JP2018144428A - Silicone blanket - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicone blanket capable of preventing winding-up of a printing object in a printing process, which is a silicone blanket acquiring a pattern of a desired ink on the surface of the printing object.SOLUTION: A silicone blanket 1 has, on a surface layer, silicone rubber 3 to which a processing for radiating an electron beam is applied. A condition of the processing for radiating an electron beam is that an absorption dose which is a dose of the electron beam absorbed into the silicone rubber 3 is 30 kGy or more and 2,000 kGy or less, or that a dose of the electron beam is 30 kGy or more and 1,000 kGy or less.SELECTED DRAWING: Figure 1a

Description

本発明は、シリコーンブランケットに関する。   The present invention relates to a silicone blanket.

印刷方法の一つにオフセット印刷がある。オフセット印刷とは、版に付着しているインクを一旦ブランケットに転写させ、ブランケットに転写したインクを被印刷物に転写させる印刷方法である。オフセット印刷は、短時間で大量の印刷が可能であることから、商業用の紙媒体の印刷に利用されているが、高精密の印刷も可能であることから、プリンテッドエレクトロニクス分野において、電子部品における電子回路などの形成にも利用されている。   One printing method is offset printing. Offset printing is a printing method in which ink attached to a plate is once transferred to a blanket, and the ink transferred to the blanket is transferred to a substrate. Offset printing is used for printing on commercial paper media because a large amount of printing is possible in a short time. However, since high-precision printing is also possible, electronic components are used in the printed electronics field. It is also used to form electronic circuits.

こうしたオフセット印刷に用いられるブランケットとして、インクの離型性に優れているという観点から、シリコーンゴムからなる表面層を備えたシリコーンブランケットが使用されている。しかしながら、このようなシリコーンブランケットは、その表面層を形成するシリコーンゴムが鏡面状であり粘着性が大きいことから、印刷工程において被印刷物を巻き上げる不具合を生じさせることがある。このような被印刷物の巻き上げを防止する為には、シリコーンゴムの粘着性を低減させる必要がある。
また、極細線のインクなどは、シリコーンゴムの表面上で乾燥しやすいので、シリコーンゴムの表面上のインクを被印刷物に転写させた際に、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンを得られない虞がある。このような乾燥を防ぐためには、例えばインクの溶剤がシリコーンゴムに吸収されるのを低減させる必要がある。 As a blanket used for such offset printing, a silicone blanket having a surface layer made of silicone rubber is used from the viewpoint of excellent ink releasability. However, in such a silicone blanket, the silicone rubber forming the surface layer is mirror-like and has high adhesiveness, which may cause a problem of winding up the substrate in the printing process. In order to prevent such printing material from being rolled up, it is necessary to reduce the adhesiveness of the silicone rubber.
Also, extra fine wire ink, etc., tends to dry on the surface of the silicone rubber, so when the ink on the surface of the silicone rubber is transferred to the substrate, a desired ink pattern is obtained on the surface of the substrate. There is a risk of not being able to. In order to prevent such drying, for example, it is necessary to reduce the absorption of the ink solvent by the silicone rubber.

ここで、シリコーンゴムの粘着を抑制させる技術として、特許文献１に、引っかき硬度がＢ以上、３Ｈ以下であるシリコーンレジンからなる被覆層を用いる技術が開示されている。
また、被印刷物の表面上で所望のインクの細線パターンを得る技術として、特許文献２に、特定の複数の成分を混合することにより調製されたインクを用いる技術が開示されている。 Here, as a technique for suppressing the adhesion of silicone rubber, Patent Document 1 discloses a technique using a coating layer made of a silicone resin having a scratch hardness of B or more and 3H or less.
In addition, as a technique for obtaining a desired fine line pattern of ink on the surface of a substrate, Patent Document 2 discloses a technique using an ink prepared by mixing a plurality of specific components.

特開２００９−１８４２６８号公報JP 2009-184268 A 特開２０１０−２６４５９９号公報JP 2010-264599 A

特許文献１に開示された技術は、所定の引っかき硬度のシリコーンレジンを用いることで、シリコーンゴムの粘着を抑制させるが、仮にこのような所定の引っかき硬度のシリコーンレジンを表面層に用いた場合、凹版を使用する印刷手法では版の凹みに追従しにくくなり、また、依然として被印刷物の巻き上げを解消できない虞もある。   The technique disclosed in Patent Document 1 suppresses the adhesion of silicone rubber by using a silicone resin having a predetermined scratch hardness. If a silicone resin having such a predetermined scratch hardness is used for the surface layer, In the printing method using an intaglio, it becomes difficult to follow the indentation of the plate, and there is a possibility that the winding of the printing material cannot be solved yet.

また、特許文献２に開示された技術により、被印刷物の表面上で所望のインクの細線パターンを得るためには、特定の顔料、樹脂、表面エネルギー調製剤、速乾性有機溶剤および遅乾性有機溶剤を、それぞれ所定の割合で混合させた特有のインクが必要になる。しかし、このような特有のインクの入手や調剤は不便である。   In addition, in order to obtain a desired fine line pattern of ink on the surface of a printing material by the technique disclosed in Patent Document 2, a specific pigment, resin, surface energy preparation agent, fast-drying organic solvent, and slow-drying organic solvent Are required to be mixed in a predetermined ratio. However, obtaining and dispensing such specific inks is inconvenient.

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、シリコーンゴムに電子線を所定の条件で照射することで、印刷工程において、被印刷物の巻き上げを防ぐことを目的とする。
また、本発明は、シリコーンゴムに電子線を上記と異なる所定の条件で照射することで、印刷工程において、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンを得ることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to prevent the printing material from being rolled up in the printing process by irradiating the silicone rubber with an electron beam under predetermined conditions.
Another object of the present invention is to obtain a desired ink pattern on the surface of a substrate in the printing process by irradiating the silicone rubber with an electron beam under predetermined conditions different from the above.

本発明の第１の観点に係るシリコーンブランケットは、
電子線を照射する処理が施されたシリコーンゴムを表面層に有し、
前記電子線を照射する処理の条件は、前記シリコーンゴムに吸収される前記電子線の線量である吸収線量が３０ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下である。 The silicone blanket according to the first aspect of the present invention is:
It has a silicone rubber on the surface layer that has been treated with electron beam irradiation,
The treatment condition for irradiating the electron beam is that the absorbed dose, which is the dose of the electron beam absorbed by the silicone rubber, is 30 kGy or more and 2000 kGy or less.

