JP2018167524A - 太陽電池モジュール用のガラス基板保護フィルム、及び、それを用いてなる薄膜型の太陽電池モジュール - Google Patents

Abstract

【課題】太陽電池モジュールとしての一体化後にセルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に残存する微細な気泡の除去が容易であって、セルガラス基板に対する優れた密着性と高度の密着耐久性を発揮しうるガラス基板保護フィルムを提供すること。【解決手段】基材層１１と、最表面に配置される密着強化層１２と、を備えてなり、基材層１１は、ポリエステル系樹脂又はフッ素系樹脂をベース樹脂とし、密着強化層１２は、融点が９０℃以上１４０℃以下のポリエチレン系樹脂をベース樹脂とし、該密着強化層の全樹脂成分中には、それぞれ適量の既グラフトシラン成分と未グラフトシラン成分とからなるシラン成分が含有されていて、密着強化層１２の表面の樹脂温度９０℃における動摩擦係数が、０．５０以下である、ガラス基板保護フィルム１とする。【選択図】図１

Description

本発明は、太陽電池モジュール用のガラス基板保護フィルム、及び、それを用いてなる薄膜型の太陽電池モジュールに関する。

太陽電池モジュールには様々な層構成のものがある。近年、安価で高い光電変換効率を達成することができる構成として、ＣＩＳ系薄膜型太陽電池モジュール等、セルガラス基板の表面に薄膜型の太陽電池素子を形成してなる各種の薄膜型の太陽電池モジュールの開発が進み注目されている（特許文献１参照）。

ここで、薄膜型の太陽電池モジュールの一般的な層構成（図１参照）においては、薄膜型の太陽電池素子が表面に形成されているセルガラス基板に、通常、耐衝撃性の強化と万一のガラス破損時におけるガラス破片の飛散防止を目的としたガラス基板保護フィルムが積層されている。

ここで、ガラス基板保護フィルムは、セルガラス基板に密着することによってその破損を抑止し、万一のガラス破損時においてガラス破片の飛散を防止する効果を奏しうるものであれば、必ずしも、それ自体に所謂封止材層と同等の衝撃吸収性までは必須とはされない。薄膜型の太陽電池モジュールにおいては、モジュール全体の薄型化が強く求められているため、これを構成するガラス基板保護フィルムは、上記の必要性能を担保できる範囲において、より薄いものであることが望まれる。又、経済性の観点からも、必要以上の厚さは好ましくない。これらが考慮される結果、薄膜型の太陽電池モジュールにおいて、ガラス基板保護フィルムに許容される厚さの上限は一般に１５０μ程度とされている。

このようなガラス基板保護フィルムは、通常、薄膜型の太陽電池モジュールにおいて、裏面側（太陽電池素子の非受光面側）の最表面に配置される（図１参照）。よって、ガラス基板保護フィルムには、上記の厚さに関する制約の一方で、高温高湿環境下における長期の使用に耐えうる耐候性も求められる。

ガラス基板保護フィルムに、必要な耐候性を備えさせるために、その基材樹脂としては、通常、ＰＥＴ等のポリエステル系の樹脂やＰＴＦＥ等のフッ素系樹脂が用いられる。しかし、これらの樹脂はセルガラス基板との密着性に乏しい。

よって、従来、ガラス基板保護フィルムには、セルガラス基板との間の十分な密着性を担保するために、基材樹脂の表面に更に低密度ポリエチレン等からなる密着強化層が設けられることが一般的であった。

尚、この密着強化層を形成する樹脂として、従来、太陽電池モジュール用の封止材シートとして広く用いられてきた、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）をベース樹脂として用いることも考えられるが、長期における過酷な環境下における使用を前提とする場合、耐加水分解性に優れ、酸性ガスの発生のリスクも極めて低い点において、又、更には、ＥＶＡの方が燃えやすく、その際に有害なガスが発生する点における安全性の観点からも、ポリエチレン系樹脂をベース樹脂とすることの利点は大きい。

このようなガラス基板保護フィルムは、セルガラス基板における太陽電池素子の非形成面上に載置された後、太陽電池モジュールを構成する封止材や透明前面基板等その他の部材とともに、熱ラミネーション処理によって一体化される工程を経て、薄膜型の太陽電池モジュールを構成する。

特開２０１１−１５１２６１号公報

上記の薄膜型の太陽電池モジュールの製造工程においては、熱ラミネーション処理に先行して行われるセルガラス基板へのガラス基板保護フィルムの載置の段階で、セルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に微細な気泡等の空隙が僅かでも存在しないように完全に密着させることが望ましい。

しかしながら、上記のような可撓性を有する薄い樹脂フィルムからなるガラス基板保護フィルムをセルガラス基板に載置する作業を行う際に、セルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に残存する微細な気泡を、熱ラミネーション処理の前の段階において完全に除去することは極めて困難であった。セルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に残存するこれらの微細な気泡の存在は、ガラス基板保護フィルムの飛散防止性能を阻害し、又、セルガラス基板に対する密着耐久性を低下させる要因となる。

ガラス基板保護フィルムの密着強化層を形成する材料樹脂として、ポリエチレン系樹脂を使用する場合、セルガラス基板に対する十分な初期密着性を担保するために、一般的には、融点が所定温度以下の範囲にある低融点の樹脂をベース樹脂とすることや、密着性向上成分としてのシラン成分を十分に添加する等の方策が考えられる。尚、従来、ポリエチレン系の樹脂への密着性向上成分としてのシラン成分の添加手段としては、ポリエチレン系樹脂にシラン成分がグラフト重合してなるシラン変性ポリエチレンを用いる方法か、或いは、所謂シランカップリング剤を添加する方法のいずれかが選択されていた。

しかしながら、上記のような低融点のポリエチレン系樹脂を材料樹脂とした場合には、一方で、上述したセルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間の微細な気泡が、太陽電池モジュールとしての一体化のための熱ラミネーション加工後に、より多く残存してしまうという、薄膜のガラス基板保護フィルム特有の課題が存在した。

上記の薄膜のガラス基板保護フィルム特有の課題をいち早く認識するに至った本願発明者らは、次ぎに、従来よりも高融点のポリエチレン系樹脂をガラス基板保護フィルムの密着強化層を形成する材料樹脂とすることを試みた。しかしながら、その場合には、保管中のシラン成分の変質やブリードアウト等の他の弊害が発生しない範囲で、上記の各方法によって、シラン成分を十分に添加したとしても、尚、初期密着性向上等、ガラス基板保護フィルムに求められる各種の要請に十分に応え得るものにはならないことが認識されるに至った。

