JP2018173161A - 流体制御装置、および流体制御装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】温度変化や振動の激しい環境でもリークを起し難い流体制御装置を提供する。
【解決手段】流体用機器110を取付けるライン支持部材53と、前記ライン支持部材53が鉛直方向に取付けられるベース部材50と、を含む流体制御装置100であって、
前記ベース部材50は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材51Aおよび第二縦枠部材51Bを含む縦枠部材51と、これらに直交し前記縦枠部材51に長手方向端面で接触する接触面を有する第一横枠部材52aおよび第二横枠部材52bを含む横枠部材52と、を有し、
前記縦枠部材51の長手方向端部において、前記ボルト挿入孔に前記縦枠部材51と直交する方向から挿入されたボルトにより、前記横枠部材52と前記縦枠部材51が締結されることで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトが接触する。
【選択図】図2A
【解決手段】流体用機器110を取付けるライン支持部材53と、前記ライン支持部材53が鉛直方向に取付けられるベース部材50と、を含む流体制御装置100であって、
前記ベース部材50は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材51Aおよび第二縦枠部材51Bを含む縦枠部材51と、これらに直交し前記縦枠部材51に長手方向端面で接触する接触面を有する第一横枠部材52aおよび第二横枠部材52bを含む横枠部材52と、を有し、
前記縦枠部材51の長手方向端部において、前記ボルト挿入孔に前記縦枠部材51と直交する方向から挿入されたボルトにより、前記横枠部材52と前記縦枠部材51が締結されることで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトが接触する。
【選択図】図2A
Description
本発明は、流体制御装置、および流体制御装置の製造方法に関し、より詳しくは、温度変化や振動の激しい環境でもリークを起し難い流体制御装置とその製造方法に関する。
半導体製造プロセスにおいては、正確に計量した処理ガスを処理チャンバに供給するために、開閉バルブ、レギュレータ、マスフローコントローラ等の各種の流体用機器を集積化した集積化ガスシステムと呼ばれる流体制御装置が用いられている。また、この集積化ガスシステムをボックスに収容したものがガスボックスと呼ばれ、集積化ガスシステムを保持しガスボックスに固定するために、流体用機器を保持する長尺のユニット固定板(ライン支持部材)とそのユニット固定板を支える枠状のレール部材(ベース部材)を用いる。(例えば、特許文献1を参照。)
ところで、通常上記のガスボックスから出力される処理ガスを処理チャンバに直接供給するが、近年導入が進んでいる原子層堆積法(ALD:Atomic Layer Deposition 法)により基板に膜を堆積させる処理プロセスにおいては、処理ガスをより高速応答で真空雰囲気の処理チャンバへ供給するために、上記集積化ガスシステムを処理チャンバ直近に設置することが行われている。そして、処理チャンバ近傍は、加熱器やウェハの運搬機構等が密集しており集積化ガスシステムを処理チャンバ直近に設置するためにはさらなる集積化ガスシステムの集積化が重要になっている。
しかし、集積化が進むに従い、ベース部材は多くの流体用機器を支えることになるため従来に比べ耐荷重の面で負荷が大きくなっている。また、処理チャンバ直近は熱変化や真空ポンプ等が発生させる振動が激しく、ベース部材には従来以上の負荷がかかっている。ベース部材への負荷が大きいと、流体制御装置全体の歪みが発生し、流体用機器間を気密に接続した接続部に負荷がかかり、当該接続部から処理ガスのリークを起すおそれがある。
従って、上述の事情を鑑み、ベース部材および流体制御装置の集積化は阻害せず、ベース部材に従来以上の負荷がかかっても、処理ガスのリーク等の問題を生じ難い流体制御装置が求められている。