例えば、前記吸収線量が３０ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下であっても良い。   For example, the absorbed dose may be 30 kGy or more and 1000 kGy or less.

例えば、前記表面層のヤング率は、１９０Ｎ／ｍｍ２以上２６０Ｎ／ｍｍ２以下であっても良い。 For example, the Young's modulus of the surface layer may be 190 N / mm 2 or more 260 N / mm 2 or less.

例えば、前記電子線を加速させる加速電圧が７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下であっても良い。   For example, the acceleration voltage for accelerating the electron beam may be 70 kV or more and 150 kV or less.

本発明の第２の観点に係るシリコーンブランケットは、
シリコーンゴムを表面層に有し、
前記表面層のタック値は、１５２ｇｆ以下である。 The silicone blanket according to the second aspect of the present invention is:
Having silicone rubber in the surface layer,
The tack value of the surface layer is 152 gf or less.

例えば、前記表面層のヤング率は、１９０Ｎ／ｍｍ２以上３５０Ｎ／ｍｍ２以下であっても良い。 For example, the Young's modulus of the surface layer may be 190 N / mm 2 or more 350 N / mm 2 or less.

本発明によれば、シリコーンゴムに電子線を所定の条件で照射することで、印刷工程において、被印刷物の巻き上げを防ぐことができる。
また、本発明によれば、シリコーンゴムに電子線を上記と異なる所定の条件で照射することで、印刷工程において、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンを得ることができる。 According to the present invention, it is possible to prevent the substrate from being rolled up in the printing process by irradiating the silicone rubber with an electron beam under a predetermined condition.
Further, according to the present invention, a desired ink pattern can be obtained on the surface of the substrate in the printing process by irradiating the silicone rubber with an electron beam under predetermined conditions different from the above.

本発明の実施の形態に係るシリコーンブランケットの側面図である。It is a side view of the silicone blanket which concerns on embodiment of this invention. 実施の形態に係るシリコーンブランケットをブランケット胴に巻き付けた状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which wound the silicone blanket which concerns on embodiment to the blanket cylinder. オフセット印刷について説明する図であり、版にインクを付着させた状態を示す図である。It is a figure explaining offset printing, and is a figure showing the state where ink was made to adhere to a plate. オフセット印刷について説明する図であり、版からシリコーンブランケットにインクを転写する状態を示す図である。It is a figure explaining offset printing, and is a figure showing the state of transferring ink from a plate to a silicone blanket. オフセット印刷について説明する図であり、シリコーンブランケットから被印刷物にインクを転写する状態を示す図である。It is a figure explaining offset printing, and is a figure showing the state of transferring ink from a silicone blanket to a printing material.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態に係るシリコーンブランケットについて説明する。   Hereinafter, a silicone blanket according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

シリコーンブランケット１は、オフセット印刷において中間転写体として用いられるものであり、図１（ａ）に示すように、基材２と、シリコーンゴム３と、を備える。基材２及びシリコーンゴム３は、積層体を形成している。   The silicone blanket 1 is used as an intermediate transfer body in offset printing, and includes a base material 2 and a silicone rubber 3 as shown in FIG. The base material 2 and the silicone rubber 3 form a laminate.

基材２は、シリコーンブランケット１の物理的強度を補強する部材である。基材２は、シート状の樹脂製のフィルムにより形成されており、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などから形成されている。
シリコーンゴム３は、印刷工程において、インクの受理及び転写を行う。 The substrate 2 is a member that reinforces the physical strength of the silicone blanket 1. The substrate 2 is made of a sheet-like resin film, and is made of, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyphenylene sulfide (PPS), polyethylene naphthalate (PEN), or the like.
The silicone rubber 3 receives and transfers ink in the printing process.

シリコーンブランケット１は、図１（ｂ）に示すように、ブランケット胴４の表面に巻き付けられて装着される。具体的には、基材２及びシリコーンゴム３が、ブランケット胴４側から、この順に積層するように装着される。そして、シリコーンゴム３はシリコーンブランケット１の外周部分を形成する。以下では、この外周部分を表面層と呼ぶ。なお、軸１０は回転軸である。   The silicone blanket 1 is wound around the surface of the blanket cylinder 4 and attached as shown in FIG. Specifically, the base material 2 and the silicone rubber 3 are mounted so as to be laminated in this order from the blanket cylinder 4 side. The silicone rubber 3 forms the outer peripheral portion of the silicone blanket 1. Below, this outer peripheral part is called a surface layer. The shaft 10 is a rotating shaft.

ここで、シリコーンブランケット１を利用したオフセット印刷の印刷工程について説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、版２０に所定のパターンでインクｉを付着させる。次に、図２（ｂ）に示すように、シリコーンブランケット１が装着されたブランケット胴４を、回転移動させながら版２０上に圧着させて、版２０上のインクｉをシリコーンブランケット１の表面層に転写させる。続いて、図２（ｃ）に示すように、このブランケット胴４を回転移動させながら、シリコーンブランケット１を被印刷物３０に圧着させる。これにより、シリコーンブランケット１の表面層に付着しているインクｉを被印刷物３０に転写させて、被印刷物３０に所望のインクｉのパターンを形成する。これにより、オフセット印刷の印刷工程が完了する。そのほか、シリコーンブランケット１は、従来公知のオフセット印刷にも用いることが出来る。 Here, a printing process of offset printing using the silicone blanket 1 will be described.
First, as shown in FIG. 2A, the ink i is attached to the plate 20 in a predetermined pattern. Next, as shown in FIG. 2 (b), the blanket cylinder 4 to which the silicone blanket 1 is attached is pressed against the plate 20 while being rotationally moved, and the ink i on the plate 20 is applied to the surface layer of the silicone blanket 1. Let them transcribe. Subsequently, as shown in FIG. 2C, the silicone blanket 1 is pressure-bonded to the printing material 30 while the blanket cylinder 4 is rotated. As a result, the ink i attached to the surface layer of the silicone blanket 1 is transferred to the substrate 30 to form a desired ink i pattern on the substrate 30. Thereby, the printing process of offset printing is completed. In addition, the silicone blanket 1 can be used for conventionally known offset printing.

