JP2018169435A

JP2018169435A - 光回路部品及び光回路部品の製造方法

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Publication number: JP2018169435A
Application number: JP2017064677A
Authority: JP
Inventors: 亨小宮山; Toru Komiyama; 柳澤　雅弘; Masahiro Yanagisawa; 雅弘柳澤; 渡邉　啓; Hiroshi Watanabe; 啓渡邉; 橋詰　泰彰; Yasuaki Hashizume; 泰彰橋詰
Original assignee: NTT Electronics Corp; Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: NTT Electronics Corp; Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 2017-03-29
Filing date: 2017-03-29
Publication date: 2018-11-01

Abstract

【課題】膜剥がれを抑止できる光導波路を提供することを目的とする光回路部品及び光回路部品の製造方法を提供する。【解決手段】光回路部品９１は、クラッド１２と防湿層１６の間に応力緩衝層１５を設ける。光回路部品９１は、リッジ構造を有するＳｉＯ２を含むクラッド１２と、クラッド１２内に配置されたコア１３と、クラッド１２の上面及び側面を覆う応力緩衝層１５と、応力緩衝層１５を覆う防湿層１６と、を備える。【選択図】図２

Description

本発明は、光回路部品及び光回路部品の製造方法に関する。

リッジ構造を有する光導波路は、コアから外部環境までの距離が短くコア周辺のクラッド（ＢＰＳＧ（Ｂｏｒｏ―ｐｈｏｓｐｈｏＳｉｌｉｃａｔｅＧｌａｓｓ）／ＰＳＧ（ＰｈｏｓｐｈｏＳｉｌｉｃａｔｅＧｌａｓｓ））の湿気による変質は、屈折率や応力変化をもたらし光導波路の特性を容易に変化させてしまう。これらを防止するため、クラッドを単層の防湿（低透湿性）層で覆っていた。

一方で、可変光減衰器（ＶＯＡ：ＶａｒｉａｂｌｅＯｐｔｉｃａｌＡｔｔｅｎｕａｔｏｒ）などのリッジ構造を有する導波路上にヒータが設けられている光回路部品においては、低消費電力化の観点から、リッジ幅を極力狭くすることが求められている。

国際公開第２０１０／０９８２９５号

防湿層として用いられるＳｉＮ等は膜応力が大きく、且つ、屈折率が石英系ガラス材料からなるコアやクラッド材料に比べて大きいため、リッジ幅を狭くすると、クラッドと防湿層との応力差や屈折率差の影響を受けやすくなり、偏波依存性や損失等の光学特性の劣化が問題となる。また、防湿層の膜応力が大きいため、直接クラッドに防湿層を形成した場合に防湿層の膜剥がれが生じる場合がある。

そこで、本発明では、クラッドにリッジ構造を有する光回路部品における光学特性の劣化を防止することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の光回路部品は、クラッドと防湿層の間に応力緩衝層を設ける。

具体的には、本発明の光回路部品は、
リッジ構造を有するＳｉＯ_２を含むクラッドと、
前記クラッド内に配置されたコアと、
前記クラッドの上面及び側面を覆う応力緩衝層と、
前記応力緩衝層を覆う防湿層と、
を備える。

本発明の光回路部品では、
前記防湿層は、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ及びアルミナの少なくともいずれか１つを含んでもよい。

本発明の光回路部品では、
前記応力緩衝層は、前記防湿層より膜応力が小さくてもよい。

本発明の光回路部品では、
前記応力緩衝層は、
ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナ及び前記クラッドの組成を含み、
前記クラッドに近い領域においては前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナよりも前記クラッドの組成の割合が高く、
前記防湿層に近い領域においては前記クラッドの組成よりも前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナの割合が高くなる様に組成が連続的に変化してもよい。

本発明の光回路部品では、
前記応力緩衝層は、
ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナ及び前記クラッドの組成を含み、
前記クラッドに近い領域においては前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナよりも前記クラッドの組成の割合が高く、
前記防湿層に近い領域においては前記クラッドの組成よりも前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナの割合が高くなる様に複数の層の積層構造になっていてもよい。

本発明の光回路部品では、前記防湿層を覆う応力調整層をさらに備えていてもよい。
前記応力緩衝層の組成が均一な場合、前記応力調整層の組成は、前記応力緩衝層と等しい組成を有する。
前記応力緩衝層の組成が不均一な場合、前記応力調整層の組成は、前記防湿層に対して前記応力緩衝層と対照になる。例えば、前記応力調整層の組成は、前記防湿層から遠い領域においては前記クラッドに近い領域の前記応力緩衝層に等しい組成を有し、前記防湿層に近い領域においては前記防湿層に近い領域の前記応力緩衝層に等しい組成を有する。