このように、密着強化層の材料樹脂として、有害ガスの発生リスクの少ないポリエチレン系樹脂を用いたガラス基板保護フィルムにおいて、十分な初期密着性の担保とガラス面との間における微細気泡の残存回避の両立は極めて困難であり、これを両立させうる、より優れたセルガラス基板の開発が求められていた。

本発明は、太陽電池モジュールとしての一体化後にセルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に残存する微細な気泡の除去が容易であって、セルガラス基板に対する優れた密着性と高度の密着耐久性を発揮しうるガラス基板保護フィルムを提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討を行った結果、ガラス基板保護フィルムの密着強化層を構成するベース樹脂であるポリエチレン系樹脂を、融点が所定温度範囲以上の高融点の樹脂をベース樹脂とし、尚且つ、これに添加するシラン成分の構成を、ベース樹脂にグラフト重合している「既グラフトシラン成分」とベース樹脂にグラフト重合していない「未グラフトシラン成分」とが併存する組成とし、尚且つ、同層表面の動摩擦係数を最適化することにより、上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下のものを提供する。

（１） 基材層と、最表面に配置される密着強化層と、を備えてなり、総厚さが１５０μｍ以下であり、前記密着強化層の厚さが５０μｍ以下である多層フィルムであって、前記基材層は、ポリエステル系樹脂又はフッ素系樹脂をベース樹脂とし、前記密着強化層は、１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるＭＦＲが５ｇ／１０分以上３５ｇ／１０分以下のポリエチレン系樹脂をベース樹脂とし、更にシラン成分を含有し、前記シラン成分は、前記密着強化層のベース樹脂であるポリエチレン系樹脂にグラフト重合している既グラフトシラン成分と該ポリエチレン系樹脂にグラフト重合していない未グラフトシラン成分と、からなり、前記シラン成分は、前記密着強化層のベース樹脂であるポリエチレン系樹脂にグラフト重合している既グラフトシラン成分と該ポリエチレン系樹脂にグラフト重合していない未グラフトシラン成分と、からなり、前記密着強化層の全樹脂成分中における該シラン成分の含有量が１．８質量％以上２．８質量％以下であり、前記既グラフトシラン成分の前記密着強化層の全樹脂成分中における含有量が１．５質量％以上２．５質量％以下であり、前記未グラフトシラン成分の前記密着強化層の全樹脂成分中における含有量が０．１５質量％以上０．５質量％以下であって、前記密着強化層の表面の樹脂温度９０℃における動摩擦係数が、０．５０以下である、ガラス基板保護フィルム。

（２） 前記密着強化層の表面の表面粗さＲａが１．９以上である、（１）に記載のガラス基板保護フィルム。

（３） 前記未グラフトシラン成分が、メルカプト基を有するシランカップリング剤である、（１）又は（２）に記載のガラス基板保護フィルム。

（４） 前記密着強化層の厚さが２０μｍ以上であって、前記基材層の厚さが、前記密着強化層の厚さの１．２倍以上である、（１）から（３）のいずれかに記載のガラス基板保護フィルム。

（５） 一方の表面に薄膜型の太陽電池素子が形成されているセルガラス基板における他方の表面に（１）から（４）のいずれかに記載のガラス基板保護フィルムが、前記密着強化層を該セルガラス基板の表面に密着させた態様で積層されている構造を含んでなる薄膜型の太陽電池モジュール。

（６） 前記セルガラス基板における前記太陽電池素子の非積層面側の表面に、ＺｎＯ、Ｚｎ（Ｏ）Ｓ、ＣｄＳ及びＩｎ_２Ｓ_３からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物を含んでなる薄膜層が形成されている、（５）に記載の太陽電池モジュール。

本発明によれば、太陽電池モジュールとしての一体化後にセルガラス基板とガラス基板保護フィルムとの間に残存する微細な気泡の除去が容易であって、セルガラス基板に対する優れた密着性と高度の密着耐久性を発揮しうるガラス基板保護フィルムを提供することができる。

本発明のガラス基板保護フィルムを用いてなる薄膜型の太陽電池モジュールの層構成の一例を模式的に示す図面である。 本発明のガラス基板保護フィルムの層構成を模式的に示す図面である。 本発明のガラス基板保護フィルムの密着強化層表面の動摩擦係数の温度毎の推移を示すグラフである。

以下、本発明のガラス基板保護フィルム、及び、それを用いてなる薄膜型の太陽電池モジュールについて、順次その詳細を説明する。但し、本発明は以下に記載される実施形態に限定されるものではない。

＜ガラス基板保護フィルム＞
本発明のガラス基板保護フィルム１は、薄膜型の太陽電池モジュール１０を構成するセルガラス基板２の外部からの衝撃等による破損を抑止し、万一破損した場合のガラス破片の飛散を防止するための保護フィルムとして好ましく用いることができる。ガラス基板保護フィルム１の用途はこれに限られるものではないが、以下、ガラス基板保護フィルム１について、薄膜型の太陽電池モジュール１０に用いられる場合の実施形態を、その好ましい実施形態の具体例として説明する。

尚、本発明のガラス基板保護フィルム１を好ましく用いることができる薄膜型の太陽電池モジュール１０の一般的な層構成は図１に示す通りである。この薄膜型の太陽電池モジュール１０は、一方の表面に薄膜型の太陽電池素子３が形成されているセルガラス基板２の他方の面にガラス基板保護フィルム１が積層されていて、このセルガラス基板２の薄膜型の太陽電池素子３の形成面側に、封止材４と、透明前面基板５とが、順次積層されている。このような層構成からなる薄膜型の太陽電池モジュール１０において、ガラス基板保護フィルム１は、多くの場合、図１に示す通り、太陽電池モジュールの裏面側（太陽電池素子３の非受光面側）の最外層に露出する状態で用いられる。

図２に示す通り、ガラス基板保護フィルム１は、基材層１１と密着強化層１２と備えてなる多層フィルムである。基材層１１は、ガラス基板保護フィルム１の耐候性を担保する層である。一方、密着強化層１２は、ガラス基板保護フィルム１のセルガラス基板２との間における密着性と密着耐久性とを必要な程度にまで向上させる層である。基材層１１と密着強化層１２との一体化については、公知のドライラミネート法や押出しラミネート法によることができる。

