JP2018136282A - 材料分析装置、材料分析方法及びx線ct装置 - Google Patents
材料分析装置、材料分析方法及びx線ct装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
以下、添付図面に従って本発明に係る材料分析装置及び材料分析方法の好ましい実施形態について説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。
推定画像設定部32は、元素分布推定画像を設定する。元素分布推定画像は全座標に対して一様な画素値が設定されても良いし、検体28のCT再構成画像の画素値に基づいて設定されても良い。全座標に対して一様な画素値が元素分布推定画像に設定される場合は、推定画像設定部32での処理が簡略化できる。またCT再構成画像の画素値に基づいて元素分布推定画像が設定される場合は、以降の処理での繰り返し回数を低減できる。設定された元素分布推定画像は、模擬画像生成部33に送信される。
模擬画像生成部33は、元素分布推定画像を用いてCT模擬画像を生成する。図5を用いてCT模擬画像を生成する処理の流れを説明する。
模擬画像生成部33は、データ取得部31を介して記憶装置4や物理量データベース12からX線スペクトルを取得する。X線スペクトルの一例を図7に示す。図7の横軸はX線エネルギーであり、縦軸はX線強度、すなわちX線フォトン数である。
模擬画像生成部33は、元素分布推定画像に対して投影角度の初期設定を行う。設定される投影角度はX線CT装置11と一致させることが好ましい。
模擬画像生成部33は、元素分布推定画像に対して設定された投影角度の投影線上の各元素の長さを算出する。図6を用いて、本ステップでの処理について説明する。
模擬画像生成部33は、S503で算出された投影線上の各元素の長さと、X線スペクトル、減弱スペクトルを用いて順投影処理を行う。例えば、図7に示すようなX線スペクトルからあるX線エネルギーExにおけるX線強度φ(Ex)を取得し、図8に示すような減弱スペクトルから投影線が横切る領域の元素のX線エネルギーExにおける線減弱係数μ(Ex)を取得する。そしてX線強度φ(Ex)と線減弱係数μ(Ex)と投影線上の各元素の長さを用いることにより、ある投影角度のある投影線における投影データが算出される。投影データは、投影線の位置を変えながらそれぞれ算出される。
模擬画像生成部33は、全投影角度での順投影処理が終了したか否かを判定する。終了していなければS506を介してS503へ処理を戻し、終了していればS507へ処理を進める。
模擬画像生成部33は、投影角度を変更した後、S503へ処理を戻す。
模擬画像生成部33は、様々な投影角度に対して算出された投影データを用いて逆投影処理を行い、CT模擬画像を生成する。
差異算出部34は、S402で生成されたCT模擬画像とX線CT装置11で生成されたCT再構成画像との差異を算出する。算出された差異は、推定画像修正部35と判定部36に送信される。
判定部36は、所定の条件を満たしたか否かを判定する。条件を満たしていなければS405を介してS402へ処理を戻し、満たしていればS406へ処理を進める。
推定画像修正部35は、S403で算出された差異に基づいて元素分布推定画像を修正する。修正された元素分布推定画像は、模擬画像生成部33に送信される。図9を用いて元素分布推定画像を修正する処理の流れを説明する。
推定画像修正部35は、元素分布推定画像上の座標の初期設定を行う。例えば、左端の上端の座標が処理対象に設定される。
推定画像修正部35は、処理対象である座標において、CT模擬画像の画素値がCT再構成画像の画素値よりも大きいか否かを判定する。CT模擬画像の画素値の方が大きければS903へ処理を進め、そうでなければS904へ処理を進める。
推定画像修正部35は、元素分布推定画像の画素値、すなわち元素番号を低下させる。画素値の低下の程度は、CT模擬画像の画素値とCT再構成画像の画素値との差異に応じて設定されても良い。
推定画像修正部35は、元素分布推定画像の画素値、すなわち元素番号を増加させる。画素値の増加の程度は、CT模擬画像の画素値とCT再構成画像の画素値との差異に応じて設定されても良い。
推定画像修正部35は、全座標について一連の処理が終了したか否かを判定する。終了していれば元素分布推定画像の修正は終了となり、そうでなければS906を介してS902へ処理を戻す。
推定画像修正部35は、元素分布推定画像上で処理対象である座標を変更し、S902へ処理を戻す。
推定画像出力部37は、この段階における元素分布推定画像をインターフェース5を介して表示装置8等へ出力する。
7:システムバス、8:表示装置、9:入力装置、10:ネットワーク、11:X線CT装置、12:物理量データベース、
