same color extinction point repair, and the same color & different color extinction point repair, it is registered in the table as a peripheral extinction pixel surrounded by such a weir, and the repair target is specified later. Use.
<Modification>
According to the arrangement of the peripheral dark spot pixels, the same color dark spot repair, the different color dark spot repair, the same color & different color fade repair, and the repair for 2 × 2 sub-pixels are selectively executed. Only one of the point repair, the different color extinction point repair, and the same color & different color extinction repair may be executed uniformly. In addition, the plane of the organic EL display panel is divided into the center of the screen and the edge of the screen, and for defects that exist in the center of the screen, the same color & different color flash point repair is executed, and the defects that exist in the edge of the screen The same color disappearance point repair and different color disappearance point repair may be executed. For multiple defects, you may select the same color flash point repair, different color flash point repair, the same color & different color flash repair, or the same color flash point repair, different color flash point repair, same color & different color flash repair. You may choose.
実施形態1では、行バンクに沿って堰を形成することとしたが、行バンクの上面に補修材を積層することで堰を形成してもよい。また、欠陥部に隣接する2つの矩形領域を横切ったり、欠陥部をL字で囲むように補修材を吐出して堰を形成してもよい。
事前計算により、最適な欠陥部の処理順序をあらかじめ算出してもよい、つまり、欠陥部の処理の順番が異なる様々な組み合わせを作成しておいて、それらの組み合わせの中で、もっとも滅点の連続数が少なくなるものを先に計算しておく。そのような計算で、滅点の連続数が、もっとも少なくなると算出された組み合わせを用いて、堰形成を行ってもよい。
In the first embodiment, the weir is formed along the row bank. However, the weir may be formed by laminating a repair material on the upper surface of the row bank. Alternatively, the weir may be formed by discharging a repair material so as to cross two rectangular regions adjacent to the defective portion or surround the defective portion with an L shape.
By pre-calculation, the optimal defect processing order may be calculated in advance, that is, various combinations with different defect processing orders may be created, First, calculate the one that has fewer consecutive numbers. In such a calculation, weir formation may be performed using a combination calculated when the number of consecutive dark spots is the smallest.
上記実施の形態1では、欠陥部の検出前に、バンク成形体の予備焼成を行ったが、欠陥部の検出後にバンク成形体の予備焼成を行ってもよく、同様の効果を奏する。
上記実施の形態では、バンク成形体をフォトリソグラフィー法で形成したが、バンク成形体の形成方法はフォトリソグラフィー法に限らない。
例えば、熱硬化性樹脂を含むバンク材をインプリント法で基板上にバンク形状に塗布することによってバンク成形体を形成することもできる。
In the first embodiment, the bank molded body is pre-fired before the defective portion is detected. However, the bank molded body may be pre-fired after the defective portion is detected, and the same effect is obtained.
In the above embodiment, the bank molded body is formed by the photolithography method, but the method for forming the bank molded body is not limited to the photolithography method.
For example, a bank molding can be formed by applying a bank material containing a thermosetting resin onto a substrate in a bank shape by an imprint method.
その場合も、上記実施の形態と同様に、バンク成形体予備焼成、欠陥部の検出、補修材の塗布を行うことによって、同様に補修されたバンクを形成し、同様の効果を得ることができる。
尚、上記実施の形態では、有機発光層で発生した光を共通電極27側から取り出す場合(トップエミッション)を例として説明したが、有機発光層で発生した光を画素電極22側から取り出すことも可能である(ボトムエミッション)。その場合、画素電極22は、ITO,IZO(登録商標),またはSnO2などの透明電極により構成され、共通電極27は、金(Au),白金(Pt),ニッケル(Ni),クロム(Cr),銅(Cu),タングステン(W),アルミニウム(Al),モリブデン(Mo)あるいは銀(Ag)などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成すべきである。共通電極27は反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。また、ボトムエミッションの場合には、カラーフィルタは、例えば基板におけるTFT層21bと層間絶縁層21cとの間に設けることが可能である。
Even in that case, similarly to the above embodiment, by performing preliminary firing of the bank molded body, detection of a defective portion, and application of a repair material, it is possible to form a repaired bank and obtain the same effect. .
In the above embodiment, the case where light generated in the organic light emitting layer is extracted from the
また、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではない。また、上記実施の形態では、TFT層が設けられた基板に近い側にアノード極である画素電極、遠い側にカソード極である共通電極を設けていた。これに限らず、TFT層が設けられた基板に近い側にカソード極、遠い側にアノード極が設けられている場合も、同様に実施できる。 For example, the material and thickness of each layer described in the above embodiment, the film formation method, the film formation conditions, or the like are not limited. In the above embodiment, the pixel electrode that is the anode electrode is provided on the side closer to the substrate on which the TFT layer is provided, and the common electrode that is the cathode electrode is provided on the far side. The present invention is not limited to this, and the same can be applied to the case where the cathode electrode is provided on the side closer to the substrate on which the TFT layer is provided and the anode electrode is provided on the far side.
