JP2018084794A - 再帰反射シート - Google Patents

Abstract

【課題】虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる再帰反射シートを提供する。【解決手段】シート状の支持体部と、支持体部の一方の面に形成される複数の再帰反射素子２２と、を備え、それぞれの再帰反射素子２２は、一つの頂点を共有する３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃを有し、頂点２４から延在する稜線２６を互いに隣り合う反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃで共有し、平面視において互いに隣り合う再帰反射素子２２の間に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのうち少なくとも一部の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚは互いに平行であり、平行な複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチの標準偏差が３μｍ以上である。【選択図】図１

Description

本発明は、再帰反射シートに関する。

再帰反射シートは、入射した光を光源側に反射させることができる性質を有する。再帰反射シートは、このような性質を有するため、夜間や暗所において光が照射されたときに印刷物等の対象物を見やすくする等の目的で利用される。再帰反射シートは、例えば、交通標識、案内標識、車両用ナンバープレート、広告看板、車線分離標、視線誘導標等に利用されている。

また、再帰反射シートは、プロジェクターやハーフミラーと組み合わせて３次元画像投射システムに用いられることもある。このような３次元画像投射システムでは、プロジェクターから投射された画像がハーフミラーに照射されそこで鏡面反射し、次いで再帰反射シートに照射されそこで再帰反射し、再度ハーフミラーに照射された画像がそこを透過して、３次元画像が表示される。

上記のような再帰反射シートとして、例えば下記特許文献１には、多数のキューブコーナー要素と、当該キューブコーナー要素を支持する本体層とを有する再帰反射シートが開示されている。この再帰反射シートでは、多数のキューブコーナー要素によって、入射した光を光源側に反射させることができる。

特許第３６２３５０６号

再帰反射シートでは、入射した光を光源側に反射させる再帰反射素子が小さくされることによって、シート厚を薄くしたり、上記のような３次元画像投射システムに用いられる場合には解像度を向上させたりすることができる。しかし、従来の再帰反射シートは、再帰反射素子が小さくされることによって、標識等に用いられる場合に照射された光が分光されて虹色の光を生じる場合がある。標識等において再帰反射シートが対象物に被覆して用いられる場合、上記のように虹色の光を生じると当該対象物の視認性を低下させる場合がある。また、従来の再帰反射シートでは、再帰反射素子が小さくされ過ぎると、３次元画像投射システムに用いられる場合に却って解像度が低下する場合がある。

そこで、本発明は、虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる再帰反射シートを提供しようとするものである。

上記課題を解決するため、本発明の再帰反射シートは、シート状の支持体部と、前記支持体部の一方の面に形成される複数の再帰反射素子と、を備え、それぞれの前記再帰反射素子は、一つの頂点を共有する３つの反射側面を有し、前記頂点から延在する稜線を互いに隣り合う前記反射側面で共有し、平面視において互いに隣り合う前記再帰反射素子の間に形成される複数の谷線のうち少なくとも一部の前記谷線は互いに平行であり、平行な複数の前記谷線のピッチの標準偏差が３μｍ以上であることを特徴とする。

上記のように虹色の光が生じたり、３次元画像投射システムに用いられる場合において解像度が低下したりする原因は、以下のように考えられる。すなわち、複数の再帰反射素子のそれぞれが回折格子のように機能し、それぞれの再帰反射素子で再帰反射される光が回折し、これらの回折光同士が干渉することによって生じる干渉縞が原因であると考えられる。そこで、本発明の再帰反射シートでは、上記のように互いに平行な複数の谷線のピッチの標準偏差が３μｍ以上であることによって、すなわち平行な複数の谷線のピッチがランダムであることによって、複数の再帰反射素子が形成される位置がランダムになる。このため、複数の再帰反射素子によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下をより抑制し易くなる。なお、本明細書において「平行」とは、２つ線や面の傾きの差が１０分以下であることを意味する。

また、互いに平行な複数の前記谷線の組を複数組有し、互いに異なる前記組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、前記組毎の複数の谷線のピッチの標準偏差の和が３μｍ以上であることが好ましい。

このように、複数の方向において複数の谷線のピッチがランダムであることによって、複数の再帰反射素子が形成される位置をよりランダムにし易くなるので、複数の再帰反射素子によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置をよりランダムにし易くなる。したがって、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生をより抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下をより抑制し易くなる。

