JP2018120893A - Device for measuring component concentration of developer, and developer management device - Google Patents

Device for measuring component concentration of developer, and developer management device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a component concentration measuring device that accurately calculates concentrations of components such as an alkali component, a dissolved photoresist and absorbed carbon dioxide in a developer showing alkalinity from characteristic values of the developer, and a developer management device that maintains and manages the development performance of a developer in an optimal condition.SOLUTION: A device for measuring a component concentration of a developer includes: a measuring part 1 for measuring a plurality of characteristic values of a developer that is repeatedly used and exhibits alkalinity, the characteristic values having correlation with component concentrations of the developer; a computing part 2 for calculating the component concentrations of the developer by multivariate analysis based on the plurality of characteristic values measured by the measuring part; and a display part DP for displaying at least either the characteristic value measured by the measuring part 1 or the component concentration calculated by the computing part 2.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

半導体や液晶パネルにおける回路基板の現像工程等でフォトレジスト膜を現像するために繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度測定装置、及び現像液管理装置、に関する。   The present invention relates to an alkali concentration developer concentration measuring apparatus and a developer management apparatus that are repeatedly used to develop a photoresist film in a development process of a circuit board in a semiconductor or a liquid crystal panel.

半導体や液晶パネル等における微細配線加工を実現するフォトリソグラフィーの現像工程には、基板の上に製膜されたフォトレジストを溶解する薬液として、アルカリ性を示す現像液(以下、「アルカリ性現像液」という。)が用いられている。   In the development process of photolithography that realizes fine wiring processing in a semiconductor, a liquid crystal panel, etc., as a chemical solution that dissolves the photoresist formed on the substrate, an alkaline developer (hereinafter referred to as “alkaline developer”) is used. .) Is used.

半導体や液晶パネル基板の製造工程では、近年、ウェハやガラス基板の大型化と配線加工の微細化及び高集積化が進められてきた。このような状況下、大型基板の配線加工の微細化、及び高集積化を実現すべく、アルカリ性現像液の主要成分の濃度をより一層高精度に測定して現像液を維持管理することが必要となってきている。   In the manufacturing process of semiconductors and liquid crystal panel substrates, in recent years, the enlargement of wafers and glass substrates and the miniaturization and high integration of wiring processing have been promoted. Under these circumstances, it is necessary to measure and maintain the developer by measuring the concentration of the main component of the alkaline developer with higher accuracy in order to realize finer wiring processing and higher integration of large substrates. It has become.

従来のアルカリ性現像液の成分濃度の測定は、特許文献1に記載されているように、アルカリ性現像液のアルカリ成分の濃度(以下、「アルカリ成分濃度」という。)と導電率との間に良好な直線関係が得られること、及び、アルカリ性現像液に溶解したフォトレジストの濃度(以下、「溶解フォトレジスト濃度」という。)と吸光度との間に良好な直線関係が得られること、を利用したものであった。   As described in Patent Document 1, the measurement of the conventional alkaline developer component concentration is good between the alkali component concentration (hereinafter referred to as “alkaline component concentration”) and the electrical conductivity of the alkaline developer. A linear relationship is obtained, and a good linear relationship is obtained between the concentration of the photoresist dissolved in the alkaline developer (hereinafter referred to as “dissolved photoresist concentration”) and the absorbance. It was a thing.

しかし、アルカリ性現像液は空気中の二酸化炭素を吸収し炭酸塩を生じて劣化しやすい。また、アルカリ性現像液はフォトレジストの溶解によりフォトレジスト塩を生じ、現像処理に有効なアルカリ成分が消費される。そのため、繰返し使用されるアルカリ性現像液は、アルカリ成分ばかりでなく、フォトレジストや二酸化炭素も含む多成分系となっている。そして、それらの成分のそれぞれが異なる寄与度で現像性能に影響を及ぼしている。したがって、現像液の現像性能を高精度に維持管理するためには、これらの成分が現像性能に及ぼす影響をあわせて考慮した現像液管理が必要であった。   However, alkaline developers tend to deteriorate by absorbing carbon dioxide in the air and producing carbonates. Further, the alkaline developer produces a photoresist salt by dissolving the photoresist, and an alkaline component effective for the development processing is consumed. Therefore, the alkaline developer repeatedly used is a multi-component system including not only the alkali component but also a photoresist and carbon dioxide. Each of these components affects development performance with different contributions. Therefore, in order to maintain and manage the developing performance of the developing solution with high accuracy, it is necessary to manage the developing solution in consideration of the influence of these components on the developing performance.

このような問題を解決すべく、特許文献2には、現像液の超音波伝播速度、導電率及び吸光度を測定して、アルカリ濃度、炭酸塩濃度及び溶解樹脂濃度における超音波伝播速度と導電率と吸光度との予め作成された関係(マトリックス)に基づいて現像液のアルカリ濃度、炭酸塩濃度及び溶解樹脂濃度を検出し、測定された現像液のアルカリ濃度、炭酸塩濃度及び溶解樹脂濃度と、CD値(線幅)が一定の値となるような溶解能を発揮し得るアルカリ濃度と炭酸塩濃度と溶解樹脂濃度との予め作成された関係とに基づき、現像液原液の供給を制御してアルカリ濃度を調節する現像液調製装置、等が開示されている。   In order to solve such a problem, Patent Document 2 discloses the ultrasonic propagation velocity, conductivity and conductivity at alkali concentration, carbonate concentration and dissolved resin concentration by measuring the ultrasonic propagation velocity, conductivity and absorbance of the developer. The alkali concentration, carbonate concentration and dissolved resin concentration of the developer are detected based on a previously created relationship (matrix) between the absorbance and the absorbance, and the measured alkali concentration, carbonate concentration and dissolved resin concentration of the developer, Control the supply of the developer stock solution based on the pre-created relationship between the alkali concentration, carbonate concentration and dissolved resin concentration that can exhibit the dissolving ability so that the CD value (line width) becomes a constant value. A developer preparation device for adjusting the alkali concentration is disclosed.

また、特許文献3には、現像液の屈折率、導電率、吸光度を測定して、それらの測定値から現像液中の炭酸系塩類濃度を取得する炭酸系塩類濃度測定装置、及び、この炭酸系塩類濃度測定装置と現像液中の炭酸系塩類濃度を制御する制御部とを備えるアルカリ現像液管理システム、等が開示されている。   Patent Document 3 discloses a carbonate-based salt concentration measuring device that measures the refractive index, conductivity, and absorbance of a developer, and obtains the carbonate-based salt concentration in the developer from the measured values, and the carbonic acid salt. An alkaline developer management system including a system salt concentration measuring device and a control unit that controls a carbonate salt concentration in a developer is disclosed.

特許第2561578号公報Japanese Patent No. 2561578 特開2008−283162号公報JP 2008-283162 A 特開2011−128455号公報JP 2011-128455 A

しかし、アルカリ性現像液の超音波伝播速度値や屈折率値は、多成分系であるアルカリ性現像液の液全体の性質を示す特性値である。このような液全体の性質を示す特性値は、一般に、その液に含まれる特定の成分の濃度のみと相関しているわけではない。このような液全体の性質を示す特性値は、通常、その液に含まれる各種成分の濃度のそれぞれに相関を有する。そのため、現像液の成分濃度をこのような液全体の性質を示す特性値の測定値から演算する場合において、ある特性値がある特定の成分濃度のみと相関する(例えば直線関係にある)として他の成分がその特性値に及ぼす影響を無視すると、当該特定成分の濃度を充分な精度をもって算出することができない、という問題があった。   However, the ultrasonic wave propagation velocity value and refractive index value of the alkaline developer are characteristic values indicating the properties of the whole of the multi-component alkaline developer. Such characteristic values indicating the properties of the entire liquid generally do not correlate only with the concentration of a specific component contained in the liquid. Such characteristic values indicating the properties of the entire liquid generally have a correlation with each of the concentrations of various components contained in the liquid. Therefore, when the component concentration of the developer is calculated from the measured value of the characteristic value indicating the properties of the entire liquid, it is assumed that a certain characteristic value correlates with only a specific component concentration (for example, has a linear relationship). If the influence of the component on the characteristic value is ignored, the concentration of the specific component cannot be calculated with sufficient accuracy.

一方、現像液の特性値が現像液に含まれる各種成分の濃度の関数であるとして現像液の特性値の測定値から各成分濃度を算出する場合には、複数の特性値を測定したうえで、これらの特性値の測定値から各成分濃度を算出するための適切な演算手法を採用することが必要である。しかし、測定すべき特性値を適切に選択することと特性値の測定値から各成分濃度を精度よく算出できる適切な演算手法を見出すことは、いずれも非常に困難である。そのため、測定される特性値と演算手法が適切でなければ、各成分濃度を充分な精度をもって算出することができない、という問題があった。   On the other hand, when calculating the concentration of each component from the measured value of the characteristic value of the developer assuming that the characteristic value of the developer is a function of the concentration of various components contained in the developer, a plurality of characteristic values must be measured. Therefore, it is necessary to employ an appropriate calculation method for calculating the concentration of each component from the measured values of these characteristic values. However, it is very difficult to appropriately select a characteristic value to be measured and find an appropriate calculation method that can accurately calculate the concentration of each component from the measured value of the characteristic value. For this reason, there is a problem that the concentration of each component cannot be calculated with sufficient accuracy unless the measured characteristic value and calculation method are appropriate.

さらに、多成分系の液体では、一般に、ある成分の濃度は他の成分の濃度と互いに独立ではない。多成分系の液体では、ある成分の濃度が変化すると他の成分濃度も同時に変化するという相互関係がある。このことが、高精度な成分濃度の算出及び高精度な現像液管理をより困難なものとしている。   Furthermore, in multicomponent liquids, the concentration of one component is generally not independent of the concentration of another component. In a multi-component liquid, there is a correlation that when the concentration of a certain component changes, the concentration of other components also changes at the same time. This makes it more difficult to calculate the component concentration with high accuracy and to manage the developer with high accuracy.

加えて、現像液に吸収された二酸化炭素の濃度(以下、「吸収二酸化炭素濃度」という。)については、これと良好な相関を示す現像液の適当な特性値が知られておらず、従来は、吸収二酸化炭素濃度を精度よく測定することは困難であった。   In addition, with respect to the concentration of carbon dioxide absorbed in the developer (hereinafter referred to as “absorbed carbon dioxide concentration”), an appropriate characteristic value of the developer showing a good correlation with this is not known. It was difficult to accurately measure the absorbed carbon dioxide concentration.

また、特許文献2では、現像液の成分濃度を検出するために、予め現像液の成分濃度と超音波伝播速度などの特性値との相互関係(マトリックス)を取得しておくことが必要である。しかし、この場合、相互関係(マトリックス)が粗いと、成分濃度を精度よく算出することができない。成分濃度を精度よく算出するためには、演算に用いる現像液の特性値と成分濃度との相互関係(マトリックス)が充分稠密でなければならない。そのため、成分濃度の算出精度を高めようとすればするほど、予めより多くのサンプルを準備し、その成分濃度と現像液の特性値との相互関係を測定しておかなければならない。このような稠密な相互関係(マトリックス)を予め用意することは膨大な作業量であり、現像液の成分濃度の高精度測定を実現するうえでの問題となっていた。特に、現像液の成分濃度を、使用者等が確認できることが、現像液を管理する上で重要である。   Further, in Patent Document 2, in order to detect the component concentration of the developer, it is necessary to obtain a correlation (matrix) between the component concentration of the developer and a characteristic value such as an ultrasonic propagation velocity in advance. . However, in this case, if the mutual relationship (matrix) is rough, the component concentration cannot be calculated with high accuracy. In order to calculate the component concentration with high accuracy, the correlation (matrix) between the characteristic value of the developer used for the calculation and the component concentration must be sufficiently dense. Therefore, as the calculation accuracy of the component concentration is increased, more samples must be prepared in advance, and the correlation between the component concentration and the characteristic value of the developer must be measured. Preparing such a close correlation (matrix) in advance is an enormous amount of work, and has been a problem in realizing high-precision measurement of the developer component concentration. In particular, it is important in managing the developing solution that the user can confirm the component concentration of the developing solution.

本発明は、上記の諸課題を解決すべくなされたものである。本発明は、多成分系である現像液の特性値から現像液の成分濃度を高精度に測定できるとともに、膨大な数量のサンプルの準備や予備測定を要せずに現像液の成分濃度を分析でき、成分濃度を表示できる現像液の成分濃度測定装置、及び、現像液の成分濃度をより一層精密に管理できる現像液管理装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems. The present invention can measure the component concentration of the developer with high accuracy from the characteristic values of the developer which is a multi-component system, and can analyze the component concentration of the developer without preparing a large number of samples and preliminary measurement. An object of the present invention is to provide a developer component concentration measuring device capable of displaying the component concentration and a developer managing device capable of managing the component concentration of the developer more precisely.

前記目的を達成するための本発明は、以下のとおりである。   To achieve the above object, the present invention is as follows.

(1)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を測定する測定部と、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記測定部により測定された前記特性値、及び、前記演算部により算出された前記成分濃度、のうち少なくともいずれか一方、を表示する表示部と、を備える現像液の成分濃度測定装置。   (1) Based on the measurement unit that measures a plurality of characteristic values of the developer that is used repeatedly and has a correlation with the component concentration of the developer that exhibits alkalinity, and the plurality of characteristic values measured by the measurement unit , At least one of a calculation unit that calculates the component concentration of the developer by the multivariate analysis method, the characteristic value measured by the measurement unit, and the component concentration calculated by the calculation unit And a display unit for displaying the component concentration measuring device of the developer.

(2)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、前記測定データ記憶部に記憶された成分濃度のデータを、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、を備える現像液の成分濃度測定装置。   (2) A measuring unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developing solution that are repeatedly used and correlates with a component concentration of the developing solution that exhibits alkalinity, and each time the measuring unit measures the plurality of characteristic values A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, and the component concentration calculated by the calculation unit as a time and A measurement data storage unit that stores together with at least one of the elapsed time from the start of measurement, and the component concentration data stored in the measurement data storage unit from the time stored in the measurement data storage unit or the measurement start And a display unit that displays the graph using the elapsed time of the index as an index.

(3)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記測定部により測定された前記特性値及び前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、前記測定データ記憶部に記憶された特性値及び成分濃度の少なくともいずれか一方を、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、を備える現像液の成分濃度測定装置。   (3) A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that correlates with a component concentration of a developer that exhibits alkalinity, and each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values. A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, and the characteristic value and the calculation unit that are measured by the measurement unit A measurement data storage unit that stores the concentration of the component calculated by the above together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement, and at least one of a characteristic value and a component concentration stored in the measurement data storage unit And a display unit that displays a graph using the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index.

(4)前記表示部に表示するグラフを、前記現像液の特性値のグラフとするか、前記現像液の成分濃度のグラフとするか、切り替える表示切替手段をさらに備える(3)に記載の現像液の成分濃度測定装置。   (4) The development according to (3), further comprising display switching means for switching whether the graph displayed on the display unit is a graph of the characteristic value of the developer or a component concentration of the developer. Liquid component concentration measuring device.

(5)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を測定する測定部と、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記測定部により測定された前記特性値、及び、前記演算部により算出された前記成分濃度、のうち少なくともいずれか一方、を表示する表示部と、前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、を備える現像液管理装置。   (5) Based on the measurement unit that measures a plurality of characteristic values of the developer that are used repeatedly and has a correlation with the component concentration of the developer that exhibits alkalinity, and the plurality of characteristic values measured by the measurement unit , At least one of a calculation unit that calculates the component concentration of the developer by the multivariate analysis method, the characteristic value measured by the measurement unit, and the component concentration calculated by the calculation unit , And a measured value of a management target item selected from a plurality of characteristic values of the developer measured by the measuring unit and a component concentration of the developer calculated by the calculating unit, or And a control unit that issues a control signal to a control valve provided in a conduit for supplying a replenisher to be replenished to the developer based on the calculated value.

(6)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、前記測定データ記憶部に記憶された成分濃度のデータを、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、を備える現像液管理装置。   (6) A measuring unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developing solution that are repeatedly used and correlates with a component concentration of the developing solution that exhibits alkalinity, and each time the measuring unit measures the plurality of characteristic values A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, and the component concentration calculated by the calculation unit as a time and A measurement data storage unit that stores together with at least one of the elapsed time from the start of measurement, and the component concentration data stored in the measurement data storage unit from the time stored in the measurement data storage unit or the measurement start A display section that displays a graph using the elapsed time of the index as an index, a plurality of characteristic values of the developer measured by the measurement section, and a component concentration of the developer calculated by the calculation section And a control unit that issues a control signal to a control valve provided in a conduit for supplying a replenisher to be replenished to the developer based on a measured value or a calculated value of a management target item selected from Liquid management device.

(7)繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、前記測定部により測定された前記特性値及び前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、前記測定データ記憶部に記憶された特性値及び成分濃度の少なくともいずれか一方を、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、を備える現像液管理装置。   (7) A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that correlates with a component concentration of a developer that exhibits alkalinity, and each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values. A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, and the characteristic value and the calculation unit that are measured by the measurement unit A measurement data storage unit that stores the concentration of the component calculated by the above together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement, and at least one of a characteristic value and a component concentration stored in the measurement data storage unit One of the display unit displays a graph using the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index, and the developer measured by the measurement unit Based on a measured value or a calculated value of a management target item selected from a plurality of characteristic values and a component concentration of the developer calculated by the calculation unit, a replenisher to be replenished to the developer is sent. And a control unit that issues a control signal to a control valve provided in the pipeline.

(8)前記表示部に表示するグラフを、前記現像液の特性値のグラフとするか、前記現像液の成分濃度のグラフとするか、切り替える表示切替手段をさらに備える(7)に記載の現像液管理装置。   (8) The development according to (7), further comprising display switching means for switching whether the graph displayed on the display unit is a graph of the characteristic value of the developer or a component concentration of the developer. Liquid management device.

(9)前記測定部が、前記現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分の濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第一の測定手段と、前記現像液の成分濃度のうち少なくとも前記現像液に溶解したフォトレジストの濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第二の測定手段と、を備える(5)から(8)のいずれか一に記載の現像液管理装置。   (9) The measurement unit includes a first measurement unit that measures a characteristic value of the developer that is correlated with a concentration of at least an alkali component among the components of the developer, and at least the component concentration of the developer. The developer management apparatus according to any one of (5) to (8), further comprising: a second measuring unit that measures a characteristic value of the developer having a correlation with a concentration of the photoresist dissolved in the developer.

(10)前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度及びフォトレジストの濃度を算出する演算ブロックを備え、前記制御部が、前記演算ブロックにより算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記演算ブロックにより算出されるフォトレジストの濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、を備える(9)に記載の現像液管理装置。   (10) The calculation unit includes a calculation block for calculating the alkali component concentration and the photoresist concentration of the developer, and the control unit calculates the alkali component concentration calculated by the calculation block to a predetermined management value. A control block that issues a control signal to the control valve, and a control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of the photoresist calculated by the calculation block is a predetermined management value or less. The developing solution management apparatus according to (9).

(11)前記測定部が、さらに、前記現像液の成分のうち少なくとも前記現像液に吸収された二酸化炭素の濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第三の測定手段、を備える(9)に記載の現像液管理装置。   (11) The measurement unit further includes third measurement means for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with at least a concentration of carbon dioxide absorbed in the developer among the components of the developer. The developer management apparatus according to (9).

(12)前記演算部が、前記現像液の二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、前記制御部が、前記第一の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記第二の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理領域に入るように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、を備える(11)に記載の現像液管理装置。   (12) The calculation unit includes a calculation block for calculating the concentration of carbon dioxide in the developer, and the control unit has a characteristic value of the developer measured by the first measuring unit as a predetermined management value. A control block that issues a control signal to the control valve, and a control signal to the control valve so that the characteristic value of the developer measured by the second measuring means falls within a predetermined management region. And a control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value. apparatus.

(13)前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度及び二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、前記制御部が、前記演算ブロックで算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記第二の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理領域に入るように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、を備える(11)に記載の現像液管理装置。   (13) The calculation unit includes a calculation block for calculating a concentration of an alkali component and a concentration of carbon dioxide in the developer, and the control unit has a predetermined management value for the concentration of the alkali component calculated in the calculation block. A control block that issues a control signal to the control valve, and a control signal to the control valve so that the characteristic value of the developer measured by the second measuring means falls within a predetermined management region. And a control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value. apparatus.

(14)前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度、フォトレジストの濃度及び二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、前記制御部が、前記演算ブロックで算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記演算ブロックで算出されるフォトレジストの濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、を備える(11)に記載の現像液管理装置。   (14) The calculation unit includes a calculation block that calculates an alkali component concentration, a photoresist concentration, and a carbon dioxide concentration of the developer, and the control unit calculates an alkali component concentration calculated by the calculation block. A control block that issues a control signal to the control valve, and a control signal to the control valve so that the photoresist concentration calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value. And a control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or less than a predetermined management value. Management device.

本発明によれば、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いた演算手段により多成分系であるアルカリ性現像液の成分濃度を算出しているので、測定される特性値と特定の成分濃度とが所定の相関関係(例えば、直線関係)にあるとして成分濃度を算出する従来手法と比べ、複数の現像液成分の影響を受けている特性値からでも精度よく現像液の成分濃度を算出することが可能である。特に、本発明によれば、従来は測定することが困難であった現像液の吸収二酸化炭素濃度を測定することができる。また、複数の測定特性値と複数の成分濃度との相関関係(マトリックス)を事前に準備して成分濃度の算出に用いる手法に比べ、本発明では膨大な量のサンプルを準備して予備測定を実施する必要もない。また、本発明では、測定結果を容易に確認することができる。   According to the present invention, the component concentration of a multi-component alkaline developer is calculated by a calculation means using a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method). Compared to the conventional method of calculating the component concentration assuming that the component concentration has a predetermined correlation (for example, a linear relationship), the component concentration of the developer can be accurately determined from the characteristic values affected by the plurality of developer components. It is possible to calculate. In particular, according to the present invention, it is possible to measure the absorbed carbon dioxide concentration of a developer, which has been difficult to measure conventionally. Compared to a method in which a correlation (matrix) between a plurality of measurement characteristic values and a plurality of component concentrations is prepared in advance and used for calculation of the component concentration, the present invention prepares a huge amount of samples and performs preliminary measurement. There is no need to implement it. In the present invention, the measurement result can be easily confirmed.

本発明によれば、多成分系であるアルカリ性現像液の各成分濃度を従来より精度よく測定することができるので、アルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度を従来のものより一層精度よく制御することが可能である。また、本発明によれば、現像液の導電率値を一定に制御する管理、現像液の吸光度値を一定の吸光度値以下に制御する管理を選択することもできる。   According to the present invention, since the concentration of each component of a multi-component alkaline developer can be measured with higher accuracy than before, the alkali component concentration, dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration are more accurate than the conventional ones. It is possible to control well. Further, according to the present invention, it is possible to select management for controlling the conductivity value of the developer to be constant and management for controlling the absorbance value of the developer to be equal to or less than the certain absorbance value.

