JP2018099634A - Inkjet coating apparatus, and film pattern formation method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、UV硬化型の流動性の高い材料でも精度よく膜パターンを形成することができるインクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法に関するものである。 The present invention relates to an inkjet coating apparatus capable of forming a film pattern with high accuracy even with a UV curable material having high fluidity, and a film pattern forming method.
ガラスやフィルム等の基材上に線分、矩形状等、様々な形状の塗布膜(膜パターンという)、例えば、プリント基板やパッケージ基板のような配線基板(基材)における配線パターン、パワー半導体の絶縁膜パターンがインクジェット塗布装置により形成されている(例えば特許文献1参照)。 Various types of coating films (called film patterns) such as lines and rectangles on substrates such as glass and films, for example, wiring patterns on wiring substrates (base materials) such as printed boards and package substrates, power semiconductors The insulating film pattern is formed by an inkjet coating apparatus (see, for example, Patent Document 1).
インクジェット塗布装置は、図9に示すように、基材Wを載置するステージ100と、液滴を吐出する液滴ユニット101を備えており、基材W上の膜形成領域103に液滴を吐出することにより膜パターンが形成される。具体的には、基材W上に膜パターンに応じた膜形成領域103が設定されており、基材Wに対して液滴ユニット101を相対的に移動させつつ、液滴ユニット101から膜形成領域103に塗布材料である一定粒径の液滴を多数吐出することにより塗布膜Cが形成される。そして、インクジェット塗布装置から基材Wを乾燥装置に搬送し、所定時間、塗布膜を乾燥させることにより、基材W上に所定の膜パターンが形成される。
As shown in FIG. 9, the ink jet coating apparatus includes a
近年では、比較的流動性の高いUV硬化型の塗布材料が用いられるようになり、また、塗布材料の濡れ広がりに対する膜形成領域103のエッジ精度の要求が厳しくなっている。ところが、流動性の高い塗布材料で塗布膜C(膜パターン)を形成すると、乾燥装置で乾燥させる前に、膜形成領域103に着弾した液滴(塗布材料)が基材Wの表面に沿って濡れ広がることにより着弾直後の形状より僅かに大きな領域に広がってしまう。そのため、設定された膜形成領域103に応じた膜パターンを精度よく形成することができず、塗布精度の要求を満たすことができないという問題があった。
In recent years, a UV curable coating material having a relatively high fluidity has been used, and the requirement of the edge accuracy of the
そこで、本発明は、流動性の高い塗布材料であっても、エッジ精度の要求を満たして精度よく膜パターンを形成することができるインクジェット塗布装置、及び、膜パターン形成方法を提供することを目的としている。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an ink jet coating apparatus and a film pattern forming method capable of forming a film pattern with high accuracy while satisfying the requirement of edge accuracy even with a coating material having high fluidity. It is said.
上記課題を解決するために本発明のインクジェット塗布装置は、基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にUV光を照射するUVランプユニットと、を備え、前記液滴ユニットは、基材に対する移動方向と直交する塗布幅方向に一方向に延びる形状を有しており、前記UVランプユニットは、その照射範囲が前記液滴ユニットの塗布幅方向の塗布範囲を含むように一方向に延びる形状を有しており、その光源には、LED照明が設けられていることを特徴としている。 In order to solve the above-mentioned problems, the inkjet coating apparatus of the present invention moves relative to the base material, while moving relative to the base material, and a droplet unit that ejects liquid droplets onto the base material. A UV lamp unit that irradiates the coating film formed by the droplet unit on the substrate with UV light, and the droplet unit extends in one direction in the coating width direction perpendicular to the moving direction with respect to the substrate. The UV lamp unit has a shape extending in one direction so that the irradiation range includes the application range in the application width direction of the droplet unit. It is characterized by lighting.