また、互いに平行な複数の前記谷線を有し、前記互いに平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差が３μｍ以上であることが好ましい。

上記のように平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差が３μｍ以上であることによって、すなわち平行な複数の谷線のシート厚方向における複数の谷線の位置がランダムにされることによって、複数の再帰反射素子の底面がシート厚方向においてランダムに傾く。このため、平面視における複数の再帰反射素子の面積の大きさをランダムにし易くなる。すなわち、平面視において互いに隣り合う再帰反射素子の間に形成される谷線または谷線の延長線で囲われる部位の面積を素子面積とするとき、この素子面積の大きさがランダムになるように複数の再帰反射素子が形成される。このように素子面積の大きさがランダムになるように複数の再帰反射素子が形成されることによって、それぞれの再帰反射素子で再帰反射されて生じるそれぞれの回折光の広がり方をランダムにすることができる。したがって、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制することができる。

また、互いに平行な複数の前記谷線の組を複数組有し、互いに異なる前記組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、前記組毎の複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差の和が３μｍ以上であることが好ましい。

このように、複数の方向に並列される谷線のシート厚方向における位置がランダムにされることによって、複数の再帰反射素子をシート厚方向においてランダムに傾け易くなり、複数の再帰反射素子の素子面積の大きさをランダムにすることがより容易になる。よって、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生をより抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下をより抑制し易くなる。

以上のように、本発明によれば、虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる再帰反射シートが提供される。

第１実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図１に示す再帰反射シートの斜視図である。 図１に示すＶ１ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図１に示すＶ１ｂ方向から見る再帰反射シートの側面図である。 第２実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図５に示す再帰反射シートの斜視図である。 図５に示すＶ２ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図５に示すＶ２ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 第３実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図９に示す再帰反射シートの斜視図である。 図９に示すＶ３ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図９に示すＶ３ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 第４実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図１３に示す再帰反射シートの斜視図である。 図１３に示すＶ４ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図１３に示すＶ４ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 第５実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図１７に示す再帰反射シートの斜視図である。 図１７に示すＶ５ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図１７に示すＶ５ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 第６実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。 図２１に示す再帰反射シートの斜視図である。 図２１に示すＶ６ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。 図２１に示すＶ６ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。

以下、本発明に係る再帰反射シートの好適な実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図２は、図１に示す再帰反射シートの斜視図である。図３は、図１に示すＶ１ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図４は、図１に示すＶ１ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、図１から図４および以下に示す他の図において、理解のし易さのため、各構成要素の大きさは誇張して示される場合がある。また、図１から図４および以下に示す他の図のそれぞれにおいて、見易さのため、同様の構成要素については一部にのみ参照符号が付され、一部参照符号が省略される場合がある。

図１に示す再帰反射シート１は、シート状の支持体部２０と支持体部２０の一方の面に形成される複数の再帰反射素子２２とを有する。再帰反射素子２２は、入射した光を再帰反射させるのに適した反射面を有している限り、特に限定されるものではない。本実施形態の再帰反射シート１は、主に略三角錐状の再帰反射素子２２を有する。

また、互いに隣り合う再帰反射素子２２の間には、谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚが形成されている。谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚは、互いに隣り合う再帰反射素子２２の間に形成される溝の最底部に沿う線である。さらに、平面視において谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚまたは谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚの延長線で囲われる部位の面積を素子面積とするとき、複数の再帰反射素子２２は、所定の領域において素子面積の大きさがランダムになるように形成される。理解のし易さのため、図１では、谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚまたは谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚの延長線で囲われる部位のうち一つの部位にハッチが入れられている。

本実施形態のそれぞれの再帰反射素子２２は、一つの頂点２４を共有する３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃを有する。３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃは互いに垂直である。よって、１つの再帰反射素子２２において、反射側面２２ａと反射側面２２ｂとは互いに垂直であり、反射側面２２ｂと反射側面２２ｃとは互いに垂直であり、反射側面２２ｃと反射側面２２ａとは互いに垂直である。また、再帰反射素子２２の３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃが互いに垂直な関係であることから、互いに隣り合う再帰反射素子２２は、それぞれ互いに平行な反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃを有する。すなわち、互いに隣り合う再帰反射素子２２のうち一方の再帰反射素子２２の反射側面２２ａと他方の再帰反射素子２２の反射側面２２ａとは互いに平行である。同様に、互いに隣り合う再帰反射素子２２のうち一方の再帰反射素子２２の反射側面２２ｂと他方の再帰反射素子２２の反射側面２２ｂとは互いに平行であり、一方の再帰反射素子２２の反射側面２２ｃと他方の再帰反射素子２２の反射側面２２ｃとは互いに平行である。このように、３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃのそれぞれに平行に他の複数の反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃが形成される。なお、頂点２４は、厳密な点ではなく曲面や平面となっていても良い。また、互いに隣り合う反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃは頂点２４から延在する稜線２６を共有しており、稜線２６は３つ形成される。ただし、後述するように複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチやシート厚方向における位置がランダムにされることによって、複数の再帰反射素子２２のうち少なくとも一部の再帰反射素子２２は、底面が傾いた錐体や、稜線２６が折れ曲がる又は分岐することによって反射側面を４面以上有する錐体となる。

