JP2018039757A - Method for producing imidazole derivative - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学活性なイミダゾール化合物の製造方法及びその中間体に関する。 The present invention relates to a method for producing an optically active imidazole compound and an intermediate thereof.
式(1)で表される光学活性なイミダゾール化合物(化合物(1))は、選択的なα2アドレナリン受容体作動薬であり、鎮静・鎮痛剤として有用である(特許文献1)。また、式(2)で表される光学活性なイミダゾール化合物(化合物(2))は、α2アドレナリン受容体の過剰発現または過感作に関連する状態の予防または治療に有用である(特許文献2)。 The optically active imidazole compound represented by formula (1) (compound (1)) is a selective α2 adrenergic receptor agonist and is useful as a sedative / analgesic agent (Patent Document 1). In addition, the optically active imidazole compound represented by the formula (2) (compound (2)) is useful for prevention or treatment of a condition associated with overexpression or hypersensitivity of α2 adrenergic receptor (Patent Document 2). ).
従来、化合物(1)及び(2)の製造方法としては、それらのラセミ体を光学活性な酸(例えばL−(+)−酒石酸、又はD−(−)−酒石酸など)を使用して塩化し、再結晶により分割する方法が知られている(特許文献1乃至3)。 Conventionally, as a method for producing compounds (1) and (2), their racemates are chlorinated using an optically active acid (such as L-(+)-tartaric acid or D-(-)-tartaric acid). And the method of dividing | segmenting by recrystallization is known (patent documents 1 thru | or 3).
本発明は、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法を提供する。また本発明は、その製造中間体である、新規の光学活性なイミダゾール化合物を提供する。 The present invention provides a novel method for producing an optically active imidazole compound. The present invention also provides a novel optically active imidazole compound that is an intermediate for the production.
前述の方法では、初めにラセミ体の酸塩を合成し、その後再結晶を繰り返すことで化合物(1)又は(2)をそれぞれ分割するため、操作が煩雑であり、収率が低いという課題を有している。また、適切な光学活性な酸を選択することにより、再結晶の回数を削減する方法が知られているが、収率の改善には至っていない(米国特許第8877941号:特許文献3)。
本発明者らは、鋭意検討した結果、式(3)で表されるオレフィン化合物(化合物(3))に対して不斉還元反応を行うことにより、高い収率かつ簡便な操作で化合物(1)又は(2)の製造中間体を製造できること、さらに同中間体の脱保護反応により、化合物(1)又は(2)それぞれを製造できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発明は、以下に関する。
In the above-mentioned method, since the racemic acid salt is first synthesized, and then the compound (1) or (2) is divided by repeating recrystallization, the operation is complicated and the yield is low. Have. Moreover, although the method of reducing the frequency | count of recrystallization by selecting an appropriate optically active acid is known, the yield has not been improved (US Pat. No. 8,877,941: Patent Document 3).
As a result of intensive studies, the present inventors conducted an asymmetric reduction reaction on the olefin compound represented by the formula (3) (compound (3)), whereby the compound (1) was produced in a high yield and with a simple operation. The compound (1) or (2) can be produced through the deprotection reaction of the intermediate, and the present invention was completed. That is, the present invention relates to the following.
