JP2018134609A - Piping flushing method and water supply system - Google Patents
Piping flushing method and water supply system Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018134609A JP2018134609A JP2017032157A JP2017032157A JP2018134609A JP 2018134609 A JP2018134609 A JP 2018134609A JP 2017032157 A JP2017032157 A JP 2017032157A JP 2017032157 A JP2017032157 A JP 2017032157A JP 2018134609 A JP2018134609 A JP 2018134609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- water
- pure water
- piping
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 222
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 7
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 238000005429 filling process Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 235000013365 dairy product Nutrition 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
Description
本発明は、配管のフラッシング方法及び水供給システムに関し、特に薬品の製造に用いられる純水供給配管のフラッシング方法に関する。 The present invention relates to a flushing method for a pipe and a water supply system, and more particularly to a flushing method for a pure water supply pipe used for manufacturing a chemical.
医薬品の製造のために用いられる純水は一般に、専用の純水供給システムから供給される。純水供給システムは閉ループをなす循環配管と、循環配管上に設置された純水貯水槽及びポンプと、ユースポイントを形成する分岐管と、を有している。分岐管の開放端の近傍には弁が取り付けられており、弁を操作することで必要なときに純水を取り出すことができる。配管中の水のよどみとそれに伴う菌の発生を防止するため、配管内の純水は常時ポンプで循環させられている。ユースポイントで使用されなかった純水は貯水槽に戻り、再びユースポイントに向けて移送される。ユースポイントで消費された純水を補うため、貯水槽には純水製造装置で製造された純水が供給される。 The pure water used for the manufacture of pharmaceuticals is generally supplied from a dedicated pure water supply system. The pure water supply system includes a circulation pipe that forms a closed loop, a pure water storage tank and a pump installed on the circulation pipe, and a branch pipe that forms a use point. A valve is attached in the vicinity of the open end of the branch pipe, and pure water can be taken out when necessary by operating the valve. In order to prevent stagnation of water in the piping and the accompanying generation of bacteria, the pure water in the piping is constantly circulated by a pump. Pure water that has not been used at the use point returns to the water tank and is transported to the use point again. In order to make up for the pure water consumed at the point of use, pure water produced by a pure water production apparatus is supplied to the water storage tank.
このような純水供給システムの循環配管の内部は、現場に設置した際に金属粉等の異物で汚染されているためフラッシング(洗浄)を行う必要がある。特許文献1には、循環配管の一部を未設置として配管に開口を設け、その開口にホースを挿入し、水を注入してフラッシングを行うことが開示されている。
Since the inside of the circulation pipe of such a pure water supply system is contaminated with foreign substances such as metal powder when installed on the site, it is necessary to perform flushing (cleaning).
配管内部に水を注入する従来のフラッシング方法では、フラッシング水が届く範囲が限られる。このため、長い配管の場合、複数の開口を設け、各開口に作業員を配置するか、ホースの挿入箇所を順次変えながら作業を行う必要がある。これに対し、配管上に貯水槽とポンプが配置されている場合、ポンプで貯水槽の水を圧送しながらフラッシングを行うことができる。具体的には、配管の一部を未設置として配管に開口を設け、この開口を排水口として利用することで、仮設設備を大幅に削減することができる。また、開口は一箇所あればよいため、作業員の数を減らすことも可能である。 In the conventional flushing method in which water is injected into the pipe, the range in which the flushing water can reach is limited. For this reason, in the case of a long pipe, it is necessary to provide a plurality of openings and arrange an operator in each opening, or perform an operation while sequentially changing the insertion position of the hose. On the other hand, when the water tank and the pump are arranged on the pipe, the flushing can be performed while the water in the water tank is pumped by the pump. Specifically, provisional equipment can be greatly reduced by providing an opening in the pipe with part of the pipe not installed and using the opening as a drain outlet. In addition, since only one opening is required, the number of workers can be reduced.