このような印刷工程において、被印刷物３０の巻き上げの防止や、所望のインクのパターンを得るために、表面層であるシリコーンゴム３の表面に電子線を照射する処理が施されている。ここで、所望のインクパターンとは、例えば、インクの線幅や膜厚（インク厚）が均一であり、かつ、インクの細線（極細線を含む）が欠落していない状態をいう。シリコーンゴム３は、電子線を照射されることで、その照射された部分の物性が改質される。   In such a printing process, in order to prevent the printing material 30 from being rolled up and to obtain a desired ink pattern, the surface of the silicone rubber 3 as the surface layer is irradiated with an electron beam. Here, the desired ink pattern means, for example, a state where the line width and the film thickness (ink thickness) of the ink are uniform, and the thin ink line (including the ultrathin line) is not lost. When the silicone rubber 3 is irradiated with an electron beam, the physical properties of the irradiated portion are modified.

被印刷物３０の巻き上げを防ぐために、シリコーンゴム３のタック値（粘着性）は１５２ｇｆ以下である。シリコーンゴム３のタック値がこの範囲にあれば、印刷工程において、シリコーンゴム３は被印刷物３０を巻き上げない。
また、シリコーンゴム３のタック値は、例えば、１５１ｇｆ以下、１４０ｇｆ以下、１００ｇｆ以下、９０ｇｆ以下、８０ｇｆ以下、７５ｇｆ以下、７０ｇｆ以下、６９ｇｆ以下、６８ｇｆ以下、６７ｇｆ以下または６６．８以下であっても良い。また、シリコーンゴム３のタック値は、０ｇｆよりも大きく、１ｇｆ以上、３ｇｆ以上、５．０ｇｆ以上または５．３ｇｆ以上であっても良い。
なお、これらのタック値は、株式会社ＲＨＥＳＣＡ社製のＴＡＣＫＩＮＥＳＳ ＴＥＳＴＥＲにより、後述する条件で測定される値である。 In order to prevent the substrate 30 from being rolled up, the tack value (adhesiveness) of the silicone rubber 3 is 152 gf or less. If the tack value of the silicone rubber 3 is within this range, the silicone rubber 3 does not wind up the substrate 30 in the printing process.
Further, the tack value of the silicone rubber 3 may be, for example, 151 gf or less, 140 gf or less, 100 gf or less, 90 gf or less, 80 gf or less, 75 gf or less, 70 gf or less, 69 gf or less, 68 gf or less, 67 gf or less, or 66.8 or less. good. Further, the tack value of the silicone rubber 3 may be greater than 0 gf, 1 gf or more, 3 gf or more, 5.0 gf or more, or 5.3 gf or more.
In addition, these tack values are values measured under the conditions described later by TACKINES TESTER manufactured by RHESCA.

シリコーンゴム３に電子線を照射する処理の条件のうち、シリコーンゴム３に吸収される電子線の吸収線量と、電子線を加速させる加速電圧は、次の通りである。   Among the treatment conditions for irradiating the silicone rubber 3 with the electron beam, the absorbed dose of the electron beam absorbed by the silicone rubber 3 and the acceleration voltage for accelerating the electron beam are as follows.

すなわち、電子線の吸収線量は、１００ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下である。この範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させれば、電子線を吸収した部分の架橋密度が高くなって、当該部分の粘着性が低減し、印刷工程において、シリコーンゴム３による被印刷物３０の巻き上げを防ぐことができる。
ここで、３０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ未満の範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させた場合においても、印刷工程において、シリコーンゴム３による被印刷物３０の巻き上げを防ぐことができると考えられる。すなわち、３０ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下の範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させた場合においても、印刷工程において、シリコーンゴム３による被印刷物３０の巻き上げを防ぐことができると考えられる。 That is, the absorbed dose of the electron beam is 100 kGy or more and 2000 kGy or less. If the dose of the electron beam in this range is absorbed by the silicone rubber 3, the crosslink density of the portion that has absorbed the electron beam is increased, and the adhesiveness of the portion is reduced. 30 windings can be prevented.
Here, even when the dose of the electron beam in the range of 30 kGy or more and less than 100 kGy is absorbed by the silicone rubber 3, it is considered that the printing material 30 can be prevented from being rolled up by the silicone rubber 3 in the printing process. That is, even when the dose of the electron beam in the range of 30 kGy or more and 2000 kGy or less is absorbed by the silicone rubber 3, it is considered that the printing material 30 can be prevented from being rolled up by the silicone rubber 3 in the printing process.

また、電子線の吸収線量は、１００ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下であっても良い。この範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させれば、電子線を吸収した部分の架橋密度が高くなることで、当該部分によるインク溶剤の吸収性が低減し、シリコーンゴム３の表面上におけるインクの乾燥が低減されるので、シリコーンゴム３の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることが可能になる。
ここで、３０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ未満の範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させた場合においても、シリコーンゴム３の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることができると考えられる。すなわち、３０ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下の範囲の電子線の線量をシリコーンゴム３に吸収させた場合においても、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることができると考えられる。 Further, the absorbed dose of the electron beam may be 100 kGy or more and 1000 kGy or less. If the dose of the electron beam in this range is absorbed by the silicone rubber 3, the crosslink density of the portion that has absorbed the electron beam is increased, thereby reducing the absorbability of the ink solvent by the portion, and on the surface of the silicone rubber 3. Therefore, when the ink on the surface of the silicone rubber 3 is transferred to the printing material 30, a desired ink pattern can be obtained on the surface of the printing material 30.
Here, even when the dose of the electron beam in the range of 30 kGy or more and less than 100 kGy is absorbed by the silicone rubber 3, the surface of the printing material 30 is transferred when the ink on the surface of the silicone rubber 3 is transferred to the printing material 30. It is considered that a desired ink pattern can be obtained. That is, it is considered that a desired ink pattern can be obtained on the surface of the substrate 30 even when the dose of the electron beam in the range of 30 kGy to 1000 kGy is absorbed by the silicone rubber 3.

