JP2018041058A - Method of manufacturing article including transparent screen coating film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、投影機から投射された映像光を、観察者に映像として視認可能に表示する透明スクリーン被膜が形成された板状物品の梱包方法、及び当該物品の枠体への施工方法に関する。 The present invention relates to a method for packing a plate-like article on which a transparent screen coating is formed so that video light projected from a projector is displayed as an image to an observer so as to be visible, and a method for constructing the article on a frame.
街の商業ビルのショーウィンドウや、案内板等に、光透過性を保持したまま広告等の情報を投影表示する透明スクリーンが、建築物分野において近年注目を集めている。また、建築物の分野だけでなく、自動車のフロントガラスに位置情報等を投影するディスプレイとしての透明スクリーンの利用も近年盛んに研究されており、自動車分野でも注目を集めている。 In recent years, a transparent screen that projects and displays information such as advertisements on a show window or a guide board of a commercial building in a city while maintaining light transmission has been attracting attention in the building field. In addition to the field of buildings, the use of a transparent screen as a display for projecting positional information or the like onto the windshield of an automobile has been actively studied in recent years, and has attracted attention in the automobile field.
中でも、透明な分散媒体中に光散乱体を分散させた、透明スクリーン被膜と、ガラス基材等の基材とを含む物品が、スクリーンの透明性や、映像の鮮鋭性の観点から注目されている。そして、透明スクリーン被膜の検討例としては、特許文献１、２、３のような、ダイヤモンドやシリカ等の微粒子が分散した樹脂被膜が知られている。 Among these, articles including a transparent screen film in which a light scatterer is dispersed in a transparent dispersion medium and a substrate such as a glass substrate are attracting attention from the viewpoint of screen transparency and image sharpness. Yes. And as an examination example of a transparent screen film, a resin film in which fine particles such as diamond and silica are dispersed as in Patent Documents 1, 2, and 3 is known.
前記したような透明スクリーン被膜の状態は、投影された映像の質に影響する。例えば、該被膜の表面が汚染されたり、その表面に擦り傷がついたりした場合には、汚染部位や傷部位が可視光散乱を引き起こすため、投影された映像の鮮鋭性等が低下する。特に透明性の高い透明スクリーン被膜では、表面の汚染や擦り傷による影響が相対的に大きくなり、問題となる。そのため、透明スクリーン被膜（透明な分散媒体中に光散乱体を分散させた透明な被膜であり、投影機から投射された映像光を、観察者に映像として視認可能にできる被膜）が形成された、ガラス基材等の基材は、当該基材が、製造されてから消費者に使用されるまでの間は、該被膜の保護フィルムでの保護が必要となる。 The state of the transparent screen film as described above affects the quality of the projected image. For example, when the surface of the coating is contaminated or the surface is scratched, the contaminated site or the damaged site causes visible light scattering, so that the sharpness of the projected image is lowered. Particularly in the case of a transparent screen coating with high transparency, the influence of surface contamination and scratches becomes relatively large, which is a problem. Therefore, a transparent screen film (a transparent film in which a light scatterer is dispersed in a transparent dispersion medium, which enables the image light projected from the projector to be visually recognized as an image by an observer) is formed. The base material such as a glass base material needs to be protected with a protective film from the time the base material is manufactured until it is used by consumers.
建築物分野や、自動車分野では、該基材の周縁部は、枠体に収納される施工がなされることになる。この施工時には、前記保護フィルムは、剥がされている必要がある。しかしながら、この施工時は、前記被膜の表面が、汚染されたり、その表面に擦り傷がついたりするような機会が多くなる。特に、前記枠体と、前記物品とをシーリング材で固定するような施工では、この問題が発生する頻度は高くなる。 In the building field and the automobile field, the peripheral portion of the base material is constructed to be housed in a frame. At the time of this construction, the protective film needs to be peeled off. However, during this construction, there are many opportunities for the surface of the coating to become contaminated or scratched. In particular, in the construction in which the frame body and the article are fixed with a sealing material, the frequency of occurrence of this problem increases.
本発明は、これらを考慮し、透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材と、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品の効率的な製造方法を提供することを課題とする。 In consideration of these, the present invention provides an efficient manufacturing method of an article including a transparent screen coating, a base material on which the coating is formed, and a frame body that houses the peripheral edge of the base material. Let it be an issue.
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、投影された映像を表示する透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材と、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品の製造方法であって、
前記基材の少なくとも一つの主面に前記透明スクリーン被膜を形成する、基材への被膜の形成工程；
前記物品を使用するまでの間、前記透明スクリーン被膜を一時的に保護する、粘着層を有する保護フィルムを、前記粘着層が前記透明スクリーン被膜側となるように、前記基材中、前記枠体に収納されない部位と、前記周縁部とに渡って貼付する、保護フィルムの貼付工程；
貼付された保護フィルムを前記周縁部から部分的に剥がす、保護フィルムの部分剥離工程；
保護フィルムが部分的に剥離された状態で、前記基材の周縁部を前記枠体に収納する、施工工程；
剥離された前記保護フィルムの部位を、前記透明スクリーン被膜が形成された基材に再貼付する、保護フィルムの再貼付工程；
を含み、前記粘着層の前記透明スクリーン被膜に対する粘着力が０．５〜４５Ｎ／ｍであることを特徴とする、ものである。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and includes a transparent screen film that displays a projected image, a base material on which the film is formed, and a frame body that houses a peripheral portion of the base material. A method for producing an article comprising:
Forming a film on the base material, wherein the transparent screen film is formed on at least one main surface of the base material;
Until the article is used, a protective film having an adhesive layer that temporarily protects the transparent screen coating, and the frame body in the substrate so that the adhesive layer is on the transparent screen coating side. A step of applying a protective film, which is applied to a portion that is not housed and the peripheral edge;
A partial peeling step of the protective film, in which the attached protective film is partially peeled from the peripheral edge;
A construction process in which the protective film is partially peeled and the peripheral edge of the base material is housed in the frame;
A step of reapplying the protective film, wherein the part of the peeled protective film is reapplied to the substrate on which the transparent screen coating is formed;
The adhesive strength of the adhesive layer to the transparent screen coating is 0.5 to 45 N / m.
