JP2018101532A - Manufacturing method of organic el display panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress expansion of color mixture due to an extraneous material adhering to a bank, while reducing the number of demerit points resulting from repair of the bank, in the manufacture of organic EL display panel.SOLUTION: A manufacturing method of organic EL display panel includes a step of forming a bank elongating on a board in the column direction, a step of detecting an extraneous material existing while superposing the bank in the plan view of the board, a step of determining whether or not repair is required for a bank on the periphery of the detected extraneous material, and a step of repairing the bank according to the determination results. In the determination step, if a bank exists below the detected extraneous material, a determination is made that repair is required when the ratio of the width of the extraneous material to the width of the bank is larger than α1, and if a bank exists above the detected extraneous material, a determination is made that repair is required when the ratio of the width of the extraneous material to the width of the bank is larger than or equal to α2 that is larger than α1.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本開示は、有機材料の電界発光現象を利用した有機EL(Electro Luminescence)素子が行列状に配された有機EL表示パネルの製造方法に関し、特にバンクを形成する工程に関する。   The present disclosure relates to a method for manufacturing an organic EL display panel in which organic EL (Electro Luminescence) elements using an electroluminescence phenomenon of an organic material are arranged in a matrix, and particularly to a step of forming a bank.

近年、発光型の表示装置として、有機EL表示パネルが実用化されている。有機EL表示パネルにおいて、各有機EL素子は、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む発光層が配設された基本構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発生する電流駆動型の発光素子である。   In recent years, organic EL display panels have been put into practical use as light-emitting display devices. In the organic EL display panel, each organic EL element has a basic structure in which a light emitting layer containing an organic light emitting material is disposed between a pair of electrodes of an anode and a cathode. This is a current-driven light-emitting element that is generated by recombination of holes injected from the anode into the light-emitting layer and electrons injected from the cathode into the light-emitting layer.

有機EL表示パネルの製造において、基板上をバンクで区画し、各区画に発光層が形成される。バンクは、感光性の熱硬化性樹脂を用いてフォトリソグラフィー法でバンク形状にパターニングして、加熱焼成することによって形成される。
発光層の形成には、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を含む発光層形成用のインクを、インクジェット法等で凹空間に塗布するウェット方式が多く用いられている。このウェット方式によれば、大型のパネルにおいても発光層をはじめとする有機機能層を比較的容易に形成することができる。
In manufacturing an organic EL display panel, a substrate is partitioned by banks, and a light emitting layer is formed in each partition. The bank is formed by patterning into a bank shape by a photolithography method using a photosensitive thermosetting resin, followed by heating and baking.
For forming the light emitting layer, a wet method is often used in which ink for forming a light emitting layer containing a polymer material or a low molecule having good thin film formability is applied to a concave space by an inkjet method or the like. According to this wet method, an organic functional layer including a light emitting layer can be formed relatively easily even in a large panel.

特開2016−71992号JP-A-2006-71992

上記のような有機EL表示パネルの製造過程においてバンクに異物が付着すると、発光層を形成するときに、その異物が存在するバンクを挟んで塗布される異なる色のインク同士が混合されて混色が生じることがある。この混色は、特に列方向に延伸するバンクを設ける構成において、バンクに沿って複数画素に拡大し、重大な表示不良を引き起こす可能性がある。   If foreign matter adheres to the bank in the manufacturing process of the organic EL display panel as described above, when forming the light emitting layer, different color inks applied across the bank where the foreign matter is present are mixed to form a mixed color. May occur. In particular, in a configuration in which a bank extending in the column direction is provided, this color mixture is enlarged to a plurality of pixels along the bank, which may cause a serious display defect.

そこで、例えば、特許文献1には、異物が付着したバンクを補修することによって、表示パネルにおける混色の拡大を抑える技術が開示されている。
しかし、バンクに付着した異物に対して補修材を塗布して補修すると、補修した箇所の周囲でバンクの形状が崩れることがある。形成されるバンクの形状が崩れると、バンク同士の間に形成する発光層などが、本来の形状に形成されず、発光層が発光しない(画素が発光しない)「滅点」の原因となる。
Thus, for example, Patent Document 1 discloses a technique for suppressing the expansion of color mixture in a display panel by repairing a bank to which foreign matter has adhered.
However, if a repair material is applied to the foreign matter adhered to the bank and repaired, the shape of the bank may collapse around the repaired portion. When the shape of the formed bank collapses, the light emitting layer formed between the banks is not formed into the original shape, causing a “dark spot” that the light emitting layer does not emit light (pixel does not emit light).

このように混色の拡大を抑えるためにバンクの補修を行うと滅点が発生してしまうが、有機EL表示パネルの画質改善のために滅点の数は少ないことが望ましい。
本開示は、上記課題に鑑み、有機EL表示パネルの製造過程において、バンクに付着した異物による混色の拡大を抑制すると共に、バンクの補修に起因する滅点の数を削減できる有機EL表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
As described above, when the bank is repaired to suppress the expansion of the mixed color, dark spots are generated. However, it is desirable that the number of dark spots is small in order to improve the image quality of the organic EL display panel.
In view of the above-described problems, the present disclosure suppresses expansion of color mixture due to foreign matters attached to a bank in the manufacturing process of the organic EL display panel, and reduces the number of dark spots resulting from repair of the bank. An object is to provide a manufacturing method.

本開示の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法は、基板上を複数のバンクで区画し、各区画に発光層が形成されてなる有機EL表示パネルの製造方法であって、基板上に列方向に延伸するバンクを形成する工程と、基板を平面視した場合にバンクと重なった状態で存する異物を検出する工程と、検出した異物周辺におけるバンクに対して、補修が必要であるか否かを判定する工程と、判定結果に応じてバンクを補修する工程と、を含む。判定する工程において、検出した異物の下方にバンクが存在する場合、バンクの幅に対する異物の幅の割合がα1より大きいときに補修が必要であると判定し、検出した異物の上方にバンクが存在する場合、バンクの幅に対する異物の幅の割合がα1より大きいα2以上のときに補修が必要であると判定することを特徴とする。   A method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present disclosure is a method for manufacturing an organic EL display panel in which a substrate is partitioned by a plurality of banks, and a light emitting layer is formed in each partition. A step of forming banks extending in the column direction, a step of detecting foreign matter existing in a state of overlapping with the bank when the substrate is viewed in plan, and whether or not repair is necessary for the bank around the detected foreign matter. And a step of repairing the bank according to the determination result. In the determining step, if a bank exists below the detected foreign object, it is determined that repair is necessary when the ratio of the foreign object width to the bank width is greater than α1, and there is a bank above the detected foreign object. In this case, when the ratio of the width of the foreign object to the width of the bank is equal to or larger than α2 which is larger than α1, it is determined that repair is necessary.

本開示の有機EL表示パネルの製造方法によれば、バンクに付着した異物による混色の拡大を抑制すると共に、バンクの補修に起因する滅点の数を削減することができる。   According to the manufacturing method of the organic EL display panel of the present disclosure, it is possible to suppress the expansion of the color mixture due to the foreign matter attached to the bank and to reduce the number of dark spots caused by the repair of the bank.

有機EL表示装置の構成を示す模式ブロック図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of an organic electroluminescence display. 表示パネルの表示面側から見た概略構成を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the schematic structure seen from the display surface side of the display panel. 表示パネルをA−A’線で切断した一部拡大断面図である。It is the partially expanded sectional view which cut | disconnected the display panel by the A-A 'line. 表示パネルの製造過程を示す模式工程図である。It is a schematic process diagram which shows the manufacturing process of a display panel. バンク形成工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows a bank formation process typically. バンクに付着する異物を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the foreign material adhering to a bank. 堰を形成しない比較例において混色が発生していることを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically that color mixing has generate | occur | produced in the comparative example which does not form a weir. 異物の検出とその補修に用いる補修装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the repair apparatus used for the detection of a foreign material, and its repair. 異物のバンクへの重なり度合いの計算方法を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the calculation method of the overlapping degree to the bank of a foreign material. バンクの補修を行うか否かを判定するフローチャートの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the flowchart which determines whether repair of a bank is performed. バンクの補修により形成された堰を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the weir formed by repair of a bank. 欠陥部の周辺の画像において設定された塗布位置を示す図である。It is a figure which shows the application | coating position set in the image around a defect part. 補修材を塗布することによって、堰が形成される様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that a weir is formed by apply | coating a repair material. 堰を形成により混色領域の範囲が制限されることを示す図である。It is a figure which shows that the range of a color mixing area | region is restrict | limited by forming a weir.

