JP2018122282A - 水素分離膜 - Google Patents
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Abstract
【課題】急熱急冷の伴う使用においても剥離・クラック等の膜欠陥を生じることなく高い透過分離性能を維持する水素分離膜の提供。
【解決手段】平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材であって、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、ミクロ多孔質層3にPdナノ粒子が固定化されている水素分離膜。Pdをナノ粒子化することで、水素吸蔵・放出に伴う応力及び急熱急冷にともなう熱応力を最小化し、剥離・クラックによる膜分離性能低下を抑制する水素分離膜。
【選択図】図3
【解決手段】平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材であって、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、ミクロ多孔質層3にPdナノ粒子が固定化されている水素分離膜。Pdをナノ粒子化することで、水素吸蔵・放出に伴う応力及び急熱急冷にともなう熱応力を最小化し、剥離・クラックによる膜分離性能低下を抑制する水素分離膜。
【選択図】図3
Description
本発明は、混合ガスから水素を選択的に透過分離させる、水素分離膜に関する。
水素は従来から様々な分野で利用されてきたが、近年はクリーンなエネルギー源として、その利用の更なる拡大が期待されている。効率の良い新たな水素製造方法の開発や水素利用の多様化に伴い、水素を高効率に取り出して利用するための分離・精製技術の高度化も求められている。
水素を分離・精製させる技術としては、パラジウム(Pd)を主体とする膜(以下、Pd膜と呼ぶ)を利用する方法が知られている。一方で、Pd膜ではPd層が厚くなると水素透過速度が低下し、さらには高価なPdの使用量が増加して非経済的になってしまうことが問題視されている。そのため近年ではアルミナ、ジルコニア、ムライト、シリカ等のセラミック材料で構成された多孔質セラミック基材上へのPdの薄膜化が試みられている。
例えば特許文献1では、無電解メッキ法により、細孔径10〜800μmの円筒型多孔質アルミナ上にピンホール等の欠陥のない厚さ5μmのPd薄膜を形成させている。また特許文献2では、Pd使用量の削減および表面からの剥がれおよび損傷を防止するため、細孔径0.1μmのα−アルミナ製の多孔質基材内へのPd層の形成を行っている。
一方で、Pd膜を実用的に利用しようとした際、水素吸蔵・放出に伴う応力発生、および例えば起動・停止など運転条件にともなう加熱・降温時の熱応力発生は不可避である。そのため熱膨張の異なるセラミックとPdの複合膜では、急熱または急冷時にすぐに剥離・クラック等の膜欠陥が生じてしまうため、実用的な利用範囲が制限されているのが実情である。
本発明の目的は、かかる従来の問題点を鑑みてなされたものであり、急熱急冷の伴う使用においても剥離・クラック等の膜欠陥を生じることなく高い透過分離性能を維持する水素分離膜を提供する。
上記の目的を達成するために、請求項1の発明は、水素分離膜が平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材であって、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で構成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、ミクロ多孔質層にPdナノ粒子が固定化されていることを特徴としている。
請求項2の発明は、請求項1の水素分離膜において、ミクロ多孔質層の厚みが0.01〜5μmであることを特徴としている。
請求項3の発明は、請求項1の水素分離膜において、ミクロ多孔質層の主成分がシリカであることを特徴としている。
請求項1の発明は、平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材によって構成された水素分離膜の中でも、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で構成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、更にミクロ多孔質層にPdナノ粒子が固定化された構造を有することにより、単純に多孔質基材上にPd膜を形成させただけでは得ることのできない、予想外に高い顕著な応力耐性と水素透過分離性能を発揮するという効果を奏する。