上記本発明のインクジェット塗布装置によれば、吐出された基材上の液滴を硬化させるUVランプユニットを備えているため、液滴ユニットから吐出された液滴に対し、UV光を照射して吐出された塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。すなわち、UVランプユニットは、液滴ユニットの塗布範囲を含む範囲を照射範囲にしているため、液滴ユニットから塗布材料が液滴されるとすぐに塗布幅方向に亘ってUV光を照射することができるため、従来の乾燥装置に搬送して乾燥させる場合に比べて塗布材料を硬化させるタイミングを早めることができ、塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。さらに、UVランプユニットの光源には、LED照明が設けられているため、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。 According to the inkjet coating apparatus of the present invention, since the UV lamp unit for curing the droplets on the discharged substrate is provided, the droplets discharged from the droplet unit are irradiated with UV light. Wetting and spreading of the discharged coating material can be suppressed. That is, since the UV lamp unit has an irradiation range that includes the application range of the droplet unit, the UV light is irradiated in the application width direction as soon as the coating material is dropped from the droplet unit. Therefore, the timing of curing the coating material can be advanced as compared with the case of transporting to a conventional drying apparatus and drying, and the spread of the coating material by wetting can be suppressed. Furthermore, since the LED lamp is provided on the light source of the UV lamp unit, the illuminance can be stabilized immediately after being turned on, compared to the case of using a halogen lamp, and the spread of the coating material can be quickly suppressed. Can do. Therefore, even a coating material having high fluidity can satisfy the requirements of the edge accuracy of the film pattern, and can form the film pattern with high accuracy.
また、前記UVランプユニットは、複数のLEDランプが長手方向に配列されて設けられており、それぞれのLEDランプは、照射及び非照射が独立して切り替えられる構成にしてもよい。 Further, the UV lamp unit may be provided with a plurality of LED lamps arranged in the longitudinal direction, and each LED lamp may be switched between irradiation and non-irradiation independently.
この構成によれば、基材上に形成された塗布膜の形成位置に対応したLEDランプのみを照射させて、その塗布膜のみを硬化させることができる。したがって、塗布膜が形成されていない領域にUV光が照射されることによる基材へのダメージを軽減させることができる。 According to this structure, only the LED lamp corresponding to the formation position of the coating film formed on the base material can be irradiated to cure only the coating film. Therefore, it is possible to reduce damage to the base material caused by irradiating the region where the coating film is not formed with UV light.
また、上記課題を解決するために本発明の膜パターン形成方法は、基材上に液滴を吐出する液滴ユニットと、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にLED照明を光源とするUV光を照射するUVランプユニットと、を備え、基材に対して前記液滴ユニットと前記UVランプユニットとを相対的に移動させて基材上に膜パターンを形成する膜パターン方法において、前記液滴ユニットから液滴を吐出して形成する膜パターンの外縁部を形成する外縁部形成工程と、前記外縁部形成工程で形成された外縁部に対してUV光を照射して、形成直後の外縁部の流動性を抑える流動抑制工程と、前記流動抑制工程後の外縁部で囲われた内側領域に液滴を吐出する内側領域形成工程と、を有することを特徴としている。 In order to solve the above problems, the film pattern forming method of the present invention includes a droplet unit for discharging droplets on a substrate, and LED illumination on a coating film formed by the droplet units on the substrate. A film pattern method for forming a film pattern on a base material by moving the droplet unit and the UV lamp unit relative to the base material In the outer edge portion forming step of forming the outer edge portion of the film pattern formed by discharging droplets from the droplet unit, and irradiating the outer edge portion formed in the outer edge portion forming step with UV light, It is characterized by having a flow suppressing step for suppressing the fluidity of the outer edge portion immediately after formation, and an inner region forming step for discharging droplets to the inner region surrounded by the outer edge portion after the flow suppressing step.