≪実施形態の概要≫
本開示の態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法は、基板上を複数のバンクで区画し、各区画に発光層が形成されてなる有機EL表示パネルの製造方法であって、基板上に列方向に延伸するバンクを形成する工程と、基板を平面視した場合にバンクと重なった状態で存する異物を検出する工程と、検出した異物周辺におけるバンクに対して、補修が必要であるか否かを判定する工程と、判定結果に応じてバンクを補修する工程と、を含む。判定する工程において、検出した異物の下方にバンクが存在する場合、バンクの幅に対する異物の幅の割合がα1より大きいときに補修が必要であると判定し、検出した異物の上方にバンクが存在する場合、バンクの幅に対する異物の幅の割合がα1より大きいα2以上のときに補修が必要であると判定することを特徴とする。
<< Summary of Embodiment >>
A method for manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1 of the present disclosure is a method for manufacturing an organic EL display panel in which a substrate is partitioned by a plurality of banks, and a light emitting layer is formed in each partition. A step of forming banks extending in the column direction, a step of detecting foreign matter existing in a state of overlapping with the bank when the substrate is viewed in plan, and whether or not repair is necessary for the bank around the detected foreign matter. And a step of repairing the bank according to the determination result. In the determining step, if a bank exists below the detected foreign object, it is determined that repair is necessary when the ratio of the foreign object width to the bank width is greater than α1, and there is a bank above the detected foreign object. In this case, when the ratio of the width of the foreign object to the width of the bank is equal to or larger than α2 which is larger than α1, it is determined that repair is necessary.

係る構成により、バンクに付着した異物による混色の拡大を抑制すると共に、バンクの補修に起因する滅点の数を削減することができる。
本開示の態様2に係る有機EL表示パネルの製造方法は、態様1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、α1は0であり、α2は0.5であることを特徴とする。
係る構成により、バンクに付着した異物の大きさに応じて補修を行うか否かを適切に判定することができる。
With such a configuration, it is possible to suppress the expansion of the color mixture due to the foreign matter attached to the bank and reduce the number of dark spots resulting from the repair of the bank.
The method for manufacturing an organic EL display panel according to aspect 2 of the present disclosure is characterized in that α1 is 0 and α2 is 0.5 in the method for manufacturing an organic EL display panel according to aspect 1.
With such a configuration, it is possible to appropriately determine whether or not the repair is performed according to the size of the foreign matter attached to the bank.

本開示の態様3に係る有機EL表示パネルは、態様1又は態様2に係る有機EL表示パネルの製造方法において、異物を検出する工程において、バンクを形成する工程の前に異物検出を行うことによりバンクの下方に存在する異物を検出し、バンクを形成する工程の後に異物検出を行うことによりバンクの上方に存在する異物を検出することを特徴とする。   The organic EL display panel according to Aspect 3 of the present disclosure is a method for manufacturing an organic EL display panel according to Aspect 1 or Aspect 2. By detecting the foreign matter before the step of forming a bank in the step of detecting the foreign matter. Foreign matter existing below the bank is detected, and foreign matter existing above the bank is detected by detecting foreign matter after the step of forming the bank.

係る構成により、バンクの上方に存在する異物とバンクの下方に存在する異物とを区別して検出できる。
≪実施の形態≫
[1.有機EL表示パネルの構成]
図1は、実施形態1に係る表示パネル100を有する有機EL表示装置1の構成を示す模式ブロック図である。
With such a configuration, it is possible to distinguish and detect foreign matter existing above the bank and foreign matter existing below the bank.
<< Embodiment >>
[1. Configuration of organic EL display panel]
FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating a configuration of an organic EL display device 1 having a display panel 100 according to the first embodiment.

図1に示すように、有機EL表示装置1は、表示パネル100と、これに接続された駆動制御部101とを有している。表示パネル100は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機EL素子10が基板上にマトリクス状に配列されている。駆動制御部101は、4つの駆動回路102〜105と制御回路106とから構成されている。   As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes a display panel 100 and a drive control unit 101 connected thereto. The display panel 100 is a panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements 10 are arranged in a matrix on a substrate. The drive control unit 101 includes four drive circuits 102 to 105 and a control circuit 106.

なお、表示パネル100に対する駆動制御部101の配置などは、これに限られない。
図2は、表示パネル100の表示面側から見た概略構成を模式的に示す平面図である。図3は、表示パネル100を図2のA−A’線で切断した一部拡大断面図である。表
示パネル100は、いわゆるトップエミッション型であって、Z方向側が表示面となっている。
The arrangement of the drive control unit 101 with respect to the display panel 100 is not limited to this.
FIG. 2 is a plan view schematically showing a schematic configuration viewed from the display surface side of the display panel 100. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the display panel 100 taken along the line AA ′ of FIG. The display panel 100 is a so-called top emission type, and has a display surface on the Z direction side.

図3に示すように、表示パネル100は、その主な構成として、下地基板11、画素電極12、ホール注入層13、バンク14、有機発光層15、電子輸送層16、共通電極17、封止層18を備える。そして、赤(R),緑(G),青(B)の何れかの発光色に対応する有機発光層15を有する有機EL素子10をサブピクセルとし、図2に示すように、サブピクセルがマトリクス状に配設されている。   As shown in FIG. 3, the display panel 100 includes, as main components, a base substrate 11, a pixel electrode 12, a hole injection layer 13, a bank 14, an organic light emitting layer 15, an electron transport layer 16, a common electrode 17, and a sealing. Layer 18 is provided. Then, the organic EL element 10 having the organic light emitting layer 15 corresponding to any one of the emission colors of red (R), green (G), and blue (B) is set as a sub pixel, and as shown in FIG. Arranged in a matrix.

なお、図2においては、電子輸送層16、共通電極17、封止層18を取り除いた状態を示している。
[2.有機EL表示パネルの構成材料]
(1)下地基板
下地基板11は、基板本体部11a、TFT(薄膜トランジスタ)層11b、層間絶縁層11cを有する。
2 shows a state in which the electron transport layer 16, the common electrode 17, and the sealing layer 18 are removed.
[2. Materials for organic EL display panel]
(1) Base Substrate The base substrate 11 includes a substrate body 11a, a TFT (thin film transistor) layer 11b, and an interlayer insulating layer 11c.

基板本体部11aは、表示パネル100の基材となる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル樹脂、アルミナ等の絶縁性材料のいずれかで形成することができる。
TFT層11bは、基板本体部11aの表面にサブピクセル毎に設けられており、各々には薄膜トランジスタ素子を含む画素回路が形成されている。
The substrate body 11a is a part that becomes a base material of the display panel 100, and can be formed of any of insulating materials such as alkali-free glass, soda glass, polycarbonate resin, polyester resin, and alumina.
The TFT layer 11b is provided for each subpixel on the surface of the substrate main body 11a, and a pixel circuit including a thin film transistor element is formed in each.

層間絶縁層11cは、TFT層11b上に形成されている。層間絶縁層11cは、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の有機絶縁材料、SiO(酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)等の無機絶縁材料からなり、TFT層11bと画素電極12との間の電気的絶縁性を確保すると共に、TFT層11bの上面に段差が存在してもそれを平坦化して、画素電極12を形成する下地面への影響を抑える機能を持つ。   The interlayer insulating layer 11c is formed on the TFT layer 11b. The interlayer insulating layer 11c is made of an organic insulating material such as polyimide resin, acrylic resin, or novolak type phenol resin, or an inorganic insulating material such as SiO (silicon oxide) or SiN (silicon nitride). The TFT layer 11b and the pixel electrode 12 are formed. And has a function of flattening even if a step exists on the upper surface of the TFT layer 11b and suppressing the influence on the base surface on which the pixel electrode 12 is formed.

(2)画素電極
画素電極12は、サブピクセル毎に個別に設けられた画素電極であり、例えば、Ag(銀)、Al(アルミニウム)、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)等の光反射性導電材料からなる。本実施形態において、画素電極12は、陽極である。
(2) Pixel electrode The pixel electrode 12 is a pixel electrode provided for each sub-pixel. For example, Ag (silver), Al (aluminum), aluminum alloy, Mo (molybdenum), APC (silver, palladium, It is made of a light reflective conductive material such as a copper alloy. In the present embodiment, the pixel electrode 12 is an anode.