本発明の光回路部品では、前記応力緩衝層は、前記クラッドより屈折率が小さくてもよい。

本発明の光回路部品では、前記クラッドと前記応力緩衝層の間でありかつ前記クラッドの上面にヒータをさらに備えてもよい。

なお、上記各発明は、可能な限り組み合わせることができる。

本発明によれば、クラッドがリッジ構造を有する光回路部品における光学特性の劣化を防止することができる。

実施形態１に係る光回路１００の一例を示す。実施形態１に係る光回路部品９１の一例を示す。実施形態１における屈折率及び応力の分布の一例を示す。実施形態１に係る光回路部品９１の製造方法の一例を示す。実施形態２に係る光回路部品９１の一例を示す。実施形態２における屈折率及び応力の分布の一例を示す。実施形態３における屈折率及び応力の分布の一例を示す。実施形態４における屈折率及び応力の分布の一例を示す。比較例に係る挿入損失のリッジ幅依存性の一例を示す。実施形態４に係る挿入損失のリッジ幅依存性の一例を示す。実施形態５における屈折率及び応力の分布の第１例を示す。実施形態５における屈折率及び応力の分布の第２例を示す。実施形態５における屈折率及び応力の分布の第３例を示す。実施形態５における屈折率及び応力の分布の第４例を示す。実施形態５における屈折率及び応力の分布の第５例を示す。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態に限定されるものではない。これらの実施の例は例示に過ぎず、本発明は当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した形態で実施することができる。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。

（実施形態１）
図１に、本実施形態に係る光回路１００の一例を示す。本実施形態に係る光回路１００は、導波路が形成された平面光回路であり、＃１〜＃４の光回路部品９１を備える。

光回路部品９１＃１〜９１＃４は任意の機能を有する。例えば、光回路部品９１＃１〜９１＃４はヒータ１４によってコア／クラッドの屈折率を変えて位相調整を行う事ができる。このため、光回路部品９１を用いたマッハツェンダー干渉計を組み合わせて可変光減衰器（ＶＯＡ）、光スイッチ（ＭＣＳ：ＭｕｌｔｉｃａｓｔＳｗｉｔｃｈ）や光フィルタ（ＴＯＦ：ＴｕｎａｂｌｅＯｐｔｉｃａｌＦｉｌｔｅｒ）を実現する事が出来る。

光回路部品９１＃１〜９１＃４の導波路をリッジ形状にするため、クラッド部分には溝１７が設けられている。溝１７は、隣接する光回路部品９１でのヒータ１４による加熱の影響を遮蔽する。例えば、ヒータ１４＃３の周囲のクラッドには、溝１７＃３及び溝１７＃３４が設けられている。

図２に、本実施形態に係る光回路部品９１の断面図の一例を示す。図２では、光回路部品９１の断面図の一例として、図１のＡ−Ａ’断面での光回路部品９１＃３の断面図を示す。本実施形態に係る光回路部品９１は、基板１１と、クラッド１２と、コア１３と、応力緩衝層１５と、防湿層１６と、を備える。

クラッド１２及びコア１３は光導波路を構成する。クラッド１２は基板１１の上面に配置され、リッジ構造を有する。コア１３は、クラッド１２の内部に配置される。基板１１は、例えば、Ｓｉ基板である。クラッド１２及びコア１３は、例えば、ＳｉＯ_２を含む。

図３に、本実施形態における屈折率及び応力の分布の一例を示す。本実施形態では、膜応力が、クラッド１２、応力緩衝層１５及び防湿層１６の順に高い。また本実施形態では、クラッド１２及び応力緩衝層１５の屈折率が等しく、防湿層１６の屈折率がクラッド１２及び応力緩衝層１５の屈折率よりも高い。

本実施形態に係る光回路部品９１は、クラッド１２の上面にヒータ１４を備えてもよい。ヒータ１４は、クラッド１２及びコア１３の温度を制御することにより、光回路部品９１の位相を制御可能にする。