多層フィルムであるガラス基板保護フィルム１の総厚さは、５０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは６０μｍ以上９０μｍ以下である。総厚さが５０μｍ未満であると、セルガラス基板２の保護機能を十分に発揮しえない場合がある。一方、総厚さが１５０μｍを超えると、モジュール全体の薄型化の要請に逆行する点において好ましくなく、又、経済性においても不利である。

［基材層］
基材層１１は、多層フィルムであるガラス基板保護フィルム１のコア層であり、ガラス基板保護フィルム１に求められる耐候性や衝撃緩和性能等の特性は専らこの層によって担保される。又、この基材層１１は、太陽電池モジュール１０の最外層側において、水蒸気バリア層や絶縁層としての機能も発揮しうる層であることが好ましい。但し、基材層１１は、必ずしも、単独の樹脂層として、これらの機能の全てを賄うことが必須ではない。例えば、ガラス基板保護フィルム１の更に外側に別途のバリア層を補助的に配置することによって、これらの機能を補助して太陽電池モジュール全体としての必要なバリア性や絶縁性を担保する構成とすることもできる。

基材層１１としては、ポリエステル系の樹脂、又はフッ素系の樹脂、或いは、これらの各樹脂をベース樹脂として基材層１１を構成する樹脂成分中５０質量％以上含有してなる混合樹脂を好ましく用いることができる。基材層１１を、これらの樹脂によって形成することで、ガラス基板保護フィルム１に好ましい耐候性や衝撃緩和性能を付与することができる。尚、本明細書において「ベース樹脂」とは、当該ベース樹脂を含有してなる樹脂組成物において、当該樹脂組成物の樹脂成分中で含有量比の最も大きい樹脂のことを言うものとする。

基材層１１の材料として用いることができるポリエステル系の樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を挙げることができる。ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）は、透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の他、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に酸化チタン等の白色顔料を含有させた白色ＰＥＴや変性ポリフェニレンエーテル（ｍ−ＰＰＥ）等の表面に更にコーティング又はラミネートにより耐侯性樹脂を積層した樹脂シート、耐加水分解性ポリエチレンテレフタレートも含まれる。なかでも、耐加水分解性ポリエチレンテレフタレートであることが好ましく、耐加水分解性ポリエチレンテレフタレートとしては、例えば、東洋紡社製シャインビーム（耐加水分解性ポリエステルフィルム）等を挙げることができる。

同じく、フッ素系樹脂等の樹脂フィルムとしては、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレンパーフルオロアルキルビニル・エステル共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（四フッ化エチレン・エチレン共重合体）、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）等を挙げることができる。

基材層１１の厚さは、上述の通り、ガラス基板保護フィルム１の総厚さと、密着強化層１２の厚さとの関係において、好ましい厚さ範囲の下限と上限が相対的に規定される。この好ましい厚さ範囲内において、基材層１１は、３０μｍ以上９０μｍ以下の厚さであることが好ましく、３５μｍ以上５５μｍ以下であることがより好ましい。基材層１１の厚さが３０μｍ以上であることで、ガラス基板保護フィルム１の耐候性を担保することができる。又、基材層１１の厚さが９０μｍ以下であることで、ガラス基板保護フィルム１の総厚さを上記の好ましい範囲に保持することができ、又、材料費を抑えてガラス基板保護フィルム１の経済性を高めることができる。但し、上述した通り、別途の耐候層等をガラス基板保護フィルムの外層側に更に積層する場合には、これらの追加的な耐候層と相まって、薄膜型の太陽電池モジュールとしての必要な耐候性を担保することも可能であり、この場合、基材層１１の単独層としての厚さは上記の下限厚さである３０μｍよりも更に薄いものとすることもできる。

又、基材層１１の厚さは、密着強化層１２の厚さとの対比において、密着強化層１２の厚さの１．２倍以上であることが好ましく、１．５倍以上であることがより好ましい。密着強化層１２には必要十分な密着性を担保するための最低限の厚さとして、２０μｍ程度の厚さが求められる。例えば、密着強化層１２の厚さが、３０μｍである場合、基材層１１の厚さは、その１．２倍以上、則ち、３６μｍ以上であることが好ましい。ガラス基板保護フィルム１の各層の厚さ比をこのように最適化することにより、ガラス基板保護フィルム１の総厚さを１５０μｍ以内に維持しながら、セルガラス基板２に対する十分な密着性と、セルガラス基板２への衝撃を緩和する性能のいずれをもバランスよく高めることができる。

尚、基材層１１には、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記材料の他に、顔料等のその他の添加物を適宜含有するものとすることもできる。又、ガラス基板保護フィルム１の表面に傷防止のための凹凸形状を付与する表面処理やハードコート処理がなされていてもよい。

尚、基材層１１は、樹脂温度２５℃における、粘性項（Ｅ’’）が１．０×１０^７Ｐａ以上５．０×１０^８Ｐａ未満であることが好ましい。後述する通り、ガラス基板保護フィルム１の最表面に配置される密着強化層１２については、粘性項（Ｅ’’）が８．０×１０^６Ｐａ以上であることが好ましいものとされているが、基材層１１については、太陽電池モジュールを保護する観点から、密着強化層１２よりも相対的に大きな粘性項（Ｅ’’）を有する樹脂層であることが好ましい。基材層１１の粘性項（Ｅ’’）が、上記範囲であることにより、太陽電池モジュールを、曝露環境下で、例えば砂やその他の飛来物等による衝撃からも、十分に保護することができる。

［密着強化層］
密着強化層１２は、ガラス基板保護フィルム１の最表面に配置されるスキン層であり、セルガラス基板２とガラス基板保護フィルム１との間の密着性及び密着耐久性を高める効果を発揮する樹脂層である。

密着強化層１２は、下記に詳細を説明するポリエチレン系樹脂をベース樹脂とし、更に、本発明特有の態様でベース樹脂中に存在するシラン成分を含んでなる樹脂層である。そして、尚且つ、密着強化層１２は、その表面の動摩擦係数が、所定範囲に最適化されていることを特徴とする。具体的に、密着強化層１２の表面の樹脂温度９０℃における動摩擦係数は、０．５０以下であり、好ましくは、０．４０以下であり、より好ましくは、０．３５以下である。上記の動摩擦係数が、０．５０以下、好ましくは０．４０以下であることにより、ガラス基板保護フィルム１は、熱ラミネーション処理の進行中に、軟化したガラス基板保護フィルム１がセルガラス基板２の表面で適度に滑動し、これにより、熱ラミネーション処理前の段階においてセルガラス基板２とガラス基板保護フィルム１との間に残存している上述の気泡等を消失又は十分に減少させることができる。