なお、画素電極12の表面にさらに公知の透明導電膜を設けてもよい。透明導電膜の材料としては、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛(IZO)を用いることができる。透明導電膜は、画素電極12とホール注入層13の間に介在し、各層間の接合性を良好にする機能を有する。
(3)ホール注入層
ホール注入層13は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物、あるいは、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料からなる層である。上記の内、酸化金属からなるホール注入層13は、ホールを安定的に、またはホールの生成を補助して、有機発光層15に対しホールを注入および輸送する機能を有する。
A known transparent conductive film may be further provided on the surface of the pixel electrode 12. As a material of the transparent conductive film, for example, indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) can be used. The transparent conductive film is interposed between the pixel electrode 12 and the hole injection layer 13 and has a function of improving the bonding property between the respective layers.
(3) Hole injection layer The hole injection layer 13 is made of, for example, silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), iridium (Ir), or the like. It is a layer made of a conductive polymer material such as an oxide or PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid). Among the above, the hole injection layer 13 made of metal oxide has a function of injecting and transporting holes to the organic light emitting layer 15 in a stable manner or assisting the generation of holes.

(4)バンク
ホール注入層13の表面には、Y方向に伸長する平面視にて短冊状のバンク14が複数本並列に設けられている。このバンク14は、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。
バンク材料としては、熱を加えることによって硬化する熱硬化型の樹脂のからなる組成物を用いる。そして、この組成物には、UV光を照射することによって重合を開始させる光重合開始剤などが含まれる。
(4) Bank On the surface of the hole injection layer 13, a plurality of strip-shaped banks 14 are provided in parallel in a plan view extending in the Y direction. The bank 14 is made of an insulating organic material (for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac type phenol resin, or the like).
As the bank material, a composition made of a thermosetting resin that is cured by applying heat is used. The composition includes a photopolymerization initiator that initiates polymerization by irradiation with UV light.

樹脂の種類としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。
また、この樹脂構造の中に、フッ素を含むフッ化ポリマーを導入してもよい。フッ化ポリマーとしては、フッ素化ポリオレフィン系樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアクリル樹脂などのフッ素樹脂を含む感光性レジストが挙げられる。
As a kind of resin, the thermosetting resin which has ethylenic double bonds, such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, is mentioned, for example. Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to these resin, for example, an epoxy compound, a polyisocyanate compound.
Further, a fluorinated polymer containing fluorine may be introduced into the resin structure. Examples of the fluorinated polymer include a photosensitive resist containing a fluorinated resin such as a fluorinated polyolefin resin, a fluorinated polyimide resin, and a fluorinated polyacrylic resin.

フッ化ポリマーを導入した樹脂の具体例としては、フルオロエチレンとビニルエーテルとの共重合体であるルミフロン(LUMIFLON、登録商標、旭硝子)が挙げられる。
あるいは、樹脂に撥インク剤を添加してもよい。
各バンク14の断面は、図3に示されるように台形であって、バンク14同士の間には、バンク14によって区画された溝空間が形成され、そこに有機発光層15が形成されている。
Specific examples of the resin into which the fluorinated polymer is introduced include Lumiflon (registered trademark, Asahi Glass), which is a copolymer of fluoroethylene and vinyl ether.
Alternatively, an ink repellent agent may be added to the resin.
The cross section of each bank 14 is trapezoidal as shown in FIG. 3, and a groove space defined by the bank 14 is formed between the banks 14, and the organic light emitting layer 15 is formed there. .

このバンク14は、有機発光層15をウェット法で形成するときに、塗布されたインクがあふれ出ないようにする構造物として機能する。
(5)補修材
なお、バンク14に異物が検出されると、補修材を用いてバンク14の補修を行う。
補修材としては、光や熱を加えることによって硬化する樹脂の組成物を用いることができる。
The bank 14 functions as a structure that prevents the applied ink from overflowing when the organic light emitting layer 15 is formed by a wet method.
(5) Repair material When a foreign object is detected in the bank 14, the repair of the bank 14 is performed using the repair material.
As the repair material, a resin composition that is cured by applying light or heat can be used.

樹脂としては、例えば、(メタ)アクロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基などのエチレン性の二重結合を有する硬化性の樹脂が挙げられる。
また、樹脂に対して架橋する架橋剤、例えば、エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を添加してもよい。
また、この樹脂構造の中に、フッ素が導入されているフッ化ポリマーを用いてもよい。
Examples of the resin include curable resins having an ethylenic double bond such as a (meth) acryloyl group, an allyl group, a vinyl group, and a vinyloxy group.
Moreover, you may add the crosslinking agent which bridge | crosslinks with respect to resin, for example, an epoxy compound and a polyisocyanate compound.
Moreover, you may use the fluoropolymer in which the fluorine was introduce | transduced in this resin structure.

補修材の樹脂にフッ素が導入されることによって、形成される堰5に撥インク性を付与することができる。あるいは、樹脂に各種の撥インク剤を添加してもよい。
なお、補修材の樹脂として、バンク成形体14aを形成するバンク材料の樹脂と同じものを用いてもよい。ただしバンク材料の場合は、アルカリ現像液に可溶の酸成分が含まれているが、堰を形成する補修材には、アルカリ現像液に可溶の酸成分は含有しないことが好ましい。これは、堰成形体5aを形成するときには現像は行われず、酸成分が堰5に残存すると堰5の耐溶剤性が低下するためである。
By introducing fluorine into the resin of the repair material, ink repellency can be imparted to the formed weir 5. Alternatively, various ink repellent agents may be added to the resin.
Note that, as the resin for the repair material, the same resin as the bank material for forming the bank molded body 14a may be used. However, in the case of the bank material, an acid component soluble in the alkali developer is contained, but it is preferable that the repair material forming the weir does not contain an acid component soluble in the alkali developer. This is because the development is not performed when the weir molded body 5a is formed, and the solvent resistance of the weir 5 is reduced when the acid component remains in the weir 5.

補修材には、このような樹脂組成物に、溶剤、光重合開始剤を適宜添加する。
溶剤としては、樹脂に対する溶解性を有するもので、沸点が150〜250℃程度の溶剤を1種類あるいは2種類以上用いることができる。
光重合開始剤としては、市販の各種光重合開始剤を用いることができる。
(6)有機発光層
有機発光層15は、キャリア(正孔と電子)が再結合して発光する部位であって、R,G,Bのいずれかの色に対応する有機材料を含む。
To the repair material, a solvent and a photopolymerization initiator are appropriately added to such a resin composition.
As a solvent, it has the solubility with respect to resin, The solvent whose boiling point is about 150-250 degreeC can use 1 type, or 2 or more types.
Various commercially available photopolymerization initiators can be used as the photopolymerization initiator.
(6) Organic Light-Emitting Layer The organic light-emitting layer 15 is a site where carriers (holes and electrons) recombine and emits light, and includes an organic material corresponding to any color of R, G, and B.

この有機発光層15は、上記のバンク14によって区画されたY方向に伸長する溝状の凹空間(図6の溝空間20)に形成されている。
そして、互いに色の異なる有機発光層15は、バンク14を挟んで配置されている。
有機発光層15の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)、ポリフルオレン、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
The organic light emitting layer 15 is formed in a groove-like concave space (groove space 20 in FIG. 6) that extends in the Y direction and is partitioned by the bank 14.
The organic light emitting layers 15 having different colors are arranged with the bank 14 in between.
Examples of the material of the organic light emitting layer 15 include polyparaphenylene vinylene (PPV), polyfluorene, oxinoid compound, perylene compound, coumarin compound, azacoumarin compound, oxazole compound, oxadiazole compound, perinone compound, pyrrolopyrrole compound, naphthalene. Compound, anthracene compound, fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone Compound, styryl compound, butadiene compound, dicyanomethylenepyran compound, dicyanomethylenethiopyran compound , Fluorescein compound, pyrylium compound, thiapyrylium compound, serenapyrylium compound, telluropyrylium compound, aromatic ardadiene compound, oligophenylene compound, thioxanthene compound, cyanine compound, acridine compound, 8-hydroxyquinoline compound metal complex, 2-bipyridine compound And a fluorescent substance such as a complex of a Schiff salt and a group III metal, an oxine metal complex, or a rare earth complex.

(7)電子輸送層
電子輸送層16は、共通電極17から注入された電子を有機発光層15へ輸送する機能を有し、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などで形成されている。
(8)共通電極
共通電極17は、例えば、ITO、IZO等の導電性を有する光透過性材料で形成され全てのサブピクセルに亘って設けられている。
(7) Electron Transport Layer The electron transport layer 16 has a function of transporting electrons injected from the common electrode 17 to the organic light emitting layer 15. For example, an oxadiazole derivative (OXD), a triazole derivative (TAZ), a Fe It is formed of a nansuloline derivative (BCP, Bphen) or the like.
(8) Common electrode The common electrode 17 is formed of, for example, a light-transmitting material having conductivity, such as ITO or IZO, and is provided over all subpixels.

