以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、特に明示しない限り、「上」、「下」は、図1を基準として用いる。また、「左」は、図1中左下方側について用いる一方、「右」は、図1中右上方側について用いる。さらに、「前」は、図1中右下方側について用いる一方、「後」は、図1中左上方側について用いる。
(第1の実施の形態)
図1は、第1の実施の形態に係るカセットステージの要部斜視図である。図1においては、第1の実施の形態に係るカセットステージが適用される加工装置の基台の一部のみを示している。例えば、第1の実施の形態に係るカセットステージは、ウエーハを研削する研削装置に適用でき、また、複数のウエーハを収容するカセットを利用する他の加工装置にも適用することが可能である。
図1に示すように、カセットステージ10は、概して直方体状に形成された基台11と、基台11の上方に配設されるステージ12と、基台11から上方側に立設される複数(本実施の形態では4本)の支柱13(支柱131〜134)とを含んで構成される。
支柱131、134は、基台11の後方側の中央近傍に近接して配置されている。支柱132、133は、基台11の前方側であって端部近傍に互いに離間して配置されている。支柱131、132は、基台11の左方側に開口した概してL字形状を有し、その左側面に段差部を有している。同様に、支柱133、134は、基台11の右方側に開口した概してL字形状を有し、その右側面に段差部を有している。
ステージ12は、概して平板形状を有し、基台11の上面と対向して配置される。ステージ12における支柱131〜134に対応する位置には、切欠き部120a、120bが形成されている。切欠き部120aは、ステージ12の後方側の中央部に形成され、切欠き部120bは、ステージ12の前方側の中央部に形成されている。ステージ12は、切欠き部120aに支柱131、134の一部を、切欠き部120bに支柱132、133の一部を収容した状態で基台11の上方に配置される。詳細について後述するように、ステージ12は、一定範囲で上下移動可能に構成される。
支柱131〜134は、その上端部がステージ12の上面よりも上方側に突出した状態となっている。これらの支柱131〜134が規定するステージ12の上面にカセット20が載置される。ステージ12の上面から突出する支柱13は、位置決め部を構成し、ステージ12上に載置されるカセット20の下端部を支持し、カセット20を位置決めする役割を果たす。
図示は省略するが、カセット20に収容されるウエーハは、例えば、ウエーハの上面を保護する保護テープが貼着されている。カセット20は、対向する一対の側板21の上端同士を上板22で連結した箱状に形成されている。双方の側板21の後半部は、僅かに内側に屈曲している。また、カセット20の前方には、ウエーハを出し入れする開口部23が形成され、カセット20の後方には、背板24が設けられている。一対の側板21の内側面には、水平方向(前後方向)に延びる複数の棚板25が等間隔に設けられている。これらの複数の棚板25によって、一対の側板21にウエーハを収容する収容棚が複数形成される。なお、上板22には、搬送時に把持される取っ手26が設けられている。背板24の後面には、上下に延在する一対のリブ27が設けられている。なお、カセットから取り出されたウエーハは、上下を反転させた状態で加工する保持テーブルに搬送され加工される。
図2は、本実施の形態に係るカセットステージ10が有するステージ12の周辺の構成の説明図である。図2Aは、図1Aに示すA−A線における切断面を含む斜視図である。図2Aに示すように、カセット20の前端部は、側板21の下端部で支柱132、133により位置決めされている。一方、カセット20の後端部は、リブ27の下端部で支柱131、134により位置決めされている。
図1に示すように、基台11とステージ12との間には、複数(本実施の形態では、3つ)のバネ14(バネ141〜143)が配設されている。バネ142は、ステージ12の前端部近傍であって、左右方向の中央部に対応する位置に配置されている。バネ141、143は、ステージ12の後端部近傍の位置であって、左右方向に離間して配置されている。これらのバネ141、143は、バネ142の中心を前後方向に通る仮想線Lを基準に線対称の位置に配置されている。
ステージ12は、これらのバネ141〜143の付勢力により基台11の上面から一定間隔を空けて配置される。以下、図2Bを参照して、本実施の形態に係るカセットステージ10のステージ12の下方の構造について詳細に説明する。図2Bは、図2Aに示すB−B線における断面模式図である。なお、図2Bにおいては、説明の便宜上、カセット20が載置されていない状態について示すと共に、支柱131、132を示している。
