JP2018039956A - Thermosetting epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents

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吉弘 堤
Yoshihiro Tsutsumi
吉弘 堤
富田 忠
Tadashi Tomita
忠 富田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting epoxy resin composition that gives a cured product having excellent heat resistance, having excellent flexibility, and also having reduced elasticity for improved warpage properties, and an optical semiconductor device prepared therewith.SOLUTION: A thermosetting silicone resin composition contains the following (A), (B), (C), (D) and (E) components, where, parts by mass of each component are relative to the total parts by mass of the (A) and (B) components, 100 pts.mass: (A) epoxy resin, (B) curing agent, (C) curing accelerator of 0.01-5.0 pts.mass, (D) acryl modified silicone resin powder of 1-30 pts.mass, and (E) an inorganic filler of 300-1,200 pts.mass.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び該組成物を硬化して得られる成形体を有する光半導体装置に関する。   The present invention relates to a thermosetting epoxy resin composition and an optical semiconductor device having a molded body obtained by curing the composition.

LED(Light Emitting Diode)等の光半導体素子は、街頭ディスプレイや自動車ランプ、住宅用照明など種種のインジケータや光源として利用されるようになっている。中でも、白色LEDは、二酸化炭素削減や省エネルギーをキーワードとして、各分野で応用した製品の開発が急速に進んでいる。   Optical semiconductor elements such as LEDs (Light Emitting Diodes) are used as various indicators and light sources such as street displays, automobile lamps, and residential lighting. Above all, white LEDs are rapidly developing products that are applied in various fields with the keywords of carbon dioxide reduction and energy saving.

LED等の半導体・電子機器装置の材料のひとつとして、光リフレクター材料にポリフタルアミド樹脂(PPA)が広く使用されてきたが、PPAの耐熱変色性、耐光変色性の乏しさからエポキシ樹脂を代表とする熱硬化性樹脂の使用が多くなってきている。   Polyphthalamide resin (PPA) has been widely used as a light reflector material as one of the materials for semiconductor and electronic equipment such as LEDs. Epoxy resin is representative of PPA's poor heat discoloration and light discoloration resistance. The use of thermosetting resins is increasing.

特許文献1、2には、トリアジン誘導体エポキシ樹脂を使用した白色熱硬化性エポキシ樹脂組成物が、特許文献3には脂環式エポキシ化合物を使用した白色熱硬化性エポキシ樹脂組成物が記載されている。これらに記載の白色熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、いずれも芳香族を有しないエポキシ樹脂と酸無水物とを用いたものであり、一定の耐熱性、耐光性を有しているために使用が拡大してきているが、照明用途や車載用途が増加する現状においては、耐熱性や耐光性などの点でより高い信頼性を有するものが必要となってきた。   Patent Documents 1 and 2 describe a white thermosetting epoxy resin composition using a triazine derivative epoxy resin, and Patent Document 3 describes a white thermosetting epoxy resin composition using an alicyclic epoxy compound. Yes. The white thermosetting epoxy resin compositions described in these are all made of epoxy resins and acid anhydrides that do not have aromaticity, and are used because they have certain heat resistance and light resistance. However, in the present situation where lighting applications and in-vehicle applications are increasing, those having higher reliability in terms of heat resistance and light resistance have become necessary.

特許文献4には、トリアジン誘導体エポキシ樹脂を使用した白色熱硬化性エポキシ樹脂組成物の中に特定の酸化防止剤を含有させることでより高い耐熱性や耐光性を有するものが得られることが示されているが、これでもまだ満足する信頼性が得られなくなってきている。   Patent Document 4 shows that a white thermosetting epoxy resin composition using a triazine derivative epoxy resin can have a higher heat resistance and light resistance by containing a specific antioxidant. However, even now, satisfactory reliability cannot be obtained.

特開2006−140207号公報JP 2006-140207 A 特開2008−189827号公報JP 2008-189827 A 特開2013−100410号公報JP 2013-100410 A 特開2015−101614号公報JP, 2015-101614, A

従って、本発明の目的は、耐熱性に優れるだけでなく、たわみ性に優れ、かつ低弾性化させることで反り特性が改善され、信頼性に優れた硬化物を与える熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた光半導体装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is not only excellent heat resistance but also excellent flexibility and low elasticity, and thus a warp property is improved, and a thermosetting epoxy resin composition that gives a cured product having excellent reliability. And providing an optical semiconductor device using the same.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、下記熱硬化性シリコーン樹脂組成物が、上記目的を達成できる熱硬化性シリコーン樹脂であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、下記の熱硬化性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた光半導体装置を提供するものである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the following thermosetting silicone resin composition is a thermosetting silicone resin that can achieve the above object, and completed the present invention. .
That is, this invention provides the following thermosetting epoxy resin composition and an optical semiconductor device using the same.

<1>
下記(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)成分を含有することを特徴とする熱硬化性シリコーン樹脂組成物。ただし、各成分の質量部は、(A)及び(B)成分の合計100質量部に対しての質量部である。
(A)エポキシ樹脂
(B)硬化剤
(C)硬化促進剤:0.01〜5.0質量部
(D)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー:1〜30質量部
(E)無機充填材:300〜1,200質量部
<1>
A thermosetting silicone resin composition comprising the following components (A), (B), (C), (D) and (E): However, the mass part of each component is a mass part with respect to 100 mass parts in total of (A) and (B) component.
(A) Epoxy resin (B) Curing agent (C) Curing accelerator: 0.01 to 5.0 parts by mass (D) Acrylic-modified silicone resin powder: 1 to 30 parts by mass (E) Inorganic filler: 300 to 1 200 parts by mass

<2>
さらに(F)成分として白色顔料を3〜300質量部含有する<1>記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
<2>
Furthermore, the thermosetting silicone resin composition as described in <1> which contains 3-300 mass parts of white pigments as a component (F).

<3>
さらに(G)成分として酸化防止剤を0.1〜15.0質量部含有する<1>または<2>に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
<3>
Furthermore, the thermosetting epoxy resin composition as described in <1> or <2> which contains 0.1-15.0 mass parts of antioxidant as (G) component.

<4>
(A)成分のエポキシ樹脂がトリアジン誘導体エポキシ樹脂、(B)成分の硬化剤が非芳香族かつ炭素・炭素二重結合を有さない酸無水物であり、(B)成分中の酸無水物基の合計個数に対する(A)成分中のエポキシ基の合計個数の比が0.6〜2.0である<1>から<3>のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
<4>
The (A) component epoxy resin is a triazine derivative epoxy resin, the (B) component curing agent is a non-aromatic acid anhydride having no carbon-carbon double bond, and the (B) component acid anhydride. The thermosetting epoxy resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the ratio of the total number of epoxy groups in component (A) to the total number of groups is 0.6 to 2.0. .

<5>
前記(A)成分及び(B)成分が、(A)成分及び(B)成分のプレポリマーであることを特徴とする<1>から<4>のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
<5>
The thermosetting epoxy according to any one of <1> to <4>, wherein the component (A) and the component (B) are prepolymers of the component (A) and the component (B). Resin composition.