前記透明スクリーン被膜の表面が汚染されたり、その表面に擦り傷がついたりするような欠陥部位の発生は、透明スクリーン被膜が形成された基材を、搬送したり、移動させたり、触れたりするようなハンドリング操作のときに、生じやすい。前記被膜への欠陥部位の発生を抑制するため、前記被膜の全面には、前記物品を使用するまでに一時的に保護する、粘着層を有する保護フィルム（以下、単に「保護フィルム」という）が貼付される。前記被膜が形成された基材の周縁部は、枠体で収納される。このとき、被膜に貼付されている保護フィルムの周縁部の部位、すなわち、被膜の周縁部に貼付されている部位は、一時的に、前記被膜から剥離されている必要がある。そして、前記施工工程の後には、一時的に剥離されていた保護フィルム部位は、前記被膜に、前記被膜中、枠体に収納された部位を除き、再度貼付される。 When the surface of the transparent screen film is contaminated or a defective part is scratched, the substrate on which the transparent screen film is formed is transported, moved, or touched. This is likely to occur during difficult handling operations. In order to suppress the occurrence of defect sites on the coating, a protective film having an adhesive layer (hereinafter simply referred to as “protective film”) is provided on the entire surface of the coating to temporarily protect the coating before use. Affixed. The peripheral part of the base material on which the coating film is formed is housed in a frame. At this time, the peripheral part of the protective film attached to the coating, that is, the part attached to the peripheral part of the coating needs to be temporarily peeled off from the coating. And after the said construction process, the protective film site | part which was peeled temporarily is affixed again on the said coating except the site | part accommodated in the frame in the said coating film.
前記粘着層の粘着力が、０．５Ｎ／ｍ未満の場合、前記保護フィルムが被膜から剥がれやすくなり、保護フィルムによる被膜の保護機能を保ちにくくなる。このことを考慮すると、前記粘着層の粘着力は、０．７５Ｎ／ｍ以上としてもよく、さらには、１Ｎ／ｍ以上としてもよく、５Ｎ／ｍ以上としてもよい。 When the adhesive strength of the adhesive layer is less than 0.5 N / m, the protective film is easily peeled off from the coating, and it is difficult to maintain the protective function of the coating by the protective film. Considering this, the adhesive force of the adhesive layer may be 0.75 N / m or more, and may be 1 N / m or more, or 5 N / m or more.
他方、前記粘着層の粘着力が、４５Ｎ／ｍ超の場合、保護フィルムを前記被膜から剥離させた後に、被膜に糊残りによる汚染が生じやすくなる。このことを考慮すると、前記粘着層の粘着力は、４０Ｎ／ｍ以下としてもよく、さらには、３５Ｎ／ｍ以下としてもよく、２０Ｎ／ｍ以下としてもよい。 On the other hand, when the adhesive strength of the adhesive layer exceeds 45 N / m, the protective film is likely to be contaminated with adhesive residue after the protective film is peeled off from the film. In consideration of this, the adhesive strength of the adhesive layer may be 40 N / m or less, and may be 35 N / m or less, or 20 N / m or less.
そして、前記保護フィルムの厚みは、２０〜２００μｍとすることが好ましい。前記保護フィルムの厚みが２０μｍ未満の場合、前記部分剥離工程、前記施工工程、及び保護フィルムの再貼付工程にて、保護フィルムに皺が発生して、保護フィルム同士が粘着層を介して接着するような現象や、保護フィルムが折れ曲がって平坦性を保てなくなる（これにより、再貼付工程の後、保護フィルムと前記被膜との間に隙間が生じるようになる）という現象等が生じやすくなる。そのため、前記部分剥離工程、前記施工工程、及び保護フィルムの再貼付工程の効率性が低下しやすくなる。これを考慮すると、前記保護フィルムの厚みは、３３μｍ以上、さらには、４０μｍ以上としてもよい。 And it is preferable that the thickness of the said protective film shall be 20-200 micrometers. When the thickness of the protective film is less than 20 μm, wrinkles are generated in the protective film in the partial peeling step, the construction step, and the protective film reattachment step, and the protective films adhere to each other through the adhesive layer. Such a phenomenon or a phenomenon that the protective film is bent and cannot maintain flatness (which causes a gap to be formed between the protective film and the coating film after the reattachment process) are likely to occur. Therefore, the efficiency of the said partial peeling process, the said construction process, and the resticking process of a protective film becomes easy to fall. Considering this, the thickness of the protective film may be 33 μm or more, and further 40 μm or more.
他方、前記保護フィルムの厚みが２００μｍ超の場合、前記再貼付工程にて、保護フィルムの枠体への追随性が低下しやすく、再貼付工程の後、保護フィルムと前記被膜との間に隙間が生じることがある。これを考慮すると、前記保護フィルムの厚みは、１１０μｍ以下、さらには、１００μｍ以下としてもよい。 On the other hand, when the thickness of the protective film is more than 200 μm, the followability to the frame of the protective film is likely to be lowered in the re-sticking step, and after the re-sticking step, there is a gap between the protective film and the coating film. May occur. Considering this, the thickness of the protective film may be 110 μm or less, and further may be 100 μm or less.
本発明によって、投影された映像を表示する透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材と、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品を製造する際に、前記物品を使用するまでに一時的に保護する保護フィルムを用いる方法において、物品の効率的な製造方法の提供がなされる。 According to the present invention, when manufacturing an article including a transparent screen film that displays a projected image, a base material on which the film is formed, and a frame body that houses a peripheral portion of the base material, In a method using a protective film that temporarily protects before use, an efficient manufacturing method of an article is provided.