即ち、本発明の一の目的は、上述の通りベース部材に負荷がかかった場合でも、処理ガスのリーク等の問題を生じ難い流体制御装置を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、上記流体制御装置の製造方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、上記流体制御装置の製造方法を提供することにある。
本発明に係る流体制御装置は、流体用機器を固定する固定孔を有したライン支持部材と、前記ライン支持部材が鉛直方向に取付けられるベース部材と、を含む流体制御装置であって、前記ベース部材は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材および第二縦枠部材を含む縦枠部材と、前記縦枠部材に対し直交する方向から長手方向端面で接触する接触面を有し前記ライン支持部材が取付けられる第一横枠部材および第二横枠部材を含む横枠部材と、を有し、前記ボルト挿入孔は、前記縦枠部材と直交する方向の軸を有し、前記ボルト挿入孔に挿入されたボルトにより、前記横枠部材と前記縦枠部材が締結されることで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトが接触し、前記ライン支持部材は、前記横枠部材との接触部において前記ライン支持部材と直交する方向に可動に固定されている、流体制御装置である。
また、より好適には、上述の流体制御装置であって、複数の前記ライン支持部材が前記ベース部材に対し鉛直方向に取付けられ、異なる前記ライン支持部材にそれぞれ固定された複数の前記流体用機器間を流体密に流通するバイパス部を有する流体制御装置が望ましい。
また、より好適には、上述の流体制御装置であって、前記バイパス部が異なる前記ライン支持部材にそれぞれ構成され、当該バイパス部間を流体密に流通する配管を有する、流体制御装置が望ましい。
また、本発明に係る流体制御装置の製造方法は、流体用機器を固定する固定孔を有したライン支持部材と、前記ライン支持部材が鉛直方向に取付けられるベース部材と、を含む流体制御装置を製造する製造方法であって、前記ベース部材は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材および第二縦枠部材を含む縦枠部材と、前記縦枠部材に対し直交する方向から長手方向端面で接触する接触面を有し前記ライン支持部材が取付けられる第一横枠部材および第二横枠部材を含む横枠部材と、を有し、前記ボルト挿入孔は、前記縦枠部材と直交する方向の軸を有し、前記ボルト挿入孔に挿入されたボルトにより、前記横枠部材と前記縦枠部材を締結することで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトを接触させ、前記ライン支持部材は、前記横枠部材との接触部において前記ライン支持部材と直交する方向に可動に固定する、流体制御装置の製造方法である。
本発明によれば、ボルト挿入孔に縦枠部材と直交する方向から挿入されたボルトが横枠部材と縦枠部材を締結し、当該ボルトがボルト挿入孔の内面に接触しているため、ベース部材の重量等によりベース部材に対し鉛直方向に負荷がかかった場合でも、当該ボルトの外形とボルト挿入孔の内面の位置関係が変化し難く、横枠部材が前記鉛直方向に移動し難くなる。結果、ライン支持部材を介して横枠部材に固定された流体用機器間の接続部への負荷が弱まり、処理ガスのリーク等の問題を生じ難い流体制御装置を提供可能となる。
また、さらに本発明によれば、従来はバイパス部のリーク防止の観点から避けられていた、異なるライン支持部材にそれぞれ固定された複数の流体用機器間を流体密に流通するバイパス部の使用が可能になり、従来各ライン支持部材単位で行っていたパージラインの供給を纏めて行う事が可能となり、さらなる集積化を実現することが可能となる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書および図面においては、機能が実質的に同様の構成要素には、同じ符号を使用することにより重複した説明を省略する。また、一部の符号については、煩雑化を避けるため重複した記載を省略している。また、本願において、図2AのX方向を上、Y方向を右、Z方向を奥行きと言い、長手方向とは各部材毎の長手方向を言う。なお、X、Y、Z方向は各図面で共通の方向を用いる。