図2Bに示すように、基台11の上面と、ステージ12の下面との間には、バネ141〜143が配設されている(図2Bにおいて、バネ143は不図示)。バネ141〜143は、ステージ12を上方側に付勢する付勢力を付与する。バネ141〜143の全体の付勢力は、カセット20が載置されていない状態のステージ12を押し上げる一方、ウエーハを収容していないカセット20が載置された状態のステージ12の荷重に応じて沈み込むように設定されている。
各バネ141〜143の内側には、複数(本実施の形態では3個)のセンサ15が設けられている。これらのセンサ151〜153(図2Bにおいて、センサ153は不図示)は、ステージ12の下降を検出可能に構成されている。各センサ151〜153は、通過型フォトセンサで構成されるが、ステージ12の移動を検出することを条件として任意のセンサを採用することができる。例えば、透過型フォトセンサで構成してもよいし、近接センサで構成してもよい。なお、センサ15は、適切にステージ12の移動を検出する観点から少なくとも3個備えることが好ましい。3個以上であれば、センサ15の数は任意に変更可能である。
各センサ151〜153は、ステージ12が下方側(基台11に近づく方向側)に移動したことを個別に検出する。より具体的には、各センサ151〜153は、ステージ12の下面に突出して設けられた複数(本実施の形態では、3つ)の突出片121b〜123b(図2Bにおいて、突出片123bは不図示)に対向する位置に配置されている。各センサ151〜153は、ステージ12の下降に伴う突出片121b〜123bの通過を検出することでオン状態となる一方、検出していない状態でオフ状態となる。各センサ151〜153は、自身の状態(オン状態/オフ状態)に応じた信号(オン信号/オフ信号)をカセットステージ10が適用される加工装置の制御部に出力する。より具体的には、突出片121b〜123bの通過を検出した場合にオン信号を出力する一方、検出していない場合にオフ信号を出力する。図2Bに示す状態では、全てのセンサ151〜153からオフ信号が出力される。
基台11には、バネ141〜143の周囲であって、ステージ12に対応する位置に下降制限部161〜163が突出して設けられている(図2Bにおいて、下降制限部163は不図示)。これらの下降制限部161〜163は、カセット20が載置されたステージ12における、一定位置以上の下方側への移動を制限する。すなわち、下降制限部161〜163は、下降するステージ12の下面に当接して、ステージ12の下方側への移動を規制するストッパとして機能する。
ところで、従来のカセットステージのように、カセットを載置するステージが固定された構成を採用する場合には、ステージ上のカセットの状態(例えば、正常に載置されているか、傾いて載置されていないか等の状態)を、反射型フォトセンサ等で判定する必要がある。一方、ステージ上に載置されたカセットに傾きが発生する場合、その傾きは任意の方向に発生する可能性があり、センサで検出することが困難である。
本発明者は、固定されたステージにカセットが載置されていることがカセットの状態検出を困難にしている点に着目した。そして、ステージを移動可能とし、ステージ上に載置されるカセットの状態に伴って変化するステージの移動状態に基づいてカセットの状態を検出することが、ステージ上に載置されたカセットの傾きの有無の検出に寄与することを見出し、本発明に想到した。
すなわち、本発明に係るカセットステージ10の骨子は、カセット20の載置状態に応じてステージ12を移動可能とすると共に、移動後のステージの状態を検出する複数のセンサ15を備え、全てのセンサ15がオン状態の場合にカセット20が正常に載置されていると判断可能とし、少なくとも1つのセンサ15がオフ状態の場合にカセット20が傾いていると判断可能とすることである。
本発明に係るカセットステージ10によれば、センサ15が全て検出された場合にカセット20が正常に載置されていると判断され、センサ15が少なくとも1つ検出されていない場合にカセット20が傾いていると判断される。これにより、ステージ12上に載置されたカセット20の状態に伴って変化するステージ12の移動状態に基づいてステージ12上のカセット20の傾きの有無を判断することができるので、センサ15の構成を複雑化することなく、載置されたカセット20の傾きを検出することができる。
以下、本実施の形態に係るカセットステージ10において、カセット20が正常に載置されているか否かを検出する態様について、図2及び図3を参照して説明する。図3は、本実施の形態のカセットステージ10にカセット20が載置された場合のステージ12の周辺を側方側から示す断面模式図である。なお、図3Aにおいては、カセット20が正常に載置された場合を示し、図3Bにおいては、カセット20が傾いて載置された場合を示している。