二つの特性値から二成分の成分濃度を測定する場合の信号の流れを示す成分濃度測定方法のフロー図である。It is a flowchart of the component density | concentration measuring method which shows the flow of a signal in the case of measuring the component density | concentration of two components from two characteristic values. 三つ以上の特性値から三成分以上の成分濃度を測定する場合の信号の流れを示す成分濃度測定方法のフロー図である。It is a flowchart of the component density | concentration measuring method which shows the flow of a signal in the case of measuring the component density | concentration of three or more components from three or more characteristic values. 多変量解析法と異なる演算手法を含む場合の信号の流れを示す成分濃度測定方法のフロー図である。It is a flowchart of the component density | concentration measuring method which shows the flow of a signal in case the calculation method different from a multivariate analysis method is included. 現像液の二つの成分を測定する成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component density | concentration measuring apparatus which measures two components of a developing solution. 現像液の三つの成分を測定する成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component density | concentration measuring apparatus which measures three components of a developing solution. 演算部に多変量解析法と異なる演算手法による演算ブロックを有する成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component density | concentration measuring apparatus which has a calculation block by the calculation method different from a multivariate analysis method in a calculating part. 測定部と演算部とが別体で、インライン測定する場合の成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component concentration measuring apparatus when a measurement part and a calculating part are separate bodies and in-line measurement is performed. 測定手段が本体とプローブ部からなる場合の成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component concentration measuring apparatus when a measuring means consists of a main body and a probe part. 測定手段を並列に備える成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of the component density | concentration measuring apparatus provided with a measurement means in parallel. 薬剤添加を要する測定装置を備えた場合の成分濃度測定装置の模式図である。It is a schematic diagram of a component concentration measuring device when a measuring device requiring chemical addition is provided. 成分濃度測定装置を現像液管理装置に応用した模式図である。It is the model which applied the component density | concentration measuring apparatus to the developing solution management apparatus. 成分濃度測定装置の応用事例を示すための模式図である。It is a schematic diagram for showing the application example of a component concentration measuring apparatus. 現像液の二つの成分を成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。It is a flowchart of the developing solution management method which manages two components of a developing solution by component concentration. 現像液の二つの成分の一方を成分濃度により、他方を特性値により管理する現像液管理方法のフロー図である。FIG. 5 is a flowchart of a developer management method in which one of two components of a developer is managed by component concentration and the other is managed by a characteristic value. 現像液の三つの成分を成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。It is a flowchart of the developing solution management method which manages three components of a developing solution by component concentration. 現像液の三つの成分のうち一つを特性値により、他の二つを成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。FIG. 5 is a flowchart of a developer management method in which one of three components of a developer is managed by a characteristic value and the other two are managed by a component concentration. 現像液の三つの成分のうち二つを特性値により、他の一つを成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。FIG. 5 is a flowchart of a developer management method in which two of three components of a developer are managed by characteristic values and the other is managed by component concentration. 本発明の現像液管理装置を説明するための現像工程の模式図である。It is a schematic diagram of the image development process for demonstrating the developing solution management apparatus of this invention. 装置外の制御弁を制御する現像液管理装置の模式図である。It is a schematic diagram of the developing solution management apparatus which controls the control valve outside an apparatus. 演算機能と制御機能とを併せ持つ演算制御部を備えた現像液管理装置の模式図である。It is a schematic diagram of a developer management apparatus provided with a calculation control unit having both a calculation function and a control function. 現像液の二つの成分を管理する現像液管理装置の模式図である。It is a schematic diagram of the developing solution management apparatus which manages two components of a developing solution. 現像液の二つの成分を成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。It is a schematic diagram of the developing solution management apparatus which manages two components of a developing solution by component concentration. 現像液の三つの成分のうち二つを特性値により、他の一つを成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages two of the three components of the developer based on characteristic values and the other based on the component concentration. 現像液の三つの成分のうち一つを特性値により、他の二つを成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages one of three components of a developer by a characteristic value and the other two by a component concentration. 現像液の三つの成分を成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。It is a schematic diagram of the developing solution management apparatus which manages three components of a developing solution by component concentration.

以下、適宜図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。ただし、これらの実施の形態に記載されている装置等の形状、大きさ、寸法比、その相対配置などは、とくに特定的な記載がない限り、本発明の範囲を図示されているもののみに限定するものではない。単なる説明例として、模式的に図示しているに過ぎない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with appropriate reference to the drawings. However, the shapes, sizes, dimensional ratios, relative arrangements, etc. of the devices described in these embodiments are only those shown within the scope of the present invention unless otherwise specified. It is not limited. It is only schematically shown as an example for explanation.

また、以下の説明では、現像液の具体例として、半導体や液晶パネル基板の製造工程で主に使われる2.38%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液(以下、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドをTMAHという。)を、適宜用いて説明する。ただし、本発明が適用される現像液はこれに限定されるものではない。本発明の現像液の成分濃度測定装置や現像液管理装置等が適用できる他の現像液の例として、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機化合物の水溶液や、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド(コリン)などの有機化合物の水溶液を挙げることができる。   In the following description, as a specific example of the developer, a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution (hereinafter, tetramethylammonium hydroxide is referred to as TMAH) that is mainly used in the manufacturing process of semiconductors and liquid crystal panel substrates. Will be described as appropriate. However, the developer to which the present invention is applied is not limited to this. Examples of other developing solutions to which the component concentration measuring device or developing solution management device of the developing solution of the present invention can be applied, an aqueous solution of an inorganic compound such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium phosphate, sodium silicate, An aqueous solution of an organic compound such as trimethylmonoethanolammonium hydroxide (choline) can be mentioned.

また、多変量解析法(例えば重回帰分析法)は、成分濃度の算出に際し、成分濃度がどのような単位の濃度であるかによらないが、以下の説明では、アルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度などの成分濃度は、重量百分率濃度(wt%)による濃度である。「溶解フォトレジスト濃度」とは、溶解したフォトレジストをフォトレジストの量として換算した場合の濃度をいい、「吸収二酸化炭素濃度」とは、吸収された二酸化炭素を二酸化炭素の量として換算した場合の濃度をいうものとする。   In addition, the multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) does not depend on the unit concentration of the component concentration when calculating the component concentration. However, in the following explanation, the alkali component concentration, dissolved photoresist is used. The component concentration such as the concentration and the absorbed carbon dioxide concentration is a concentration by weight percentage concentration (wt%). “Dissolved photoresist concentration” refers to the concentration when the dissolved photoresist is converted as the amount of photoresist, and “absorbed carbon dioxide concentration” refers to when the absorbed carbon dioxide is converted as the amount of carbon dioxide. The concentration of

現像処理プロセスでは、現像液が露光処理後のフォトレジスト膜の不要部分を溶かすことにより、現像が行われる。現像液に溶解したフォトレジストは、現像液のアルカリ成分との間にフォトレジスト塩を生じる。このため、現像液を適切に管理していなければ、現像処理が進行するにつれて、現像液は現像活性を有するアルカリ成分が消費されて劣化し、現像性能が悪化していく。同時に、現像液中には溶解したフォトレジストがアルカリ成分とのフォトレジスト塩として蓄積されていく。   In the development process, development is performed by the developer dissolving unnecessary portions of the photoresist film after the exposure process. The photoresist dissolved in the developer generates a photoresist salt with the alkali component of the developer. For this reason, unless the developer is appropriately managed, as the development process proceeds, the developer deteriorates due to consumption of an alkaline component having development activity, and the development performance deteriorates. At the same time, the dissolved photoresist is accumulated in the developer as a photoresist salt with an alkali component.

現像液に溶解したフォトレジストは、現像液中で界面活性作用を示す。このため、現像液に溶解したフォトレジストは、現像処理に供されるフォトレジスト膜の現像液に対するぬれ性を高め、現像液とフォトレジスト膜とのなじみを良くする。したがって、適度にフォトレジストを含む現像液では、現像液がフォトレジスト膜の微細な凹部内にもよく行き渡るようになり、微細な凹凸を有するフォトレジスト膜の現像処理を良好に実施できる。   The photoresist dissolved in the developer exhibits a surface activity in the developer. For this reason, the photoresist dissolved in the developer improves the wettability of the photoresist film subjected to the development process with respect to the developer and improves the familiarity between the developer and the photoresist film. Therefore, with a developer containing a moderate amount of photoresist, the developer spreads well in fine concave portions of the photoresist film, and the development processing of the photoresist film having fine irregularities can be performed satisfactorily.

また、近年の現像処理では、基板が大型化したことに伴い、大量の現像液が繰り返し使用されるようになったため、現像液が空気に曝される機会が増えている。ところが、アルカリ性現像液は、空気に曝されると空気中の二酸化炭素を吸収する。吸収された二酸化炭素は、現像液のアルカリ成分との間に炭酸塩を生じる。このため、現像液を適切に管理していなければ、現像液は現像活性を有するアルカリ成分が吸収された二酸化炭素により消費され減少する。同時に、現像液中には吸収された二酸化炭素がアルカリ成分との炭酸塩として蓄積されていく。   Further, in recent development processing, with the increase in the size of the substrate, a large amount of the developer has been repeatedly used, so that the opportunity for the developer to be exposed to air is increasing. However, alkaline developers absorb carbon dioxide in the air when exposed to air. The absorbed carbon dioxide forms carbonate with the alkali component of the developer. For this reason, if the developer is not properly managed, the developer is consumed and reduced by the carbon dioxide in which the alkali component having development activity is absorbed. At the same time, the absorbed carbon dioxide is accumulated in the developer as a carbonate with an alkali component.

現像液中の炭酸塩は、現像液中でアルカリ性を示すため、現像作用を有する。例えば2.38%TMAH水溶液の場合、現像液中に二酸化炭素がおよそ0.4wt%程度以下であれば、現像が可能である。   The carbonate in the developer has a developing action because it shows alkalinity in the developer. For example, in the case of a 2.38% TMAH aqueous solution, development is possible if the carbon dioxide in the developer is about 0.4 wt% or less.

このように、現像液に溶解されたフォトレジストや吸収された二酸化炭素は、現像処理に不要なものという従来の認識とは異なり、実際には現像液の現像性能に寄与している。そのため、溶解フォトレジストや吸収二酸化炭素を完全に排除するような現像液管理をするのではなく、現像液中にわずかに溶存することを許容しつつ、これらを最適な濃度に維持管理する現像液管理が必要である。   Thus, unlike the conventional recognition that the photoresist dissolved in the developer and the absorbed carbon dioxide are unnecessary for the development process, the photoresist actually contributes to the developing performance of the developer. Therefore, it is not a developer management that completely eliminates dissolved photoresist and absorbed carbon dioxide, but a developer that maintains these at an optimum concentration while allowing them to be slightly dissolved in the developer. Management is required.

また、現像液中に生じたフォトレジスト塩や炭酸塩は、その一部が解離して、フォトレジストイオンや炭酸イオン、炭酸水素イオンなど、多様な遊離イオンを生じる。そして、これらの遊離イオンは、現像液の導電率に様々な寄与率で影響を及ぼしている。   Further, a part of the photoresist salt or carbonate generated in the developer is dissociated to generate various free ions such as photoresist ion, carbonate ion, hydrogen carbonate ion. These free ions affect the conductivity of the developer with various contributions.

従来のアルカリ性現像液の成分濃度分析は、現像液のアルカリ成分濃度が現像液の導電率値と良好な直線関係を有すること、及び、現像液の溶解フォトレジスト濃度が現像液の吸光度値と良好な直線関係を有すること、を利用するものであった(以下、これを「従来法」という。)。従来の現像工程で求められていた現像液管理精度は、二酸化炭素の吸収量もまだ多くなかったこともあり、この分析手法で充分実現できていた。   According to the conventional component concentration analysis of an alkaline developer, the alkali component concentration of the developer has a good linear relationship with the conductivity value of the developer, and the dissolved photoresist concentration of the developer is good with the absorbance value of the developer. (Hereinafter, this is referred to as “conventional method”). The developer management accuracy required in the conventional development process has been sufficiently realized by this analysis method because the carbon dioxide absorption amount has not yet been large.

現像液の導電率値は、現像液中に含まれるイオンなどの荷電粒子数とその電荷量に依存する物性値である。現像液中には、上記のとおり、アルカリ成分のみならず、現像液に溶解したフォトレジストや現像液に吸収された二酸化炭素に由来する各種遊離イオンが存在する。したがって、成分濃度の分析精度を高めるためには、これらの遊離イオンが現像液の導電率値に及ぼす影響をも加味した演算手法を用いることが必要であった。   The conductivity value of the developer is a physical property value that depends on the number of charged particles such as ions contained in the developer and the amount of charges. In the developer, as described above, not only the alkali component but also various free ions derived from the photoresist dissolved in the developer and carbon dioxide absorbed in the developer. Therefore, in order to increase the analysis accuracy of the component concentration, it is necessary to use a calculation method that takes into account the influence of these free ions on the conductivity value of the developer.

現像液の吸光度値は、その測定波長の光を選択的に吸収する特定の成分の濃度と直線関係を有する物性値である(ランベルト-ベールの法則)。しかし、多成分系においては、測定波長によりその程度が異なるものの、通常、対象成分の吸光スペクトルに他の成分の吸光スペクトルが重なってくる。したがって、成分濃度の分析精度を高めるためには、現像液に溶解したフォトレジストのみならず、他の成分が現像液の吸光度値に及ぼす影響をも加味した演算手法を用いることが必要であった。   The absorbance value of the developer is a physical property value that has a linear relationship with the concentration of a specific component that selectively absorbs light of the measurement wavelength (Lambert-Beer law). However, in a multi-component system, although the degree varies depending on the measurement wavelength, the absorption spectrum of other components usually overlaps the absorption spectrum of the target component. Therefore, in order to improve the analysis accuracy of the component concentration, it is necessary to use a calculation method that takes into consideration not only the photoresist dissolved in the developer but also the influence of other components on the absorbance value of the developer. .

これらの点につき、発明者は、鋭意研究を続けた結果、演算手法に多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いれば、従来法を用いた場合より、精度よく現像液の各成分の濃度を算出できること、及び、従来困難であった吸収二酸化炭素濃度が測定できること、を見出した。また、発明者は、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により算出した現像液の成分濃度を用いれば、現像液の溶解フォトレジスト濃度や吸収二酸化炭素濃度を良好な状態に維持管理できることを見出した。   With regard to these points, the inventor has conducted intensive research, and as a result, when a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) is used as the calculation method, each component of the developer is more accurately obtained than when using the conventional method. It was found that the concentration of carbon dioxide can be calculated, and that the absorbed carbon dioxide concentration, which has been difficult in the past, can be measured. In addition, the inventor can maintain and manage the dissolved photoresist concentration and absorbed carbon dioxide concentration in a good state by using the developer component concentration calculated by a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method). I found.

発明者は、2.38%TMAH水溶液の管理を行う場合を想定して、アルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度を様々に変化させたTMAH水溶液を模擬現像液サンプルとして調製した。発明者は、これらの模擬現像液サンプルについて測定した各種特性値から、重回帰分析法によりその成分濃度を求める実験を行った。以下に、重回帰分析法による一般的な演算手法を説明し、そのあと、発明者の行った実験に基づいて、重回帰分析法を用いた現像液の成分濃度の演算手法について説明する。   The inventor prepared a TMAH aqueous solution in which the alkali component concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration were variously changed as a simulated developer sample on the assumption that the 2.38% TMAH aqueous solution was managed. The inventor conducted an experiment for determining the component concentration by a multiple regression analysis method from various characteristic values measured for these simulated developer samples. Hereinafter, a general calculation method based on the multiple regression analysis method will be described, and thereafter, a calculation method of the developer component concentration using the multiple regression analysis method will be described based on experiments conducted by the inventors.

重回帰分析は校正と予測の二段階からなる。n成分系の重回帰分析において、校正標準溶液をm個用意したとする。i番目の溶液中に存在するj番目の成分の濃度をCijと表す。ここで、i=1〜m、j=1〜nである。m個の標準溶液について、それぞれ、p個の特性値(例えば、ある波長における吸光度とか導電率などの物性値)Aik(k=1〜p)を測定する。濃度データと特性データは、それぞれ、まとめて行列の形(C,A)に表すことができる。 Multiple regression analysis consists of two stages: calibration and prediction. Assume that m calibration standard solutions are prepared in an n-component multiple regression analysis. The concentration of the j-th component present in the i-th solution is represented as C ij . Here, i = 1 to m and j = 1 to n. With respect to m standard solutions, p characteristic values (for example, physical properties such as absorbance or conductivity at a certain wavelength) A ik (k = 1 to p) are measured. The density data and the characteristic data can be collectively represented in matrix form (C, A).

Figure 2018120893
Figure 2018120893

これらの行列を関係づける行列を校正行列といい、ここでは記号S(Skj;k=1
〜p、j=1〜n)で表す。
A matrix relating these matrices is referred to as a calibration matrix, and here a symbol S (S kj ; k = 1
~ P, j = 1 to n).

Figure 2018120893
Figure 2018120893

既知のCとA(Aの内容は、同質の測定値のみならず異質の測定値が混在しても構わない。例えば、導電率と吸光度と密度。)からSを行列演算により算出するのが校正段階である。この時、p>=n、且つ、m>=npでなければならない。Sの各要素は全て未知数であるから、m>npであることが望ましく、その場合は次のように最小二乗演算を行う。   It is possible to calculate S by matrix calculation from known C and A (the contents of A may include not only the same measurement value but also different measurement values. For example, conductivity, absorbance and density). Calibration stage. At this time, p> = n and m> = np must be satisfied. Since all elements of S are unknown, it is desirable that m> np. In this case, the least squares operation is performed as follows.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

ここで、上付きのTは転置行列を、上付きの−1は逆行列を意味する。   Here, the superscript T means a transposed matrix, and the superscript -1 means an inverse matrix.

濃度未知の試料液についてp個の特性値を測定し、それらをAu(Au;k=1〜p)とすれば、それにSを乗じて求めるべき濃度Cu(Cu;j=1〜n)を得ることができる。 If p characteristic values are measured for a sample solution of unknown concentration and these are set to Au (Au k ; k = 1 to p), the concentration Cu (Cu j ; j = 1 to n) to be obtained by multiplying it by S ) Can be obtained.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

これが予測段階である。   This is the prediction stage.

発明者は、使用済みのアルカリ性現像液(2.38%TMAH水溶液)を、アルカリ成分、溶解フォトレジスト、吸収二酸化炭素の3成分からなる多成分系(n=3)とみなして、当該現像液の特性値として3つの物性値(p=3)、すなわち、現像液の導電率値、特定波長における吸光度値、及び、密度値から、上記重回帰分析法により各成分濃度を算出する実験を行った。発明者は、2.38%TMAH水溶液を現像液の基本組成として、アルカリ成分濃度(TMAH濃度)、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度を様々に変化させた11個の校正標準溶液を調製した(m=11で、p>=nかつm>npを満たす)。   The inventor regards the used alkaline developer (2.38% TMAH aqueous solution) as a multi-component system (n = 3) composed of three components of an alkali component, a dissolved photoresist, and absorbed carbon dioxide, and the developer. An experiment was conducted to calculate the concentration of each component by the multiple regression analysis method from three physical property values (p = 3), that is, the conductivity value of the developer, the absorbance value at a specific wavelength, and the density value. It was. The inventor prepared 11 calibration standard solutions in which the alkali component concentration (TMAH concentration), dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration were variously changed with a 2.38% TMAH aqueous solution as the basic composition of the developer. (When m = 11, p> = n and m> np are satisfied).

実験は、11個の校正標準溶液について、導電率値、波長λ=560nmにおける吸光度値、及び、密度値を現像液の特性値として測定し、各成分濃度を線形重回帰分析(Multiple Linear Regression − Inverse Least Squares;MLR−ILS)により演算した。   In the experiment, for 11 calibration standard solutions, the conductivity value, the absorbance value at a wavelength λ = 560 nm, and the density value were measured as the characteristic values of the developer, and the concentration of each component was determined by linear multiple regression analysis (Multiple Linear Regression − Inverse Least Squares (MLR-ILS).

測定は、校正標準溶液を25.0℃に温度調整して、行った。温度調整は、25℃付近に温度管理された恒温水槽に校正標準溶液の入ったボトルを長時間浸しておき、ここからサンプリングして、さらに測定直前に温度コントローラにて再度25.0℃にする、という方式である。導電率計は自社製の導電率計を採用した。白金黒処理を施した自社製の導電率フローセルを用いて測定した。導電率計には、別途校正作業により確認された導電率フローセルのセル定数が入力されている。吸光光度計も自社製のものを採用した。波長λ=560nmの光源部と測光部とガラスフローセルとを備える吸光光度計である。密度測定には、U字管フローセルを励振して測定される固有振動数から密度を求める固有振動法を採用した密度計を用いた。測定された導電率値、吸光度値、密度値の単位は、それぞれ、mS/cm、Abs.(Absorbance)、g/cmである。 The measurement was performed by adjusting the temperature of the calibration standard solution to 25.0 ° C. To adjust the temperature, immerse the bottle containing the calibration standard solution in a constant temperature water bath whose temperature is controlled at around 25 ° C. for a long time, sample from here, and set the temperature controller to 25.0 ° C. again immediately before the measurement. This is the method. A conductivity meter made in-house was adopted as the conductivity meter. It measured using the conductivity flow cell made in-house which gave the platinum black process. The conductivity meter is inputted with the cell constant of the conductivity flow cell confirmed by a separate calibration operation. An in-house manufactured absorptiometer was also used. It is an absorptiometer including a light source unit having a wavelength λ = 560 nm, a photometric unit, and a glass flow cell. For the density measurement, a density meter employing a natural vibration method for obtaining a density from a natural frequency measured by exciting a U-shaped flow cell was used. The measured conductivity value, absorbance value, and density value are in units of mS / cm, Abs. (Absorbance), g / cm 3 .

演算は、11個の校正標準溶液のうち一つを未知試料に見立てて、残り10標準で校正行列を求め、仮定した未知試料の濃度を算出して既知の値(他の正確な分析手法により測定した濃度値や重量調製値)と比べる手法(一個抜き交差確認法;Leave−One−Out法)によるものである。   The calculation is based on the assumption that one of the 11 calibration standard solutions is an unknown sample, a calibration matrix is obtained with the remaining 10 standards, the concentration of the assumed unknown sample is calculated, and a known value (by other accurate analysis method) is calculated. This is based on a method (a single cross check method; Leave-One-Out method) compared with a measured concentration value or weight adjustment value.