しかし、この方法ではフラッシング水の流速がポンプの流速で規制されることになる。水流で配管内部の汚染を除去する場合、できる限り高流速で水を循環させることが望ましいが、ポンプの性能上そのような水流を実現することが難しい場合がある。 However, in this method, the flow rate of flushing water is regulated by the flow rate of the pump. When removing contamination inside the pipe with a water flow, it is desirable to circulate the water at a flow rate as high as possible, but it may be difficult to realize such a water flow because of the performance of the pump.
本発明は、配管上に常設されたポンプを用いることができ、かつ異物の除去効率の高い配管のフラッシング方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the flushing method of piping which can use the pump permanently installed on piping and has high removal efficiency of a foreign material.
本発明の配管のフラッシング方法は、配管を満水にする満水工程と、満水にされた配管に圧縮された気体を供給して、配管中の水を圧送して排水する排水工程とを繰り返す。 The pipe flushing method of the present invention repeats a filling process for filling the pipe with water and a draining process for supplying compressed gas to the filled pipe and pumping and draining the water in the pipe.
本発明によれば、満水状態の配管に圧縮された気体を供給し、配管内の水が気体流によって排出される。予め配管内を満水にしてあるため、配管内の水がほぼ気体で置換されたときにも、配管の内壁のほぼ全面は濡れた状態となっている。この状態で気体流が配管の内壁に沿って流動すると、水が配管の内壁に沿って移動し、移動する水によって、配管の内壁に付着した付着した異物を効率的に捕捉し運搬することができる。気体の流量を調整することで、配管内の気体の流速を高めることも容易である。一方、ポンプは配管を満水にするために使用されるため、高い流速は不要であり、容量の制約は小さい。従って、本発明によれば、配管上に常設されたポンプを用いることができ、かつ異物の除去効率の高い配管のフラッシング方法を提供することができる。 According to the present invention, compressed gas is supplied to a pipe in a full water state, and water in the pipe is discharged by a gas flow. Since the inside of the pipe is filled with water in advance, even when the water in the pipe is replaced with gas, almost the entire inner wall of the pipe is wet. In this state, when the gas flow flows along the inner wall of the pipe, the water moves along the inner wall of the pipe, and the moving water can efficiently capture and transport the attached foreign matter attached to the inner wall of the pipe. it can. By adjusting the gas flow rate, it is easy to increase the flow rate of the gas in the pipe. On the other hand, since the pump is used to fill the pipe with water, a high flow rate is unnecessary, and the capacity restriction is small. Therefore, according to the present invention, a pump permanently installed on the pipe can be used, and a pipe flushing method with high foreign matter removal efficiency can be provided.
以下、図面を参照して本発明の配管のフラッシング方法の実施形態を説明する。 Hereinafter, an embodiment of a flushing method for piping according to the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明は主に製薬の分野で用いられる純水供給システムにおける純水循環配管のフラッシング方法に関する。しかし、本発明は製薬に限定されず、例えば食品、飲料などの製造に用いられる純水循環配管にも適用でき、さらに一般に純水を供給する純水循環配管にも適用可能である。また、本発明は純水に限らず、IPAなどの有機溶媒、超純水などの循環配管にも適用できる。 The present invention relates to a flushing method for pure water circulation piping in a pure water supply system mainly used in the field of pharmaceuticals. However, the present invention is not limited to pharmaceuticals, and can be applied to, for example, pure water circulation pipes used in the manufacture of foods, beverages, and the like, and can also be applied to pure water circulation pipes that supply pure water. Further, the present invention is not limited to pure water, but can also be applied to circulation piping such as an organic solvent such as IPA and ultrapure water.