(6)以上で説明した実施の形態は、いずれも本開示の実施形態の好ましい一具体例を示すものである。実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、工程、工程の順序などは一例であり、本開示の実施形態を限定する主旨ではない。また、実施の形態における構成要素のうち、本開示の実施形態の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない工程については、より好ましい形態を構成する任意の構成要素として説明される。また、発明の理解の容易のため、上記各実施の形態で挙げた各図の構成要素の縮尺は実際のものと異なる場合がある。また本開示の実施形態は上記各実施の形態の記載によって限定されるものではなく、本開示の実施形態の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。さらに、有機EL表示パネルにおいては基板上に回路部品、リード線等の部材も存在するが、電気的配線、電気回路について当該技術分野における通常の知識に基づいて様々な態様を実施可能であり、本開示の実施形態の説明として直接的には無関係のため、説明を省略している。尚、上記示した各図は模式図であり、必ずしも厳密に図示したものではない。 (6) Each of the embodiments described above shows a preferred specific example of the embodiment of the present disclosure. Numerical values, shapes, materials, constituent elements, arrangement positions and connection forms of constituent elements, processes, order of processes, and the like shown in the embodiments are merely examples, and are not intended to limit the embodiments of the present disclosure. In addition, among the constituent elements in the embodiment, steps that are not described in the independent claims indicating the highest concept of the embodiment of the present disclosure are described as arbitrary constituent elements that constitute a more preferable form. Further, for easy understanding of the invention, the scales of the components shown in the above-described embodiments may be different from actual ones. Further, the embodiment of the present disclosure is not limited by the description of each embodiment described above, and can be appropriately changed without departing from the gist of the embodiment of the present disclosure. Furthermore, in the organic EL display panel, there are also components such as circuit components and lead wires on the substrate, but various modes can be implemented based on ordinary knowledge in the technical field regarding electrical wiring and electrical circuits. Since it is not directly relevant to the description of the embodiment of the present disclosure, the description is omitted. Each figure shown above is a schematic diagram, and is not necessarily illustrated strictly.
本発明にかかる有機EL表示パネル及びその製造方法は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に用いられる有機EL表示装置を製造するのに利用可能である。 The organic EL display panel and the manufacturing method thereof according to the present invention, for example, manufacture an organic EL display device used for various display devices for home use or public facilities, or for business use, television devices, displays for portable electronic devices, and the like. It is available to do.
1 有機EL表示装置
10 有機EL表示パネル
11c11〜11c81 列バンク
12r1〜12r3 行バンク
13 堰
20 凹領域
21 下地基板
21a 基板本体部
21b TFT層
21c 層間絶縁層
22 画素電極
23 ホール注入層
25 有機発光層
26 電子輸送層
27 共通電極
28 封止層
102、103 走査線駆動回路
104、105 信号線駆動回路
106 制御回路
200 補修装置
201 ベース
202 テーブル
210 ヘッド部
211 撮像素子
212 ディスペンサ
213 ニードル
214 タンク
230 コントローラ
231 記憶部
DESCRIPTION OF
Claims (10)
基板と、
基板上の複数の画素のそれぞれに対応する位置に配置された画素電極と、
画素電極の列方向における端縁を覆い、行方向に延伸する複数の行バンクと、
画素電極の行方向における端縁を覆い、列方向に延伸する複数の列バンクと、
複数の隣接する列バンクと、複数の隣接する行バンクとで区切られた矩形領域に形成された複数の有機発光層と、
画素電極に対向する共通電極とを備え、
前記複数の列バンクのうち、何れかに欠陥部が存在していて、前記欠陥部が存する列バンクの両側にある第1矩形領域及び第2矩形領域と、第1矩形領域と同じ列位置にある第3矩形領域と、第2矩形領域と同じ列位置にある第4矩形領域とには、補修材からなる堰が、行バンクよりも背高姿勢で形成されており、
第1矩形領域と、第3矩形領域との間、及び、第2矩形領域と、第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させてある
ことを特徴とする有機EL表示パネル。 An organic EL display panel in which a plurality of pixels are arranged in a matrix,
A substrate,
A pixel electrode disposed at a position corresponding to each of a plurality of pixels on the substrate;
A plurality of row banks covering edges in the column direction of the pixel electrodes and extending in the row direction;
A plurality of column banks covering edges of the pixel electrodes in the row direction and extending in the column direction;
A plurality of organic light emitting layers formed in a rectangular region delimited by a plurality of adjacent column banks and a plurality of adjacent row banks;
A common electrode facing the pixel electrode,
A defect portion exists in any of the plurality of column banks, and the first rectangular region and the second rectangular region on both sides of the column bank in which the defect portion exists, and at the same column position as the first rectangular region In a third rectangular area and a fourth rectangular area at the same column position as the second rectangular area, a weir made of repair material is formed in a taller posture than the row bank,
At least one rectangular area without a weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area, or between the second rectangular area and the fourth rectangular area. An organic EL display panel.