加速電圧は、任意に調整されるが、７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下であれば、電子線をシリコーンゴム３の表面から所望の深度にまで浸透させる上で好ましい。ここで、所望の深度とは、被印刷物３０の巻き上げの防止や、インク溶剤の吸収性を低減し、シリコーンゴム３の表面上におけるインクの乾燥を低減させる為に好ましい電子線の照射深度をいう。また、加速電圧の値は、必要に応じて変更されてもよく、例えば８０ｋＶ以上、９０ｋＶ以上、１００ｋＶ以上、１１０ｋＶ以上または１２０ｋＶ以上であっても良く、１４０ｋＶ以下、１３０ｋＶ以下または１２５ｋＶ以下であっても良い。なお、加速電圧は、１２５ｋＶであっても良い。   The accelerating voltage is arbitrarily adjusted, but 70 kV or more and 150 kV or less is preferable for penetrating the electron beam from the surface of the silicone rubber 3 to a desired depth. Here, the desired depth refers to an irradiation depth of an electron beam that is preferable for preventing the printing material 30 from being rolled up, reducing ink solvent absorbability, and reducing ink drying on the surface of the silicone rubber 3. . Further, the value of the acceleration voltage may be changed as necessary, for example, 80 kV or more, 90 kV or more, 100 kV or more, 110 kV or more, or 120 kV or more, and 140 kV or less, 130 kV or less, or 125 kV or less. Also good. The acceleration voltage may be 125 kV.

このような粘着性やインク溶剤の吸収性の低減は、シリコーンゴム３が吸収した電子線の線量と、電子線がシリコーンゴム３の表面から浸透した深度により決定されると考えられる。   It is considered that such reduction in adhesiveness and ink solvent absorbency is determined by the dose of the electron beam absorbed by the silicone rubber 3 and the depth of penetration of the electron beam from the surface of the silicone rubber 3.

さらに、シリコーンゴム３に電子線を照射することで、シリコーンゴム３における電子線を吸収した部分の架橋密度は高くなり、当該部分の硬度は高くなる。これにより、印刷工程において、シリコーンブランケット１を版２０に押圧させた際に、シリコーンゴム３が版２０によって過度な変形を引き起こされにくくなる。そして、例えば、版２０が凹版である場合であっても、いわゆる底当たりを防ぐことが可能になる。   Furthermore, by irradiating the silicone rubber 3 with an electron beam, the crosslinking density of the portion of the silicone rubber 3 that has absorbed the electron beam is increased, and the hardness of the portion is increased. Thereby, when the silicone blanket 1 is pressed against the plate 20 in the printing process, the silicone rubber 3 is less likely to be excessively deformed by the plate 20. For example, even when the plate 20 is an intaglio, it is possible to prevent so-called bottom contact.

（シリコーンゴムの加工）
シリコーンゴム３は、例えば、シリコーンゴムの主剤と硬化剤を混合し、その混合物の表面に、上記の条件の下で電子線の照射処理を施すことにより得られる。なお、シリコーンゴム３は、市販のシリコーンゴムの表面に、上記の条件の下で電子線の照射処理を施すことで得られても良い。 (Processing of silicone rubber)
The silicone rubber 3 is obtained, for example, by mixing a silicone rubber main component and a curing agent, and subjecting the surface of the mixture to an electron beam irradiation treatment under the above conditions. The silicone rubber 3 may be obtained by subjecting the surface of a commercially available silicone rubber to an electron beam irradiation treatment under the above conditions.

ここで、電子線照射装置を用いた電子線の照射処理について説明する。
電子線照射装置は、所定の搬送速度Ｖで搬送されているシリコーンゴムに、電子線を照射することができる。この電子線は、電子線照射装置内において電圧（加速電圧）を印加されることで、運動エネルギーを得て加速されることができる。そして、この加速電圧が高いほど、電子線はシリコーンゴムの深部に達するようになる。つまり、加速電圧の値を調整することで、シリコーンゴムの処理深度を調整することができる。
また、この電子線の流れによる電流（ビーム電流）Ｉが大きい程、シリコーンゴムに吸収される電子線の吸収線量Ｄは多くなる。この吸収線量Ｄにより、シリコーンゴムの物性が決定される。つまり、加速電圧が異なっても、吸収線量Ｄが同一であれば、物性は同等になると考えられる。
また、上記のようにして、シリコーンゴムに一定の線量の電子線を吸収させる処理を複数回行った場合には、シリコーンゴムに吸収された吸収線量Ｄの合計は、一回の処理で吸収された線量に処理回数（パス回数）を乗じた値となる。
なお、吸収線量Ｄは、Ｄ＝Ｋ・Ｉ／Ｖの式により算出することができる。ここで、Ｋは電子線照射装置に固有の定数である。 Here, an electron beam irradiation process using the electron beam irradiation apparatus will be described.
The electron beam irradiation apparatus can irradiate the silicone rubber being conveyed at a predetermined conveyance speed V with an electron beam. This electron beam can be accelerated by obtaining a kinetic energy by applying a voltage (acceleration voltage) in the electron beam irradiation apparatus. The higher the acceleration voltage, the deeper the electron beam reaches the silicone rubber. That is, the treatment depth of the silicone rubber can be adjusted by adjusting the value of the acceleration voltage.
Further, as the current (beam current) I due to the flow of the electron beam increases, the absorbed dose D of the electron beam absorbed by the silicone rubber increases. The physical properties of the silicone rubber are determined by the absorbed dose D. That is, even if the acceleration voltage is different, the physical properties are considered to be equivalent if the absorbed dose D is the same.
In addition, as described above, when the treatment for absorbing a certain dose of electron beam in the silicone rubber is performed a plurality of times, the total absorbed dose D absorbed in the silicone rubber is absorbed in a single treatment. This value is obtained by multiplying the measured dose by the number of treatments (passes)
The absorbed dose D can be calculated by the equation D = K · I / V. Here, K is a constant unique to the electron beam irradiation apparatus.

（シリコーンブランケットの製造方法）
図１（ａ）を参照し、シリコーンブランケット１の製造方法を示す。
シリコーンブランケット１は、基材２上に、シリコーンゴム３が積層された積層構造を有する。このような構造からなるシリコーンブランケット１は、例えば、以下のようにして製造することができる。 (Manufacturing method of silicone blanket)
With reference to Fig.1 (a), the manufacturing method of the silicone blanket 1 is shown.
The silicone blanket 1 has a laminated structure in which a silicone rubber 3 is laminated on a base material 2. The silicone blanket 1 having such a structure can be manufactured as follows, for example.

まず、ＰＥＴフィルム、ＰＰＳフィルム及びＰＥＮフィルムなどからなる群から選ばれる樹脂フィルムからなる基材２の表面にシリコーンゴムを製膜し、次いで両者を接着する。そして、シリコーンゴムに上記で示したような電子線の照射処理を行うことにより、シリコーンブランケット１が得られる。   First, a silicone rubber is formed on the surface of the substrate 2 made of a resin film selected from the group consisting of a PET film, a PPS film, a PEN film, etc., and then both are bonded. And the silicone blanket 1 is obtained by performing the irradiation process of an electron beam as shown above to silicone rubber.