本発明の、投影された映像を表示する透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品の製造方法の具体的態様例を、図面を用いて説明する。図１は、本発明で得られる、透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材と、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品の好適例の要部断面を示す図である。基材１の主面に、投影された映像を表示する透明スクリーン被膜２が形成され、被膜２が形成された基材１の周縁部は、該基材の周縁部を収納する枠体３で覆われている。被膜２が形成された基材１において、枠体３に収納されない部位を、以降露出部６と表記する。被膜２が形成された基材１と、枠体３との隙間は、シーリング材４が充填されていることが好ましい。 A specific example of a method for manufacturing an article according to the present invention, which includes a transparent screen film that displays a projected image, a base material on which the film is formed, and a frame that houses a peripheral portion of the base material, This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a cross-section of a main part of a preferred example of an article obtained by the present invention, including a transparent screen coating, a substrate on which the coating is formed, and a frame body that houses a peripheral portion of the substrate. It is. A transparent screen coating 2 that displays a projected image is formed on the main surface of the substrate 1, and the peripheral portion of the substrate 1 on which the coating 2 is formed is a frame 3 that houses the peripheral portion of the substrate. Covered. In the base material 1 on which the film 2 is formed, a portion that is not accommodated in the frame 3 is hereinafter referred to as an exposed portion 6. The gap between the base material 1 on which the coating 2 is formed and the frame body 3 is preferably filled with a sealing material 4.
前記基材１の例としては、耐熱性、耐候性などの耐久性などの性質を有するものであれば、特に限定されることなく、各種の基材を使用することができる。透明基材としては、典型的には、ガラス基板であるが、ガラス材料としては、強化ガラスや、フィルム付着ガラス、合わせガラスなどが挙げられ、材質からは、ソーダ石灰ガラスやアルミノシリケイトガラス、硼珪酸ガラス、無アルカリガラスなど、各種のガラス材料を板状にして使用することができる。その他の透明基材としては、プラスチック製の樹脂板やフィルム基材、例えば、ポリカーボネート樹脂や、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタアクリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリアミド樹脂、その他のプラスチック製の透明基材を使用することできる。耐熱性や、耐候性などの耐久性の点からは、プラスチック製の透明基材よりも、ガラス等の金属酸化物の透明基材が好ましい。 Examples of the substrate 1 are not particularly limited as long as they have properties such as durability such as heat resistance and weather resistance, and various substrates can be used. The transparent base material is typically a glass substrate, but examples of the glass material include tempered glass, film-attached glass, laminated glass, and the like. From the material, soda lime glass, aluminosilicate glass, boron Various glass materials such as silicate glass and alkali-free glass can be used in the form of a plate. Other transparent substrates include plastic resin plates and film substrates, such as polycarbonate resins, polyethylene terephthalate resins, polymethyl methacrylate resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polyester resins, polyvinyl alcohol resins, A transparent substrate made of polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, triacetyl cellulose resin, polyamide resin, or other plastics can be used. From the viewpoint of durability such as heat resistance and weather resistance, a transparent substrate of metal oxide such as glass is preferable to a transparent substrate made of plastic.
ガラス板等の基材は、透明スクリーン被膜との密着性を確保するために、酸化セリウム等で予め充分に研磨し、表面の汚れ等を丁寧に除去しておくことが好ましい。 In order to ensure adhesion with the transparent screen coating, it is preferable that a substrate such as a glass plate is sufficiently polished in advance with cerium oxide or the like to carefully remove dirt on the surface.
基材は、通常、矩形の形態で使用されるが、その他の形態、例えば、円形や、楕円形、三角形など各種の形状であってもよい。 The substrate is usually used in a rectangular form, but may be in other forms, for example, various shapes such as a circle, an ellipse, and a triangle.
大きさは、用途に応じて、適宜決められるものである。また、厚みは、用途に応じて、例えば、使用される態様において必要とされる強度などに通常設定される。透明基材としては、表面が平坦な基材だけでなく、表面に凹凸がある基材やパターンを形成した基材や、曲率を持った形状の基材でも良い。表面に凹凸がある基材やパターンを形成した基材では、光散乱性に加えて表面の凹凸やパターンによる光学反射の効果も得られ、表面が平坦な基材とは異なる外観を得ることが出来る。例えば見る角度によって色が変わる、ホログラムのような外観を得られ、意匠性を高めることができる。 The size is appropriately determined according to the application. Moreover, thickness is normally set to the intensity | strength etc. which are required in the aspect used, for example according to a use. The transparent substrate may be a substrate having a flat surface, a substrate having irregularities on the surface, a substrate on which a pattern is formed, or a substrate having a curvature. In the case of a substrate with irregularities on the surface or a substrate with a pattern formed, in addition to the light scattering property, the effect of optical reflection by the irregularities and patterns on the surface can also be obtained, and the appearance different from the substrate with a flat surface can be obtained. I can do it. For example, a hologram-like appearance whose color changes depending on the viewing angle can be obtained, and the design can be enhanced.
前記透明スクリーン被膜２は、透明な分散媒体中に光散乱体を分散させた透明な被膜であり、投影機から投射された映像光を、観察者に映像として視認可能にできる被膜である。前記透明な分散媒体の例としては、有機高分子としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ジアセチルセルロース樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等があげられる。また、無機酸化物高分子としては、ケイ素や、チタン、ジルコニウム、鉄、亜鉛、錫、ハフニウム、タングステンなどの原子を中心として、酸素原子を介して、網目状に高分子化した無機酸化物高分子であり、例えば、シリカ等のケイ素酸化物や、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ハフニウム、酸化タングステンなどの原料又は出発材料を挙げることができ、またこれらを混合して用いることもできる。 The transparent screen film 2 is a transparent film in which a light scatterer is dispersed in a transparent dispersion medium, and the image light projected from the projector can be made visible to an observer as an image. Examples of the transparent dispersion medium include organic polymers such as polyester resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polystyrene resin, polyarylate resin, polyolefin resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polysulfone resin, polysulfone resin. Examples include ether sulfone resins, diacetyl cellulose resins, triacetyl cellulose resins, ethylene vinyl alcohol copolymers, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl butyral resins, and the like. In addition, the inorganic oxide polymer is an inorganic oxide polymer that is polymerized in a network form through oxygen atoms centered on silicon, titanium, zirconium, iron, zinc, tin, hafnium, tungsten, and other atoms. Examples of molecules include silicon oxides such as silica, raw materials or starting materials such as alumina, titania, zirconia, iron oxide, zinc oxide, tin oxide, hafnium oxide, tungsten oxide, etc. It can also be used.