密着強化層１２の表面の動摩擦係数については、同層の表面形状や表面粗さ等を物理的な加工によって調整することによって上記範囲内への調整が可能である。同層の表面粗さについて、具体的には、表面粗さＲａが１．９以上であることが好ましく、２．０以上３．５以下であることがより好ましい。尚、本明細書における表面粗さＲａとは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に規定の通りの算術平均粗さＲａのことを言うものとする。即ち、Ｒａは、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にＸ軸を、縦倍率の方向にＹ軸を取り、粗さ曲線をｙ＝ｆ（χ）で表したときに、次の式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものを言う。又、このようなＲａは、例えば、表面粗さ測定器：ＨＡＮＤＹＳＵＲＦ Ｅ−３５Ｂ（東京精密製）等により測定して求めることができる。

又、密着強化層１２の表面の動摩擦係数については、密着強化層１２を形成するベース樹脂に、同樹脂よりも高融点の樹脂を添加剤として一定量範囲内で加えることによる方法や、ベース樹脂への滑剤の添加による方法によっても、上記動摩擦係数を上記範囲内に調整することが可能である。

尚、本明細書における「動摩擦係数」とは、加重変動型摩擦摩耗試験システム（「ＨＨＳ２０００」（新東科学（株）製））を用いて、ボール圧子で荷重２００ｇ、５ｍｍ／ｓｅｃで測定した値のことを言うものとする。

密着強化層１２のベース樹脂とするポリエチレン系樹脂として、密度０．８７０ｇ／ｃｍ^３以上０．９７０ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレンを用いることができる。又、密度０．８７５ｇ／ｃｍ^３以上０．９２０ｇ／ｃｍ^３以下の低密度ポリエチレンをより好ましく用いることができる。

又、密着強化層１２のベース樹脂とする上記ポリエチレン系樹脂として、より詳細には、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、又は、メタロセン系直鎖低密度ポリエチレン（Ｍ−ＬＬＤＰＥ）を好ましく用いることができる。中でも、シングルサイト触媒であるメタロセン触媒を用いて合成されるものであるＭ−ＬＬＤＰＥは、側鎖の分岐が少なく、コモノマーの分布が均一であるため、分子量分布が狭く、超低密度にすることが容易であることより、ＣＩＳ系又はＣＺＴＳ系薄膜型太陽電池モジュールにおいて、ガラス基板保護フィルム１のセルガラス基板２に対する密着性を、特段に優れたものとすることができる。

又、密着強化層１２のベース樹脂とするポリエチレン系樹脂のＭＦＲは、５ｇ／１０分以上３５ｇ／１０分以下であればよく、８ｇ／１０分以上３３ｇ／１０分以下であることがより好ましい。ＭＦＲが、５ｇ／１０分以上３５ｇ／１０分以下の範囲内にあることで、密着性向上と密着耐久性向上の両効果をバランスよく発現させることができる。尚、本明細書におけるメルトマスフローレート（ＭＦＲ）とは、特に別途の断りのない限り、上記の通り、ＪＩＳ Ｋ６９２２−２により測定した１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるメルトマスフローレート（ＭＦＲ）の値のことを言うものとする。ベース樹脂とするポリエチレン系樹脂のＭＦＲが、５ｇ／１０分以上３５ｇ／１０分以下であることにより、ガラス基板保護フィルム１のセルガラス基板２に対する初期密着性を十分に好ましい範囲に保持することができる。

又、密着強化層１２のベース樹脂とする上記ポリエチレン系樹脂は、融点が９０℃以上１４０℃以下であることが好ましく、９４℃以上１２５℃以下であることがより好ましい。密着強化層１２を形成するポリエチレン系樹脂の融点が、９０℃以上であることにより、太陽電池モジュール１０の製造工程におけるセルガラス基板２へのガラス基板保護フィルム１のセッティングの段階で、セルガラス基板２と、この上に載置されたガラス基板保護フィルム１との間に、微細な気泡等が残存していたとしても、熱ラミネート処理の進行中において、これらの気泡等を、消失又は十分に減少させやすい。これは、密着強化層の融点が９０℃未満である場合には、通常１５０℃程度で行われる熱ラミネーション処理の過程で、上記の気泡等が残存したままの状態で、ガラス基板保護フィルム１のセルガラス基板２への密着が完了してしまいやすいのに対し、同融点を９０℃以上とすることにより、ガラス基板保護フィルム１が緩やかに軟化する過程で、上記の密着が完了する前に、上述の気泡等が消失又は十分に減少しやすいことによるものと考えられる。

尚、本明細書において、基材層１１や密着強化層１２等の各層を形成する材料樹脂の融点とは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により測定して得ることができる各樹脂の融点のことをいうが、ＤＳＣ曲線の谷のピークが複数存在する場合は、そのうちのピーク面積が最も大きいピークが示す融点のことを、当該樹脂の融点と言うものとする。

密着強化層１２は、以上説明したポリエチレン系樹脂をベース樹脂として形成されている層である。密着強化層１２は、このポリエチレン系樹脂を、密着強化層１２を構成する樹脂成分中に、６０質量％以上含んでなる層であることが好ましく、９０質量％以上含んでなる層であることがより好ましい。

以上説明したポリエチレン系樹脂をベース樹脂として形成されている密着強化層１２には、更に、密着性向上成分として「シラン成分」が含有されている。本発明のガラス基板保護フィルム１は、密着強化層１２に含まれるこの「シラン成分」が、ベース樹脂であるポリエチレン系樹脂にグラフト重合している「既グラフトシラン成分」と、同樹脂にグラフト重合していない「未グラフトシラン成分」とからなるものであること、即ち、それぞれ異なる態様でベース樹脂中に存在する上記両シラン成分のいずれもが、必須の構成成分として密着強化層１２に含有されていることを特徴とする。

ここで、本明細書における「シラン成分」とは「ベース樹脂の主鎖にグラフトしたアルコキシシラン及びグラフトしていないアルコキシシラン」を言う。

又、本明細書における「既グラフトシラン成分」とは、「ベース樹脂にグラフト重合しているアルコキシシラン成分」のことを言うものする。

本発明のガラス基板保護フィルム１の製造においては、具体的には、ベース樹脂とするポリエチレン系樹脂の一部を、後述の「シラン変性樹脂」とすることにより、密着強化層１２を、上述の定義における「既グラフトシラン成分」を含有する層とすることができる。