[1]
式(4)
[式中、R1はアミノ保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を製造する方法であって、
式(3)
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表されるオレフィン化合物に、光学活性金属錯体触媒(該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である。)の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする製造方法。
[2]
R1が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基である、上記[1]に記載の製造方法。
[3]
R1が、N,N−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基、2−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記[2]に記載の製造方法。
[4]
光学活性金属錯体触媒が、光学活性ロジウム錯体触媒である、上記[1]乃至[3]の何れか1つに記載の製造方法。
[5]
光学活性金属錯体触媒が、A、B及びCからなる群より選ばれる化合物であり、ここにおいて、Aは式(7−1)、Bは式(7−2)、Cは式(7−3)
Q2は、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンからなる群より単独に選ばれるアニオンである。]で表されるロジウム錯体触媒の前駆体と、Josiphos配位子、MeOBIPHEP配位子及びMonoPhos配位子からなる群より選ばれる光学活性配位子L4より、反応系中で生成させた化合物である、上記[4]に記載の製造方法。
[6]
ロジウム錯体触媒の前駆体が、式(7−1)
[式中、L3はノルボルナ−2,5−ジエン及び1,5−シクロオクタジエンであり、Q2はテトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。]で表される化合物である、上記[5]に記載の製造方法。
[7]
L4が、式(a−1)から式(a−8)
[8]
有機溶媒中で反応を実施することを特徴とする、上記[1]乃至[7]の何れか1つに記載の製造方法。
[9]
有機溶媒が、芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒及び含ハロゲン炭化水素溶媒からなる群より選択される少なくとも一種の溶媒を含む、上記[8]に記載の製造方法。
[10]
下記工程(a)及び(b)を含む、式(8)で表される光学活性なイミダゾール化合物の製造方法。
(a)
上記[1]乃至[9]の何れか1つに記載の方法により、
式(4)
[式中、R1はアミノ保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
(b)
式(4)で表される光学活性なイミダゾール化合物を脱保護して、式(8)
[式中、*は前期と同じ意味を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
[11]
式(4)
[式中、R1が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物。
[12]
式(5)
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表される、上記[11]に記載の化合物。
[13]
R1が、N,N−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基、2−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記[12]に記載の化合物。
[14]
式(6)
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表される、上記[11]に記載の化合物。
[15]
R1が、N,N−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基、2−メトキシメチル基又はアセチル基である、上記[14]に記載の化合物。
[1]
Formula (4)
[Wherein R 1 represents an amino protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. A method for producing an optically active imidazole compound represented by the formula:
Formula (3)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. And an optically active metal complex catalyst (the optically active metal complex catalyst is a compound selected from the group consisting of an optically active rhodium complex catalyst, an optically active iridium complex catalyst, and an optically active cobalt catalyst). A production method comprising reacting hydrogen gas in the presence of
[2]
The production method according to the above [1], wherein R 1 is a sulfamoyl protecting group, a sulfonyl protecting group, an alkoxycarbonyl protecting group, an alkyl protecting group, a silyl protecting group, an ether protecting group, an acyl protecting group or a carbamoyl protecting group.
[3]
R 1 is N, N-dimethylsulfamoyl group, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, benzyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy ] The production method according to the above [2], which is a methyl group, a 2-methoxymethyl group or an acetyl group.
[4]
The production method according to any one of [1] to [3], wherein the optically active metal complex catalyst is an optically active rhodium complex catalyst.
[5]
The optically active metal complex catalyst is a compound selected from the group consisting of A, B and C, wherein A is the formula (7-1), B is the formula (7-2), and C is the formula (7-3). )
Q 2 is an anion independently selected from the group consisting of chloride ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, and trifluoromethanesulfonate ion. A compound formed in a reaction system from a precursor of a rhodium complex catalyst represented by the following formula and an optically active ligand L 4 selected from the group consisting of a Josiphos ligand, a MeOBIPHEP ligand, and a MonoPhos ligand The production method according to [4] above.
[6]
The precursor of the rhodium complex catalyst has the formula (7-1)
[Wherein L 3 is norborna-2,5-diene and 1,5-cyclooctadiene, and Q 2 is a tetrafluoroborate ion and a trifluoromethanesulfonate ion. ] The manufacturing method as described in said [5] which is a compound represented by this.
[7]
L 4 represents the formula (a-1) to the formula (a-8).
[8]
The production method according to any one of [1] to [7], wherein the reaction is carried out in an organic solvent.
[9]
The production method according to [8] above, wherein the organic solvent contains at least one solvent selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon solvent, an alcohol solvent, and a halogen-containing hydrocarbon solvent.
[10]
The manufacturing method of the optically active imidazole compound represented by Formula (8) including the following process (a) and (b).
(A)
By the method according to any one of [1] to [9] above,
Formula (4)
[Wherein R 1 represents an amino protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. The process of obtaining the optically active imidazole compound represented by this.
(B)
The optically active imidazole compound represented by formula (4) is deprotected to give formula (8)
[In the formula, * represents the same meaning as in the previous term. The process of obtaining the optically active imidazole compound represented by this.