<6>
(D)成分のアクリル変性シリコーン樹脂パウダーが下記(d−1)から(d−3)
の混合物の乳化グラフト重合体である<1>から<5>のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
(d−1)下記式(1)
<6>
(D) Component acrylic modified silicone resin powder is from (d-1) to (d-3) below
The thermosetting epoxy resin composition according to any one of <1> to <5>, which is an emulsion graft polymer of a mixture of the above.
(D-1) The following formula (1)

Figure 2018039956
Figure 2018039956

(式中、Rは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を示し、Xは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のアルコキシ基又はヒドロキシル基を示し、YはX又は−[O−Si(X)−Xで示される同一又は異種の基を示し、X及びY中の少なくとも2個はヒドロキシル基である。a、b及びcは0≦a≦1,000の数、100≦b≦10,000の正数、1≦c≦1,000を満たす正数である。)
で表されるオルガノポリシロキサン
(d−2)アクリル酸エステル単量体及び/又はメタクリル酸エステル単量体
(d−3)前記(d−1)及び(d−2)と共重合可能な官能基を含有する単量体
(In the formula, R 1 represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and X represents the same or different substituted or unsubstituted carbon number 1. Represents an alkyl group having ˜20, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a hydroxyl group, and Y is the same as represented by X or — [O—Si (X) 2 ] c —X. Or at least two of X and Y are hydroxyl groups, a, b and c are a number of 0 ≦ a ≦ 1,000, a positive number of 100 ≦ b ≦ 10,000, 1 ≦ (It is a positive number satisfying c ≦ 1,000.)
(D-2) Acrylic acid ester monomer and / or methacrylic acid ester monomer (d-3) Functionality copolymerizable with the above (d-1) and (d-2) Monomers containing groups

<7>
<1>から<6>のいずれか1項記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物からなる光半導体素子用ケース。
<8>
<7>に記載の光半導体素子用ケースを備える光半導体装置。
<9>
封止層が、<1>から<6>のいずれか1項記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする半導体装置。
<7>
The case for optical semiconductor elements which consists of a thermosetting epoxy resin composition of any one of <1> to <6>.
<8>
An optical semiconductor device comprising the optical semiconductor element case according to <7>.
<9>
A semiconductor device, wherein the sealing layer is a cured product of the thermosetting epoxy resin composition according to any one of <1> to <6>.

本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、耐熱性に優れるだけでなく、たわみ性に優れ、かつ低弾性化させることで反り特性が改善された硬化物を与える。したがって、光半導体装置用の熱硬化性エポキシ樹脂組成物として有用である。   The thermosetting epoxy resin composition of the present invention not only has excellent heat resistance, but also provides a cured product having excellent flexibility and improved warping properties by making it low elastic. Therefore, it is useful as a thermosetting epoxy resin composition for optical semiconductor devices.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

<(A)エポキシ樹脂>
(A)成分であるエポキシ樹脂は、耐熱性、耐光性に優れるという観点からトリアジン誘導体エポキシ樹脂を使用することが好ましい。トリアジン誘導体エポキシ樹脂としては、1,3,5−トリアジン核誘導体エポキシ樹脂が好ましい。イソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂は、耐光性や電気絶縁性に優れており、1つのイソシアヌレート環に対して、2価の、より好ましくは3価のエポキシ基を有することが好ましい。具体的には、例えば、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート、及びトリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート等が挙げられる。
<(A) Epoxy resin>
The epoxy resin as component (A) is preferably a triazine derivative epoxy resin from the viewpoint of excellent heat resistance and light resistance. As the triazine derivative epoxy resin, 1,3,5-triazine nucleus derivative epoxy resin is preferable. The epoxy resin having an isocyanurate ring is excellent in light resistance and electrical insulation, and preferably has a divalent, more preferably a trivalent epoxy group with respect to one isocyanurate ring. Specific examples include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, tris (α-methylglycidyl) isocyanurate, and tris (α-methylglycidyl) isocyanurate.

本発明で用いられるトリアジン誘導体エポキシ樹脂は軟化点が40〜125℃であるものが好ましい。なお、本発明で用いられる上記トリアジン誘導体エポキシ樹脂はトリアジン環を水素化したものは包含しない。   The triazine derivative epoxy resin used in the present invention preferably has a softening point of 40 to 125 ° C. In addition, the said triazine derivative epoxy resin used by this invention does not include what hydrogenated the triazine ring.

(A)成分としては、上記以外のエポキシ樹脂も使用することができるが、主として、上記エポキシ樹脂を使用することが好ましい。上記以外のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、及び4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂等のビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、及びフェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂の芳香環を水素化したエポキシ樹脂、及び脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や耐紫外線性の点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、芳香環を水素化したエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、及びシリコーン変性したエポキシ樹脂が好ましい。上記エポキシ樹脂は、後述するプレポリマー化のしやすさやハンドリング性の向上の点から、軟化点が50〜100℃であるものが好ましい。   As the component (A), epoxy resins other than those described above can be used, but it is mainly preferable to use the above epoxy resins. As other epoxy resins, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resin, and 4,4′-biphenol Type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, trisphenylol methane type epoxy resin, tetrakisphenylol ethane type epoxy resin And an epoxy resin obtained by hydrogenating an aromatic ring of a phenol dicyclopentadiene novolac type epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin. Among these, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, epoxy resin with hydrogenated aromatic ring, alicyclic epoxy resin, and silicone-modified epoxy resin are preferable from the viewpoint of heat resistance and ultraviolet resistance. The said epoxy resin has a softening point of 50-100 degreeC from the point of the ease of prepolymerization mentioned later and the improvement of handling property.

<(B)硬化剤>
(B)成分である硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤が挙げられる。ここでは、(A)成分同様に耐熱性の観点から酸無水物硬化剤を使用することが好ましい。酸無水物は、硬化物に耐光性を与えるために、非芳香族であり、且つ炭素−炭素二重結合を有さないものが好ましい。例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物などが挙げられる。中でも、ヘキサヒドロ無水フタル酸及び/又はメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。酸無水物は1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
<(B) Curing agent>
(B) As a hardening | curing agent which is a component, a phenol hardening | curing agent, an amine hardening | curing agent, and an acid anhydride hardening | curing agent are mentioned. Here, like the component (A), it is preferable to use an acid anhydride curing agent from the viewpoint of heat resistance. The acid anhydride is preferably non-aromatic and has no carbon-carbon double bond in order to impart light resistance to the cured product. For example, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hydrogenated methylnadic acid anhydride and the like can be mentioned. Of these, hexahydrophthalic anhydride and / or methylhexahydrophthalic anhydride are preferred. An acid anhydride may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<プレポリマー>
本樹脂組成物は、製造時や樹脂組成物のハンドリング性向上のため、(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤たる酸無水物とを予め反応させ、プレポリマーとして使用することが好ましい。(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤たる酸無水物とをあらかじめ反応させてプレポリマー化することにより得られる構造が、高温下に置いたときの硬化物の黄変を抑制することができるからである。
<Prepolymer>
The resin composition is preferably used as a prepolymer by reacting (A) an epoxy resin and (B) an acid anhydride as a curing agent in advance for the purpose of improving the handling property of the resin composition during production. The structure obtained by pre-reacting (A) epoxy resin and (B) acid anhydride which is a curing agent can suppress yellowing of the cured product when placed under high temperature. Because.