ことを特徴とする請求項1記載の有機EL表示パネル。 In the row direction of the substrate, the first rectangular region and the third rectangular region are adjacent to each other, and a rectangular region having no weir is provided between the second rectangular region and the fourth rectangular region. 2. The organic EL display panel according to claim 1, wherein two organic EL display panels are interposed.
ことを特徴とする請求項1記載の有機EL表示パネル。 One rectangular region without the weir is interposed between the first rectangular region and the third rectangular region, and between the second rectangular region and the fourth rectangular region. 2. The organic EL display panel according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1記載の有機EL表示パネル。 One rectangular area without the weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area, and the weir is between the second rectangular area and the fourth rectangular area. 2. The organic EL display panel according to claim 1, wherein two non-rectangular regions are interposed.
ことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の有機EL表示パネル。 The organic EL display panel according to claim 1, wherein a height of the column bank from the substrate is higher than that of the row bank.
基板上の複数の画素のそれぞれに対応する位置に画素電極を形成する工程、
画素電極の列方向における端縁を覆うよう複数の行バンクを形成して、行方向に延伸させる工程、
画素電極の行方向における端縁を覆うよう複数の列バンクを形成して、列方向に延伸させることで、基板上の領域を、複数の矩形領域に区切る工程、
形成された複数の列バンクの中から欠陥部を検出する工程、
検出された1の欠陥部が存する列バンクの両側にある第1矩形領域及び第2矩形領域と、第1矩形領域と同じ列位置にある第3矩形領域と、第2矩形領域と同じ列位置にある第4矩形領域とに、補修材からなる堰を、行バンクよりも背高姿勢で形成する工程、
複数矩形領域のそれぞれに、有機発光材料を含むインクを塗布して乾燥することで有機発光層を形成する工程、
前記画素電極に対向するよう、共通電極を形成する工程を含み、
前記第1矩形領域と、前記第3矩形領域との間、及び、前記第2矩形領域と、前記第4矩形領域との間の何れかに、堰がない矩形領域を少なくとも1つ介在させる
ことを特徴とする製造方法。 A manufacturing method for manufacturing an organic EL display panel in which a plurality of pixels are arranged in a matrix,
Forming a pixel electrode at a position corresponding to each of a plurality of pixels on the substrate;
Forming a plurality of row banks so as to cover edges in the column direction of the pixel electrodes, and extending in the row direction;
Forming a plurality of column banks so as to cover edges in the row direction of the pixel electrodes, and extending in the column direction, thereby dividing a region on the substrate into a plurality of rectangular regions;
Detecting a defect from a plurality of formed row banks;
The first rectangular area and the second rectangular area on both sides of the column bank where the detected one defective portion exists, the third rectangular area at the same column position as the first rectangular area, and the same column position as the second rectangular area A step of forming a weir made of a repair material with a taller posture than the row bank in the fourth rectangular region in
Forming an organic light emitting layer by applying an ink containing an organic light emitting material to each of the plurality of rectangular regions and drying;
Forming a common electrode to face the pixel electrode;
At least one rectangular area without a weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area and between the second rectangular area and the fourth rectangular area. The manufacturing method characterized by this.
ことを特徴とする請求項6記載の製造方法。 In the row direction of the substrate, the first rectangular region and the third rectangular region are adjacent to each other, and a rectangular region without the weir is between the second rectangular region and the fourth rectangular region. 7. The production method according to claim 6, wherein one is interposed.
ことを特徴とする請求項6記載の製造方法。 One rectangular region without a weir is interposed between each of the first rectangular region and the third rectangular region, and between the second rectangular region and the fourth rectangular region. The manufacturing method of Claim 6.
ことを特徴とする請求項6記載の製造方法。 One rectangular area without the weir is interposed between the first rectangular area and the third rectangular area, and the weir is between the second rectangular area and the fourth rectangular area. The manufacturing method according to claim 6, wherein two non-rectangular regions are interposed.
ことを特徴とする請求項6〜9の何れかに記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 6, wherein a height of the column bank from the substrate is higher than that of the row bank.
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