[11]
Formula (4)
[Wherein R 1 represents a sulfamoyl protecting group, a sulfonyl protecting group, an alkoxycarbonyl protecting group, an alkyl protecting group, a silyl protecting group, an ether protecting group, an acyl protecting group or a carbamoyl protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. Represent. ] The optically active imidazole compound represented by this.
[12]
Formula (5)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. ] The compound as described in said [11] represented by.
[13]
R 1 is N, N-dimethylsulfamoyl group, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, benzyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy The compound according to [12] above, which is a methyl group, a 2-methoxymethyl group or an acetyl group.
[14]
Formula (6)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. ] The compound as described in said [11] represented by.
[15]
R 1 is N, N-dimethylsulfamoyl group, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, benzyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy The compound according to [14] above, which is a methyl group, a 2-methoxymethyl group or an acetyl group.
本発明により、医薬分野で有用な、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法が提供できた。また、本発明により、製造中間体である新規な光学活性イミダゾール化合物が提供できた。 According to the present invention, a novel method for producing an optically active imidazole compound useful in the pharmaceutical field can be provided. In addition, according to the present invention, a novel optically active imidazole compound which is a production intermediate can be provided.
以下、本発明について、詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本明細書における「n−」はノルマル、「s−」はセカンダリー、「t−」及び「tert−」はターシャリー、「i−」はイソ、「o−」はオルト、「m−」はメタ、「p−」はパラ、「E」はトランス、「Z」はシス、「Bu」はブチル、「Pr」はプロピル、「Ph」はフェニルを意味する。また、構造式中の不斉炭素原子への「*」の付記は、当該炭素原子(及び当該炭素原子を含む分子)がキラルであることを意味する。 As used herein, “n-” is normal, “s-” is secondary, “t-” and “tert-” are tertiary, “i-” is iso, “o-” is ortho, “m-” is Meta, “p-” means para, “E” means trans, “Z” means cis, “Bu” means butyl, “Pr” means propyl, “Ph” means phenyl. Further, the addition of “*” to the asymmetric carbon atom in the structural formula means that the carbon atom (and the molecule containing the carbon atom) is chiral.
本明細書における化学構造の記載に用いる用語を説明する。本明細書における(R)及び(S)は、中心性キラリティー又は軸性キラリティーが存在するキラルな分子の立体配置を表す。 Terms used for describing the chemical structure in this specification will be explained. In the present specification, (R) and (S) represent the configuration of a chiral molecule in which central chirality or axial chirality exists.
本明細書における化学構造の記載に用いる用語を説明する。本明細書における(+)及び(−)は、中心性キラリティー又は軸性キラリティーが存在するキラルな分子の旋光度の右旋性及び左旋性を表す。 Terms used for describing the chemical structure in this specification will be explained. In the present specification, (+) and (-) represent the dextrorotatory and levorotatory chirality of a chiral molecule in which central chirality or axial chirality exists.
本明細書中、アミノ保護基とは、通常の有機合成反応に用いるアミノ基の保護基を意味する。アミノ保護基は、脱保護反応を行うことにより、除去することができる(例えば、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第4板(Protective Groups in Organic Synthesis,Fourth edition),グリーン(T.W.Greence)著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド(John Wiley & Sons Inc.)(2006年)など参照)。アミノ保護基の具体例としては、スルファモイル保護基(N,N−ジメチルスルファモイル基等)、スルホニル保護基(メタンスルホニル基、メシチレンスルホニル基、p−メトキシフェニルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等)、アルコキシカルボニル保護基(ベンジルオキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、2−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル基、2−(4−トリフルオロメチルフェニルスルホニル)エトキシオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、1−アダマンチルオキシカルボニル基、2−アダマンチルオキシカルボニル基、2,4−ジメチルペント−3−イルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、1−クロロエトキシカルボニル基等)、アルキル保護基(ビニル基、2−クロロエチル基、ヒドロキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、1−エトキシエチル基、2−(2’−ピリジル)エチル基、2−(4’−ピリジル)エチル基、2−(4−ニトロフェニル)エチル基、2−フェニルスルホニルエチル基、アリル基、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、3,5−ジメトキシベンジル基、2−ニトロベンジル基、2,4−ジニトロベンジル基、フェナシル基、トリフェニルメチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニル−4−ピリジルメチル基、2−(2’−ピリジル)エチル基、2−(4’−ピリジル)エチル基、2−(4−ニトロフェニル)エチル基等)、シリル保護基(t−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基等)、エーテル保護基(メトキシメチル基、ジエトキシメチル基、2−クロロエトキシメチル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基、t−ブトキシメチル基、t−ブチルジメチルシロキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、2−テトラヒドロピラニル基等)、アシル保護基(ホルミル基、アセチル基、ジクロロメチルカルボニル基、ピバルロイル基等)、カルバモイル保護基(N,N−ジエチルカルバモイル基等)等が挙げられる。