上記プレポリマーの調製において、反応させる(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤たる酸無水物との比率は[(A)成分が有するエポキシ基の合計個数/(B)成分が有する酸無水物基の合計個数]が0.6〜2.0となる量であり、好ましくは0.8〜1.9となる量、更に好ましくは1.0〜1.8となる量である。配合比が上記下限値0.6未満では未反応の酸無水物が硬化物中に残り、得られる硬化物の耐湿性を悪化させるおそれがある。また上記上限値2.0超では硬化不良が生じ、信頼性が低下するおそれがある。(A)成分と(B)成分の反応は、後述する(G)酸化防止剤及び/又は後述する(C)硬化促進剤の存在下にて反応させても良い。(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤とを反応させて得られた固体生成物(すなわち、プレポリマー)は粉砕等により微粉末状態にして用いることが好ましい。該微粉末の平均粒径は5μm〜3mmの範囲が好ましい。なお、該平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めたものをいう。 In the preparation of the prepolymer, the ratio of (A) epoxy resin to be reacted and (B) acid anhydride as a curing agent is [total number of epoxy groups of (A) component / acid anhydride of (B) component] The total number of groups] is 0.6 to 2.0, preferably 0.8 to 1.9, and more preferably 1.0 to 1.8. If the blending ratio is less than the above lower limit of 0.6, unreacted acid anhydride remains in the cured product, which may deteriorate the moisture resistance of the resulting cured product. On the other hand, if the upper limit value is more than 2.0, poor curing may occur and reliability may be lowered. The reaction between the component (A) and the component (B) may be caused to react in the presence of an antioxidant (G) described later and / or a curing accelerator (C) described later. It is preferable to use the solid product (that is, prepolymer) obtained by reacting (A) an epoxy resin and (B) a curing agent in a fine powder state by pulverization or the like. The average particle size of the fine powder is preferably in the range of 5 μm to 3 mm. Incidentally, the average particle size refers to those calculated as a mass average value D 50 of the particle size distribution measurement (or median diameter) by a laser diffraction method.

プレポリマーの調製は、より詳細には(A)成分と(B)成分を、好ましくは60〜120℃、より好ましくは70〜110℃にて、好ましくは4〜20時間、より好ましくは6〜15時間反応させればよい。上記した通り、(A)成分と(B)成分の混合物に後述する(G)酸化防止剤を予め添加しておいてもよい。あるいは(A)成分、(B)成分、及び後述する(C)硬化促進剤を、予め30〜80℃、好ましくは40〜70℃にて2〜12時間、好ましくは3〜8時間反応させてもよい。このとき(G)酸化防止剤を上記混合物にあらかじめ添加しておいてもよい。上記反応によりプレポリマーである固体生成物が得られる。固体生成物の軟化点は40〜100℃、好ましくは45〜70℃である。軟化点が40℃未満では固体とはならず、100℃超では組成物として成形の時に必要な流動性が低すぎるおそれがある。該固体生成物は、上記した通り、本発明の組成物に配合する前に粉砕等により微粉末状化しておくことが好ましい。
上記プレポリマーを本発明の組成物に配合するには、粉砕等により微粉末状態で用いることが好ましい。該微粉末の平均粒径は5μm〜3mmの範囲が好ましく、20μm〜2mmの範囲が特に好ましい。この範囲内であれば、組成物に少量添加される(C)及び/又は(G)成分を組成物中に均一に分散させることが容易になるため好ましい。なお、この平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均値D50(又はメジアン径)として求めたものである。
In more detail, the preparation of the prepolymer comprises the components (A) and (B), preferably at 60 to 120 ° C., more preferably at 70 to 110 ° C., preferably 4 to 20 hours, more preferably 6 to What is necessary is just to make it react for 15 hours. As described above, the antioxidant (G) described later may be added in advance to the mixture of the component (A) and the component (B). Alternatively, the component (A), the component (B), and the later-described (C) curing accelerator are reacted in advance at 30 to 80 ° C., preferably 40 to 70 ° C. for 2 to 12 hours, preferably 3 to 8 hours. Also good. At this time, (G) antioxidant may be added to the mixture in advance. The above reaction yields a solid product that is a prepolymer. The softening point of the solid product is 40-100 ° C, preferably 45-70 ° C. If the softening point is less than 40 ° C., it does not become a solid, and if it exceeds 100 ° C., the fluidity required for molding as a composition may be too low. As described above, the solid product is preferably pulverized by pulverization or the like before blending with the composition of the present invention.
In order to mix the prepolymer with the composition of the present invention, it is preferably used in a fine powder state by pulverization or the like. The average particle diameter of the fine powder is preferably in the range of 5 μm to 3 mm, particularly preferably in the range of 20 μm to 2 mm. If it exists in this range, since it becomes easy to disperse | distribute the (C) and / or (G) component added to a small amount to a composition uniformly in a composition, it is preferable. Incidentally, the average particle size is one calculated as a cumulative weight average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

(A)成分と(B)成分、又はこれらのプレポリマーは、本発明組成物中、10〜45質量%配合することが好ましく、特に、12〜40質量%、さらに15〜35質量%配合することが好ましい。   The component (A) and the component (B) or these prepolymers are preferably blended in the composition of the present invention in an amount of 10 to 45% by mass, particularly 12 to 40% by mass, and further 15 to 35% by mass. It is preferable.

<(C)硬化促進剤>
(C)成分の硬化促進剤は熱硬化性エポキシ樹脂の硬化を促進させるために必須成分として配合するものである。硬化促進剤としては、特に限定されないが、エポキシ樹脂組成物の硬化触媒として公知のものが使用でき、第三級アミン類、イミダゾール類、それらの有機カルボン酸塩、有機カルボン酸金属塩、金属−有機キレート化合物、芳香族スルホニウム塩、有機ホスフィン化合物類、ホスホニウム化合物類等のリン系硬化触媒、これらの塩類等の1種又は2種以上を使用することができる。これらの中でも、イミダゾール類、リン系硬化触媒、例えば2−エチル−4−メチルイミダゾール又はメチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェイト、第三級アミンのオクチル酸塩が更に好ましい。また、第四級ホスホニウムブロマイドとアミンの有機酸塩の併用も好ましく用いられる。
<(C) Curing accelerator>
(C) The hardening accelerator of a component is mix | blended as an essential component in order to accelerate | stimulate hardening of a thermosetting epoxy resin. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, A well-known thing can be used as a curing catalyst of an epoxy resin composition, Tertiary amines, imidazoles, those organic carboxylates, organic carboxylic acid metal salt, metal- One type or two or more types of phosphorus-based curing catalysts such as organic chelate compounds, aromatic sulfonium salts, organic phosphine compounds, and phosphonium compounds, and salts thereof can be used. Among these, imidazoles, phosphorus-based curing catalysts such as 2-ethyl-4-methylimidazole or methyltributylphosphonium dimethyl phosphate, and tertiary amine octylates are more preferable. Further, the combined use of a quaternary phosphonium bromide and an organic acid salt of amine is also preferably used.

硬化促進剤の配合量は、(A)及び(B)成分の総和100質量部に対して0.01〜5質量部、特に0.1〜2質量部の範囲内とすることが好ましい。上記範囲を外れると、エポキシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性及び耐湿性のバランスが悪くなったり、成形時の硬化が非常に遅く又は速くなったりするおそれがある。
(C)成分の硬化促進剤は、(A)成分と(B)成分からなるプレポリマーに混合してもよい。
The blending amount of the curing accelerator is preferably 0.01 to 5 parts by mass, particularly 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the sum of the components (A) and (B). If it is out of the above range, the balance of heat resistance and moisture resistance of the cured product of the epoxy resin composition may be deteriorated, or curing at the time of molding may be very slow or fast.
(C) The hardening accelerator of a component may be mixed with the prepolymer which consists of (A) component and (B) component.

<(D)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー>
(D)成分であるアクリル変性シリコーン樹脂パウダーは、添加することで本発明のエポキシ樹脂組成物の耐熱性やたわみ性を向上させるだけでなく、硬化物を低弾性化させて反り特性を改善させる。
<(D) Acrylic-modified silicone resin powder>
Addition of the (D) component acrylic-modified silicone resin powder not only improves the heat resistance and flexibility of the epoxy resin composition of the present invention, but also lowers the elasticity of the cured product to improve the warp characteristics. .