まず、図1A乃至図1Cを用いて、本発明に係る流体制御装置100を製造する際に用いる架台1について説明する。図1Aは、架台1を正面から図示したものであり、簡略化のため組立パネル10の保持部材11乃至14について省略している。図1Bは、架台1を側面から図示したものであり、簡略化のため斜支柱4、上端ジョイント4a、および下端ジョイント4bを省略している。図1Cは、図1Bの架台1を平面から図示したものであり、図1B同様、斜支柱4、上端ジョイント4a、および下端ジョイント4bを省略している。
架台1は、他の部材を支える土台2a、2bと、土台2aに金具5、ボルト6、座金7、スライダ8を用いて固定される支柱3a、支柱3bおよび斜支柱4からなる。なお、具体的なスライダ8を用いた固定方法については、図5を用いて後述する。
図1A、および図1Bに図示した通り、土台2a、2bは、二本の土台2aに、土台2bが挟持される形で固定されており、平面視で略H状をなしている。土台2aには、それぞれ支柱3a、斜支柱4が固定されており、後述する流体制御装置100の荷重を支えている。斜支柱4は、上端側で上端ジョイント4aを介して支柱3aに可動に固定され、下端側で下端ジョイント4bを介して土台2aに可動に固定されている。即ち、その可動域において、互いの固定位置を調節可能である。
図1Cに図示した通り、架台1の上端では二本の支柱3aに挟持される形で支柱3bが固定されており、斜支柱4、および上端ジョイント4aを介して支柱3aが受ける流体制御装置100の荷重を二本の支柱3a間で分散させる機能を有し、架台1全体の強度を増す。
次に、図2A、および図2Bを用いて、本発明の架台1を用いて製造される流体制御装置100について説明する。図2Aは、本件発明のライン支持部材53がベース部材50に取付けられ、流体制御装置100として完成した状態を正面から示したものである。図2Bは、流体制御装置100を側面から示したものである。
流体制御装置100は、ベース部材50、ライン支持部材53、及びライン支持部材53に固定された流体用機器110、配管112からなる。まず、ライン支持部材53について説明する。
ライン支持部材53には、流体用機器110を固定するための固定孔53aが形成されている。なお、本実施形態の場合、流体用機器110とライン支持部材53の間にはベースブロック109が介在しているが、流体用機器110を直接ライン支持部材に固定しても本発明の要旨には影響しない。また、ライン支持部材53は、鉛直方向(図2Aの上下方向)で、後述する第一横枠部材52aに固定されているが、図5を用いて後述する通り左右方向には可動である。
ライン支持部材53に固定される流体用機器110として種々の機器(例えば、開閉バルブ、レギュレータ、フィルタ、マスフローコントローラ)がシール箇所により流体密に接続され用いられるが、要求される流体の制御内容によってその種類は異なる。従って、本実施形態においてはその詳細を省略し、本発明の要旨に係わる箇所のみを説明する。
流体用機器110には、導入路113からプロセスガスが導入され、流体用機器110により正確に計量され導出路114から半導体反応炉(図示省略)に供給される。また、例えば前プロセスで使用したプロセスガス等をパージするためのパージガスは、パージガス導入路111から導入され、配管112を流通し、各ラインのバイパス部であるバイパス継手105を通じて各流体用機器110に導入される。この際、各ラインのバイパス継手105のX方向位置が異なる(または、事後的に変化する)とバイパス継手105とベースブロック109(または、他の流体用機器110)間のシール箇所に負荷がかかりガスリークの原因となる。
ベース部材50は、縦枠部材(第一縦枠部材51A、第二縦枠部材51B)、横枠部材(第一横枠部材52a、第二横枠部材52b、第三横枠部材52c、第四横枠部材52d)からなる。横枠部材は、縦枠部材の間に挟持されて固定されており、図4A、図4Bを用いて後述する方法により固定されており、X方向に可動域の範囲において可動である。なお、縦枠部材の長手方向端面に横枠部材の側面を接触させることでも本実施形態と類似のベース部材を形成することができるが、上下方向の荷重に対し耐荷重性が向上する一方、縦枠部材の長手方向寸法に横枠部材のX方向位置がリミットされるため、前述のシール箇所のように複数の接続箇所を有し各部材の微小な寸法差を調整し組み立てる本発明のような流体制御装置100には適さない。