好ましくは、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基であり、より好ましくは、N,N−ジメチルスルファモイル基、メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、t−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基、2−メトキシメチル基又はアセチル基である。 In the present specification, the amino protecting group means a protecting group for an amino group used in a normal organic synthesis reaction. Amino protecting groups can be removed by performing a deprotection reaction (eg, Protective Groups in Organic Synthesis, Fourth edition), Green (T. W. Greene), John Wiley & Sons Inc. (2006), etc.). Specific examples of the amino protecting group include a sulfamoyl protecting group (N, N-dimethylsulfamoyl group and the like), a sulfonyl protecting group (methanesulfonyl group, mesitylenesulfonyl group, p-methoxyphenylsulfonyl group, benzenesulfonyl group, p- Toluenesulfonyl group etc.), alkoxycarbonyl protecting group (benzyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, 2- (trimethylsilyl) ethoxycarbonyl group, 2- (4-trifluoromethylphenylsulfonyl) ethoxyoxycarbonyl Group, t-butoxycarbonyl group, 1-adamantyloxycarbonyl group, 2-adamantyloxycarbonyl group, 2,4-dimethylpent-3-yloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, 1,1-dimethyl-2, , 2-trichloroethoxycarbonyl group, 1-chloroethoxycarbonyl group, etc.), alkyl protecting group (vinyl group, 2-chloroethyl group, hydroxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group, 2- (2 '-Pyridyl) ethyl group, 2- (4'-pyridyl) ethyl group, 2- (4-nitrophenyl) ethyl group, 2-phenylsulfonylethyl group, allyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, 3, 4-dimethoxybenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 3,5-dimethoxybenzyl group, 2-nitrobenzyl group, 2,4-dinitrobenzyl group, phenacyl group, triphenylmethyl group, diphenylmethyl group, diphenyl-4- Pyridylmethyl group, 2- (2′-pyridyl) ethyl group, 2- (4′-pyridyl) ethyl group, 2- ( -Nitrophenyl) ethyl group, etc.), silyl protecting groups (t-butyldimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, etc.), ether protecting groups (methoxymethyl group, diethoxymethyl group, 2-chloroethoxymethyl group, [2- (Trimethylsilyl) ethoxy] methyl group, t-butoxymethyl group, t-butyldimethylsiloxymethyl group, pivaloyloxymethyl group, benzyloxymethyl group, dimethylaminomethyl group, 2-tetrahydropyranyl group, etc.), acyl protection Groups (formyl group, acetyl group, dichloromethylcarbonyl group, pivalloyl group, etc.), carbamoyl protecting groups (N, N-diethylcarbamoyl group, etc.) and the like. Preferably, a sulfamoyl protecting group, a sulfonyl protecting group, an alkoxycarbonyl protecting group, an alkyl protecting group, a silyl protecting group, an ether protecting group, an acyl protecting group or a carbamoyl protecting group, more preferably N, N-dimethylsulfamoyl. Group, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, t-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy] methyl group, 2-methoxymethyl group or acetyl group It is.
本発明で使用する化合物の構造について、以下説明する。 The structure of the compound used in the present invention will be described below.
化合物(3)の前駆体である化合物(9)には、イミダゾール環に結合している水素原子の結合位置が変わることで生成する互変異性体(化合物(9’))が存在する。
そのため、保護基R1を導入することにより、化合物(3)に対応する位置異性体として、化合物(3’)が生成する場合がある。同様に、次工程において、化合物(4)に対応する位置異性体として、化合物(4’)が生成する場合がある。
Compound (9), which is a precursor of compound (3), has a tautomer (compound (9 ′)) produced by changing the bonding position of the hydrogen atom bonded to the imidazole ring.