図2に示す状態からステージ12にカセット20が正常に載置されると、図3Aに示すように、ステージ12全体が、対応する下降制限部161〜163に当接する位置まで均等に下降する。これに伴い、ステージ12の突出片121b〜123bが下方側に移動し、センサ151〜153の検出領域を通過する。センサ151〜153は、この突出片121b〜123bの通過を検出することでオン状態に切り替わる。オフ状態からオン状態に切り替わることで、センサ151〜153から加工装置の制御部にオン信号が出力される。制御部では、このように全てのセンサ151〜153からオン信号を受信した場合、カセット20がステージ12上に正常に載置されたと判定する。
一方、ステージ12にカセット20が傾いて載置された場合、ステージ12全体が均等に下降せず、下降しなかった部分に対応するセンサ15でステージ12の下降を検出することができない。この場合には、対応するセンサ15がオフ状態のまま維持される。このため、対応するセンサ15からは、加工装置の制御部にオフ信号が出力される。制御部では、このようにいずれかのセンサ151〜153からオフ信号を受信した場合、カセット20がステージ12上で傾いて載置されたと判定する。
図3Bでは、カセット20の一部が支柱131に接触することで、ステージ12上で傾いて載置された場合について示している。この場合、支柱131の近傍以外のステージ12の一部は、正常に下降する。このため、該当箇所付近に配置されるセンサ152、153は、オフ状態からオン状態に切り替わる。したがって、センサ152〜153からは、制御部にオン信号が出力される。
一方、支柱131の近傍では、カセット20の荷重に伴う負荷が作用しない。このため、支柱131の近傍のステージ12の一部が下降せず、該当箇所付近に配置されるセンサ151がオフ状態のまま維持される。したがって、センサ151から制御部への出力は、オフ信号からオン信号に切り替わることはない。このため、センサ151〜153から受信した信号にオフ信号が含まれるので、制御部は、カセット20がステージ12上に傾いて載置されたと判定することができる。
以上説明したように、本実施の形態に係るカセットステージ10においては、カセット20が載置されるステージ12を移動可能とする共に、このステージ12の移動を検出する複数のセンサ15を備え、センサ15が全て検出された場合にカセット20が正常に載置されていると判断され、センサ15が少なくとも1つ検出されていない場合にカセット20が傾いていると判断される。このため、ステージ12上に載置されたカセット20の状態に伴って変化するステージ12の移動状態に基づいてステージ12上のカセット20の傾きの有無を判断することができるので、センサ15の構成を複雑化することなく、載置されたカセット20の傾きを検出することができる。
また、本実施の形態に係るカセットステージ10においては、ステージ12の下方に配置され、ステージ12の下降を制限する下降制限部161〜163が設けられている。これにより、カセット20の載置に応じてステージ12が一定位置以上に下降するのを防止することができるので、ステージ12を上下方向に移動可能な構成とした場合であっても、安定してカセット20を載置することができる。
なお、本実施の形態においては、3つのバネ141〜143を備え、これらのバネ14の内側に配置したセンサ151〜153によってカセット20の傾き状態を検出する場合について説明している。しかしながら、これらのバネ14及びセンサ15の位置及び数量については、これらに限定されるものではなく適宜変更が可能である。バネ14は、ステージ12の中央に1つ備える構成であってもよい。
3つのバネ14の位置は、ステージ12上に載置されるカセット20の傾き状態を適切に検出できることを前提として任意の位置に変更することができる。この場合、3つのバネ14は、ステージ12上に載置されるカセット20の荷重に伴う負荷が均等に作用する位置に配置されることが好ましい。特に、ステージ12上に複数種類(大きさ、形状や重量)のカセット20が載置される場合には、全てのカセット20の荷重に伴う負荷がそれぞれ均等に作用する位置に3つのバネ14を配置する必要がある。複数種類のカセット20がステージ12上に載置される場合、支柱13は、これらのカセット20の荷重に伴う負荷が複数のバネ14に均等に作用する位置にカセット20を位置決めする位置決め部を構成する。
また、複数種類のカセット20がステージ12上に載置される場合、複数のバネ14の付勢力は、最も軽いカセット20をステージ12上に載置した場合に当該カセット20の傾き状態が検出可能な付勢力に設定される。なお、複数のバネ14の付勢力は、ステージ12上に載置されるカセット20の重量に応じて調整してもよい。複数のバネ14の付勢力は、例えば、バネ14自体を交換し、或いは、バネ14の数量を変更することで調整することができる。また、付勢力を調整するためにバネ14の長さを調整する機構を備えるようにしてもよい。図4は、第1の実施の形態の変形例に係るカセットステージ10の説明図である。図4においては、基台11にバネ14の長さを調整する機構を備える場合について示している。図4Aでは、バネ14の長さが縮められた状態を示し、図4Bでは、バネ14の長さが伸ばされた状態を示している。