本実施形態の再帰反射シート１では、一つの再帰反射素子２２を囲う複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのうち、それぞれの谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚに平行に他の複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚが形成されている。上記所定の領域において、平行に形成されるこれらの複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚの平面視におけるピッチがランダムになっている。本実施形態の再帰反射素子２２は主に略三角錐状であることから、再帰反射素子２２は３本の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚによって囲われる。この３本の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚが延在する方向をそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向とすると、上記所定の領域に形成される他の複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向のいずれかと平行な方向に延在する。そして、本実施形態の再帰反射シート１では、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘのピッチ、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙのピッチ、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚのピッチがそれぞれ平面視においてランダムである。

平行な複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチがそれぞれ平面視においてランダムであるとは、より具体的には以下の通りである。
本実施形態の再帰反射シート１では、上記のように一つの再帰反射素子２２を囲う複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのうち、互いに異なる方向に延在する谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのそれぞれに平行な他の複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚが形成される。つまり、本実施形態の再帰反射シート１は、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘを有する組と、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙを有する組と、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚを有する組の３組を有する。そして、これら３組に含まれる谷線２８ｘ、２８ｙ、２８ｚは、互いに非平行である。そして、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘを有する組において、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｘとする。Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙを有する組において、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｙとする。Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚを有する組において、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｚとする。このとき、それぞれの組に含まれる谷線のピッチの標準偏差σｉｘ，σｉｙ，σｉｚの和σｉが３μｍ以上である。すなわち、本実施形態の再帰反射シート１は、互いに平行な複数の谷線の組を複数組有し、互いに異なる組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、組毎の複数の谷線のピッチの標準偏差の和が３μｍ以上である。なお、上記標準偏差σｉｘ，σｉｙ，σｉｚの和σｉは、６μｍ以上であることが好ましい。

また、本実施形態の再帰反射シート１では、上記所定の領域において、平行に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのシート厚方向における位置がランダムである。すなわち、本実施形態の再帰反射シート１では、Ｘ軸方向に平行な複数の溝の深さ、Ｙ軸方向に平行な複数の溝の深さ、及びＺ軸方向に平行な複数の溝の深さがそれぞれランダムである。

平行に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのシート厚方向における位置がランダムであるとは、より具体的には以下の通りである。
本実施形態の再帰反射シート１では、上記のように一つの再帰反射素子２２を囲う複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのうち、互いに異なる方向に延在する谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのそれぞれに平行な他の複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚが形成される。つまり、本実施形態の再帰反射シート１は、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘを有する組と、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙを有する組と、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚを有する組の３組を有する。そして、これら３組に含まれる谷線２８ｘ、２８ｙ、２８ｚは、互いに非平行である。そして、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘを有する組において、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｘとする。Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙを有する組において、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｙとする。Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚを有する組において、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線２８ｚのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｚとする。このとき、これらの標準偏差σｐｘ，σｐｙ，σｐｚの和σｐが３μｍ以上である。すなわち、本実施形態の再帰反射シート１は、互いに平行な複数の谷線の組を複数組有し、互いに異なる組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、組毎の複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差の和が３μｍ以上である。なお、上記標準偏差σｐｘ，σｐｙ，σｐｚの和σｐは、６μｍ以上であることが好ましい。谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのシート厚方向における位置の標準偏差は、次のようにして求められる。平行な複数の谷線と垂直な平面上において当該平行な複数の谷線の座標を測定し、これらの座標から最小二乗法で求められる近似直線を基準線とし、当該基準線と谷線の座標との距離の標準偏差を、谷線のシート厚方向における位置の標準偏差とする。