(D)成分であるアクリル変性シリコーン樹脂パウダーとしては、下記一般式(1)で示されるポリオルガノシロキサン(d−1)と、アクリル酸エステル単量体及び/又はメタクリル酸エステル単量体(d−2)と、これと共重合可能な官能基含有単量体(d−3)との、乳化グラフト重合体が挙げられる。   As the acrylic modified silicone resin powder as component (D), polyorganosiloxane (d-1) represented by the following general formula (1), an acrylate monomer and / or a methacrylic acid ester monomer (d -2) and an emulsion graft polymer of a functional group-containing monomer (d-3) copolymerizable therewith.

Figure 2018039956
Figure 2018039956

(式中、Rは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を示し、Xは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のアルコキシ基又はヒドロキシル基を示し、YはX又は−[O−Si(X)−Xで示される同一又は異種の基を示し、X及びY中の少なくとも2個はヒドロキシル基である。a、b及びcは0≦a≦1,000の数、100≦b≦10,000の正数、1≦c≦1,000を満たす正数である。) (In the formula, R 1 represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and X represents the same or different substituted or unsubstituted carbon number 1. Represents an alkyl group having ˜20, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a hydroxyl group, and Y is the same as represented by X or — [O—Si (X) 2 ] c —X. Or at least two of X and Y are hydroxyl groups, a, b and c are a number of 0 ≦ a ≦ 1,000, a positive number of 100 ≦ b ≦ 10,000, 1 ≦ (It is a positive number satisfying c ≦ 1,000.)

一般式(1)において、Rで表される炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、また環状であってもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アルキル,アルコキシもしくは(メタ)アクリロキシ置換アミノ基で置換されていてもよい。
で表される炭素数6〜20のアリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。
としては、好ましくはメチル基である。
In the general formula (1), the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 may be linear, branched, or cyclic. Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, cyclopentyl group, Examples include a cyclohexyl group and a cycloheptyl group. These alkyl groups may be substituted with a halogen atom, acryloxy group, methacryloxy group, carboxy group, alkoxy group, alkenyloxy group, amino group, alkyl, alkoxy or (meth) acryloxy-substituted amino group.
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 include a phenyl group, a tolyl group, and a naphthyl group.
R 1 is preferably a methyl group.

一般式(1)において、Xで表される炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数6〜20のアリール基としては、Rで例示したアルキル基及びアリール基とそれぞれ同様の基が挙げられる。
Xで表される炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基等が挙げられる。
In the general formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by X include the same groups as the alkyl group and aryl group exemplified in R 1. .
Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms represented by X include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, decyloxy group, tetradecyloxy group and the like. It is done.

一般式(1)において、a、b及びcは0≦a≦1,000の数、100≦b≦10,000の正数、1≦c≦1,000の正数であるが、aは好ましくは0〜200の数である。aが1,000より大きくなると得られる皮膜の強度が不十分となる。bは好ましくは1,000〜5,000の正数である。bが100未満では皮膜の柔軟性が乏しいものとなり、10,000より大きいとパウダーのような固形になりにくくなる。cは好ましくは1〜200の正数である。
また、一般式(1)で示されるポリオルガノシロキサンは、架橋性の面から1分子中に少なくとも2個、好ましくは2〜4個のヒドロキシル基を有し、そのヒドロキシル基は分子鎖両末端に有するものが好ましい。
In the general formula (1), a, b and c are numbers of 0 ≦ a ≦ 1,000, positive numbers of 100 ≦ b ≦ 10,000, and positive numbers of 1 ≦ c ≦ 1,000. Preferably it is the number of 0-200. If a is greater than 1,000, the strength of the resulting film will be insufficient. b is preferably a positive number of 1,000 to 5,000. When b is less than 100, the flexibility of the film is poor, and when it is more than 10,000, it is difficult to form a solid like powder. c is preferably a positive number of 1 to 200.
In addition, the polyorganosiloxane represented by the general formula (1) has at least 2, preferably 2 to 4 hydroxyl groups in one molecule from the viewpoint of crosslinkability, and the hydroxyl groups are present at both ends of the molecular chain. What has is preferable.

アクリル酸エステル単量体又はメタクリル酸エステル単量体としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。   Examples of acrylic acid ester monomers or methacrylic acid ester monomers include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, etc. Is mentioned.

アクリル酸エステル単量体及び/又はメタクリル酸エステル単量体と共重合可能な官能基含有単量体としては、カルボキシル基、アミド基、ヒドロキシル基、ビニル基、アリル基等を含む不飽和結合を有する単量体等が挙げられる。   As a functional group-containing monomer copolymerizable with an acrylate monomer and / or a methacrylic acid ester monomer, an unsaturated bond containing a carboxyl group, an amide group, a hydroxyl group, a vinyl group, an allyl group, etc. And the like.

(D)成分であるアクリル変性シリコーン樹脂パウダーは、上記一般式(1)で示されるポリオルガノシロキサン100質量部に対して、アクリル酸エステル単量体及び/又はメタクリル酸エステル単量体が10〜100質量部、これと共重合可能な官能基含有単量体が0.01〜20質量部を混合し、乳化グラフト重合して得られるものが好ましい。乳化グラフト重合における条件は、特に限定されず、重合時に用いる開始剤としては、通常アクリル系ポリマーに用いる公知のラジカル開始剤を使用できる。また、乳化剤も公知のアニオン系界面活性剤やノニオン系界面活性剤を使用できる。   The acrylic-modified silicone resin powder as component (D) is 10 to 10 parts by weight of the acrylate monomer and / or methacrylic acid ester monomer with respect to 100 parts by mass of the polyorganosiloxane represented by the general formula (1). What is obtained by mixing 0.01 to 20 parts by mass of 100 parts by mass and 0.01 to 20 parts by mass of a functional group-containing monomer copolymerizable therewith is preferable. The conditions in the emulsion graft polymerization are not particularly limited, and as the initiator used at the time of polymerization, a known radical initiator usually used for an acrylic polymer can be used. As the emulsifier, a known anionic surfactant or nonionic surfactant can be used.

(D)成分のアクリル変性シリコーン樹脂パウダーは、下記に挙げる方法で造粒し粉体化される。即ち、スプレードライ乾燥、気流式乾燥等が挙げられるが、生産性を考えるとスプレードライヤーが好ましい。粉体化は熱間乾燥することが好ましく、80〜150℃で処理することが好ましい。得られる粉体粒子の平均粒径は小さいほど良く、50μm以下が好ましい。更に好ましくは、1〜40μmである。なお、上記ポリマーの平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めた値である。 The acrylic modified silicone resin powder (D) is granulated and powdered by the following method. That is, spray drying drying, airflow drying, and the like can be mentioned, but a spray dryer is preferable in view of productivity. The pulverization is preferably performed by hot drying, and is preferably processed at 80 to 150 ° C. The average particle size of the obtained powder particles is preferably as small as possible, and is preferably 50 μm or less. More preferably, it is 1-40 micrometers. The average particle size of the polymer is a value determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

また、(D)成分であるアクリル変性シリコーン樹脂パウダーとしては、例えば、シャリーヌ R−170S、シャリーヌ R−200(以上、日信化学工業(株)製)などの市販品を使用することもできる。   Moreover, as acrylic modified silicone resin powder which is (D) component, commercial items, such as Charine R-170S and Charine R-200 (above, Nissin Chemical Industry Co., Ltd. product), can also be used, for example.