本実施形態において、共通電極17は陰極である。
(9)封止層
封止層18は、ホール注入層13、有機発光層15、電子輸送層16、共通電極17を水分及び酸素から保護するために設けられている。
なお、図示はしないが、封止層18の上に、ブラックマトリクス、カラーフィルター等が形成されていてもよい。
[3.有機EL表示パネルの製造方法]
図4は、表示パネル100の製造過程を示す模式工程図である。
In the present embodiment, the common electrode 17 is a cathode.
(9) Sealing Layer The sealing layer 18 is provided to protect the hole injection layer 13, the organic light emitting layer 15, the electron transport layer 16, and the common electrode 17 from moisture and oxygen.
Although not shown, a black matrix, a color filter, or the like may be formed on the sealing layer 18.
[3. Manufacturing method of organic EL display panel]
FIG. 4 is a schematic process diagram showing the manufacturing process of the display panel 100.

図5は、表示パネル100の製造工程の中、バンク形成工程を模式的に示す断面図である。
表示パネル100の製造方法について、図4の工程図に基づいて図5を参照しながら説明する。
まず、下地基板11を準備する。下地基板11は、公知のTFTの製造方法により製造することができる。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a bank forming process in the manufacturing process of the display panel 100.
A method of manufacturing the display panel 100 will be described with reference to FIG. 5 based on the process diagram of FIG.
First, the base substrate 11 is prepared. The base substrate 11 can be manufactured by a known TFT manufacturing method.

次に、下地基板11上に、真空蒸着法またはスパッタ法によって、厚み400[nm]程度の金属材料からなる画素電極12を、サブピクセル毎に形成する。続いて、スパッタ法などで酸化タングステンを、下地基板11および画素電極12上に一様に成膜することによって、ホール注入層13を形成する(ステップS1)。
次に、バンク14を形成する(ステップS2〜S8)。
Next, the pixel electrode 12 made of a metal material having a thickness of about 400 [nm] is formed on the base substrate 11 for each sub-pixel by vacuum deposition or sputtering. Subsequently, the hole injection layer 13 is formed by uniformly depositing tungsten oxide on the base substrate 11 and the pixel electrode 12 by sputtering or the like (step S1).
Next, the bank 14 is formed (steps S2 to S8).

まず、ホール注入層13の上における異物の有無を調べ、異物があればその位置と大きさを算出する(ステップS2)。異物の検出方法については後述する。
次に、バンク材料として、ネガ型感光性樹脂組成物を用意し、このバンク材料を、図5(a)に示すように、ホール注入層13上に一様に塗布する。そして、塗布したバンク材料の層をフォトリソグラフィー法でバンク形状にパターニング形成する(ステップS3)。すなわち、図5(b)に示すように、そのバンク材料層上に、形成しようとするバンク14のパターンに合わせた開口を有するマスクを重ねて、マスクの上から露光する。
First, the presence / absence of foreign matter on the hole injection layer 13 is examined, and if there is a foreign matter, its position and size are calculated (step S2). A method for detecting a foreign object will be described later.
Next, a negative photosensitive resin composition is prepared as a bank material, and this bank material is uniformly applied on the hole injection layer 13 as shown in FIG. Then, the applied bank material layer is patterned into a bank shape by photolithography (step S3). That is, as shown in FIG. 5B, a mask having an opening corresponding to the pattern of the bank 14 to be formed is overlaid on the bank material layer and exposed from above the mask.

その後、余分なバンク材料をアルカリ現像液で洗い出すことによって、バンク材料をパターニングして、バンクパターンを形成する。図5(c)に示すように、下地基板11上に、バンク成形体14a(未焼成のバンク)がパターン形成される。そして、隣接するバンク成形体14a同士の間には、溝空間20が形成されている。
次に、形成したバンク成形体14aを加熱して予備焼成する(ステップS4)。予備焼成時の加熱方法としては、例えば、図5(d)に示すように、熱風乾燥炉において、下地基板11上に形成されたバンク成形体14aに熱風を当てて加熱する。その他、赤外線ランプで熱線を照射する方法、ホットプレートで加熱する方法で行うこともできる。
Thereafter, the bank material is patterned by washing out the excess bank material with an alkaline developer to form a bank pattern. As shown in FIG. 5 (c), a bank molded body 14 a (unfired bank) is pattern-formed on the base substrate 11. A groove space 20 is formed between adjacent bank molded bodies 14a.
Next, the formed bank molded body 14a is heated and pre-baked (step S4). As a heating method at the time of pre-baking, for example, as shown in FIG. 5D, in a hot air drying furnace, hot air is applied to the bank molded body 14 a formed on the base substrate 11 to heat it. In addition, it can also carry out by the method of irradiating a heat ray with an infrared lamp, and the method of heating with a hot plate.

次に、各バンク成形体14aにおける異物の有無を調べて、異物があればその位置と大きさを算出する(ステップS5)。
ステップS2またはステップS5において異物を検出した場合、検出した異物について、バンクの補修が必要であるか否かの判定を行う(ステップS6)。判定方法については後述する。
Next, the presence or absence of foreign matter in each bank molded body 14a is checked, and if there is a foreign matter, its position and size are calculated (step S5).
When foreign matter is detected in step S2 or step S5, it is determined whether or not bank repair is necessary for the detected foreign matter (step S6). The determination method will be described later.

ステップS6においてバンクの補修が必要であると判定された場合、バンク補修を行う(ステップS7)。このバンク補修については、後で詳述するが、検出した異物3の近傍において、バンク成形体14aの同士の間の溝空間20に補修材を塗布し乾燥することによって行う。図5(e)には、異物3が存在するバンク成形体14aに隣接する溝空間20に補修材が塗布されて、堰成形体5aが形成された状態を示している。   If it is determined in step S6 that bank repair is necessary, bank repair is performed (step S7). Although this bank repair will be described in detail later, in the vicinity of the detected foreign matter 3, a repair material is applied to the groove space 20 between the bank molded bodies 14a and dried. FIG. 5E shows a state where the repair material is applied to the groove space 20 adjacent to the bank molded body 14a where the foreign material 3 exists, and the dam molded body 5a is formed.

その後、図5(f)に示すように、バンク成形体14aと堰成形体5aとを、加熱して本焼成することによって、バンク14及び堰5が出来上がり、異物3の補修が完了する(ステップS8)。この本焼成では、バンク成形体14a及び堰成形体5aを加熱して、熱硬化性樹脂の重合反応を完了させる。加熱方法としては、上記予備焼成のときと同様、熱風乾燥炉で、下地基板11上に形成されたバンク成形体14aに熱風を当てて加熱する方法の他、赤外線ランプで熱線を照射する方法や、ホットプレートで加熱する方法を用いることができる。   Thereafter, as shown in FIG. 5 (f), the bank molded body 14a and the weir molded body 5a are heated and subjected to main firing, whereby the bank 14 and the weir 5 are completed, and the repair of the foreign matter 3 is completed (step) S8). In the main firing, the bank molded body 14a and the dam molded body 5a are heated to complete the polymerization reaction of the thermosetting resin. As a heating method, as in the case of the pre-baking, in addition to a method in which hot air is applied to the bank molded body 14a formed on the base substrate 11 in a hot air drying furnace, a method of irradiating heat rays with an infrared lamp, A method of heating with a hot plate can be used.

図5(f)には、本焼成によって、バンク14が形成されると共に堰5が形成された状態、すなわち、補修されたバンク14が形成された状態を示している。
このように形成されたバンク14に対して、さらに、次の工程で塗布するインクに対するバンク14の表面の接触角を調節する処理をしてもよい。あるいは、バンク14の表面に撥液性を付与するために、所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理したり、プラズマ処理を施してもよい。
FIG. 5F shows a state in which the bank 14 is formed and the weir 5 is formed by the main firing, that is, a state in which the repaired bank 14 is formed.
The bank 14 thus formed may be further subjected to a process of adjusting the contact angle of the surface of the bank 14 with respect to the ink applied in the next step. Alternatively, in order to impart liquid repellency to the surface of the bank 14, a surface treatment may be performed with a predetermined alkaline solution, water, an organic solvent, or the like, or a plasma treatment may be performed.