前記光散乱体の例としては、中空シリカビーズ、中空樹脂ビーズなどの低屈折率粒子や、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化すず、チタン酸バリウム、ダイヤモンドなどの高屈折率粒子等があげられる。このなかでは、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子やダイヤモンド粒子が、屈折率が高く光散乱性が強いため、透明スクリーン被膜の光散乱体として使用する上で、透明性と映像の鮮鋭性を両立できる点で好ましい。 Examples of the light scatterer include low refractive index particles such as hollow silica beads and hollow resin beads, and high refractive index particles such as titanium oxide, zirconium oxide, iron oxide, tin oxide, barium titanate, and diamond. It is done. Among these, titanium oxide particles, zirconium oxide particles, and diamond particles have a high refractive index and a strong light scattering property. Therefore, when used as a light scatterer of a transparent screen coating, both transparency and image sharpness can be achieved. This is preferable.
前記枠体３の例としては、窓枠として用いられるサッシュ、グレージングチャンネル、ガラス壁面のガラス固定に用いられる枠体、車両用途であっては、ガラス基材の周縁部に設けられるエンキャップシュレーション等が挙げられる。また、前記シーリング材４としては、シリコーン系シーリング材、変性シリコーン系シーリング材、ウレタン系シーリング材、アクリル系シーリング材等の市中で流通しているシーリング材を使用することができる。 Examples of the frame body 3 include a sash used as a window frame, a glazing channel, a frame body used for fixing a glass on a glass wall surface, and an encapsulation provided on a peripheral edge of a glass substrate for a vehicle application. Etc. Further, as the sealing material 4, a sealing material distributed in the market such as a silicone sealing material, a modified silicone sealing material, a urethane sealing material, and an acrylic sealing material can be used.
基材１に対して、透明スクリーン被膜２を形成するための塗布液を、例えば、スピンコート法、バーコート法、リバースロールコート法、その他のロールコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ノズルコート法、ディスペンサーコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の公知の方法で、塗布することで、透明スクリーン被膜２を形成することができる。前記塗布液は、前記透明な媒体の原料と、前記光散乱体とを混合して調製することができる。 For example, spin coating, bar coating, reverse roll coating, other roll coating, curtain coating, spray coating, dip coating liquid for forming the transparent screen coating 2 on the substrate 1 are used. The transparent screen film 2 can be formed by coating by a known method such as a coating method, a nozzle coating method, a dispenser coating method, a screen printing method, or an ink jet printing method. The coating solution can be prepared by mixing the transparent medium material and the light scatterer.
前記塗布液は、好ましくは、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンチレングリコール、ヘキシレングリコール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、エチルラクテート、ブチルラクトン、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、２−プロパノン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ヘプタノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ノルマルブチル、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、モルフォリン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどの溶媒を含んでもよい。前記透明な媒体が、樹脂の場合、透明な媒体の原料は、樹脂を、１−メトキシ−２−プロパノール、４−メチル−２−ペンタノン、酢酸ノルマルブチル、トルエン、キシレンなどの溶剤に溶かしたものを使用することができる。前記透明な媒体が、ケイ素酸化物の場合、アルコキシシランなどの酸化ケイ素の前駆体化合物を、水、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどの溶媒中で、加水分解、及び縮合して形成したゾルを使用することができる。 The coating solution is preferably water, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, pentylene glycol, hexylene glycol, 1-methoxy-2-propanol, 1 -Ethoxy-2-propanol, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, ethyl lactate, butyl lactone, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, 2-propanone, 2-butanone 4-methyl-2-pentanone, 2-heptanone, 2,4-pentanedione, acetonitrile, ethyl acetate, isopropyl acetate, normal propyl acetate, isobutyl acetate, normal butyl acetate, formamide, N, N-dimethyl Formamide, acetamide, N, N- dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, morpholine, tetrahydrofuran, may include toluene, the solvent such as xylene. When the transparent medium is a resin, the raw material of the transparent medium is a resin dissolved in a solvent such as 1-methoxy-2-propanol, 4-methyl-2-pentanone, normal butyl acetate, toluene, xylene Can be used. When the transparent medium is a silicon oxide, a sol formed by hydrolyzing and condensing a silicon oxide precursor compound such as alkoxysilane in a solvent such as water, methanol, ethanol, or 2-propanol. Can be used.
前記塗布液中には、本発明の目的を損なわない限りにおいて、公知の界面活性剤や、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、赤外線吸収剤、難燃剤、分散剤、加水分解防止剤、防黴剤等の成分が含有されていてもよい。 In the coating solution, as long as the object of the present invention is not impaired, known surfactants, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, infrared absorbers, flame retardants, dispersants, hydrolysis inhibitors In addition, components such as antifungal agents may be contained.
前記塗布液を基材１に塗布した後、熱あるいは活性エネルギー線にて硬化させ、前記基材１表面に被膜２を形成することができる。硬化させるための加熱温度は、例えば、４０〜３００℃、好ましくは、５０〜２５０℃であり、加熱温度は、例えば、１〜２４０分間、好ましくは、５〜１２０分間であることが好適である。加熱は、常圧下だけではなく、加圧下や、減圧下、不活性雰囲気下で行っても良い。 After the coating liquid is applied to the substrate 1, the coating 2 can be formed on the surface of the substrate 1 by curing with heat or active energy rays. The heating temperature for curing is, for example, 40 to 300 ° C., preferably 50 to 250 ° C., and the heating temperature is, for example, 1 to 240 minutes, preferably 5 to 120 minutes. . The heating may be performed not only under normal pressure but also under pressure, under reduced pressure, or in an inert atmosphere.