第一縦枠部材51Aには、横枠部材の左側端面が固定され、第二縦枠部材51Bには、横枠部材の右側端面が固定されるが、詳細な固定構造については、図2AのI部を拡大して示した図4A、図4Bを用いて後述する。
次に、本発明の図3A1乃至図5を用いて、本発明の組立パネル10と、流体制御装置100の製造方法について説明する。図3A1は、図1AのR方向から組立パネル10を表したものである。図3A2は、組立パネル10の側面を表したものである。図3Bは、組立パネル10に、ベース部材50を組み付けた状態を示すものである。図3Cは、図3Bの状態に続いて、ベース部材50にライン支持部材53を取付けて流体制御装置100が完成した状態を示すものである。
組立パネル10は、図1Aに示した通り、斜支柱4に固定されており略鉛直状態で架台1に固定されている。また、図3A1に示した通り組立パネル10には、主に縦枠部材の外面を保持するL型外面保持部材11A、11Bと、同じく縦枠部材外面を保持するI型外面保持部材12A、12Bと、横枠部材外面を保持するI型外面保持部材12c、12dと、主に横枠部材内面を保持するL型内面保持部材13a、13b、13cと、横枠部材内面を保持するI型内面保持部材14a、14b、14c、14dが固定されている。
図3Bに示した通り、上述の保持関係に従いベース部材50を組立パネル10に組み付けると、ベース部材50には自重により鉛直方向の荷重がかかるため、各部材を固定する前でも第一横枠部材52aと第二横枠部材52b間のX方向位置関係が安定する。即ち、I部を拡大した図4Bに示すように、第二縦枠部材51Bに形成されたボルト挿入孔51Cにボルト6を挿入し、第一横枠部材52aのねじ孔に螺合されることで座金7を介してボルト6が第二縦枠部材51Bと第一横枠部材52aを固定するが、この際、第一横枠部材52aは自重によりX方向の荷重を有するため、外力を加えない限りボルト6のおねじ部6aとボルト挿入孔51Cの内径間距離は距離βだけ離間する位置で安定する(安定後でも、距離βが可動域となる)。なお、仮に本発明の架台1を用いず、組立パネル10をY方向に倒して当該組立を行った場合、図4Aに示すように、ボルト6のおねじ部6aとボルト挿入孔51Cの内径との距離は最大で距離αとなり、その後例えば流体制御装置100の設置向きの変更や、加振動等すると容易に第一横枠部材52aと第二横枠部材52b間のX方向位置関係が変化する。
図3Bに示した状態の後、図3Cに示した通り、ベース部材50にライン支持部材53を鉛直方向に取付ける。即ち、J方向から見た断面図である図5に示したとおり、第一横枠部材52aに、スライダ8を挿入し、ボルト6は座金7とライン支持部材53を介して当該スライダ8のねじ部に螺合される。結果、ライン支持部材53と第一横枠部材52aが固定される。なお、この場合、ライン支持部材53は左右方向に可動である。
流体制御装置が以上の構成要素、および製造方法を採用することで、ライン支持部材を介して横枠部材に固定された流体用機器間の接続部への負荷が弱まり、処理ガスのリーク等の問題を生じ難い流体制御装置を提供可能となる。さらには、従来はバイパス部のリーク防止の観点から避けられていた、異なるライン支持部材にそれぞれ固定された複数の流体用機器間を流体密に流通するバイパス部の使用が可能になり、従来各ライン支持部材単位で行っていたパージラインの供給を纏めて行う事が可能となり、さらなる集積化を実現することが可能となる。
以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることも言うまでもない。
したがって、そのような要旨を逸脱しない範囲での種々の変更を行ったものも本発明の技術的範囲に含まれるものであり、そのことは、当業者にとって特許請求の範囲の記載から明らかである。
(1):架台、(2a、2b):土台、(3a、3b):支柱、
(4):斜支柱、(4a):上端ジョイント、(4b):下端ジョイント、(5):金具、(6):ボルト、(6a):おねじ部、(7):座金、(8):スライダ、
(10):組立パネル、(11A、11B):L型外面保持部材、
(12A、12B、12c、12d):I型外面保持部材、
(13a、13b、13c):L型内面保持部材、
(14a、14b、14c、14d):I型内面保持部材、
(50):ベース部材、(51A):第一縦枠部材、(51B):第二縦枠部材、