また、本実施形態の再帰反射シート１では、互いに隣り合う再帰反射素子２２がそれぞれ互いに平行な反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃを有する。よって、３つの反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃのそれぞれに平行に他の複数の反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃが形成される。本実施形態の再帰反射シート１では、このように互いに平行に形成される複数の反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃのピッチがランダムである。すなわち、平行に形成される複数の反射側面２２ａのピッチの標準偏差をσｄａ、平行に形成される複数の反射側面２２ｂのピッチの標準偏差をσｄｂ、平行に形成される複数の反射側面２２ｃのピッチの標準偏差をσｄｃとするとき、これらの標準偏差σｄａ，σｄｂ，σｄｃの和σｄが３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましい。なお、図３には、互いに平行に形成される反射側面２２ｃのピッチｄｃが示されている。

また、本実施形態の再帰反射シート１では、複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのうちいずれかを切断するシート厚方向断面において、当該断面で切断される互いに平行な複数の谷線のピッチがランダムである。例えば、複数の谷線２８ｘを切断する再帰反射シート１のシート厚方向断面において、平行な複数の谷線２８ｘのピッチがランダムである。すなわち、複数の谷線２８ｘを切断する再帰反射シート１の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線２８ｘのピッチの標準偏差をσｌｘ、複数の谷線２８ｙを切断する再帰反射シート１の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線２８ｙのピッチの標準偏差をσｌｙ、複数の谷線２８ｚを切断する再帰反射シート１の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線２８ｚのピッチの標準偏差をσｌｚとするとき、これらの標準偏差σｌｘ，σｌｙ，σｌｚの和σｌが３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましい。なお、図３は谷線２８ｘに垂直である再帰反射シート１の厚さ方向断面に相当し、平行な複数の谷線２８ｘのピッチｌｘが示されている。

以上説明した再帰反射シート１は、再帰反射素子２２に入射する光を光源側に反射させることができる性質を有する。再帰反射シート１に優れた再帰反射性を備えさせる観点から、支持体部２０及び再帰反射素子２２は、透明な樹脂からなることが好ましい。支持体部２０及び再帰反射素子２２を構成する材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アイオノマー樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いられてもよく、混合して用いられてもよい。また、支持体部２０及び再帰反射素子２２の透明性や耐候性等を高める観点からは支持体部２０及び再帰反射素子２２は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等からなることが好ましい。なお、支持体部２０及び再帰反射素子２２には、透明性を著しく損なわない範囲で、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、可塑剤、架橋剤、酸化防止剤、防カビ剤、着色剤等の様々な添加剤を適宜添加することができる。

複数の再帰反射素子２２によって光が再帰反射されるとき、複数の再帰反射素子２２のそれぞれが回折格子のように機能し、それぞれの再帰反射素子２２で再帰反射される光が回折する場合がある。この現象は、再帰反射素子２２の素子面積が小さくなると顕著になる。しかし、再帰反射シート１では、上記のように互いに平行な複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチがランダムであることによって、複数の再帰反射素子２２が形成される位置がランダムになるので、複数の再帰反射素子２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

また、上記のように、所定の領域において、平行に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチがランダムであることによって、複数の再帰反射素子２２が形成される位置がランダムになる。このため、複数の再帰反射素子２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下をより抑制し易くなる。

また、上記のようにシート厚方向における複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚの位置がランダムにされることによって、複数の再帰反射素子２２の底面がシート厚方向においてランダムに傾く。このため、平面視における複数の再帰反射素子２２の面積の大きさをランダムにし易くなる。すなわち、平面視において互いに隣り合う再帰反射素子２２の間に形成される谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚまたは谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚの延長線で囲われる部位の面積を素子面積とするとき、この素子面積の大きさがランダムになるように複数の再帰反射素子２２が形成される。このように素子面積の大きさがランダムになるように複数の再帰反射素子２２が形成されることによって、それぞれの再帰反射素子２２で再帰反射されて生じるそれぞれの回折光の広がり方をランダムにすることができる。したがって、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

また、上記のように、互いに隣り合う再帰反射素子２２が有する互いに平行な反射側面２２ａ，２２ｂ，２２ｃのピッチがランダムとされることによって、各再帰反射素子２２で再帰反射される光の光路差をランダムに変化させることができる。その結果、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