被膜２は、基材１の主面の全面に形成されたものとしてもよいし、基材１の主面の周縁部、例えば、端面から、１〜１００ｍｍの幅で、被膜の非形成部としてもよい。また、被膜の非形成部は、基材が枠体に収納される幅と同一、又は枠体に収納される幅よりも広くしても良く、例えば、枠体に収納される幅よりも、１〜１００ｍｍ幅分広く形成されてもよい。前記被膜の非形成部は、基材の全周、又は一部に形成されてもよい。 The coating 2 may be formed on the entire main surface of the substrate 1, or a peripheral portion of the main surface of the substrate 1, for example, a width of 1 to 100 mm from the end surface, as a non-coating portion of the coating Also good. Further, the non-forming portion of the film may be the same as the width of the base material stored in the frame body, or may be wider than the width stored in the frame body, for example, than the width stored in the frame body, It may be formed wider by 1 to 100 mm width. The non-formation part of the said film may be formed in the perimeter of a base material, or a part.
また、被膜２の膜厚は、１〜１００μｍとすることが好ましい。前記透明スクリーン被膜の膜厚を、この範囲とすることで、投影された映像を該被膜に表示しやすくなる。これを考慮すると、前記透明スクリーン被膜の膜厚は、２〜５０μｍ、さらには、２〜３０μｍとしてもよい。 Moreover, it is preferable that the film thickness of the film 2 shall be 1-100 micrometers. By setting the film thickness of the transparent screen coating within this range, the projected image can be easily displayed on the coating. Considering this, the film thickness of the transparent screen coating may be 2 to 50 μm, and further 2 to 30 μm.
被膜２が形成された基材１の被膜側の全面には、図２で示すように、保護フィルム５が貼付される。この例では、基材１の片側の主面全面に被膜２が形成されているので、この操作で、露出部６（図１の点線矢印で記した領域）と、被膜２が形成された基材１の周縁部とに渡って、保護フィルム５が貼付されることになる。保護フィルム５は、樹脂製の基体部と、粘着層とで構成され、粘着層が被膜２側となるように、被膜２に貼付される。前記基体部の例としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン等があげられる。また、前記粘着層の例としては、エチレン酢酸ビニル、ポリオレフィン、ポリアミド、合成ゴム、アクリル、ポリウレタン等があげられる。尚、保護フィルム５は、市中から入手可能なものを使用してよく、例えば、トレテック７Ｈ５２、トレテック７５７１、トレテックＲ１１２Ｋ（東レフィルム加工製）、ＳＰＶ−２２４Ｒ、ＳＰＶ−Ｃ−１００、Ｅ−ＭＡＳＫ ＲＢ−２００Ｓ（日東電工製）、ＥＣ−７５５、ＥＣ−７５０７、ＥＣ−７５２０（スミロン製）等を使用してよい。 As shown in FIG. 2, a protective film 5 is attached to the entire surface of the substrate 1 on which the coating 2 is formed. In this example, since the coating 2 is formed on the entire main surface on one side of the base material 1, the exposed portion 6 (the region indicated by the dotted arrow in FIG. 1) and the substrate on which the coating 2 is formed by this operation. The protective film 5 is pasted over the periphery of the material 1. The protective film 5 includes a resin base portion and an adhesive layer, and is attached to the coating 2 so that the adhesive layer is on the coating 2 side. Examples of the base part include polyethylene, polyvinyl chloride, and polyolefin. Examples of the adhesive layer include ethylene vinyl acetate, polyolefin, polyamide, synthetic rubber, acrylic, polyurethane and the like. In addition, the protective film 5 may use what can be obtained from the market, for example, Tretec 7H52, Tretech 7571, Tretec R112K (made by Toray Film Processing), SPV-224R, SPV-C-100, E-MASK. RB-200S (manufactured by Nitto Denko), EC-755, EC-7507, EC-7520 (manufactured by Sumilon) and the like may be used.
前記施工工程に先立って、図３で示すように、保護フィルム５は周縁部から部分的に剥離される。例えば、基材の端面から７ｍｍ〜１５ｍｍ、好ましくは８ｍｍ〜１２ｍｍの幅で、部分剥離される。そして、施工工程では、図４で示すように、被膜２が形成された基材１の周縁部を、枠体３内に収納する。枠体３と、被膜２が形成された基材１との隙間を、図４で示したようにシーリング材を充填してもよい。 Prior to the construction process, as shown in FIG. 3, the protective film 5 is partially peeled from the peripheral edge. For example, partial peeling is performed with a width of 7 mm to 15 mm, preferably 8 mm to 12 mm, from the end face of the substrate. And in a construction process, as shown in FIG. 4, the peripheral part of the base material 1 in which the film 2 was formed is accommodated in the frame 3. FIG. The gap between the frame 3 and the base material 1 on which the coating 2 is formed may be filled with a sealing material as shown in FIG.
施工工程の後、部分剥離された保護フィルムを、被膜２が形成された基材に再貼付する、保護フィルムの再貼付工程がなされる。この際、保護フィルム５において、被膜２の枠体に収納される部位に貼付されていた部位に関しては、枠体３に貼付される。 After the construction process, a protective film reattachment process is performed in which the partially peeled protective film is reattached to the base material on which the coating 2 is formed. At this time, in the protective film 5, the part pasted on the part housed in the frame body of the coating 2 is stuck on the frame body 3.