続いて、バンク14同士の間の溝空間20に、発光層形成用のインクを塗布する。このインクは、有機発光層15を構成する有機材料と溶媒を混合したものであって、各溝空間20内にインクジェット法を用いて塗布する。
そして、塗布されたインク層15aに含まれる溶媒を蒸発させて乾燥し、必要に応じて加熱焼成することによって、各溝空間20内に有機発光層15が形成される(ステップS9)。
Subsequently, ink for forming a light emitting layer is applied to the groove space 20 between the banks 14. This ink is a mixture of an organic material constituting the organic light emitting layer 15 and a solvent, and is applied to each groove space 20 by an ink jet method.
Then, the solvent contained in the applied ink layer 15a is evaporated and dried, and the organic light emitting layer 15 is formed in each groove space 20 by heating and baking as necessary (step S9).

次に、有機発光層15およびバンク14の上に、電子輸送層16、共通電極17、封止層18を順に形成する(ステップS10)。例えば、電子輸送層16は、真空蒸着法で成膜し、共通電極17は、ITO、IZO等の材料をスパッタ法等で成膜し、封止層18は、SiN、SiON等の光透過性材料をスパッタ法あるいはCVD法等で成膜する。
以上の工程を経て表示パネル100が完成する。
[4.バンクの異物]
バンク成形体に付着する異物について、図6を用いて説明する。
Next, the electron transport layer 16, the common electrode 17, and the sealing layer 18 are formed in order on the organic light emitting layer 15 and the bank 14 (step S10). For example, the electron transport layer 16 is formed by a vacuum evaporation method, the common electrode 17 is formed by a material such as ITO or IZO by a sputtering method, and the sealing layer 18 is light transmissive such as SiN or SiON. The material is formed by sputtering or CVD.
The display panel 100 is completed through the above steps.
[4. Bank foreign object]
The foreign matter adhering to the bank molded body will be described with reference to FIG.

図6(a)に示す例では、1本のバンク成形体14aの上に、異物3が付着している。
このようにバンク成形体14a上に異物があると、バンク14を挟んで隣接する溝空間20にインクを塗布してドーム状に盛ったインク層15aが形成されると、インク層15aが異物に接触して、発光色の異なるインク(例えば赤色インクと緑色インク)が混ざり、図7に示すような混色領域が発生する可能性がある。
In the example shown in FIG. 6A, the foreign matter 3 is adhered on one bank molded body 14a.
In this way, if there is foreign matter on the bank molded body 14a, ink is applied to the adjacent groove space 20 across the bank 14 to form the ink layer 15a that is piled up in a dome shape, and the ink layer 15a becomes foreign matter. There is a possibility that inks having different emission colors (for example, red ink and green ink) are mixed and a mixed color region as shown in FIG. 7 is generated.

図6(b)に示す例では、1本のバンク成形体14aの下に異物3が入り込んで、その異物が隣の溝空間まで貫通している。
このように、バンク成形体14aの下に異物が存在する場合でも、異物とバンク材料との密着性が悪い場合には、隙間が生じてインクの流通路ができたり、異物が繊維片の場合はインクを吸収するので、異物自体がインクの流通路となる。従って、異物を挟んで隣り合う溝空間に形成されたインク層15aの間で混色が生じ、図7に示すような混色領域が生じる原因となる。
In the example shown in FIG. 6B, the foreign matter 3 enters under one bank molded body 14a, and the foreign matter penetrates to the adjacent groove space.
As described above, even when foreign matter is present under the bank molded body 14a, when the adhesion between the foreign matter and the bank material is poor, a gap is formed to form an ink flow path, or the foreign matter is a fiber piece. Absorbs ink, so that the foreign matter itself becomes an ink flow path. Therefore, color mixing occurs between the ink layers 15a formed in adjacent groove spaces with the foreign matter in between, which causes a color mixing region as shown in FIG.

以上説明したように、バンク成形体14aにおいて異物が付着ている箇所は、発光色が異なるインクの混色が生じて、発光色不良の原因となる。
[5.異物の検出方法]
図4のステップS2およびステップS5における異物の検出方法について図8、9を用いて説明する。図8は、異物の検出と、その補修に用いる補修装置200の一例を示す概略構成図である。
As described above, in the bank molded body 14a, the foreign matter adheres to the mixed color of inks having different emission colors, which causes the emission color defect.
[5. Foreign object detection method]
The foreign object detection method in steps S2 and S5 in FIG. 4 will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a repairing apparatus 200 used for detecting a foreign object and repairing the foreign object.

異物3の検出は、例えば、ステップS1で形成したホール注入層13の表面画像、あるいは、ステップS4で予備焼成したバンク成形体14aの表面画像を撮影し、その表面画像のパターン検査によって行う。
補修装置200においては、ベース201上に、上記の下地基板11を載置するテーブル202と、撮像素子211及びディスペンサ212が取り付けられたヘッド部210とを有している。そして、テーブル202は、コントローラ230の指示に基づいてY方向に移動でき、ヘッド部210は、コントローラ230の指示によって、X方向及びZ方向に移動できるようになっている。
The detection of the foreign material 3 is performed by, for example, taking a surface image of the hole injection layer 13 formed in step S1 or a surface image of the pre-baked bank molded body 14a in step S4 and performing pattern inspection of the surface image.
The repair device 200 has a table 202 on which the base substrate 11 is placed on a base 201, and a head unit 210 to which an imaging element 211 and a dispenser 212 are attached. The table 202 can be moved in the Y direction based on an instruction from the controller 230, and the head unit 210 can be moved in the X direction and the Z direction according to an instruction from the controller 230.

従って、ヘッド部210に取り付けられている撮像素子211及びディスペンサ212は、コントローラ230の指示によって、テーブル202上に載置された下地基板11の上方で、下地基板11に対して、X方向、Y方向、Z方向に相対移動することができる。
この補修装置200を用いて、下地基板11の上面に沿って撮像素子211を移動させながら、下地基板11の上面の画像データを取得し、コントローラ230の記憶部231に記憶する。
Accordingly, the image pickup device 211 and the dispenser 212 attached to the head unit 210 are in the X direction and Y direction with respect to the base substrate 11 above the base substrate 11 placed on the table 202 according to an instruction from the controller 230. Direction relative to the Z direction.
Using the repair device 200, image data on the upper surface of the base substrate 11 is acquired while moving the imaging device 211 along the upper surface of the base substrate 11, and stored in the storage unit 231 of the controller 230.

コントローラ230は、その画像データと、あらかじめ記憶部231に記憶してあるテンプレートデータとを次々に比較して、相違点を検出することによって、異物3の検出を行う。そして、異物3が検出された場合、検出された異物3の位置(異物3の中心OのX方向及びY方向の位置)及び異物のバンク成形体14aへの重なり度合いαを記憶部231に記憶する。   The controller 230 detects the foreign matter 3 by comparing the image data with the template data stored in advance in the storage unit 231 and detecting a difference. When the foreign material 3 is detected, the position of the detected foreign material 3 (the position of the center O of the foreign material 3 in the X direction and the Y direction) and the degree of overlap α of the foreign material on the bank molded body 14a are stored in the storage unit 231. To do.

異物のバンク成形体14aへの重なり度合いαについて説明する。
異物のバンク成形体14aへの重なり度合いαは、バンク成形体14aのX方向の幅L1に対する異物3とバンク成形体14aとの上から見た場合の重複領域のX方向の幅L2の割合L2/L1である。
図9(a)は、バンク成形体14aの上に異物3が付着している状態の一例を示す図であり、図9(a)の上図が上面図であり、図9(a)の下図が側面図である。また、図9(b)は、バンク成形体14aの下に異物3が存在する状態の一例を示す図であり、図9(b)の上図が上面図であり、図9(b)の下図が側面図である。
The degree of overlap α of foreign matter on the bank molded body 14a will be described.
The degree of overlap α of the foreign matter on the bank formed body 14a is the ratio L2 of the width L2 in the X direction of the overlap region when viewed from above the foreign matter 3 and the bank formed body 14a with respect to the width L1 in the X direction of the bank formed body 14a. / L1.
FIG. 9A is a view showing an example of a state in which the foreign matter 3 is attached on the bank molded body 14a, and the upper view of FIG. 9A is a top view, and FIG. The following figure is a side view. FIG. 9B is a diagram illustrating an example of a state in which the foreign matter 3 exists under the bank molded body 14a, and an upper view of FIG. 9B is a top view, and FIG. The following figure is a side view.