防湿層１６は防湿性を有し、応力緩衝層１５を覆うように配置される。これにより、防湿層１６は、クラッド１２の湿気による変質を防ぎ、クラッド１２の屈折率や応力変化を防止し、光回路部品９１の特性変化を抑止することができる。防湿層１６は、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ及びアルミナの少なくともいずれか１つを含む。本実施形態では、一例として、防湿層１６がＳｉＮである例について説明する。

応力緩衝層１５は、クラッド１２及びヒータ１４の上面及び側面を覆うように配置され、クラッド１２と防湿層１６との間に働く応力差を緩和する機能を有する。光回路部品９１は、応力緩衝層１５を備えることで、防湿層１６とクラッド１２との応力差で生じる偏波依存性の抑制や、膜剥がれという問題の解消をすることができる。

応力緩衝層１５は、クラッドの組成であるＳｉＯ_２を含み、スパッタ法又はＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって積層されている。これにより、応力緩衝層１５の応力をクラッド１２と防湿層１６の中間の応力とすることができる。応力緩衝層１５は、防湿層１６の組成を含んでいてもよい。

例えば、クラッド１２がＦＨＤ（ＦｌａｍｅＨｙｄｒｏｌｙｓｉｓＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎＭｅｔｈｏｄ）法で形成したＢＰＳＧである場合、応力緩衝層１５として、スパッタ法又はＣＶＤ法によって積層された単層のＳｉＯ_２を用いることができる。この場合、ＳｉＮの防湿層１６に１７００Ｍｐａの応力が発生する場合、応力緩衝層１５として３００Ｍｐａの応力が発生するようなＳｉＯ_２を用いる。

防湿層１６の応力の影響を緩和するため、応力緩衝層１５の膜厚Ｈｂは、防湿層１６の膜厚Ｈｄよりも厚いことが好ましい。例えば、応力緩衝層１５の膜厚Ｈｂは１μｍ以上であることが好ましい。ただし、応力緩衝層１５の膜厚Ｈｂは１μｍ以下であってもよい。例えば、０．１μｍ以上とすることができる。

本実施形態に係る光回路部品製造方法は、リッジ形成手順と、応力緩衝層形成手順と、防湿層形成手順と、を順に有する。

リッジ形成手順では、クラッド１２に溝１７を設け、リッジ形状とする。先ず、図４（ａ）のような、基板１１の上面にクラッド１２及びコア１３が形成された平面光回路を作製する。クラッド１２は、例えば、ＦＨＤ法やＣＶＤ法で形成する。次に、クラッド１２の溝１７の部分をエッチングして、図４（ｂ）に示すようなリッジ構造を形成する。次に、図４（ｂ）に示すように、クラッド１２のリッジ構造の上面にヒータ１４を形成する。

次に、応力緩衝層形成手順を実行する。応力緩衝層形成手順では、図４（ｃ）に示すように、リッジ構造を有するクラッド１２の上面及び両側面に、応力緩衝層１５を形成する。応力緩衝層１５の形成は、例えば、形成する層の組成制御が比較的容易であるスパッタ法であるか、或いは、表面に凹凸があっても層を形成できるＣＶＤ法を用いることが好ましい。

次に、防湿層形成手順を実行する。防湿層形成手順では、図４（ｄ）に示すように、応力緩衝層１５の表面に、防湿層１６を形成する。防湿層１６の形成には、応力緩衝層１５の形成と同じ理由で、スパッタ法又はＣＶＤ法を用いることが好ましい。

以上のような光回路部品製造方法を用いることで、図２に示したような光回路部品９１を作製することができる。

（実施形態２）
実施形態１では、応力緩衝層１５が１層の膜から構成され、応力緩衝層１５の応力がクラッド１２から防湿層１６にかけて一定である場合を示したが、応力緩衝層１５の応力は、クラッド１２に近い位置と防湿層１６に近い位置で異なってもよい。例えば、本実施形態に係る応力緩衝層１５は、図５に示す様に、複数の応力緩衝層１５＃１及び１５＃２を備え、複数の層の積層構造になっている。

応力緩衝層１５＃１はクラッド１２側に配置され、応力緩衝層１５＃２は防湿層１６側に配置される。クラッド１２に近い領域においては防湿層１６の組成よりもクラッド１２の組成の割合が高い。防湿層１６に近い領域においてはクラッド１２の組成よりも防湿層１６の組成の割合が高い。