１．保護フィルムの透明スクリーン被膜２に対する粘着力の評価
基材の材質の指定以外はＪＩＳ Ｚ０２３７：２００９を参考にして評価を行った。後述する被膜２が形成されたガラス基材の被膜面を清浄にし、保護フィルム（２５ｘ２５０ｍｍ）を圧着して試験片を作製した。得られた試験片をジグを用いて精密万能試験機（ＡＧ−Ｘ、島津製作所製）に固定し、１８０度引き剥がし粘着力を室温にて測定した。引張速度は３００ｍｍ／ｍとした。
1. Evaluation of Adhesive Strength for Transparent Screen Coating 2 of Protective Film Evaluation was performed with reference to JIS Z0237: 2009 except for the designation of the material of the base material. The coating surface of the glass substrate on which the coating film 2 described later was formed was cleaned, and a protective film (25 × 250 mm) was pressure-bonded to prepare a test piece. The obtained test piece was fixed to a precision universal testing machine (AG-X, manufactured by Shimadzu Corporation) using a jig, and peeled off by 180 degrees, and the adhesive strength was measured at room temperature. The tensile speed was 300 mm / m.
２．被膜２が形成された基材１の作製
（基材の準備）
３００ｍｍ角で厚さ５．０ｍｍのフロートガラス板の表面を酸化セリウムで研磨した後、イオン交換水で洗浄後、乾燥させてガラス基材を準備した。
2. Preparation of substrate 1 on which coating 2 is formed (preparation of substrate)
The surface of a 300 mm square and 5.0 mm thick float glass plate was polished with cerium oxide, washed with ion-exchanged water, and dried to prepare a glass substrate.
（透明スクリーン被膜形成用塗布液の調製）
以下の２通りの方法で、透明スクリーン被膜形成用塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid for forming transparent screen film)
A coating liquid for forming a transparent screen film was prepared by the following two methods.
（実施例１〜１０における透明スクリーン被膜形成用塗布液の調製）
ガラス容器に、平均粒子径２００ｎｍの酸化ジルコニウム粒子(０．２０ｇ)、水(９．８０ｇ)を添加し、超音波洗浄槽にて２５℃で１０分間超音波分散し、１晩攪拌して、酸化ジルコニウム粒子の分散液Ａ（酸化ジルコニウム濃度：２質量％）を準備した。
(Preparation of coating liquid for forming transparent screen film in Examples 1 to 10)
Zirconium oxide particles (0.20 g) with an average particle diameter of 200 nm and water (9.80 g) were added to a glass container, ultrasonically dispersed at 25 ° C. for 10 minutes in an ultrasonic cleaning tank, and stirred overnight. A dispersion A of zirconium oxide particles (zirconium oxide concentration: 2% by mass) was prepared.
次に、ガラス容器に、エタノール(６８．７７ｇ)、イオン交換水(１３．３３ｇ)、テトラエトキシシラン(ＴＥＯＳ、８．５１ｇ)、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(ＧＰＴＭＳ、３．６２ｇ)、１規定硝酸(０．７７ｇ)を添加し、更に、上記酸化ジルコニウム粒子分散液Ａ(５．００ｇ)を添加して、室温(２０℃)で２時間攪拌して、透明スクリーン被膜形成用塗布液Ａ（全固形分濃度５．０質量％、全固形分中の酸化ジルコニウム粒子濃度２．０質量％）を得た。 Next, in a glass container, ethanol (68.77 g), ion-exchanged water (13.33 g), tetraethoxysilane (TEOS, 8.51 g), γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS, 3.62 g) 1N nitric acid (0.77 g) was added, and the zirconium oxide particle dispersion A (5.00 g) was added, followed by stirring at room temperature (20 ° C.) for 2 hours to apply a transparent screen coating. A liquid A (total solid content concentration 5.0 mass%, zirconium oxide particle concentration 2.0 mass% in the total solid content) was obtained.
なお、ここで、全固形分は、（１）酸化ジルコニウム粒子＋（２）ＴＥＯＳのうちSiO2
換算分＋（３）GPTMSのうちＲ−SiO3/2換算分（Ｒは、３−グリシジルオキシプロピル基）として計算した。
Here, the total solid content is SiO 2 in (1) zirconium oxide particles + (2) TEOS.
It calculated as R-SiO3 / 2 conversion part (R is 3-glycidyloxypropyl group) among conversion part + (3) GPTMS.
（実施例１１における透明スクリーン被膜形成用塗布液の調製）
ダイヤモンド粒子(ビジョン開発製、平均粒子径２５０ｎｍ、粒径分布１５０〜５５０ｎｍ)５ｇとメタノール９５ｇを、超音波ホモジナイザーを用いて２０℃で１時間分散し、５質量％のダイヤモンド粒子分散液（ａ）を用意した。さらにポリビニルピロリドン（ＰＶＰ、キシダ化学製、重量平均分子量３６万）をメタノールに溶解し、２０質量％のＰＶＰ溶液（ｂ）を用意した。
(Preparation of coating liquid for forming transparent screen film in Example 11)
5 g of diamond particles (made by Vision Development Co., Ltd., average particle size 250 nm, particle size distribution 150 to 550 nm) and 95 g of methanol are dispersed for 1 hour at 20 ° C. using an ultrasonic homogenizer. Prepared. Furthermore, polyvinylpyrrolidone (PVP, manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 360,000) was dissolved in methanol to prepare a 20 mass% PVP solution (b).
次に、ダイヤモンド粒子分散液（ａ）２０ｇ、ＰＶＰ溶液（ｂ）２２．５ｇ、メタノール７．５ｇを、超音波ホモジナイザーを用いて２０℃で２０分間分散し、ＰＶＰによってダイヤモンド粒子の表面を修飾した被修飾粒子の分散液（ｃ）を得た。さらに、前記（ｃ）３５．０ｇに、メタノール３１．６ｇ、オルトケイ酸テトラエチル１６．４ｇ、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６．５ｇ、イオン交換水９．４ｇ、１規定硝酸１．１ｇを添加して、室温（２０℃）で２時間攪拌して、透明スクリーン被膜形成用塗布液Ｂ（全固形分濃度１２．５質量％、全固形分中のダイヤモンド粒子濃度５．４質量％）を得た。 Next, 20 g of diamond particle dispersion (a), 22.5 g of PVP solution (b), and 7.5 g of methanol were dispersed at 20 ° C. for 20 minutes using an ultrasonic homogenizer, and the surface of the diamond particles was modified by PVP. A dispersion liquid (c) of modified particles was obtained. Furthermore, 31.6 g of methanol, 16.4 g of tetraethyl orthosilicate, 6.5 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 9.4 g of ion-exchanged water, and 1.1 g of 1N nitric acid were added to 35.0 g of the above (c). The mixture is added and stirred at room temperature (20 ° C.) for 2 hours to obtain a coating liquid B for forming a transparent screen film (total solid content concentration of 12.5% by mass, diamond particle concentration in the total solid content of 5.4% by mass). Obtained.