上記本発明の膜パターン形成方法によれば、流動性の高い塗布材料でも精度よく膜パターンを形成することができる。すなわち、外縁部形成工程で膜パターンの外縁部を形成した後、流動抑制工程によってLED光を照射して形成された外縁部を硬化させ、濡れ広がりを抑制する。すなわち、LED光を照射することにより、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。そして、内側領域形成工程によって、濡れ広がりを抑える程度に硬化させた外縁部の内側に液滴を吐出することにより、濡れ広がりを抑えつつ膜パターンを形成することができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。 According to the film pattern forming method of the present invention, a film pattern can be accurately formed even with a coating material having high fluidity. That is, after the outer edge portion of the film pattern is formed in the outer edge portion forming step, the outer edge portion formed by irradiating the LED light in the flow suppressing step is cured to suppress wetting and spreading. That is, by irradiating the LED light, it is possible to stabilize the illuminance immediately after lighting, compared to the case of using a halogen lamp, and to quickly suppress the wetting and spreading of the coating material. And a film | membrane pattern can be formed, suppressing a wetting spread by discharging a droplet inside the outer edge part hardened to the extent which suppresses a wetting spread by an inner side area | region formation process. Therefore, even a coating material having high fluidity can satisfy the requirements of the edge accuracy of the film pattern, and can form the film pattern with high accuracy.
また、前記流動抑制工程では、前記外縁部形成工程で形成された外縁部を対象としてUV光を照射する構成にしてもよい。 Moreover, you may make it the structure which irradiates UV light for the outer edge part formed at the said outer edge part formation process in the said flow suppression process.
この構成によれば、基材上に形成された外縁部を対象としてUV光を照射させて硬化させることにより、基材へのダメージを軽減させることができる。すなわち、外縁部を形成した後、基材全体に亘ってUV光を照射すると、外縁部が形成されていない領域(他の薄膜層)にもUV光が照射されるため、その領域にダメージを与えることになる。そこで、外縁部を対象として、すなわち、外縁部のみ、又は、外縁部を含むその周辺領域に限定してUV光を照射することにより、外縁部(塗布膜)が形成されていない領域にUV光が照射されることによる基材へのダメージを軽減させることができる。 According to this configuration, damage to the base material can be reduced by irradiating the UV light to the outer edge portion formed on the base material and curing it. In other words, after forming the outer edge portion and irradiating the entire substrate with UV light, the region where the outer edge portion is not formed (other thin film layers) is also irradiated with UV light, so that the region is damaged. Will give. Therefore, UV light is irradiated on a region where the outer edge portion (coating film) is not formed by irradiating UV light on the outer edge portion only, that is, only on the outer edge portion or on the peripheral region including the outer edge portion. It is possible to reduce damage to the base material due to irradiation.
本発明によれば、流動性の高い塗布材料であっても、エッジ精度の要求を満たして精度よく膜パターンを形成することができる。 According to the present invention, even a coating material having high fluidity can satisfy the requirement for edge accuracy and form a film pattern with high accuracy.
本発明のインクジェット塗布装置に係る実施の形態を図面を用いて説明する。 Embodiments according to the inkjet coating apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、インクジェット塗布装置の一実施形態を示す側面図であり、図2は、インクジェット塗布装置の上面図である。 FIG. 1 is a side view showing an embodiment of an inkjet coating apparatus, and FIG. 2 is a top view of the inkjet coating apparatus.
インクジェット塗布装置は、図1、図2に示すように、基材Wを載置するステージ10と、基材Wに液滴(塗布材料)を塗布する液滴ユニット2とを有しており、液滴ユニット2がステージ10に載置された基材W上を移動しつつ、液滴を所定の着弾位置(膜形成領域S)に吐出することにより、基材W上に塗布膜C(膜パターンともいう。図3参照)が形成される。
As shown in FIGS. 1 and 2, the inkjet coating apparatus includes a
ここで、基材Wは、図3に示すように、塗布膜Cを形成すべき膜形成領域Sが複数箇所形成されている。図3の例では、矩形状の膜形成領域Sが複数箇所設けられており、それぞれの膜形成領域Sにインクジェット塗布装置により塗布材料である液滴を吐出することにより、膜形成領域Sに塗布膜C(膜パターン)が形成される。 Here, as shown in FIG. 3, the base material W is formed with a plurality of film forming regions S on which the coating film C is to be formed. In the example of FIG. 3, a plurality of rectangular film formation regions S are provided, and each film formation region S is applied to the film formation region S by ejecting droplets as a coating material with an inkjet coating apparatus. A film C (film pattern) is formed.