(D)成分のアクリル変性シリコーン樹脂パウダーは、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して1〜30質量部であり、好ましくは2〜20質量部である。1質量部より少ない場合は、本発明の効果が得られない。一方、含有量が30質量部よりも多い場合は、流動性が低下したりする虞がある。   The (D) component acrylic-modified silicone resin powder is 1 to 30 parts by mass, preferably 2 to 20 parts by mass, with respect to 100 parts by mass in total of the (A) component and the (B) component. When the amount is less than 1 part by mass, the effect of the present invention cannot be obtained. On the other hand, when there is more content than 30 mass parts, there exists a possibility that fluidity | liquidity may fall.

<(E)無機充填材>
(E)成分の無機充填材は、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物の強度を高めるために配合される。(E)成分の無機充填材としては、通常エポキシ樹脂組成物やシリコーン樹脂組成物に配合されるものを使用することができる。例えば、球状シリカ、溶融シリカ及び結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、ガラス繊維、ガラス粒子、及び三酸化アンチモン等が挙げられるが、後述する(F)成分の白色顔料(白色着色材)は除かれる。
<(E) Inorganic filler>
(E) The inorganic filler of a component is mix | blended in order to raise the intensity | strength of the hardened | cured material of the epoxy resin composition of this invention. (E) As an inorganic filler of a component, what is normally mix | blended with an epoxy resin composition or a silicone resin composition can be used. For example, silicas such as spherical silica, fused silica and crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, glass fiber, glass particles, antimony trioxide and the like can be mentioned. White pigments (white colorants) are excluded.

(E)成分の無機充填材の平均粒径及び形状は特に限定されないが、平均粒径が0.5〜40μmのものが好ましい。(E)成分としては、平均粒径が0.5〜40μmの球状シリカが好適に用いられる。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めた値である。 (E) Although the average particle diameter and shape of the inorganic filler of a component are not specifically limited, A thing with an average particle diameter of 0.5-40 micrometers is preferable. As the component (E), spherical silica having an average particle size of 0.5 to 40 μm is preferably used. The average particle diameter is a value determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

また、得られる組成物の高流動化の観点から、複数の粒径範囲の無機充填材を組み合わせてもよく、このような場合では、0.1〜3μmの微細領域、3〜7μmの中粒径領域、及び10〜40μmの粗領域の球状シリカを組み合わせて使用することが好ましい。さらなる高流動化のためには、平均粒径がさらに大きい球状シリカを用いることが好ましい。   In addition, from the viewpoint of increasing the fluidity of the resulting composition, inorganic fillers having a plurality of particle size ranges may be combined. In such a case, a fine region of 0.1 to 3 μm, a medium particle of 3 to 7 μm It is preferable to use a combination of spherical silica having a diameter region and a coarse region of 10 to 40 μm. For further high fluidization, it is preferable to use spherical silica having a larger average particle diameter.

(E)成分の無機充填材の充填量は、(A)成分及び(B)成分の総和100質量部に対し、300〜1,200質量部、特に600〜1,000質量部とすることが好ましい。300質量部未満では、十分な強度を得ることができないおそれがあり、1,200質量部を超えると、増粘による未充填不良や柔軟性が失われることで、素子内の剥離等の不良が発生する場合がある。なお、この無機充填材は、組成物全体の10〜90質量%、特に20〜80質量%の範囲で含有せしめることが好ましい。   The filling amount of the inorganic filler of component (E) is set to 300 to 1,200 parts by mass, particularly 600 to 1,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the sum of components (A) and (B). preferable. If the amount is less than 300 parts by mass, sufficient strength may not be obtained. If the amount exceeds 1,200 parts by mass, unfilled defects due to thickening and flexibility are lost, resulting in defects such as peeling in the element. May occur. In addition, it is preferable to make this inorganic filler contain in the range of 10-90 mass% of the whole composition, especially 20-80 mass%.

本発明は、上記成分に加え、下記の任意の成分を配合することができる。
<(F)白色顔料>
(F)成分の白色顔料は、本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体装置のリフレクター(反射板)等の用途向けに必要となる白色度を高めるために、前記(E)成分とは別に配合することができる。例えば、白色顔料としては、二酸化チタン、酸化イットリウムを代表とする希土類酸化物、硫酸亜鉛、酸化亜鉛、及び酸化マグネシウム等が挙げられ、これらは単独で又は数種を併用して用いることができる。
In the present invention, the following optional components can be blended in addition to the above components.
<(F) White pigment>
The white pigment of component (F) is a component of the component (E) described above in order to increase the whiteness necessary for the thermosetting epoxy resin composition of the present invention for uses such as a reflector (reflector) of an optical semiconductor device. Can be blended separately. Examples of white pigments include titanium dioxide, rare earth oxides typified by yttrium oxide, zinc sulfate, zinc oxide, magnesium oxide, and the like, and these can be used alone or in combination of several kinds.

これらのうち、(F)成分の白色顔料としては、白色度をより高めるために二酸化チタンを用いることが好ましい。この二酸化チタンの単位格子は、ルチル型、アナタース型、ブルカイト型があり、いずれも使用できるが、二酸化チタンの白色度や光触媒能の観点からルチル型を用いるのが好ましい。また、二酸化チタンの平均粒径及び形状も限定されないが、平均粒径は0.05〜5.0μmが好ましく、その中でも1.0μm以下のものが好ましく、0.30μm以下のものがより好ましい。上記二酸化チタンは、樹脂成分や無機充填材との相溶性、分散性を高めるため、アルミニウムやケイ素などの含水酸化物、ポリオールなどの有機物、又は有機ポリシロキサン等で予め表面処理することができる。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めたものである。 Among these, as the white pigment of the component (F), it is preferable to use titanium dioxide in order to further increase the whiteness. The unit cell of titanium dioxide includes a rutile type, an anatase type, and a brookite type, and any of them can be used, but it is preferable to use a rutile type from the viewpoint of the whiteness and photocatalytic ability of titanium dioxide. Moreover, although the average particle diameter and shape of titanium dioxide are not limited, the average particle diameter is preferably 0.05 to 5.0 μm, of which 1.0 μm or less is preferable and 0.30 μm or less is more preferable. In order to enhance the compatibility and dispersibility with the resin component and the inorganic filler, the titanium dioxide can be surface-treated in advance with a hydrous oxide such as aluminum or silicon, an organic substance such as polyol, or an organic polysiloxane. The average particle size is one calculated as a weight average value D 50 of the particle size distribution measurement (or median diameter) by a laser diffraction method.

また、二酸化チタンの製造方法は、硫酸法、塩素法などいずれの方法でもよいが、白色度の観点から塩素法の方が好ましい。   The titanium dioxide production method may be any method such as a sulfuric acid method or a chlorine method, but the chlorine method is preferred from the viewpoint of whiteness.

白色顔料の配合量は、(A)及び(B)成分の総和100質量部に対し、3〜300質量部が好ましく、特に5〜250質量部が望ましい。白色顔料の配合量が3質量部未満では十分な白色度が得られない場合があり、300質量部を超えると機械的強度向上の目的で添加する他成分の割合が少なくなるだけでなく、成形性が著しく低下することがある。なお、この白色顔料は、光半導体装置用の反射材のような高い白色度を必要とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物全体に対しては1〜50質量%含有することが好ましく、さらに好ましくは3〜40質量%の範囲である。   The blending amount of the white pigment is preferably from 3 to 300 parts by weight, particularly preferably from 5 to 250 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sum of the components (A) and (B). When the blending amount of the white pigment is less than 3 parts by mass, sufficient whiteness may not be obtained, and when it exceeds 300 parts by mass, not only the ratio of other components added for the purpose of improving the mechanical strength is reduced, but also molding. May be significantly reduced. In addition, it is preferable to contain 1-50 mass% of this white pigment with respect to the whole thermosetting epoxy resin composition which requires high whiteness like the reflector for optical semiconductor devices, More preferably It is the range of 3-40 mass%.