MLR−ILS計算を行った結果を表1に示す。   The results of MLR-ILS calculation are shown in Table 1.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

MLR−ILS計算に当たっては、TMAH水溶液が強アルカリ性で二酸化炭素を吸収して劣化しやすいことに鑑み、演算に用いる濃度行列には、アルカリ成分濃度や吸収二酸化炭素濃度を正確に分析できる滴定分析法により校正標準溶液を別途測定した値を用いた。ただし、溶解フォトレジスト濃度に関しては、重量調製値を用いた。   In the MLR-ILS calculation, in view of the fact that the TMAH aqueous solution is strongly alkaline and easily deteriorates by absorbing carbon dioxide, the concentration matrix used for the calculation includes a titration analysis method capable of accurately analyzing the concentration of alkali components and absorbed carbon dioxide. A value obtained by separately measuring the calibration standard solution was used. However, the weight preparation value was used for the dissolved photoresist concentration.

滴定は、塩酸を滴定試薬とする中和滴定である。滴定装置として、三菱化学アナリテック社製の自動滴定装置GT−200を使用した。   Titration is neutralization titration using hydrochloric acid as a titration reagent. As a titration apparatus, an automatic titration apparatus GT-200 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. was used.

以下、表2に、濃度行列を示す。   Table 2 below shows the concentration matrix.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

このときの校正標準溶液の物性値の測定結果を表3に示す。吸光度の欄は、波長λ=560nmにおける吸光度値(光路長d=10mm)である。   Table 3 shows the measurement results of the physical property values of the calibration standard solution at this time. The column for absorbance is the absorbance value at the wavelength λ = 560 nm (optical path length d = 10 mm).

Figure 2018120893
Figure 2018120893

校正行列を表4に示す。   Table 4 shows the calibration matrix.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

表5に、表2の濃度測定値と表1のMLR−ILS計算値との比較を示す。   Table 5 shows a comparison between the measured concentration values in Table 2 and the calculated MLR-ILS values in Table 1.

Figure 2018120893
Figure 2018120893

表5の通り、重回帰分析法により求められたTMAH濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度は、いずれも滴定分析により測定したTMAH濃度や吸収二酸化炭素濃度、及び、調整重量から求めた溶解フォトレジスト濃度と、いずれもかなり近似した値となっている。   As shown in Table 5, the TMAH concentration, dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration determined by multiple regression analysis were all determined from the TMAH concentration and absorbed carbon dioxide concentration measured by titration analysis, and the adjusted weight. Both values are very close to the photoresist concentration.

このように、アルカリ性現像液の導電率、特定波長における吸光度、及び、密度を測定して、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いることにより、現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を測定できることが理解される。   Thus, by measuring the conductivity, the absorbance at a specific wavelength, and the density of an alkaline developer, and using a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis), the alkali component concentration of the developer, dissolved photo It is understood that the resist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration can be measured.

多変量解析法(例えば、重回帰分析法)は、複数の成分の濃度を演算して求めるのに有効である。現像液の複数の特性値a、b、c、…を測定して、それらの測定値から多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により成分濃度A、B、C、…を求めることができる。この際、求めるべき成分濃度につき、少なくともこの成分濃度と相関のある特性値が、少なくともひとつは測定されて演算に用いられることが必要である。   A multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) is effective for calculating and obtaining concentrations of a plurality of components. A plurality of characteristic values a, b, c,... Of the developer are measured, and component concentrations A, B, C,... Are obtained from the measured values by a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method). it can. At this time, it is necessary that at least one characteristic value correlated with the component concentration is measured and used for calculation for the component concentration to be obtained.

ここで、成分濃度と「相関のある」現像液の特性値とは、その特性値がその成分濃度と関係があり、その成分濃度の変化に応じて特性値が変わるような関係にあることをいう。例えば、現像液の成分濃度のうち少なくとも成分濃度Aと相関のある現像液の特性値aとは、特性値aが成分濃度を変数とする関数により求められるときに、変数の一つに少なくとも成分濃度Aを含むことをいう。特性値aが成分濃度Aのみの関数であってもよいが、通常は、成分濃度Aのほかに、成分濃度BやCなどを変数とする多変数関数となっているときに、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いる意義が大きい。   Here, the characteristic value of the developer that is “correlated” with the component concentration is that the characteristic value is related to the component concentration, and the characteristic value changes according to the change in the component concentration. Say. For example, the developer characteristic value a having a correlation with at least the component concentration A among the component concentrations of the developer is obtained when the characteristic value a is obtained by a function having the component concentration as a variable. The concentration A is included. The characteristic value a may be a function of only the component concentration A. Usually, when the characteristic value a is a multivariable function having the component concentrations B and C as variables in addition to the component concentration A, the multivariate analysis is performed. The significance of using a method (for example, multiple regression analysis) is great.

また、成分濃度は、全体に対するその成分の相対量を示す尺度である。繰り返し使用される現像液のような経時的に成分が増減する混合液の成分濃度は、その成分単独で決まらず、通常、他の成分の濃度の関数となる。そのため、現像液の特性値と成分濃度の関係は、平面的なグラフで表示することが困難なことが多い。このような場合には、検量線を用いる演算法などでは、現像液の特性値から成分濃度を算出することができない。   The component concentration is a scale indicating the relative amount of the component with respect to the whole. The component concentration of a mixed solution whose components increase or decrease over time, such as a developer that is used repeatedly, is not determined by the component alone, but is usually a function of the concentration of other components. Therefore, it is often difficult to display the relationship between the characteristic value of the developer and the component concentration in a planar graph. In such a case, the component concentration cannot be calculated from the characteristic value of the developer by a calculation method using a calibration curve.

しかし、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)によれば、算出しようとする成分濃度と相関のある複数の特性値の測定値が一組揃えば、これを演算に用いて、成分濃度が一組算出される。従来の知見では一見すると測定困難な成分濃度であっても、特性値を測定することで成分濃度を測定できる、という顕著な効果を、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)による成分濃度測定では得ることができる。   However, according to the multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method), if a set of measured values of a plurality of characteristic values correlated with the component concentration to be calculated is prepared, this is used for the calculation. Is calculated as a set. The component concentration by the multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) has the remarkable effect that the component concentration can be measured by measuring the characteristic value even if the component concentration is difficult to measure at first glance. It can be obtained by measurement.

以上のとおり、本発明の演算手法によれば、現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を、現像液の特性値(例えば、導電率、特定波長における吸光度、及び、密度)の測定値に基づいて算出することができる。本発明の演算手法によれば、従来法に比べ、高精度に各成分濃度を算出することができる。   As described above, according to the calculation method of the present invention, the alkali component concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer are determined based on the characteristic values of the developer (for example, conductivity, absorbance at a specific wavelength, and , Density) can be calculated based on the measured value. According to the calculation method of the present invention, the concentration of each component can be calculated with higher accuracy than in the conventional method.

また、本発明では多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いているので、現像液の成分濃度を算出する演算に、現像液の特定の成分濃度と直線関係にない現像液の特性値をも採用することができる。   Further, since a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) is used in the present invention, the characteristics of the developer not having a linear relationship with a specific component concentration of the developer are used in the calculation of the component concentration of the developer. Values can also be adopted.

また、本発明によれば、特許文献2の発明では必要な、高精度測定を可能とするための非常に多数のサンプルの準備と予備測定が、必要ない。(前述の実験例のとおり、成分数n=3の現像液であれば、測定する特性値の数p=3として、m>=npを満たすサンプル数p(例えばp=11個のサンプル)を準備して測定すれば、十分である。成分数n=2ならばサンプル数はさらに少なくてよい。)
さらに、本発明は多変量解析法(例えば、重回帰分析法)を用いているので、従来は測定が困難であった現像液の吸収二酸化炭素濃度を、精度よく算出することができる。
In addition, according to the present invention, it is not necessary to prepare a large number of samples and perform preliminary measurement to enable high-precision measurement, which is necessary in the invention of Patent Document 2. (As in the above experimental example, if the developer has n = 3 components, the number of characteristic values to be measured is p = 3, and the number of samples p satisfying m> = np (for example, p = 11 samples) is set. It is sufficient to prepare and measure.If the number of components is n = 2, the number of samples may be smaller.)
Furthermore, since the present invention uses a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method), it is possible to accurately calculate the absorbed carbon dioxide concentration of the developer, which has been difficult to measure conventionally.

次に、具体的な実施例について、図面を参照しながら説明する。以下の実施例では、特性値a、b、c、…や成分濃度A、B、C、…など、適宜アルファベットを用いて説明する。より具体的な理解のためには、特性値a、b、c、…は、それぞれ、導電率、特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度、密度、…などと、成分濃度A、B、C、…は、それぞれ、アルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度、…などとして、読み直せば良い。   Next, specific examples will be described with reference to the drawings. In the following examples, characteristic values a, b, c,... And component concentrations A, B, C,. For more specific understanding, the characteristic values a, b, c,... Are the conductivity, the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm), the density,. ,... May be re-read as alkali component concentration, dissolved photoresist concentration, absorbed carbon dioxide concentration,.

ただし、特性値a、b、cを導電率、特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度、密度などとしたのは、あくまで本発明により現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、吸収二酸化炭素濃度などを算出する場合の最適な特性値の組み合わせの例示に過ぎず、これに限定するものではない。特性値a、b、c、…は、成分濃度A、B、C、…に応じて、種々の組合せを選択することができる。採用し得る特性値として、例えば、現像液の導電率、吸光度、超音波伝播速度、屈折率、密度、滴定終点、pHなどを挙げることができる。現像液には様々な添加材が含まれていることもあるので、成分濃度には上記三成分の他に添加剤濃度などを含めてもよい。   However, the characteristic values a, b, c are the conductivity, the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm), the density, etc. This is merely an example of an optimal combination of characteristic values for calculating density and the like, and the present invention is not limited to this. Various combinations of the characteristic values a, b, c,... Can be selected according to the component concentrations A, B, C,. Examples of characteristic values that can be employed include developer conductivity, absorbance, ultrasonic wave propagation speed, refractive index, density, titration end point, pH, and the like. Since the developer may contain various additives, the component concentration may include the additive concentration in addition to the above three components.

現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を測定し現像液を管理する場合には、特性値として、導電率、特定波長における吸光度、密度の組合せが好適である。吸光度を測定する特定波長は、好ましくは可視領域、より好ましくは360〜600nmの波長領域、の特定波長、さらに好ましくは波長λ=480nm又は560nmを採用するのがよい。現像液の吸収二酸化炭素濃度が比較的少なく、その経時変化が緩やかであるときには、現像液の導電率はアルカリ成分濃度と比較的良好な直線関係にあり、現像液の特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度は溶解フォトレジスト濃度と比較的良好な直線関係にあるため、である。他に、導電率、特定波長における吸光度、超音波伝播速度の組合せや、導電率、特定波長における吸光度、屈折率の組合せなども、好ましく採用できる。   When managing the developer by measuring the alkali component concentration, dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration of the developer, a combination of conductivity, absorbance at a specific wavelength, and density is preferable as the characteristic value. The specific wavelength for measuring the absorbance is preferably a specific wavelength in the visible region, more preferably in the wavelength region of 360 to 600 nm, and even more preferably the wavelength λ = 480 nm or 560 nm. When the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is relatively small and the change with time is gradual, the conductivity of the developer is in a relatively good linear relationship with the alkali component concentration, and the specific wavelength of the developer (for example, λ = 560 nm). This is because the absorbance in (1) has a relatively good linear relationship with the dissolved photoresist concentration. In addition, a combination of conductivity, absorbance at a specific wavelength, and ultrasonic wave propagation speed, and a combination of conductivity, absorbance at a specific wavelength, and refractive index can be preferably employed.

以下に説明する第一から第三までの実施形態は、本発明の現像液の成分濃度測定方法に関するものである。   The first to third embodiments described below relate to a method for measuring a component concentration of a developer according to the present invention.

図1は、現像液の二つの特性値から現像液の二つの成分の成分濃度を測定する場合の信号の流れを示す本実施形態の成分濃度測定方法のフロー図である。   FIG. 1 is a flowchart of a component concentration measuring method of the present embodiment showing a signal flow when measuring component concentrations of two components of a developer from two characteristic values of the developer.

本実施形態の成分濃度演算方法では、まず、現像液の特性値a、bを測定するステップにおいて、それぞれの測定値aとbが取得される。取得された測定値aとbは、演算ステップに送られる。次に、演算ステップは、測定値aとbを受け取り、これらを用いて、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により、成分濃度A、Bを算出する。こうして、成分濃度A、Bが測定される。また、このフローを繰り返せば、現像液の成分濃度A、Bを連続して測定することができる。 In the component concentration calculation method of this embodiment, first, in the step of measuring the characteristic values a and b of the developer, the respective measured values a m and b m are acquired. The acquired measurement values a m and b m are sent to the calculation step. Next, operation step receives the measured value a m and b m, using these, multivariate analysis (e.g., multiple regression analysis) by, calculating the component concentrations A, B. In this way, the component concentrations A and B are measured. If this flow is repeated, the component concentrations A and B of the developer can be measured continuously.

図2は、現像液の三つあるいはそれ以上の特性値から現像液の三つあるいはそれ以上の成分の成分濃度を測定する場合の信号の流れを示す本実施形態の成分濃度測定方法のフロー図である。   FIG. 2 is a flowchart of the component concentration measurement method of this embodiment showing the signal flow when measuring the component concentrations of three or more components of the developer from the three or more characteristic values of the developer. It is.

本実施形態の成分濃度演算方法では、まず、現像液の特性値a、b、c、…を測定するステップにおいて、それぞれの測定値a、b、c、…が取得される。取得された測定値a、b、c、…は、演算ステップに送られる。次に、演算ステップは、測定値a、b、c、…を受け取り、これらを用いて、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により、成分濃度A、B、C、…を算出する。こうして、成分濃度A、B、C、…が測定される。また、このフローを繰り返せば、現像液の成分濃度A、B、C、…を連続して測定することができる。 In the component concentration calculation method of the present embodiment, first, in the step of measuring the developer characteristic values a, b, c,..., The respective measured values a m , b m , cm ,. The acquired measurement values a m , b m , c m ,... Are sent to the calculation step. Next, the calculation step receives the measurement values a m , b m , c m ,..., And uses them to determine the component concentrations A, B, C,... By multivariate analysis (for example, multiple regression analysis). Is calculated. In this way, the component concentrations A, B, C,... Are measured. Moreover, if this flow is repeated, the component concentrations A, B, C,... Of the developer can be continuously measured.

図3は、複数の現像液の特性値から複数の成分濃度を測定する場合における演算ステップが多変量解析法とは異なる演算手法によるステップも内包している場合の、信号の流れを示す本実施形態の成分濃度測定方法のフロー図である。   FIG. 3 shows the signal flow in the case where the calculation step in the case of measuring a plurality of component concentrations from the characteristic values of a plurality of developers also includes a step by a calculation method different from the multivariate analysis method. It is a flowchart of the component concentration measuring method of form.

この実施形態は、現像液のある成分の濃度Pとのみ関係がある現像液の特性値pを測定対象として採用した場合などに、好適に採用される。より具体的には、現像液のアルカリ成分濃度と吸収二酸化炭素濃度とを、現像液の導電率値と密度値から多変量解析法により算出し、現像液の溶解フォトレジスト濃度を特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度との直線関係を検量線として用いて算出し、測定する場合などが挙げられる。   This embodiment is suitably employed when, for example, the developer characteristic value p, which is related only to the concentration P of a certain component of the developer, is employed as the measurement target. More specifically, the alkali component concentration and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer are calculated from the conductivity value and density value of the developer by a multivariate analysis method, and the dissolved photoresist concentration of the developer is determined at a specific wavelength (for example, Examples include a case where a linear relationship with absorbance at λ = 560 nm) is calculated and measured using a calibration curve.

本実施態様の現像液の成分濃度測定方法では、測定ステップにおいて、複数の成分濃度を変数とする現像液の特性値a、b、…と、成分濃度Pのみを変数とする現像液の特性値p、…と、が測定され、その測定値a、b、…、及び、p、…が演算ステップに送られる。 In the developer concentration measurement method of this embodiment, in the measurement step, the developer characteristic values a, b,... With a plurality of component concentrations as variables, and the developer characteristic values with only the component concentration P as variables. ,... are measured, and the measured values a m , b m ,... and pm ,.

演算ステップは、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により成分濃度を算出するステップと、多変量解析法とは異なる演算方法(例えば、検量線法など)により成分濃度を算出するステップと、を含む。これらステップによる演算の先後は問わない。同時でもよい。   The calculation step includes a step of calculating a component concentration by a multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method), and a step of calculating a component concentration by a calculation method (for example, a calibration curve method) different from the multivariate analysis method; ,including. There is no limitation on the order of the calculation in these steps. It may be simultaneous.

多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により成分濃度を算出するステップは、測定ステップで測定された現像液の特性値a、b、…の測定値から、多変量解析法(例えば、重回帰分析法)により成分濃度A、B、…を算出する。   The step of calculating the component concentration by the multivariate analysis method (for example, multiple regression analysis method) is based on the measured values of the developer characteristic values a, b,... The component concentrations A, B,... Are calculated by a regression analysis method.

多変量解析法とは異なる演算方法(例えば、検量線法)により成分濃度を算出するステップは、予め得ておいた特性値pと成分濃度Pとの直線関係を検量線として用いるなどして、測定ステップで測定された現像液の特性値p、…の測定値から成分濃度P、…を算出する。   In the step of calculating the component concentration by a calculation method different from the multivariate analysis method (for example, the calibration curve method), the linear relationship between the characteristic value p and the component concentration P obtained in advance is used as a calibration curve. The component concentration P,... Is calculated from the measured values of the developer characteristic values p,.

以上現像液の成分濃度測定方法は、現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定ステップと、測定された複数の特性値に基づいて多変量解析法により現像液の成分濃度を算出する演算ステップと、を含んでいる。   As described above, the developer concentration measurement method includes a measurement step for measuring a plurality of characteristic values of a developer having a correlation with the component concentration of the developer, and a multivariate analysis method based on the measured plurality of characteristic values. And calculating a component concentration.

測定ステップは、さらに、特性値aを測定する測定ステップ、特性値bを測定する測定ステップ、特性値cを測定する測定ステップ、…などを含む。しかし、これらのステップの順序は問わない。同時に測定されてもよい。また、温度調整ステップや、試薬添加ステップ、廃液ステップ、など、測定手法に応じて適宜必要なステップを含んでいてよい。   The measurement step further includes a measurement step for measuring the characteristic value a, a measurement step for measuring the characteristic value b, a measurement step for measuring the characteristic value c, and so on. However, the order of these steps does not matter. It may be measured simultaneously. In addition, the temperature adjustment step, the reagent addition step, the waste liquid step, and the like may include steps necessary as appropriate according to the measurement technique.

演算ステップは、多変量解析法により成分濃度を算出する演算ステップを含んでいればよい。多変量解析法とは異なる演算方法(例えば検量線法)により成分濃度を算出するステップなどを含んでいてもよい。   The calculation step only needs to include a calculation step for calculating the component concentration by the multivariate analysis method. A step of calculating a component concentration by a calculation method (for example, a calibration curve method) different from the multivariate analysis method may be included.

以下、実施形態は、本発明の現像液の成分濃度測定装置に関するものである。   Hereinafter, embodiments relate to a developer component concentration measuring apparatus of the present invention.

〔第一実施形態〕
図4は、現像液の二つの成分を測定する成分濃度測定装置の模式図である。説明の便宜のために、現像液の成分濃度測定装置Aは、現像工程設備Bに接続された態様で現像工程設備Bとともに図示している。
[First embodiment]
FIG. 4 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus that measures two components of a developing solution. For convenience of explanation, the developer concentration measuring apparatus A is shown together with the developing process equipment B in a form connected to the developing process equipment B.

まず、現像工程設備Bについて簡単に説明する。   First, the development process facility B will be briefly described.

現像工程設備Bは、主に、現像液貯留槽61、オーバーフロー槽62、現像室フード64、ローラーコンベア65、現像液シャワーノズル67などからなる。現像液貯留槽61には現像液が貯留されている。現像液は、補充液が補充されて組成管理されるが、図4では省略した。現像液貯留槽61は、液面計63とオーバーフロー槽62を備え、補充液を補給することによる液量の増加を管理している。現像液貯留槽61と現像液シャワーノズル67とは、現像液管路80により接続され、現像液貯留槽61内に貯留された現像液が現像液管路80に設けられた循環ポンプ72によりフィルター73を介して現像液シャワーノズル67に送液される。ローラーコンベア65は、現像液貯留槽61の上方に備えられ、フォトレジスト膜の製膜された基板66を搬送する。現像液は現像液シャワーノズル67から滴下され、ローラーコンベア65により搬送される基板66は滴下される現像液の中を通過することで現像液に浸される。その後、現像液は、現像液貯留槽61に回収され、再び貯留される。このように、現像液は、現像工程で循環して繰り返し使用される。なお、小型のガラス基板における現像室内は、窒素ガスを充満させるなどにより、空気中の二酸化炭素を吸収しないような処理が施される場合もある。なお、劣化した現像液は廃液ポンプ71を作動することにより廃液(ドレン)される。   The development process facility B mainly includes a developer storage tank 61, an overflow tank 62, a development chamber hood 64, a roller conveyor 65, a developer shower nozzle 67, and the like. A developer is stored in the developer storage tank 61. The composition of the developing solution is replenished with the replenishing solution and is omitted in FIG. The developer storage tank 61 includes a level gauge 63 and an overflow tank 62, and manages an increase in the amount of liquid due to replenishment of the replenisher. The developer storage tank 61 and the developer shower nozzle 67 are connected by a developer conduit 80, and the developer stored in the developer reservoir 61 is filtered by a circulation pump 72 provided in the developer conduit 80. The liquid is fed to the developer shower nozzle 67 through 73. The roller conveyor 65 is provided above the developer storage tank 61 and conveys a substrate 66 on which a photoresist film is formed. The developer is dropped from the developer shower nozzle 67, and the substrate 66 conveyed by the roller conveyor 65 passes through the dropped developer and is immersed in the developer. Thereafter, the developer is collected in the developer storage tank 61 and stored again. As described above, the developer is circulated and used repeatedly in the development process. Note that the developing chamber in a small glass substrate may be subjected to a treatment that does not absorb carbon dioxide in the air, for example, by being filled with nitrogen gas. The deteriorated developer is drained (drained) by operating the waste liquid pump 71.

次に、本実施形態の現像液の成分濃度測定装置Aについて説明する。本実施形態の成分濃度測定装置は、現像液をサンプリングして特性値を測定する方式の成分濃度測定装置である。   Next, the developer concentration measuring apparatus A of the present embodiment will be described. The component concentration measuring apparatus of the present embodiment is a component concentration measuring apparatus that measures a characteristic value by sampling a developer.