尚、完成品たるガラス基板保護フィルムの「既グラフトシラン成分」の含有量（質量％）については、ＩＣＰ発光分光分析法やＥＰＭＡにてＳｉ元素量を定量するとともに、ガスクロマトグラフィーによりグラフトしたアルコキシシラン種を定性することで、その含有量を測定することができる。

又、本明細書における「未グラフトシラン成分」とは、ベース樹脂にグラフトせずに遊離しているアルコキシシラン成分であり、一般的に分子量は５００以下である。

本発明のガラス基板保護フィルム１の製造においては、具体的には、ベース樹脂とするポリエチレン系樹脂に、各種のシランカップリング剤を添加することにより、密着強化層１２を、上述の定義における「未グラフトシラン成分」を含有する層とすることができる。

尚、遊離しているアルコキシシラン成分は、例えばトルエン等の溶媒に浸すことで抽出でき、クロマトグラフィーにより定量することができる。

密着強化層１２の全樹脂成分中における「シラン成分」の含有量は、１．８質量％以上２．８質量％以下であればよく、２．０質量％以上２．６質量％以下であることが好ましい。上述の通り、この「シラン成分」は、「既グラフトシラン成分」と「未グラフトシラン成分」とからなり、「既グラフトシラン成分」の密着強化層１２の全樹脂成分中における含有量は、１．５質量％以上２．５質量％以下であればよく、１．７質量％以上２．１質量％以下であることが好ましい。又、「未グラフトシラン成分」の密着強化層１２の全樹脂成分中における含有量は、０．１５質量％以上０．５質量％以下であればよく、０．２質量％以上０．４質量％以下であることがより好ましい。

ここで、密着強化層１２をポリエチレン系樹脂で形成する場合、上記のように動摩擦係数を低く抑えるためには、一般的には当該ポリエチレン樹脂の融点を相応に高める必要があり、この場合、結果として十分な密着性を担保することが困難となる。これに対して、密着強化層１２を、上記のような特定の態様でシラン成分が含有される構成とすることにより、動摩擦係数を特定値以下にするために必要な程度にまで、当該樹脂の融点を高くしたとしても、十分な初期密着性と密着耐久性とを担保することができる。

密着強化層１２における「既グラフトシラン成分」の材料としては、シラン変性ポリエチレン系樹脂を用いることができる。このシラン変性ポリエチレン系樹脂は、主鎖となる直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）等に、エチレン性不飽和シラン化合物を側鎖としてグラフト重合してなるものである。このようなグラフト共重合体は、接着力に寄与するシラノール基の自由度が高くなる。これにより、ガラス基板保護フィルム１にセルガラス基板２に対する密着性と密着耐久性を向上させることができる。

シラン変性ポリエチレン系樹脂は、例えば、特開２００３−４６１０５号公報に記載されている方法で製造でき、当該樹脂を裏面保護シートの密着強化層用の組成物として使用することにより、強度、耐久性等に優れ、且つ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、その他の諸特性に優れ、更に、ＣＩＳ系又はＣＺＴＳ系薄膜型太陽電池モジュールを製造する加熱圧着等の製造条件に影響を受けることなく極めて優れた熱融着性を有し、安定的に、低コストで、ＣＩＳ系又はＣＺＴＳ系薄膜型太陽電池モジュールを製造し得る。

ＬＬＤＰＥ等とグラフト重合させるエチレン性不飽和シラン化合物として、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルトリペンチロキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリベンジルオキシシラン、ビニルトリメチレンジオキシシラン、ビニルトリエチレンジオキシシラン、ビニルプロピオニルオキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリカルボキシシランより選択される１種以上を使用することができる。

密着強化層のベース樹脂として、このシラン変性ポリエチレン系樹脂を用いる場合、そのエチレン性不飽和シラン化合物の含量であるグラフト量は、密着強化層の全樹脂成分に対して、上記範囲の配合量、即ち、１．５質量％以上２．５質量％以下となるように、当該シラン変性樹脂における上記グラフト量、又は、当該シラン変性ポリエチレンの全樹脂成分中における添加量を適宜調整すればよい。上記エチレン性不飽和シラン化合物のグラフト量、即ち、本発明における「既グラフトシラン成分」の密着強化層の全樹脂成分に対する含有量が、１．５質量％未満であると、密着耐久性が不十分となり、又、ガラス基板保護フィルムの機械的強度や耐熱性も不足しやすい。又、「既グラフトシラン成分」の上記含有量が２．５質量％を超えると、保管中におけるシラン成分の変質が起こりやすく、又、ガラス基板保護フィルムの引っ張り伸びや、熱融着性が低下する傾向がある。

密着強化層１２における「未グラフトシラン成分」の材料としては、シランカップリング剤を用いることができる。シランカップリング剤は公知の剤を適宜用いることができるが、メルカプト基を有するシランカップリング剤（以下、「メルカプト系シランカップリング剤」ともいう。）を特に好ましく用いることができる。

メルカプト系シランカップリング剤とは、一般式［Ｒ１−Ｓｉ（ＯＲ２）^３］（Ｒ１はメルカプトアルキル基を、Ｒ２はアルキル基をそれぞれ表わす）で表されるものであり、例としては、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトメチルトリメトキシシラン及びγ−メルカプトエチルトリメトキシシラン等があげられる。尚、メルカプト系のシランカップリング剤は特に限定されず、公知のシランカップリング剤を好適に用いることができる。例えば、「ＫＢＭ８０２」（信越シリコーン株式会社製）があり、市場から容易に入手できる。

密着強化層１２におけるシランカップリング剤の含有量は、密着強化層１２の全樹脂成分中における含有量として０．１５質量％以上０．５質量％以下であり、好ましくは、０．２質量％以上０．４質量％以下である。密着強化層１２のベース樹脂がポリエチレン系樹脂であり、上述の「既グラフトシラン成分」との併用で、シランカップリング剤が、上記含有量で含まれているときには、過酷な湿熱環境下におけるガラス等に対する密着耐久性が極めて好ましい範囲へと向上する。シランカップリング剤の含有量がこの範囲未満であると太陽電池モジュールを構成する部材への密着性、特に初期密着性が不十分となる。又、上記範囲を超えてシランカップリング剤を添加すると、製膜性の低下やブリードアウトが発生する場合があり、好ましくない。

尚、例えば、上述した密着性向上成分としてのメルカプト系のシランカップリング剤や或いは他の各種フィラーの樹脂層中への添加については、このような各種のフィラーの樹脂層内部での有無が、摩擦係数に実質的な影響を及ぼすことはないので、必要に応じてこれらを添加することができる。