Therefore, introduction of the protecting group R 1 may produce the compound (3 ′) as a regioisomer corresponding to the compound (3). Similarly, in the next step, compound (4 ′) may be produced as a positional isomer corresponding to compound (4).
本発明の製造方法の実施にあたり、原料となる化合物に反応を妨害しない不純物が含まれていても問題ないことは言うまでもないが、念のために説明すると、本発明の製造方法では、化合物(3)を単独、又は化合物(3’)との混合物として用いてもよい。さらに、続く脱保護反応においても、化合物(4)を単独、又は化合物(4’)との混合物として用いてもよい。 In carrying out the production method of the present invention, it goes without saying that there is no problem even if the raw material compound contains impurities that do not interfere with the reaction. However, to explain just in case, in the production method of the present invention, the compound (3 ) May be used alone or as a mixture with compound (3 ′). Further, in the subsequent deprotection reaction, the compound (4) may be used alone or as a mixture with the compound (4 ′).
以下、本発明の反応について詳細に説明する。 Hereinafter, the reaction of the present invention will be described in detail.
初めに、本発明で使用する出発原料の化合物(3)について説明する。
化合物(3)は、前記の化合物(9)を原料として、当業者に良く知られた保護基導入反応により合成することができる。その具体的な反応としては、例えば、参考合成例1乃至10に記載の方法で合成することができる。 Compound (3) can be synthesized from the above compound (9) as a raw material by a protecting group introduction reaction well known to those skilled in the art. As the specific reaction, for example, it can be synthesized by the methods described in Reference Synthesis Examples 1 to 10.
次に、本発明の化合物(4)及び(8)の製造方法について説明する。本製造方法の概要を、下記スキームに示す。
本発明は、化合物(3)と水素ガスを反応させる工程を含むものであって、該反応の工程において、光学活性金属錯体触媒(該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である)を共存させることを特徴とするものである。なお以下に示す溶媒、反応試剤の添加順序については限定されず、順序を変更しても実施できる。化合物(4)は脱保護(R1の除去)により、化合物(8)へと誘導可能である。
Next, a method for producing the compounds (4) and (8) of the present invention will be described. The outline of this production method is shown in the following scheme.
The present invention includes a step of reacting compound (3) with hydrogen gas, and in the reaction step, an optically active metal complex catalyst (the optically active metal complex catalyst is an optically active rhodium complex catalyst, an optically active catalyst). A compound selected from the group consisting of an iridium complex catalyst and an optically active cobalt catalyst). The order of addition of the solvent and reaction reagent shown below is not limited and can be carried out even if the order is changed. Compound (4) can be derived to compound (8) by deprotection (removal of R 1 ).
本発明の製造方法に用いることができる光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物であり、好ましくは光学活性ロジウム錯体触媒である。 The optically active metal complex catalyst that can be used in the production method of the present invention is a compound selected from the group consisting of an optically active rhodium complex catalyst, an optically active iridium complex catalyst, and an optically active cobalt catalyst, preferably an optically active rhodium complex catalyst. It is.
光学活性ロジウム錯体触媒は、ロジウム錯体触媒の前駆体と光学活性配位子L4を使用し、反応系中で生成させることにより調製できる。尚、本発明においては、単離した光学活性ロジウム錯体触媒を用いることもできる。 Optically active rhodium complex catalyst can be prepared by using a precursor and an optically active ligand L 4 of the rhodium complex catalyst, to produce in the reaction system. In the present invention, an isolated optically active rhodium complex catalyst can also be used.
ロジウム錯体触媒の前駆体は、例えば、式(7−1)、式(7−2)又は式(7−3)
L3は、有機配位子を意味し、例えば、エチレン、1,5−シクロオクタジエン、及びノルボルナ−2,5−ジエン等が挙げられる。好ましいL3は、ノルボルナ−2,5−ジエン及び1,5−シクロオクタジエンである。Q2は、アニオンを意味し、例えば、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。好ましいQ2は、テトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。
The precursor of the rhodium complex catalyst is, for example, the formula (7-1), the formula (7-2), or the formula (7-3).