図1は純水供給システムの概略構成を示している。純水供給システム1は、純水循環配管2と、純水循環配管2上に設けられた貯水槽3と、同じく純水循環配管2上に設けられたポンプ4と、を有している。純水循環配管2のポンプ4の下流にはユースポイント6a〜6cが設置されている。純水循環配管2は閉ループをなし、ユースポイント6a〜6cで使用されなかった純水が貯水槽3に戻るようになっている。純水循環配管2の口径はユースポイント6a〜6cの上流側で大きく、ユースポイント6a〜6cの下流側で小さくされている。一例では、純水循環配管2の口径はユースポイント6a〜6cの上流側でIDF(国際酪農連盟)規格の2.5S(内径59.5mm)、ユースポイント6a〜6cの上流側でIDF規格の1.5S(内径35.7mm)となっている。純水循環配管2はステンレス鋼で作成され、表面に酸化被膜を形成することで不動態化処理がされている。貯水槽3には純水が貯蔵されている。貯水槽3は純水製造装置(図示せず)と接続されており、ユースポイント6a〜6cで消費された純水を補うようにされている。ポンプ4は貯水槽3の下流に設けられ、貯水槽3に貯蔵された純水を圧送する。ポンプ4は点検時を除き常時運転されており、従って純水循環配管2内の純水は常時循環している。これによって、純水循環配管2内の水のよどみが防止され、万が一純水循環配管2内に菌が発生した場合でも、菌の繁殖を抑えることができる。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a pure water supply system. The pure
純水循環配管2上のポンプ4の下流には第1の弁5が設けられている。純水循環配管2上の第1の弁5の下流には、後述する仮設の気体供給手段11が接続される第1の接続部7が設けられている。
A
純水循環配管2の第1の接続部7の下流には複数のユースポイント6a〜6cが設けられている。ユースポイント6a〜6cは純水を供給する場所、例えば錠剤印刷室、造粒室などに設けられる。図には3つのユースポイント6a〜6cが示されているが、その数は限定されない。ユースポイント6a〜6cは、純水循環配管2の第1の接続部7の下流の第2の接続部8a〜8cに接続された分岐管9a〜9cと、その先端の近傍に設けられた弁10a〜10cと、によって構成されており、弁10a〜10cを開くことで開放可能となっている。製薬用途の場合、ユースポイント6a〜6cはクリーンルームに設けられることが多いが、クリーンルームの外側にあっても構わない。また、ユースポイント6a〜6cは純水循環配管2上に直列に配置されているが、純水循環配管2にバイパス管を設け、バイパス管にユースポイントを設けてもよい。ユースポイント6a〜6cの設置位置は製薬工場のレイアウトによって様々であるが、一般に複数の階に分散している。このため、純水循環配管2は水平方向だけでなく上下方向にも引き回されている。後述する気体供給ユニット11(第1の接続部7)は純水循環配管2のほぼ最下部に設置されるため、第1の接続部7の下流側には純水の流動方向において、すなわち第1の接続部7から第2の接続部8a〜8cに向けて、上方に延びる立ち上がり部2aが形成されている。
A plurality of
次に、以上説明した水供給システムの純水循環配管2のフラッシング方法について述べる。純水循環配管2を設置する場合は、純水循環配管2を複数の配管要素に分けて製作し、各部分を溶接、フランジなどで接合する。純水循環配管2の内壁には純水循環配管2の製作時や溶接時に発生した金属粉、塵埃、微粒子などの異物が付着している。図2を参照すると、純水循環配管2は貯水槽3の純水戻り側の部分を除いて設置される。この時点で、純水循環配管2は貯水槽3に接続された第1の端部2bと開放端である第2の端部2cを有する開いた配管である。第1の端部2bは水の流動方向に関し最上流点であり、第2の端部2cは水の流動方向に関し最下流点である。第2の端部2cには予め排水用の仮設管21を取り付けておく。仮設管21はゴムチューブなどを用いることができる。仮設管21は弁22が設けられており開閉可能となっている。第2の端部2cと貯水槽3の純水戻りノズル3aとの間の未設置区間の純水循環配管2はフラッシング水によって洗浄されない。このため、この区間の純水循環配管2はできるだけ短くするとともに、別途洗浄を行っておくことが望ましい。
Next, a flushing method for the pure