密着強化層１２の厚さは、上記の通り、ガラス基板保護フィルム１の総厚さと、密着強化層１２の厚さとの関係において、好ましい範囲が相対的に規定される。この規定範囲内において、密着強化層１２単独の厚さとしては、２０μｍ以上５０μｍ以下であればよく、２５μｍ３５μｍ以下であることがより好ましい。密着強化層１２の厚さが２０μｍ以上であることで、ガラス基板保護フィルム１の初期密着性と、密着耐久性を担保することができる。又、密着強化層１２の厚さが５０μｍ以下であることで、ガラス基板保護フィルム１の総厚さを上記の好ましい範囲に保持することができ、又、密着強化層１２が過剰に流動することに起因して太陽電池モジュールとしての一体化のためのラミネート加工時において、ラミネータが汚染することを防止することができる。又、材料費を抑えてガラス基板保護フィルム１の経済性を高めることもできる。

尚、本明細書において、基材層１１や密着強化層１２等、多層フィルムであるガラス基板保護フィルムを構成する各層の厚さとは、各層の最表面又は対面する他の層との界面から、その面とは他方の面側の最表面又は対面する他の層との界面までの距離を言うものとする。そして、測定対象とする層の上記各面内において、上記距離にバラツキがある場合には、上記距離の平均値を言うものとする。但し、この平均値の算出にあたって、測定対象とする層の表面又は界面の一部のみに形成される凹凸構造は、これを厚さのノイズとして上記平均値を算出する要素から排除する。上記の垂直距離は、例えば、当該ガラス基板保護フィルムの垂直断面を電子顕微鏡等で観察することにより測定可能である。

［その他の層］
ガラス基板保護フィルム１には、上記各層の他、太陽電池モジュール１０としての一体化時に最外層に配置されることが想定される最外層に更に、耐候性を向上させる別途の耐候層を積層したものであってもよい。この場合、例えば、耐候性を担保するという目的においては、基材層１１を、上記の好ましい厚さ範囲よりも更に薄くすることも可能である。

［ガラス基板保護フィルムの製造方法］
ガラス基板保護フィルム１は、基材層１１を形成する工程、密着強化層１２を形成する工程、及びこれらの各層を密着積層して一体化する工程を経ることによって、製造することができる。

基材層１１、密着強化層１２の各層を形成する方法としては、押出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法、その他の公知の成膜化法等によることができる。又、これらの層の一体化については上述の通り公知のドライラミネーション法によることができる。ラミネート接着剤は特に限定されず、ウレタン系、エポキシ系等の主剤と硬化剤とからなる２液硬化型のドライラミネート接着剤等が適宜使用可能である。

＜薄膜型の太陽電池モジュール＞
ガラス基板保護フィルム１を好ましく用いることができる薄膜型の太陽電池モジュールの代表的な例として、ＣＩＳ系薄膜型太陽電池モジュール及びＣＺＴＳ系薄膜型太陽電池モジュールを挙げることができる。ＣＩＳ系薄膜型太陽電池モジュールとは、光吸収層の材料として、シリコンの代わりに、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｇａ、Ａｌ、Ｓｅ、Ｓ等からなるカルコパイライト系と呼ばれるＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物等のＣＩＳ系薄膜型太陽電池素子を用いた薄膜多結晶太陽電池モジュールである。ＣＺＴＳ系薄膜型太陽電池モジュールとは、光吸収層の材料として、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓ又はＳｅを含むカルコゲナイド系のＩ２−（ＩＩ−ＩＶ）−ＶＩ４族化合物半導体の太陽電池素子を用いてなる太陽電池モジュールである。

これらの薄膜型太陽電池モジュールにおいては、薄膜型の太陽電池素子３が積層されているセルガラス基板２の太陽電池素子の非積層面にＺｎＯ、Ｚｎ（Ｏ）Ｓ、ＣｄＳ及びＩｎ_２Ｓ_３等、バッファー層由来の金属や金属酸化物等を含んでなる層が不可避的に形成されてしまう場合がある。ガラス基板保護フィルム１は、ガラス密着性に優れるのみならず、これらの金属酸化物等に対する密着性についても極めて優れたものである。そのためガラス基板保護フィルム１は、ＣＩＳ系又はＣＺＴＳ系等の薄膜型太陽電池モジュールの製造において、極めて好ましく用いることができる。

以下の通り、実施例、比較例の各ガラス基板保護フィルムを作成し、本発明の効果を検証した。

＜ガラス基板保護フィルムの作成＞
下記の組成からなる基材層及び密着強化層を形成する各樹脂フィルムを、ウレタン系の接着剤によるドライラミネート法により一体化して、各実施例及び比較例のガラス基板保護フィルムを作成した。

［基材層］
基材層を構成する樹脂フィルムとして、全ての実施例及び比較例のガラス基板保護フィルムにおいて、ＰＥＴフィルム（東レ社製、「Ｘ１０Ｓ」、厚さ５０μｍ）を用いた。

［密着強化層］
密着強化層を構成する樹脂組成物として、ポリエチレン樹脂にアルコキシシラン成分がグラフト重合してなる、即ち、「既グラフトシラン成分」を含有する下記の「シラン変性樹脂（シラン変性ポリエチレン）」に、更に、「未グラフトシラン成分」として、それぞれ下記のシランカップリング剤を所定量添加（比較例４は未添加）して得た樹脂組成物を用いた。そして、これらの各樹脂組成物を溶融成形し、尚且つ、この溶融成形時に、梨地エンボスロールを用いて、表面に凹凸を形成した厚さ３０μｍの「密着強化樹脂フィルム」を各実施例及び比較例のガラス基板保護フィルムの密着強化層とした。但し、実施例５、６、１２については、エンボスの高さが他の例よりも低くなるように成形した。又、比較例１１については、エンボス加工を施していないロールを用いて成形した。
（シラン変性ポリエチレン（既グラフトシラン成分））
：エチレンと１−ヘキセンとの共重合体であるメタロセン系直鎖状低密度ポリエチレン（Ｍ−ＬＬＤＰＥ）（下記表１のベース樹脂１〜６）を各実施例比較例に用いるシラン変性ポリエチレンのベース樹脂とした。これらの各ベース樹脂に対して、それぞれ所定量のビニルトリメトキシシランと、ラジカル発生剤（反応触媒）としてのジクミルパーオキサイド（いずれの樹脂組成物においても０．１質量部）とを混合し、２００℃で溶融、混練して、各実施例、比較例に用いるそれぞれの「シラン変性ポリエチレン系樹脂」を得た。各実施例、比較例毎のビニルトリメトキシシランの添加量は、ベース樹脂に対するグラフト重合量、即ち、ベース樹脂１００質量部当りの「既グラフトシラン成分」の含有量（表１において「Ｓｉグラフト量（質量％）」と表示）が、表１に示す各量となるように適宜調整した。このようにして得た、各シラン変性樹脂の密度、ＭＦＲは表１に示す通りである。
（シランカップリング剤（未グラフトシラン成分））
：メルカプト系のシランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ８０２」）。各実施例、比較例における、樹脂組成物中のシランカップリング剤の含有量（質量％）は表１に記載の通りになるように調整した。

