JP2018172741A - 原料供給装置、自溶炉、ノズル部材 - Google Patents

原料供給装置、自溶炉、ノズル部材 Download PDF

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Abstract

【課題】自溶炉内に供給された原料と反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化する。【解決手段】原料供給装置は、自溶炉内に原料を供給するとともに、少なくとも前記自溶炉内に前記原料の反応に寄与する第1ガス及び第2ガスを供給する原料供給装置であって、ランス内に設けられ、前記第1ガスを前記自溶炉内に供給する第1ガス流路と、前記ランスの外側に設けられ、前記原料を前記自溶炉内に供給する原料流路と、前記原料流路の外側に設けられ、前記第2ガスを前記自溶炉内に供給する第2ガス流路と、前記第1ガス流路に設けられ、前記第1ガス流路における前記第1ガスの流動方向に対して傾斜することで前記第1ガスが衝突する傾斜面を有し、前記自溶炉内に供給される前記第1ガスを前記自溶炉の下方に向かわせつつ旋回させる羽根と、を備える。【選択図】図2

Description

本発明は、原料供給装置、自溶炉、ノズル部材に関する。
自溶炉とは、銅、ニッケル等の非鉄金属の製錬、及び、マット処理製錬に用いられる製錬炉であり、反射炉型のセットラの上にシャフトを設け、その頂部から原料と反応に供するガスを吹き込むことで原料の酸化熱を利用し、瞬時に酸化溶融を行う炉である。自溶炉において、原料と反応用ガスを炉内へ供給する装置は、自溶炉の性能を決定付ける重要な役割を担っている。この原料供給装置の性能が反応シャフト内での原料の反応効率、反応進行度を左右し、その結果、自溶炉の処理能力及びメタル採収率に影響を及ぼす。自溶炉における反応シャフト内での反応は、速やか、かつ、全ての原料が均一に同じ反応進行度で進行することが望ましい。このため、原料と反応用ガスとは、均一に混合されることが望ましい。
このような原料と反応用ガスとの混合を改善するため、原料供給装置から反応シャフト内へ供給される主送風を旋回させるものが知られている(特許文献1)。また、管状の精鉱シュートの内側に燃料バーナーを取り囲んで酸素吹込管を設け、その開口部に案内羽根を設けて旋回流を供給することが知られている(特許文献2)。
特表2010-538162号公報 特開昭60−248832号公報
ところで、原料供給装置の直下の領域は、主送風によって、温度が低く、精鉱反応が進みにくい領域となっている。特許文献1や特許文献2は、このような原料供給装置の直下の領域に積極的に旋回流を発生させるものとはなっておらず、改良の余地があった。
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、自溶炉内に供給された原料と反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化することを目的としている。
本発明の原料供給装置は、自溶炉内に原料を供給するとともに、少なくとも前記自溶炉内に前記原料の反応に寄与する第1ガス及び第2ガスを供給する原料供給装置であって、ランス内に設けられ、前記第1ガスを前記自溶炉内に供給する第1ガス流路と、前記ランスの外側に設けられ、前記原料を前記自溶炉内に供給する原料流路と、前記原料流路の外側に設けられ、前記第2ガスを前記自溶炉内に供給する第2ガス流路と、前記第1ガス流路に設けられ、前記第1ガス流路における前記第1ガスの流動方向に対して傾斜することで前記第1ガスが衝突する傾斜面を有し、前記自溶炉内に供給される前記第1ガスを前記自溶炉の下方に向かわせつつ旋回させる羽根と、を備える。
この場合において、前記羽根は、前記第1ガス流路の下端部に設けられることとしてもよい。また、前記羽根は、前記第1ガス流路内に設置される環状のフレーム部と当該フレーム部の中心部に配置されたハブ部との間に設けられることとしてもよい。
本発明の自溶炉は、本発明の原料供給装置を備えている。
本発明のノズル部材は、環状のフレーム部と、前記フレーム部の中心部に配置されたハブ部と、前記ハブ部を中心として、放射状に配置され、前記フレーム部と前記ハブ部とを接続すると共に、前記ハブ部の軸方向に対して傾斜させた傾斜面を備える羽根を有する。
本発明の原料供給装置及び自溶炉は、自溶炉内に供給された原料と反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化することができる。