現像液の成分濃度測定装置Aは、測定部1と演算部2とを備えており、サンプリング配管15及び戻り配管16により現像液貯留槽61と接続されている。測定部1と演算部2とは測定データ用信号線51、52により接続されている。   The developer component concentration measuring apparatus A includes a measurement unit 1 and a calculation unit 2, and is connected to a developer storage tank 61 by a sampling pipe 15 and a return pipe 16. The measurement unit 1 and the calculation unit 2 are connected by measurement data signal lines 51 and 52.

測定部1は、サンプリングポンプ14と、第一の測定手段11及び第二の測定手段12と、を備えている(第一の測定手段11及び第二の測定手段12を測定手段と称する場合がある)。測定手段11、12は、サンプリングポンプ14の後段に直列に接続される。測定部1は、さらに、測定精度を高めるために、サンプリングした現像液を所定の温度に安定させる温度調節手段(図示せず)を備えていることが望ましい。この際、温度調節手段は、測定手段の直前に設けられていることが好ましい。サンプリング配管15は、測定部1のサンプリングポンプ14に接続されており、戻り配管16は、測定手段末端の配管と接続されている。   The measuring unit 1 includes a sampling pump 14, a first measuring unit 11 and a second measuring unit 12 (the first measuring unit 11 and the second measuring unit 12 may be referred to as measuring units). is there). The measuring means 11 and 12 are connected in series downstream of the sampling pump 14. The measurement unit 1 preferably further includes a temperature adjusting means (not shown) that stabilizes the sampled developer at a predetermined temperature in order to increase the measurement accuracy. At this time, the temperature adjusting means is preferably provided immediately before the measuring means. The sampling pipe 15 is connected to the sampling pump 14 of the measuring unit 1, and the return pipe 16 is connected to a pipe at the end of the measuring means.

演算部2は、多変量解析法による演算ブロック21を含んでいる。多変量解析法による演算ブロック21は、測定データ用信号線51により測定部1に備えられた第一の測定手段11と、測定データ用信号線52により測定部1に備えられた第二の測定手段12と、接続されている。   The calculation unit 2 includes a calculation block 21 based on a multivariate analysis method. The calculation block 21 based on the multivariate analysis method includes a first measurement unit 11 provided in the measurement unit 1 by a measurement data signal line 51 and a second measurement provided in the measurement unit 1 by a measurement data signal line 52. It is connected to the means 12.

次に、成分濃度測定装置Aの測定動作、及び、演算動作について説明する。   Next, the measurement operation and calculation operation of the component concentration measuring apparatus A will be described.

サンプリングポンプ14によって現像液貯留槽61から採液された現像液は、サンプリング配管15を通って成分濃度測定装置Aの測定部1内に導かれる。その後、温度調節手段を備えている場合は、サンプリングされた現像液は温度調節手段に送液され、所定の測定温度(例えば25℃)に維持されて、測定手段11、12に送液される。第一の測定手段では現像液の特性値aが測定され、第二の測定手段では現像液の特性値bが測定される。測定後の現像液は、戻り配管16を通って、現像液貯留槽61に戻される。   The developer collected from the developer storage tank 61 by the sampling pump 14 is guided into the measuring unit 1 of the component concentration measuring apparatus A through the sampling pipe 15. Thereafter, when the temperature adjusting means is provided, the sampled developer is sent to the temperature adjusting means, maintained at a predetermined measurement temperature (for example, 25 ° C.), and sent to the measuring means 11 and 12. . The first measuring means measures the characteristic value a of the developer, and the second measuring means measures the characteristic value b of the developer. The measured developer is returned to the developer storage tank 61 through the return pipe 16.

第一の測定手段11により測定された現像液の特性値aの測定値a、及び、第二の測定手段12により測定された現像液の特性値bの測定値bは、それぞれ、測定データ用信号線51、52を介して、多変量解析法による演算ブロック21に送られる。測定値a、bを受信した演算ブロック21は、これらの測定値を多変量解析法により演算して現像液の成分濃度A及びBを算出する。こうして、成分濃度測定装置Aにより現像液の成分濃度A、Bが測定される。 The measured value a m of the developer characteristic value a measured by the first measuring unit 11 and the measured value b m of the developer characteristic value b measured by the second measuring unit 12 are respectively measured. Via the data signal lines 51 and 52, it is sent to the calculation block 21 by the multivariate analysis method. Receiving the measurement values a m and b m , the calculation block 21 calculates these measurement values by the multivariate analysis method to calculate the component concentrations A and B of the developer. In this way, the component concentration measuring apparatus A measures the component concentrations A and B of the developer.

実施形態の成分濃度測定装置Aは、表示部DPを備えている。表示部DPには、測定部1で測定された特性値及び演算部2で算出された成分濃度のうちの少なくともいずれか一方が表示される。図4に示されるように、表示部DPには演算部2で算出された成分濃度A及びBが表示されるのでもよいし、測定部1で測定された現像液の特性値(不図示)が表示されるのでもよい。両方が表示されるのでもよい。また、現像液の成分ごとに対応する特性値及び成分濃度のいずれかが選択されて表示されるのでもよい。   The component concentration measuring apparatus A according to the embodiment includes a display unit DP. On the display unit DP, at least one of the characteristic value measured by the measurement unit 1 and the component concentration calculated by the calculation unit 2 is displayed. As shown in FIG. 4, the component concentrations A and B calculated by the calculation unit 2 may be displayed on the display unit DP, or the developer characteristic values (not shown) measured by the measurement unit 1. May be displayed. Both may be displayed. Also, any one of the characteristic value and the component concentration corresponding to each component of the developer may be selected and displayed.

表示部DPは、成分濃度測定装置Aに電気的に接続されたディスプレーモニターでもよいし、成分濃度測定装置Aに組み込まれたタッチパネル型コンピュータでもよい。タッチパネル型コンピュータの場合、演算部2を含むことができる。   The display unit DP may be a display monitor electrically connected to the component concentration measuring device A, or a touch panel computer incorporated in the component concentration measuring device A. In the case of a touch panel computer, the calculation unit 2 can be included.

〔第二実施形態〕
図5は、現像液の三つの成分を測定する成分濃度測定装置の模式図である。現像液の成分濃度測定装置Aは、測定部1と演算部2とを備えており、サンプリング配管15及び戻り配管16により現像工程設備B(現像液貯留槽61)と接続されている。測定部1は、第一の測定手段11、第二の測定手段12、及び、第三の測定手段13を備えており、これらにより、現像液の三つの特性値が測定される。測定された三つの特性値の測定値は、測定データ用信号線51、52、53を介して、演算部2に送られて、多変量解析法により、現像液の三つの成分の成分濃度が算出される。測定動作、演算動作、図4と重複する部材の説明は、第四実施形態と同様であるので、省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 5 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus that measures three components of the developer. The developer component concentration measuring apparatus A includes a measuring unit 1 and a calculating unit 2, and is connected to a developing process facility B (developer storage tank 61) by a sampling pipe 15 and a return pipe 16. The measuring unit 1 includes a first measuring unit 11, a second measuring unit 12, and a third measuring unit 13, and these measure three characteristic values of the developer. The measured values of the three characteristic values are sent to the calculation unit 2 via the measurement data signal lines 51, 52 and 53, and the component concentrations of the three components of the developer are determined by the multivariate analysis method. Calculated. The description of the measurement operation, the calculation operation, and the members overlapping with those in FIG. 4 is the same as in the fourth embodiment, and will be omitted.

実施形態の成分濃度測定装置Aは、表示部DPを備える。表示部DPは、測定部1により測定された特性値(例えばa、b、c)、及び演算部2により算出された成分濃度(例えば、A、B、C)を表示できる。実施形態においては、表示部DPが特性値、及び成分濃度の表示の切替を、表示部DPの画面上に設定された表示切替手段である切替ボタンBTにより行うことができる。実施形態では、表示を切り替えて表示部DPに表示する場合を示したが、特性値(a、b、c)、及び成分濃度(A、B、C)の表示を同時に、表示部DPに表示してもよい。   The component concentration measuring apparatus A of the embodiment includes a display unit DP. The display unit DP can display the characteristic values (for example, a, b, c) measured by the measurement unit 1 and the component concentrations (for example, A, B, C) calculated by the calculation unit 2. In the embodiment, the display unit DP can switch the display of the characteristic value and the component concentration by a switching button BT which is a display switching unit set on the screen of the display unit DP. In the embodiment, the display is switched and displayed on the display unit DP. However, the characteristic values (a, b, c) and the component concentrations (A, B, C) are simultaneously displayed on the display unit DP. May be.

表示切替手段としては、表示部DPに表示される表示対象を特性値とするか成分濃度のとするかを切り替えるスイッチが、装置の外面に実装されているのでもよいし、表示部に操作可能なGUI(グラフィカルユーザーインターフェイス)として表示されて実装されているのでもよい。また、表示切替手段は、全ての成分について一括して特性値表示するか成分濃度表示するか切り替えるのでもよいし、成分ごとに個別に切り替えることができるようになっているのでもよい。   As the display switching means, a switch for switching whether the display target displayed on the display unit DP is a characteristic value or a component concentration may be mounted on the outer surface of the apparatus, or operated on the display unit It may be displayed and implemented as a simple GUI (graphical user interface). Further, the display switching means may switch whether to display the characteristic value or the component concentration for all the components at once, or may be able to switch individually for each component.

〔第三実施形態〕
図6は、演算部2に多変量解析法とは異なる演算手法による演算ブロックを有する成分濃度測定装置の模式図である。例えば検量線法などにより、測定された現像液の物性値から現像液の成分濃度を測定できる現像液の特性値と成分濃度の組がある場合に、適用される。
[Third embodiment]
FIG. 6 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus in which the calculation unit 2 has a calculation block using a calculation method different from the multivariate analysis method. For example, it is applied when there is a set of developer characteristic value and component concentration capable of measuring the developer component concentration from the measured developer physical property value by a calibration curve method or the like.

本実施形態の成分濃度測定装置Aは、現像液の複数の特性値を測定する測定部1と、その測定値から現像液の成分濃度を算出する演算部2とを備えている。演算部2は、多変量解析法による演算ブロック21と、多変量解析法以外の演算手法(例えば検量線法)による演算ブロック22と、を含んでいる。   The component concentration measuring apparatus A of the present embodiment includes a measuring unit 1 that measures a plurality of characteristic values of a developing solution, and an arithmetic unit 2 that calculates the component concentration of the developing solution from the measured values. The calculation unit 2 includes a calculation block 21 based on a multivariate analysis method and a calculation block 22 based on a calculation method other than the multivariate analysis method (for example, a calibration curve method).

多変量解析法で演算に用いられる現像液の特性値の測定値は、測定部1で測定されたのち、演算部2の多変量解析法による演算ブロック21に送られる。多変量解析法以外の演算手法(例えば検量線法)に用いられる現像液の特性値の測定値は、演算ブロック22に送られる。演算ブロック21、22で演算が行われることにより、現像液の成分濃度が算出される。   The measured value of the characteristic value of the developer used for calculation in the multivariate analysis method is measured by the measurement unit 1 and then sent to the calculation block 21 by the multivariate analysis method of the calculation unit 2. The measured values of the characteristic values of the developer used for calculation methods other than the multivariate analysis method (for example, the calibration curve method) are sent to the calculation block 22. By calculating the calculation blocks 21 and 22, the component concentration of the developer is calculated.

なお、多変量解析法以外の演算手法(例えば検量線法)による演算ブロック22は、複数あってもよい。多変量解析法による演算とそれ以外の手法(例えば検量線法)による演算とについて、その演算の順序は問わない。その他、上述の実施形態と重複する部材等の説明は、省略する。   Note that there may be a plurality of calculation blocks 22 by a calculation method other than the multivariate analysis method (for example, a calibration curve method). There is no limitation on the order of the calculation by the multivariate analysis method and the calculation by other methods (for example, the calibration curve method). In addition, description of the member etc. which overlap with the above-mentioned embodiment is abbreviate | omitted.

実施形態の成分濃度測定装置Aは、表示部DPを備える。さらに、成分濃度測定装置Aは記憶ブロック101を有する測定データ記憶部10を備える。測定データ記憶部10は、演算部2により算出された成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する。なお、記憶ブロック101は複数の記憶ブロックで構成されてもよい。   The component concentration measuring apparatus A of the embodiment includes a display unit DP. Further, the component concentration measuring apparatus A includes a measurement data storage unit 10 having a storage block 101. The measurement data storage unit 10 stores the component concentration calculated by the calculation unit 2 together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement. The storage block 101 may be composed of a plurality of storage blocks.

図6に示されるように、表示部DPは、測定データ記憶部10に記憶された成分濃度(例えば、A、B、C)のデータを、測定データ記憶部10に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示できる。   As shown in FIG. 6, the display unit DP displays the data of the component concentrations (for example, A, B, C) stored in the measurement data storage unit 10 at the time stored in the measurement data storage unit 10 or the measurement start. The graph can be displayed using the elapsed time from as an index.

〔第四実施形態〕
図7は、測定部1と演算部2とが別体で構成された成分濃度測定装置の模式図である。本実施形態の成分濃度測定装置Aにおいては、測定部1は現像工程設備Bの現像液管路80からバイパスされた管路に備えられ、演算部2と測定データ用信号線51〜53で接続されている。現像液管路80やその他の管路に直接接続されていてもよい。サンプリングポンプ14の代わりに、流量調節弁(図示せず)などを組み合わせて用いてもよい。
[Fourth embodiment]
FIG. 7 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus in which the measurement unit 1 and the calculation unit 2 are configured separately. In the component concentration measuring apparatus A of the present embodiment, the measurement unit 1 is provided in a pipeline bypassed from the developer pipeline 80 of the development process equipment B, and is connected to the calculation unit 2 by measurement data signal lines 51 to 53. Has been. It may be directly connected to the developer pipe 80 or other pipe. Instead of the sampling pump 14, a flow rate adjusting valve (not shown) or the like may be used in combination.

実施形態の成分濃度測定装置Aは、表示部DPを備える。さらに、成分濃度測定装置Aは記憶ブロック101を有する測定データ記憶部10を備える。測定データ記憶部10は、測定部1により測定された特性値(例えば、a,b,c)、及び演算部2により算出された成分濃度(例えば、A、B、C)を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する。   The component concentration measuring apparatus A of the embodiment includes a display unit DP. Further, the component concentration measuring apparatus A includes a measurement data storage unit 10 having a storage block 101. The measurement data storage unit 10 measures the characteristic values (for example, a, b, c) measured by the measurement unit 1 and the component concentrations (for example, A, B, C) calculated by the calculation unit 2, the time and measurement. It is stored together with at least one of the elapsed time from the start.

表示部DPは、測定データ記憶部10に記憶された特性値(a,b,c)及び成分濃度(A、B、C)の少なくともいずれか一方を、測定データ記憶部10に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示できる。実施形態においては、表示部DPは、特性値及び成分濃度のグラフ表示の切替を、表示部DPの画面上に設定された表示切替手段である切替ボタンBTにより行うことができる。実施形態では、グラフ表示を切り替えて表示部DPに表示する場合を示したが、特性値(a、b、c)、及び成分濃度(A、B、C)のグラフ表示を同時に、表示部DPに表示してもよい。   The display unit DP stores at least one of the characteristic values (a, b, c) and component concentrations (A, B, C) stored in the measurement data storage unit 10 at the time stored in the measurement data storage unit 10. Alternatively, the graph can be displayed using the elapsed time from the start of measurement as an index. In the embodiment, the display unit DP can switch the graph display of the characteristic value and the component concentration by a switching button BT that is a display switching unit set on the screen of the display unit DP. In the embodiment, the graph display is switched and displayed on the display unit DP. However, the graph display of the characteristic values (a, b, c) and the component concentrations (A, B, C) is simultaneously performed on the display unit DP. May be displayed.

表示切替手段としては、表示部に表示される表示対象を特性値のグラフとするか成分濃度のグラフとするかを切り替えるスイッチが、装置の外面に実装されているのでもよいし、表示部に操作可能なGUI(グラフィカルユーザーインターフェイス)として表示されて実装されているのでもよい。また、表示切替手段は、全ての成分について一括して特性値表示するか成分濃度表示するか切り替えるのでもよいし、成分ごとに個別に切り替えることができるようになっているのでもよい。   As the display switching means, a switch for switching whether the display target displayed on the display unit is a graph of characteristic values or a graph of component concentration may be mounted on the outer surface of the apparatus, It may be displayed and implemented as an operable GUI (graphical user interface). Further, the display switching means may switch whether to display the characteristic value or the component concentration for all the components at once, or may be able to switch individually for each component.

〔第五実施形態〕
図8は、現像液の特性値を測定する測定手段11〜13が、それぞれ測定装置本体11a、12a、13aと、測定プローブ11b、12b、13bと、により構成されている場合の成分濃度測定装置の模式図である。実施形態の成分濃度測定装置は、表示部DPを備える。表示部DPにより第一実施形態から第四実施形態と同様の表示を行うことができる。
[Fifth embodiment]
FIG. 8 shows a component concentration measuring apparatus when measuring means 11 to 13 for measuring characteristic values of a developing solution are constituted by measuring apparatus main bodies 11a, 12a and 13a and measuring probes 11b, 12b and 13b, respectively. FIG. The component concentration measuring apparatus of the embodiment includes a display unit DP. The same display as in the first to fourth embodiments can be performed by the display unit DP.

本実施形態では、測定手段11〜13の測定プローブ11b〜13bが、現像液貯留槽61に貯留された現像液に浸漬されることによって、現像液の特性値が測定される。測定された現像液の特性値は、測定データ用信号線51〜53を介して演算部2へと送られる。演算部2で成分濃度が多変量解析法により算出されることにより、現像液の成分濃度が測定される。   In the present embodiment, the measurement probes 11b to 13b of the measuring units 11 to 13 are immersed in the developer stored in the developer storage tank 61, whereby the characteristic value of the developer is measured. The measured characteristic value of the developing solution is sent to the calculation unit 2 via the measurement data signal lines 51 to 53. The component concentration of the developer is measured by calculating the component concentration by the multivariate analysis method in the calculation unit 2.

図8では、測定部1と演算部2とが別体で構成されている場合を示したが、一体で構成された成分濃度測定装置であってもよい。この場合は、現像液中に浸漬された測定プローブと成分濃度測定装置の測定部1内に配置された測定装置本体とがケーブル等で接続される。   Although FIG. 8 shows a case where the measurement unit 1 and the calculation unit 2 are configured separately, a component concentration measurement device configured integrally may be used. In this case, the measurement probe immersed in the developer and the measurement device main body arranged in the measurement unit 1 of the component concentration measurement device are connected by a cable or the like.

〔第六実施形態〕
図9は、測定部1内の測定手段を並列に配置して備える場合の成分濃度測定装置の模式図である。実施形態の成分濃度測定装置は、表示部DPを備える。表示部DPにより第一実施形態から第四実施形態と同様の表示を行うことができる。
[Sixth embodiment]
FIG. 9 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus when measuring means in the measuring unit 1 are arranged in parallel. The component concentration measuring apparatus of the embodiment includes a display unit DP. The same display as in the first to fourth embodiments can be performed by the display unit DP.

測定部1を構成する各測定手段は、直列に接続される場合に限らず、並列に接続されていてもよい。図9のように、測定手段11〜13が、それぞれ独立に、サンプリング管路15a〜15c、サンプリングポンプ14a〜14c、戻り配管16a〜16cなどを備えていてもよいし、途中で分岐した管路により並列に接続されるのでもよい。測定手段11〜13により測定された現像液の特性値は、演算部2に送られる。演算部2では、多変量解析法により、現像液の成分濃度を算出する。   Each measuring means constituting the measuring unit 1 is not limited to being connected in series, and may be connected in parallel. As shown in FIG. 9, the measuring means 11 to 13 may include sampling pipes 15 a to 15 c, sampling pumps 14 a to 14 c, return pipes 16 a to 16 c, etc., or pipes branched in the middle. May be connected in parallel. The characteristic values of the developer measured by the measuring units 11 to 13 are sent to the calculation unit 2. The calculation unit 2 calculates the developer component concentration by a multivariate analysis method.

〔第七実施形態〕
図10は、例えば自動滴定装置のように、薬剤添加を要する測定装置を備えた場合の成分濃度測定装置の模式図である。図10では、第三の測定手段13が、薬剤添加の必要な測定装置である。実施形態の成分濃度測定装置は、表示部DPを備える。表示部DPにより第一実施形態から第四実施形態と同様の表示を行うことができる。
[Seventh embodiment]
FIG. 10 is a schematic diagram of a component concentration measuring apparatus having a measuring apparatus that requires chemical addition, such as an automatic titration apparatus. In FIG. 10, the third measuring means 13 is a measuring device that requires drug addition. The component concentration measuring apparatus of the embodiment includes a display unit DP. The same display as in the first to fourth embodiments can be performed by the display unit DP.

この場合、第三の測定手段13は、サンプリング配管15、サンプリングポンプ14と接続されているほか、送液配管18により添加試薬93と接続される。添加試薬は、送液ポンプにより採液されて測定に供される。測定後の現像液は、廃液配管19により廃液(ドレン)される。その他、測定動作や演算動作などは、他の実施例と同様であり、省略する。   In this case, the third measuring means 13 is connected to the sampling pipe 15 and the sampling pump 14 and is connected to the additive reagent 93 through the liquid feeding pipe 18. The added reagent is collected by a liquid feed pump and used for measurement. The developer after the measurement is drained (drained) through the waste liquid pipe 19. In addition, the measurement operation, the calculation operation, and the like are the same as those in the other embodiments, and are omitted.

以上、第一から第七までの実施形態に示した通り、本発明の成分濃度測定装置は、現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定部1と、測定部1により測定された現像液の複数の特性値に基づいて多変量解析法により現像液の成分濃度を測定する演算部2と、表示部DPと、を備える。   As described above, as shown in the first to seventh embodiments, the component concentration measuring apparatus of the present invention includes the measuring unit 1 that measures a plurality of characteristic values of the developer having a correlation with the component concentration of the developer, and the measurement. A calculation unit 2 that measures the component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on a plurality of characteristic values of the developer measured by the unit 1 and a display unit DP are provided.

本実施形態の成分濃度測定装置Aの測定部1は、種々の実施形態をとり得る。測定手段に用いる測定装置にはその測定装置の採用する測定方式に応じて適した設置や接続の仕方があるので、本発明の成分濃度測定装置の測定部1は、その測定手段に応じて最適な構成とすればよい。   The measuring unit 1 of the component concentration measuring apparatus A of the present embodiment can take various embodiments. Since the measuring device used for the measuring means has a method of installation and connection suitable for the measuring method employed by the measuring device, the measuring unit 1 of the component concentration measuring device of the present invention is optimal for the measuring means. What is necessary is just to make it a structure.