以上の製造方法によって得られたシリコーンブランケット１は、シリコーンゴムに電子線を所定の条件下で照射されることで、その照射された部分の架橋密度が調製されて粘着性が低減されており、被印刷物３０の巻き上げを防ぐことを可能にする。
また、シリコーンブランケット１は、シリコーンゴムに電子線を上記と異なる所定の条件で照射されることで、その照射された部分の架橋密度が調製され、インクが乾燥しにくくなり、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることを可能にする。 The silicone blanket 1 obtained by the above production method is irradiated with an electron beam on the silicone rubber under a predetermined condition, the cross-linking density of the irradiated part is adjusted, and the adhesiveness is reduced. This makes it possible to prevent the substrate 30 from being rolled up.
Further, the silicone blanket 1 is formed by irradiating the silicone rubber with an electron beam under predetermined conditions different from the above, whereby the crosslinking density of the irradiated portion is adjusted, and the ink is difficult to dry. This makes it possible to obtain the desired ink pattern.

以下、実施例によって本発明をより具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

（実施例１）
まず、両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された直鎖状のビニル基含有ジメチルポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＥ−１９３５−Ａ）からなる主剤と、分岐構造を有するメチルハイドロジェンポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＥ−１９３４−Ｂ）からなる硬化剤とを準備した。続いて、これら主剤及び硬化剤を、当該主剤中のビニル基のモル数と、当該硬化剤中のＳｉＨ基のモル数とが等しくなる割合で混合した。 Example 1
First, a main agent composed of a linear vinyl group-containing dimethylpolysiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KE-1935-A) blocked at both ends with dimethylvinylsiloxy groups, and methyl having a branched structure A curing agent made of hydrogen polysiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KE-1934-B) was prepared. Subsequently, these main agent and curing agent were mixed at a ratio in which the number of moles of vinyl groups in the main agent and the number of moles of SiH groups in the curing agent were equal.

続いて、得られた混合液に白金族金属系触媒を添加し、トルエンに溶解して付加架橋型のシリコーンゴム組成物を調製した。
続いて、得られたシリコーンゴム組成物を、厚さ１２５μｍ、表面粗さ（Ｒａ）が０．５μｍのＰＥＴフィルムの表面に製膜した。 Subsequently, a platinum group metal catalyst was added to the obtained mixed solution and dissolved in toluene to prepare an addition-crosslinking type silicone rubber composition.
Subsequently, the obtained silicone rubber composition was formed on the surface of a PET film having a thickness of 125 μm and a surface roughness (Ra) of 0.5 μm.

続いて、シリコーンゴム組成物を１４０℃で３分間加熱して付加架橋させた。これにより、上記ＰＥＴからなる樹脂フィルム（基材２）上に、付加架橋したシリコーンゴム組成物（厚さ３５０μｍの表面層）が形成されたシリコーンブランケットが得られた。   Subsequently, the silicone rubber composition was subjected to addition crosslinking at 140 ° C. for 3 minutes. As a result, a silicone blanket in which an addition-crosslinked silicone rubber composition (a surface layer having a thickness of 350 μm) was formed on the resin film (base material 2) made of the PET was obtained.

次に、その付加架橋したシリコーンゴム組成物の表面に、電子線照射装置（岩崎電機株式会社製、型番：ＣＢ２５０／３０／１８０Ｌ）を用い、電子線を照射させた。   Next, the surface of the addition-crosslinked silicone rubber composition was irradiated with an electron beam using an electron beam irradiation apparatus (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., model number: CB250 / 30 / 180L).

ここでの電子線の照射処理の条件は、加速電圧１２５ｋＶ及びビーム電流１０．６ｍＡで発生させた電子線を、搬送速度５ｍ／ｍｉｎで搬送されるシリコーンゴム組成物の表面部分に照射するものである。この処理におけるパス回数は１回であり、シリコーンゴム組成物が吸収した吸収線量は２００ｋＧｙであった。この処理により、実施例１のシリコーンブランケットを得た。   The conditions for the electron beam irradiation treatment here are to irradiate the surface portion of the silicone rubber composition transported at a transport speed of 5 m / min with an electron beam generated at an acceleration voltage of 125 kV and a beam current of 10.6 mA. is there. The number of passes in this treatment was 1, and the absorbed dose absorbed by the silicone rubber composition was 200 kGy. By this treatment, the silicone blanket of Example 1 was obtained.

（実施例２）
実施例１で基材２の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、パス回数を３回とし、シリコーンゴム組成物が吸収した吸収線量を６００ｋＧｙとしたこと以外は実施例１と同様にして照射処理を行うことで、実施例２のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 2)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate 2 in Example 1, the electron beam irradiation treatment was performed under the condition that the number of passes was 3, and the absorbed dose absorbed by the silicone rubber composition was 600 kGy. A silicone blanket of Example 2 was produced by performing irradiation treatment in the same manner as in Example 1 except that.

（実施例３）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、パス回数を５回とし、シリコーンゴム組成物が吸収した吸収線量を１０００ｋＧｙとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例３のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 3)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the base material in Example 1, the electron beam irradiation treatment conditions were set to 5 passes, and the absorbed dose absorbed by the silicone rubber composition was 1000 kGy. A silicone blanket of Example 3 was produced by performing surface treatment in the same manner as in Example 1 except that.

（実施例４）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、パス回数を１０回とし、シリコーンゴム組成物が吸収した吸収線量を２０００ｋＧｙとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例４のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 4)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, the electron beam irradiation treatment condition was set to 10 passes, and the absorbed dose absorbed by the silicone rubber composition was 2000 kGy. A silicone blanket of Example 4 was produced by performing a surface treatment in the same manner as in Example 1 except that.

（実施例５）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、加速電圧を８０ｋＶとし、ビーム電流を１３．３ｍＡとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例５のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 5)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, the conditions of the electron beam irradiation treatment were as follows except that the acceleration voltage was 80 kV and the beam current was 13.3 mA. By performing the surface treatment in the same manner as in Example 1, the silicone blanket of Example 5 was produced.