図1は実施形態に係る銅製錬用の自溶炉の構成を概略的に示す図である。 図2は第1実施形態の原料供給装置の一部を拡大した図である。 図3は羽根を備えたノズル部材を第1ガス流路の上流側からみた状態を示す模式図である。 図4(A)はノズル部材が備えるハブ部に対する羽根の設置状態を示す説明図であり、図4(B)はノズル部材が備えるフレーム部に対する羽根の設置状態を示す説明図である。 図5は自溶炉内に吹き出す旋回流の様子を模式的に示す説明図である。 図6はノズル部材が備えるハブ部に対する羽根の他の設置状態を示す説明図である。 図7は他の形状の羽根を示す説明図である。
以下、実施形態に係る自溶炉について、図1〜図7に基づいて、詳細に説明する。図1は、実施形態に係る銅製錬用の自溶炉100の構成を概略的に示す図である。
(第1実施形態)
図1に示すように、自溶炉100は、原料供給装置1と、炉体2と、を備える。原料供給装置1は、精鉱バーナーとも呼ばれ、原料である精鉱(銅精鉱(CuFeS2など))、反応用主送風ガス、反応用補助ガス、及び分散用ガス(反応にも寄与する)を炉体2内に供給する。炉体2は、精鉱と反応用ガスとが混合する反応シャフト3、セットラ4、アップテイク5を備える。なお、反応用主送風ガス及び反応用補助ガスは、酸素富化空気であり、分散用ガスは、空気または酸素富化空気である。これらの反応用ガス、および分散用ガスは、精鉱を分散し、同時に酸化させ、反応シャフト3の底部でマット及びスラグに分離する。
図2は、原料供給装置1の一部を拡大した図であって、原料、反応用ガス、分散用ガスを反応シャフト3側へ投入する投入部10を示した説明図である。
原料供給装置1の投入部10は、ランス16を備え、ランス16内には分散用ガスの通る第1通路11、第1ガスとしての反応用補助ガスが通過する第4通路14が形成されている。第4通路14は、ランス16の中心部分に設けられており、第1通路11は、第4通路14の周囲に設けられている。また、投入部10は、ランス16の外側、より具体的にランス16の外周に設けられた原料流路としての第2通路12を備えている。投入部10は、さらに、第2通路12の外側、より具体的に第2通路12の外周に設けられ、第2ガスとしての反応用主送風ガスが通過する第3通路13と備えている。第4通路14は、第1ガス流路に相当し、第3通路13は、第2ガス流路に相当する。第3通路13は、第2通路12を囲むように設けられた管状部分によって形成されており、その上方に設けられた漏斗状のエアチャンバー17と通じている。第2通路12と、第3通路13は、円筒状の仕切り壁21により、仕切られた状態となっている。
第1通路11は、分散用ガスを反応シャフト3内へ供給する。第2通路12は、精鉱を反応シャフト3内へ供給する。第3通路13は、反応用主送風ガスをエアチャンバー17から反応シャフト3内へ供給する。また、第4通路14は、反応用補助ガスを反応シャフト3内へ供給する。
なお、ランス16の先端部(下端部)には、中空円錐台状の分散コーン15が形成されている。分散コーン15の側面下部151には第1通路11を通過した分散用ガスを反応シャフト3内へ吐出する複数の供給孔152が形成されている。供給孔152は、ガスの吐出方向が分散コーン15の底面円の法線方向となるように設けられている。
投入部10の第4通路14には、第1ガスとしての反応用補助ガスを旋回させる羽根43が設けられている。図3は羽根43を備えたノズル部材40を第1ガス流路としての第4通路14の上流側からみた状態を示す模式図である。ノズル部材40は、環状のフレーム部41とその中心部に配置されたハブ部42を備える。そして、フレーム部41とハブ部42とを接続するように羽根43が配置されている。羽根43は、ハブ部42を中心として、放射状に設けられている。羽根43は、第4通路14における反応用補助ガスの流動方向に対して傾斜することで当該反応用補助ガスが衝突する傾斜面431を有し、炉体2内に供給される反応用補助ガスを炉体2の下方に向かわせつつ旋回させる。本実施形態は、6枚の羽根43が設けられているが、反応用補助ガスを旋回させることができれば、その枚数は問わない。なお、ハブ部42の軸方向は、第4通路14における反応用補助ガスの流動方向と一致している。
本実施形態では、傾斜面431の側方には、第4通路14の内部と炉体2の内部とを連通させる隙間44が設けられている。すなわち、ノズル部材40は、周方向に沿って、羽根43と隙間44とが交互に配置されている。これにより、第4通路14の上流側から供給された反応用補助ガスが羽根43の傾斜面431に衝突すると、その進行方向が変えられ、隙間44を通じて旋回流として炉体2内へ吐出される。
ここで、傾斜面431に衝突した反応用補助ガスは、第4通路14を通過してきており、このような反応用補助ガスのベクトルは、下方へ向かう成分を有している。このため、傾斜面431に衝突した後の反応用補助ガスは、炉体2の下方に向かいつつ、旋回することができる。
ここで、図4(A)及び図4(B)を参照して、羽根43について説明する。図4(A)はノズル部材40が備えるハブ部42に対する羽根43の設置状態を示す説明図であり、図4(B)はノズル部材40が備えるフレーム部41に対する羽根43の設置状態を示す説明図である。