測定部1内には、現像液の複数の特性値を測定するために必要となる測定手段が備えられていればよい。温度調節手段(図示せず)を備えていることが望ましい。サンプリングポンプ14や、送液ポンプ17、廃液配管19などは、必要に応じて、適宜備えられていることが望ましいが、いずれも測定部1の内部部品として必須というわけではない。   The measuring unit 1 only needs to be provided with measuring means necessary for measuring a plurality of characteristic values of the developer. It is desirable to provide temperature adjusting means (not shown). It is desirable that the sampling pump 14, the liquid feed pump 17, the waste liquid pipe 19, and the like are appropriately provided as necessary, but they are not necessarily indispensable as internal components of the measurement unit 1.

また、測定部1と演算部2とは、一体であっても別体であってもよい。測定部1と演算部2とは、測定部1で測定された現像液の特性値の測定データを演算部2が受け取ることができるように、相互に連絡していればよい。測定部1と演算部2とは、信号線により接続されている場合に限らず、無線でデータを送受信できるように構成されている場合でもよい。複数の測定手段が一つの場所にまとめられて測定部1を構成している必要もなく、特定の測定手段が一つだけ別体で備え付けられているのでもよい。   Further, the measurement unit 1 and the calculation unit 2 may be integrated or separated. The measurement unit 1 and the calculation unit 2 only need to communicate with each other so that the calculation unit 2 can receive measurement data of the developer characteristic value measured by the measurement unit 1. The measurement unit 1 and the calculation unit 2 are not limited to being connected by a signal line, but may be configured to be able to transmit and receive data wirelessly. There is no need for a plurality of measuring means to be integrated into one place to form the measuring unit 1, and only one specific measuring means may be provided separately.

各測定手段は、サンプリングして測定する方式のみならず、配管に直接取り付ける方式でも、プローブを液中に浸漬する方式でもよい。各測定手段が直列に接続されていても、並列に接続されていてもよい。これら各種の組合せにより測定部1が構成されていてよい。   Each measuring means may be not only a method of sampling and measuring, but also a method of directly attaching to a pipe or a method of immersing a probe in a liquid. Each measuring means may be connected in series or may be connected in parallel. The measurement unit 1 may be configured by these various combinations.

なお、本実施形態の測定部1における現像液の複数の特性値の測定は、その順序を問わない。図4から図10までの図面における測定部1内の各測定手段の配列、及び、「第一の測定手段」、「第二の測定手段」、…等の記載における「第一の」、「第二の」、…などの文言は、本発明における測定の順番を限定するものではない。「第一の」、「第二の」、…などの文言は、複数ある測定手段のそれぞれを区別するための便宜に過ぎない。   Note that the order of the measurement of the plurality of characteristic values of the developer in the measurement unit 1 of the present embodiment is not limited. The arrangement of each measuring means in the measuring unit 1 in the drawings from FIG. 4 to FIG. 10, and “first”, “first measuring means”, “second measuring means”,. Words such as “second”,... Do not limit the order of measurement in the present invention. Words such as “first”, “second”,... Are merely conveniences for distinguishing a plurality of measuring means.

また、本実施形態の成分濃度測定装置の演算部2は、多変量解析法による演算ブロック21を含んでいれば、多変量解析法以外の手法(例えば検量線法)による演算ブロックを別途有していてもよい。この際、演算の順序は問わない。   Moreover, if the calculating part 2 of the component concentration measuring apparatus of this embodiment includes the calculation block 21 by the multivariate analysis method, it has the calculation block by methods (for example, calibration curve method) other than the multivariate analysis method separately. It may be. At this time, the order of operations does not matter.

本実施形態の成分濃度測定装置では、測定部1を構成する各測定手段が、その測定方式に適した配置に設置され接続されて、現像液の複数の特性値を測定し、演算部2が測定部1で測定された現像液の特性値の測定値を受け取ることにより、多変量解析法(を含む演算手法)により現像液の成分濃度が算出される。   In the component concentration measuring apparatus of the present embodiment, each measuring means constituting the measuring unit 1 is installed and connected in an arrangement suitable for the measuring method, measures a plurality of characteristic values of the developer, and the calculating unit 2 By receiving the measured value of the characteristic value of the developer measured by the measurement unit 1, the component concentration of the developer is calculated by a multivariate analysis method (including a calculation method).

以下、第八実施形態及び第九実施形態において、本実施形態の成分濃度測定装置の応用例について説明する。本実施形態の成分濃度測定装置は、一つの部品として、各種の装置やシステムに応用し得る。   Hereinafter, in the eighth embodiment and the ninth embodiment, application examples of the component concentration measuring apparatus of the present embodiment will be described. The component concentration measuring apparatus of the present embodiment can be applied to various apparatuses and systems as one component.

〔第八実施形態〕
図11は、本実施形態の成分濃度測定装置を用いた現像液管理装置の模式図である。
[Eighth embodiment]
FIG. 11 is a schematic diagram of a developer management apparatus using the component concentration measuring apparatus of the present embodiment.

本実施形態においては、成分濃度測定装置Aは、制御弁41〜43を制御する制御部3(制御装置)と演算データ用信号線54により接続されている。制御部3(制御装置)は、制御信号用信号線55〜57により、各制御弁41〜43と接続されている。制御弁41〜43は、それぞれ、補充液貯留槽91、92から補充液を送液するための補充液用管路81、82、及び、純水を送液するための純水用管路83、に設けられている。成分濃度測定装置Aは表示部DPを備えている。   In the present embodiment, the component concentration measuring apparatus A is connected to the control unit 3 (control apparatus) that controls the control valves 41 to 43 by the calculation data signal line 54. The control unit 3 (control device) is connected to the control valves 41 to 43 through control signal signal lines 55 to 57. The control valves 41 to 43 are respectively supplied with replenisher lines 81 and 82 for supplying replenisher from the replenisher reservoirs 91 and 92 and a pure water line 83 for supplying pure water. , Is provided. The component concentration measuring apparatus A includes a display unit DP.

補充液貯留槽91、92は、窒素ガスで加圧されており、制御部3(制御装置)が制御弁41〜43を開閉することにより、補充液が合流管路84を通って現像液に補給される。補給される補充液は、循環ポンプ74により循環管路85を経由して現像液貯留槽61に戻され、攪拌される。補充液の補給動作の方法やメカニズムは、後述の現像液管理方法や現像液管理装置の実施例において説明する。   The replenisher storage tanks 91 and 92 are pressurized with nitrogen gas, and the controller 3 (control device) opens and closes the control valves 41 to 43 so that the replenisher passes through the merging conduit 84 and becomes developer. To be replenished. The replenisher to be replenished is returned to the developer storage tank 61 by the circulation pump 74 via the circulation line 85 and stirred. The method and mechanism of the replenisher replenishment operation will be described in the embodiments of the developer management method and developer management apparatus described later.

このように、本実施形態の成分濃度測定装置は、現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁、及び、これらを制御する制御装置、と組み合わせることにより、現像液管理装置の一部品として利用することができる。   As described above, the component concentration measuring apparatus of the present embodiment is developed by combining with a control valve provided in a conduit for supplying a replenisher to be replenished to the developer and a controller for controlling them. It can be used as a component of the liquid management device.

なお、補充液とは、例えば、現像液の原液、新液、再生液などのことをいう。純水を含める場合もある。原液とは、アルカリ成分濃度の濃厚な未使用の現像液(例えば20〜2
5%TMAH水溶液)である。新液とは、アルカリ成分濃度が現像工程で使用される濃度と同じ濃度で未使用の現像液(例えば2.38%TMAH水溶液)である。再生液とは、使用済みの現像液から不要物を除去して再利用可能にした現像液である。これらは、補充液としての用途や効果が異なる。例えば、原液は、アルカリ成分濃度を高めるための補充液で、溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を下げる。新液は、アルカリ成分濃度を維持あるいは緩やかに増減し、溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度を下げるための補充液である。純水は、各成分濃度を下げるための補充液である。以下の実施例の説明においても、同様である。
Note that the replenisher refers to, for example, a stock solution of a developing solution, a new solution, and a regenerating solution. May contain pure water. The stock solution is an unused developer having a high alkali component concentration (for example, 20 to 2).
5% TMAH aqueous solution). The new solution is an unused developer (for example, 2.38% TMAH aqueous solution) having the same alkali component concentration as the concentration used in the development step. The regenerated solution is a developer that can be reused by removing unnecessary substances from the used developer. These have different uses and effects as replenishers. For example, the stock solution is a replenisher for increasing the alkali component concentration, and lowers the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration. The new solution is a replenisher for maintaining or slowly increasing / decreasing the alkali component concentration to lower the dissolved photoresist concentration and absorbed carbon dioxide concentration. Pure water is a replenisher for lowering the concentration of each component. The same applies to the description of the following embodiments.

また、図11において、補充液は補充液貯留槽91、92から補充液用管路81、82を介して供給され、純水は純水用管路83を介して供給される場合を図示したが、これに限定されない。補充液は、補充液貯留槽91、92などから調合槽(図示せず)に送られ、そこで所定の濃度に調製されてから、現像液貯留槽61に送液される場合もある。この場合には、制御弁は調合槽から現像液貯留槽61に送液される管路の途中に備えられる。現像液貯留槽61に純水を直接供給しないこともあり、このときには純水用管路83や制御弁43は存在しない。以下の実施例の説明及び以下の図面においても、同様である。   Further, FIG. 11 illustrates a case where the replenisher is supplied from the replenisher reservoirs 91 and 92 via the replenisher conduits 81 and 82 and the pure water is supplied via the pure water conduit 83. However, it is not limited to this. The replenisher may be sent from a replenisher reservoir 91 or 92 to a preparation tank (not shown), adjusted to a predetermined concentration therein, and then sent to the developer reservoir 61. In this case, the control valve is provided in the middle of a pipeline that is fed from the preparation tank to the developer storage tank 61. In some cases, pure water is not directly supplied to the developer storage tank 61. At this time, the pure water conduit 83 and the control valve 43 are not present. The same applies to the description of the following embodiments and the following drawings.

補充液は、補充液貯留部Cの補充液貯留槽91、92に貯留されている。補充液貯留槽91、92は、加圧ガス用バルブ46、47を備えた窒素ガス用管路86が接続されており、この管路を介して供給される窒素ガスにより加圧されている。また、補充液貯留槽91、92にはそれぞれに補充液用管路81、82が接続され、通常開いた状態のバルブ44、45を介して補充液が送液される。補充液用管路81、82及び純水用管路83には制御弁41〜43が備えられており、制御弁41〜43は制御部3により開閉制御される。制御弁が動作することにより、補充液貯留槽91、92に貯留されていた補充液が圧送され、また、純水が送液される。その後、補充液は合流管路84を経て、循環攪拌機構Dと合流し、現像液貯留槽61に補給され攪拌される。   The replenisher is stored in the replenisher reservoirs 91 and 92 of the replenisher reservoir C. The replenisher storage tanks 91 and 92 are connected to a nitrogen gas pipe 86 provided with pressurized gas valves 46 and 47, and are pressurized by nitrogen gas supplied through the pipes. Also, replenisher reservoirs 91 and 92 are connected to replenisher conduits 81 and 82, respectively, and replenisher is fed through valves 44 and 45 that are normally open. The replenisher lines 81 and 82 and the pure water line 83 are provided with control valves 41 to 43, and the control valves 41 to 43 are controlled to be opened and closed by the control unit 3. By operating the control valve, the replenisher stored in the replenisher reservoirs 91 and 92 is pumped and pure water is transported. Thereafter, the replenisher is joined to the circulation stirring mechanism D via the joining conduit 84, and is supplied to the developer storage tank 61 and stirred.

補給により補充液貯留槽91、92内に貯留された補充液が減少すると、その内圧が下がって供給量が不安定となるため、補充液の減少に応じて加圧ガス用バルブ46、47を適宜開いて窒素ガスを供給し、補充液貯留槽91、92の内圧が保たれるように維持される。補充液貯留槽91、92が空になったときは、バルブ44、45を閉じて、補充液を満たした新しい補充液貯留槽と交換するか、または、別途調達した補充液を空になった補充液貯留槽91、92に再び充填する。   When the replenisher stored in the replenisher reservoirs 91 and 92 decreases due to replenishment, the internal pressure decreases and the supply amount becomes unstable. Nitrogen gas is supplied by opening as appropriate, and the internal pressure of the replenisher storage tanks 91 and 92 is maintained. When the replenisher reservoirs 91 and 92 are emptied, the valves 44 and 45 are closed and replaced with a new replenisher reservoir filled with the replenisher, or the separately procured replenisher is emptied. The replenisher storage tanks 91 and 92 are filled again.

〔第九実施形態〕
本実施形態の成分濃度測定装置は、警告灯WLや警報装置WTと組み合わせて、現像液の濃度異常警報装置などに応用することができる。図12は、本発明の成分濃度測定装置の応用事例を示すための模式図である。このように本発明の成分濃度測定装置は、部品として、各種の装置やシステムに応用し得る。
[Ninth embodiment]
The component concentration measuring apparatus according to the present embodiment can be applied to a developer concentration abnormality alarm device in combination with a warning lamp WL or an alarm device WT. FIG. 12 is a schematic diagram for showing an application example of the component concentration measuring apparatus of the present invention. Thus, the component concentration measuring apparatus of the present invention can be applied to various apparatuses and systems as parts.

以下、図13から図17までは、実施形態の現像液管理方法に関するものである。   Hereinafter, FIGS. 13 to 17 relate to the developer management method of the embodiment.

本発明の現像液管理方法は、アルカリ性現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定ステップと、測定された複数の特性値から多変量解析法により現像液の成分濃度を算出する演算ステップと、測定された現像液の特性値又は算出された現像液の成分濃度のいずれかに基づいて現像液に補充液を補給する補給ステップと、を含んでいる。測定ステップ及び演算ステップは、前述した現像液の成分濃度測定方法における測定ステップ、演算ステップと同様であるので、以下の図13から図17までの実施形態では、その重複する説明を省略する。   The developer management method of the present invention includes a measurement step for measuring a plurality of characteristic values of a developer having a correlation with a component concentration of an alkaline developer, and a developer component by a multivariate analysis method from the measured plurality of characteristic values. And a replenishment step of replenishing the developer with the replenisher based on either the measured developer characteristic value or the calculated developer component concentration. Since the measurement step and the calculation step are the same as the measurement step and the calculation step in the developer component concentration measurement method described above, redundant description thereof will be omitted in the following embodiments from FIG. 13 to FIG.

また、以下の説明において、「所定の管理値」とは、現像液が最適な液性能を発揮するときの特性値又は成分濃度値として、経験的に、あるいは、実験などにより、予め知られている特性値又は成分濃度値である。すなわち、例えば現像後の基板に形成された線幅や残膜厚といった、現像液の現像性能の指標となる数値が、もっとも好ましい状態となるような特性値又は成分濃度値として、予め知られている値のことをいう。「所定の管理領域」も、このような管理値の範囲のことである。現像液管理装置の説明においても、同様である。   Further, in the following description, the “predetermined control value” is previously known experimentally or experimentally as a characteristic value or component concentration value when the developer exhibits optimum liquid performance. Characteristic value or component concentration value. That is, for example, a numerical value that is an index of the developing performance of the developer, such as a line width and a residual film thickness formed on the substrate after development, is known in advance as a characteristic value or a component concentration value that makes the most preferable state. It means a certain value. The “predetermined management area” is also a range of such management values. The same applies to the description of the developer management apparatus.

図13は、現像液の二つの成分を成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。本実施形態の現像液管理方法は、二酸化炭素の吸収が少ないように管理されているアルカリ性現像液において、現像液のアルカリ成分濃度が所定の管理値となるように、及び、溶解フォトレジスト濃度が所定の管理値以下となるように、現像液を管理する場合などに、好ましく適用される。   FIG. 13 is a flowchart of a developer management method for managing two components of a developer based on component concentrations. In the developer management method of this embodiment, in an alkaline developer that is managed so as to absorb less carbon dioxide, the alkali component concentration of the developer becomes a predetermined management value, and the dissolved photoresist concentration is It is preferably applied when managing the developer so as to be below a predetermined control value.

本実施形態では、成分濃度Aを所定の管理値Aに、成分濃度Bを所定の管理値B以下に管理するものとする。成分濃度Aは例えばアルカリ成分濃度、成分濃度Bは例えば溶解フォトレジスト濃度である。 In the present embodiment, it is assumed that the component concentration A is managed to a predetermined management value A 0 and the component concentration B is managed to be a predetermined management value B 0 or less. The component concentration A is, for example, an alkali component concentration, and the component concentration B is, for example, a dissolved photoresist concentration.

測定ステップで現像液の特性値a、bが測定され、その測定値a、bが演算ステップに送られる。演算ステップでは、測定値a、bから多変量解析法により現像液の成分濃度A、Bが測定される。演算ステップにより算出された成分濃度A、Bは、補給ステップに送られる。 In the measuring step, the characteristic values a and b of the developer are measured, and the measured values a m and b m are sent to the calculation step. In the calculation step, the component concentrations A and B of the developer are measured from the measured values a m and b m by a multivariate analysis method. The component concentrations A and B calculated by the calculation step are sent to the replenishment step.

補給ステップは、成分濃度Aを調整するステップ、及び、成分濃度Bを調整するステップを含む。   The replenishment step includes a step of adjusting the component concentration A and a step of adjusting the component concentration B.

まず、成分濃度Aを調整するステップでは、成分濃度Aがその管理値Aより大きいか、あるいは、小さいかを判断する。大きい時は、成分濃度Aを薄めるように働く補充液(例えば現像液新液や純水など)を現像液に補給する。小さい時は、成分濃度Aを濃くするように働く補充液(例えば、現像液原液や新液など)を現像液に補給する。成分濃度Aがその管理値Aと同じである時は、何もしない。 First, in the step of adjusting the component concentration A, component concentration A is the management value A 0 or greater than or to determine whether small. When it is larger, a replenisher (such as a new developer or pure water) that reduces the component concentration A is replenished to the developer. When it is small, a replenisher (such as a developing solution stock solution or a new solution) that works to increase the component concentration A is replenished to the developing solution. When component concentration A is the same as the management value A 0 does nothing.

成分濃度Bを調整するステップでは、成分濃度Bがその管理値Bより大きいか否かを判断する。大きい時は、成分濃度Bを薄めるように働く補充液(例えば、現像液新液がアルカリ成分濃度を変えないので好ましい)を現像液に補給する。小さい時は、何もしない。 In the step of adjusting the component concentration B, component concentration B to determine whether the management value B 0 is greater than. When it is larger, a replenisher that works to reduce the component concentration B (for example, a new developer is preferable because it does not change the alkali component concentration) is replenished to the developer. When it is small, nothing is done.

図14は、現像液の二つの成分の一方を成分濃度により、他方を特性値により管理する場合の現像液管理方法のフロー図である。本実施形態の現像液管理方法は、二酸化炭素の吸収が少ないように管理されているアルカリ性現像液において、現像液のアルカリ成分濃度が所定の管理値となるように、及び、現像液の特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度が所定の管理値以下となるように、現像液を管理する場合などに、好ましく適用される。   FIG. 14 is a flowchart of a developer management method in the case where one of the two components of the developer is managed by the component concentration and the other is managed by the characteristic value. In the developing solution management method of the present embodiment, in an alkaline developing solution managed so as to absorb less carbon dioxide, the alkali component concentration of the developing solution becomes a predetermined management value, and the specific wavelength of the developing solution This is preferably applied to the case where the developer is managed so that the absorbance at (for example, λ = 560 nm) is not more than a predetermined management value.

本実施形態では、成分濃度Aを所定の管理値Aに、現像液の特性値bの測定値bを所定の管理値b以下に管理するものとする。成分濃度Aは例えばアルカリ成分濃度、特性値bは例えば特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度である。 In the present embodiment, the component concentration A to a predetermined control value A 0, and manages the measured values b m for characteristic values b of the developer to a predetermined control value b 0 or less. The component concentration A is, for example, the alkali component concentration, and the characteristic value b is, for example, the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm).

測定ステップで現像液の特性値a、bが測定され、その測定値a、bが演算ステップに送られる。演算ステップでは、測定値a、bから多変量解析法により現像液の成分濃度A、Bが測定される。演算ステップにより算出された成分濃度Aと、測定ステップにより測定された特性値bの測定値bは、補給ステップに送られる。 In the measuring step, the characteristic values a and b of the developer are measured, and the measured values a m and b m are sent to the calculation step. In the calculation step, the component concentrations A and B of the developer are measured from the measured values a m and b m by a multivariate analysis method. The component concentration A calculated by the calculation step and the measurement value b m of the characteristic value b measured by the measurement step are sent to the replenishment step.

補給ステップは、成分濃度Aを調整するステップと特性値bを調整するステップとを含む。成分濃度Aを調整するステップは、図13の場合と同様であるので、その説明を省略する。   The replenishment step includes a step of adjusting the component concentration A and a step of adjusting the characteristic value b. The step of adjusting the component concentration A is the same as that in the case of FIG.

特性値bを調整するステップでは、その測定値bがその管理値bと比較して大きいか否かを判断する。大きい時は、成分濃度Bを薄めるように働く補充液(例えば、現像液新液がアルカリ成分濃度を変えないので好ましい)を現像液に補給する。小さい時は、何もしない。 In the step of adjusting the characteristic value b, it is determined whether or not the measured value b m is larger than the management value b 0 . When it is larger, a replenisher that works to reduce the component concentration B (for example, a new developer is preferable because it does not change the alkali component concentration) is replenished to the developer. When it is small, nothing is done.

特性値bと成分濃度Bとが単調増加の相関関係を有するときには、特性値bがその管理値b0以下に管理されることにより、成分濃度Bがその管理値B以下になるように管理されることになる。特性値bと成分濃度Bとが単調減少の相関関係を有するときには、判断の大小関係を反転させて動作させれば、同様に、成分濃度Bがその管理値B以下になるように管理できる。 When the the characteristic value b and component concentration B has a correlation of monotonically increasing, by characteristic value b is managed below the management value b0, is managed as the component concentration B is the management value B 0 following Will be. When the characteristic value b and the component concentration B have a monotonously decreasing correlation, the component concentration B can be managed to be equal to or less than the management value B 0 by operating the judgment with the magnitude relationship reversed. .

図15は、現像液の三つの成分を成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。本実施形態の現像液管理方法は、例えば、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値に、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値以下に、及び、吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値以下に管理する場合などに、好ましく適用される。   FIG. 15 is a flowchart of a developer management method for managing the three components of the developer based on the component concentrations. In the developer management method of the present embodiment, for example, the alkali component concentration of the developer is set to a predetermined control value, the dissolved photoresist concentration is set to a predetermined control value or less, and the absorbed carbon dioxide concentration is set to a predetermined control value or less. It is preferably applied when managing.