図６に、本実施形態における屈折率及び応力の分布の一例を示す。本実施形態では、膜応力が、応力緩衝層１５＃１及び１５＃２の順に高い。また本実施形態では、クラッド１２及び応力緩衝層１５＃１の屈折率が等しく、応力緩衝層１５＃２の屈折率が応力緩衝層１５＃１の屈折率よりも高い。

実施形態１では応力緩衝層１５がＳｉＯ_２である例を示したが、応力緩衝層１５の組成はＳｉＯ_２に限らない。例えば、応力緩衝層１５は、ＳｉＯＮであってもよい。この場合、防湿層１６に１７００Ｍｐａの応力が発生するＳｉＮを用いる場合には、応力緩衝層１５＃１に５００Ｍｐａの応力が発生するＳｉＯＮを用い、応力緩衝層１５＃２に１５００Ｍｐａの応力が発生するＳｉＯＮを用いる。

本実施形態に係る光回路部品製造方法は、応力緩衝層形成手順において、応力緩衝層１５＃１及び１５＃２の応力が所望の応力差となるように、応力緩衝層１５＃１及び＃２を形成する。例えば、応力緩衝層１５＃１よりも応力緩衝層１５＃２の方がＳｉＯＮのＮ組成比が高くなるように形成する。

光回路部品９１での複屈折変動、挿入損失及び防湿層１６の膜剥がれは、防湿層１６と応力緩衝層１５の応力差が小さいほど生じにくい。応力緩衝層１５＃１の応力は応力緩衝層１５＃２よりもクラッド１２の応力に近いため、クラッド１２と応力緩衝層１５＃１の応力差を実施形態１でのクラッド１２と応力緩衝層１５の応力差よりも小さくすることができる。また、応力緩衝層１５＃２の応力は応力緩衝層１５＃１よりも防湿層１６の応力に近いため、応力緩衝層１５＃２と防湿層１６の応力差を実施形態１での応力緩衝層１５と防湿層１６の応力差よりも小さくすることができる。したがって、本実施形態は、クラッド１２及び防湿層１６の間の応力差が原因で生じる光回路部品９１の複屈折変動、挿入損失を実施形態１に係る光回路部品９１よりも抑制するとともに、防湿層１６の膜剥がれを防止することができる。

本実施形態では、応力緩衝層１５が、応力緩衝層１５＃１及び応力緩衝層１５＃２の２層を有する例を説明したが、本発明はこれに限定されない。本実施形態は、例えば、応力緩衝層１５が３層以上の層を有する場合にも適用することができる。その際、応力緩衝層１５が有する層のそれぞれは、クラッド１２から防湿層１６に向って段階的に応力を防湿層１６に近づける。

以上説明したように、本実施形態に係る光回路部品９１は、応力緩衝層１５が２層以上の多層膜を備えるため、応力緩衝層１５におけるクラッド１２と防湿層１６の応力をより緩和することができる。

（実施形態３）
実施形態２では、応力緩衝層１５が２層以上の層を有し、それらの層ごとに応力を変化させる場合を示したが、本実施形態では、応力緩衝層１５は、クラッド１２及び防湿層１６の組成を含み、それらの割合を変化させることで応力を変化させる。

例えば、クラッド１２が主にＳｉＯ_２からなり、防湿層１６がＳｉＮからなる場合、応力緩衝層１５は、ＳｉＯ_２及びＳｉＮを含む。応力緩衝層１５は、クラッド１２に近い領域においてはＳｉＮよりもＳｉＯ_２の組成の割合が高く、防湿層１６に近い領域においてはＳｉＯ_２よりもＳｉＮの割合が高い。

図７に、本実施形態における屈折率及び応力の分布の一例を示す。本実施形態では、応力緩衝層１５の膜応力及び屈折率が連続的に変化する。このように、応力緩衝層１５の応力を応力緩衝層１５の内部で連続的に変化させることが好ましい。この場合、クラッド１２に近い領域においては防湿層１６の組成よりもクラッド１２の組成の割合が高く、防湿層１６に近い領域においてはクラッド１２の組成よりも防湿層１６の組成の割合が高くなる様に組成が連続的に変化している。

例えば、クラッド１２に接する領域では略ＳｉＯ_２であり、クラッド１２に近い領域においてはＳｉＮよりもＳｉＯ_２の割合が高く、クラッド１２から防湿層１６にかけてＳｉＮの割合が高くなり、防湿層１６に近い領域においてはＳｉＯ_２よりもＳｉＮの割合が高く、防湿層１６に接する領域では略ＳｉＮである。このため、応力緩衝層１５のうちのクラッド１２に接する部分の応力はクラッド１２の応力と略等しく、応力緩衝層１５のうちの防湿層１６に接する部分の応力は防湿層１６の応力と略等しくすることができる。