なお、以下の説明では、この液滴ユニット2が移動する方向をX軸方向(本実施形態の主走査方向)、これと水平面上で直交する方向をY軸方向(本実施形態の副走査方向)、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。
In the following description, the direction in which the
インクジェット塗布装置は、基台1を有しており、この基台1上にステージ10、液滴ユニット2が設けられている。具体的には、基台1上に直方体形状のステージ10が設けられており、このステージ10をY軸方向に跨ぐように液滴ユニット2が設けられている。
The ink jet coating apparatus has a
ステージ10は、基材Wを載置するものであり、載置された基材Wが水平な姿勢を維持した状態で載置されるようになっている。具体的には、ステージ10の表面は、平坦に形成されており、その表面には、吸引孔が複数形成されている。この吸引孔には真空ポンプが接続されており、ステージ10の表面に基材Wを載置した状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、基材Wが水平な姿勢でステージ10の表面に吸着保持できるようになっている。
The
また、液滴ユニット2は、基材W上に塗布材料である液滴を着弾させて塗布するものであり、塗布材料を吐出するヘッドユニット21と、このヘッドユニット21を支持するガントリ部22とを有している。このガントリ部22は、ステージ10のY軸方向両外側に配置される脚部22aと、これらの脚部22aを連結しY軸方向に延びるビーム部材22bとを有する略門型形状に形成されている。そして、このビーム部材22bにヘッドユニット21が取付けられており、ガントリ部22は、ステージ10をY軸方向に跨いだ状態でX軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台1のY軸方向両端部分にはそれぞれX軸方向に延びるレール(不図示)が設置されており、脚部22aがこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部22aにはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、ガントリ部22がX軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
Further, the
また、ビーム部材22bは、両脚部22aを連結する柱状部材である。このビーム部材22bには、ヘッドユニット21が取付けられている。具体的には、ビーム部材22bのX軸方向一方側の側面に、ヘッドユニット21が取り付けられており、このヘッドユニット21に設けられたノズル31a,41a(図4参照)がステージ10の表面に向く姿勢で取付けられている。したがって、ガントリ部22がX軸方向に移動又は停止するにしたがって、ヘッドユニット21もそれに付随して移動又は停止を行うことができ、ガントリ部22の移動量を調節することにより、ステージ10の表面に載置された基材W上にヘッドユニット21を位置させて基材W上に塗布材料である液滴を吐出できるようになっている。
The
また、ヘッドユニット21は、図4に示すように、複数のノズル31a,41aを一体化させたものであり、第1ノズルユニット30と、第2ノズルユニット40とを有している。本実施形態では、第1ノズルユニット30と第2ノズルユニット40とがX軸方向に互いに隣接して配置された状態で固定されている。すなわち、図4に示す例では、第1ノズルユニット30は、第2ノズルユニット40対して進行方向前側(塗布方向前側ともいう)に配置されており、X軸方向に移動して塗布する際に最初に基材Wと対面する側に配置されている。
Further, as shown in FIG. 4, the
第1ノズルユニット30は、通常液滴ノズル31aを有する複数のヘッドモジュール31を備えている。本実施形態では、複数のヘッドモジュール31がY軸方向に沿って配列されており、塗布方向に対して直交する方向に配置されている。ヘッドモジュール31は、複数の通常液滴ノズル31aを有しており、通常液滴ノズル31aが一方向に所定の配列ピッチで整列した状態で設けられている。この通常液滴ノズル31aは、微少液滴ノズル41aよりも大径の液滴を吐出するノズルであり、汎用性のあるノズルが使用されている。すなわち、ヘッドモジュール31に駆動電圧が印加されると、各通常液滴ノズル31aに共通の駆動電圧が印加され、各通常液滴ノズル31aから所定の液量の液滴が吐出されるようになっている。
The
また、ヘッドモジュール31は、それぞれが互いに重複する部分を有するようにずらして配置されている。図4の例では、隣接するヘッドモジュール31がX軸方向に交互にずらして配置されている。すなわち、これらのヘッドモジュール31は、通常液滴ノズル31aの配置間隔とヘッドモジュール31の両端部分とでは寸法が異なっているため、この両端部分の寸法分を相殺できるようにX軸方向にずらしつつY軸方向に配列される。すなわち、第1ノズルユニット30は、X軸方向に見て通常液滴ノズル31aがY軸方向に等間隔で配置されており、第1ノズルユニット30全体としてX軸方向に見て、すべての通常液滴ノズル31aがY軸方向に沿って一定の配列ピッチで配列され、X軸方向から見てY軸方向に亘って等間隔で配置されている。