補給ステップは、成分濃度Aを所定の管理値Aに、成分濃度Bを所定の管理値B以下に、成分濃度Cを所定の管理値C以下に管理するものとする。成分濃度Aは例えばアルカリ成分濃度、成分濃度Bは例えば溶解フォトレジスト濃度、成分濃度Cは例えば吸収二酸化炭素濃度である。 In the replenishment step, the component concentration A is managed to a predetermined management value A 0 , the component concentration B is managed to a predetermined management value B 0 or less, and the component concentration C is managed to a predetermined management value C 0 or less. The component concentration A is, for example, an alkali component concentration, the component concentration B is, for example, a dissolved photoresist concentration, and the component concentration C is, for example, an absorbed carbon dioxide concentration.

測定ステップで現像液の特性値a、b、c、…が測定され、その測定値a、b、c、…が演算ステップに送られる。演算ステップでは、測定値a、b、c、…から多変量解析法により現像液の成分濃度A、B、C、…が測定される。演算ステップにより算出された成分濃度A、B、C、…は、補給ステップに送られる。 In the measurement step, the characteristic values a, b, c,... Of the developer are measured, and the measured values a m , b m , cm ,. In the calculation step, the developer component concentrations A, B, C,... Are measured from the measured values a m , b m , cm ,. The component concentrations A, B, C,... Calculated by the calculation step are sent to the replenishment step.

補給ステップは、成分濃度Aを調整するステップ、成分濃度Bを調整するステップ、及び、成分濃度Cを調整するステップを含む。   The replenishment step includes a step of adjusting the component concentration A, a step of adjusting the component concentration B, and a step of adjusting the component concentration C.

まず、成分濃度Aを調整するステップでは、成分濃度Aがその管理値Aより大きいか、あるいは、小さいかを判断する。大きい時は、成分濃度Aを薄めるように働く補充液(例えば現像液新液や純水など)を現像液に補給する。小さい時は、成分濃度Aを濃くするように働く補充液(例えば現像液原液や新液など)を現像液に補給する。成分濃度Aがその管理値Aと同じである時は、何もしない。 First, in the step of adjusting the component concentration A, component concentration A is the management value A 0 or greater than or to determine whether small. When it is larger, a replenisher (such as a new developer or pure water) that reduces the component concentration A is replenished to the developer. When it is small, a replenisher (such as a developing solution stock or a new solution) that works to increase the component concentration A is replenished to the developer. When component concentration A is the same as the management value A 0 does nothing.

成分濃度Bを調整するステップでは、成分濃度Bがその管理値Bより大きいか否かを判断する。大きい時は、成分濃度Bを薄めるように働く補充液(例えば現像液新液がアルカリ成分濃度を変えないので好ましい)を現像液に補給する。小さい時は、何もしない。 In the step of adjusting the component concentration B, component concentration B to determine whether the management value B 0 is greater than. When it is large, a replenisher that works to reduce the component concentration B (for example, a new developer is preferable because it does not change the alkali component concentration) is replenished to the developer. When it is small, nothing is done.

成分濃度Cを調整するステップでは、成分濃度Cがその管理値Cより大きいか否かを判断する。大きい時は、成分濃度Cを薄めるように働く補充液(例えば、現像液新液がアルカリ成分濃度を変えないので好ましい)を現像液に補給する。小さい時は、何もしない。 In the step of adjusting the component concentration C, component concentration C is determined whether the larger control value C 0. When it is large, a replenisher that works to reduce the component concentration C (for example, a new developer is preferable because it does not change the alkali component concentration) is replenished to the developer. When it is small, nothing is done.

図16は、現像液の三つの成分のうち一つを特性値により、他の二つを成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。本実施形態の現像液管理方法は、現像液のアルカリ成分濃度が所定の管理値となるように、現像液の特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度が所定の管理値以下となるように、及び、現像液の吸収二酸化炭素濃度が所定の管理値以下となるように、現像液を管理する場合などに、好ましく適用される。   FIG. 16 is a flowchart of a developer management method in which one of the three components of the developer is managed by the characteristic value and the other two are managed by the component concentration. In the developer management method of the present embodiment, the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm) of the developer is equal to or less than the predetermined management value so that the alkali component concentration of the developer becomes a predetermined management value. And it is preferably applied when managing the developer so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is not more than a predetermined control value.

本実施形態では、成分濃度Aを所定の管理値Aに、現像液の特性値bの測定値bを所定の管理値b以下に、成分濃度Cを所定の管理値C以下に管理するものとする。成分濃度Aは例えばアルカリ成分濃度、特性値bは例えば特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度、成分濃度Cは例えば吸収二酸化炭素濃度である。 In this embodiment, the component concentration A is set to a predetermined management value A 0 , the measured value b m of the developer characteristic value b is set to a predetermined management value b 0 or less, and the component concentration C is set to a predetermined management value C 0 or less. Shall be managed. The component concentration A is, for example, the alkali component concentration, the characteristic value b is, for example, the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm), and the component concentration C is, for example, the absorbed carbon dioxide concentration.

測定ステップで現像液の特性値a、b、cが測定され、その測定値a、b、cが演算ステップに送られる。演算ステップでは、測定値a、b、cから多変量解析法により現像液の成分濃度A、B、Cが測定される。演算ステップにより算出された成分濃度A、C、及び、測定ステップで測定された特性値bの測定値bは、補給ステップに送られる。 In the measurement step, the characteristic values a, b, and c of the developer are measured, and the measured values a m , b m , and cm are sent to the calculation step. In the calculation step, the component concentrations A, B, and C of the developer are measured from the measured values a m , b m , and cm by a multivariate analysis method. The component concentrations A and C calculated in the calculation step and the measurement value b m of the characteristic value b measured in the measurement step are sent to the replenishment step.

補給ステップは、成分濃度Aを調整するステップ、特性値bを調整するステップ、及び、成分濃度Cを調整するステップを含む。成分濃度Aを調整するステップ、及び、成分濃度Cを調整するステップは、図15と同様であるので、その説明を省略する。   The replenishment step includes a step of adjusting the component concentration A, a step of adjusting the characteristic value b, and a step of adjusting the component concentration C. The step of adjusting the component concentration A and the step of adjusting the component concentration C are the same as those in FIG.

特性値bを調整するステップでは、その測定値bがその管理値bと比較して大きいか否かを判断する。大きい時は、成分濃度Bを薄めるように働く補充液(例えば、現像液新液がアルカリ成分濃度を変えないので好ましい)を現像液に補給する。小さい時は、何もしない。 In the step of adjusting the characteristic value b, it is determined whether or not the measured value b m is larger than the management value b 0 . When it is larger, a replenisher that works to reduce the component concentration B (for example, a new developer is preferable because it does not change the alkali component concentration) is replenished to the developer. When it is small, nothing is done.

特性値bと成分濃度Bとが単調増加の相関関係を有するときには、特性値bがその管理値b以下に管理されることにより、成分濃度Bがその管理値B以下になるように管理されることになる。特性値bと成分濃度Bとが単調減少の相関関係を有するときには、判断の大小関係を反転させて(すなわちb<b)動作させれば、同様に、成分濃度Bがその管理値B以下になるように管理できる。 When the characteristic value b and the component concentration B have a monotonically increasing correlation, the characteristic value b is managed to be less than or equal to the management value b 0 , so that the component concentration B is managed to be less than or equal to the management value B 0. Will be. When the characteristic value b and the component concentration B have a monotonously decreasing correlation, if the magnitude relationship of the judgment is reversed (that is, b m <b 0 ) and the operation is performed, the component concentration B similarly has its management value B It can be managed to be 0 or less.

図17は、現像液の三つの成分のうち二つを特性値により、他の一つを成分濃度により管理する現像液管理方法のフロー図である。本実施形態の現像液管理方法は、現像液の導電率が所定の管理値となるように、現像液の特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度が所定の管理値以下となるように、及び、現像液の吸収二酸化炭素濃度が所定の管理値以下となるように、現像液を管理する場合などに、好ましく適用される。   FIG. 17 is a flowchart of a developer management method in which two of the three components of the developer are managed by the characteristic value and the other is managed by the component concentration. The developer management method of the present embodiment is such that the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm) of the developer is equal to or less than a predetermined management value so that the conductivity of the developer has a predetermined management value, and It is preferably applied when managing the developing solution so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution is not more than a predetermined control value.

本実施形態では、現像液の特性値aの測定値aを所定の管理値aに、現像液の特性値bの測定値bmを所定の管理値b0以下に、成分濃度Cを所定の管理値C以下に管理するものとする。特性値aは例えば導電率、特性値bは例えば特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度、成分濃度Cは例えば吸収二酸化炭素濃度である。 In the present embodiment, the characteristic value measurement a m a predetermined control value a 0 of a developer, the measured values bm characteristic value b of the developer to a predetermined control value b0 below, the component concentration C given Management value C shall be managed below 0 . The characteristic value a is, for example, conductivity, the characteristic value b is, for example, absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm), and the component concentration C is, for example, absorbed carbon dioxide concentration.

測定ステップで現像液の特性値a、b、cが測定され、その測定値a、b、cが演算ステップに送られる。演算ステップでは、測定値a、b、cから多変量解析法により現像液の成分濃度A、B、Cが測定される。測定ステップで測定された特性値aの測定値a、bの測定値b、及び、演算ステップにより算出された成分濃度Cは、補給ステップに送られる。 In the measurement step, the characteristic values a, b, and c of the developer are measured, and the measured values a m , b m , and cm are sent to the calculation step. In the calculation step, the component concentrations A, B, and C of the developer are measured from the measured values a m , b m , and cm by a multivariate analysis method. The measurement value a m of the characteristic value a measured in the measurement step, the measurement value b m of b, and the component concentration C calculated in the calculation step are sent to the replenishment step.

補給ステップは、特性値aを調整するステップ、特性値bを調整するステップ、及び、成分濃度Cを調整するステップを含む。特性値bを調整するステップ、及び、成分濃度Cを調整するステップは、図16と同様であるので、その説明を省略する。   The replenishment step includes a step of adjusting the characteristic value a, a step of adjusting the characteristic value b, and a step of adjusting the component concentration C. The step of adjusting the characteristic value b and the step of adjusting the component concentration C are the same as in FIG.

特性値aを調整するステップでは、その測定値aがその管理値aと比較して大きいか小さいかを判断する。大きい時は、成分濃度Aを薄めるように働く補充液(例えば現像液原液又は新液)を現像液に補給する。小さい時は、成分濃度Aを濃くするように働く補充液(例えば現像液新液又は純水)を現像液に補給する。同じであるときには、何もしない。 In the step of adjusting the characteristic value a, the measured value a m to determine whether large or small compared to its control value a 0. When it is larger, a replenisher (such as a developing solution stock solution or a new solution) that works to reduce the component concentration A is replenished to the developer. When it is small, a replenisher (such as a new developer or pure water) that works to increase the component concentration A is replenished to the developer. If they are the same, do nothing.

特性値aと成分濃度Aとが単調増加の相関関係を有するときには、特性値aがその管理値aに維持されることにより、成分濃度Aがその管理値Aになるように管理されることになる。特性値aと成分濃度Aとが単調減少の相関関係を有するときには、判断の大小関係を反転させて動作させれば、同様に、成分濃度Aがその管理値Aになるように管理できる。 When the characteristic value a and the component concentration A have a monotonically increasing correlation, the characteristic value a is maintained at the management value a 0 so that the component concentration A is managed to be the management value A 0. It will be. When the characteristic value a and component concentration A has correlation monotonic decrease, be operated by inverting the magnitude relationship between the determination, similarly, can be managed as the component concentration A becomes the management value A 0.

以上、図13から図17に示した現像液管理方法は、現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定ステップと、測定された複数の特性値に基づいて多変量解析法により現像液の成分濃度を算出する演算ステップと、測定される現像液の複数の特性値及び算出される現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて現像液に補充液を補充する補給ステップと、を含んでいる。   As described above, the developer management method shown in FIGS. 13 to 17 is based on the measurement step for measuring a plurality of characteristic values of the developer having a correlation with the component concentration of the developer, and based on the measured plurality of characteristic values. A calculation step for calculating the component concentration of the developer by the variable analysis method, and a measured value or a calculated value of the management target item selected from the plurality of characteristic values of the measured developer and the calculated component concentration of the developer And a replenishment step of replenishing the developer with the replenisher based on the above.

測定ステップは、さらに、特性値aを測定する測定ステップ、特性値bを測定する測定ステップ、特性値cを測定する測定ステップ、…などを含む。しかし、これらのステップの順序は問わない。同時に測定されてもよい。また、温度調整ステップや、試薬添加ステップ、廃液ステップ、など、測定手法に応じて適宜必要なステップを含んでいてよい。   The measurement step further includes a measurement step for measuring the characteristic value a, a measurement step for measuring the characteristic value b, a measurement step for measuring the characteristic value c, and so on. However, the order of these steps does not matter. It may be measured simultaneously. In addition, the temperature adjustment step, the reagent addition step, the waste liquid step, and the like may include steps necessary as appropriate according to the measurement technique.

演算ステップは、多変量解析法により成分濃度を算出する演算ステップを含んでいればよい。多変量解析法とは異なる演算方法(例えば検量線法)により成分濃度を算出するステップなどを含んでいてもよい。   The calculation step only needs to include a calculation step for calculating the component concentration by the multivariate analysis method. A step of calculating a component concentration by a calculation method (for example, a calibration curve method) different from the multivariate analysis method may be included.

補給ステップは、管理対象項目(現像液の特性値又は成分濃度のいずれか)を制御量として、これを所定の管理値となるように、又は、所定の管理値以下あるいは管理領域内となるように、現像液に補充液を補給する、成分濃度Aを調整するステップ、成分濃度Bを調整するステップ、成分濃度Cを調整するステップ、…を含んでいる。その順番は図面に示した順番に限定されない。   In the replenishment step, the management target item (either the developer characteristic value or the component concentration) is used as a control amount so that it becomes a predetermined management value, or less than the predetermined management value or within the management area. In addition, a step of replenishing the developer with a replenisher, a step of adjusting the component concentration A, a step of adjusting the component concentration B, a step of adjusting the component concentration C, and the like are included. The order is not limited to the order shown in the drawings.

また、制御の方式は、制御量を目標値に合わせる制御に用いられる各種の制御方法を採用し得る。特に、比例制御(P制御)、積分制御(I制御)、微分制御(D制御)、及び、これらを組み合わせた制御(PI制御など)が好ましい。より好ましくは、PID制御が適している。   As a control method, various control methods used for control for adjusting a control amount to a target value can be adopted. In particular, proportional control (P control), integral control (I control), differential control (D control), and a combination of these (PI control, etc.) are preferable. More preferably, PID control is suitable.

上記図13から図17の実施形態において、測定ステップ、演算ステップ、補給ステップを繰り返すことにより、現像液の成分濃度Aはその管理値Aに維持され、現像液の成分濃度Bはその管理値B以下に、成分濃度Cはその管理値C以下に管理される。したがって、実施形態の現像液管理方法により、最適な現像性能を維持することができ、所望の線幅や残膜厚を実現することができる。 In the embodiment shown in FIGS. 13 to 17, by repeating the measurement step, the calculation step, and the replenishment step, the developer component concentration A is maintained at its control value A0 , and the developer component concentration B is the control value. Below B 0 , the component concentration C is managed below its control value C 0 . Therefore, the developing solution management method of the embodiment can maintain optimum developing performance, and can realize a desired line width and remaining film thickness.

以下、第十から第十七までの実施形態は、本発明の現像液管理装置に関するものである。   Hereinafter, tenth to seventeenth embodiments relate to the developer management apparatus of the present invention.

本実施形態の現像液管理装置は、アルカリ性現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定部1と、測定部1で測定された複数の特性値から多変量解析法により現像液の成分濃度を算出する演算部2と、測定部1で測定された現像液の特性値又は演算部2で算出された現像液の成分濃度に基づいて現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁41〜43に制御信号を発する制御部3と、を備えている。本発明の現像液管理装置の測定部1及び演算部2は、前述した現像液の成分濃度測定装置における測定部1、演算部2と同様であるので、以下の第十八から第二十五までの実施形態では、その重複する説明を省略する。   The developer management apparatus according to the present embodiment includes a measurement unit 1 that measures a plurality of characteristic values of a developer having a correlation with a component concentration of an alkaline developer, and multivariate analysis from the plurality of characteristic values measured by the measurement unit 1. And a replenishment replenished to the developer based on the characteristic value of the developer measured by the measuring unit 1 or the component concentration of the developer calculated by the calculator 2. And a control unit 3 that emits a control signal to control valves 41 to 43 provided in pipes for feeding the liquid. Since the measurement unit 1 and the calculation unit 2 of the developer management apparatus of the present invention are the same as the measurement unit 1 and the calculation unit 2 in the developer component concentration measurement apparatus described above, the following eighteenth to twenty-fifth. In the above embodiments, the overlapping description is omitted.

〔第十実施形態〕
図18は、本発明の現像液管理装置の説明をするための現像工程の模式図である。本発明の現像液管理装置Eが、現像工程設備B、補充液貯留部C、循環攪拌機構Dなどとともに図示されている。
[Tenth embodiment]
FIG. 18 is a schematic diagram of a developing process for explaining the developer management apparatus of the present invention. A developing solution management apparatus E of the present invention is shown together with a developing process facility B, a replenisher storing portion C, a circulation stirring mechanism D, and the like.

本実施形態の現像液管理装置Eは、現像液の複数の特性値を測定する複数の測定手段11〜13を備えた測定部1と、多変量解析法による演算ブロック21を含む演算部2と、現像液の特性値又は成分濃度のいずれか一方を制御量としてこれを所定の管理値あるいは管理領域内となるように制御する制御部3と、を備えている。また、本実施形態の現像液管理装置は、制御部3と接続されて制御される制御弁41〜43を備えている。   The developing solution management apparatus E of the present embodiment includes a measuring unit 1 including a plurality of measuring units 11 to 13 that measure a plurality of characteristic values of the developing solution, a calculating unit 2 including a calculating block 21 based on a multivariate analysis method, And a control unit 3 for controlling either one of the developer characteristic value or the component concentration as a control amount so as to be within a predetermined management value or management region. Further, the developer management apparatus of the present embodiment includes control valves 41 to 43 that are connected to the control unit 3 and controlled.

現像液管理装置Eは、サンプリング配管15により現像液貯留槽61と接続される。サンプリングポンプ14によりサンプリングされた現像液は、サンプリング配管15を通って測定部1内に導かれる。測定部1内では、各測定手段11〜13が現像液の特性値を測定する。測定後の現像液は、戻り配管16を通って、現像液貯留槽61に戻される。   The developer management apparatus E is connected to the developer storage tank 61 by the sampling pipe 15. The developer sampled by the sampling pump 14 is guided into the measuring unit 1 through the sampling pipe 15. In the measuring unit 1, each measuring means 11-13 measures the characteristic value of the developer. The measured developer is returned to the developer storage tank 61 through the return pipe 16.

演算部2は、測定部1で測定された現像液の複数の特性値の測定値を一組受信する。演算部2は、受信した一組の測定値から多変量解析法により、現像液の成分濃度を算出する。   The computing unit 2 receives a set of measured values of a plurality of characteristic values of the developer measured by the measuring unit 1. The computing unit 2 calculates the component concentration of the developer from the received set of measured values by a multivariate analysis method.

測定動作、演算動作の詳細は、前述の現像液の成分濃度測定装置と同様であるので省略し、以下、制御動作について説明する。   The details of the measurement operation and the calculation operation are the same as those of the developer concentration measuring apparatus described above, and will be omitted. Hereinafter, the control operation will be described.

現像液管理装置Eは、現像液に補給される補充液を送液する管路81〜83と接続される(純水も含めて補充液とする)。各管路81〜83は、現像液管理装置E内で制御部3によりその動作を制御される制御弁41〜43と接続される。   The developer management apparatus E is connected to pipe lines 81 to 83 for supplying a replenisher to be replenished to the developer (including pure water as a replenisher). The pipes 81 to 83 are connected to control valves 41 to 43 whose operations are controlled by the control unit 3 in the developer management apparatus E.

制御部3は、測定部1からは現像液の特性値の測定値を、演算部2からは算出された成分濃度を、受信する。制御部3は、受信した現像液の特性値又は成分濃度を制御量として、この制御量に基づいて、制御弁41〜43に対して制御信号を発する。制御は、例えば、その制御量が所定の管理値となるように、又は、所定の管理領域内となるように、行われる。   The control unit 3 receives the measured value of the developer characteristic value from the measurement unit 1 and the calculated component concentration from the calculation unit 2. The control unit 3 uses the received characteristic value or component concentration of the developer as a control amount, and issues a control signal to the control valves 41 to 43 based on the control amount. The control is performed, for example, so that the control amount becomes a predetermined management value or within a predetermined management area.

制御部3は、制御ブロックを備える。例えば、現像液管理装置Eが現像液の三つの成分濃度A、B、Cを管理するものであれば、制御部3は、成分濃度Aを制御するための制御ブロック31、成分濃度Bを制御するための制御ブロック32、成分濃度Cを制御するための制御ブロック33を備える。管理する成分濃度が二つであれば、制御ブロックは二つでよく、また、管理する成分濃度が三つより多ければそれに応じて同様の制御ブロックをさらに備える。このようにして、制御部3は制御弁41〜43に必要な制御信号を発することができる。   The control unit 3 includes a control block. For example, if the developer management device E manages three component concentrations A, B, and C of the developer, the control unit 3 controls the control block 31 for controlling the component concentration A, and the component concentration B. And a control block 33 for controlling the component concentration C. If the component concentration to be managed is two, the number of control blocks may be two, and if the component concentration to be managed is more than three, the same control block is further provided accordingly. Thus, the control part 3 can issue a control signal required for the control valves 41 to 43.

制御弁41〜43が、例えば、“開”信号を受信している間開く制御弁であって、弁開時に所定の流量を送液できるように予め流量調節された開閉制御弁である場合には、制御部3が、補給すべき補充液を送液する管路に設けられた制御弁に、“開”信号を所定の時間にわたって送ることにより、現像液管理に必要な補充液が必要な量だけ現像液に補給される。   When the control valves 41 to 43 are, for example, control valves that are opened while receiving an “open” signal, and are open / close control valves that have been adjusted in advance so that a predetermined flow rate can be supplied when the valve is open. The control unit 3 needs a replenisher necessary for developing solution management by sending an “open” signal over a predetermined time to a control valve provided in a conduit for supplying a replenisher to be replenished. The developer is replenished by the amount.

制御弁の制御動作は、この例に限らない。制御弁が開閉切り替え信号により弁の開状態と閉状態とを切り替えるものである場合には、制御部3がパルス的な開閉切り替え信号を制御弁に所定の時間間隔で送ることにより、必要な補充液が必要な量だけ現像液に補給される。   The control operation of the control valve is not limited to this example. When the control valve switches between an open state and a closed state of the valve by an open / close switching signal, the control unit 3 sends a pulsed open / close switching signal to the control valve at a predetermined time interval to provide the necessary replenishment. The developer is replenished to the developer in the required amount.