本実施形態に係る光回路部品製造方法では、応力緩衝層形成手順において、応力緩衝層１５は、クラッド１２及び防湿層１６の両方の組成の混合比を制御しながら成膜する。

例えば、スパッタ法を用いる場合、ターゲットへの印加電圧又は印加パルスのデューティ比を制御して、初めはクラッド１２の組成のスパッタのみを行い、次にクラッド１２の組成のスパッタレートを防湿層１６の組成のスパッタレートよりも大きくし、連続的に防湿層１６の組成のスパッタレートを大きくするとともに連続的にクラッド１２の組成のスパッタレートを小さくしていき、最終的に防湿層１６の組成のみがスパッタされるようにする。

また、ＣＶＤ法を用いる場合は、例えば、初めはクラッド１２の成膜に用いるガスのみを流し、次にクラッド１２の成膜に用いるガスの流量を防湿層１６の成膜に用いるガスの流量よりも大きくし、連続的に防湿層１６の成膜に用いるガスの流量を大きくするとともに連続的にクラッド１２の成膜に用いるガスの流量を小さくしていき、最終的に防湿層１６の成膜に用いるガスのみを供給するようにする。

光回路部品９１での複屈折変動、挿入損失及び防湿層１６の膜剥がれは、防湿層１６と応力緩衝層１５の応力差が小さいほど生じにくいが、本実施形態では、応力緩衝層１５のうちの防湿層１６に接する部分の応力は防湿層１６の応力と略等しい。したがって、本実施形態は、クラッド１２及び防湿層１６の間の応力差が原因で生じる光回路部品９１の複屈折変動、挿入損失を実施形態１及び２に係る光回路部品９１よりも抑制するとともに、防湿層１６の膜剥がれを防止することができる。

本実施形態では、応力緩衝層１５が１層膜で構成される例を示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、本実施形態は、実施形態２と組み合わせ、多層膜の内部での組成比を連続的に変化させてもよい。また、防湿層１６の組成は、Ｓｉ_３Ｎ_４に限らず、防湿層１６に用いることが可能な任意の組成に適用できる。

本実施形態に係る光回路部品９１は、応力緩衝層１５の組成の混合比が応力緩衝層１５の内部で連続的に変化し、クラッド１２に近いほどクラッド１２の組成に近く、防湿層１６に近いほど防湿層１６の組成に近いため、クラッド１２と防湿層１６の間に生じる応力を徐々に緩和することができる。

（実施形態４）
実施形態１及び２では、応力緩衝層１５のクラッド１２近傍の組成がクラッド１２の組成に近く、これにより、応力緩衝層１５のクラッド１２近傍の屈折率もクラッド１２にほぼ同じになっている場合を示したが、本実施形態では、応力はクラッドと防湿層１６の中間としたまま、屈折率を下げる。これにより、本実施形態に係る光回路部品９１は、リッジ幅を狭くした場合に、屈折率の高い防湿層の影響を抑制する事が可能となる。

図８に、本実施形態における屈折率及び応力の分布の一例を示す。本実施形態では、膜応力が、クラッド１２、応力緩衝層１５及び防湿層１６の順に高い。また本実施形態では、屈折率が、応力緩衝層１５、クラッド１２及び防湿層１６の順に高い。

図９に応力緩衝層無しで直接防湿層としてＳｉＮを形成した場合での挿入損失のリッジ幅依存性を示すが、リッジ幅が１１μｍまで狭くなるとＴＥ偏波の損失が増加してしまう。

これに対して、応力緩衝層１５としてフッ素、もしくは、ボロンを添加したＳｉＯ２を用いて、応力緩衝層の屈折率をクラッドより下げる事により、コア１３から染み出した導波光が防湿層１６の高い屈折率を感じ難くなり、その結果として図１０に示す様にリッジ幅を１１μｍにしても損失増加を抑制する事が出来る。

（実施形態５）
図１１に、本実施形態に係る光回路部品９１の断面図の一例を示す。本実施形態に係る光回路部品９１は、図２に示す防湿層１６を覆う応力調整層１８をさらに備える。応力調整層１８は、応力緩衝層１５の少なくとも一部と等しい組成を有する。