また、本実施形態の再帰反射シート１では、上記のように厚さ方向断面において互いに平行な複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチがランダムにされることによって、各再帰反射素子２２で再帰反射される光の光路差をランダムに変化させることができる。その結果、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

上記のように、再帰反射シート１によれば、再帰反射素子２２が小さくされても、回折光による虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。再帰反射素子２２を小さくできることによって、再帰反射シート１を薄くすることや、再帰反射シート１が用いられる３次元画像投射システムの解像度を向上させることができる。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る再帰反射シートについて説明する。図５は、第２実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図６は、図５に示す再帰反射シートの斜視図である。図７は、図５に示すＶ２ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図８は、図５に示すＶ２ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、第１実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の再帰反射シート２は、平行に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのシート厚方向における位置が同じである点において、上記第１実施形態と異なる。すなわち、互いに隣り合う再帰反射素子２２の間に形成される溝の深さはいずれも同じである。ただし、再帰反射シート２では、上記第１実施形態と同様に、平面視において、平行に形成される複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのピッチはランダムである。すなわち、上記標準偏差σｉｘ，σｉｙ，σｉｚの和σｉは、３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましい。

このような再帰反射シートであっても、再帰反射シート１と同様に、複数の再帰反射素子２２が形成される位置をランダムにすることができ、複数の再帰反射素子２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置をランダムにすることができる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る再帰反射シートについて説明する。図９は、第３実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図１０は、図９に示す再帰反射シートの斜視図である。図１１は、図１０に示すＶ３ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図１２は、図１０に示すＶ３ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、第１及び第２実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の再帰反射シート３では、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線２８ｘの平面視におけるピッチがランダムである。Ｙ軸及びＺ軸方向に平行な複数の谷線２８ｙ，２８ｚの平面視におけるピッチは一定である。より具体的には、上記標準偏差σｉｘは、３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましく、上記標準偏差σｉｙ，σｉｚは、それぞれ０．２μｍ以下である。また、複数の谷線２８ｘ，２８ｙ，２８ｚのシート厚方向における位置は同じである。より具体的には、上記標準偏差σｐｘ，σｐｙ，σｐｚは、それぞれ０．１μｍ以下である。

このような再帰反射シート３であっても、複数の再帰反射素子２２が形成される位置をランダムにすることができるので、複数の再帰反射素子２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができるので、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る再帰反射シートについて説明する。図１３は、第４実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図１４は、図１３に示す再帰反射シートの斜視図である。図１５は、図１３に示すＶ４ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図１６は、図１３に示すＶ４ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、第１から第３実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の再帰反射シート４では、再帰反射素子１２２の形状が立方体または直方体とされる。再帰反射素子１２２は、一つの頂点２４を共有する四角形状の３つの反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃを有する。３つの反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが互いに直交してフルキューブコーナー形状が構成される。

また、互いに隣り合う再帰反射素子１２２の間には谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚが形成されている。さらに、平面視において谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚで囲われる部位の面積を素子面積とするとき、複数の再帰反射素子１２２は、上記所定の領域において素子面積の大きさがランダムになるように形成される。理解のし易さのため、図１３では、谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚで囲われる部位のうち一つの部位にハッチが入れられている。

本実施形態の再帰反射シート４では、一つの再帰反射素子１２２を囲う複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのうちそれぞれの谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚに平行に他の複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚが形成されている。また、上記所定の領域において、平行に形成されるこれらの複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚの平面視におけるピッチがランダムになっている。本実施形態の再帰反射素子１２２は立方体または直方体であることから、立方体または直方体の一つの角に相当する頂点２４から見る場合に、再帰反射素子１２２は６本の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚによって囲われる。ただし、６本の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚは２本ずつが互いに平行になっている。これらの６本の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚが延在する方向をそれぞれＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向とすると、上記所定の領域に形成される他の複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向のいずれかと平行な方向に延在する。そして、本実施形態の再帰反射シート４では、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｘのピッチ、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｙのピッチ、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｚのピッチがそれぞれ平面視においてランダムである。すなわち、上記第１実施形態と同様に、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｘの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｘ、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｙの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｙ、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｚの平面視におけるピッチの標準偏差をσｉｚとするとき、これらの標準偏差σｉｘ，σｉｙ，σｉｚの和σｉは、３μｍ以上とされ、６μｍ以上であることが好ましい。