図9(a)のように上面から見たときに異物3の領域がバンク成形体14aの領域に包含される場合、異物3の領域のX方向の端点X1、X2間のX方向の距離がL2となる。
図9(b)のように上面から見たときに異物3の領域がバンク成形体14aの領域の外にも存在する場合、異物3の領域のX方向の端点X3とバンク成形体14aのX方向の端点X4との間のX方向の距離がL2となる。
When the region of the foreign material 3 is included in the region of the bank molded body 14a when viewed from above as shown in FIG. 9A, the distance in the X direction between the end points X1 and X2 in the X direction of the region of the foreign material 3 is L2.
As shown in FIG. 9B, when the region of the foreign matter 3 exists outside the region of the bank molded body 14a when viewed from the top, the end point X3 in the X direction of the region of the foreign matter 3 and the X of the bank molded body 14a. The distance in the X direction between the direction end point X4 is L2.

コントローラ230は、取得した画像データからL2を算出し、バンク成形体14aの幅L1を用いて、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いα=L2/L1を算出する。
なお、このような検出工程において、異物3が検出される可能性もあれば、異物3が検出されない可能性もある。
The controller 230 calculates L2 from the acquired image data, and calculates the degree of overlap α = L2 / L1 of the foreign matter 3 on the bank molded body 14a using the width L1 of the bank molded body 14a.
In such a detection step, the foreign matter 3 may be detected or the foreign matter 3 may not be detected.

図4のステップS2においてバンク成形体14aを形成する前に異物検出を行うことで図9(b)に示すバンク成形体14aの下方、すなわち、バンク成形体14aと下地基板11との間に存在する異物3を検出する。また、図4のステップS5においてバンク形成体14aを形成した後に異物検出を行うことで図9(a)に示すバンク成形体14aの上方に存在する異物3を検出する。
[6.バンクの補修判定]
バンク成形体14aに異物3が付着していたとしても、必ずしもインクの混色が発生するとは限らない。そこで、本実施の形態に係る有機ELパネルの製造方法では、検出した異物3について、バンクの補修が必要であるか否かを判定し、バンクの補修が必要であると判定された異物に対してのみバンクの補修を実行する。
By performing foreign object detection before forming the bank molded body 14a in step S2 of FIG. 4, it exists below the bank molded body 14a shown in FIG. 9B, that is, between the bank molded body 14a and the base substrate 11. The foreign material 3 to be detected is detected. Further, the foreign matter 3 existing above the bank formed body 14a shown in FIG. 9A is detected by detecting the foreign matter after forming the bank formed body 14a in step S5 of FIG.
[6. Bank repair judgment]
Even if the foreign matter 3 adheres to the bank molded body 14a, ink color mixture does not always occur. Therefore, in the manufacturing method of the organic EL panel according to the present embodiment, it is determined whether or not the detected foreign matter 3 needs to be repaired in the bank, and the foreign matter that has been determined to need repair in the bank is determined. Only repair the bank.

図10は、補修装置200が実行するバンクの補修が必要であるか否かを判定する判定処理のフローチャートの一例である。
まず、検出した異物3が、バンク成形体14aの上方に存在する異物であるか、バンク成形体14aの下方に存在する異物であるかを判定する(ステップS21)。言い換えると、異物3の下方にバンク成形体14aが存在するか、異物3の上方にバンク成形体14aが存在するかを判定する。
FIG. 10 is an example of a flowchart of a determination process for determining whether or not the bank repair performed by the repair apparatus 200 is necessary.
First, it is determined whether the detected foreign matter 3 is a foreign matter that exists above the bank molded body 14a or a foreign matter that exists below the bank molded body 14a (step S21). In other words, it is determined whether the bank molded body 14 a exists below the foreign material 3 or whether the bank molded body 14 a exists above the foreign material 3.

検出した異物3が、バンク成形体14aの上方に存在する異物である場合、あるいは、異物3の下方にバンク成形体14aが存在する場合、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いα(=L2/L1)がα1よりも大きいか否かを判定する(ステップS22)。
ステップS22において、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いαがα1よりも大きい場合、バンクの補修が必要であると判定する(ステップS24)。
When the detected foreign matter 3 is a foreign matter existing above the bank formed body 14a, or when the bank formed body 14a exists below the foreign matter 3, the degree of overlap α (= It is determined whether or not (L2 / L1) is larger than α1 (step S22).
In step S22, when the degree of overlap α of the foreign matter 3 on the bank molded body 14a is larger than α1, it is determined that the bank needs to be repaired (step S24).

ステップS22において、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いαがα1以下の場合、バンクの補修が不要であると判定する(ステップS25)。
検出した異物3が、バンク成形体14aの下方に存在する異物である場合、あるいは、異物3の上方にバンク成形体14aが存在する場合、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いα(=L2/L1)がα2以上であるか否かを判定する(ステップS23)。
In step S22, if the degree of overlap α of the foreign matter 3 on the bank molded body 14a is α1 or less, it is determined that bank repair is unnecessary (step S25).
When the detected foreign matter 3 is a foreign matter existing below the bank molded product 14a, or when the bank molded product 14a exists above the foreign matter 3, the degree of overlap α (= It is determined whether or not (L2 / L1) is α2 or more (step S23).

ステップS23において、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いαがα2以上の場合、バンクの補修が必要であると判定する(ステップS26)。
ステップS23において、異物3のバンク成形体14aへの重なり度合いαがα2より小さい場合、バンクの補修が不要であると判定する(ステップS27)。
バンク成形体14aの上方に異物3が存在する場合と比較して、バンク成形体14aの下方、すなわち、バンク成形体14aと下地基板11との間に異物3が存在する場合は、インクの混色が発生しにくいとの実験結果が得られている。そこで、α2は、α1よりも大きな値を設定する。α1は0から0.25の範囲で設定することが好ましく、本実施の形態では、α1=0とする。α2は0.25から0.75の範囲で設定することが好ましく、本実施の形態では、α1=0.5とする。
[7.バンクの補修方法]
バンクの補修が必要であると判定された場合に実行されるバンクの補修処理について説明する。
In step S23, when the overlapping degree α of the foreign matter 3 to the bank molded body 14a is α2 or more, it is determined that the bank needs to be repaired (step S26).
In step S23, when the degree of overlap α of the foreign matter 3 on the bank molded body 14a is smaller than α2, it is determined that the repair of the bank is unnecessary (step S27).
Compared with the case where the foreign matter 3 is present above the bank molded body 14a, the color mixture of the ink is present below the bank molded body 14a, that is, when the foreign matter 3 exists between the bank molded body 14a and the base substrate 11. The experimental result that it is hard to generate is obtained. Therefore, α2 is set to a value larger than α1. α1 is preferably set in the range of 0 to 0.25. In this embodiment, α1 = 0. α2 is preferably set in the range of 0.25 to 0.75. In the present embodiment, α1 = 0.5.
[7. Bank repair method]
A bank repair process executed when it is determined that the bank needs to be repaired will be described.

図8に示す補修装置200におけるテーブル202に載置されている下地基板11の上に、ディスペンサ21から堰形成用の補修材を、異物3の周囲を囲むように塗布して、堰5を形成することによって、バンク成形体14aの補修を行う。
ここでは、図11に示すように、異物3を有するバンク成形体14aの両側に隣接する各溝空間20の中に、異物3をY方向に挟んだ2つの点A1、A2から、異物3が存在するバンク成形体14aの隣のバンク成形体14aに亘る形状で堰成形体5aを形成する。すなわち、異物3の周囲を取り囲む溝空間20の中に、X方向に仕切る合計4つの堰成形体5aを形成する。
A weir forming repair material is applied from the dispenser 21 so as to surround the foreign material 3 on the base substrate 11 placed on the table 202 in the repair device 200 shown in FIG. By doing so, the bank molded body 14a is repaired.
Here, as shown in FIG. 11, the foreign matter 3 comes from the two points A <b> 1 and A <b> 2 sandwiching the foreign matter 3 in the Y direction in each groove space 20 adjacent to both sides of the bank formed body 14 a having the foreign matter 3. The dam molded body 5a is formed in a shape extending over the bank molded body 14a adjacent to the existing bank molded body 14a. That is, a total of four dam-shaped bodies 5 a partitioned in the X direction are formed in the groove space 20 surrounding the foreign material 3.

補修装置200が備えるディスペンサ212は、ニードル式のディスペンサであって、その先端部分に補修材を収納するタンク214が取り付けられ、タンク214内を貫通するようにニードル213が上下に移動することによって、ニードル213に付着させた補修材をマイクロリットル単位で塗布できるようになっている。
このディスペンサ212におけるニードル213の駆動は、コントローラ230からの制御信号に基づいてなされる。
The dispenser 212 provided in the repair device 200 is a needle-type dispenser, and a tank 214 that stores a repair material is attached to a tip portion thereof, and the needle 213 moves up and down so as to penetrate the tank 214. The repair material adhered to the needle 213 can be applied in units of microliters.
The needle 213 in the dispenser 212 is driven based on a control signal from the controller 230.