図4(A)は、フレーム部41側から柱状のハブ部42を観た様子を示している。羽根43の内側端部43aは、図4(A)において点線で示すように、垂直方向に延びるハブ部42に対し、傾斜している。より詳細に、内側端部43aは、ハブ部42に対し、内側端部43aの上端部43a1と下端部43a2とを結ぶ直線と、ハブ部42の下端縁42aにおける水平方向に延びる線分とが、角度θをなすように設けられている。一方、図4(B)は、ハブ部42側からフレーム部41を観た様子を示している。羽根43の外側端部43bは、図4(B)において点線で示すように、湾曲している。これは、羽根43の表面に衝突した反応用補助ガスが旋回流となるように、羽根43の形状を設定しているためである。
ここで、本実施形態における羽根43の形状は、一例である。羽根43は、第4通路14の上流側から下流側を観たときに、羽根43に衝突した反応用補助ガスを、図5に示す矢示50のような旋回流とすることができれば、その形状は問わない。図6に示す例では、羽根の内側端部143aを湾曲させている。そして、内側端部143aは、ハブ部42に対し、内側端部143aの上端部143a1と下端部143a2とを結ぶ直線と、ハブ部42の下端縁42aにおける水平方向に延びる線分とが、角度θをなすように設けられている。反応用補助ガスは、このような形状の羽根に衝突することで、炉体2の下方へ向かいつつ旋回する旋回流となることができる。
図4(A)や図6に示す例では、羽根の内側端部は、上端部と下端部とを結ぶ直線と、ハブ部42の下端縁42aにおける水平方向に延びる線分とが、角度θをなすように設けられている。ここで、角度θは、90°よりも大きくなるように設定されており、これにより、羽根はハブ部42に対して傾斜した状態とされている。羽根がハブ部42に対して傾斜していると、羽根に衝突した反応用補助ガスを旋回流にしやすくなる。ただし、羽根の内側端部は、必ずしも、ハブ部42に対して傾斜していなくてもよい。
羽根の内側端部は、例えば、図7に示す羽根243のように、その内側端部243aを、ハブ部42に対して傾斜させることなく、内側端部243aの延びる方向をハブ部42の軸線が延びる方向と一致させるようにしてもよい。図7は、羽根243の外側端部243bが接続されたフレーム部41の内周面にハブ部42と内側端部243aを投影して描いた説明図である。ハブ部42と内側端部243aは、点線で描かれている。図7に示す例では、図4(A)や図6における角度θに相当する角度は、90°となっている。すなわち、内側端部243aの延びる方向は、ハブ部42の軸線が延びる方向と一致している。このように、内側端部243aの延びる方向をハブ部の軸線が延びる方向と一致させても、羽根243の形状を湾曲させることで、羽根243に衝突した反応用補助ガスを旋回させることができる。
羽根43を備えたノズル部材40は、第4通路14の下端部14aに設けられている。第4通路14の下端部14aは、炉体2内に臨んでおり、反応用補助ガスは、第4通路14の下端部14aから炉体2内に吹き出す。このため、羽根43を下端部14aに設けることで、効果的に旋回状態の反応用補助ガスを炉体2内へ吹き込むことができる。
原料供給装置1の直下は、精鉱の粒子の濃度が高く、また、第3通路13から反応用主送風ガスが吹き込まれることに起因して温度が低く、精鉱反応が進みにくい領域である。本実施形態によれば、反応用補助ガスは、原料供給装置1の直下に旋回状態で吹き込まれる。このように、旋回状態で炉体2内に吹き込まれた旋回流は、炉体2内での滞留時間が鉛直方向に吹き込まれる場合に比べて長くなる。また、旋回流は、原料供給装置1の直下の領域から精鉱の粒子を巻き込むことができる。この結果、精鉱と反応用補助ガスの接触を促進し、原料供給装置1の直下における反応を促進することができる。このように、本実施形態の原料供給装置1によれば、原料となる精鉱と、反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化することができる。
なお、本実施形態では、羽根43を備えたノズル部材40を第4通路14の下端部14aに装着し、固定している。このため、羽根43の設置が容易である。また、ノズル部材40は、脱着可能であるので、羽根43のメンテナンスが容易である。
上述した実施形態は本発明の好適な実施の例である。但し、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施可能である。
1 原料供給装置
2 炉体
10 投入部
11 第1通路
12 第2通路
13 第3通路
14 第4通路
14a 下端部
16 ランス
40 ノズル部材
41 フレーム部
42 ハブ部
42a 下端縁
43、243 羽根
100 自溶炉