また、本実施形態の再帰反射シート４では、上記所定の領域において、平行に形成される谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのシート厚方向における位置がランダムである。すなわち、上記第１実施形態と同様に、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｘのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｘ、Ｙ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｙのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｙ、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｚのシート厚方向における位置の標準偏差をσｐｚとするとき、これらの標準偏差σｐｘ，σｐｙ，σｐｚの和σｐは、３μｍ以上とされ、６μｍ以上であることが好ましい。

また、本実施形態の再帰反射シート６では、互いに隣り合う再帰反射素子１２２がそれぞれ互いに平行な反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃを有する。よって、３つの反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃのそれぞれに平行に他の複数の反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃが形成される。本実施形態の再帰反射シート６では、このように互いに平行に形成される複数の反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃのピッチがランダムである。すなわち、平行に形成される複数の反射側面１２２ａのピッチの標準偏差をσｄａ、平行に形成される複数の反射側面１２２ｂのピッチの標準偏差をσｄｂ、平行に形成される複数の反射側面１２２ｃのピッチの標準偏差をσｄｃとするとき、これらの標準偏差σｄａ，σｄｂ，σｄｃの和σｄが３μｍ以上とされ、６μｍ以上であることが好ましい。

また、本実施形態の再帰反射シート６では、複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのうちいずれかを切断する厚さ方向断面において、当該断面で切断される互いに平行な複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのピッチがランダムである。例えば、谷線１２８ｘを切断する再帰反射シート６の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線１２８ｘのピッチがランダムである。すなわち、複数の谷線１２８ｘを切断する再帰反射シート６の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線１２８ｘのピッチの標準偏差をσｌｘ、複数の谷線１２８ｙを切断する再帰反射シート６の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線１２８ｙのピッチの標準偏差をσｌｙ、複数の谷線１２８ｚを切断する再帰反射シート６の厚さ方向断面において、平行な複数の谷線１２８ｚのピッチの標準偏差をσｌｚとするとき、これらの標準偏差σｌｘ，σｌｙ，σｌｚの和σｌは３μｍ以上とされ、６μｍ以上であることが好ましい。

再帰反射シート４では、上記のように互いに平行な複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのピッチがランダムであることによって、複数の再帰反射素子１２２が形成される位置がランダムになるので、複数の再帰反射素子１２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

また、上記のようにシート厚方向における複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚの位置がランダムにされることによって、複数の再帰反射素子１２２がシート厚方向においてランダムに傾く。このため、複数の再帰反射素子１２２の素子面積の大きさをランダムにし易くなる。よって、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

また、上記のように互いに隣り合う再帰反射素子１２２が有する互いに平行な反射側面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃのピッチがランダムにされることによって、各再帰反射素子１２２で再帰反射される光の光路差をランダムに変化させることができる。その結果、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

また、本実施形態の再帰反射シート６では、厚さ方向断面において互いに平行な複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのピッチがランダムにされることによって、各再帰反射素子１２２で再帰反射される光の光路差をランダムに変化させることができる。その結果、干渉縞の発生を抑制し易くなり、上記のような虹色の光の発生や解像度の低下を抑制し易くなる。

（第５実施形態）
次に、本発明の第５実施形態に係る再帰反射シートについて説明する。図１７は、第５実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図１８は、図１７に示す再帰反射シートの斜視図である。図１９は、図１７に示すＶ５ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図２０は、図１７に示すＶ５ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、第１から第４実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の再帰反射シート５は、平行に形成される複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのシート厚方向における位置が同じである点において、上記第４実施形態と異なる。ただし、再帰反射シート５では、上記第４実施形態と同様に、平面視において、平行に形成される複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのピッチはランダムである。すなわち、上記標準偏差σｉｘ，σｉｙ，σｉｚの和σｉは、３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましい。

このような再帰反射シート５であっても、上記再帰反射シート４と同様に、複数の再帰反射素子１２２が形成される位置をランダムにすることができ、複数の再帰反射素子１２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置をランダムにすることができる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができ、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