（実施例６）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、加速電圧を１００ｋＶとし、ビーム電流を７．４ｍＡとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例６のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 6)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, the conditions for the electron beam irradiation treatment were as follows except that the acceleration voltage was 100 kV and the beam current was 7.4 mA. By performing the surface treatment in the same manner as in Example 1, the silicone blanket of Example 6 was produced.

（実施例７）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、加速電圧を８０ｋＶ、ビーム電流を６．７ｍＡとし、シリコーンゴムが吸収した吸収線量を１００ｋＧｙとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例７のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 7)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, the absorption conditions of the electron beam irradiation treatment were as follows: the acceleration voltage was 80 kV, the beam current was 6.7 mA, and the silicone rubber absorbed A silicone blanket of Example 7 was produced by performing surface treatment in the same manner as in Example 1 except that the dose was 100 kGy.

（実施例８）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線の照射処理の条件を、加速電圧を１００ｋＶ、ビーム電流を３．７ｍＡとし、シリコーンゴムが吸収した吸収線量を１００ｋＧｙとしたこと以外は実施例１と同様にして表面処理を行うことで、実施例８のシリコーンブランケットを作製した。 (Example 8)
For the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the base material in Example 1, the conditions for the electron beam irradiation treatment were set to acceleration voltage of 100 kV, beam current of 3.7 mA, and absorption absorbed by the silicone rubber. A silicone blanket of Example 8 was produced by performing surface treatment in the same manner as in Example 1 except that the dose was 100 kGy.

（比較例１、２）
実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、電子線照射処理を行っていないものを比較例１のシリコーンブランケットとした。
また、実施例１で基材の表面に製膜された付加架橋したシリコーンゴム組成物について、加速電圧８０ｋＶ及びビーム電流１．６ｍＡで発生させた電子線を、搬送速度５ｍ／ｍｉｎで搬送されるシリコーンゴム組成物の表面部分に照射した。この処理におけるパス回数は１回であり、シリコーンゴム組成物が吸収した吸収線量は２０ｋＧｙであった。この処理により得たシリコーンブランケットを、比較例２のシリコーンブランケットとした。 (Comparative Examples 1 and 2)
About the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, the silicone blanket of Comparative Example 1 was not subjected to the electron beam irradiation treatment.
In addition, with respect to the addition-crosslinked silicone rubber composition formed on the surface of the substrate in Example 1, an electron beam generated at an acceleration voltage of 80 kV and a beam current of 1.6 mA is transported at a transport speed of 5 m / min. The surface portion of the silicone rubber composition was irradiated. The number of passes in this treatment was 1, and the absorbed dose absorbed by the silicone rubber composition was 20 kGy. The silicone blanket obtained by this treatment was used as the silicone blanket of Comparative Example 2.

そして、実施例１〜８、比較例１、２で作製されたシリコーンブランケットのシリコーンゴム組成物（試験片）について、以下の方法で、その表面部分のタック値（粘着性）、表面ヤング率、インク溶剤の吸収適正および印刷性に関する試験を行った。ここで、印刷性とは、印刷工程を経て、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンが得られたか否かをいう。   And about the silicone rubber composition (test piece) of the silicone blanket produced in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2, the tack method (adhesiveness) of the surface portion, surface Young's modulus, Tests were made regarding ink solvent absorption suitability and printability. Here, the printability means whether or not a desired ink pattern is obtained on the surface of the printing material through a printing process.

［タック値（粘着性）］
タック値は、株式会社ＲＨＥＳＣＡ製のＴＡＣＫＩＮＥＳＳ ＴＥＳＴＥＲを使用して測定した。試験条件は、試験片の表面部分に、プローブを１００ｇｆの初期荷重をかけて接触させた後、プローブを試験片から引き剥がすために要する力を求め、タック値とした。 [Tack value (adhesiveness)]
The tack value was measured using a TACKINES TESTER manufactured by RHESCA. The test condition was determined by obtaining the force required to peel the probe from the test piece after bringing the probe into contact with the surface portion of the test piece with an initial load of 100 gf, and setting the tack value.

［表面ヤング率］
ヤング率は、株式会社エリオニクス製のＥＮＴ−１１００ｂを使用して測定した。試験条件は、試験片の表面部分に１００μＮの押し込み圧（荷重）をかけた時のヤング率を測定した。 [Surface Young's modulus]
Young's modulus was measured using ENT-1100b manufactured by Elionix Corporation. As test conditions, Young's modulus was measured when an indentation pressure (load) of 100 μN was applied to the surface portion of the test piece.

［インク溶剤の吸収適正（溶剤吸収適正）］
インク溶剤の吸収適正は、直径４０ｍｍの試験片における３．１４ｃｍ２の領域（表面部分）に、インク溶剤として使用されるブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ）を２分間接触させ、接液前後の重量を電子天秤にて測定した。そして、試験片によるインク溶剤の吸収量が所望通りであり使用に適するものを良好（○）とし、インク溶剤の吸収量が足りず使用に適さないものをやや不良（△）とし、インク溶剤を吸収しすぎて使用に適さないものを不良（×）とした。ここで、インク溶剤の吸収量が所望通りであるとは、印刷工程において、試験片の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることが可能となるように、試験片にインク溶剤が吸収されることをいう。また、インク溶剤の吸収量が足りない及びインク溶剤を吸収しすぎるとは、印刷工程において、試験片の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることが可能となるように、試験片にインク溶剤が吸収されないことをいう。 [Ink solvent absorption (solvent absorption)]
The proper absorption of the ink solvent was determined by bringing the butyl carbitol acetate (BCA) used as the ink solvent into contact with the 3.14 cm 2 area (surface part) of the test piece having a diameter of 40 mm for 2 minutes and measuring the weight before and after the liquid contact. It measured with the electronic balance. Then, the ink solvent absorption amount by the test piece was as desired and suitable for use was evaluated as good (◯), the ink solvent absorption amount was insufficient and unsuitable for use as slightly poor (Δ), and the ink solvent was Those that were too absorbed and unsuitable for use were defined as defective (x). Here, the desired absorption amount of the ink solvent means that a desired ink pattern is formed on the surface of the substrate 30 when the ink on the surface of the test piece is transferred to the substrate 30 in the printing process. Means that the ink solvent is absorbed by the test piece. Further, the fact that the amount of ink solvent absorbed is insufficient and the ink solvent is excessively absorbed is desired on the surface of the substrate 30 when the ink on the surface of the test piece is transferred to the substrate 30 in the printing process. This means that the ink solvent is not absorbed by the test piece so that the ink pattern can be obtained.