図4に示すように、変形例に係るカセットステージ10は、基台11に複数(本実施の形態では、3つ)のバネ長さ調整ステージ17が設けられている。これらのバネ長さ調整ステージ171〜173(図4において、バネ長さ調整ステージ173は不図示)は、それぞれバネ141〜143の下方側に配置されている。バネ長さ調整ステージ171は、雌ねじ部171aと雄ねじ部171bとを有し、雌ねじ部171aからの雄ねじ部171bの突出量を調整可能に構成される。なお、バネ長さ調整ステージ172、173についても同様の構成を有する。
例えば、バネ長さ調整ステージ171〜173は、ステージ12上に重いカセット20が載置された場合、図4Aに示すように、雄ねじ部171b〜173bを雌ねじ部171a〜173aから上方側に所定量だけ突出させ、バネ141〜143を縮めた状態とする。これにより、複数のバネ14における付勢力が相対的に大きく調整される。一方、ステージ12上に軽いカセット20が載置された場合、図4Bに示すように、雄ねじ部171b〜173bを雌ねじ部171a〜173aに収容し、バネ141〜143を伸ばした状態とする。これにより、複数のバネ14による付勢力が相対的に小さく調整される。
また、図4に示す変形例に係るカセットステージ10においては、ステージ12の最上方における位置を一定化するためのステージ位置規制部18が設けられている。このステージ位置規制部18は、バネ長さ調整ステージ17により調整されたバネ14の付勢力の大小に関わらず、ステージ12の最上方の位置を固定する役割を果たす。
ステージ位置規制部18は、ステージ12の中央に形成された貫通孔12aを貫通する支柱181と、支柱181の上端部に固定され、ステージ12の上面に設けられた円形状の凹部12bに配置される円板部182とを有する。ステージ12の貫通孔12aは、凹部12bの下方側に連続して形成されている。支柱181は、一定の長さを有し、基台11上に立設されている。円板部182は、凹部12bの内径よりも小径に構成される一方、貫通孔12aの内径よりも大径に構成される。複数のバネ14の付勢力により上方側に付勢されたステージ12の凹部12bの上面(底面)が円板部182の下面と接触することにより、ステージ12の最上方における位置が規制される。
なお、ここでは、カセット20の重量に応じてバネ14の付勢力を調整する場合について示しているが、バネ14の付勢力を調整することなく、ステージ12の重量を調整するようにしてもよい。図5は、第1の実施の形態の変形例に係るカセットステージ10の説明図である。図5においては、ステージ12自体に、ステージ12の重量を調整する機構を備える場合について示している。
図5に示すように、変形例に係るカセットステージ10は、ステージ12の中央にステージ重量調整機構19が設けられている。ステージ重量調整機構19は、ステージ12の中央に形成された錘配設穴12cに着脱可能に構成される錘191を有する。錘191は、錘配設穴12cにねじ込み可能に構成される。錘配設穴12cは、錘191が装着された場合にステージ12の重心が変動しない位置に形成されている。錘配設穴12cには、ステージ12上に載置されるカセット20の重量に応じて錘191が着脱される。例えば、ステージ12上に軽いカセット20が載置された場合に錘191が装着される一方、重いカセット20が載置された場合に錘191が取り外される。錘配設穴12cに装着される錘191の重量をカセット20の重量に応じて変更することは実施の形態として好ましい。
なお、ここでは、ステージ12の重量を調整する機構として、錘191が着脱可能とするステージ重量調整機構19を備える場合について示しているが、これに限定されない。ステージ重量調整機構19は、ステージ12の重心を変動させないことを前提として、錘191をステージ12上に載置するようにしてもよく、ステージ12に錘191吊り下げるようにしてもよい。
また、上記実施の形態では、3つのセンサ15をステージ12の中央近傍に配置してステージ12の傾き状態を検出しているが、これらのセンサ15の位置及び数量についても変更が可能である。例えば、4つのセンサ15を備え、それぞれの支柱131〜134の近傍に配置し、これらのセンサ15によってステージ12の傾き状態を検出するようにしてもよい。なお、センサ15は、必ずしもバネ14の内側に配置されている必要はない。