請求項2の発明は、請求項1の水素分離膜においてミクロ多孔質層の厚みを0.01〜5μmとすることで、1×10−6モル/(m2・s・Pa)以上の優れた水素透過度を発揮するという効果を奏する。
請求項3の発明は、請求項1の水素分離膜において、ミクロ多孔質層の主成分をシリカとすることで、Pdナノ粒子との複合膜化において、予想外に高い顕著な熱応力耐性を発揮するという効果を奏する。
次に、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明による水素分離膜は、図1に示すように、平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材であって、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で構成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、ミクロ多孔質層にPdナノ粒子が固定化されていることを特徴としている。尚、ここでは直径2nm以下の細孔をミクロ孔、直径2〜50nmの細孔をメソ孔、直径50nm以上の細孔をマクロ孔と表記する。
マクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1としては、300℃以上の耐熱性を持つものが好ましく、α−アルミナ、ジルコニア、ムライト、酸化チタン、シリカ等のセラミック材料で構成された多孔質セラミック基材、およびステンレス多孔質体などの多孔質金属基材が利用できる。多孔質基材の形状は、平板状、円筒型状、モノリス状など、利用目的に応じて選ぶことができる。
メソ孔またはマクロ孔で構成された多孔質中間層2としては、マクロ多孔質層1とミクロ多孔質3の中間の平均細孔径とし、マクロ多孔質層1とミクロ多孔質3の熱応力の影響を緩和するため、素材はマクロ多孔質層1またはミクロ多孔質3と同様のもの、複合化させたもの、あるいは中間の熱膨張係数をもつものを用いることが好ましい。
ミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3としては、シリカやゼオライトなどで形成されたミクロ多孔質膜が考えられる。ただしミクロ多孔質層の厚みが増加するにつれ水素透過度は大きく減少するため、実用的に必要な1×10−6モル/(m2・s・Pa)以上の優れた水素透過度を発揮させるには、ミクロ多孔質層の厚みを0.01〜5μm、望ましくは0.01〜1μmとするのが良い。
例えばシリカ膜であれば、ゾル−ゲル法により0.1〜1μmの膜厚のミクロ多孔質シリカ層が形成できることが知られている。
尚、ミクロ多孔質層3が薄くなり機械的強度が低下する場合には、ミクロ多孔質層3の表面に保護層を設けても良い。
例えばシリカ膜であれば、ゾル−ゲル法により0.1〜1μmの膜厚のミクロ多孔質シリカ層が形成できることが知られている。
尚、ミクロ多孔質層3が薄くなり機械的強度が低下する場合には、ミクロ多孔質層3の表面に保護層を設けても良い。
ミクロ多孔質層3へのPdナノ粒子の固定化は、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウム(II)アセチルアセトナートなどのPd源を溶解させた溶液を基材表面および内部に塗布、乾燥することで行うことができる。ミクロ多孔質層内でPdの粒子化を行うことで、形成されるPdの粒子径は2nm以下に制御される。
ここで、Pdには温度、水素濃度、圧力によってα相とβ相の形態で存在することが知られている。そのため水素吸蔵・放出に伴う応力発生や加熱・降温に伴う熱応力発生は不可避である。一方で、Pdを2nm以下にまでナノ粒子化させるとPdのα相とβ相で格子定数の違いがほとんど無くなるため、α相とβ相の転移による応力発生を最小化させることが期待できる。これにより、急熱急冷の伴う使用においても剥離・クラック等の膜欠陥を生じることなく高い透過分離性能を維持する水素分離膜となることが期待される。
ここで、Pdには温度、水素濃度、圧力によってα相とβ相の形態で存在することが知られている。そのため水素吸蔵・放出に伴う応力発生や加熱・降温に伴う熱応力発生は不可避である。一方で、Pdを2nm以下にまでナノ粒子化させるとPdのα相とβ相で格子定数の違いがほとんど無くなるため、α相とβ相の転移による応力発生を最小化させることが期待できる。これにより、急熱急冷の伴う使用においても剥離・クラック等の膜欠陥を生じることなく高い透過分離性能を維持する水素分離膜となることが期待される。