なお、ここで、全固形分は、（１）ダイヤモンド粒子＋（２）ＴＥＯＳのうちSiO2
換算分＋（３）GPTMSのうちＲ−SiO3/2換算分（Ｒは、３−グリシジルオキシプロピル基）として計算した。
Here, the total solid content is SiO 2 in (1) diamond particles + (2) TEOS.
It calculated as R-SiO3 / 2 conversion part (R is 3-glycidyloxypropyl group) among conversion part + (3) GPTMS.
（透明スクリーン被膜が形成された基材の作製）
前記基材に、前記塗布液ＡまたはＢをスピンコート法にて５００ｒｐｍの回転速度で成膜した後、２６０℃の電気炉内で１０分間焼成し、透明スクリーン被膜２を有する物品を作製した。得られた物品は透明であり、市販のプロジェクタを用いて投射したところ、被膜２上で映像が視認できることを確認した。
(Preparation of a substrate on which a transparent screen coating is formed)
The coating solution A or B was formed on the substrate at a rotational speed of 500 rpm by spin coating, and then baked in an electric furnace at 260 ° C. for 10 minutes to produce an article having the transparent screen coating 2. The obtained article was transparent, and when projected using a commercially available projector, it was confirmed that an image was visible on the coating 2.
３．被膜２が形成された基材１の被膜２への保護フィルムの貼付
各実施例、各比較例では、表１に示した保護フィルムを、被膜２に貼付、剥離して、「被膜２への保護フィルム５の保持性」、「保護フィルム５の部分剥離工程時の作業性」、「保護フィルム５の再貼付工程でのフィルムの被膜２への粘着性」、「被膜２から保護フィルム５を全て剥離させた後の被膜２の状態（目視観察結果）」が評価された。各保護フィルムは、その保護層がポリエチレン、またはポリ塩化ビニルで形成されており、粘着層はアクリル系粘着剤、または自己粘着タイプのものが使用された。また、各実施例、比較例に対して３０個の試料を準備し、前記各種評価を行った。実施例１〜１０、比較例１、２では塗布液Ａを、実施例１１では塗布液Ｂを用いて作製した試料を用いた。
3. Application of protective film to film 2 of substrate 1 on which film 2 was formed In each example and each comparative example, the protective film shown in Table 1 was applied to film 2 and peeled off. "Retention property of protective film 5", "Workability at the time of partial peeling process of protective film 5", "Adhesiveness of film to recoat 2 in reattachment process of protective film 5", "Removal of protective film 5 from recoat film 2" The state of the film 2 after being completely peeled (result of visual observation) was evaluated. Each protective film has a protective layer made of polyethylene or polyvinyl chloride, and the adhesive layer used was an acrylic adhesive or a self-adhesive type. In addition, 30 samples were prepared for each example and comparative example, and the various evaluations were performed. In Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2, samples prepared using the coating liquid A and in Example 11 using the coating liquid B were used.
「被膜２への保護フィルム５の保持性」については、３０個の試料に対して全て保護フィルム５を被膜２に保持できたものを「可」、３０個の試料に対して全て保護フィルム５を被膜２に保持でき、且つ保護フィルム５の被膜２への密着性が良好であったものを「良」、保護フィルム５を被膜２に１つでも保持できなかったものを「不可」と評価した。 As for “retainability of the protective film 5 to the coating 2”, all the protective films 5 can be retained on the coating 2 with respect to 30 samples are “OK”, and all the protective films 5 with respect to 30 samples. Can be held in the coating 2 and the adhesion of the protective film 5 to the coating 2 is “good”, and the one that cannot hold even one protective film 5 in the coating 2 is evaluated as “impossible” did.
「保護フィルム５の部分剥離工程時の作業性」については、保護フィルム５を被膜２から剥離できたが、粘着層同士がひっついて保護フィルム同士の接着が１つでも生じたものを「可１」、３０個の試料全てに対して、保護フィルム５を被膜２から剥離できたものの、保護フィルムの剥離させるために、作業者が力を入れる必要があったものを「可２」、３０個の試料全てに対して、保護フィルム５を被膜２から容易に剥離できたものを「良」、保護フィルム５を被膜２から剥離させることが難しく、作業性が悪かったものを「不可」と評価した。 Regarding “workability at the time of the partial peeling process of the protective film 5”, the protective film 5 could be peeled from the coating 2, but the adhesive layers were stuck to each other and even one adhesion between the protective films occurred. "For all 30 samples, the protective film 5 could be peeled from the coating 2, but the operator needed to put effort into the protective film to peel off the" possible 2 ", 30 pieces. For all of the samples, it was evaluated as “good” if the protective film 5 could be easily peeled off from the coating 2, and “impossible” if it was difficult to peel off the protective film 5 from the coating 2, and the workability was poor. did.
「保護フィルム５の再貼付工程でのフィルムの被膜２への粘着性」については、「保護フィルム５の部分剥離工程時の作業性」の評価にて一度剥がされた保護フィルムを、被膜２に貼付し、３０個の試料で、全て保護フィルム５を被膜２に保持できたものを「可」、３０個の試料で、全て保護フィルム５を被膜２に保持でき、且つ保護フィルム５の被膜２への密着性が良好であったものを「良」、再貼付時に保護フィルム５に皺が生じやすかったものを「不可」と評価した。 Regarding “adhesiveness of the film to the coating film 2 in the re-sticking process of the protective film 5”, the protective film once peeled off in the evaluation of “workability during the partial peeling process of the protective film 5” Affixed 30 samples, all of which were able to hold the protective film 5 on the coating 2 were “OK”, 30 samples were all able to hold the protective film 5 on the coating 2, and the coating 2 of the protective film 5 The film having good adhesion to the film was evaluated as “good”, and the film that was easily wrinkled at the time of reattachment was evaluated as “impossible”.