Further, the
また、第2ノズルユニット40は、複数の微少液滴ノズル41aを有しており、一方向(本実施形態ではY軸方向)に所定ピッチで整列した状態で配置されている。この微少液滴ノズル41aは、通常液滴ノズル31aが吐出する液滴よりも小径の液滴を吐出するノズルであり、通常液滴ノズル31aよりも少ない液量の液滴を吐出することができる。本実施形態では、例えば、微少液滴ノズル41aから、通常液滴ノズル31aの1/100の量の液滴が吐出されるようになっている。
The
また、第2ノズルユニット40は、上述の第1ノズルユニット30と同様の構成を有しており、微少液滴ノズル41aの配置は第1ノズルユニット30の通常液滴ノズル31a配置と同一に形成されている。すなわち、隣接するヘッドモジュール41は、ヘッドモジュール41の両端部分の寸法分を相殺できるようにX軸方向に交互にずれるように配置されている。また、この第2ノズルユニット40の各微少液滴ノズル41aは、ヘッドユニット21に搭載された状態では、各微少液滴ノズル41aがX軸方向から見て第1ノズルユニット30のそれぞれの通常液滴ノズル31aと同じ位置に位置するように取り付けられている。なお、本実施形態では、通常液滴ノズル31aと微少液滴ノズル41aとを区別する必要がない場合は、単にノズル31a、41aともいう。
The
また、基台1上には、UV光を照射するUVランプユニット5が設けられている。このUVランプユニット5は、ステージ10をY軸方向に跨ぐように設けられており、照射されたUV光がステージ10上の基材Wを照射できるようになっている。具体的には、UVランプユニット5は、UV光を照射する照射ユニット60と、照射ユニット60を支持する支持フレーム部50とを有している。支持フレーム部50は、基台1上に配置される支柱部51と、これらの支柱部51を連結してY軸方向に伸びる梁部52とを有しており、全体として門型形状に形成されている。そして、梁部52には照射ユニット60が取り付けられており、支持フレーム部50はステージ10をY軸方向に跨いだ状態でX軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台1のY軸方向両端部分にはそれぞれX軸方向に延びるレール(不図示)が設置されており、支柱部51がこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、支柱部51にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、支持フレーム部50がX軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
A
また、梁部52には、照射ユニット60が取り付けられており、照射方向がステージ10の表面に向く姿勢で取り付けられている。したがって、支持フレーム部50がX軸方向に移動又は停止するにしたがって、照射ユニット60もそれに付随して移動又は停止を行うことができ、支持フレーム部50の移動量を調節することにより、ステージ10の表面に載置された基材W上に照射ユニット60を位置させて基材W上に塗布材料に対してUV光を照射できるようになっている。
In addition, an
また、照射ユニット60は、UV光を照射するものであり、一方向に延びる形状を有している。本実施形態では、照射ユニット60は、液滴ユニット2の塗布幅方向を含むように形成されており、液滴ユニット2が吐出したY軸方向における塗布範囲(塗布領域)を含むように、一方向に延びて形成されている。また、図5〜図8に示すように、照射ユニット60には、UV光源であるLEDランプ61が複数個長手方向に配列されて設けられており、照射ユニット60がUV光を照射すると、液滴ユニット2のY軸方向における塗布範囲(塗布領域)をすべて照射できるように形成されている。
The
また、照射ユニット60のLEDランプ61は、個々に照射状態、非照射状態が制御できるように形成されている。すなわち、LEDランプ61が個々に点灯、消灯を切り替えることができ、すべてのLEDランプ61を点灯させると、ある位置における塗布領域のY軸方向全体がUV光で照射されるようになっている。また、LEDランプ61を部分的に点灯、又は、消灯させて、支持フレーム部50を移動させると、LEDランプ61を点灯させた位置における領域がX軸方向に亘ってUV光が照射される。すなわち、LEDランプ61直下の基材W上の特定位置に対してのみ、UV光を照射できるようになっている。なお、特定位置のみにUV光が照射されるとは、技術的に可能な程度に、特定位置のみにUV光が照射されるという意味であり、実際は、特定位置と、その特定位置の周辺領域を含む領域に照射される。
Moreover, the
次にこのインクジェット塗布装置の動作について説明する。 Next, the operation of this ink jet coating apparatus will be described.