図2に、本発明における水素分離膜の水素透過分離機構の模式図を示す。Pdナノ粒子がミクロ多孔質層に固定化させることで、ミクロ細孔が閉塞されて他のガスは実質膜透過できなくなる。一方で、水素はPd粒子中を溶解拡散することができるため、膜を選択的に透過分離することができる。高い水素透過性能を得るためには、Pd中の水素溶解拡散を促進させるため、高温条件下、例えば300℃以上での運転が好ましい。
次に、本発明の水切り乾燥装置および方法の実施例について説明するが、本発明は、本実施例に特に限定されるものではない。
[水素分離膜の製造例]
(多層多孔質基材の構成例)
マクロ多孔質層1として、細孔径1〜5μmの円筒状α−アルミナ管(直径12mm、岩尾磁気工業(株)製)を20cmに切断したもの利用し、その上層部に約200nmの粒子径をもつα−アルミナ微粒子層を塗布することで、メソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2を形成した。その後多孔質中間層2の上層部にゾル−ゲル法によりシリカを塗布し、ミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を形成した。図3に実施例で利用される多孔質基材の典型的な膜断面SEM写真を示す。膜断面SEM像より、ミクロ多孔質シリカ層の厚みは0.5〜1μm程度であると判断された。またミクロ多孔質層の細孔径は、定法であるパームポロメトリー法を用い、主たる細孔径は1〜2nmであると測定された。
(Pdナノ粒子の固定化)
上記で形成した多層多孔質基材を利用し、酢酸パラジウム(東京化成工業株式会社製))をエタノール中に溶かして0.1モル/Lとした溶液をミクロ多孔質層3の上に塗布し、650℃にて加熱乾燥およびPdの粒子化・固定化を行った。
(多層多孔質基材の構成例)
マクロ多孔質層1として、細孔径1〜5μmの円筒状α−アルミナ管(直径12mm、岩尾磁気工業(株)製)を20cmに切断したもの利用し、その上層部に約200nmの粒子径をもつα−アルミナ微粒子層を塗布することで、メソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2を形成した。その後多孔質中間層2の上層部にゾル−ゲル法によりシリカを塗布し、ミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を形成した。図3に実施例で利用される多孔質基材の典型的な膜断面SEM写真を示す。膜断面SEM像より、ミクロ多孔質シリカ層の厚みは0.5〜1μm程度であると判断された。またミクロ多孔質層の細孔径は、定法であるパームポロメトリー法を用い、主たる細孔径は1〜2nmであると測定された。
(Pdナノ粒子の固定化)
上記で形成した多層多孔質基材を利用し、酢酸パラジウム(東京化成工業株式会社製))をエタノール中に溶かして0.1モル/Lとした溶液をミクロ多孔質層3の上に塗布し、650℃にて加熱乾燥およびPdの粒子化・固定化を行った。
[水素透過分離試験]
(実施例1)
製造した水素分離膜の水素透過分離性能を検討するため、ステンレス製のモジュールに膜を取付け、水素とSF6のガス透過性を比較した。ここで、急激な温度変化への耐性を検討するため、室温から300℃まで急熱し、ガス透過測定は300℃におけるものを比較した。
(実施例1)
製造した水素分離膜の水素透過分離性能を検討するため、ステンレス製のモジュールに膜を取付け、水素とSF6のガス透過性を比較した。ここで、急激な温度変化への耐性を検討するため、室温から300℃まで急熱し、ガス透過測定は300℃におけるものを比較した。
(比較例1)
実施例1において、多孔質中間層2の上部にミクロ多孔質層3を設けることなく、代わりに多孔質中間層2の上部に直接Pd層を形成させ、同様の試験を行った。
実施例1において、多孔質中間層2の上部にミクロ多孔質層3を設けることなく、代わりに多孔質中間層2の上部に直接Pd層を形成させ、同様の試験を行った。
(比較例2)
実施例1において、ミクロ多孔質層3の代わりにメソ多孔質層を形成させ、同様の試験を行った。
実施例1において、ミクロ多孔質層3の代わりにメソ多孔質層を形成させ、同様の試験を行った。
(比較例3)
実施例1において、ミクロ多孔質層3にPdナノ粒子を塗布する工程を省き、同様の試験を行った。
実施例1において、ミクロ多孔質層3にPdナノ粒子を塗布する工程を省き、同様の試験を行った。
表1に実施例1と比較例1〜3の評価結果を示す。