(G)酸化防止剤
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、初期反射率向上及び長期での反射率維持のために(G)酸化防止剤を配合することができる。(G)成分の酸化防止剤としては、フェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤を使用でき、具体的には、以下のような酸化防止剤が挙げられる。
(G) Antioxidant The thermosetting epoxy resin composition of this invention can mix | blend (G) antioxidant for the initial stage reflectance improvement and long-term reflectance maintenance. (G) As an antioxidant of a component, a phenol type, phosphorus type, and sulfur type antioxidant can be used, Specifically, the following antioxidants are mentioned.

フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。   Examples of phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl-β- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [ 5,5] undecane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like.

リン系酸化防止剤としては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリ(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、トリフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスファイト、ジ(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト及びテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニルジホスホネート等が挙げられる。   Phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenylalkyl phosphite, phenyl dialkyl phosphite, tri (nonylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, trioctadecyl phosphite, triphenyl phosphite , Distearyl pentaerythritol diphosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol diphosphite, di (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite , Tristearyl sorbitol triphosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4′-biphenyl diphosphonate and the like.

硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオプロピオネート、ジステアリルジチオプロピオネート、ジベンジルジサルフィド等が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl thiopropionate, distearyl dithiopropionate, and dibenzyl disulfide.

これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の配合量は、(A)及び(B)成分の総和に対して0.01〜15質量部、特に0.03〜10質量部とすることが好ましい。配合量が少なすぎると、酸化防止剤としての効果が得られず、十分な耐熱性が得られず、変色する場合があり、多すぎると硬化阻害を起こし、十分な硬化性、強度を得ることができない場合がある。
なお、(G)成分の酸化防止剤は、(A)成分と(B)成分からなるプレポリマーに混合してもよい。
These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. It is preferable that the compounding quantity of antioxidant shall be 0.01-15 mass parts with respect to the sum total of (A) and (B) component, especially 0.03-10 mass parts. If the amount is too small, the effect as an antioxidant cannot be obtained, sufficient heat resistance cannot be obtained, and discoloration may occur, and if it is too large, curing inhibition will occur and sufficient curability and strength will be obtained. May not be possible.
In addition, you may mix the antioxidant of (G) component with the prepolymer which consists of (A) component and (B) component.

<(H)離型剤>
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、離型剤を配合することができる。(H)成分の離型剤は、成形時の離型性を高めるために配合するものである。
<(H) Release agent>
A mold release agent can be mix | blended with the thermosetting epoxy resin composition of this invention. The mold release agent of component (H) is blended in order to improve the mold release property at the time of molding.

離型剤としては、カルナバワックスをはじめとする天然ワックス、酸ワックス、ポリエチレンワックス、脂肪酸エステルをはじめとする合成ワックスがあるが、一般的に高温条件下や光照射下では、容易に黄変したり、経時劣化したりして、離型性を有しなくなるものが多いため、変色の少ないグリセリン誘導体や脂肪酸エステル、初期にて着色があるものの経時での変色の少ないカルナバワックスが好ましい。   Mold release agents include natural waxes such as carnauba wax, synthetic waxes such as acid wax, polyethylene wax, and fatty acid ester. Generally, yellowing easily occurs under high temperature conditions or under light irradiation. In many cases, glycerin derivatives and fatty acid esters with little discoloration and carnauba wax with little color change with time but less color change are preferable.

(H)成分の配合量は、(A)及び(B)成分の総和に対して、0.05〜7.0質量%、特には0.1〜5.0質量%が好ましい。配合量が0.05質量%未満では、十分な離型性が得られない場合があり、7.0質量%を超えると、沁み出し不良や接着性不良等が起こる場合がある。   Component (H) is blended in an amount of 0.05 to 7.0 mass%, particularly 0.1 to 5.0 mass%, based on the sum of components (A) and (B). If the blending amount is less than 0.05% by mass, sufficient releasability may not be obtained, and if it exceeds 7.0% by mass, a squeeze out defect or poor adhesion may occur.

<(I)カップリング剤>
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、樹脂と無機充填材との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤を配合することができる。
このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどが挙げられる。なお、アミン系のシランカップリング剤のように150℃以上に放置した場合に熱樹脂が変色するものはあまり好ましくない。表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではなく、常法に従って行えばよい。
<(I) Coupling agent>
In the thermosetting epoxy resin composition of the present invention, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent can be blended in order to increase the bond strength between the resin and the inorganic filler.
Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Mercapto-functional alkoxysilanes such as functional alkoxysilane and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. It is not preferable that the thermal resin discolors when left at 150 ° C. or higher, such as an amine-based silane coupling agent. The blending amount of the coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited, and may be performed according to a conventional method.

(I)成分の配合量は、(A)及び(B)成分の総和に対して、0.1〜8.0質量%とすることが好ましく、特に0.5〜6.0質量%とすることが好ましい。0.1質量%未満であると、基材への接着効果が十分でない場合があり、また8.0質量%を超えると、粘度が極端に低下して、ボイドの原因になる可能性がある。   The blending amount of the component (I) is preferably 0.1 to 8.0% by mass, particularly 0.5 to 6.0% by mass with respect to the sum of the components (A) and (B). It is preferable. If it is less than 0.1% by mass, the adhesion effect to the substrate may not be sufficient, and if it exceeds 8.0% by mass, the viscosity may be extremely lowered, which may cause voids. .

<その他の添加剤>
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物には、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば、樹脂の性質を改善する目的でオルガノポリシロキサン、シリコーンオイル、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、又は光安定剤等の添加剤を本発明の効果を損なわない範囲で添加配合することができる。
<Other additives>
Various additives can be further blended in the thermosetting epoxy resin composition of the present invention as necessary. For example, for the purpose of improving the properties of the resin, additives such as organopolysiloxane, silicone oil, thermoplastic resin, thermoplastic elastomer, organic synthetic rubber, or light stabilizer are added and blended within a range that does not impair the effects of the present invention. be able to.

<組成物の製造方法>
本発明の熱硬化性エポキシ組成物の製造方法は特に限定されないが、例えば次の方法が挙げられる。エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、アクリル変性シリコーン樹脂パウダー、無機充填材、白色顔料、酸化防止剤、その他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕して熱硬化性エポキシ樹脂組成物の成形材料とすることができる。この際、エポキシ樹脂及び硬化剤は取り扱いの面からして、固体生成物としてプレポリマー化して用いることが好ましい。固形物(反応物)をエポキシ組成物の調製(製造)に用いない場合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)成分や必要によりその他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕してエポキシ樹脂組成物の成形材料とすることができる。
<Method for producing composition>
Although the manufacturing method of the thermosetting epoxy composition of this invention is not specifically limited, For example, the following method is mentioned. Epoxy resin, curing agent, curing accelerator, acrylic-modified silicone resin powder, inorganic filler, white pigment, antioxidant, and other additives were blended at a predetermined composition ratio, and this was mixed sufficiently uniformly with a mixer or the like. Thereafter, a melt mixing process using a hot roll, a kneader, an extruder or the like is performed, followed by cooling and solidification, and pulverization to an appropriate size to obtain a molding material for the thermosetting epoxy resin composition. At this time, the epoxy resin and the curing agent are preferably used after being prepolymerized as a solid product from the viewpoint of handling. When solid (reactant) is not used for preparation (production) of epoxy composition, (A) component, (B) component, (C) component, (D) component and (E) component and other components as required Additives are blended at a predetermined composition ratio and mixed sufficiently with a mixer, etc., then melt mixed with a hot roll, kneader, extruder, etc., then cooled and solidified, and pulverized to an appropriate size. Thus, a molding material for the epoxy resin composition can be obtained.