次に、第1の接続部7に仮設の気体供給管12が接続される。気体供給管12から供給される気体は空気に限定されないが、コストの関係から空気を使うことが好ましい。気体供給管12は気体供給ユニット11に接続されている。気体供給ユニット11は、気体供給ユニット11の外部から供給された圧縮空気の空気圧を調整するレギュレータ14と、空気中の塵埃、異物を除去するフィルタ15と、空気の供給を制御する第2の弁16と、を有しており、これらが管路上に上流から下流に向けて直列に配置されている。気体供給管12は金属の配管、ゴムチューブなどを用いることができる。タンク13の代わりに圧縮機などの圧縮空気を生成可能な設備を設けることもできる。空気の圧力を高めることで、純水循環配管2内の水をより強い力で押出し、排出することができる。気体供給管12の下流側の端部は第1の接続部7に接続される。
Next, the temporary
気体供給管12の第2の弁16と第1の接続部7の間からドレン管17が分岐している。ドレン管17は金属の配管、ゴムチューブなどを用いることができる。ドレン管17は主に純水循環配管2の立ち上がり部2aに残留した水を重力によって排水するために用いられる。ドレン管17には開閉可能な弁18が設けられている。
A
本実施形態では、純水循環配管2を満水にする満水工程と、満水にされた純水循環配管2に気体を供給して、純水循環配管2中の水を排出する排水工程とが繰り返される。以下、満水工程と排水工程について説明する。
In the present embodiment, a full water process for filling the pure
図3に示すように、満水工程ではまず、第1の弁5が開けられ、第2の弁16と、分岐管9a〜9cの弁10a〜10cと、ドレン管17の弁18を閉じ、貯水槽3に貯蔵された水をポンプ4で純水循環配管2に圧送する。これによって純水循環配管2は満水となる。仮設管21の弁22は純水循環配管2の空気を抜くため、純水循環配管2が満水になるまで開いておき、満水になった後に閉める。(コメント:図2も修正しております)必要な場合、純水製造設備から貯水槽3へ純水が補給される。
As shown in FIG. 3, in the water filling process, first, the
次に排水工程を行う。図4に示すように、まず第1の弁5を閉じ、第2の弁16と分岐管9a〜9cの弁10a〜10cと、第2の端部2cに接続された仮設管21の弁22を開き、気体供給ユニット11から純水循環配管2に空気を供給する。空気の一部は気泡となって水中を通過するが、ほとんどの空気は水を圧送、すなわち水を押し出すように作用する。純水循環配管2の内部の水は空気によって圧送され、分岐管9a〜9cと仮設管21の端部から排出される。このように、気体供給ユニット11は純水循環配管2の内部の水を圧送するポンプの役割を果たす。純水循環配管2の内壁に付着した異物の多くは水流によって剥離され、移送される。
Next, a drainage process is performed. As shown in FIG. 4, the
空気によって純水循環配管2の内部の水のほとんどが排出されたとき、純水循環配管2の内壁には水分ないし湿分が付着している。水分は純水循環配管2の内壁の状態によって膜状または液滴状であるが、内壁は湿った状態にある。また、水と一緒に排出されなかった異物が、純水循環配管2の内壁に付着している。さらに気体供給ユニット11から空気を供給すると、内壁に付着した水分は純水循環配管2の内壁に沿って移動する。このときの水分の移動に随伴して、内壁に付着した異物がさらに移動する。この現象は、例えば洗面台や浴槽の水がほとんど排水された後、壁面に残った異物が水のしずくに乗って排出される現象と類似している。純水循環配管2では、洗面台や浴槽と異なり、水を動かすために必ずしも重力を利用できないため(例えば、配管の水平部や上向き勾配部)、水を動かすための駆動力として空気流が利用されている。容器の壁面を流れる異物は最終的に分岐管9a〜9cと仮設管21の端部から排出される。
When most of the water in the pure
満水状態の純水循環配管2に空気を供給するときは、純水循環配管2内の水は空気の圧力で圧送されるが、純水循環配管2や仮設管21の圧力損失のため、高流速では流れない。しかし純水循環配管2内の水がほとんど排出された後は、空気流は高流速で流れることができる。純水循環配管2の内壁の水分は気体によって吹き飛ばされ、異物も吹き飛ばされた水に随伴して純水循環配管2内を移動する。この際、純水循環配管2の内壁が濡れているため、異物が内壁から一層剥がれやすくなる。これらの効果によって異物を効率的に剥離し、移動させることができる。また、空気流の流速は空気圧を高めることで容易に調整可能である。
When supplying air to the pure
その後、満水工程と排水工程を交互に繰り返す。異物が除去されたことの確認は、例えば満水状態でユースポイント6a〜6cの分岐管9a〜9cの弁10a〜10cを開き、分岐管9a〜9cから排出された水をガーゼ、フィルタ等でサンプリングし、目視検査をすることによって行うことができる。あるいは仮設管21から排出される水を同様の方法でサンプリングし、目視検査をすることによって行うことができる。