（第６実施形態）
次に、本発明の第６実施形態に係る再帰反射シートについて説明する。図２１は、第６実施形態に係る再帰反射シートの一部を概略的に示す平面図である。図２２は、図２１に示す再帰反射シートの斜視図である。図２３は、図２１に示すＶ６ａの方向から見る再帰反射シートの側面図である。図２４は、図２１に示すＶ６ｂの方向から見る再帰反射シートの側面図である。なお、第１から第５実施形態と同一又は同等の構成要素については、特に説明する場合を除き、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の再帰反射シート６では、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｘの平面視におけるピッチがランダムである。Ｙ軸及びＺ軸方向に平行な複数の谷線１２８ｙ，１２８ｚの平面視におけるピッチは一定である。より具体的には、上記標準偏差σｉｘは、３μｍ以上であり、６μｍ以上であることが好ましく、上記標準偏差σｉｙ，σｉｚは、それぞれ０．２μｍ以下である。また、複数の谷線１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚのシート厚方向における位置は同じである。より具体的には、上記標準偏差σｐｘ，σｐｙ，σｐｚは、それぞれ０．１μｍ以下である。

このような再帰反射シート６であっても、複数の再帰反射素子１２２が形成される位置をランダムにすることができるので、複数の再帰反射素子１２２によって再帰反射されて生じる回折光の発生位置がランダムになる。したがって、干渉縞の発生を抑制することができるので、上記のような虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる。

以上、本発明について好適な実施形態を例に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。

例えば、上記実施形態では、再帰反射シートが支持体部と再帰反射素子とを有する一層で構成される例をあげて説明したが、本発明の再帰反射シートはさらに他の層を備えていてもよい。他の層としては、例えば、再帰反射シートの表面を保護する層、再帰反射素子との間に空気層を形成するための層、再帰反射シートを他の部材に貼り付けるための層等があげられる。

また、上記実施形態では、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向の全て、または、Ｘ軸方向にのみに平行な複数の谷線のピッチがランダムである例をあげて説明した。しかし、これらの形態に限定されず、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向の少なくともいずれか一つの方向に平行に形成される複数の谷線のピッチがランダムであることが好ましい。

また、上記実施形態では、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向の全て、または、Ｘ軸方向にのみに平行な複数の谷線のシート厚方向における位置がランダムである例をあげて説明した。しかし、これらの形態に限定されず、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向の少なくともいずれか一つの方向に平行に形成される複数の谷線のシート厚方向における位置がランダムであることが好ましい。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものでは無い。

以下に説明する条件を満たす実施例及び比較例に係る再帰反射シートを作製し、それぞれの再帰反射シートにＬＥＤ（Light Emitting Diode）照明の光を照射して再帰反射された光による干渉縞の有無を評価した。その結果を以下の基準で評価して表１から表３に示す。
○：干渉縞が発生しない。
△：明確な干渉縞は発生しない。
×：明確な干渉縞が発生する。

下記表１から表３に示す全ての実施例及び比較例に係る再帰反射シートは、シート状の支持体部と当該支持体部の一方の面に形成される複数の略三角錐状の再帰反射素子を備える。また、それぞれの再帰反射素子は、最大厚さが１００μｍであり、光学軸が支持体部の他方の面に対して垂直となるように形成されている。以下、支持体部の他方の面を再帰反射シートの表面という場合がある。また、谷線のピッチの平均値を２１２．１μｍとした。

表１において、変化範囲は、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線のピッチの最大値と最小値との差を示している。σｉｘはＸ軸方向に平行な複数の谷線の平面視におけるピッチの標準偏差であり、σｉｙはＹ軸方向に平行な複数の谷線の平面視におけるピッチの標準偏差であり、σｉｚはＺ軸方向に平行な複数の谷線の平面視におけるピッチの標準偏差であり、σｉはσｉｘとσｉｙとσｉｚとの和である。比較例１に係る再帰反射シートでは、変化範囲は０μｍであり、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向のそれぞれに平行な谷線の平面視におけるピッチが一定である。また、実施例１から実施例５に係る再帰反射シートは、変化範囲及び標準偏差σｉｘが表１に示す通りになるように設計されている。なお、測定結果のばらつきを考慮して、比較例１及び実施例１から実施例５において、谷線のピッチを一定とする場合であっても標準偏差を０．２としている。また、比較例１及び実施例１から実施例５に係る再帰反射シートでは、平行な複数の谷線のシート厚方向における位置は一定である。

表１に示すように、比較例１に対して、谷線のピッチをランダムにした実施例１から実施例５では、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生が抑制された。

表２において、変化範囲は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向のそれぞれに平行な谷線のピッチの最大値と最小値との差を示している。σｉｘ、σｉｙ、σｉｚ、σｉは表１と同様である。表２に示す実施例６から実施例１０に係る再帰反射シートは、変化範囲及び標準偏差σｉｘ、σｉｙ、σｉｚが表２に示す通りになるように設計されている。