さらに、上記実施の形態では、下降制限部16をバネ14及びセンサ15とは異なる構成として有する場合について説明しているが、これに限定されない。例えば、下降制限部16は、バネ14及びセンサ15を有するバネユニット140の一部に組み込んでもよい。図6は、第1の実施の形態の変形例に係るカセットステージ10のバネユニット140周辺の拡大図である。図6においては、バネ14、センサ15及び下降制限部16を一体化したバネユニット140を備える場合について示している。なお、図6においては、バネユニット140を支柱13の近傍に配置した場合について示している。また、図6においては、センサ15として近接センサを有する場合について示している。
図6に示すように、バネユニット140は、上面視にて円形状を有する底板140aと、底板140aの周縁部から立設される環状側板140bとを有している。バネ14は、環状側板140bの内側に収容される。下降制限部16は、底板140aの中央から立設されている。センサ15は、下降制限部16の上端部近傍に設けられている。このようなバネユニット140においては、カセット20の載置に伴ってステージ12が下降すると、バネ14の内側の下降制限部16の上端部がステージ12の下面に接触し、ステージ12の下降を制限するように構成される。例えば、ステージ12上に重いカセット20が載置される場合にバネユニット140を追加してもよい。
(第2の実施の形態)
第2の実施の形態に係るカセットステージ10は、カセット20を載置するステージ12が複数に分割される点、並びに、分割されたステージ12毎にバネ14及びセンサ15が配置される点において、第1の実施の形態に係るカセットステージ10と相違する。以下、第2の実施の形態に係るカセットステージ10について、第1の実施の形態と相違する点を中心に説明する。なお、以下の図において、第1の実施の形態に係るカセットステージ10と同様の機能を有する構成については、同一の付与し、詳細な説明を省略する。
図7は、第2の実施の形態に係るカセットステージ10の要部斜視図である。図7Aにおいては、説明の便宜上、ステージ12にカセット20が載置された状態を示し、図7Bにおいては、図7Aからカセット20を省略した状態を示している。図7に示すように、第2の実施の形態に係るカセットステージ10は、基台11の上方に配設される複数(本実施の形態では4個)のステージ12を有する点で、第1の実施の形態に係るカセットステージ10と相違する。
図7Bに示すように、複数のステージ12(ステージ121〜124)は、それぞれ平面視にて正方形状を有している。これらのステージ121〜124は、基台11の上方で前後左右に均等に配列されている。このように配列された状態にて、複数のステージ121〜124の全体の外形は、基台11の上面と同様の方形状に形成されている。各ステージ121〜124の上面は、平面形状を有している。これらのステージ121〜124の上面にカセット20が載置される。詳細について後述するように、ステージ121〜124は、個別に上下移動可能に構成される。
各ステージ121〜124の角部には、支柱13の形状に対応する貫通孔121a〜124aが形成されている。複数の支柱131〜134は、それぞれ貫通孔121a〜124aを貫通し、その上端部がステージ12の上面よりも上方側に突出した状態となっている。これらの支柱13が規定するステージ12(ステージ121〜124)の上面にカセット20が載置される。ステージ12の上面から突出する支柱13の一部は、位置決め部を構成し、ステージ12上に載置されるカセット20を位置決めする役割を果たす。
第2の実施の形態において、ステージ12には、第1の実施の形態と異なる構成のカセット20が載置される。第2の実施の形態に係るカセット20は、前方側及び下方側に開口した、概して立方体形状を有する。このカセット20を構成する部材については、第1の実施の形態と同様であるため、省略する。
基台11と各ステージ121〜124との間には、バネが配設されている。これらのバネの付勢力により、各ステージ121〜124が基台11の上面から一定間隔を空けて配置される。以下、図8を参照して、第2の実施の形態に係るカセットステージ10のステージ12の下方の構造について詳細に説明する。図8は、第2の実施の形態に係るカセットステージ10が有するステージ12の周辺を側方側から示す断面模式図である。なお、図8においては、カセット20が載置されていない状態について示している。
図8に示すように、基台11の上面と、各ステージ121〜124(図8において、ステージ123、124は不図示)の下面との間には、複数(本実施の形態では4個)のバネ14が配設されている。ステージ121〜124に対応してバネ144〜147が配置されている(図8において、バネ146、147は不図示)。各バネ144〜147は、それぞれステージ121〜124を上方側に付勢する付勢力を付与する。各バネ144〜147の付勢力は、カセット20が載置されていない状態のステージ121〜124を押し上げる一方、ウエーハを収容していないカセット20が載置された状態のステージ121〜124の荷重に応じて沈み込むように設定されている。