堰成形体5aの形成は、溝空間20内において、堰5を形成しようとするライン(堰形成ライン)に沿って設定された複数の位置に、ディスペンサ212から補修材を塗布することによって行う。
補修装置200のコントローラ230においては、上記のようにバンク成形体14aの画像データ、異物3の位置が保存されているので、その位置を基準にして、異物3の周辺に設定された位置に正確に塗布することが出来る。
The formation of the dam body 5a is performed by applying a repair material from the dispenser 212 to a plurality of positions set along a line (weir formation line) in which the dam 5 is to be formed in the groove space 20.
In the controller 230 of the repairing apparatus 200, the image data of the bank formed body 14a and the position of the foreign material 3 are stored as described above, so that the position set around the foreign material 3 can be accurately set based on the position. Can be applied.

図12(a)は、この画像において異物3の周辺に設定された塗布位置を示す図である。
当図に示すように、異物3を有するバンク成形体14aの両側に隣接する溝空間20の中に、異物3の中央部を基準Oとして、Y方向に距離a1離れた点A1を通ってX方向に伸長する堰形成ラインと、Y方向と反対の方向に距離a2離れた点A2を通ってX方向に伸長する堰形成ラインに沿って、それぞれ塗布点P1,P2,P3,P4を設定する。
FIG. 12A is a diagram showing the application position set around the foreign material 3 in this image.
As shown in the figure, in the groove space 20 adjacent to both sides of the bank molded body 14a having the foreign material 3, the center portion of the foreign material 3 is set as a reference O and passes through a point A1 which is a distance a1 away in the Y direction. Application points P1, P2, P3, and P4 are set along a weir formation line extending in the direction and a weir formation line extending in the X direction through a point A2 separated by a distance a2 in the direction opposite to the Y direction. .

ここで、距離a1と距離a2は同じであっても、異なっていてもよいが、点A1と点A2とで異物3の全体が挟み込まれ、且つあまり大き過ぎないように、適度な長さに設定する。
図12(b)は、下地基板11において、点A1を通る堰形成ラインに沿った断面を模式的に示す図である。
Here, the distance a1 and the distance a2 may be the same or different from each other. However, the distance a1 and the distance a2 are set to an appropriate length so that the entire foreign matter 3 is sandwiched between the points A1 and A2 and is not too large. Set.
FIG. 12B is a diagram schematically showing a cross section along the weir formation line passing through the point A <b> 1 in the base substrate 11.

補修装置200は、このように設定した塗布点P1,P2,P3,P4において、順次、ニードル213で補修材を塗布することによって堰成形体5aを形成する。
図13(a)〜(g)は、塗布点P1,P2…に、補修材を順次塗布することによって、堰成形体5aが形成される様子を示す図である。
まず図13(a),(b)に示すように、ニードル213、タンク214を塗布点P1に位置させて、ニードル213を下方に移動してニードル213に補修材を付着させて、ニードル213を塗布点P1に近づけることによって補修材を塗布点P1に塗布する。
The repair device 200 forms the weir molded body 5a by sequentially applying repair materials with the needle 213 at the application points P1, P2, P3, and P4 set as described above.
13 (a) to 13 (g) are diagrams showing how the weir molded body 5a is formed by sequentially applying repair materials to the application points P1, P2,...
First, as shown in FIGS. 13A and 13B, the needle 213 and the tank 214 are positioned at the application point P1, and the needle 213 is moved downward to attach the repair material to the needle 213. The repair material is applied to the application point P1 by approaching the application point P1.

補修材は、塗布されるまでは流動性を有するが、塗布後は山形状が維持され、図13(c)に示すように、塗布点P1に補修材の山が形成される。
続いて、図13(d)に示すように、ニードル213をタンク241内に引き上げて、ニードル213、タンク214を、塗布点P2に移動させる。そして、ニードル213を下方に移動して、補修材を付着させたニードル213を塗布点P2に近づけることによって補修材を塗布点P2に塗布する。
The repair material has fluidity until it is applied, but after the application, the mountain shape is maintained, and as shown in FIG. 13C, a pile of the repair material is formed at the application point P1.
Subsequently, as shown in FIG. 13D, the needle 213 is pulled up into the tank 241 and the needle 213 and the tank 214 are moved to the application point P2. Then, the repair material is applied to the application point P2 by moving the needle 213 downward and bringing the needle 213 to which the repair material is attached closer to the application point P2.

それによって図13(e)に示すように、塗布点P2に形成される補修材の山は、塗布点P1に形成されている補修材の山と繋がる。
続いて、図13(f)に示すように、ニードル213を引き上げて、塗布点P3に移動させる。そして、同様にして、塗布点3に補修材の山を形成して、塗布点P2に補修材の山とつなげる。
As a result, as shown in FIG. 13E, the pile of the repair material formed at the application point P2 is connected to the pile of the repair material formed at the application point P1.
Subsequently, as shown in FIG. 13 (f), the needle 213 is pulled up and moved to the application point P3. Similarly, a pile of repair material is formed at the application point 3 and is connected to the pile of repair material at the application point P2.

このようにして、異物3を有するバンク成形体14a上の点A1から、隣のバンク成形体14aに亘る形状で、補修材の山が連なることになる。そして、この塗布された補修材の山を、乾燥し、必要に応じて露光することによって堰成形体5aが形成される。
また、その後の本焼成工程において、塗布された補修材が硬化するので、より安定した物性を有する堰5が形成される。
In this way, the piles of repair materials are connected in a shape extending from the point A1 on the bank molded body 14a having the foreign material 3 to the adjacent bank molded body 14a. Then, the applied pile of repair material is dried and exposed as necessary to form the weir molded body 5a.
In the subsequent main firing step, the applied repair material is cured, so that the weir 5 having more stable physical properties is formed.

図11に示すように、異物3を有するバンク14の両側にある溝空間20の各々には、堰5が対で設けられており、この堰5によって溝空間20は、異物3に近接する空間部分からなる第1空間SAと、異物3に近接しない空間部分からなる2つの第2空間SBとに仕切られている。そして、異物3は、2つの第1空間SAによって囲まれている。
このように、バンク14の異物3が補修した上で、次のステップS9の有機発光層形成工程で、各溝空間20に有機発光層15を形成すると、第1空間SA、第2空間SBにも、インクが塗布され、有機発光層15が形成される。従って、発光層が形成された後のパネルにおいては、第1空間SAに形成された有機発光層15と、第2空間SBに形成された有機発光層15とが、堰5によって仕切られた状態となる。
As shown in FIG. 11, each of the groove spaces 20 on both sides of the bank 14 having the foreign material 3 is provided with a pair of weirs 5, and the groove space 20 is a space close to the foreign material 3 by the weir 5. It is partitioned into a first space SA made up of parts and two second spaces SB made up of space parts that are not close to the foreign matter 3. The foreign material 3 is surrounded by the two first spaces SA.
As described above, after the foreign matter 3 in the bank 14 is repaired and the organic light emitting layer 15 is formed in each groove space 20 in the organic light emitting layer forming step of the next step S9, the first space SA and the second space SB are formed. Also, the ink is applied to form the organic light emitting layer 15. Therefore, in the panel after the light emitting layer is formed, the organic light emitting layer 15 formed in the first space SA and the organic light emitting layer 15 formed in the second space SB are partitioned by the weir 5. It becomes.

図14は、本実施の形態にかかる有機EL表示パネルにおいて、異物3を有するバンク成形体14の周囲に堰5が形成された後、そのバンク14に隣接する一方の溝空間20に、赤色のインクが塗布されてインク層15a(R)、他方の溝空間20に緑色のインクが塗布されてインク層15a(G)が形成された状態を示す平面図である。また、図7は、堰5を形成しない比較例において、同様にバンク14を挟んで隣接する溝空間20にインク層15a(R)とインク層15a(G)が形成された状態を示す平面図である。   FIG. 14 shows the organic EL display panel according to the present embodiment. After the weir 5 is formed around the bank molded body 14 having the foreign material 3, a red space is formed in one groove space 20 adjacent to the bank 14. FIG. 6 is a plan view showing a state in which ink is applied to form an ink layer 15a (R) and green ink is applied to the other groove space 20 to form an ink layer 15a (G). FIG. 7 is a plan view showing a state in which the ink layer 15a (R) and the ink layer 15a (G) are formed in the adjacent groove space 20 with the bank 14 in the same manner in the comparative example in which the weir 5 is not formed. It is.