＜密着強化層表面における動摩擦係数測定＞
実施例と比較例の各ガラス基板保護フィルムについて、密着強化層表面の、樹脂温度９０℃における、青板ガラス板上での動摩擦係数を下記方法により測定した。結果を表３に示す。
［動摩擦係数の測定］
作製した各ガラス基板保護フィルムについて、ホットプレート上で加熱しながら、加重変動型摩擦摩耗試験システム（「ＨＨＳ２０００」（新東科学（株）製））を用いて、ボール圧子で荷重２００ｇ、５ｍｍ／ｓｅｃで、動摩擦係数を測定し、これを、「９０℃における動摩擦係数」とみなした。測定結果を「動摩擦係数」として表３に示す。尚、図３は、参考データとして、この測定方法によって得た実施例１と比較例７の２０℃〜１６０℃の間における上記動摩擦係数の推移をグラフ化したものである。

＜密着強化層表面における表面粗さ（Ｒａ）測定＞
実施例と比較例の各ガラス基板保護フィルムについて、密着強化層表面の、表面粗さ（Ｒａ）を下記方法により測定した。結果を表３に示す。
［表面粗さ（Ｒａ）の測定］
作製した各ガラス基板保護フィルムについて、表面粗さ測定器：ＨＡＮＤＹＳＵＲＦ Ｅ−３５Ｂ（東京精密製）を用いて、それぞれの表面状態を測定し、それぞれの表面粗さ（Ｒａ）を算出した。

＜初期密着性評価＞
［密着性評価用サンプルの作成］
青板ガラス（７５ｍｍ×５０ｍｍ×０．０３５ｍｍ）上にＰＶＤ法により厚さ０．５μｍでＺｎＯ層を形成した試験用セルガラス基板を作成した。そして、この試験用セルガラス基板の上記ＺｎＯ層上に、１５ｍｍ幅にカットした上記の実施例及び比較例の各ガラス基板保護フィルムをそれぞれ密着させ、下記熱ラミネート条件（ａ）〜（ｄ）で、真空加熱ラミネータ処理を行い、それぞれの実施例、比較例の密着性評価用サンプルを得た。
（熱ラミネート条件） （ａ）真空引き：４．０分
（ｂ）加圧（０ｋＰａ〜１００ｋＰａ）：１．５分
（ｃ）圧力保持（１００ｋＰａ）：９．０分
（ｄ）温度１５５℃
［密着性試験］
上記各密着性評価用サンプルについて、下記の試験条件における密着強度を測定して、各ガラス基板保護フィルムの密着性を評価した。密着強度の測定は、各密着性評価用サンプルにおいて、ガラス基板保護フィルムを、剥離試験機（テンシロン万能試験機 ＲＴＦ−１１５０−Ｈ）にて垂直剥離（５０ｍｍ／ｍｉｎ）する試験によって行った。評価基準として、上記試験により得た層間の剥離強度について、以下の評価基準により評価した。測定結果と評価結果を「初期密着性」として表３に示す。
（評価基準）
Ａ：１５Ｎ／１５ｍｍ以上
Ｂ：９Ｎ／１５ｍｍ以上１５Ｎ／１５ｍｍ未満
Ｃ：５Ｎ／１５ｍｍ以上９Ｎ／１５ｍｍ未満
Ｄ：５Ｎ／１５ｍｍ未満

＜高度耐久性評価＞
［高度耐久性試験］
実施例、比較例の上記密着性評価用サンプルを、７５℃の水中に完全に水没させた状態で、５００時間保管後、上記密着性試験と同一の試験を行った。評価基準として、上記試験により得た層間の剥離強度について、以下の評価基準により評価した。測定結果と評価結果を「高度耐久性」として表３に示す。
（評価基準）
Ａ：１５Ｎ／１５ｍｍ以上
Ｂ：９Ｎ／１５ｍｍ以上１５Ｎ／１５ｍｍ未満
Ｃ：５Ｎ／１５ｍｍ以上９Ｎ／１５ｍｍ未満
Ｄ：５Ｎ／１５ｍｍ未満

＜保管安定性評価＞
［高度耐久性試験］
実施例、比較例の上記密着性評価用サンプルについて、ダンプヒート試験（ＪＩＳ Ｃ８９１７に準拠）による耐久性試験を行った。試験槽内温度４０℃、湿度９０％の条件下で１か月保管後、上記密着性試験と同一の試験を行った。評価基準として、上記試験により得た層間の剥離強度について、以下の評価基準により評価した。測定結果と評価結果を「保管安定性」として表３に示す。
（評価基準）
Ａ：上記「初期密着性」に対する密着強度（Ｎ／１５ｍｍ）の維持率が９０％以上
Ｂ：同維持率が８０％以上９０％未満
Ｃ：同維持率が６０％以上８０％未満
Ｃ：同維持率が６０％未満
＜ラミネート時における層間残存気泡の残存量評価＞
［残存気泡観察用サンプルの作成］
青板ガラス（９００ｍｍ×１０００ｍｍ×１．８ｍｍ）上にＰＶＤ法により厚さ０．５μｍでＺｎＯ層を形成した試験用セルガラス基板を作成した。そして、この試験用セルガラス基板の上記ＺｎＯ層上に、８８０ｍｍ×９８０ｍｍにカットした上記の実施例及び比較例の各ガラス基板保護フィルムをそれぞれ載置し、下記熱ラミネート条件（ａ）〜（ｄ）で、真空加熱ラミネータ処理を行い、それぞれの実施例、比較例の各残存気泡観察用サンプルを得た。尚、ガラス板への上記の各ガラス基板保護フィルムの載置は、２名の作業者がフィルム両端を保持しながら手作業でガラス板に載置することによって行った。この際、加熱前の初期状態のフィルムとガラス板の界面において、１〜３箇所に、高さ１ｃｍ程度、２〜４ｃｍ径程度の気泡（ガラス基板保護フィルムが、ガラス板に密着せずに乖離している部分）が、形成されるように、両作業者がフィルムにかけるテンションを調整しながら載置した。
（熱ラミネート条件） （ａ）真空引き：４．０分
（ｂ）加圧（０ｋＰａ〜１００ｋＰａ）：１．５分
（ｃ）圧力保持（１００ｋＰａ）：９．０分
（ｄ）温度１５５℃
［層間残存気泡観察試験］
実施例、比較例の各残存気泡観察用サンプルについて、目視で、ガラス基板保護フィルムとセルガラス基板の間に残存する気泡の有無を観察した。評価基準として、上記層間に、気泡が無く、シワが目視で観察できなかったものを「Ａ」、気泡かシワのいずれかが観察されたものを「Ｃ」とした。評価結果を「残存気泡」として表３に示す。