まず、ステップS1により基材Wが搬入される。具体的には、ロボットハンド等により基材Wがステージ10上に載置される。そして、吸引口に吸引力を発生させることにより、基材Wが水平な姿勢でステージ10の表面に吸着保持される。このとき、液滴ユニット2及びUVランプユニット5は、図5(a)に示すように同じ側に位置している。
First, the base material W is carried in by step S1. Specifically, the substrate W is placed on the
次に、外縁部形成工程が行われる。具体的には、液滴ユニット2を走行させて、第2ノズルユニット40の微少液滴ノズル41aから液滴を吐出させて膜形成領域Sの外縁部71(外枠部分)を形成する。すなわち、矩形状の膜形成領域Sの外枠(縁部分)に沿って液滴を吐出させることにより、膜形成領域Sを囲う外縁部71を形成する。この外縁部71の形成には、通常液滴ノズル31aではなく、微少液滴ノズル41aを用いることにより、膜形成領域Sの外枠部分が複雑な形状であっても精度よく外縁部71を形成することができる。そして、すべての膜形成領域Sに対して外縁部71を形成し、膜形成領域Sの縁部分で内側領域S1と外側領域とを隔てる外縁部71を形成する(図5(b))。
Next, an outer edge part formation process is performed. Specifically, the
次に、流動抑制工程が行われる。すなわち、上記外縁部形成工程で基材W上に吐出された塗布材料は濡れ広がろうとするため、塗布材料にUV照射することで流動性を抑制する。具体的には、UVランプユニット5を走行させて、形成された外縁部71にUV光を照射する。本実施形態では、基材W上に形成された外縁部71に対応するLEDランプ61のみを点灯し、UVランプユニット5を走行させる。すなわち、図6(a)に示すように、UVランプユニット5がY軸方向に延びる外縁部71上に位置する状態では、その外縁部71に対応するLEDランプ61のみ(図6(a)に示す例では黒色に着色された4つずつのLEDランプ61が点灯。)を点灯させて外縁部71の塗布材料の流動性を停止させる。ここで、塗布材料の流動性を停止させるとは、塗布材料の流動性を弱めて硬化させる程度であればよく、吐出された塗布材料が要求されたエッジ精度を維持できる程度に硬化できていればよい。そして、後工程で吐出される塗布材料と混ざり合い、膜パターンが完全に乾燥させられたときに外縁部71と内側領域S1の塗布膜Cとが一体化できる程度に乾燥できていればよい。
Next, a flow suppression process is performed. That is, since the coating material discharged onto the substrate W in the outer edge portion forming step tends to wet and spread, the fluidity is suppressed by irradiating the coating material with UV. Specifically, the
そして、さらに図6(b)に示すように、X軸方向に延びる外縁部71上に位置する状態では、その外縁部71に対応するLEDランプ61のみ(図6(b)に示す例では黒色に着色された1つずつのLEDランプ61が点灯。)を点灯させて外縁部71の塗布材料の流動性を停止させる。このようにして、基材W上に形成された外縁部71の形状に応じて、外縁部71に対応するLEDランプ61のみを点灯させて外縁部71の流動性を停止させる。すなわち、不必要なUV光が照射されることにより、外縁部71が形成された領域以外の基材Wの領域がUV光でダメージを受けるのを極力抑えることができる。なお、図6〜8では、硬化された外縁部71は、グレー色で示されている。
As shown in FIG. 6B, only the
次に、内側領域形成工程が行われる。すなわち、外縁部71が形成された膜形成領域Sの内側領域S1に液滴を吐出して膜パターンを形成する。具体的には、図7(a)に示すように、液滴ユニット2を元の位置に戻し、液滴ユニット2を走行させて、第1ノズルユニット30の通常液滴ノズル31aから液滴を吐出させて外縁部71(外枠部分)で囲まれた内側領域S1に塗布膜Cを形成する(図7(b))。形成された塗布膜Cは、先に形成された外縁部71と混ざり合うことにより一体化されるが、外縁部71が流動抑制工程により、ある程度硬化しているため、内側領域S1に吐出された塗布材料が流出することなく内側領域S1に留まって外縁部71と一体化する。なお、内側領域S1には、微少液滴ノズル41aではなく、通常液滴ノズル31aで塗布するため、微少液滴ノズル41aで塗布する場合に比べて短時間で内側領域S1に塗布膜Cを形成することができる。
Next, an inner region forming step is performed. That is, a film pattern is formed by discharging droplets to the inner region S1 of the film forming region S where the