図7に示すように、異物3を有するバンク14の周囲に堰5が形成されていないと、赤色インクと青色インクが、異物3を介して混ざり合ってできる混色領域は、各インク層15a内で広がる。この混色領域は、Y方向に長く伸びることがあり、その長さが1cm程度になることもある。
図14に示すように、異物3を有するバンク14の周囲に堰5が形成されていると、溝空間20が、堰5の対に挟まれた異物3に近接する第1空間SAと、堰5の対の外側にある異物3に近接しない2つの第2空間SBとに仕切られている。そのため、図13に示すように混色領域は第1空間SAの範囲に制限される。
[8.効果]
本実施の形態においては、異物3によって生じる混色領域の範囲が、異物3に近接する狭い第1空間SAに制限されるので、混色範囲の広がりを抑制する効果が得られ、表示パネル100における発光色不良を低減できる。
As shown in FIG. 7, if the weir 5 is not formed around the bank 14 having the foreign matter 3, the mixed color region formed by mixing the red ink and the blue ink through the foreign matter 3 is in each ink layer 15 a. Spread with. This color mixture region may extend long in the Y direction, and its length may be about 1 cm.
As shown in FIG. 14, when the weir 5 is formed around the bank 14 having the foreign matter 3, the groove space 20 includes the first space SA that is close to the foreign matter 3 sandwiched between the pair of weirs 5, and the weir It is partitioned into two second spaces SB that are not close to the foreign matter 3 outside the pair of five. Therefore, as shown in FIG. 13, the color mixture area is limited to the range of the first space SA.
[8. effect]
In the present embodiment, the range of the color mixture region generated by the foreign material 3 is limited to the narrow first space SA close to the foreign material 3, so that the effect of suppressing the spread of the color mixture range can be obtained, and the display panel 100 emits light. Color defects can be reduced.

また、検出した異物3に対して、異物3のバンク14への重なり度合いに基づいて、バンク14の補修を行うか否かの判定を行い、基準を満たす異物3についてのみ、バンク14の補修を行う。これにより、バンクの補修に起因して発生する滅点の数を削減することが可能である。
[9.変形例]
実施の形態では、ステップS5の異物3の検出前に、バンク成形体14aの予備焼成を行ったが、異物3の検出後にバンク成形体14aの予備焼成を行ってもよく、同様の効果を奏する。
Further, it is determined whether or not to repair the bank 14 based on the degree of overlap of the foreign material 3 on the bank 14 with respect to the detected foreign material 3, and only the foreign material 3 satisfying the standard is repaired. Do. Thereby, it is possible to reduce the number of dark spots generated due to the repair of the bank.
[9. Modified example]
In the embodiment, the bank molded body 14a is pre-fired before the foreign matter 3 is detected in step S5. However, the bank molded body 14a may be pre-fired after the foreign matter 3 is detected, and the same effect is obtained. .

実施の形態では、バンク成形体14aをフォトリソグラフィー法で形成したが、バンク成形体14aの形成方法はフォトリソグラフィー法に限らない。
例えば、熱硬化性樹脂を含むバンク材をインプリント法で基板上にバンク形状に塗布することによってバンク成形体14aを形成することもできる。
その場合も、上記実施の形態と同様に、バンク成形体14a予備焼成、異物3の検出、補修材の塗布を行うことによって、同様に補修されたバンク14を形成し、同様の効果を得ることができる。
In the embodiment, the bank molded body 14a is formed by a photolithography method, but the method for forming the bank molded body 14a is not limited to the photolithography method.
For example, the bank molded body 14a can be formed by applying a bank material containing a thermosetting resin onto the substrate in a bank shape by an imprint method.
Also in that case, similarly to the above embodiment, the bank formed body 14a is pre-fired, the foreign matter 3 is detected, and the repair material is applied, so that the repaired bank 14 is formed and the same effect is obtained. Can do.

実施の形態では、トップエミッション型有機ELパネルを例にとって説明したが、ボトムエミッション型有機ELパネルにおいても適用可能である。
実施の形態では、バンクを形成する前に異物検出を実行することでをバンク下の異物を検出し、バンクの形成後に異物検出を実行することでバンク上の異物を検出しているが、バンク上の異物とバンク下の異物とを区別して検出の方法はこの限りではない。例えば、補修装置200は、コントローラ230の指示に基づいて撮像素子211のフォーカス位置を変化させるフォーカスレンズを含み、フォーカス位置をバンクの上に合わせて撮像することにより、バンク上の異物を検出し、フォーカス位置をバンクの下に合わせて撮像することにより、バンク下の異物を検出してもよい。
In the embodiment, the top emission type organic EL panel has been described as an example, but the present invention can also be applied to a bottom emission type organic EL panel.
In the embodiment, foreign objects under the bank are detected by executing foreign object detection before forming the bank, and foreign objects on the bank are detected by executing foreign object detection after forming the bank. The method of detection by distinguishing the foreign matter above and the foreign matter below the bank is not limited to this. For example, the repair device 200 includes a focus lens that changes the focus position of the image sensor 211 based on an instruction from the controller 230, detects a foreign object on the bank by capturing an image with the focus position on the bank, A foreign object under the bank may be detected by imaging with the focus position under the bank.

本開示に係る有機EL表示パネル、及び有機EL表示装置は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、又はその他表示パネルを有する様々な電子機器に広く利用することができる。   The organic EL display panel and the organic EL display device according to the present disclosure can be widely used in various electronic devices including devices such as a television set, a personal computer, and a mobile phone, or other display panels.

1 有機EL表示装置
3 異物
5 堰
5a 堰成形体
10 有機EL素子
11 下地基板
12 画素電極
13 ホール注入層
14 バンク
14a バンク成形体
15 有機発光層
15a インク層
16 電子輸送層
17 共通電極
18 封止層
20 凹空間(溝空間)
100 表示パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL display device 3 Foreign material 5 Weir 5a Weir molded body 10 Organic EL element 11 Base substrate 12 Pixel electrode 13 Hole injection layer 14 Bank 14a Bank molded body 15 Organic light emitting layer 15a Ink layer 16 Electron transport layer 17 Common electrode 18 Sealing Layer 20 Concave space (groove space)
100 Display panel

Claims (3)

基板上を複数のバンクで区画し、各区画に発光層が形成されてなる有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記基板上に列方向に延伸するバンクを形成する工程と、
前記基板を平面視した場合に前記バンクと重なった状態で存する異物を検出する工程と、
検出した異物周辺における前記バンクに対して、補修が必要であるか否かを判定する工程と、
判定結果に応じて前記バンクを補修する工程と、を含み、
前記判定する工程において、
検出した異物の下方に前記バンクが存在する場合、前記バンクの幅に対する当該異物の幅の割合がα1より大きいときに補修が必要であると判定し、
検出した異物の上方に前記バンクが存在する場合、前記バンクの幅に対する当該異物の幅の割合が前記α1より大きいα2以上のときに補修が必要であると判定する
有機EL表示パネルの製造方法。
A method of manufacturing an organic EL display panel in which a substrate is partitioned by a plurality of banks, and a light emitting layer is formed in each partition,
Forming a bank extending in a column direction on the substrate;
Detecting foreign matter existing in a state of overlapping with the bank when the substrate is viewed in plan;
Determining whether or not repair is necessary for the bank around the detected foreign matter;
Repairing the bank according to a determination result,
In the determining step,
When the bank exists below the detected foreign matter, it is determined that repair is necessary when the ratio of the width of the foreign matter to the width of the bank is greater than α1,
A method of manufacturing an organic EL display panel, in which, when the bank exists above the detected foreign matter, it is determined that repair is required when the ratio of the width of the foreign matter to the width of the bank is greater than α2 that is greater than α1.
前記α1は0であり、前記α2は0.5である
請求項1の有機EL表示パネルの製造方法。
The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein α1 is 0 and α2 is 0.5.
前記異物を検出する工程において、前記バンクを形成する工程の前に異物検出を行うことにより前記バンクの下方に存在する異物を検出し、前記バンクを形成する工程の後に異物検出を行うことにより前記バンクの上方に存在する異物を検出する
請求項1又は2の有機EL表示パネルの製造方法。
In the step of detecting the foreign matter, the foreign matter existing below the bank is detected by performing foreign matter detection before the step of forming the bank, and the foreign matter detection is performed after the step of forming the bank. The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein foreign matter existing above the bank is detected.
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