本発明の熱硬化性エポキシ組成物をリフレクターとして用いる場合の、該リフレクターの最も一般的な成形方法としては、トランスファー成形法や圧縮成形法が挙げられる。トランスファー成形法では、トランスファー成形機を用い、成形圧力5〜20N/mm、成形温度120〜190℃で成形時間30〜500秒、好ましくは成形温度150〜185℃で成形時間30〜180秒で行う。また、圧縮成形法では、コンプレッション成形機を用い、成形温度は120〜190℃で成形時間30〜600秒、好ましくは成形温度130〜160℃で成形時間120〜300秒で行う。更に、いずれの成形法においても、後硬化を150〜185℃で0.5〜20時間行ってもよい。 When the thermosetting epoxy composition of the present invention is used as a reflector, the most common molding method of the reflector includes a transfer molding method and a compression molding method. In the transfer molding method, using a transfer molding machine, a molding pressure of 5 to 20 N / mm 2 , a molding temperature of 120 to 190 ° C. and a molding time of 30 to 500 seconds, preferably a molding temperature of 150 to 185 ° C. and a molding time of 30 to 180 seconds. Do. In the compression molding method, a compression molding machine is used, and the molding temperature is 120 to 190 ° C., the molding time is 30 to 600 seconds, preferably the molding temperature is 130 to 160 ° C. and the molding time is 120 to 300 seconds. Further, in any molding method, post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 0.5 to 20 hours.

本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物を通常の半導体用封止材や車載用各種モジュールなどの封止に使用することもできる。その際は、着色剤としてカーボンブラックなどを用いる。カーボンブラックとしては市販されているものであればどのようなものも使用できるが、アルカリ金属やハロゲンを多く含まない高純度のものが好ましい。   The thermosetting epoxy resin composition of the present invention can also be used for sealing a normal semiconductor sealing material, various on-vehicle modules, and the like. In that case, carbon black or the like is used as a colorant. Any carbon black may be used as long as it is commercially available, but a high-purity one that does not contain a large amount of alkali metal or halogen is preferred.

実施例及び比較例で用いた成分を以下に示す。ここで、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めた値である。
<(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂>
(A−1):トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート(TEPIC−s:日産化学(株)製商品名)
The components used in Examples and Comparative Examples are shown below. Here, the average particle diameter is a value determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.
<(A) Triazine derivative epoxy resin>
(A-1): Tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate (TEPIC-s: trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.)

<(B)酸無水物>
(B−1):メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(リカシッドMH:新日本理化(株)製商品名)
<(B) Acid anhydride>
(B-1): Methylhexahydrophthalic anhydride (Ricacid MH: trade name, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)

<(C)硬化促進剤>
(C−1)1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール(1B2PZ:四国化成工業(株)製商品名)
<(C) Curing accelerator>
(C-1) 1-benzyl-2-phenylimidazole (1B2PZ: trade name, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

<(D−1)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー>
(D−1−1)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー(シャリーヌR−170S:日信化学工業(株)製商品名;平均粒径30μm)
(D−1−2)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー(シャリーヌR−200:日信化学工業(株)製商品名;平均粒径2.0μm)
<(D−2)比較例用サンプル>
(D−2−1)シリコーン複合パウダー(KMP−600:信越化学工業(株)製商品名;平均粒径5μm)
(D−2−2)シリコーン樹脂パウダー(KMP−590:信越化学工業(株)製商品名;平均粒径2.0μm)
(D−2−3)アクリルパウダー(W−5500:三菱レイヨン(株)製商品名;平均粒径60μm)
<(D-1) Acrylic modified silicone resin powder>
(D-1-1) Acrylic-modified silicone resin powder (Charine R-170S: trade name, manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd .; average particle size 30 μm)
(D-1-2) Acrylic modified silicone resin powder (Charine R-200: trade name, manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd .; average particle size 2.0 μm)
<(D-2) Sample for Comparative Example>
(D-2-1) Silicone composite powder (KMP-600: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; average particle size 5 μm)
(D-2-2) Silicone resin powder (KMP-590: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; average particle size 2.0 μm)
(D-2-3) Acrylic powder (W-5500: trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .; average particle size 60 μm)

<(E)無機充填材>
(E−1)溶融球状シリカ(CS−6103 53C2、(株)龍森製商品名、平均粒径10μm)
<(E) Inorganic filler>
(E-1) Fused spherical silica (CS-6103 53C2, trade name, manufactured by Tatsumori Co., Ltd., average particle size 10 μm)

<(F)白色顔料>
(F−1)二酸化チタン ルチル型(PC−3、石原産業(株)製商品名)
<(F) White pigment>
(F-1) Titanium dioxide rutile type (PC-3, trade name manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)

<(G)酸化防止剤>
(G−1)ホスファイト系酸化防止剤(PEP−36A:ADEKA(株)製商品名)
<(G) Antioxidant>
(G-1) Phosphite-based antioxidant (PEP-36A: trade name, manufactured by ADEKA Corporation)

<(H)離型剤>
(H−1)カルナバワックス(TOWAX−131:東亜化成(株)製商品名)
<(H) Release agent>
(H-1) Carnauba wax (TOWAX-131: trade name manufactured by Toa Kasei Co., Ltd.)

<(I)カップリング剤>
(I−1)シランカップリング剤:3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(KBM−803:信越化学工業(株)製商品名)
<(I) Coupling agent>
(I-1) Silane coupling agent: 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM-803: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[実施例1〜5,比較例1〜4]
表1に示す配合(質量部)で、熱二本ロールにて製造し、冷却、粉砕して熱硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。これらの組成物につき、以下の諸特性を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例1〜4、比較例1〜4では(A)成分と(B)成分は表1の割合で80℃、8時間ゲートミキサーで予め溶融混合して得られたプレポリマーを使用し、実施例5では(A)成分と(B)成分はプレポリマーを用いず、別々に添加した。
[Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 4]
The composition (parts by mass) shown in Table 1 was produced with a hot two roll, cooled and pulverized to obtain a thermosetting epoxy resin composition. The following properties were measured for these compositions. The results are shown in Table 1. In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, the components (A) and (B) are prepolymers obtained by pre-melting and mixing with a gate mixer at 80 ° C. for 8 hours in the ratio shown in Table 1. In Example 5, the component (A) and the component (B) were added separately without using a prepolymer.

<スパイラルフロー値>
EMMI規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm、成形時間90秒の条件で、上記熱硬化性エポキシ樹脂組成物の成形体のスパイラルフロー値を測定した。
<Spiral flow value>
Using a mold conforming to the EMMI standard, the spiral flow value of the molded article of the thermosetting epoxy resin composition was determined under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 90 seconds. It was measured.

<収縮率、曲げ強さ、曲げ弾性率、たわみ量(25℃)>
JIS K 6911:2006規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm、成形時間90秒の条件で上記熱硬化性エポキシ樹脂組成物を成形し、150℃で2時間ポストキュアーした。ポストキュアーした成形体の長さを室温(25℃)にて、電気マイクロメーターで測定し、収縮率を算出した。続いて、試験片を室温(25℃)にて、曲げ強さ、曲げ弾性率及びたわみ量を測定した。
<Shrinkage rate, bending strength, flexural modulus, deflection amount (25 ° C.)>
Using the mold according to JIS K 6911: 2006 standard, the thermosetting epoxy resin composition was molded under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 and a molding time of 90 seconds, and 150 Post-cured for 2 hours at ° C. The length of the post-cured molded body was measured with an electric micrometer at room temperature (25 ° C.), and the shrinkage was calculated. Subsequently, the test piece was measured for bending strength, bending elastic modulus, and amount of deflection at room temperature (25 ° C.).