さらに、制御弁41〜43は、弁の開度を制御できるものであってもよいし、単なる流量調整弁(ニードルバルブ)と開閉制御弁との組み合わせであってもよい。制御弁41〜43は、電磁弁でもよいし、空気圧操作弁(エアオペレートバルブ)であってもよい。   Further, the control valves 41 to 43 may be capable of controlling the opening degree of the valve, or may be a combination of a simple flow rate adjustment valve (needle valve) and an open / close control valve. The control valves 41 to 43 may be electromagnetic valves or pneumatically operated valves (air operated valves).

制御弁41〜43が制御部3の発した制御信号に基づいて動作することにより、現像液管理に必要な量の補充液が現像液に補給される。制御部3は、受信した制御量(現像液の特性値又は成分濃度)から求められる補充液の種類とその必要となる補給量に基づいて、必要な補給量が送液されるように、制御すべき制御弁に制御信号を発する。   When the control valves 41 to 43 operate based on the control signal issued by the control unit 3, the replenisher in an amount necessary for developer management is replenished to the developer. The control unit 3 performs control so that the necessary replenishment amount is fed based on the type of replenisher obtained from the received control amount (characteristic value or component concentration of the developer) and the required replenishment amount. A control signal is issued to the control valve to be operated.

このようにして、本実施形態の現像液管理装置により、測定された現像液の特性値又は算出された現像液の成分濃度に基づいて、これらが所定の管理値となるように、又は、所定の管理領域内となるように、現像液を維持管理することができる。   In this way, the developer management apparatus according to the present embodiment uses the measured developer characteristic value or the calculated developer component concentration so that these become a predetermined management value, or a predetermined value. The developer can be maintained and managed so as to be within the management area.

より具体的には、次のような現像液管理が可能となる。ただし、以下に挙げる現像液管理は、例示であり、これに限定されるものではない。   More specifically, the following developer management is possible. However, the developer management described below is merely an example, and the present invention is not limited to this.

第一に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度が、それぞれについての所定の管理値となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液のアルカリ成分濃度を、好ましくは2.375〜2.390(wt%)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは2.380(wt%)に、溶解フォトレジスト濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下の所定の管理値、より好ましくは0.15(wt%)に、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下の所定の管理値、より好ましくは0.25(wt%)に、管理することができる。   First, development in which a replenisher is replenished so that the alkaline component concentration, dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration of an alkaline developer that is repeatedly used have predetermined control values. Liquid management. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the alkali component concentration of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 2.375 to 2.390 (wt%), more preferably 2. The dissolved photoresist concentration is preferably 380 (wt%), preferably a predetermined control value of 0.40 (wt%) or less, more preferably 0.15 (wt%), and the absorbed carbon dioxide concentration is preferably Can be managed to a predetermined management value of 0.40 (wt%) or less, more preferably 0.25 (wt%).

第二に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度が所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度及び吸収二酸化炭素濃度がそれぞれについての所定の管理値以下となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液のアルカリ成分濃度を、好ましくは2.375〜2.390(wt%)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは2.380(wt%)に、溶解フォトレジスト濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下となるように、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下となるように、管理することができる。   Secondly, the developer so that the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration are not more than the predetermined control values for each so that the alkali component concentration of the alkaline developer repeatedly used becomes a predetermined control value. This is developer management for supplying a replenisher. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the alkali component concentration of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 2.375 to 2.390 (wt%), more preferably 2. 380 (wt%) so that the dissolved photoresist concentration is preferably 0.40 (wt%) or less, and the absorbed carbon dioxide concentration is preferably 0.40 (wt%) or less. Can be managed.

第三に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度、特定波長における吸光度、及び、吸収二酸化炭素濃度が、それぞれについての所定の管理値となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液のアルカリ成分濃度を、好ましくは2.375〜2.390(wt%)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは2.380(wt%)に、波長λ=560nmにおける吸光度(セル光路長d=10mm)を、好ましくは1.30(Abs.)以下の所定の管理値、より好ましくは0.50(Abs.)に、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下の所定の管理値、より好ましくは0.25(wt%)に、管理することができる。   Third, development in which a replenisher is supplied to the developer so that the alkaline component concentration, the absorbance at a specific wavelength, and the absorbed carbon dioxide concentration of the alkaline developer to be used repeatedly become predetermined control values for each. Liquid management. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the alkali component concentration of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 2.375 to 2.390 (wt%), more preferably 2. Absorbance at a wavelength λ = 560 nm (cell optical path length d = 10 mm) at 2.380 (wt%), preferably a predetermined control value of 1.30 (Abs.) Or less, more preferably 0.50 (Abs. ), The absorbed carbon dioxide concentration can be managed preferably at a predetermined control value of 0.40 (wt%) or less, more preferably at 0.25 (wt%).

第四に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度が所定の管理となるように、特定波長における吸光度が所定の管理領域内となるように、吸収二酸化炭素濃度が所定の管理値以下となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液のアルカリ成分濃度を、好ましくは2.375〜2.390(wt%)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは2.380(wt%)に、波長λ=560nmにおける吸光度(セル光路長d=10mm)を、好ましくは1.30(Abs.)以下、より好ましくは0.65(Abs.)以下となるように、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下となるように、管理することができる。   Fourth, the absorbed carbon dioxide concentration is less than or equal to a predetermined management value so that the absorbance at a specific wavelength is within a predetermined management region so that the alkali component concentration of the alkaline developer repeatedly used is within the predetermined management. In this way, the developer management is to replenish the developer with the replenisher. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the alkali component concentration of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 2.375 to 2.390 (wt%), more preferably 2. Absorbance (cell optical path length d = 10 mm) at a wavelength λ = 560 nm at 2.380 (wt%), preferably 1.30 (Abs.) Or less, more preferably 0.65 (Abs.) Or less. In addition, the absorbed carbon dioxide concentration can be controlled so as to be preferably 0.40 (wt%) or less.

第五に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液の導電率、特定波長における吸光度、及び、吸収二酸化炭素濃度が、それぞれにおける所定の管理値となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液の導電率を、好ましくは54.47〜54.75(mS/cm)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは54.58(mS/cm)に、波長λ=560nmにおける吸光度(セル光路長d=10mm)を、好ましくは1.3(Abs.)以下の所定の管理値、より好ましくは0.50(Abs.)に、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下の所定の管理値、より好ましくは0.25(wt%)に、管理することができる。   Fifth, developer management that replenishes the developer with a replenisher so that the conductivity of the alkaline developer that is used repeatedly, the absorbance at a specific wavelength, and the absorbed carbon dioxide concentration are the predetermined control values for each. It is. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the conductivity of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 54.47 to 54.75 (mS / cm), more preferably Absorbance (cell optical path length d = 10 mm) at a wavelength λ = 560 nm at 54.58 (mS / cm), preferably a predetermined control value of 1.3 (Abs.) Or less, more preferably 0.50 (Abs) .), The absorbed carbon dioxide concentration can be controlled to a predetermined control value of preferably 0.40 (wt%) or less, more preferably 0.25 (wt%).

第六に、繰り返し使用されるアルカリ性現像液の導電率が所定の管理値となるように、特定波長における吸光度が所定の管理領域内となるように、吸収二酸化炭素濃度が所定の管理値以下となるように、現像液に補充液を補給する現像液管理である。例えば、本発明の現像液管理装置によれば、2.38%TMAH水溶液の導電率を、好ましくは54.47〜54.75(mS/cm)の範囲内の所定の管理値、より好ましくは54.58(mS/cm)に、波長λ=560nmにおける吸光度(セル光路長d=10mm)を、好ましくは1.30(Abs.)以下、より好ましくは0.65(Abs.)以下となるように、吸収二酸化炭素濃度を、好ましくは0.40(wt%)以下となるように、管理することができる。   Sixth, the absorbed carbon dioxide concentration is less than or equal to a predetermined management value so that the absorbance at a specific wavelength is within a predetermined management region so that the conductivity of the alkaline developer repeatedly used has a predetermined management value. In this way, the developer management is to replenish the developer with the replenisher. For example, according to the developer management apparatus of the present invention, the conductivity of the 2.38% TMAH aqueous solution is preferably a predetermined management value within the range of 54.47 to 54.75 (mS / cm), more preferably At 54.58 (mS / cm), the absorbance (cell optical path length d = 10 mm) at a wavelength λ = 560 nm is preferably 1.30 (Abs.) Or less, more preferably 0.65 (Abs.) Or less. Thus, it is possible to manage the absorbed carbon dioxide concentration so as to be preferably 0.40 (wt%) or less.

よって、本実施形態の現像液管理装置によれば、従来のものに比べて、現像液の各成分濃度又は各特性値を所定の管理値又は管理領域内に精度よく管理できるので、現像液を最適な現像性能に維持することができ、所望の線幅や残膜厚を実現することができる。また、表示部DPにより各種データおよびグラフを表示できる。   Therefore, according to the developer management apparatus of the present embodiment, each component concentration or each characteristic value of the developer can be accurately managed within a predetermined management value or management area as compared with the conventional one. Optimum development performance can be maintained, and a desired line width and remaining film thickness can be realized. Various data and graphs can be displayed on the display unit DP.

〔第十一実施形態〕
図19は、現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁41〜43が、本実施形態の現像液管理装置の外部にある実施形態の現像液管理装置を説明するための模式図である。
[Eleventh embodiment]
FIG. 19 illustrates the developer management apparatus according to the embodiment in which the control valves 41 to 43 provided in the pipelines for supplying the replenisher supplied to the developer are outside the developer management apparatus according to the present embodiment. It is a schematic diagram for doing.

本実施形態の現像液管理装置Eは、現像液の複数の特性値を測定する複数の測定手段を備えた測定部1と、多変量解析法による演算ブロック21を含む演算部2と、現像液の特性値又は成分濃度のいずれか一方を制御量としてこれを所定の管理値あるいは管理領域内となるように補充液の補給管路に設けられた制御弁41〜43に制御信号を発する制御部3と、を備えている。   The developer management apparatus E according to the present embodiment includes a measurement unit 1 including a plurality of measurement units that measure a plurality of characteristic values of the developer, a calculation unit 2 including a calculation block 21 based on a multivariate analysis method, and a developer. A control unit which issues a control signal to the control valves 41 to 43 provided in the replenishment liquid supply line so that either one of the characteristic value or the component concentration is a control amount, and this is within a predetermined management value or management region 3 is provided.

本実施形態では、制御部3により制御される制御弁41〜43は、現像液管理装置Eの内部部品ではない。現像液管理装置Eとは別体として、補充液が送液される管路に設けられている。現像液管理装置Eは、補充液が送液されるこれらの管路とは接続されない。その他の構成、動作などは、第十実施形態と同様であるので、省略する。   In the present embodiment, the control valves 41 to 43 controlled by the control unit 3 are not internal components of the developer management apparatus E. As a separate body from the developer management device E, it is provided in a conduit through which the replenisher is fed. The developer management apparatus E is not connected to these pipelines through which the replenisher is fed. Other configurations and operations are the same as those in the tenth embodiment, and are omitted.

〔第十二実施形態〕
図20は、演算機能と制御機能とを併せ持つ演算制御部23を備えた現像液管理装置Eの模式図である。
[Twelfth embodiment]
FIG. 20 is a schematic diagram of a developer management apparatus E including an arithmetic control unit 23 having both an arithmetic function and a control function.

本発明の現像液管理装置Eは、演算部2と制御部3とが別体の装置として構成されている場合に限らない。演算機能と制御機能とを併せ持つ一体の演算制御部23として構成されていてもよい。演算制御部23としては、例えば、コンピュータなどの多機能装置が挙げられる。   The developing solution management apparatus E of the present invention is not limited to the case where the calculation unit 2 and the control unit 3 are configured as separate devices. You may be comprised as the integral calculation control part 23 which has a calculation function and a control function together. An example of the arithmetic control unit 23 is a multifunction device such as a computer.

コンピュータは、入出力機能、送受信機能、演算機能、制御機能、表示機能など、非常に多様な機能を備えている。したがって、本発明の現像液管理装置Eの演算機能、制御機能を、コンピュータにより実現できる。演算制御部23が測定部1及び制御弁41〜43と接続されていればよい。このとき、多変量解析法により測定された現像液の特性値から成分濃度を算出する演算処理プログラムと、制御量(現像液の特性値又は成分濃度)が所定の管理値となるように、又は、所定の管理領域内となるように、制御弁41〜43に対して制御信号を発する制御プログラムとが、コンピュータに実装されていれば、現像液を所定の状態に維持管理できる。   Computers have a great variety of functions such as input / output functions, transmission / reception functions, arithmetic functions, control functions, and display functions. Therefore, the calculation function and control function of the developer management apparatus E of the present invention can be realized by a computer. The calculation control part 23 should just be connected with the measurement part 1 and the control valves 41-43. At this time, an arithmetic processing program for calculating the component concentration from the characteristic value of the developer measured by the multivariate analysis method and the control amount (the characteristic value or component concentration of the developer) become a predetermined management value, or If the control program that issues a control signal to the control valves 41 to 43 is mounted on the computer so as to be in the predetermined management area, the developer can be maintained in a predetermined state.

その他の構成、動作などは、第十実施形態と同様であるので、省略する。   Other configurations and operations are the same as those in the tenth embodiment, and are omitted.

〔第十三実施形態〕
図21は、現像液の二つの成分を管理する現像液管理装置の模式図である。本実施形態の現像液管理装置Eは、二酸化炭素の吸収が少ないように管理されたアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度と溶解フォトレジスト濃度を管理する場合などに、好ましく適用される。
[13th embodiment]
FIG. 21 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages two components of the developer. The developer management apparatus E of the present embodiment is preferably applied when managing the alkali component concentration and the dissolved photoresist concentration of an alkaline developer that is managed so as to absorb less carbon dioxide.

第一の測定手段11が、現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、導電率を測定する導電率計)であり、第二の測定手段12が、現像液の成分のうち少なくとも溶解フォトレジスト濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、波長λ=560nmにおける吸光度を測定する吸光光度計)であるとすれば、演算部2が多変量解析法による演算ブロック21を含むので、多変量解析法により測定された現像液の特性値から現像液のアルカリ成分濃度及び溶解フォトレジスト濃度を算出することができる。   The first measuring means 11 is a measuring means (for example, a conductivity meter for measuring conductivity) for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with at least the alkali component concentration among the components of the developer. It is assumed that the measuring unit 12 is a measuring unit (for example, an absorptiometer that measures absorbance at a wavelength λ = 560 nm) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the dissolved photoresist concentration among the components of the developer. For example, since the calculation unit 2 includes the calculation block 21 based on the multivariate analysis method, the alkali component concentration and the dissolved photoresist concentration of the developer can be calculated from the characteristic values of the developer measured by the multivariate analysis method.

そうすると、制御ブロック31が現像液の導電率又はアルカリ成分濃度を所定の管理値
となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック32が現像液の特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度又は溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理領域内となるように制御バルブに制御信号を発する制御ブロックであるときには、制御部3は測定された現像液の特性値と算出された現像液の成分濃度とを受信できるように測定部1及び演算部2と接続されているので、本実施態様の現像液管理装置Eにより、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理領域内となるように、現像液を維持管理できる。
Then, the control block 31 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the conductivity or alkali component concentration of the developer becomes a predetermined control value, and the control block 32 has a specific wavelength (for example, λ = 560 nm) of the developer. ) Is a control block that issues a control signal to the control valve so that the absorbance or dissolved photoresist concentration in the control region is within a predetermined control value or control region, the control unit 3 calculates the measured developer characteristic value. Since it is connected to the measurement unit 1 and the calculation unit 2 so that the component concentration of the developer can be received, the developer management device E of the present embodiment causes the alkali component concentration of the developer to become a predetermined management value. In addition, the developer can be maintained and managed so that the dissolved photoresist concentration falls within a predetermined management value or management area.

その他の詳細は、他の実施形態と同様であるので、省略する。   The other details are the same as those of the other embodiments, and will be omitted.

〔第十四実施形態〕
図22は、現像液の二つの成分を成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。本実施形態の現像液管理装置は、二酸化炭素を吸収しないように管理されたアルカリ性現像液のアルカリ成分濃度と溶解フォトレジスト濃度を管理濃度値に管理する場合などに、好ましく適用される。
[14th embodiment]
FIG. 22 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages two components of a developer based on component concentrations. The developer management apparatus of the present embodiment is preferably applied when managing the alkali component concentration and dissolved photoresist concentration of an alkaline developer managed so as not to absorb carbon dioxide to a management concentration value.

第一の測定手段11が、現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば導電率を測定する導電率計)であり、第二の測定手段12が、現像液の成分のうち少なくとも溶解フォトレジスト濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えばλ=560nmにおける吸光度を測定する吸光光度計)であるとすれば、演算部2が多変量解析法による演算ブロック21を含むので、多変量解析法により測定された現像液の特性値から現像液のアルカリ成分濃度及び溶解フォトレジスト濃度を算出することができる。   The first measuring means 11 is a measuring means (for example, a conductivity meter for measuring conductivity) for measuring the characteristic value of the developer having a correlation with at least the alkali component concentration among the components of the developer. If the means 12 is a measuring means (for example, an absorptiometer that measures the absorbance at λ = 560 nm) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the dissolved photoresist concentration among the components of the developer, an arithmetic operation is performed. Since the part 2 includes the calculation block 21 by the multivariate analysis method, the alkali component concentration and the dissolved photoresist concentration of the developer can be calculated from the characteristic values of the developer measured by the multivariate analysis method.

そうすると、制御ブロック31がアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック32が溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであるとすれば、制御部3は算出された現像液の成分濃度を受信できるように演算部2と接続されているので、本実施態様の現像液管理装置Eにより、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、現像液を維持管理できる。   Then, the control block 31 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the alkali component concentration becomes a predetermined management value, and the control block 32 makes the dissolved photoresist concentration lower than the predetermined management value or the management value. If the control block is a control block that issues a control signal to the control valve, the control unit 3 is connected to the calculation unit 2 so as to receive the calculated component concentration of the developer. With the apparatus E, the developer can be maintained and managed so that the concentration of the alkali component of the developer becomes a predetermined management value, and the dissolved photoresist concentration becomes a predetermined management value or less than the management value.

その他の詳細は、他の実施形態と同様であるので、省略する。   The other details are the same as those of the other embodiments, and will be omitted.

〔第十五実施形態〕
図23は、現像液の三つの成分のうち二つを特性値により、他の一つを成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。本実施形態の現像液管理装置は、アルカリ性現像液のアルカリ成分濃度を導電率により、溶解フォトレジスト濃度を特定波長(例えばλ=560nm)における吸光度により管理し、吸収二酸化炭素濃度を濃度により管理する場合などに、好ましく適用される。
[Fifteenth embodiment]
FIG. 23 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages two of the three components of the developer based on characteristic values and the other based on the component concentration. The developer management apparatus of this embodiment manages the alkali component concentration of an alkaline developer by conductivity, the dissolved photoresist concentration by absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm), and the absorbed carbon dioxide concentration by concentration. It is preferably applied to cases.

第一の測定手段11が、現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、導電率を測定する導電率計)であり、第二の測定手段12が、現像液の成分のうち少なくとも溶解フォトレジスト濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、λ=560nmにおける吸光度を測定する吸光光度計)であり、第三の測定手段が、現像液の成分のうち少なくとも吸収二酸化炭素濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、密度を測定する密度計)であるとすれば、演算部2が多変量解析法による演算ブロック21を含むので、多変量解析法により測定された現像液の特性値から現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を算出することができる。   The first measuring means 11 is a measuring means (for example, a conductivity meter for measuring conductivity) for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with at least the alkali component concentration among the components of the developer. The measuring unit 12 is a measuring unit (for example, an absorptiometer that measures absorbance at λ = 560 nm) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the dissolved photoresist concentration among the components of the developer. If the measuring means is a measuring means (for example, a density meter for measuring the density) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the absorbed carbon dioxide concentration among the components of the developer, Since the calculation block 21 by the multivariate analysis method is included, the alkali component concentration of the developer, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide are determined from the characteristic values of the developer measured by the multivariate analysis method. It is possible to calculate the degree.

そうすると、制御ブロック31が現像液の導電率を所定の管理値となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック32が現像液の特性波長(例えばλ=560nm)における吸光度を所定の管理値あるいは管理領域内となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック33が吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであるときには、制御部3は、測定された現像液の特性値を受信できるように測定部1と接続され、算出された現像液の成分濃度を受信できるように演算部2と接続されているので、本実施態様の現像液管理装置Eにより、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、及び、吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、現像液を維持管理できる。   Then, the control block 31 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the conductivity of the developer becomes a predetermined management value, and the control block 32 determines the absorbance at the characteristic wavelength of the developer (for example, λ = 560 nm). A control block that issues a control signal to the control valve so as to be within a predetermined management value or management area, and the control block 33 controls the control valve so that the absorbed carbon dioxide concentration is equal to or lower than the predetermined management value or management value. Control unit 3 is connected to measurement unit 1 so as to receive the measured characteristic value of the developer, and with calculation unit 2 so as to receive the calculated component concentration of the developer. Since it is connected, the concentration of dissolved photoresist is adjusted by the developer management apparatus E of this embodiment so that the alkali component concentration of the developer becomes a predetermined control value. As it will be less constant control value or the control value, and, as the absorption of carbon dioxide concentration equal to or less than a predetermined control value or control value, can maintain a developer.

その他の詳細は、他の実施形態と同様であるので、省略する。   The other details are the same as those of the other embodiments, and will be omitted.

〔第十六実施形態〕
図24は、現像液の三つの成分のうち一つを特性値により、他の二つを成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。本実施形態の現像液管理装置は、アルカリ性現像液のアルカリ成分濃度と吸収二酸化炭素濃度を濃度により管理し、溶解フォトレジスト濃度を特定波長(例えば、λ=560nm)における吸光度により管理する場合などに、好ましく適用される。
[Sixteenth embodiment]
FIG. 24 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages one of the three components of the developer based on the characteristic value and the other two based on the component concentration. The developer management apparatus of the present embodiment manages the alkaline component concentration and the absorbed carbon dioxide concentration of the alkaline developer by the concentration, and manages the dissolved photoresist concentration by the absorbance at a specific wavelength (for example, λ = 560 nm). , Preferably applied.