各バネ144〜147の内側には、複数(本実施の形態では4個)のセンサ15が設けられている。これらのセンサ154〜157(図8において、センサ156、157は不図示)は、ステージ121〜124の下降を検出可能に構成されている。なお、各センサ154〜157の構成は、第1の実施の形態と同様である。
各センサ154〜157は、ステージ121〜124が下方側(基台11に近づく方向側)に移動したことを個別に検出する。より具体的には、各センサ154〜157は、各ステージ121〜124の下面に突出して設けられた突出片121d〜124dに対向する位置に配置されている。各センサ154〜157は、ステージ121〜124の下降に伴う突出片121d〜124dの通過を検出することでオン状態となる一方、検出していない状態でオフ状態となる。各センサ154〜157は、自身の状態(オン状態/オフ状態)に応じた信号(オン信号/オフ信号)をカセットステージ10が適用される加工装置の制御部に出力する。より具体的には、突出片121d〜124dの通過を検出した場合にオン信号を出力する一方、検出していない場合にオフ信号を出力する。図8に示す状態では、全てのセンサ154〜157からオフ信号が出力される。
基台11には、バネ144〜147の周囲であって、各ステージ121〜124に対応する位置に下降制限部164〜167が突出して設けられている(図8において、下降制限部166、167は不図示)。これらの下降制限部164〜167は、カセット20が載置されたステージ121〜124における、一定位置以上の下方側への移動を制限する。すなわち、下降制限部164〜167は、下降するステージ121〜124の下面に当接して、ステージ121〜124の下方側への移動を規制するストッパとして機能する。
以下、第2の実施の形態に係るカセットステージ10において、カセット20が正常に載置されているか否かを検出する態様について、図8及び図9を参照して説明する。図9は、第2の実施の形態のカセットステージ10にカセット20が載置された場合のステージ12の周辺を側方側から示す断面模式図である。なお、図9Aにおいては、カセット20が正常に載置された場合を示し、図9Bにおいては、カセット20が傾いて載置された場合を示している。なお、図8では、カセット20がステージ12に載置されておらず、センサ154〜157はオフ状態となっている。
図8に示す状態からステージ12にカセット20が正常に載置されると、図9Aに示すように、全てのステージ121〜124が、対応する下降制限部164〜167に当接する位置まで均等に下降する。これに伴い、ステージ121〜124の突出片121d〜124dが下方側に移動し、センサ154〜157の検出領域を通過する。センサ154〜157は、この突出片121d〜124dの通過を検出することでオン状態に切り替わる。オフ状態からオン状態に切り替わることで、センサ154〜157から加工装置の制御部にオン信号が出力される。制御部では、このように全てのセンサ154〜157からオン信号を受信した場合、カセット20がステージ12上に正常に載置されたと判定する。
一方、ステージ12にカセット20が傾いて載置された場合、いずれかのステージ12が適切に下降せず、対応するセンサ15でステージ12の下降を検出することができない。この場合には、対応するセンサ15がオフ状態のまま維持される。このため、対応するセンサ15からは、加工装置の制御部にオフ信号が出力される。制御部では、このようにいずれかのセンサ154〜157からオフ信号を受信した場合、カセット20がステージ12上で傾いて載置されたと判定する。
図9Bでは、カセット20の一部が支柱131に接触することで、ステージ12上で傾いて載置された場合について示している。この場合、ステージ121以外のステージ122〜124は、正常に下降してセンサ155〜157がオフ状態からオン状態に切り替わる。このため、センサ155〜157からは、制御部にオン信号が出力される。
一方、ステージ121は、カセット20の荷重に伴う負荷が作用しないため、センサ154はオフ状態のまま維持される。したがって、センサ154から制御部への出力は、オフ信号からオン信号に切り替わることはない。このため、センサ154〜157から受信した信号にオフ信号が含まれるので、制御部は、カセット20がステージ12上に傾いて載置されたと判定することができる。