表３より、ガラス密着性を高めるために、ガラス基板保護フィルムの密着強化層を構成するベース樹脂の融点を低くした場合（比較例７、１２）、或いは、高融点の樹脂を用いたものであっても、９０℃における表面の動摩擦係数が大きい場合（比較例１１）には、太陽電池モジュールの層間のおける微細気泡の残存が回避できないことが分かる。この問題については、同表から分かる通り、表面粗さの最適化等の他の手段により、９０℃における表面の動摩擦係数を調整することにより回避可能であることが確認された。

又、表３より、ガラス密着性を高めるために、ガラス基板保護フィルムの密着強化層を構成するベース樹脂の融点を低くした場合（比較例７）、太陽電池モジュールの層間のおける微細気泡の残存が回避できないことが分かる。この問題については、同表から分かる通り、高融点（９０℃以上）のポリエチレン系樹脂を用いることにより回避可能ではある。しかしながら、これらの高融点のベース樹脂に十分な密着性を付与するために、例えば、密着性向上成分として広く用いられているシランカップリング剤（未グラフトシラン成分）のみを添加した場合（比較例９）には、初期密着性は十分に発現するが、高度耐久性が、低下する。一方、これらの高融点樹脂の密着性を担保するために、同様に密着性向上成分として広く用いられているシラン変性樹脂（既グラフトシラン成分）のみを用いた場合（比較例１０）には、高度耐久性は十分に発現するが、初期密着性が不十分となる。

これに対して、ガラス基板保護フィルムの密着強化層を構成するベース樹脂であるポリエチレン系樹脂を高融点の樹脂をベース樹脂とし、これに添加するシラン成分の構成を、ベース樹脂にグラフト重合している「既グラフトシラン成分」とベース樹脂にグラフト重合していない「未グラフトシラン成分」とが、特定の配合比で併存する本発明独自の組成に最適化することにより、上記の微細な気泡の残存にかかる課題を解決しながら、極めて優れた初期密着性、高度耐久性、及び保管安定性を有するものとすることが可能であることが分かる。これは、密着強化層のベース樹脂たるポリエチレン系樹脂にグラフト重合していない反応性の高い「未グラフトシラン成分」が、被接着基板、及び、ベース樹脂にグラフト重合している「既グラフトシラン成分」と、反応することで、初期密着強度が発現する一方で、「既グラフトシラン成分」についてはベース樹脂の主鎖にグラフトされているため、密着強化層に高度耐久性を付与することができるためであるものと考えられる。

以上より、本発明のガラス基板保護フィルムは、とりわけ薄膜型の太陽電池モジュールの製造において問題となっていた層間気泡の残存を、製造時において、十分に回避することができるものであること。そして、太陽電池モジュールとしての一体化後におけるセルガラス基板との密着性、及び、高温多湿の気候地域での使用等、極めて過酷な使用環境下における高度耐久性について、極めて優れたものであることが分かる。

１ ガラス基板保護フィルム
１１ 基材層
１２ 密着強化層
２ セルガラス基板
３ 太陽電池素子
４ 封止材
５ 透明前面基板
１０ 太陽電池モジュール

Claims (6)

1. 基材層と、最表面に配置される密着強化層と、を備えてなり、総厚さが１５０μｍ以下であり、前記密着強化層の厚さが２０μｍ以上５０μｍ以下である多層フィルムであって、
   前記基材層は、ポリエステル系樹脂又はフッ素系樹脂をベース樹脂とし、
   前記密着強化層は、１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるＭＦＲが５ｇ／１０分以上３５ｇ／１０分以下のポリエチレン系樹脂をベース樹脂とし、更にシラン成分を含有し、
   前記シラン成分は、前記密着強化層のベース樹脂であるポリエチレン系樹脂にグラフト重合している既グラフトシラン成分と該ポリエチレン系樹脂にグラフト重合していない未グラフトシラン成分と、からなり、
   前記シラン成分は、前記密着強化層のベース樹脂であるポリエチレン系樹脂にグラフト重合している既グラフトシラン成分と該ポリエチレン系樹脂にグラフト重合していない未グラフトシラン成分と、からなり、
   前記密着強化層の全樹脂成分中における該シラン成分の含有量が１．８質量％以上２．８質量％以下であり、
   前記既グラフトシラン成分の前記密着強化層の全樹脂成分中における含有量が１．５質量％以上２．５質量％以下であり、
   前記未グラフトシラン成分の前記密着強化層の全樹脂成分中における含有量が０．１５質量％以上０．５質量％以下であって、
   前記密着強化層の表面の樹脂温度９０℃における動摩擦係数が、０．５０以下である、ガラス基板保護フィルム。
2. 前記密着強化層の表面の表面粗さＲａが１．９以上である、請求項１に記載のガラス基板保護フィルム。
3. 前記未グラフトシラン成分が、メルカプト基を有するシランカップリング剤である、請求項１又は２に記載のガラス基板保護フィルム。
4. 前記基材層の厚さが、前記密着強化層の厚さの１．２倍以上である、請求項１から３のいずれかに記載のガラス基板保護フィルム。
5. 一方の表面に薄膜型の太陽電池素子が形成されているセルガラス基板における他方の表面に請求項１から４のいずれかに記載のガラス基板保護フィルムが、前記密着強化層を該セルガラス基板の表面に密着させた態様で積層されている構造を含んでなる薄膜型の太陽電池モジュール。
6. 前記セルガラス基板における前記太陽電池素子の非積層面側の表面に、ＺｎＯ、Ｚｎ（Ｏ）Ｓ、ＣｄＳ及びＩｎ_２Ｓ_３からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物を含んでなる薄膜層が形成されている、請求項５に記載の太陽電池モジュール。

Images