Then, a full water process and a drainage process are repeated alternately. Confirm that the foreign matter has been removed by opening the
排水工程の後、気体供給管12に接続されたドレン管17の弁18を開き純水循環配管2内の水を排水してもよい。純水循環配管2の立ち上がり部2aの高さが高い場合、空気流で水を持ち上げることが困難な場合がある。この場合、純水循環配管2の最下部に水が残存する可能性がある。第1の接続部7を純水循環配管2の最下部に設けることで、ドレン管17から純水循環配管2内に残存した水を容易に排出することができる。なお、水が確実に排出されるように、第1の接続部7からみて純水循環配管2の両側を上り勾配としておくことが望ましい。同様に、ユースポイント6a〜6cをその近傍の純水循環配管2の最下部となる位置に設置することで、ユースポイント6a〜6cから排水することができる。ドレン管17を純水循環配管2に直接設けると、純水供給システム1の運転中にドレン管17の内部や分岐部に水が滞留しやすく、菌の発生や金属部からの溶出などが生じやすい。これに対して本発明では、ドレン管17は仮設の気体供給管12に接続されているため、フラッシングの終了後は純水循環配管2の内壁に水のよどみが生じやすい部位がなくなる。
After the draining process, the
以上の工程により純水循環配管2内の異物がほぼ除去されると、気体供給管12を第1の接続部7から取り外し、第1の接続部7を閉止する。また、第2の端部2cから仮設管21を取り外し、第2の端部2cと貯水槽3の純水戻りノズル3aとの間に未設置の配管要素を設置して、純水循環配管2を完成させる。未設置の配管要素を設置する際に異物が発生する可能性があるため、ポンプ4で循環運転を行い、ユースポイント6a〜6cから異物を排出することが望ましい。これによって純水循環配管2のフラッシングが完了する。
When the foreign matter in the pure
上述のように、本実施形態は、満水工程と排水工程を繰り返し行うことで、純水循環配管2の内壁に付着した異物を排出する。ポンプ4を用いて水を流通させる場合と比べて、高速の気体流による異物の剥離効果と移送効果が得られる。ポンプ4の容量を上げて高流速で水を流通させることでも、ある程度の剥離効果と移送効果は得られるが、フラッシングの目的でポンプ4の容量を増加するのはコスト的に不利である。また、一般に純水循環配管2はユースポイント6a〜6cの下流側ではユースポイント6a〜6cの上流側より流路が絞られているため、ポンプ4の容量を上げても高速の水流が得られるとは限らない。ポンプ4の容量にもよるが、一般に純水循環配管2の内径が50mmを超えると流速が低下するため、水流だけで異物を剥離させることは困難である。さらに、水流で異物を排出する場合、フラッシング水の供給能力、排水量の制限などにより必要な流量の確保が難しいことがある。またユースポイント6a〜6cでの漏水の監視のため各ユースポイント6a〜6cに人員を配置する必要がある。これに対し本発明では、ポンプ4は純水循環配管2を満水にする目的で使用され、水流で異物を剥離させるだけの高流速を必要としないため、ポンプ4の容量は剥離効果と移送効果にほとんど影響を与えない。
As described above, in the present embodiment, the foreign matter attached to the inner wall of the pure
一方、気体流だけで異物を排出する場合、内壁に付着した異物を剥離するのが困難な場合がある。これに対し本発明では、内壁に水分が付着しているため異物が剥離しやすくなり、また内壁に沿って移動する水分が異物を効率的に移送する。 On the other hand, when discharging foreign matter only with a gas flow, it may be difficult to peel off the foreign matter attached to the inner wall. On the other hand, in this invention, since the water | moisture content has adhered to the inner wall, it becomes easy to peel a foreign material, and the water | moisture content which moves along an inner wall transfers a foreign material efficiently.