(51C):ボルト挿入孔、
(52a):第一横枠部材、(52b):第二横枠部材、
(52c):第三横枠部材、(52d):第四横枠部材、(52e):接触面、
(53):ライン支持部材、(53a):固定孔、
(100):流体制御装置、
(101、104、106、108):開閉バルブ、(102):レギュレータ、
(103):フィルタ、(105):バイパス継手(バイパス部)、
(107):マスフローコントローラ、(109):ベースブロック、
(110):流体用機器、
(111):パージガス導入路、(112):配管、(113):導入路、(114):導出路、
(4):斜支柱、(4a):上端ジョイント、(4b):下端ジョイント、(5):金具、(6):ボルト、(6a):おねじ部、(7):座金、(8):スライダ、
(10):組立パネル、(11A、11B):L型外面保持部材、
(12A、12B、12c、12d):I型外面保持部材、
(13a、13b、13c):L型内面保持部材、
(14a、14b、14c、14d):I型内面保持部材、
(50):ベース部材、(51A):第一縦枠部材、(51B):第二縦枠部材、
(51C):ボルト挿入孔、
(52a):第一横枠部材、(52b):第二横枠部材、
(52c):第三横枠部材、(52d):第四横枠部材、(52e):接触面、
(53):ライン支持部材、(53a):固定孔、
(100):流体制御装置、
(101、104、106、108):開閉バルブ、(102):レギュレータ、
(103):フィルタ、(105):バイパス継手(バイパス部)、
(107):マスフローコントローラ、(109):ベースブロック、
(110):流体用機器、
(111):パージガス導入路、(112):配管、(113):導入路、(114):導出路、
Claims (4)
- 流体用機器を固定する固定孔を有したライン支持部材と、前記ライン支持部材が鉛直方向に取付けられるベース部材と、を含む流体制御装置であって、
前記ベース部材は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材および第二縦枠部材を含む縦枠部材と、
前記縦枠部材に対し直交する方向から長手方向端面で接触する接触面を有し前記ライン支持部材が取付けられる第一横枠部材および第二横枠部材を含む横枠部材と、を有し、
前記ボルト挿入孔は、前記縦枠部材と直交する方向の軸を有し、
前記ボルト挿入孔に挿入されたボルトにより、前記横枠部材と前記縦枠部材が締結されることで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトが接触し、
前記ライン支持部材は、前記横枠部材との接触部において前記ライン支持部材と直交する方向に可動に固定されている、流体制御装置。 - 請求項1の流体制御装置であって、複数の前記ライン支持部材が前記ベース部材に対し鉛直方向に取付けられ、異なる前記ライン支持部材にそれぞれ固定された複数の前記流体用機器間を流体密に流通するバイパス部を有する、流体制御装置。
- 請求項2の流体制御装置であって、前記バイパス部が異なる前記ライン支持部材にそれぞれ構成され、当該バイパス部間を流体密に流通する配管を有する、流体制御装置。
- 流体用機器を固定する固定孔を有したライン支持部材と、前記ライン支持部材が鉛直方向に取付けられるベース部材と、を含む流体制御装置を製造する製造方法であって、
前記ベース部材は、長手方向端部にボルト挿入孔を有する第一縦枠部材および第二縦枠部材を含む縦枠部材と、
前記縦枠部材に対し直交する方向から長手方向端面で接触する接触面を有し前記ライン支持部材が取付けられる第一横枠部材および第二横枠部材を含む横枠部材と、を有し、
前記ボルト挿入孔は、前記縦枠部材と直交する方向の軸を有し、
前記ボルト挿入孔に挿入されたボルトにより、前記横枠部材と前記縦枠部材を締結することで、前記ボルト挿入孔の内面と前記ボルトを接触させ、
前記ライン支持部材は、前記横枠部材との接触部において前記ライン支持部材と直交する方向に可動に固定する、流体制御装置の製造方法。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
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