表２に示すように、比較例１に対して、谷線のピッチをランダムにした実施例６から実施例１０では、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生が抑制された。

表３において、変化範囲は、複数の谷線のうち再帰反射シートの表面に最も近い位置に形成される谷線と再帰反射シートの表面から最も遠い位置に形成される谷線との再帰反射シートの表面からの距離の差である。σｐｘはＸ軸方向に平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差であり、σｐｙはＹ軸方向に平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差であり、σｐｚはＺ軸方向に平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差であり、σｐはσｐｘとσｐｙとσｐｚとの和である。比較例２に係る再帰反射シートでは、平行な複数の谷線のシート厚方向における位置は一定である。また、実施例１１から実施例１３に係る再帰反射シートは、Ｘ軸方向に平行な谷線のシート厚方向における位置がランダムである。すなわち、Ｘ軸方向に平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の変化範囲及び標準偏差σｐｘが表３に示す通りになるように設計されている。なお、測定結果のばらつきを考慮して、比較例２及び実施例１１から実施例１３において、谷線のシート厚方向における位置を一定とする場合であっても標準偏差を０．１としている。また、実施例１４から実施例１６に係る再帰反射シートは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向のそれぞれに平行な複数の谷線のシート厚方向における位置がランダムである。すなわち、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向に平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の変化範囲及び標準偏差σｐｘ、σｐｙ、σｐｚが表３に示す通りになるように設計されている。なお、比較例２及び実施例１１から実施例１６に係る再帰反射シートでは、平行な複数の谷線の平面視におけるピッチは一定である。

表３に示すように、比較例２に対して、シート厚方向における谷線の位置がランダムである実施例１１から実施例１６では、回折光同士が干渉し難くなり、干渉縞の発生が抑制された。

以上のように、実施例に係る再帰反射シートでは、回折光同士の干渉が抑制され、干渉縞の発生が抑制された。なお、上記実施例ではＬＥＤ照明の光を照射して再帰反射された光による干渉縞の有無を評価した。よって、上記実施例に係る再帰反射シートは、ＬＥＤバックライト、有機ＥＬディスプレイの光源、プロジェクター用ＬＥＤ光源等からの光に対して好適であると考えられる。ただし、上記実施例に係る再帰反射シートは、太陽光、ハロゲンランプや蛍光灯等のＬＥＤ照明以外の光源からの光に対しても同様に干渉縞の発生を抑制し得ると考えられる。

以上説明したように、本発明によれば虹色の光の発生や３次元画像投射システムに用いられる場合における解像度の低下を抑制することができる再帰反射シートが提供され、標識や３次元画像投射システムの分野においての利用することができる。

１，２，３，４，５，６・・・再帰反射シート
２０・・・支持体部
２２，１２２・・・再帰反射素子
２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃ・・・反射側面
２４・・・頂点
２６・・・稜線
２８ｘ，２８ｙ，２８ｚ，１２８ｘ，１２８ｙ，１２８ｚ・・・谷線

Claims (4)

1. シート状の支持体部と、
   前記支持体部の一方の面に形成される複数の再帰反射素子と、
   を備え、
   それぞれの前記再帰反射素子は、一つの頂点を共有する３つの反射側面を有し、前記頂点から延在する稜線を互いに隣り合う前記反射側面で共有し、
   平面視において互いに隣り合う前記再帰反射素子の間に形成される複数の谷線のうち少なくとも一部の前記谷線は互いに平行であり、
   平行な複数の前記谷線のピッチの標準偏差が３μｍ以上である
   ことを特徴とする再帰反射シート。
2. 互いに平行な複数の前記谷線の組を複数組有し、
   互いに異なる前記組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、
   前記組毎の複数の谷線のピッチの標準偏差の和が３μｍ以上である
   ことを特徴とする請求項１に記載の再帰反射シート。
3. 互いに平行な複数の前記谷線を有し、
   前記互いに平行な複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差が３μｍ以上である
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の再帰反射シート。
4. 互いに平行な複数の前記谷線の組を複数組有し、
   互いに異なる前記組に含まれる谷線同士は互いに非平行であり、
   前記組毎の複数の谷線のシート厚方向における位置の標準偏差の和が３μｍ以上である
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の再帰反射シート。

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