1 純水供給システム
2 純水循環配管
2a 立ち上がり部
2b 第1の端部
2c 第2の端部
3 貯水槽
4 ポンプ
5 第1の弁
6a〜6c ユースポイント
7 第1の接続部
8a〜8c 第2の接続部
9a〜9c 分岐管
10a〜10c 弁
11 気体供給ユニット
12 空気供給管
13 タンク
14 レギュレータ
15 フィルタ
16 第2の弁
17 ドレン管
18 弁
21 仮設管
22 弁
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記満水工程では、前記第1の弁が開けられ、前記第2の弁と前記分岐管が閉じられ、前記貯水槽に貯蔵された水が前記ポンプで前記配管に供給され、
前記排水工程では、前記第1の弁が閉じられ、前記第2の弁と前記分岐管が開かれ、前記気体供給管に接続された気体供給手段から前記配管に前記気体が供給される、請求項1に記載の配管のフラッシング方法。 A reservoir for storing water is connected to the first end of the pipe, a pump is provided downstream of the reservoir of the pipe, a first valve is provided downstream of the pump, and the first A gas supply pipe provided with a second valve is connected to the first connection part downstream of the valve, and an openable branch pipe is connected to the second connection part downstream of the first connection part. And
In the water filling step, the first valve is opened, the second valve and the branch pipe are closed, and water stored in the water storage tank is supplied to the pipe by the pump,
In the drainage step, the first valve is closed, the second valve and the branch pipe are opened, and the gas is supplied to the pipe from a gas supply means connected to the gas supply pipe. Item 2. The piping flushing method according to Item 1.
純水または超純水が循環する閉ループをなす配管と、
前記配管に接続され、純水または超純水を貯蔵する貯水槽と、
前記配管上の前記貯水槽の下流に設けられ、前記貯水槽に貯蔵された前記純水または前記超純水を圧送するポンプと、
前記配管上の前記ポンプの下流に設けられた弁と、
前記配管上の前記弁の下流に設けられ、仮設の気体供給手段が接続されるようにされた第1の接続部と、
前記配管の前記第1の接続部の下流の第2の接続部に接続され、前記純水または前記超純水を供給するための開放可能な分岐管と、を有する、水供給システム。 A water supply system for supplying pure water or ultrapure water used in the manufacture of chemicals,
Piping that forms a closed loop through which pure water or ultrapure water circulates;
A water tank connected to the pipe for storing pure water or ultrapure water;
A pump that is provided downstream of the water tank on the pipe and pumps the pure water or the ultrapure water stored in the water tank;
A valve provided downstream of the pump on the pipe;
A first connecting portion provided downstream of the valve on the pipe and to which a temporary gas supply means is connected;
A water supply system, comprising: an openable branch pipe connected to a second connection portion downstream of the first connection portion of the pipe and supplying the pure water or the ultrapure water.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017032157A JP6940958B2 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | How to flush pipes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017032157A JP6940958B2 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | How to flush pipes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018134609A true JP2018134609A (en) | 2018-08-30 |
JP6940958B2 JP6940958B2 (en) | 2021-09-29 |
Family
ID=63366356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017032157A Active JP6940958B2 (en) | 2017-02-23 | 2017-02-23 | How to flush pipes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6940958B2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5930149B2 (en) * | 1981-03-26 | 1984-07-25 | トヨタ自動車株式会社 | Paint transport piping cleaning method |
JPH08281233A (en) * | 1995-04-18 | 1996-10-29 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Method of washing pipe |
JPH11131543A (en) * | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Hitachi Building Systems Co Ltd | Cleaning device for water supply pipe inside and running method thereof |
JP2004122020A (en) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Japan Organo Co Ltd | Ultrapure water manufacturing apparatus and method for washing ultrapure water manufacturing and supplying system of the apparatus |