図１２〜図１５に、本実施形態における屈折率及び応力の分布の一例を示す。図１２〜図１５は、それぞれ、実施形態１〜実施形態４を本実施形態に適用した場合を示す。応力調整層１８と応力緩衝層１５とは、組成が等しいことが好ましい。例えば、応力緩衝層１５の組成が均一な場合、応力調整層１８の組成は、応力緩衝層１５と等しい組成を有することが好ましい。応力緩衝層１５の組成が不均一な場合、応力調整層１８の組成は、防湿層１６に対して応力緩衝層１５と対照になっていることが好ましい。さらに、応力調整層１８の膜厚Ｈｃは、応力緩衝層１５と等しいことが好ましい。

例えば、実施形態２のように応力緩衝層１５の膜応力及び屈折率が複数の層の積層構造になっている場合、図１３に示すように、応力調整層１８の膜応力及び屈折率は、防湿層１６を中心にして応力緩衝層１５と対照になるように、複数の層の積層構造になっていることが好ましい。実施形態３のように応力緩衝層１５の膜応力及び屈折率が連続的に変化している場合、図１４に示すように、応力調整層１８の膜応力及び屈折率は、防湿層１６を中心にして応力緩衝層１５と対照になるように、連続的に変化することが好ましい。

本実施形態に係る光回路部品製造方法では、防湿層形成手順の後に、応力調整層形成手順をさらに有する。応力調整層形成手順は、応力緩衝層形成手順と同様である。ただし、実施形態２及び実施形態３へ適用する場合、クラッド１２の組成のスパッタレートと防湿層１６の組成のスパッタレートの調整が、応力緩衝層１５とは逆になるように、ターゲットへの印加電圧又は印加パルスのデューティ比やガスの流量を制御する。

以上説明したように、本実施形態に係る光回路部品９１は、応力調整層１８を備えるため、応力緩衝層１５と防湿層１６の応力差を調整し、応力緩衝層１５からの防湿層１６の剥離を防止することができる。

本発明の光回路部品及び光回路部品の製造方法は、通信産業に適用することができる。

１１：基板
１２：クラッド
１３：コア
１４：ヒータ
１５：応力緩衝層
１６：防湿層
１７：溝
１８：応力調整層
９１：光回路部品
１００：光回路

Claims

リッジ構造を有するＳｉＯ_２を含むクラッドと、
前記クラッド内に配置されたコアと、
前記クラッドの上面及び側面を覆う応力緩衝層と、
前記応力緩衝層を覆う防湿層と、
を備える光回路部品。
前記防湿層は、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ及びアルミナの少なくともいずれか１つを含む
請求項１に記載の光回路部品。
前記応力緩衝層は、前記防湿層よりも膜応力が小さい
請求項１又は２に記載の光回路部品。
前記応力緩衝層は、
ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナ及び前記クラッドの組成を含み、
前記クラッドに近い領域においては前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナよりも前記クラッドの組成の割合が高く、前記防湿層に近い領域においては前記クラッドの組成よりも前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナの割合が高くなる様に組成が連続的に変化している、
請求項１から３のいずれかに記載の光回路部品。
前記応力緩衝層は、
ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナ及び前記クラッドの組成を含み、
前記クラッドに近い領域においては前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナよりも前記クラッドの組成の割合が高く、前記防湿層に近い領域においては前記クラッドの組成よりも前記ＳｉＮ、ＳｉＯＮ又はアルミナの割合が高くなる様に複数の層の積層構造になっている、
請求項１から３のいずれかに記載の光回路部品。
前記応力緩衝層と等しい組成を有し、かつ前記防湿層を覆う応力調整層をさらに備える、請求項１から３のいずれかに記載の光回路部品。
前記防湿層を覆う応力調整層をさらに備え、
前記応力調整層の組成は、前記防湿層から遠い領域においては前記クラッドに近い領域の前記応力緩衝層に等しい組成を有し、前記防湿層に近い領域においては前記防湿層に近い領域の前記応力緩衝層に等しい組成を有する、請求項４又は５に記載の光回路部品。
前記応力調整層は、前記応力緩衝層と等しい膜厚を有する、
請求項６又は７に記載の光回路部品。
前記応力緩衝層は、前記クラッドよりも屈折率が小さい
請求項１から８のいずれかに記載の光回路部品。
前記クラッドと前記応力緩衝層の間でありかつ前記クラッドの上面にヒータをさらに備える、
請求項１から９のいずれかに記載の光回路部品。