次に、再度、UV光を照射することにより、膜形成領域Sに塗布された塗布材料を硬化させる。具体的には、図8(a)に示すように、UVランプユニット5を走行させて、基材W上の塗布膜CにUV光を照射する。これにより、内側領域形成工程で形成された内側領域S1の塗布膜Cを硬化させる(図8(b))。ここで、膜形成領域Sに形成された塗布膜C(外縁部71、及び、内側領域S1の塗布膜C)については、完全に乾燥させてもよいし、後工程の乾燥装置で完全に乾燥させてもよい。すなわち、膜形成領域Sには、外縁部71と内側領域S1に流動性の高い塗布膜Cが形成されているが、この内側領域S1に形成された塗布膜Cの流動性を止める程度に硬化させて、後工程の乾燥装置によって膜形成領域S上に形成された塗布膜Cを乾燥させてもよく、UVランプユニット5により外縁部71と一体化した膜形成領域S上の塗布膜Cを完全に硬化(乾燥)させてもよい。
Next, the coating material applied to the film forming region S is cured by irradiating UV light again. Specifically, as shown in FIG. 8A, the
このように、上記実施形態の膜パターン形成方法によれば、流動性の高い塗布材料でも精度よく膜パターンを形成することができる。すなわち、外縁部形成工程で膜パターンの外縁部71を形成した後、流動抑制工程によってLED光を照射して形成された外縁部71を硬化させ、濡れ広がりを抑制する。すなわち、LED光を照射することにより、ハロゲンランプを用いる場合に比べて点灯させた直後から照度を安定させることができ、速やかに塗布材料の濡れ広がりを抑えることができる。そして、内側領域形成工程によって、濡れ広がりを抑える程度に硬化させた外縁部71の内側に液滴を吐出することにより、濡れ広がりを抑えつつ膜パターンを形成することができる。したがって、流動性の高い塗布材料であっても、膜パターンのエッジ精度の要求を満たすことができ、精度よく膜パターンを形成することができる。
Thus, according to the film pattern forming method of the above embodiment, a film pattern can be formed with high accuracy even with a coating material having high fluidity. That is, after the
上記実施形態では、外縁部71は微少液滴ノズル41aから吐出された液滴で形成し、内側領域S1は、通常液滴ノズル31aから吐出された液滴で形成する例について説明したが、外縁部71、及び、内側領域S1、いずれも通常液滴ノズル31aによって形成してもよい。この場合、ヘッドユニット21に搭載されるノズルがすべて共通のノズルでよいため、インクジェット塗布装置のコストダウンを図ることができる。
In the above embodiment, the
上記実施形態では、UVランプユニット5に複数のLEDランプ61が設けられる例について説明したが、塗布領域を含む一方向に延びる形状のLEDランプ61を1つを有するものであってもよい。この場合、塗布膜Cが形成されていない基材Wの表面を照射することになるが、UVランプユニット5の構成を簡単にすることができる。
In the above embodiment, the example in which the plurality of
上記実施形態では、静止した基材Wに対し、液滴ユニット2、及び、UVランプユニット5が移動する例について説明したが、搬送される基材Wに対し、固定された液滴ユニット2、及び、UVランプユニット5により、膜パターンが形成されるものであってもよい。いずれにせよ、基材Wと、液滴ユニット2、及び、UVランプユニット5が相対的に移動するように構成されていればよい。
In the above embodiment, the example in which the
また、上記実施形態では、液滴ユニット2及びUVランプユニット5が往路でのみ機能する例について説明したが、往路、復路共に機能させるものであってもよい。なお、往路でのみ機能させることにより、液滴ユニット2で外縁部71又は塗布膜Cを形成した後、すぐにUVランプユニット5でUV光を照射できるため、基材W上に形成された直後の外縁部71又は塗布膜Cが濡れ広がるのを極力抑えることができる。
In the above-described embodiment, an example in which the
また、上記実施形態では、LEDランプ61の照射、非照射をLEDランプ61自体を点灯、又は消灯させる場合について説明したが、LEDランプ61を常に点灯させておき、遮蔽板等を用いて照射状態、又は非照射状態を切り替えるように構成してもよい。
In the above embodiment, the irradiation and non-irradiation of the
2 液滴ユニット
5 UVランプユニット
10 ステージ
21 ヘッドユニット
30 第1ノズルユニット
40 第2ノズルユニット
60 照射ユニット
61 LEDランプ
71 外縁部
C 塗布膜
S 膜形成領域
S1 内側領域
W 基材
2
Claims (4)
基材に対し相対的に移動しつつ、基材上に前記液滴ユニットで形成された塗布膜にUV光を照射するUVランプユニットと、
を備え、
前記液滴ユニットは、基材に対する移動方向と直交する塗布幅方向に一方向に延びる形状を有しており、