以上説明したように、第2の実施の形態に係るカセットステージ10においては、複数に分割されたステージ12を移動可能に構成すると共に、これらのステージ12の移動を個別に検出する複数のセンサ15を備え、全てのセンサ15がステージ12の下降を検出してオン信号を出力した場合にカセット20が正常に載置されていると判断され、1つでもセンサ15がステージ12の下降を検出しないでオフ信号を出力した場合にカセット20が傾いていると判断される。このため、ステージ12上に載置されたカセット20の状態に伴って変化するステージ12の移動状態に基づいてステージ12上のカセット20の傾きの有無を判断することができるので、センサ15の構成を複雑化することなく、載置されたカセットの傾きを検出することができる。
特に、第2の実施の形態に係るカセットステージ10においては、ステージ12が複数に分割されているため、カセット20の荷重に伴う負荷が作用するステージ12と、作用しないステージ12の移動を明確に識別することができる。これにより、ステージ12の移動の有無を検出することで、ステージ12上のカセット20の傾きの有無を効果的に検出することができる。
また、本実施の形態に係るカセットステージ10においては、各ステージ121〜124の下方に配置され、各ステージ121〜124の下降を制限する下降制限部164〜167が設けられている。これにより、ステージ12を複数に分割してカセット20を載置する構成を採用する場合であっても、カセット20が載置された場合には一定の位置で各ステージ121〜124を位置決めできるので、安定してカセット20を載置することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、上記第2の実施の形態においては、ステージ12を4つに分割し、これらのステージ12の移動を個別に検出する構成について説明している。しかしながら、ステージ12の構成については、これに限定されるものではなく適宜変更が可能である。例えば、左右に配列された2つのステージ12に分割し、これらのステージ12の移動を個別に検出するようにしてもよい。この場合には、一方のステージ12の下方側に離間して2個のバネ14及びセンサ15を配置する一方、他方のステージ12の下方側に1個のバネ14及びセンサ15を配置することが好ましい。これらのステージ12の下方側に配置されるバネ14及びセンサ15の配置については、第1の実施の形態に係るバネ14及びセンサ15の配置が参照される。このようにステージ12を分割する数を変更した場合においても、上記実施の形態と同様に、センサ15の構成を複雑化することなく、載置されたカセット20の傾きを検出することができる。同様に、ステージ12は、3つに分割してもよい。
また、上記実施の形態では、前方側に開口した箱形状のカセット20をステージ12上に載置し、各ステージ121〜124を貫通する支柱131〜134の内側の一部でカセット20を位置決めするカセットステージ10について説明している。しかしながら、カセットステージ10で載置するカセット20及びそのカセット20を位置決めする支柱13の構成については、上記実施の形態に限定されるものではなく適宜変更が可能である。
図10は、本実施の形態の変形例のカセットステージ10の要部斜視図である。図10Aに示すように、変形例に係るカセットステージ10においては、各ステージ121〜124に形成される貫通孔121a〜124a及びこれらの貫通孔121a〜124aを貫通する支柱131〜134の構成のみにおいて上記実施の形態と相違する。
図10Aに示すように、変形例に係るカセットステージ10では、ステージ121及びステージ124の後方側であって内側部分に貫通孔121a、124aが形成され、これらの貫通孔121a、124aに支柱131、134が貫通している。また、このカセットステージ10では、ステージ122、123の前方側であって外側部分に貫通孔122a、123aが形成され、これらの貫通孔122a、123aに支柱132、133が貫通している。例えば、図10に示すカセットステージ10では、第1の実施の形態に係るカセット20と同様の構成のカセット20が支柱131〜134で位置決めされる。
また、各ステージ121〜124において、支柱131〜134は、必ずしも貫通孔121a〜124aを貫通している必要はない(図10A参照)。図10Bに示すように、各ステージ121〜124の一角であって、支柱131〜134に対応する位置に切り欠き部121c〜124cを設けてもよい。このように切り欠き部121c〜124cに支柱131〜134を配置した場合であっても、上記実施の形態と同様の効果を奏することができる。
さらに、上記実施の形態においては、各ステージ121〜124に対応して支柱13(支柱131〜134)が配置される場合について説明している。しかしながら、ステージ12に対する支柱13の構成については、これに限定されるものではなく適宜変更が可能である。分割されたステージ12に対し、支柱13は必ずしも必要なものではなく、支柱13が貫通しないステージ12が含まれてもよい。