［印刷性（微細印刷性）］
株式会社紅羊社製作所製の印刷機であるＶＥＣＴＯＲ ＨＤ−５０を使用し、インク材料として藤倉化成株式会社製の銀ペーストであるＸＡ−３６０９を使用し、版は株式会社シンク・ラボラトリー製の版（線幅１０μｍ、ピッチ３００μｍ、深度５μｍ）を使用し、ブランケットに試験片を使用してオフセット印刷を行い、印刷性を測定した。そして、被印刷物に所望のインクのパターンが転写されたものを良好（○）とし、被印刷物に所望のインクのパターンが転写されなかったものを不良（×）とした。ここで、所望のインクパターンとは、光学顕微鏡でインクが転写された被印刷物を目視観察した時に、インクの線幅や膜厚（インキ厚）が均一であり、かつ、インクの細線（極細線を含む）が欠落していない状態をいう。 [Printability (fine printability)]
Using VECTOR HD-50, a printing machine manufactured by Koyosha Seisakusho Co., Ltd., and using XA-3609, a silver paste manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd. as the ink material, the plate is a plate manufactured by Think Laboratory Co., Ltd. (Line width: 10 μm, pitch: 300 μm, depth: 5 μm) Using a test piece as a blanket, offset printing was performed to measure printability. Then, a case where the desired ink pattern was transferred to the printing material was judged as good (◯), and a case where the desired ink pattern was not transferred onto the printing material was judged as bad (x). Here, the desired ink pattern means that the line width and film thickness (ink thickness) of the ink is uniform when the printed material to which the ink has been transferred is visually observed with an optical microscope, and the ink fine line (extra fine line) ) Is not missing.

得られた結果を表１及び表２に纏めて示す。   The obtained results are summarized in Tables 1 and 2.

実施例１〜８、比較例１、２で作製されたシリコーンブランケットのシリコーンゴム組成物（試験片）について、タック値は表１、２の通りであった。
そして、実施例１〜８のシリコーンブランケットを印刷工程に用いた場合、シリコーンゴム組成物が被印刷物３０を巻き上げることはなかった。一方で、比較例１および比較例２のシリコーンブランケットを印刷工程に用いた場合は、シリコーンゴム組成物が被印刷物３０を巻き上げた。
この結果から、シリコーンゴム組成物に照射する電子線の照射条件について、加速電圧が７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下であって、吸収線量が１００ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下のとき、被印刷物３０を巻き上げないシリコーンブランケットを提供することができると分かった。また、加速電圧が７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下であって、吸収線量が１００ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下のときも、被印刷物３０を巻き上げないシリコーンブランケットを提供することができると分かった。なお、今回の実験結果から判断し、吸収線量が３０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ未満の範囲にあっても、被印刷物３０を巻き上げないシリコーンブランケットを提供することができると考えられる。
また、シリコーンゴム組成物のタック値が１５２ｇｆ以下であれば、シリコーンゴム組成物が被印刷物３０を巻き上げない。したがって、上述の電子線照射の条件を変更することで吸収線量を調整し、シリコーンゴム組成物のタック値が１５２ｇｆ以下となるようにすれば、シリコーンゴム組成物が被印刷物３０を巻き上げない。 Tables 1 and 2 show the tack values of the silicone blanket silicone rubber compositions (test pieces) prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2.
And when the silicone blanket of Examples 1-8 was used for the printing process, the silicone rubber composition did not wind up the printing material 30. On the other hand, when the silicone blankets of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 were used in the printing process, the silicone rubber composition wound up the printing material 30.
From these results, a silicone blanket that does not roll up the substrate 30 when the acceleration voltage is 70 kV or more and 150 kV or less and the absorbed dose is 100 kGy or more and 2000 kGy or less with respect to the irradiation condition of the electron beam applied to the silicone rubber composition I knew I could do it. It was also found that a silicone blanket that does not roll up the substrate 30 can be provided when the acceleration voltage is 70 kV or more and 150 kV or less and the absorbed dose is 100 kGy or more and 1000 kGy or less. Judging from the results of this experiment, it is considered that a silicone blanket that does not wind up the substrate 30 can be provided even if the absorbed dose is in the range of 30 kGy or more and less than 100 kGy.
Moreover, if the tack value of a silicone rubber composition is 152 gf or less, a silicone rubber composition will not wind up the to-be-printed material 30. FIG. Therefore, if the absorbed dose is adjusted by changing the above-described electron beam irradiation conditions so that the tack value of the silicone rubber composition is 152 gf or less, the silicone rubber composition does not wind up the printing material 30.