Claims (5)

  1. 自溶炉内に原料を供給するとともに、少なくとも前記自溶炉内に前記原料の反応に寄与する第1ガス及び第2ガスを供給する原料供給装置であって、
    ランス内に設けられ、前記第1ガスを前記自溶炉内に供給する第1ガス流路と、
    前記ランスの外側に設けられ、前記原料を前記自溶炉内に供給する原料流路と、
    前記原料流路の外側に設けられ、前記第2ガスを前記自溶炉内に供給する第2ガス流路と、
    前記第1ガス流路に設けられ、前記第1ガス流路における前記第1ガスの流動方向に対して傾斜することで前記第1ガスが衝突する傾斜面を有し、前記自溶炉内に供給される前記第1ガスを前記自溶炉の下方に向かわせつつ旋回させる羽根と、
    を備える原料供給装置。
  2. 前記羽根は、前記第1ガス流路の下端部に設けられた請求項1に記載の原料供給装置。
  3. 前記羽根は、前記第1ガス流路内に設置される環状のフレーム部と当該フレーム部の中心部に配置されたハブ部との間に設けられた請求項1又は2に記載の原料供給装置。
  4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の原料供給装置を備える自溶炉。
  5. 環状のフレーム部と、
    前記フレーム部の中心部に配置されたハブ部と、
    前記ハブ部を中心として、放射状に配置され、前記フレーム部と前記ハブ部とを接続すると共に、前記ハブ部の軸方向に対して傾斜させた傾斜面を備える羽根を有するノズル部材。
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