第一の測定手段11が、現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、導電率を測定する導電率計)であり、第二の測定手段12が、現像液の成分のうち少なくとも溶解フォトレジスト濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば、λ=560nmにおける吸光度を測定する吸光光度計)であり、第三の測定手段が、現像液の成分のうち少なくとも吸収二酸化炭素濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば密度を測定する密度計)であるとすれば、演算部2が多変量解析法による演算ブロック21を含むので、多変量解析法により測定された現像液の特性値から現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を算出することができる。   The first measuring means 11 is a measuring means (for example, a conductivity meter for measuring conductivity) for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with at least the alkali component concentration among the components of the developer. The measuring unit 12 is a measuring unit (for example, an absorptiometer that measures absorbance at λ = 560 nm) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the dissolved photoresist concentration among the components of the developer. If the measuring means is a measuring means (for example, a density meter for measuring the density) that measures at least the characteristic value of the developing solution that correlates with the absorbed carbon dioxide concentration among the components of the developing solution, there are many calculation units 2. Since the calculation block 21 by the variable analysis method is included, the alkali component concentration of the developer, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration are determined from the characteristic values of the developer measured by the multivariate analysis method. It can be calculated.

そうすると、制御ブロック31がアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように制御バルブに制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック32が現像液の特性波長(例えば、λ=560nm)における吸光度を所定の管理値あるいは管理領域内となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック33が吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであるときには、制御部3は、測定された現像液の特性値を受信できるように測定部1と接続され、算出された現像液の成分濃度を受信できるように演算部2と接続されているので、本実施態様の現像液管理装置Eにより、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、及び、吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、現像液を維持管理できる。   Then, the control block 31 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the alkali component concentration becomes a predetermined management value, and the control block 32 determines the absorbance at a characteristic wavelength (for example, λ = 560 nm) of the developer. Is a control block that issues a control signal to the control valve so that the control value falls within the management region, and the control block 33 sends a control signal to the control valve so that the absorbed carbon dioxide concentration becomes a predetermined management value or a management value or less. When the control block is issued, the control unit 3 is connected to the measurement unit 1 so as to receive the measured characteristic value of the developer, and is connected to the calculation unit 2 so as to receive the calculated component concentration of the developer. Therefore, the developer management device E of the present embodiment uses the dissolution photoresist so that the alkali component concentration of the developer becomes a predetermined control value. So that the concentration equal to or less than a predetermined control value or control value, and, as the absorption of carbon dioxide concentration equal to or less than a predetermined control value or control value, can maintain a developer.

その他の詳細は、他の実施形態と同様であるので、省略する。   The other details are the same as those of the other embodiments, and will be omitted.

〔第十七実施形態〕
図25は、現像液の三つの成分を成分濃度により管理する現像液管理装置の模式図である。本実施形態の現像液管理装置は、アルカリ性現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を濃度により管理する場合などに、好ましく適
用される。
[17th embodiment]
FIG. 25 is a schematic diagram of a developer management apparatus that manages three components of a developer based on component concentrations. The developer management apparatus of the present embodiment is preferably applied to the case where the alkali component concentration, dissolved photoresist concentration, and absorbed carbon dioxide concentration of the alkaline developer are managed by the concentration.

第一の測定手段11が、現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば導電率を測定する導電率計)であり、第二の測定手段12が、現像液の成分のうち少なくとも溶解フォトレジスト濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えばλ=560nmにおける吸光度を測定する吸光光度計)であり、第三の測定手段が、現像液の成分のうち少なくとも吸収二酸化炭素濃度と相関のある現像液の特性値を測定する測定手段(例えば密度を測定する密度計)であるとすれば、演算部2が多変量解析法による演算ブロック21を含むので、多変量解析法により測定された現像液の特性値から現像液のアルカリ成分濃度、溶解フォトレジスト濃度、及び、吸収二酸化炭素濃度を算出することができる。   The first measuring means 11 is a measuring means (for example, a conductivity meter for measuring conductivity) for measuring the characteristic value of the developer having a correlation with at least the alkali component concentration among the components of the developer. The means 12 is a measuring means (for example, an absorptiometer for measuring the absorbance at λ = 560 nm) that measures at least the characteristic value of the developer having a correlation with the dissolved photoresist concentration among the components of the developer. If the means is a measuring means (for example, a density meter that measures the density) that measures at least the characteristic value of the developer that correlates with the absorbed carbon dioxide concentration among the components of the developer, the arithmetic unit 2 performs multivariate analysis. Since the calculation block 21 by the method is included, the alkali component concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer are calculated from the characteristic values of the developer measured by the multivariate analysis method. It can be out.

そうすると、制御ブロック31がアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック32が容器フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであり、制御ブロック33が吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように制御弁に制御信号を発する制御ブロックであるときには、制御部3は算出された現像液の成分濃度を受信できるように演算部2と接続されているので、本実施態様の現像液管理装置Eにより、現像液のアルカリ成分濃度を所定の管理値となるように、溶解フォトレジスト濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、及び、吸収二酸化炭素濃度を所定の管理値あるいは管理値以下となるように、現像液を維持管理できる。   Then, the control block 31 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the alkali component concentration becomes a predetermined management value, and the control block 32 makes the container photoresist concentration lower than the predetermined management value or the management value. When the control block 33 is a control block that issues a control signal to the control valve so that the absorbed carbon dioxide concentration becomes a predetermined management value or less than the management value. Is connected to the calculation unit 2 so as to receive the calculated component concentration of the developer, so that the developer management apparatus E according to the present embodiment causes the alkali component concentration of the developer to become a predetermined management value. The dissolved photoresist concentration is set to a predetermined control value or lower than the control value, and the absorbed carbon dioxide concentration is set to a predetermined control value or control. So that less can maintain the developing solution.

その他の詳細は、他の実施形態と同様であるので、省略する。   The other details are the same as those of the other embodiments, and will be omitted.

以上、第十から第十七までの実施形態に示した通り、本実施形態の現像液管理装置はアルカリ性現像液の成分濃度と相関のある現像液の複数の特性値を測定する測定部1と、測定部1で測定された複数の特性値から多変量解析法により現像液の成分濃度を算出する演算部2と、測定部1で測定された現像液の特性値又は演算部2で算出された現像液の成分濃度に基づいて現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁41〜43に制御信号を発する制御部3と、を備えている。   As described above, as shown in the tenth to seventeenth embodiments, the developer management apparatus according to the present embodiment includes the measurement unit 1 that measures a plurality of characteristic values of the developer having a correlation with the component concentration of the alkaline developer. The calculation unit 2 calculates the developer component concentration from the plurality of characteristic values measured by the measurement unit 1 by a multivariate analysis method, and the developer characteristic value measured by the measurement unit 1 or the calculation unit 2 And a control unit 3 that issues a control signal to control valves 41 to 43 provided in pipes for supplying a replenisher replenished to the developer based on the component concentration of the developer.

本実施形態の現像液管理装置における測定部1及び演算部2は、現像液の濃度測定装置における測定部1及び演算部2と同様に、種々の態様をとることができる。   The measurement unit 1 and the calculation unit 2 in the developer management apparatus according to the present embodiment can take various aspects, like the measurement unit 1 and the calculation unit 2 in the developer concentration measurement apparatus.

本実施形態の現像液管理装置における制御部3は、演算部2と別体の装置として備えられている必要はなく、一体の装置(例えばコンピュータ)の制御機能と演算機能として実装されていてもよい。また、図11のように、制御部3が測定部1や演算部2とは別体で構成されていてもよい。制御部3は、制御量となっている測定部1により測定された特性値又は演算部2により算出された成分濃度を受け取ることができるように、測定部1や演算部2と相互に連絡していればよい。そうすれば、受信した特性値や成分濃度に基づいて、必要な制御信号を発することができる。   The control unit 3 in the developer management apparatus of the present embodiment does not need to be provided as a separate device from the calculation unit 2, and may be implemented as a control function and a calculation function of an integrated device (for example, a computer). Good. In addition, as shown in FIG. 11, the control unit 3 may be configured separately from the measurement unit 1 and the calculation unit 2. The control unit 3 communicates with the measurement unit 1 and the calculation unit 2 so that the characteristic value measured by the measurement unit 1 serving as the control amount or the component concentration calculated by the calculation unit 2 can be received. It only has to be. Then, a necessary control signal can be issued based on the received characteristic value and component concentration.

補充液を送液するための管路についても、本実施形態の現像液管理装置Eに接続されてもよいし、接続されなくてもよい。制御弁も、現像液管理装置Eの内部部品でなくてもよい。制御部3の制御信号により制御されるように制御部3と連絡していれば、現像液管理装置Eの外部に備えられていてもよい。   The conduit for feeding the replenisher may also be connected to the developer management apparatus E of the present embodiment, or may not be connected. The control valve may not be an internal component of the developer management apparatus E. As long as the control unit 3 communicates with the control unit 3 so as to be controlled by the control signal of the control unit 3, it may be provided outside the developer management apparatus E.

以上のとおり、本発明の現像液管理装置によれば、現像液の各成分濃度又は各特性値を所定の管理値又は管理範囲内に管理することができる。したがって、本発明の現像液管理装置により、最適な現像性能を維持することができ、所望の線幅や残膜厚を実現すること
ができる。
As described above, according to the developer management apparatus of the present invention, each component concentration or each characteristic value of the developer can be managed within a predetermined management value or management range. Therefore, with the developer management apparatus of the present invention, it is possible to maintain optimum developing performance and realize a desired line width and remaining film thickness.

本発明の現像液管理装置によれば、現像液の各成分濃度が所定の状態に精度よく制御されるので、現像液の現像性能がより一層精度よく一定となるように維持管理できる。したがって、フォトレジストを現像する際の現像速度が一定に安定化し、現像処理による線幅や残膜厚が一定化され、製品品質が向上するとともに、より一層の微細化、及び高集積化の実現に寄与するものと期待される。   According to the developer management apparatus of the present invention, since the concentration of each component of the developer is accurately controlled to a predetermined state, the development performance of the developer can be maintained and managed so as to be more accurate and constant. Therefore, the development speed when developing the photoresist is stabilized, the line width and remaining film thickness by the development process are made constant, the product quality is improved, and further miniaturization and higher integration are realized. It is expected to contribute to

本発明の現像液管理装置によれば、現像液が自動で常時最適な現像性能に維持されるため、製品歩留まりを向上させるとともに、現像液の交換作業が不要となり、ランニングコストや廃液コストの低減に寄与するものと期待される。   According to the developer management apparatus of the present invention, since the developer is automatically maintained at the optimum development performance at all times, the yield of the product is improved, and the replacement work of the developer is not required, and the running cost and the waste liquid cost are reduced. It is expected to contribute to

A…成分濃度測定装置、B…現像工程設備、C…補充液貯留部、D…循環攪拌機構、E…現像液管理装置
1…測定部
11…第一の測定手段、12…第二の測定手段、13…第三の測定手段、
11a、12a、13a…測定装置本体、11b、12b、13b…測定プローブ
14、14a、14b、14c…サンプリングポンプ、15、15a、15b、15c…サンプリング配管、16、16a、16b、16c…戻り配管、17…送液ポンプ、18…送液配管、19…廃液配管
2…演算部
21…多変量解析法による演算ブロック、22…検量線法による演算ブロック
23…演算制御部(例えばコンピュータ)
3…制御部
31、32、33…制御ブロック
4…バルブ
41〜43…制御弁、44、45…バルブ、46、47…加圧ガス用バルブ
5…信号線
51〜53…測定データ用信号線、54…演算データ用信号線、55〜57…制御信号用信号線
6…現像設備
61…現像液貯留槽、62…オーバーフロー槽、63…液面計、64…現像室フード、65…ローラーコンベア、66…基板、67…現像液シャワーノズル
7…現像設備
71…廃液ポンプ、72、74…循環ポンプ、73、75…フィルター
8…流体管路
80…現像液管路、81、82…補充液(現像原液、及び/又は新液)用管路、83…純水用管路、84…合流管路、85…循環管路、86…窒素ガス用管路
9…補充液貯留槽、その他
91、92…補充液(現像原液、及び/又は新液)貯留槽
93…添加試薬
10…測定データ記憶部
101…記憶ブロック
DP…表示部
A ... Component concentration measuring device, B ... Development process equipment, C ... Replenisher storage unit, D ... Circulating stirring mechanism, E ... Developer management device 1 ... Measuring unit 11 ... First measuring means, 12 ... Second measurement Means, 13 ... third measuring means,
11a, 12a, 13a ... measuring device main body, 11b, 12b, 13b ... measuring probe 14, 14a, 14b, 14c ... sampling pump, 15, 15a, 15b, 15c ... sampling pipe, 16, 16a, 16b, 16c ... return pipe DESCRIPTION OF SYMBOLS 17 ... Liquid feed pump, 18 ... Liquid feed piping, 19 ... Waste liquid piping 2 ... Calculation part 21 ... Calculation block by multivariate analysis method, 22 ... Calculation block 23 by calibration curve method ... Calculation control part (for example, computer)
3 ... Control unit 31, 32, 33 ... Control block 4 ... Valve 41-43 ... Control valve, 44, 45 ... Valve, 46, 47 ... Valve for pressurized gas 5 ... Signal line 51-53 ... Signal line for measurement data 54 ... Calculation data signal line 55-57 ... Control signal signal line 6 ... Development facility 61 ... Developer storage tank 62 ... Overflow tank 63 ... Liquid level gauge 64 ... Development chamber hood 65 ... Roller conveyor , 66 ... Substrate, 67 ... Developer shower nozzle 7 ... Development equipment 71 ... Waste liquid pump, 72, 74 ... Circulation pump, 73, 75 ... Filter 8 ... Fluid line 80 ... Developer line, 81, 82 ... Replenisher (Development stock solution and / or new solution) conduit, 83... Pure water conduit, 84. Confluence conduit, 85 .. circulation conduit, 86 .. nitrogen gas conduit 9 .. replenisher reservoir, and others 91 92 ... Replenisher (developer stock solution and / or new solution) Tomeso 93 ... adding reagent 10 ... measurement data storage section 101 ... storage block DP ... display unit

Claims (14)

繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を測定する測定部と、
前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記測定部により測定された前記特性値、及び、前記演算部により算出された前記成分濃度、のうち少なくともいずれか一方、を表示する表示部と、
を備える現像液の成分濃度測定装置。
A measurement unit that measures a plurality of characteristic values of the developer that are used repeatedly and correlates with a component concentration of the developer that exhibits alkalinity;
Based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, a calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method;
A display unit that displays at least one of the characteristic value measured by the measurement unit and the component concentration calculated by the calculation unit;
An apparatus for measuring a concentration of a component of a developer.
繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、
前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、
前記測定データ記憶部に記憶された成分濃度のデータを、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、
を備える現像液の成分濃度測定装置。
A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that are correlated with the component concentration of the alkaline developer that is used repeatedly;
A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values;
A measurement data storage unit that stores the component concentration calculated by the calculation unit together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement;
A display unit for displaying the data of the component concentration stored in the measurement data storage unit as a graph with the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index;
An apparatus for measuring a concentration of a component of a developer.
繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、
前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記測定部により測定された前記特性値及び前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、
前記測定データ記憶部に記憶された特性値及び成分濃度の少なくともいずれか一方を、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、
を備える現像液の成分濃度測定装置。
A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that are correlated with the component concentration of the alkaline developer that is used repeatedly;
A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values;
A measurement data storage unit that stores the characteristic value measured by the measurement unit and the component concentration calculated by the calculation unit together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement;
A display unit that displays at least one of the characteristic value and the component concentration stored in the measurement data storage unit as a graph with the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index;
An apparatus for measuring a concentration of a component of a developer.
前記表示部に表示するグラフを、前記現像液の特性値のグラフとするか、前記現像液の成分濃度のグラフとするか、切り替える表示切替手段をさらに備える請求項3の現像液の成分濃度測定装置。   4. The developer concentration measurement of a developer according to claim 3, further comprising display switching means for switching whether the graph displayed on the display unit is a graph of the characteristic value of the developer or a component concentration of the developer. apparatus. 繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を測定する測定部と、
前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記測定部により測定された前記特性値、及び、前記演算部により算出された前記成分濃度、のうち少なくともいずれか一方、を表示する表示部と、
前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、
を備える現像液管理装置。
A measurement unit that measures a plurality of characteristic values of the developer that are used repeatedly and correlates with a component concentration of the developer that exhibits alkalinity;
Based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit, a calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method;
A display unit that displays at least one of the characteristic value measured by the measurement unit and the component concentration calculated by the calculation unit;
Based on a measured value or calculated value of a management target item selected from a plurality of characteristic values of the developer measured by the measuring unit and a component concentration of the developer calculated by the calculating unit. A control unit that issues a control signal to a control valve provided in a conduit for supplying replenisher to be replenished to the liquid;
A developer management apparatus comprising:
繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、
前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、
前記測定データ記憶部に記憶された成分濃度のデータを、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、
前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、
を備える現像液管理装置。
A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that are correlated with the component concentration of the alkaline developer that is used repeatedly;
A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values;
A measurement data storage unit that stores the component concentration calculated by the calculation unit together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement;
A display unit for displaying the data of the component concentration stored in the measurement data storage unit as a graph with the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index;
Based on a measured value or calculated value of a management target item selected from a plurality of characteristic values of the developer measured by the measuring unit and a component concentration of the developer calculated by the calculating unit. A control unit that issues a control signal to a control valve provided in a conduit for supplying replenisher to be replenished to the liquid;
A developer management apparatus comprising:
繰り返し使用される、アルカリ性を示す現像液の成分濃度と相関のある前記現像液の複数の特性値を繰り返し測定する測定部と、
前記測定部が前記複数の特性値を測定するたびに、前記測定部により測定された前記複数の特性値に基づいて、多変量解析法により、前記現像液の成分濃度を算出する演算部と、
前記測定部により測定された前記特性値及び前記演算部により算出された前記成分濃度を、時刻及び測定開始からの経過時間のうち少なくともいずれか一方とともに記憶する測定データ記憶部と、
前記測定データ記憶部に記憶された特性値及び成分濃度の少なくともいずれか一方を、前記測定データ記憶部に記憶された時刻又は測定開始からの経過時間を指標にしてグラフ表示する表示部と、
前記測定部で測定される前記現像液の複数の特性値及び前記演算部で算出される前記現像液の成分濃度のうちから選択される管理対象項目の測定値又は算出値に基づいて、前記現像液に補給される補充液を送液する管路に設けられた制御弁に制御信号を発する制御部と、
を備える現像液管理装置。
A measurement unit that repeatedly measures a plurality of characteristic values of the developer that are correlated with the component concentration of the alkaline developer that is used repeatedly;
A calculation unit that calculates a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measurement unit each time the measurement unit measures the plurality of characteristic values;
A measurement data storage unit that stores the characteristic value measured by the measurement unit and the component concentration calculated by the calculation unit together with at least one of time and elapsed time from the start of measurement;
A display unit that displays at least one of the characteristic value and the component concentration stored in the measurement data storage unit as a graph with the time stored in the measurement data storage unit or the elapsed time from the start of measurement as an index;
Based on a measured value or calculated value of a management target item selected from a plurality of characteristic values of the developer measured by the measuring unit and a component concentration of the developer calculated by the calculating unit. A control unit that issues a control signal to a control valve provided in a conduit for supplying replenisher to be replenished to the liquid;
A developer management apparatus comprising:
前記表示部に表示するグラフを、前記現像液の特性値のグラフとするか、前記現像液の成分濃度のグラフとするか、切り替える表示切替手段をさらに備える請求項7に記載の現像液管理装置。   The developer management apparatus according to claim 7, further comprising a display switching unit that switches a graph displayed on the display unit to be a graph of a characteristic value of the developer or a component concentration of the developer. . 前記測定部が、
前記現像液の成分のうち少なくともアルカリ成分の濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第一の測定手段と、
前記現像液の成分濃度のうち少なくとも前記現像液に溶解したフォトレジストの濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第二の測定手段と、
を備える請求項5から8のいずれか一項に記載の現像液管理装置。
The measurement unit is
A first measuring means for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with a concentration of at least an alkali component among the components of the developer;
A second measuring means for measuring a characteristic value of the developer having a correlation with at least a concentration of the photoresist dissolved in the developer among the component concentrations of the developer;
A developer management apparatus according to claim 5, comprising:
前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度及びフォトレジストの濃度を算出する演算ブロックを備え、
前記制御部が、
前記演算ブロックにより算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記演算ブロックにより算出されるフォトレジストの濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
を備える請求項9に記載の現像液管理装置。
The calculation unit includes a calculation block for calculating the concentration of alkali components and the concentration of photoresist in the developer,
The control unit is
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of the alkali component calculated by the calculation block becomes a predetermined management value;
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of the photoresist calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value;
The developing solution management apparatus according to claim 9.
前記測定部が、さらに、前記現像液の成分のうち少なくとも前記現像液に吸収された二酸化炭素の濃度と相関のある前記現像液の特性値を測定する第三の測定手段、を備える請求項9に記載の現像液管理装置。   The measurement unit further includes third measurement means for measuring a characteristic value of the developer that is correlated with a concentration of carbon dioxide absorbed in at least the developer among the components of the developer. The developer management apparatus according to 1. 前記演算部が、前記現像液の二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、
前記制御部が、
前記第一の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記第二の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理領域に入るように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
を備える請求項11に記載の現像液管理装置。
The calculation unit includes a calculation block for calculating the concentration of carbon dioxide in the developer.
The control unit is
A control block for issuing a control signal to the control valve so that the characteristic value of the developer measured by the first measuring means becomes a predetermined management value;
A control block that issues a control signal to the control valve so that the characteristic value of the developer measured by the second measuring means enters a predetermined management region;
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value;
The developing solution management apparatus according to claim 11.
前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度及び二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、
前記制御部が、
前記演算ブロックで算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記第二の測定手段により測定される前記現像液の特性値が所定の管理領域に入るように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
を備える請求項11に記載の現像液管理装置。
The calculation unit includes a calculation block for calculating a concentration of an alkali component and a concentration of carbon dioxide in the developer,
The control unit is
A control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of the alkali component calculated by the calculation block becomes a predetermined management value;
A control block that issues a control signal to the control valve so that the characteristic value of the developer measured by the second measuring means enters a predetermined management region;
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value;
The developing solution management apparatus according to claim 11.
前記演算部が、前記現像液のアルカリ成分の濃度、フォトレジストの濃度及び二酸化炭素の濃度を算出する演算ブロックを備え、
前記制御部が、
前記演算ブロックで算出されるアルカリ成分の濃度が所定の管理値となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記演算ブロックで算出されるフォトレジストの濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
前記演算ブロックで算出される二酸化炭素の濃度が所定の管理値以下となるように、前記制御弁に制御信号を発する制御ブロックと、
を備える請求項11に記載の現像液管理装置。
The calculation unit includes a calculation block for calculating an alkali component concentration, a photoresist concentration, and a carbon dioxide concentration in the developer,
The control unit is
A control block that issues a control signal to the control valve so that the concentration of the alkali component calculated by the calculation block becomes a predetermined management value;
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of the photoresist calculated in the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value;
A control block that issues a control signal to the control valve such that the concentration of carbon dioxide calculated by the calculation block is equal to or lower than a predetermined management value;
The developing solution management apparatus according to claim 11.
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