実施例１〜８、比較例１、２で作製されたシリコーンブランケットのシリコーンゴム組成物（試験片）について、溶剤吸収適正および印刷性は表１、２の通りであった。
具体的には、実施例１〜３、５〜８で作製されたシリコーンブランケットを印刷工程に用いた場合、シリコーンゴム組成物が所望通りの量のインク溶剤を吸収し、インクがシリコーンゴム組成物の表面上で乾燥せず、シリコーンゴム組成物の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることができた。
また、比較例１、２で作製されたシリコーンブランケットを印刷工程に用いた場合、シリコーンゴム組成物によるインク溶剤の吸収量が多すぎて、インクがシリコーンゴム組成物の表面上で乾燥し、シリコーンゴム組成物の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることがでなかった。このように、シリコーンゴム組成物によるインク溶剤の吸収量が多すぎると、シリコーンゴム組成物の表面上のインクが乾燥しやすくなるので、印刷性が低下する。
なお、実施例４で作製されたシリコーンブランケットを印刷工程に用いた場合、シリコーン組成物によるインク溶剤の吸収量が足りず、シリコーンゴム組成物の表面上のインクを被印刷物３０に転写させた際に、インクが被印刷物３０とシリコーンブランケットとの間で、いわゆる泣き別れ（インクの分断）になった。そのため、被印刷物３０の表面上で所望のインクのパターンを得ることができなかった。
この結果から、シリコーンゴム組成物に照射する電子線の照射条件について、加速電圧が７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下であって、吸収線量が１００ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下のとき、シリコーンゴム組成物の溶剤吸収性が良好であり、ひいては印刷性が良好なシリコーンブランケットを提供することができると分かった。つまり、この照射条件による電子線照射により、シリコーンゴム組成物によるインク溶剤の吸収性が低減し、ひいてはシリコーンゴム組成物の表面上におけるインクの乾燥を低減するので、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンを得ることが可能になる。なお、今回の実験から、吸収線量が３０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ未満の範囲にあれば、被印刷物の表面上で所望のインクのパターンを得ることが可能であると考えられる。 Tables 1 and 2 show the solvent absorption suitability and printability of the silicone rubber compositions (test pieces) of the silicone blankets prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2.
Specifically, when the silicone blankets prepared in Examples 1 to 3 and 5 to 8 are used in the printing process, the silicone rubber composition absorbs a desired amount of the ink solvent, and the ink is a silicone rubber composition. When the ink on the surface of the silicone rubber composition was transferred to the printing material 30 without drying on the surface of the printing material 30, a desired ink pattern could be obtained on the surface of the printing material 30.
In addition, when the silicone blanket produced in Comparative Examples 1 and 2 was used in the printing process, the amount of ink solvent absorbed by the silicone rubber composition was too much, and the ink was dried on the surface of the silicone rubber composition. When the ink on the surface of the rubber composition was transferred to the substrate 30, a desired ink pattern could not be obtained on the surface of the substrate 30. As described above, when the amount of the ink solvent absorbed by the silicone rubber composition is too large, the ink on the surface of the silicone rubber composition is easily dried, so that the printability is lowered.
When the silicone blanket produced in Example 4 was used in the printing process, the amount of ink solvent absorbed by the silicone composition was insufficient, and the ink on the surface of the silicone rubber composition was transferred to the printing material 30. In addition, the ink became so-called crying (ink splitting) between the printing material 30 and the silicone blanket. Therefore, a desired ink pattern cannot be obtained on the surface of the printing material 30.
From this result, when the acceleration voltage is 70 kV or more and 150 kV or less and the absorbed dose is 100 kGy or more and 1000 kGy or less, the solvent absorbability of the silicone rubber composition is good. In other words, it was found that a silicone blanket having good printability can be provided. In other words, the electron beam irradiation under the irradiation conditions reduces the ink solvent absorbability by the silicone rubber composition, and thus reduces the drying of the ink on the surface of the silicone rubber composition, so that the desired surface can be formed on the surface of the substrate. An ink pattern can be obtained. From this experiment, it is considered that a desired ink pattern can be obtained on the surface of the substrate if the absorbed dose is in the range of 30 kGy or more and less than 100 kGy.

実施例１〜４、比較例１、２で製膜されたシリコーンゴム組成物（試験片）について、表面ヤング率は、表１、２の通りであった。この結果では、吸収線量が多くなるほど、ヤング率の値が大きくなる傾向が見られた。
そして、実験結果により被印刷物３０を巻き上げないと判断された実施例１〜４のシリコーンゴム組成物の表面ヤング率は、表１に示す通り、１９０Ｎ／ｍｍ２以上３５０Ｎ／ｍｍ２以下であった。
また、実験結果により溶剤吸収性および印刷性が良好であると判断された実施例１〜３のシリコーンゴム組成物の表面ヤング率は、表１に示す通り、１９０Ｎ／ｍｍ２以上２６０Ｎ／ｍｍ２以下であった。 For the silicone rubber compositions (test pieces) formed in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, the surface Young's modulus was as shown in Tables 1 and 2. In this result, the value of Young's modulus tended to increase as the absorbed dose increased.
The surface Young's modulus of the silicone rubber compositions of Examples 1 to 4 it is determined that no wind the printing material 30 by experimental results as shown in Table 1 was 190 N / mm 2 or more 350 N / mm 2 or less .
The surface Young's modulus of the silicone rubber compositions of Examples 1 to 3 solvent absorption and printability is determined to be good by the experimental results as shown in Table 1, 190 N / mm 2 or more 260 N / mm 2 It was the following.

なお、本発明が上記の実施の形態に限定されないことは勿論である。   Needless to say, the present invention is not limited to the above embodiment.

１ シリコーンブランケット
２ 基剤
３ シリコーンゴム
４ ブランケット胴
１０ 軸
２０ 版
３０ 被印刷物
ｉ インク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silicone blanket 2 Base 3 Silicone rubber 4 Blanket cylinder 10 Axis 20 Plate 30 Printed object i Ink

Claims (6)

電子線を照射する処理が施されたシリコーンゴムを表面層に有し、
前記電子線を照射する処理の条件は、前記シリコーンゴムに吸収される前記電子線の線量である吸収線量が３０ｋＧｙ以上２０００ｋＧｙ以下である、
ことを特徴とするシリコーンブランケット。 It has a silicone rubber on the surface layer that has been treated with electron beam irradiation,
The treatment conditions for irradiating the electron beam are such that the absorbed dose, which is the dose of the electron beam absorbed by the silicone rubber, is 30 kGy or more and 2000 kGy or less.
A silicone blanket characterized by that. 前記吸収線量が３０ｋＧｙ以上１０００ｋＧｙ以下である、
ことを特徴とする請求項１に記載のシリコーンブランケット。 The absorbed dose is 30 kGy or more and 1000 kGy or less,
The silicone blanket according to claim 1. 前記表面層のヤング率は、１９０Ｎ／ｍｍ２以上２６０Ｎ／ｍｍ２以下である、
ことを特徴とする請求項２に記載のシリコーンブランケット。 Young's modulus of the surface layer is 190 N / mm 2 or more 260 N / mm 2 or less,
The silicone blanket according to claim 2. 前記電子線を加速させる加速電圧が７０ｋＶ以上１５０ｋＶ以下である、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のシリコーンブランケット。 The acceleration voltage for accelerating the electron beam is 70 kV or more and 150 kV or less,
The silicone blanket according to any one of claims 1 to 3, wherein: シリコーンゴムを表面層に有し、
前記表面層のタック値は、１５２ｇｆ以下である、
ことを特徴とするシリコーンブランケット。 Having silicone rubber in the surface layer,
The tack value of the surface layer is 152 gf or less,
A silicone blanket characterized by that. 前記表面層のヤング率は、１９０Ｎ／ｍｍ２以上３５０Ｎ／ｍｍ２以下である、
ことを特徴とする請求項５に記載のシリコーンブランケット。 Young's modulus of the surface layer is 190 N / mm 2 or more 350 N / mm 2 or less,
The silicone blanket according to claim 5.
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