前記UVランプユニットは、その照射範囲が前記液滴ユニットの塗布幅方向の塗布範囲を含むように一方向に延びる形状を有しており、その光源には、LED照明が設けられていることを特徴とするインクジェット塗布装置。 A droplet unit that ejects droplets on the substrate while moving relative to the substrate;
A UV lamp unit that irradiates the coating film formed by the droplet unit on the substrate with UV light while moving relative to the substrate;
With
The droplet unit has a shape extending in one direction in the application width direction orthogonal to the moving direction with respect to the substrate,
The UV lamp unit has a shape extending in one direction so that the irradiation range includes the application range in the application width direction of the droplet unit, and the light source is provided with LED illumination. An ink jet coating apparatus.
前記液滴ユニットから液滴を吐出して形成する膜パターンの外縁部を形成する外縁部形成工程と、
前記外縁部形成工程で形成された外縁部に対してUV光を照射して、形成直後の外縁部の流動性を抑える流動抑制工程と、
前記流動抑制工程後の外縁部で囲われた内側領域に液滴を吐出する内側領域形成工程と、
を有することを特徴とする膜パターン形成方法。 A droplet unit that discharges droplets on a substrate; and a UV lamp unit that irradiates UV light using LED illumination as a light source on a coating film formed on the substrate by the droplet unit. In the film pattern method of forming a film pattern on a substrate by relatively moving the droplet unit and the UV lamp unit,
An outer edge forming step of forming an outer edge of a film pattern formed by discharging droplets from the droplet unit;
A flow suppressing step of irradiating UV light to the outer edge portion formed in the outer edge portion forming step to suppress the fluidity of the outer edge portion immediately after formation;
An inner region forming step of discharging droplets to an inner region surrounded by an outer edge after the flow suppressing step;
A film pattern forming method characterized by comprising:
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JP2006188715A (en) * | 2006-02-18 | 2006-07-20 | Keyence Corp | Uv irradiation device |
JP2007181765A (en) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Seiko Epson Corp | Pattern formation method and droplet ejection apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007181765A (en) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Seiko Epson Corp | Pattern formation method and droplet ejection apparatus |
JP2006188715A (en) * | 2006-02-18 | 2006-07-20 | Keyence Corp | Uv irradiation device |
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