20:X線源、21:検出器アレイ、22:測定回路、23:スキャナテーブル、24:画像再構成部、25:画像出力部、
26:制御部、 27:X線、28:検体、31:データ取得部、32:推定画像設定部、33:模擬画像生成部、
34:差異算出部、35:推定画像修正部、36:判定部、37:推定画像出力部、600:元素分布推定画像、
600a:第1の領域、600b:第2の領域、600c:第3の領域、600d:第4の領域、601:投影線
Claims (8)
- 検体内の元素の分布が推定された画像である元素分布推定画像を設定する推定画像設定部と、
前記元素分布推定画像を用いて前記検体のCT再構成画像を模擬した画像であるCT模擬画像を生成する模擬画像生成部と、
X線CT装置によって生成される前記検体のCT再構成画像と前記CT模擬画像との差異を算出する差異算出部と、
前記差異に応じて前記元素分布推定画像を修正する推定画像修正部と、
前記推定画像修正部と前記模擬画像生成部と前記差異算出部での処理を繰り返すか否かを判定する判定部と、
前記判定部にて処理の繰り返しを停止すると判定された段階での元素分布推定画像を出力する推定画像出力部とを備えることを特徴とする材料分析装置。 - 請求項1に記載の材料分析装置において、
前記推定画像修正部は、前記CT模擬画像の画素値が前記CT再構成画像の画素値よりも大きい領域では前記元素分布推定画像の画素値を低下させ、前記CT模擬画像の画素値が前記CT再構成画像の画素値よりも小さい領域では前記元素分布推定画像の画素値を増加させることを特徴とする材料分析装置。 - 請求項1に記載の材料分析装置において、
前記模擬画像生成部は、前記X線CT装置が有するX線源から照射されるX線のX線スペクトルと、各元素の減弱スペクトルとを用いることを特徴とする材料分析装置。 - 請求項3に記載の材料分析装置において、
前記X線スペクトルはシミュレーションにより求められることを特徴とする材料分析装置。 - 請求項1に記載の材料分析装置において、
前記推定画像設定部は、前記CT再構成画像に基づいて元素分布推定画像を設定することを特徴とする材料分析装置。 - 請求項1に記載の材料分析装置において、
前記判定部は、前記差異算出部で算出された前記差異の大きさに基づいて処理を繰り返すか否かを判定することを特徴とする材料分析装置。 - 検体内の元素の分布が推定された画像である元素分布推定画像を設定する設定ステップと、
前記元素分布推定画像を用いて前記検体のCT再構成画像を模擬した画像であるCT模擬画像を生成する生成ステップと、
X線CT装置によって生成される前記検体のCT再構成画像と前記CT模擬画像との差異を算出する算出ステップと、
前記差異に応じて前記元素分布推定画像を修正する修正ステップと、
前記修正ステップと前記生成ステップと前記算出ステップでの処理を繰り返すか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにて処理の繰り返しを停止すると判定された段階での元素分布推定画像を出力する出力ステップと、を備えることを特徴とする材料分析方法。 - 検体のCT再構成画像を生成するX線CT装置であって、
前記検体内の元素の分布が推定された画像である元素分布推定画像を設定する推定画像設定部と、
前記元素分布推定画像を用いて前記CT再構成画像を模擬した画像であるCT模擬画像を生成する模擬画像生成部と、
前記CT再構成画像と前記CT模擬画像との差異を算出する差異算出部と、
前記差異に応じて前記元素分布推定画像を修正する推定画像修正部と、
前記推定画像修正部と前記模擬画像生成部と前記差異算出部での処理を繰り返すか否かを判定する判定部と、
前記判定部にて処理の繰り返しを停止すると判定された段階での元素分布推定画像を出力する推定画像出力部とを備えることを特徴とするX線CT装置。
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JP2020094906A (ja) * | 2018-12-12 | 2020-06-18 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 核物質量計測装置及び核物質量計測方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2016028654A1 (en) * | 2014-08-16 | 2016-02-25 | Fei Company | Tomographic reconstruction for material characterization |
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