JP2006319060A (en) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | Cleaning method of piping |
JP2013175552A (en) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Tokyo Electron Ltd | Process liquid exchange method and substrate processing apparatus |
-
2017
- 2017-02-23 JP JP2017032157A patent/JP6940958B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5930149B2 (en) * | 1981-03-26 | 1984-07-25 | トヨタ自動車株式会社 | Paint transport piping cleaning method |
JPH08281233A (en) * | 1995-04-18 | 1996-10-29 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Method of washing pipe |
JPH11131543A (en) * | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Hitachi Building Systems Co Ltd | Cleaning device for water supply pipe inside and running method thereof |
JP2004122020A (en) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Japan Organo Co Ltd | Ultrapure water manufacturing apparatus and method for washing ultrapure water manufacturing and supplying system of the apparatus |
JP2006319060A (en) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | Cleaning method of piping |
JP2013175552A (en) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Tokyo Electron Ltd | Process liquid exchange method and substrate processing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6940958B2 (en) | 2021-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10505537A (en) | Method and apparatus for reducing the number of particles to an extremely low count in semiconductor manufacturing | |
TWI556328B (en) | Refillable ampoule with purge capability | |
US10121685B2 (en) | Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus | |
JP6232650B1 (en) | Pipe cleaning device and pipe cleaning method | |
US20140251383A1 (en) | Device for providing fluid access to the interior of a tube, and system, method and device for treating the interior of tubes | |
JP2010236819A (en) | Cleaning device of heat exchanger heat transfer tube | |
CN105771395A (en) | Process liquor filtration apparatus, liquor supply apparatus and process liquid filtration method | |
KR20160109777A (en) | Semiconductor processing equipment for preventing blockage of exhaust line | |
SE514927C2 (en) | Method and apparatus for cleaning a milking plant | |
CN101712412B (en) | Catalyst unloading device | |
JP2018134609A (en) | Piping flushing method and water supply system | |
KR101631030B1 (en) | water supplying apparatus with High pressure jetting | |
KR100940405B1 (en) | Cleaning system for the photoresist nozzle tip | |
KR100855029B1 (en) | Valve and method for cleaning pipe | |
JP7164426B2 (en) | SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT AND FILTER AIR BREAKING METHOD | |
JP6346447B2 (en) | Substrate processing equipment | |
US7337789B2 (en) | Cleaning apparatus for exhaust system and method | |
KR101952949B1 (en) | A system for managing and maintaining pipes using a valve for changing flow paths | |
CN214767273U (en) | Cleaning device and gripping device | |
JP6697055B2 (en) | Substrate processing apparatus and pipe cleaning method for substrate processing apparatus | |
JP2007042856A (en) | Cleaner and cleaning liquid drip preventing method | |
JP7495407B2 (en) | Pigable proportioning equipment and pump | |
KR100435847B1 (en) | An apparatus for collecting and storing the waste liquid | |
JP2023095814A (en) | Substrate processing device | |
JP2006231117A (en) | Denitration apparatus, denitration method and ejector drain discharge device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210831 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210903 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6940958 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |