JP2018127712A - Method for producing copper nanoink - Google Patents

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Kazumasa Okada
一誠 岡田
元彦 杉浦
Motohiko Sugiura
元彦 杉浦
健嗣 大木
Kenji Oki
健嗣 大木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a copper nanoink, capable of easily producing a minute copper nanoink with high-concentration.SOLUTION: A method for producing a copper nanoink uses a copper nanoparticle dispersion with an average particle diameter of 50 nm or less, obtained by a liquid phase reduction method. The method for producing the copper nanoink includes: a film concentration step of separating a liquid phase by an ultrafilter membrane from the copper nanoparticle dispersion; and a centrifugal concentration step of centrifugal separation of the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、銅ナノインクの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a copper nano ink.

金属ナノ粒子を溶液中に析出させる液相還元法が知られている。この液相還元法は、溶液中で金属イオンを還元剤によって還元させることで金属ナノ粒子を溶液中に析出させるものである。この液相還元法によって得られる金属ナノ粒子分散液には、金属ナノ粒子の他、還元剤や、溶液の原料に由来する金属イオン、分散剤等の不純物が含まれている。金属ナノ粒子以外の上記成分は、金属ナノ粒子を導電材料として用いる際に耐久性、焼結性等の点で悪影響を及ぼすおそれがある。   A liquid phase reduction method in which metal nanoparticles are precipitated in a solution is known. In this liquid phase reduction method, metal ions are precipitated in a solution by reducing metal ions with a reducing agent in the solution. In addition to the metal nanoparticles, the metal nanoparticle dispersion obtained by the liquid phase reduction method contains impurities such as a reducing agent, metal ions derived from the solution raw material, and a dispersant. When the metal nanoparticles are used as a conductive material, the above components other than the metal nanoparticles may adversely affect the durability, sinterability, and the like.

そのため、今日では上記金属ナノ粒子分散液から金属ナノ粒子以外の成分を除去する方法が検討されている。このような金属ナノ粒子以外の成分を除去する方法として、例えば遠心分離機を用いて金属ナノ粒子を遠心分離する方法が発案されている(特開2009−62570号公報参照)。   Therefore, a method for removing components other than metal nanoparticles from the metal nanoparticle dispersion is being studied today. As a method for removing components other than such metal nanoparticles, for example, a method of centrifuging metal nanoparticles using a centrifuge has been proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-62570).

上記公報に記載の高濃度金属ナノ粒子分散液の製造方法は、金属ナノ粒子分散液から分散媒の一部を遠心分離によって除去することで金属ナノ粒子の濃度を増加させることができるとされている。上記製造方法は、遠心分離前に金属ナノ粒子分散液に分散性低下剤を添加することで、低い遠心力かつ短時間で微細な金属ナノ粒子を遠心分離できるとされている。   The manufacturing method of the high concentration metal nanoparticle dispersion described in the above publication is said to be able to increase the concentration of metal nanoparticles by removing a part of the dispersion medium from the metal nanoparticle dispersion by centrifugation. Yes. In the production method described above, it is said that fine metal nanoparticles can be centrifuged in a short centrifugal force and in a short time by adding a dispersibility reducing agent to the metal nanoparticle dispersion before centrifugation.

特開2009−62570号公報JP 2009-62570 A

しかしながら、上記公報に記載の製造方法は、上記分散性低下剤に起因して分散液における金属ナノ粒子の濃度が低くなる。そのため、この製造方法によっては、遠心分離後の金属ナノ粒子の濃度を十分に高め難い。また、この方法によると、遠心分離に際する分散液の入れ替えに手間がかかるため、作業性が低く、コストもかかる。   However, in the production method described in the above publication, the concentration of metal nanoparticles in the dispersion is lowered due to the dispersibility reducing agent. Therefore, depending on this manufacturing method, it is difficult to sufficiently increase the concentration of the metal nanoparticles after centrifugation. Further, according to this method, since it takes time to replace the dispersion during centrifugation, the workability is low and the cost is high.

本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、高濃度かつ微細な銅ナノインクを容易に製造することが可能な銅ナノインクの製造方法の提供を課題とする。   This invention is made | formed based on such a situation, and makes it a subject to provide the manufacturing method of the copper nano ink which can manufacture a high concentration and fine copper nano ink easily.

上記課題を解決するためになされた本発明の一態様に係る銅ナノインクの製造方法は、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液を用いた銅ナノインクの製造方法であって、上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮工程と、上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮工程とを備える。   The method for producing a copper nano ink according to one aspect of the present invention made to solve the above problems is a method for producing a copper nano ink using a copper nano particle dispersion having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method. And a membrane concentration step of separating the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion with an ultrafiltration membrane, and a centrifugal concentration step of centrifuging the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion.

本発明の銅ナノインクの製造方法は、高濃度かつ微細な銅ナノインクを容易に製造することができる。   The method for producing a copper nano ink of the present invention can easily produce a high concentration and fine copper nano ink.

本発明の一実施形態に係る銅ナノインクの製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the copper nano ink which concerns on one Embodiment of this invention. 図1の銅ナノインクの製造方法に用いられる銅ナノインクの製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing apparatus of the copper nano ink used for the manufacturing method of the copper nano ink of FIG. 図1の銅ナノインクの製造方法とは異なる形態に係る銅ナノインクの製造方法を示す模式的フロー図である。It is a typical flowchart which shows the manufacturing method of the copper nano ink which concerns on the form different from the manufacturing method of the copper nano ink of FIG.

[本発明の実施形態の説明]
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
[Description of Embodiment of the Present Invention]
First, embodiments of the present invention will be listed and described.

本発明の一態様に係る銅ナノインクの製造方法は、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液を用いた銅ナノインクの製造方法であって、上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮工程と、上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮工程とを備える。   A method for producing a copper nano ink according to an aspect of the present invention is a method for producing a copper nano ink using a copper nano particle dispersion having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method, wherein the copper nano particle dispersion A membrane concentration step of separating the liquid phase from the liquid with an ultrafiltration membrane, and a centrifugal concentration step of centrifuging the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion.

銅ナノインクを限外濾過膜を用いた膜濃縮のみによって製造する場合、濃縮時に銅ナノ粒子が多量の水に長時間さらされるため銅ナノ粒子が酸化凝集しやすく、微細な銅ナノインクを製造し難い。一方、銅ナノインクを遠心濃縮のみによって製造する場合、作業性が悪くコストが嵩みやすい。これに対し、当該銅ナノインクの製造方法は、上記膜濃縮工程及び遠心濃縮工程を共に備えることで、銅ナノ粒子の酸化凝集を抑制しつつ、作業性の低下及びコストの増加を抑えることができる。そのため、当該銅ナノインクの製造方法は、高濃度かつ微細な銅ナノインクを容易に製造することができる。   When copper nano ink is produced only by membrane concentration using an ultrafiltration membrane, the copper nanoparticles are exposed to a large amount of water for a long time during concentration, so the copper nanoparticles are likely to oxidize and aggregate, making it difficult to produce fine copper nano inks. . On the other hand, when manufacturing copper nano ink only by centrifugal concentration, workability | operativity is bad and cost tends to increase. On the other hand, the manufacturing method of the copper nano ink includes both the membrane concentration step and the centrifugal concentration step, thereby suppressing the decrease in workability and the increase in cost while suppressing the oxidative aggregation of the copper nanoparticles. . Therefore, the manufacturing method of the copper nano ink can easily manufacture a high concentration and fine copper nano ink.

上記膜濃縮工程の後に上記遠心濃縮工程を行うとよい。このように、上記膜濃縮工程の後に上記遠心濃縮工程を行うことによって、高濃度かつ微細な銅ナノインクをより確実に製造することができる。   The centrifugal concentration step may be performed after the membrane concentration step. As described above, by performing the centrifugal concentration step after the membrane concentration step, a high concentration and fine copper nano ink can be more reliably manufactured.

上記限外濾過膜の分画分子量としては、3000以上50000以下が好ましい。このように、上記限外濾過膜の分画分子量が上記範囲内であることによって、銅ナノ粒子の限外濾過膜の透過を十分に防止することができる。これにより、上記膜濃縮工程による銅ナノ粒子の高濃度化を促進することができる。   The molecular weight cutoff of the ultrafiltration membrane is preferably 3000 or more and 50000 or less. Thus, permeation | transmission of the ultrafiltration membrane of a copper nanoparticle can fully be prevented because the molecular weight cut off of the said ultrafiltration membrane is in the said range. Thereby, high concentration of the copper nanoparticles by the film concentration step can be promoted.

上記遠心濃縮工程における遠心加速度としては、20000G以上が好ましい。このように、上記遠心濃縮工程における遠心加速度が上記下限以上であることによって、銅ナノ粒子を十分に遠心濃縮することができる。なお、「G」は重力加速度を意味する。また、上記遠心加速度は、最大加速度を意味する。   The centrifugal acceleration in the centrifugal concentration step is preferably 20000 G or more. Thus, when the centrifugal acceleration in the centrifugal concentration step is equal to or higher than the lower limit, the copper nanoparticles can be sufficiently centrifugally concentrated. “G” means gravitational acceleration. The centrifugal acceleration means a maximum acceleration.

当該銅ナノインクの製造方法は、上記遠心濃縮工程後に、処理対象の銅ナノ粒子分散液に水を加える水添加工程と、上記水添加工程後の銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する再遠心濃縮工程とを備えるとよい。また、上記水添加工程における銅ナノ粒子100質量部に対する水の添加量としては、150質量部以上1000質量部以下が好ましい。この構成によると、水の添加に起因する銅のナノ粒子の酸化凝集を抑えつつ、銅ナノ粒子の高濃度化をさらに促進することができる。   The copper nano-ink manufacturing method includes a water addition step of adding water to the copper nanoparticle dispersion to be treated after the centrifugal concentration step, and a centrifugal separation of the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion after the water addition step. And a centrifugal concentration step. Moreover, as an addition amount of the water with respect to 100 mass parts of copper nanoparticles in the said water addition process, 150 mass parts or more and 1000 mass parts or less are preferable. According to this configuration, it is possible to further promote the increase in the concentration of the copper nanoparticles while suppressing the oxidative aggregation of the copper nanoparticles caused by the addition of water.

上記膜濃縮工程で銅ナノ粒子分散液の流路に不活性ガスを供給するとよい。このように、上記膜濃縮工程で銅ナノ粒子分散液の流路に不活性ガスを供給することによって、銅ナノ粒子の酸化凝集をより確実に抑えることができる。   An inert gas may be supplied to the flow path of the copper nanoparticle dispersion in the membrane concentration step. Thus, by supplying an inert gas to the flow path of the copper nanoparticle dispersion liquid in the membrane concentration step, the oxidative aggregation of the copper nanoparticles can be more reliably suppressed.

なお、本発明において、銅ナノ粒子分散液における銅ナノ粒子の「平均粒子径」とは、レーザ回折法で測定した体積基準の累積分布から算出されるメディアン径をいう。「分画分子量」とは、分画曲線上の特定の溶質透過阻止率が90%の分子量をいう。   In the present invention, the “average particle diameter” of the copper nanoparticles in the copper nanoparticle dispersion means a median diameter calculated from a volume-based cumulative distribution measured by a laser diffraction method. The “fraction molecular weight” refers to a molecular weight having a specific solute permeation inhibition rate of 90% on the fraction curve.

[本発明の実施形態の詳細]
以下、本発明に係る銅ナノインクの製造方法の各実施形態について図面を参照しつつ詳説する。
[Details of the embodiment of the present invention]
Hereinafter, embodiments of the method for producing a copper nano ink according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第一実施形態]
当該銅ナノインクの製造方法は、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液を用いた銅ナノインクの製造方法である。図1に示すように、当該銅ナノインクの製造方法は、上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮工程と、上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮工程とを備える。なお、当該銅ナノインクの製造方法によって得られる銅ナノインクは、例えばプリント配線板を構成するベースフィルムへの塗布及び焼成により、このベースフィルム上に銅ナノ粒子の焼結層を形成するのに用いられる。
[First embodiment]
The method for producing a copper nano ink is a method for producing a copper nano ink using a copper nano particle dispersion liquid having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method. As shown in FIG. 1, the manufacturing method of the copper nano ink includes a membrane concentration step of separating the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion with an ultrafiltration membrane, and the liquid phase is centrifuged from the copper nanoparticle dispersion. A centrifugal concentration step. The copper nano ink obtained by the method for producing copper nano ink is used to form a sintered layer of copper nanoparticles on the base film, for example, by applying and baking the base film constituting the printed wiring board. .

銅ナノインクを限外濾過膜を用いた膜濃縮のみによって製造する場合、濃縮時に銅ナノ粒子が多量の水に長時間さらされるため銅ナノ粒子が酸化凝集しやすく、微細な銅ナノインクを製造し難い。一方、銅ナノインクを遠心濃縮のみによって製造する場合、作業性が悪くコストが嵩みやすい。これに対し、当該銅ナノインクの製造方法は、上記膜濃縮工程及び遠心濃縮工程を共に備えることで、銅ナノ粒子の酸化凝集を抑制しつつ、作業性の低下及びコストの増加を抑えることができる。そのため、当該銅ナノインクの製造方法は、高濃度かつ微細な銅ナノインクを容易に製造することができる。   When copper nano ink is produced only by membrane concentration using an ultrafiltration membrane, the copper nanoparticles are exposed to a large amount of water for a long time during concentration, so the copper nanoparticles are likely to oxidize and aggregate, making it difficult to produce fine copper nano inks. . On the other hand, when manufacturing copper nano ink only by centrifugal concentration, workability | operativity is bad and cost tends to increase. On the other hand, the manufacturing method of the copper nano ink includes both the membrane concentration step and the centrifugal concentration step, thereby suppressing the decrease in workability and the increase in cost while suppressing the oxidative aggregation of the copper nanoparticles. . Therefore, the manufacturing method of the copper nano ink can easily manufacture a high concentration and fine copper nano ink.

まず、当該銅ナノインクの製造方法で用いる液相還元法によって得られた銅ナノ粒子分散液について説明する。   First, the copper nanoparticle dispersion obtained by the liquid phase reduction method used in the method for producing copper nanoink will be described.

(銅ナノ粒子分散液)
上記銅ナノ粒子分散液は、例えば水に銅ナノ粒子を形成する銅イオンのもとになる水溶性の銅化合物と分散剤とを溶解させると共に、還元剤を加えて一定時間銅イオンを還元反応させることで得られる。液相還元法で製造される銅ナノ粒子は、形状が球状又は粒状で揃っており、しかも平均粒子径が50nm以下の微細な粒子とすることができる。上記銅イオンのもとになる水溶性の銅化合物としては、硝酸銅(II)(Cu(NO)、硫酸銅(II)五水和物(CuSO・5HO)等が挙げられる。
(Copper nanoparticle dispersion)
The above copper nanoparticle dispersion solution, for example, dissolves a water-soluble copper compound that forms the copper ion in water and a dispersant, and reduces the copper ion for a certain time by adding a reducing agent. Can be obtained. Copper nanoparticles produced by the liquid phase reduction method are spherical or granular in shape, and can be made into fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less. Examples of the water-soluble copper compound that is the source of the copper ions include copper nitrate (II) (Cu (NO 3 ) 2 ), copper sulfate (II) pentahydrate (CuSO 4 .5H 2 O), and the like. It is done.

上記還元剤としては、液相(水溶液)の反応系において、銅イオンを還元及び析出させることができる種々の還元剤を用いることができる。この還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、3価のチタンイオンや2価のコバルトイオン等の遷移金属のイオン、アスコルビン酸、グルコースやフルクトース等の還元性糖類、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールなどが挙げられる。中でも、還元剤としては3価のチタンイオンが好ましい。なお、3価のチタンイオンを還元剤とする液相還元法は、チタンレドックス法という。チタンレドックス法では、3価のチタンイオンが4価に酸化される際の酸化還元作用によって銅イオンを還元し、銅ナノ粒子を析出させる。このチタンレドックス法によると、微細かつ均一な粒子径を有する銅ナノ粒子を形成しやすい。   As the reducing agent, various reducing agents capable of reducing and precipitating copper ions in a liquid phase (aqueous solution) reaction system can be used. Examples of the reducing agent include sodium borohydride, sodium hypophosphite, hydrazine, transition metal ions such as trivalent titanium ions and divalent cobalt ions, reducing sugars such as ascorbic acid, glucose and fructose, Examples include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. Among these, a trivalent titanium ion is preferable as the reducing agent. The liquid phase reduction method using trivalent titanium ions as a reducing agent is referred to as a titanium redox method. In the titanium redox method, copper ions are reduced by the redox action when trivalent titanium ions are oxidized to tetravalent, and copper nanoparticles are deposited. According to this titanium redox method, it is easy to form copper nanoparticles having a fine and uniform particle size.

銅ナノ粒子の粒子径を調整するには、銅化合物、分散剤及び還元剤の種類並びに配合割合を調整すると共に、銅化合物を還元反応させる際に、攪拌速度、温度、時間、pH等を調整すればよい。反応系のpHの下限としては7が好ましく、反応系のpHの上限としては13が好ましい。反応系のpHを上記範囲とすることで、微小な粒子径の銅ナノ粒子を得ることができる。このときpH調整剤を用いることで、反応系のpHを上記範囲に容易に調整することができる。このpH調整剤としては、塩酸、硫酸、硝酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の一般的な酸又はアルカリが使用できるが、特に周辺部材の劣化を防止するために、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン元素、硫黄、リン、ホウ素等の不純物を含まない硝酸及びアンモニアが好ましい。   To adjust the particle size of the copper nanoparticles, adjust the type and mixing ratio of the copper compound, dispersant and reducing agent, and adjust the stirring speed, temperature, time, pH, etc. when the copper compound is reduced. do it. The lower limit of the pH of the reaction system is preferably 7, and the upper limit of the pH of the reaction system is preferably 13. By setting the pH of the reaction system within the above range, copper nanoparticles having a minute particle diameter can be obtained. At this time, the pH of the reaction system can be easily adjusted to the above range by using a pH adjuster. As this pH adjuster, common acids or alkalis such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sodium hydroxide, sodium carbonate, ammonia and the like can be used. In particular, alkali metals, alkaline earths are used to prevent deterioration of peripheral members. Nitric acid and ammonia which do not contain impurities such as metals, halogen elements, sulfur, phosphorus and boron are preferred.

銅ナノ粒子分散液における銅ナノ粒子の含有割合としては、例えば0.1質量%以上5.0質量%以下が好ましい。   As a content rate of the copper nanoparticle in a copper nanoparticle dispersion liquid, 0.1 to 5.0 mass% is preferable, for example.

(製造装置)
当該銅ナノインクの製造方法は、例えば図2の製造装置1を用いて行うことが可能である。製造装置1は、上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮部2と、上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮部3とを備える。製造装置1は、膜濃縮部2の下流に遠心濃縮部3が接続されている。これにより、製造装置1は、膜濃縮部2による膜濃縮後の銅ナノ粒子分散液を遠心濃縮部3で遠心濃縮するよう構成されている。
(manufacturing device)
The manufacturing method of the copper nano ink can be performed using, for example, the manufacturing apparatus 1 of FIG. The production apparatus 1 includes a membrane concentration unit 2 that separates a liquid phase from the copper nanoparticle dispersion with an ultrafiltration membrane, and a centrifugal concentration unit 3 that centrifuges the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion. In the manufacturing apparatus 1, a centrifugal concentration unit 3 is connected downstream of the membrane concentration unit 2. Thereby, the manufacturing apparatus 1 is configured to centrifugally concentrate the copper nanoparticle dispersion liquid after the membrane concentration by the membrane concentration unit 2 using the centrifugal concentration unit 3.

〔膜濃縮部〕
膜濃縮部2は、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液Aを貯留する分散液貯留槽11と、分散液貯留槽11から銅ナノ粒子分散液Aが送られる膜濃縮槽12とを備えており、この膜濃縮槽12内に限外濾過膜12aが配設されている。限外濾過膜12aは、上記銅ナノ粒子分散液Aから液相をクロスフロー方式で膜分離する。
[Membrane concentration section]
The membrane concentration unit 2 includes a dispersion liquid storage tank 11 that stores a copper nanoparticle dispersion liquid A having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method, and the copper nanoparticle dispersion liquid A is sent from the dispersion liquid storage tank 11. The membrane concentration tank 12 is provided, and an ultrafiltration membrane 12 a is disposed in the membrane concentration tank 12. The ultrafiltration membrane 12a membrane-separates the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion A by the crossflow method.

分散液貯留槽11は、気密に形成されている。分散液貯留槽11は、銅ナノ粒子分散液Aの流路の一部を構成する。分散液貯留槽11の上部には、銅ナノ粒子分散液Aが供給される分散液供給管21a及び不活性ガスBが供給される不活性ガス供給管21bが接続されている。また、分散液貯留槽11の下部には、銅ナノ粒子分散液Aを排出する分散液排出管21cが接続されている。この分散液排出管21cには、銅ナノ粒子分散液Aを限外濾過膜12a側に圧送するポンプ22が配設されている。さらに、分散液貯留槽11の上部には、限外濾過膜12aから還流した銅ナノ粒子分散液Aを分散液貯留槽11に導入する還流管21dが接続されている。   The dispersion liquid storage tank 11 is formed airtight. The dispersion liquid storage tank 11 constitutes a part of the flow path of the copper nanoparticle dispersion liquid A. Connected to the upper part of the dispersion liquid storage tank 11 are a dispersion liquid supply pipe 21a to which the copper nanoparticle dispersion liquid A is supplied and an inert gas supply pipe 21b to which the inert gas B is supplied. Further, a dispersion liquid discharge pipe 21 c for discharging the copper nanoparticle dispersion liquid A is connected to the lower part of the dispersion liquid storage tank 11. The dispersion discharge pipe 21c is provided with a pump 22 that pumps the copper nanoparticle dispersion A to the ultrafiltration membrane 12a side. Further, a reflux pipe 21 d for introducing the copper nanoparticle dispersion liquid A refluxed from the ultrafiltration membrane 12 a into the dispersion liquid storage tank 11 is connected to the upper part of the dispersion liquid storage tank 11.

膜濃縮槽12は、内圧が大気圧よりも高い加圧状態で内部に液体を貯留可能な容器である。膜濃縮槽12は、気密に形成されている。膜濃縮槽12の内部には複数の限外濾過膜12aが上下方向に延在するよう配設されている。膜濃縮槽12の下部には、上記分散液排出管21cの一端が接続されている。膜濃縮槽12の上部には、上記還流管21dの一端が接続されている。分散液貯留槽11、膜濃縮槽12、並びにこれらを接続する分散液排出管21c及び還流管21dは、銅ナノ粒子分散液Aが循環する閉空間を形成している。また、膜濃縮槽12には、限外濾過膜12aを透過した液相を系外に排出する排出管21eが接続されている。さらに、分散液排出管21cには、切替バルブ23が設けられている。この切替バルブ23には限外濾過膜12aによる液相の分離によって濃縮された銅ナノ粒子分散液を遠心濃縮部3に供給する濃縮液供給管21fが接続されている(なお、以下では濃縮液供給管21fから遠心濃縮部3に供給される銅ナノ粒子分散液を「銅ナノ粒子濃縮液C」ともいう)。   The membrane concentration tank 12 is a container capable of storing a liquid in a pressurized state in which the internal pressure is higher than the atmospheric pressure. The membrane concentration tank 12 is formed airtight. Inside the membrane concentration tank 12, a plurality of ultrafiltration membranes 12a are arranged to extend in the vertical direction. One end of the dispersion discharge pipe 21 c is connected to the lower part of the membrane concentration tank 12. One end of the reflux pipe 21 d is connected to the upper part of the membrane concentration tank 12. The dispersion liquid storage tank 11, the membrane concentration tank 12, and the dispersion liquid discharge pipe 21c and the reflux pipe 21d that connect them form a closed space in which the copper nanoparticle dispersion liquid A circulates. The membrane concentration tank 12 is connected to a discharge pipe 21e that discharges the liquid phase that has passed through the ultrafiltration membrane 12a to the outside of the system. Further, a switching valve 23 is provided in the dispersion liquid discharge pipe 21c. Connected to the switching valve 23 is a concentrate supply pipe 21f for supplying the copper nanoparticle dispersion liquid concentrated by liquid phase separation by the ultrafiltration membrane 12a to the centrifugal concentrator 3 (hereinafter, the concentrate is referred to as a concentrate). The copper nanoparticle dispersion liquid supplied from the supply pipe 21f to the centrifugal concentration unit 3 is also referred to as “copper nanoparticle concentrated liquid C”).

限外濾過膜12aは、例えば中空糸膜であり、内部に流路が形成されている。限外濾過膜12aは多数の微細孔を有している。上記流路の下端は分散液排出管21cに連通し、上記流路の上端は還流管21dに連通している。限外濾過膜12aは分散液排出管21cから銅ナノ粒子分散液Aが内部に供給されると、銅ナノ粒子を還流管21d側に送る一方、液相を微細孔から外部に透過させる。これにより、限外濾過膜12aは、銅ナノ粒子分散液Aから液相を膜分離する。限外濾過膜12aの材質としては、特に限定されるものではなく、例えば合成樹脂が用いられる。   The ultrafiltration membrane 12a is a hollow fiber membrane, for example, and has a flow path formed therein. The ultrafiltration membrane 12a has a large number of micropores. The lower end of the flow path communicates with the dispersion liquid discharge pipe 21c, and the upper end of the flow path communicates with the reflux pipe 21d. When the copper nanoparticle dispersion liquid A is supplied into the ultrafiltration membrane 12a from the dispersion liquid discharge pipe 21c, the ultrafiltration membrane 12a sends the copper nanoparticles to the reflux pipe 21d side while allowing the liquid phase to permeate through the micropores to the outside. Thereby, the ultrafiltration membrane 12a membrane-separates a liquid phase from the copper nanoparticle dispersion liquid A. The material of the ultrafiltration membrane 12a is not particularly limited, and for example, synthetic resin is used.

限外濾過膜12aの分画分子量の下限としては、3000が好ましく、6000がより好ましい。一方、限外濾過膜12aの分画分子量の上限としては、50000が好ましく、20000がより好ましい。上記分画分子量が上記下限に満たないと、限外濾過膜12aの製造が困難になるおそれがある。また、上記分画分子量が上記下限に満たないと、液相の膜分離に時間を要することで、銅ナノ粒子が酸化凝集しやすくなるおそれがある。逆に、上記分画分子量が上記上限を超えると、上記微細孔から銅ナノ粒子が外部に透過するおそれがある。   The lower limit of the molecular weight cut off of the ultrafiltration membrane 12a is preferably 3000, and more preferably 6000. On the other hand, the upper limit of the molecular weight cut off of the ultrafiltration membrane 12a is preferably 50000, more preferably 20000. If the molecular weight cut-off is less than the lower limit, it may be difficult to produce the ultrafiltration membrane 12a. Moreover, when the said molecular weight cut off is less than the said minimum, there exists a possibility that a copper nanoparticle may become easy to oxidatively aggregate by requiring time for membrane separation of a liquid phase. On the contrary, when the molecular weight cut off exceeds the upper limit, the copper nanoparticles may permeate to the outside through the fine pores.

製造装置1では、分散液貯留槽11に銅ナノ粒子分散液Aが連続的又は断続的に供給される。また、銅ナノ粒子分散液Aは、分散液貯留槽11、分散液排出管21c、膜濃縮槽12及び還流管21dによって形成される循環経路を循環する。これにより、この循環経路を循環する銅ナノ粒子分散液Aにおける銅ナノ粒子の濃度は一定に維持可能となっている。なお、銅ナノ粒子分散液Aにおける銅ナノ粒子の濃度の調節は、例えば排出管21eに配設されるバルブ(不図示)及び切替バルブ23により液体の流量を調節することで行うことができる。   In the manufacturing apparatus 1, the copper nanoparticle dispersion liquid A is continuously or intermittently supplied to the dispersion liquid storage tank 11. Further, the copper nanoparticle dispersion liquid A circulates in a circulation path formed by the dispersion liquid storage tank 11, the dispersion liquid discharge pipe 21c, the membrane concentration tank 12, and the reflux pipe 21d. Thereby, the density | concentration of the copper nanoparticle in the copper nanoparticle dispersion liquid A which circulates through this circulation path | route can be maintained constant. The concentration of the copper nanoparticles in the copper nanoparticle dispersion A can be adjusted, for example, by adjusting the flow rate of the liquid using a valve (not shown) and a switching valve 23 provided in the discharge pipe 21e.

〔遠心濃縮部〕
遠心濃縮部3は、遠心分離機13を有する。遠心分離機13としては、公知の構成のものを用いることができる。遠心分離機13には、上述の濃縮液供給管21fが接続されている。遠心分離機13は、濃縮液供給配管21fから供給される銅ナノ粒子濃縮液Cを液相D及び液相Dの分離によって濃縮された銅ナノ粒子分散液(以下、「銅ナノ粒子濃縮液E」ともいう)に遠心分離する。なお、銅ナノ粒子濃縮液Eは、例えば水と混合されることで、銅ナノインクとして形成される。
(Centrifuge concentration part)
The centrifugal concentration unit 3 includes a centrifuge 13. As the centrifuge 13, a known configuration can be used. The centrifuge 13 is connected to the concentrated liquid supply pipe 21f described above. The centrifuge 13 is a copper nanoparticle dispersion (hereinafter referred to as “copper nanoparticle concentrate E”) obtained by concentrating the copper nanoparticle concentrate C supplied from the concentrate supply pipe 21f by the separation of the liquid phase D and the liquid phase D. Centrifuge). In addition, the copper nanoparticle concentrate E is formed as copper nanoink by mixing with water, for example.

遠心分離機13は、遠心分離後の銅ナノ粒子濃縮液Eを取り出し可能に構成されている。また、遠心分離機13は、例えば遠心分離を行う遠心分離部と、この遠心分離部を取り囲むよう配設される中継容器とを有していてもよい。この場合、遠心分離機13は、遠心分離後の銅ナノ粒子濃縮液Eを中継容器に一端収容し、中継容器に純水等の水を添加し、銅ナノ粒子濃縮液Eを希釈できるよう構成されてもよい。この構成によると、遠心分離機13は、銅ナノ粒子濃縮液Eの希釈により形成された銅ナノインクを排出することができる。   The centrifuge 13 is configured to be able to take out the copper nanoparticle concentrate E after centrifugation. Moreover, the centrifuge 13 may have, for example, a centrifuge that performs centrifuge and a relay container that is disposed so as to surround the centrifuge. In this case, the centrifuge 13 is configured so that the copper nanoparticle concentrate E after centrifugation is housed in a relay container, and water such as pure water is added to the relay container to dilute the copper nanoparticle concentrate E. May be. According to this configuration, the centrifuge 13 can discharge the copper nano ink formed by dilution of the copper nanoparticle concentrate E.

<膜濃縮工程>
上記膜濃縮工程は、膜濃縮部2によって行われる。具体的には、上記膜濃縮工程では、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液Aを分散液貯留槽11に供給し、この銅ナノ粒子分散液Aに含まれる液相を限外濾過膜12aで膜分離することで銅ナノ粒子の濃度を高める。
<Membrane concentration process>
The membrane concentration step is performed by the membrane concentration unit 2. Specifically, in the membrane concentration step, a copper nanoparticle dispersion liquid A having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method is supplied to the dispersion liquid storage tank 11 and is contained in the copper nanoparticle dispersion liquid A. The concentration of copper nanoparticles is increased by subjecting the liquid phase to be separated by the ultrafiltration membrane 12a.

上記膜濃縮工程における銅ナノ粒子分散液Aの濃縮率の下限としては、7倍が好ましく、10倍がより好ましい。一方、銅ナノ粒子分散液Aの濃縮率の上限としては、30倍が好ましく、25倍がより好ましい。上記濃縮率が上記下限に満たないと、遠心濃縮工程で濃縮率を高くすることが必要となり、銅ナノインクの製造コストが高くなるおそれがある。逆に、上記濃縮率が上記上限を超えると、銅ナノ粒子分散液Aの粘度が高くなり過ぎて限外濾過膜12aによる濾過速度が低下するおそれがある。また、上記濃縮率が上記上限を超えると、銅ナノ粒子分散液Aの粘度が高くなり過ぎることで銅ナノ粒子分散液Aの付着性が高くなり、銅ナノ粒子分散液Aの回収率が低下するおそれがある。   The lower limit of the concentration ratio of the copper nanoparticle dispersion liquid A in the membrane concentration step is preferably 7 times and more preferably 10 times. On the other hand, the upper limit of the concentration ratio of the copper nanoparticle dispersion A is preferably 30 times, and more preferably 25 times. If the concentration rate is less than the lower limit, it is necessary to increase the concentration rate in the centrifugal concentration step, which may increase the production cost of the copper nano ink. On the other hand, when the concentration ratio exceeds the upper limit, the viscosity of the copper nanoparticle dispersion A becomes too high, and the filtration rate by the ultrafiltration membrane 12a may decrease. Moreover, when the said concentration rate exceeds the said upper limit, the adhesiveness of the copper nanoparticle dispersion liquid A will become high because the viscosity of the copper nanoparticle dispersion liquid A will become high too much, and the recovery rate of the copper nanoparticle dispersion liquid A will fall. There is a risk.

上記膜濃縮工程によって濃縮された銅ナノ粒子分散液Aの固形分濃度の下限としては、2質量%が好ましく、5質量%がより好ましい。一方、上記固形分濃度の上限としては、20質量%が好ましく、10質量%がより好ましい。上記固形分濃度が上記下限に満たないと、遠心濃縮工程で濃縮率を高くすることが必要となり、銅ナノインクの製造コストが高くなるおそれがある。逆に、上記固形分濃度が上記上限を超えると、銅ナノ粒子が酸化凝集するおそれがある。   As a minimum of solid content concentration of copper nanoparticle dispersion liquid A concentrated by the above-mentioned membrane concentration process, 2 mass% is preferred and 5 mass% is more preferred. On the other hand, the upper limit of the solid content concentration is preferably 20% by mass, and more preferably 10% by mass. If the solid content concentration is less than the lower limit, it is necessary to increase the concentration rate in the centrifugal concentration step, which may increase the production cost of the copper nano ink. On the contrary, when the solid content concentration exceeds the upper limit, the copper nanoparticles may be oxidized and aggregated.

上記膜濃縮工程では、銅ナノ粒子分散液Aの流路に不活性ガスBを供給することが好ましい。当該銅ナノインクの製造方法では、銅ナノ粒子分散液Aは、分散液貯留槽11、膜濃縮槽12、並びにこれらを接続する分散液排出管21c及び還流管21dによって形成される閉空間を循環する。そのため、上記膜濃縮工程で銅ナノ粒子分散液Aの流路に不活性ガスBを供給することによって、この循環路から気体酸素を排除しやすい。その結果、当該銅ナノインクの製造方法は、銅ナノ粒子の酸化凝集をより確実に抑えることができる。なお、「不活性ガス」とは、銅ナノ粒子を腐食させない気体であって、酸素濃度が低い気体、具体的には酸素の体積含有量が10%以下、好ましくは1%以下の気体をいう。上記不活性ガスとしては、例えば窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。中でも、安価な窒素がガス好ましい。   In the membrane concentration step, it is preferable to supply the inert gas B to the flow path of the copper nanoparticle dispersion A. In the method for producing copper nano ink, the copper nanoparticle dispersion liquid A circulates in a closed space formed by the dispersion liquid storage tank 11, the membrane concentration tank 12, and the dispersion liquid discharge pipe 21c and the reflux pipe 21d connecting them. . Therefore, it is easy to exclude gaseous oxygen from this circulation path by supplying the inert gas B to the flow path of the copper nanoparticle dispersion A in the membrane concentration step. As a result, the copper nanoink manufacturing method can more reliably suppress the oxidative aggregation of the copper nanoparticles. The “inert gas” is a gas that does not corrode copper nanoparticles and has a low oxygen concentration, specifically, a gas having a volume content of oxygen of 10% or less, preferably 1% or less. . Examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas. Of these, inexpensive nitrogen is preferred.

<遠心濃縮工程>
上記遠心濃縮工程は、遠心濃縮部3によって行われる。本実施形態において、上記遠心濃縮工程は上記膜濃縮工程の後に行われる。具体的には、上記遠心濃縮工程では、上記膜濃縮工程による濃縮後の銅ナノ粒子濃縮液Cを銅ナノ粒子濃縮液E及び液相Dに遠心分離する。当該銅ナノインクの製造方法は、上記膜濃縮工程の後に上記遠心濃縮工程を行うことで、高濃度かつ微細な銅ナノインクをより確実に製造することができる。
<Centrifuge concentration process>
The centrifugal concentration step is performed by the centrifugal concentration unit 3. In the present embodiment, the centrifugal concentration step is performed after the membrane concentration step. Specifically, in the centrifugal concentration step, the copper nanoparticle concentrate C concentrated after the membrane concentration step is centrifuged into a copper nanoparticle concentrate E and a liquid phase D. The said copper nanoink manufacturing method can manufacture a high concentration and fine copper nanoink more reliably by performing the said centrifugal concentration process after the said film | membrane concentration process.

上記遠心濃縮工程における遠心加速度の下限としては、20000Gが好ましく、50000Gがより好ましい。上記遠心加速度が上記下限に満たないと、銅ナノ粒子を十分に遠心濃縮することができないおそれがある。なお、上記遠心加速度の上限としては、特に限定されないが、例えば120000Gとすることができる。上記遠心加速度が上記上限を超えると、遠心濃縮後の銅ナノ粒子濃縮液Eの濃度が高くなり過ぎて、この銅ナノ粒子分散液Eが容器等に固着し歩留まりが低下するおそれがある。   As a minimum of centrifugal acceleration in the above-mentioned centrifugal concentration process, 20000G is preferred and 50000G is more preferred. If the centrifugal acceleration is less than the lower limit, the copper nanoparticles may not be sufficiently concentrated by centrifugation. In addition, although it does not specifically limit as an upper limit of the said centrifugal acceleration, For example, it can be set to 120,000G. If the centrifugal acceleration exceeds the upper limit, the concentration of the copper nanoparticle concentrate E after centrifugal concentration becomes too high, and the copper nanoparticle dispersion E may adhere to a container or the like and the yield may decrease.

上記遠心濃縮工程における遠心分離後の銅ナノ粒子濃縮液Eの固形分濃度の下限としては、50質量%が好ましく、70質量%がより好ましい。上記固形分濃度が上記下限に満たないと、銅ナノインク中における不純物を十分に除去できないおそれがある。一方、上記固形分濃度の上限としては、特に限定されないが、例えば95質量%とすることができる。   As a minimum of solid content concentration of copper nanoparticle concentrate E after centrifugation in the above-mentioned centrifugal concentration process, 50 mass% is preferred and 70 mass% is more preferred. If the solid content concentration is less than the lower limit, impurities in the copper nano ink may not be sufficiently removed. On the other hand, the upper limit of the solid content concentration is not particularly limited, but may be 95% by mass, for example.

[第二実施形態]
当該銅ナノインクの製造方法は、液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液を用いた銅ナノインクの製造方法である。図3に示すように、当該銅ナノインクの製造方法は、上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮工程と、上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮工程と、上記遠心濃縮工程後に、処理対象の銅ナノ粒子分散液に水を加える水添加工程と、上記水添加工程後の銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する再遠心濃縮工程とを備える。また、当該銅ナノインクの製造方法は、上記水添加工程及び再遠心濃縮工程の間に、銅ナノ粒子分散液を解粒する解粒工程をさらに備えることが好ましい。当該銅ナノインクの製造方法は、例えば図2の製造装置1を用いて行われる。当該銅ナノインクの製造法は、上記水添加工程、再遠心濃縮工程及び解粒工程を備える以外、図1の銅ナノインクの製造方法と同様の手順で行うことができる。そのため、以下では、水添加工程、再遠心濃縮工程及び解粒工程についてのみ説明する。
[Second Embodiment]
The method for producing a copper nano ink is a method for producing a copper nano ink using a copper nano particle dispersion liquid having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method. As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the copper nano ink includes a membrane concentration step of separating the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion with an ultrafiltration membrane, and the liquid phase is centrifuged from the copper nanoparticle dispersion. Centrifugal concentration step, water addition step of adding water to the copper nanoparticle dispersion to be treated after the centrifugal concentration step, and re-centrifugal concentration step of centrifuging the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion after the water addition step With. Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the said copper nano ink is further equipped with the granulation process of granulating a copper nanoparticle dispersion liquid between the said water addition process and a recentrifugation concentration process. The manufacturing method of the copper nano ink is performed using, for example, the manufacturing apparatus 1 of FIG. The method for producing the copper nano ink can be performed in the same procedure as the method for producing the copper nano ink of FIG. 1 except that the method includes the water addition step, the re-centrifugation concentration step, and the granulation step. Therefore, below, only a water addition process, a re-centrifugal concentration process, and a granulation process are demonstrated.

<水添加工程>
上記水添加工程は、上記遠心濃縮工程で排出される液相Dの導電度が規定値を超える場合に行われる。具体的には、上記水添加工程は、例えば液相Dの導電度が100μS/cm超の場合に行われる。当該銅ナノインクの製造方法は、液相Dの導電度が上記規定値を超える場合に、上記水添加工程及び再遠心濃縮工程を行い、この再遠心濃縮工程で排出される液相Dの導電度が上記規定値を超える場合、上記水添加工程及び再遠心濃縮工程を再度繰り返す。当該銅ナノインクの製造方法は、上記水添加工程及び再遠心濃縮工程を有することで、得られる銅ナノインクにおける不純物の含有割合をより低く抑えることができる。
<Water addition process>
The water addition step is performed when the conductivity of the liquid phase D discharged in the centrifugal concentration step exceeds a specified value. Specifically, the water addition step is performed, for example, when the conductivity of the liquid phase D is more than 100 μS / cm. When the conductivity of the liquid phase D exceeds the specified value, the copper nano-ink manufacturing method performs the water addition step and the re-centrifugal concentration step, and the conductivity of the liquid phase D discharged in the re-centrifugal concentration step. When the value exceeds the specified value, the water addition step and the re-centrifugal concentration step are repeated again. The manufacturing method of the said copper nano ink can suppress the content rate of the impurity in the copper nano ink obtained by having the said water addition process and the re-centrifugal concentration process lower.

上記水添加工程は、遠心分離機13で遠心分離された銅ナノ粒子濃縮液Eに水を添加することで行われる。上記水添加工程における銅ナノ粒子100質量部に対する水の添加量の下限としては、150質量部が好ましく、300質量部がより好ましい。一方、上記添加量の上限としては、1000質量部が好ましく、800質量部がより好ましい。上記添加量が上記下限に満たないと、上記水添加工程及び再遠心濃縮工程の回数が多くなり、銅ナノインクの製造効率が十分に向上されないおそれがある。逆に、上記添加量が上記上限を超えると、水の添加に起因して銅ナノ粒子が酸化凝集するおそれがある。   The water addition step is performed by adding water to the copper nanoparticle concentrate E that has been centrifuged by the centrifuge 13. As a minimum of the addition amount of the water with respect to 100 mass parts of copper nanoparticles in the above-mentioned water addition process, 150 mass parts is preferred and 300 mass parts is more preferred. On the other hand, the upper limit of the addition amount is preferably 1000 parts by mass, and more preferably 800 parts by mass. If the addition amount is less than the lower limit, the number of the water addition step and the re-centrifugal concentration step increases, and the production efficiency of the copper nanoink may not be sufficiently improved. On the contrary, when the addition amount exceeds the upper limit, the copper nanoparticles may be oxidized and aggregated due to the addition of water.

<解粒工程>
上記解粒工程では、水添加後の銅ナノ粒子濃縮液Eに超音波を照射したり、この銅ナノ粒子濃縮液Eを高圧ホモジナイザー、ミキサー等の公知の装置で処理することで銅ナノ粒子を液中に分散させる。上記解粒工程は、例えば上記遠心濃縮工程で遠心分離された銅ナノ粒子濃縮液Eを水添加前又は水添加後に遠心分離機13外に排出したうえで行うことができる。
<Granulation process>
In the pulverization step, the copper nanoparticle concentrate E after the addition of water is irradiated with ultrasonic waves, or the copper nanoparticle concentrate is processed by a known apparatus such as a high-pressure homogenizer or a mixer. Disperse in the liquid. The said pulverization process can be performed after discharging | emitting the copper nanoparticle concentrate E centrifuged by the said centrifugal concentration process out of the centrifuge 13 before water addition or after water addition, for example.

<再遠心濃縮工程>
上記再遠心濃縮工程は、上記水添加工程で水が添加された銅ナノ粒子濃縮液Eを遠心分離機13で遠心分離することで行われる。上記再遠心濃縮工程では、上記解粒工程によって銅ナノ粒子を液中に分散させた後に、銅ナノ粒子濃縮液Eを遠心分離することが好ましい。
<Recentrifugal concentration step>
The re-centrifugal concentration step is performed by centrifuging the copper nanoparticle concentrate E to which water has been added in the water addition step with the centrifuge 13. In the re-centrifugation concentration step, it is preferable that the copper nanoparticle concentrate E is centrifuged after the copper nanoparticles are dispersed in the liquid by the pulverization step.

[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
[Other Embodiments]
The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is not limited to the configuration of the embodiment described above, but is defined by the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims. The

例えば上記実施形態では、膜濃縮工程の後に遠心濃縮工程を行う方法について説明したが、当該銅ナノインクの製造方法は、遠心濃縮工程を膜濃縮工程の前に行ってもよい。また、当該銅ナノインクの製造方法は、必ずしも図2の製造装置1を用いて行わなくてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the method of performing the centrifugal concentration step after the membrane concentration step has been described. However, in the method for producing the copper nano ink, the centrifugal concentration step may be performed before the membrane concentration step. Moreover, the manufacturing method of the said copper nano ink does not necessarily need to be performed using the manufacturing apparatus 1 of FIG.

以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

[No.1]
(銅ナノ粒子分散液の調製)
液相還元法によって銅ナノ粒子分散液を製造した。具体的には、還元剤としての三塩化チタン溶液800g(0.1M)、pH調整剤としての炭酸ナトリウム500g、錯化剤としてのクエン酸ナトリウム900g、及び分散剤としてのポリビニルピロリドン(分子量30000)10gをビーカー内で純水10Lに溶解させ、この水溶液を35℃に保温した。また、この水溶液と同温度(35℃)で保温した硝酸銅三水和物100g(0.04M)の水溶液を攪拌しながら2秒で添加することで銅ナノ粒子25gを析出させた。この銅ナノ粒子の平均粒子径は15nmであった。
[No. 1]
(Preparation of copper nanoparticle dispersion)
A copper nanoparticle dispersion was prepared by a liquid phase reduction method. Specifically, 800 g (0.1 M) of a titanium trichloride solution as a reducing agent, 500 g of sodium carbonate as a pH adjusting agent, 900 g of sodium citrate as a complexing agent, and polyvinylpyrrolidone as a dispersing agent (molecular weight 30000) 10 g was dissolved in 10 L of pure water in a beaker, and the aqueous solution was kept at 35 ° C. Moreover, 25 g of copper nanoparticles were deposited by adding an aqueous solution of 100 g (0.04 M) of copper nitrate trihydrate kept at the same temperature (35 ° C.) as this aqueous solution in 2 seconds while stirring. The average particle diameter of the copper nanoparticles was 15 nm.

(膜濃縮工程)
上記銅ナノ粒子分散液を分画分子量10000の限外濾過膜を用いてクロスフロー濾過し、脱塩しながら銅ナノ粒子の濃度が4質量%になるまで20倍濃縮した。また、クロスフロー濾過を行うに際して、銅ナノ粒子分散液の流路に100ml/minで窒素ガスを供給し続けた。
(Membrane concentration process)
The copper nanoparticle dispersion was subjected to cross flow filtration using an ultrafiltration membrane with a molecular weight cut off of 10,000, and concentrated 20 times until the concentration of copper nanoparticles reached 4% by mass while desalting. Further, when performing cross flow filtration, nitrogen gas was continuously supplied to the flow path of the copper nanoparticle dispersion at 100 ml / min.

(遠心濃縮工程)
上記膜濃縮工程によって濃縮された銅ナノ粒子濃縮液を、日立工機株式会社製ロータ「P70AT」を用い、50000rpmの超遠心で1時間、最大遠心加速度70000Gで、銅ナノ粒子濃縮液及び液相に遠心分離した。
(Centrifugal concentration process)
Using the rotor “P70AT” manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd., the copper nanoparticle concentrate concentrated by the membrane concentration step is ultracentrifugated at 50000 rpm for 1 hour at a maximum centrifugal acceleration of 70000G, and the copper nanoparticle concentrate and liquid phase Was centrifuged.

(水添加工程及び再遠心濃縮工程)
上記遠心濃縮工程で遠心分離した銅ナノ粒子分散液に純水80g(銅ナノ粒子100質量部に対する添加量320質量部)を添加し、再度上記と同様の条件で遠心濃縮工程を行う手順を2回繰り返した。この再遠心濃縮工程後の銅ナノ粒子濃縮液に純水を加えて銅ナノ粒子の濃度を30質量%とした銅ナノインクを製造した。
(Water addition process and re-centrifugal concentration process)
The procedure for adding 80 g of pure water (addition amount 320 parts by mass with respect to 100 parts by mass of copper nanoparticles) to the copper nanoparticle dispersion liquid centrifuged in the centrifugal concentration process and performing the centrifugal concentration process again under the same conditions as above is 2 Repeated times. Pure water was added to the copper nanoparticle concentrate after the re-centrifugal concentration step to produce a copper nanoink having a copper nanoparticle concentration of 30% by mass.

[No.2〜No.5、No.7〜No.12]
限外濾過膜の分画分子量、遠心濃縮工程における回転数、最大遠心加速度、並びに水添加工程及び再遠心濃縮工程の回数及び純水の添加量を表1の通りとした以外はNo.1と同様にして銅ナノインクを製造した。
[No. 2-No. 5, no. 7-No. 12]
No. 1 except that the molecular weight cut off of the ultrafiltration membrane, the number of rotations in the centrifugal concentration step, the maximum centrifugal acceleration, the number of times of the water addition step and the re-centrifugal concentration step, and the amount of pure water added were as shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, a copper nano ink was produced.

[No.6]
限外濾過膜の分画分子量、遠心濃縮工程における回転数、最大遠心加速度、並びに水添加工程及び再遠心濃縮工程の回数及び純水の添加量を表1の通りとし、かつ上記膜濃縮工程で窒素ガスを供給しなかった以外はNo.1と同様にして銅ナノインクを製造した。
[No. 6]
The molecular weight cutoff of the ultrafiltration membrane, the number of rotations in the centrifugal concentration step, the maximum centrifugal acceleration, the number of water addition steps and the re-centrifugation concentration step, and the amount of pure water added are as shown in Table 1, and in the membrane concentration step No. except that nitrogen gas was not supplied. In the same manner as in Example 1, a copper nano ink was produced.

[No.13]
上記遠心濃縮工程における回転数、最大遠心加速度、並びに水添加工程及び再遠心濃縮工程の回数及び純水の添加量を表1の通りとし、かつ上記膜濃縮工程を行わなかった以外はNo.1と同様にして銅ナノインクを製造した。なお、No.13では、上記膜濃縮工程を行わないため、上記遠心濃縮工程における銅ナノ粒子分散液の処理量が多くなり、1回1時間の超遠心を34サイクル行うことが必要であった。
[No. 13]
Table 1 shows the rotational speed, maximum centrifugal acceleration, the number of times of the water addition step and the re-centrifugation concentration step, and the amount of pure water added in the centrifugal concentration step. In the same manner as in Example 1, a copper nano ink was produced. In addition, No. In No. 13, since the membrane concentration step was not performed, the amount of the copper nanoparticle dispersion in the centrifugal concentration step was increased, and it was necessary to perform 34 cycles of ultracentrifugation once per hour.

[No.14]
上記遠心濃縮工程における回転数、最大遠心加速度、並びに水添加工程及び再遠心濃縮工程の回数及び純水の添加量を表1の通りとし、上記遠心濃縮工程における遠心時間を3分とし、かつ上記膜濃縮工程を行わなかった以外はNo.1と同様にして銅ナノインクを製造した。なお、No.14でも、上記膜濃縮工程を行わないため、上記遠心濃縮工程における銅ナノ粒子分散液の処理量が多くなり、1回3分の超遠心を34サイクル行うことが必要であった。
[No. 14]
The number of rotations in the centrifugal concentration step, the maximum centrifugal acceleration, the number of water addition steps and the re-centrifugal concentration step, and the amount of pure water added are as shown in Table 1, the centrifugation time in the centrifugal concentration step is 3 minutes, and the above No. except that the membrane concentration step was not performed. In the same manner as in Example 1, a copper nano ink was produced. In addition, No. 14 does not carry out the membrane concentration step, the processing amount of the copper nanoparticle dispersion liquid in the centrifugal concentration step is increased, and it is necessary to carry out 34 cycles of ultracentrifugation once for 3 minutes.

[No.15]
(膜濃縮工程)
No.1と同様の銅ナノ粒子分散液を分画分子量10000の限外濾過膜を用いてクロスフロー濾過し、脱塩しながら銅ナノ粒子の濃度が4質量%になるまで20倍濃縮した。また、クロスフロー濾過を行うに際して、銅ナノ粒子分散液の流路に100ml/minで窒素ガスを供給し続けた。
[No. 15]
(Membrane concentration process)
No. The copper nanoparticle dispersion similar to 1 was subjected to cross flow filtration using an ultrafiltration membrane having a fractional molecular weight of 10,000, and concentrated 20 times until the concentration of copper nanoparticles reached 4% by mass while desalting. Further, when performing cross flow filtration, nitrogen gas was continuously supplied to the flow path of the copper nanoparticle dispersion at 100 ml / min.

(水添加工程及び再膜濃縮工程)
上記膜濃縮工程によって濃縮された銅ナノ粒子濃縮液に純水80g(銅ナノ粒子100質量部に対する添加量320質量部)を添加し、再度上記と同様の条件で膜濃縮工程を行う手順を2回繰り返した。この再膜濃縮工程後の銅ナノ粒子濃縮液に純水を加えて銅ナノ粒子の濃度を4質量%とした銅ナノインクを製造した。
(Water addition process and re-membrane concentration process)
The procedure for adding 80 g of pure water (addition amount 320 parts by mass with respect to 100 parts by mass of copper nanoparticles) to the copper nanoparticle concentrate concentrated by the membrane concentration step and performing the membrane concentration step again under the same conditions as above is 2 Repeated times. Pure water was added to the copper nanoparticle concentrate after the remembrane concentration step to produce a copper nanoink having a copper nanoparticle concentration of 4 mass%.

[No.16]
上記水添加工程における純水の添加量、並びに上記水添加工程及び再膜濃縮工程の回数を表2の通りとした以外はNo.15と同様にして銅ナノインクを製造した。
[No. 16]
Except that the amount of pure water added in the water addition step and the number of times of the water addition step and the re-membrane concentration step are as shown in Table 2, In the same manner as in Example 15, a copper nano ink was produced.

Figure 2018127712
Figure 2018127712

Figure 2018127712
Figure 2018127712

<SEM径>
No.1〜No.16で製造された銅ナノインクについて、銅ナノインクに含まれる銅ナノ粒子をそれぞれ任意に100個抽出し、これらの銅ナノ粒子の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、粒子径の小さい順に積算した際の累積体積が50%となる粒子径を求めた。この粒子径(SEM径)を表3に示す。なお、No.15については、銅ナノ粒子が不純物に埋没してSEM径が測定できず、No.16については、銅ナノ粒子が酸化凝集し過ぎてSEM径が測定できなかった。
<SEM diameter>
No. 1-No. As for the copper nano ink produced in No. 16, 100 copper nanoparticles contained in the copper nano ink were arbitrarily extracted, and the surfaces of these copper nanoparticles were observed with a scanning electron microscope (SEM). The particle diameter at which the cumulative volume upon integration was 50% was determined. Table 3 shows the particle diameter (SEM diameter). In addition, No. For No. 15, the copper nanoparticles were buried in impurities and the SEM diameter could not be measured. For No. 16, the copper nanoparticles were excessively oxidized and aggregated, and the SEM diameter could not be measured.

<粒度分布径>
No.1〜No.16で製造された銅ナノインクについて、マイクロトラック・ベル株式会社製の粒度分布系「Nanotrac Wave−EX150」を用い、体積累積分布から算出される平均粒子径D50を粒度分布径として求めた。この粒度分布径を表3に示す。
<Particle size distribution diameter>
No. 1-No. For copper nano ink produced in 16, using a particle size distribution based made Microtrac Bell Inc. "Nanotrac Wave-EX150", to obtain an average particle diameter D 50 which is calculated from the cumulative volume distribution as a size distribution diameter. The particle size distribution diameter is shown in Table 3.

<沈殿の有無>
No.1〜No.16で製造された銅ナノインクについて、製造後1週間静置した後の沈殿の有無を目視にて確認し、以下の基準で評価した。この評価結果を表3に示す。
A:沈殿物が認められない
B:わずかに沈殿物が認められる
C:多量の沈殿物が認められる
<Presence / absence of precipitation>
No. 1-No. About the copper nano ink manufactured by No. 16, the presence or absence of precipitation after leaving still for one week after manufacture was confirmed visually, and the following criteria evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.
A: No precipitate is observed B: Slight precipitate is observed C: A large amount of precipitate is observed

Figure 2018127712
Figure 2018127712

[評価結果]
表3に示すように、No.15では、上記遠心濃縮工程を行っていないため、脱塩が十分に行われず不純物が多くSEM径が測定できなかった。また、No.16では、多量の純水を添加することで上記遠心濃縮工程を行わなくても一定程度濃縮を行うことができたが、多量の純水を使用したことで銅ナノ粒子が酸化凝集し、SEM径が測定できず、かつ粒度分布径が5000nmと非常に大きくなった。さらに、No.13では、上記膜濃縮工程を行わないことから、上記遠心濃縮工程で10Lの銅ナノ粒子分散液を処理する必要があり、上記遠心濃縮工程の処理時間が非常に長くなった。具体的には、10Lの銅ナノ粒子分散液の処理に34サイクル要し、銅ナノ粒子分散液の入れ替え時間を含めて約35時間かかり、生産性が極めて低かった。また、No.14では、No.13に対して遠心時間を3分に短縮することで全体の製造時間は短縮できたが、上記遠心濃縮工程で小さい粒子が十分に分離できず、また銅ナノ粒子分散液の入れ替え時に銅ナノ粒子が大気に接触することで銅ナノ粒子が酸化凝集し、得られる銅ナノ粒子が大粒径化し、SEM径及び粒度分布径が共に大きくなった。
[Evaluation results]
As shown in Table 3, no. In No. 15, since the centrifugal concentration step was not performed, desalting was not sufficiently performed, and there were many impurities, and the SEM diameter could not be measured. No. In No. 16, the addition of a large amount of pure water enabled a certain level of concentration without performing the centrifugal concentration step. However, the use of a large amount of pure water causes the copper nanoparticles to oxidize and aggregate, resulting in SEM. The diameter could not be measured, and the particle size distribution diameter was as large as 5000 nm. Furthermore, no. In No. 13, since the membrane concentration step was not performed, it was necessary to process a 10 L copper nanoparticle dispersion in the centrifugal concentration step, and the processing time of the centrifugal concentration step was very long. Specifically, 34 cycles were required for treatment of 10 L of the copper nanoparticle dispersion, and it took about 35 hours including the replacement time of the copper nanoparticle dispersion, and the productivity was extremely low. No. 14, no. Although the total production time could be shortened by shortening the centrifugation time to 3 minutes with respect to 13, small particles could not be sufficiently separated in the centrifugal concentration step, and the copper nanoparticles were replaced when the copper nanoparticle dispersion was replaced. As a result of contact with the atmosphere, the copper nanoparticles were oxidized and aggregated, the resulting copper nanoparticles were increased in size, and both the SEM diameter and the particle size distribution diameter were increased.

これに対し、上記膜濃縮工程及び遠心濃縮工程を共に行ったNo.1〜No.12は、SEM径が80nm以下、粒度分布径が200nm以下に抑えられており、また沈殿物もほとんど認められていない。中でも、上記膜濃縮工程で銅ナノ粒子分散液の流路に窒素ガスを供給する場合、限外濾過膜の分画分子量が6000以上10000以下である場合、及び上記遠心濃縮工程における回転数が50000rpm以上かつ遠心加速度が70000G以上である場合にSEM径及び粒度分布径が小さくなっている。特に、上記条件をいずれも満たすNo.1、No.2、No.9〜No.12はSEM径及び粒度分布径が共に低くなっている。   On the other hand, No. which performed both the said membrane concentration process and the centrifugal concentration process. 1-No. No. 12 has an SEM diameter of 80 nm or less, a particle size distribution diameter of 200 nm or less, and almost no precipitate is observed. Among them, when supplying nitrogen gas to the flow path of the copper nanoparticle dispersion in the membrane concentration step, when the molecular weight cut off of the ultrafiltration membrane is 6000 or more and 10,000 or less, and the rotation speed in the centrifugal concentration step is 50000 rpm. When the centrifugal acceleration is 70,000 G or more, the SEM diameter and the particle size distribution diameter are small. In particular, no. 1, no. 2, no. 9-No. No. 12 has a low SEM diameter and particle size distribution diameter.

また、No.1、No.9〜No.12から分かるように、1回あたりの純水の添加量が80g以下(銅ナノ粒子100質量部に対して320質量部以下)である場合、純水の添加に起因する銅ナノ粒子の酸化凝集が抑えられ、SEM径及び粒度分布径が共に小さくなっている。さらに、1回あたりの純水の添加量が十分に少ない場合、純水の添加回数が増加しても銅ナノ粒子のSEM径及び粒度分布径は小さく抑えられている。但し、純水の添加回数が5回であるNo.11は、遠心機への付着に起因するロスが多くなり、歩留まりを十分に向上できなかった。   No. 1, no. 9-No. As can be seen from FIG. 12, when the amount of pure water added is 80 g or less (320 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of copper nanoparticles), oxidative aggregation of copper nanoparticles due to the addition of pure water The SEM diameter and the particle size distribution diameter are both reduced. Further, when the amount of pure water added per time is sufficiently small, the SEM diameter and the particle size distribution diameter of the copper nanoparticles are kept small even if the number of times pure water is added is increased. However, no. In No. 11, the loss due to adhesion to the centrifuge increased, and the yield could not be sufficiently improved.

以上のように、本発明の銅ナノインクの製造方法は、高濃度かつ微細な銅ナノインクを容易に製造することができるので、プリント配線板の焼結層形成用銅ナノインクの製造方法として適している。   As described above, the method for producing a copper nano ink of the present invention can easily produce a high concentration and fine copper nano ink, and is therefore suitable as a method for producing a copper nano ink for forming a sintered layer of a printed wiring board. .

1 製造装置
2 膜濃縮部
3 遠心濃縮部
11 分散液貯留槽
12 膜濃縮槽
12a 限外濾過膜
13 遠心分離機
21a 分散液供給管
21b 不活性ガス供給管
21c 分散液排出管
21d 還流管
21e 排出管
21f 濃縮液供給管
22 ポンプ
23 切替バルブ
A 銅ナノ粒子分散液
B 不活性ガス
C 銅ナノ粒子濃縮液
D 液相
E 銅ナノ粒子濃縮液
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Manufacturing apparatus 2 Membrane concentration part 3 Centrifugal concentration part 11 Dispersion liquid storage tank 12 Membrane concentration tank 12a Ultrafiltration membrane 13 Centrifuge 21a Dispersion liquid supply pipe 21b Inert gas supply pipe 21c Dispersion liquid discharge pipe 21d Reflux pipe 21e Discharge Pipe 21f Concentrated liquid supply pipe 22 Pump 23 Switching valve A Copper nanoparticle dispersion B Inert gas C Copper nanoparticle concentrate D Liquid phase E Copper nanoparticle concentrate

Claims (6)

液相還元法によって得られた平均粒子径50nm以下の銅ナノ粒子分散液を用いた銅ナノインクの製造方法であって、
上記銅ナノ粒子分散液から限外濾過膜で液相を分離する膜濃縮工程と、
上記銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する遠心濃縮工程と
を備える銅ナノインクの製造方法。
A method for producing a copper nano ink using a copper nanoparticle dispersion liquid having an average particle diameter of 50 nm or less obtained by a liquid phase reduction method,
A membrane concentration step of separating the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion with an ultrafiltration membrane;
A method for producing a copper nano ink, comprising: a centrifugal concentration step of centrifuging a liquid phase from the copper nanoparticle dispersion.
上記膜濃縮工程の後に上記遠心濃縮工程を行う請求項1に記載の銅ナノインクの製造方法。   The method for producing a copper nano ink according to claim 1, wherein the centrifugal concentration step is performed after the membrane concentration step. 上記限外濾過膜の分画分子量が3000以上50000以下である請求項1又は請求項2に記載の銅ナノインクの製造方法。   The method for producing a copper nano ink according to claim 1 or 2, wherein the ultrafiltration membrane has a molecular weight cut-off of 3,000 to 50,000. 上記遠心濃縮工程における遠心加速度が20000G以上である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の銅ナノインクの製造方法。   The method for producing a copper nano ink according to claim 1, wherein the centrifugal acceleration in the centrifugal concentration step is 20000 G or more. 上記遠心濃縮工程後に、処理対象の銅ナノ粒子分散液に水を加える水添加工程と、
上記水添加工程後の銅ナノ粒子分散液から液相を遠心分離する再遠心濃縮工程と
を備え、
上記水添加工程における銅ナノ粒子100質量部に対する水の添加量が150質量部以上1000質量部以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の銅ナノインクの製造方法。
After the centrifugal concentration step, a water addition step of adding water to the copper nanoparticle dispersion to be treated,
A re-centrifugation concentration step of centrifuging the liquid phase from the copper nanoparticle dispersion after the water addition step,
5. The method for producing a copper nano ink according to claim 1, wherein an amount of water added to 100 parts by mass of the copper nanoparticles in the water addition step is 150 parts by mass or more and 1000 parts by mass or less.
上記膜濃縮工程で銅ナノ粒子分散液の流路に不活性ガスを供給する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の銅ナノインクの製造方法。   The method for producing a copper nano ink according to any one of claims 1 to 5, wherein an inert gas is supplied to the flow path of the copper nanoparticle dispersion in the film concentration step.
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