<ガラス転移温度、熱膨張係数>
EMMI規格に準じた金型を使用して、成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm、成形時間90秒の条件で上記熱硬化性シリコーン樹脂組成物を成形し、180℃で4時間ポストキュアーした。ポストキュアーした成形体の試験片のガラス転移温度と熱膨張係数をTMA(TMA8310リガク(株)製)で測定した。
<Glass transition temperature, thermal expansion coefficient>
The thermosetting silicone resin composition was molded using a mold conforming to the EMMI standard at a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 90 seconds, and at 180 ° C. for 4 hours. Post cure. The glass transition temperature and the thermal expansion coefficient of the test piece of the post-cured molded product were measured with TMA (manufactured by TMA8310 Rigaku Corporation).

<光反射率(初期光反射率、長期耐熱性試験)>
成形温度175℃、成形圧力6.9N/mm、成形時間90秒の条件で、直径50mm×厚さ3mmの円板型硬化物を作成し、その後、150℃2時間の二次硬化を行い、エス・デイ・ジー(株)製X−rite8200を使用して450nmでの初期光反射率を測定した。さらに180℃168時間熱処理を行い、同様にエス・デイ・ジー(株)製X−rite8200を使用して450nmでの光反射率を測定した。
<Light reflectivity (initial light reflectivity, long-term heat resistance test)>
A disk-shaped cured product having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was prepared under conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm 2 , and a molding time of 90 seconds, and then secondary curing at 150 ° C. for 2 hours was performed. The initial light reflectance at 450 nm was measured using X-lite 8200 manufactured by SDG Co., Ltd. Further, heat treatment was performed at 180 ° C. for 168 hours, and the light reflectance at 450 nm was measured using X-lite 8200 manufactured by SDG Co., Ltd. in the same manner.

Figure 2018039956
Figure 2018039956

表1に示すように、本発明樹脂組成物の成形体は、アクリル変性シリコーン樹脂パウダーを添加することでたわみ量が増加し、強靭性が増加した。また、低弾性化し、収縮率が低下していた。また、耐熱性も向上することわかった。よって、本発明樹脂組成物の成形体は、耐熱性が向上し、強靭性に優れ、反り特性改善に有効であることが確認できた。従って、本発明組成物は光半導体装置用材料として有用であることを確認できた。   As shown in Table 1, in the molded product of the resin composition of the present invention, the amount of deflection was increased and the toughness was increased by adding the acrylic-modified silicone resin powder. Further, the elasticity was lowered and the shrinkage rate was reduced. Moreover, it turned out that heat resistance improves. Therefore, it was confirmed that the molded body of the resin composition of the present invention has improved heat resistance, excellent toughness, and is effective in improving warpage characteristics. Therefore, it was confirmed that the composition of the present invention was useful as an optical semiconductor device material.

Claims (9)

下記(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)成分を含有することを特徴とする熱硬化性シリコーン樹脂組成物。ただし、各成分の質量部は、(A)及び(B)成分の合計100質量部に対しての質量部である。
(A)エポキシ樹脂
(B)硬化剤
(C)硬化促進剤:0.01〜5.0質量部
(D)アクリル変性シリコーン樹脂パウダー:1〜30質量部
(E)無機充填材:300〜1,200質量部
A thermosetting silicone resin composition comprising the following components (A), (B), (C), (D) and (E): However, the mass part of each component is a mass part with respect to 100 mass parts in total of (A) and (B) component.
(A) Epoxy resin (B) Curing agent (C) Curing accelerator: 0.01 to 5.0 parts by mass (D) Acrylic-modified silicone resin powder: 1 to 30 parts by mass (E) Inorganic filler: 300 to 1 200 parts by mass
さらに(F)成分として白色顔料を3〜300質量部含有する請求項1記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。   Furthermore, the thermosetting silicone resin composition of Claim 1 which contains 3-300 mass parts of white pigments as (F) component. さらに(G)成分として酸化防止剤を0.1〜15.0質量部含有する請求項1または2に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, 0.1-15.0 mass parts of antioxidant is contained as (G) component, The thermosetting epoxy resin composition of Claim 1 or 2. (A)成分のエポキシ樹脂がトリアジン誘導体エポキシ樹脂、(B)成分の硬化剤が非芳香族かつ炭素・炭素二重結合を有さない酸無水物であり、(B)成分中の酸無水物基の合計個数に対する(A)成分中のエポキシ基の合計個数の比が0.6〜2.0である請求項1から3のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   The (A) component epoxy resin is a triazine derivative epoxy resin, the (B) component curing agent is a non-aromatic acid anhydride having no carbon-carbon double bond, and the (B) component acid anhydride. The thermosetting epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein a ratio of the total number of epoxy groups in the component (A) to the total number of groups is 0.6 to 2.0. 前記(A)成分及び(B)成分が、(A)成分及び(B)成分のプレポリマーであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   The thermosetting epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (A) and the component (B) are prepolymers of the component (A) and the component (B). object. (D)成分のアクリル変性シリコーン樹脂パウダーが下記(d−1)から(d-3)
の混合物の乳化グラフト重合体である請求項1から5のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
(d-1)下記式(1)
Figure 2018039956
(式中、Rは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基を示し、Xは同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数1〜20のアルコキシ基又はヒドロキシル基を示し、YはX又は−[O−Si(X)−Xで示される同一又は異種の基を示し、X及びY中の少なくとも2個はヒドロキシル基である。a、b及びcは0≦a≦1,000の数、100≦b≦10,000の正数、1≦c≦1,000を満たす正数である。)
で表されるオルガノポリシロキサン
(d−2)アクリル酸エステル単量体及び/又はメタクリル酸エステル単量体
(d−3)前記(d−1)及び(d−2)と共重合可能な官能基を含有する単量体
The component (D) acrylic-modified silicone resin powder comprises the following (d-1) to (d-3)
The thermosetting epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermosetting epoxy resin composition is an emulsion graft polymer.
(D-1) The following formula (1)
Figure 2018039956
(In the formula, R 1 represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and X represents the same or different substituted or unsubstituted carbon number 1. Represents an alkyl group having ˜20, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a hydroxyl group, and Y is the same as represented by X or — [O—Si (X) 2 ] c —X. Or at least two of X and Y are hydroxyl groups, a, b and c are a number of 0 ≦ a ≦ 1,000, a positive number of 100 ≦ b ≦ 10,000, 1 ≦ (It is a positive number satisfying c ≦ 1,000.)
(D-2) Acrylic acid ester monomer and / or methacrylic acid ester monomer (d-3) Functionality copolymerizable with the above (d-1) and (d-2) Monomers containing groups
請求項1〜6のいずれか1項記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物からなる光半導体素子用ケース。   The case for optical semiconductor elements which consists of a thermosetting epoxy resin composition of any one of Claims 1-6. 請求項7に記載の光半導体素子用ケースを備える光半導体装置。   An optical semiconductor device comprising the optical semiconductor element case according to claim 7. 封止層が、請求項1〜6のいずれか1項記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする半導体装置。   A semiconductor device, wherein the sealing layer is a cured product of the thermosetting epoxy resin composition according to claim 1.
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