「被膜２から保護フィルム５を全て剥離させた後の被膜２の状態（目視観察結果）」については、「保護フィルム５の再貼付工程でのフィルムの被膜２への粘着性」の評価を経たものに対し、保護フィルム５を剥がす作業を行い、保護フィルム５が剥がされた後の物品を目視で観察して評価を行った。異常がなかったものを「可」、被膜の擦傷、被膜上の糊残りなどの何からの異常が見られたものを「不可」と評価した。 About "the state of the coating film 2 after the protective film 5 was completely peeled off from the coating film 2 (visual observation result)", the evaluation of "adhesiveness of the film to the coating film 2 in the reapplying process of the protective film 5" was performed. The thing which peeled off the protective film 5 was performed with respect to the thing, and the article after the protective film 5 was peeled off was visually observed and evaluated. A case where no abnormality was found was evaluated as “possible”, and a case where abnormality such as a scratch on the film and a residue of adhesive on the film was observed was evaluated as “impossible”.
実施例で評価されたものは、以上の評価項目の全てで、「可」又は「良」であり、優れた例であったことが確認できた。尚、前の工程で、「不可」の評価をなったものについては、次工程での評価を省略した。 What was evaluated in the Example was “OK” or “Good” in all of the above evaluation items, and it was confirmed that it was an excellent example. In addition, about the thing which evaluated "impossible" in the previous process, the evaluation in the next process was abbreviate | omitted.
４．保護フィルム５が貼付された、被膜２が形成された基材１の枠体への施工
実施例１〜１１の保護フィルム５が貼付された、被膜２が形成された基材１については、５ｍｍ厚ガラス板用の住宅用アルミサッシュへの施工を行った。この施工は、前記基材１の１辺に対して行った。
4). Construction of the base material 1 on which the protective film 5 is attached and the coating film 2 is formed on the frame body 5 mm for the base material 1 on which the protective film 5 of Examples 1 to 11 is attached and on which the coating film 2 is formed Construction was carried out on a residential aluminum sash for thick glass plates. This construction was performed on one side of the substrate 1.
貼付された保護フィルム５を基材１の端面から８ｍｍ程度の幅をもって部分剥離し、保護フィルム５が部分剥離した基材１の部位を前記アルミサッシュに差込んだ。次いで、基材１とアルミサッシュとの隙間に、シリコーンシラントを充填し、該シーラントが乾燥した後、保護フィルム５の部分剥離していた部位を再度、被膜２、及び前記アルミサッシュに貼付した。この作業の１週間後、保護フィルム５を完全に剥離し、被膜２を目視で観察した。表２に示す結果のとおり、実施例１〜１１では、被膜２に擦傷、糊残りなどの異常は、観察されなかった。 The attached protective film 5 was partially peeled from the end face of the substrate 1 with a width of about 8 mm, and the portion of the substrate 1 from which the protective film 5 was partially peeled was inserted into the aluminum sash. Next, the silicon silane was filled in the gap between the base material 1 and the aluminum sash, and after the sealant was dried, the part of the protective film 5 that had been partially peeled was applied to the coating 2 and the aluminum sash again. . One week after this operation, the protective film 5 was completely peeled off, and the coating 2 was visually observed. As shown in Table 2, in Examples 1 to 11, abnormalities such as scratches and adhesive residue were not observed in the coating 2.
１ 基材
２ 透明スクリーン被膜
３ 枠体
４ シーリング材
５ 保護フィルム
６ 露出部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Transparent screen film 3 Frame body 4 Sealing material 5 Protective film 6 Exposed part
Claims (9)
前記基材の少なくとも一つの主面に前記透明スクリーン被膜を形成する、基材への被膜の形成工程；
前記物品を使用するまでの間、前記透明スクリーン被膜を一時的に保護する、粘着層を有する保護フィルムを、前記粘着層が前記透明スクリーン被膜側となるように、前記基材中、前記枠体に収納されない部位と、前記周縁部とに渡って貼付する、保護フィルムの貼付工程；
貼付された保護フィルムを前記周縁部から部分的に剥がす、保護フィルムの部分剥離工程；
保護フィルムが部分的に剥離された状態で、前記基材の周縁部を前記枠体に収納する、
施工工程；
剥離された前記保護フィルムの部位を、前記透明スクリーン被膜が形成された基材に再貼付する、保護フィルムの再貼付工程；
を含み、前記粘着層の前記透明スクリーン被膜に対する粘着力が０．５〜４５Ｎ／ｍであることを特徴とする、投影された映像を表示する透明スクリーン被膜と、該被膜が形成された基材と、該基材の周縁部を収納する枠体とを含む物品の製造方法。 A method for producing an article, comprising: a transparent screen film that displays a projected image; a base material on which the film is formed; and a frame that houses a peripheral edge of the base material.
Forming a film on the base material, wherein the transparent screen film is formed on at least one main surface of the base material;
Until the article is used, a protective film having an adhesive layer that temporarily protects the transparent screen coating, and the frame body in the substrate so that the adhesive layer is on the transparent screen coating side. A step of applying a protective film, which is applied to a portion that is not housed and the peripheral edge;
A partial peeling step of the protective film, in which the attached protective film is partially peeled from the peripheral edge;
With the protective film partially peeled, the peripheral edge of the base material is housed in the frame.
Construction process;
A step of reapplying the protective film, wherein the part of the peeled protective film is reapplied to the substrate on which the transparent screen coating is formed;
A transparent screen coating for displaying a projected image, and a substrate on which the coating is formed, wherein the adhesive strength of the adhesive layer to the transparent screen coating is 0.5 to 45 N / m And a method of manufacturing an article including a frame body that houses a peripheral edge portion of the substrate.
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