水素透過度が1×10−6モル/(m2・s・Pa)未満のものは産業上有益ではないため、表1では水素透過度が1×10−6モル/(m2・s・Pa)以上のものについて比較・検討した。表1に示す通り、実施例1においては1×10−6モル/(m2・s・Pa)以上の優れた水素透過度と、水素分離性能(H2/SF6)50以上の有意な水素分離選択性が確認された。ここで、実施例1の水素分離膜では、急熱しても分離性能は維持された。繰り返し急熱しても分離性能が維持されたことから、熱応力に対する耐性に優れていると判断した。
一方で、比較例1の水素分離膜では、急熱前は優れた分離性能を発揮していたが、急熱を行うと水素分離性能は100以上から3未満まで低下した。急熱後に膜剥離・膜欠陥が生じることによって分離性能が大きく損なわれてしまったことから、熱応力に対する耐性に乏しいと判断された。また比較例2および比較例3の場合は、急熱後も分離性能に変化は見られず応力耐性は優れていると判断されたが、水素分離性能が乏しかった。
水素分離膜において、本発明の形態を用いることで、予想外に高い顕著な応力耐性と水素透過分離性能を得ることができることを見出した。
一方で、比較例1の水素分離膜では、急熱前は優れた分離性能を発揮していたが、急熱を行うと水素分離性能は100以上から3未満まで低下した。急熱後に膜剥離・膜欠陥が生じることによって分離性能が大きく損なわれてしまったことから、熱応力に対する耐性に乏しいと判断された。また比較例2および比較例3の場合は、急熱後も分離性能に変化は見られず応力耐性は優れていると判断されたが、水素分離性能が乏しかった。
水素分離膜において、本発明の形態を用いることで、予想外に高い顕著な応力耐性と水素透過分離性能を得ることができることを見出した。
本発明により、急熱急冷の伴う使用においても剥離・クラック等の膜欠陥を生じることなく高い透過分離性能を維持する水素分離膜を提供することができる。また高価なPdの使用量が少ないため、産業界で必要な水素分離膜を経済的に提供することができる。
1 マクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1
2 メソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2
3 ミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3
2 メソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2
3 ミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3
Claims (3)
- 平均細孔径の異なる少なくとも3層以上の多層構造を有する多孔質基材であって、平均細孔径0.1〜20μmのマクロ孔で形成されたマクロ多孔質層1に接して多孔質層1よりも平均細孔径の小さなメソ孔またはマクロ孔で形成された多孔質中間層2を有し、多孔質中間層2に接して多孔質中間層2よりも平均細孔径の小さなミクロ孔で形成されたミクロ多孔質層3を有し、ミクロ多孔質層3にPdナノ粒子が固定化されていることを特徴とする水素分離膜。
- 請求項1のミクロ多孔質層の厚みが、0.01〜5μmであることを特徴とする、水素分離膜。
- 請求項1のミクロ多孔質層の主成分がシリカであることを特徴とする、水素分離膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017026416A JP2018122282A (ja) | 2017-01-30 | 2017-01-30 | 水素分離膜 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001120969A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-08 | Kyocera Corp | 水素ガス分離フィルタおよびその製造方法 |
JP2005254191A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Noritake Co Ltd | 印刷を用いる水素分離金属膜の製造方法及び水素分離金属膜 |
WO2015146354A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2015-10-01 | 日本碍子株式会社 | モノリス型分離膜構造体及びモノリス型分離膜構造体の製造方法 |
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- 2017-01-30 JP JP2017026416A patent/JP2018122282A/ja active Pending
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