L 3 means an organic ligand, and examples thereof include ethylene, 1,5-cyclooctadiene, and norborna-2,5-diene. Preferred L 3 is norborna-2,5-diene and 1,5-cyclooctadiene. Q 2 means an anion, and examples thereof include chloride ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, trifluoromethanesulfonate ion and the like. Preferred Q 2 is tetrafluoroborate ion and trifluoromethanesulfonate ion.
L4は、光学活性配位子を意味し、例えば、BINAP配位子、SEGPHOS配位子、Josiphos配位子、MeOBIPHEP配位子、Walphos配位子、Taniaphos配位子、Mandyphos配位子、DuPhos配位子、catASium配位子、P−Phos配位子、PhanePhos配位子、BoPhoz配位子、、BPE配位子、、MonoPhos配位子、Reetz配位子、BINOL配位子、BOX配位子、PYBOX配位子、PHOX配位子、Salen配位子、シンコナアルカロイド配位子、QuinoxP*配位子、DIPAMP配位子、DIOP配位子、Trost配位子、Landis配位子、Aminophosphine配位子が挙げられる。 L 4 means an optically active ligand, for example, BINAP ligand, SEGPHOS ligand, Josiphos ligand, MeOBIPHEP ligand, Walphos ligand, Taniaphos ligand, Mandyphos ligand, DuPhos ligand, catASium ligand, P-Phos ligand, PhanePhos ligand, BoPhoz ligand, BPE ligand, MonoPhos ligand, Reetz ligand, BINOL ligand, BOX Ligand, PYBOX ligand, PHOX ligand, Salen ligand, Cinchona alkaloid ligand, QuinoxP * ligand, DIPAMP ligand, DIOP ligand, Trost ligand, Landis coordination Child, Aminophosphine ligand.
Josiphos配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
MeOBIPHEP配位子とは、ジメトキシビフェニル構造を有するキラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
MonoPhos配位子とは、ホスホロアミダイト構造を有する単座キラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
BINAP配位子とは、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
SEGPHOS配位子とは、5,5’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−4,4’−ビ−1,3−ベンゾジオキソール構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Walphos配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Taniaphos配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Mandyphos配位子とは、キラルフェロセン構造を有するキラルリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
DuPhos配位子とは、デュポン社により開発されたホスホラン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
BPE配位子とは、ホスホラン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
catASium配位子とは、Evonik Degussa社が開発し、catASiumの登録商標で市販されている配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
P−Phos配位子とは、ビアリールビスホスフィン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
PhanePhos配位子とは、シクロファン構造を有するリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
BoPhoz配位子とは、以下の何れかの化合物である。
Reetz配位子とは、1,1’−ビ−2−ナフトール由来のジホスホナイト構造を有するリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
BINOL配位子とは、1,1’−ビ−2−ナフトール又はその誘導体の構造を有するリン配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
BOX配位子とは、C2対称キラルビスオキサゾリン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
PYBOX配位子とは、ピリジン環上に二つのオキサゾリン基を持つ構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
PHOX配位子とは、ホスフィノオキサゾリン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Salen配位子とは、N,N’−ビス(2−ヒドロキシベンジリデン)エチレンジアミン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
シンコナアルカロイド配位子とは、シンコナアルカロイド構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
QuinoxP*配位子とは、電子吸引性キノキサリン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
DIPAMP配位子とは、キラルなジホスフィンを有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
DIOP配位子とは、以下の何れかの化合物である。
Trost配位子とは、ジアミノシクロヘキシルを有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Landis配位子とは、キラルな3,4−ジアザホウホラン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Aminophosphine配位子とは、アミノホスフィン構造を有する配位子である(SIGMA−ALDLICH社の不斉還元反応 Asymmetric Catalysis(Chemfiles vol.8、No.2)など参照)。具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
本発明の製造方法で使用するL4は、好ましくは、BINAP配位子、SEGPHOS配位子、Josiphos配位子、MeOBIPHEP配位子、Walphos配位子、Taniaphos配位子、Mandyphos誘導体、DuPhos配位子、P−Phos配位子、PhanePhos配位子、BoPhoz配位子、MonoPhos配位子、Reetz配位子、BOX配位子、PYBOX配位子、PHOX配位子、QuinoxP*配位子、DIPAMP配位子又はDIOP配位子であり、より好ましくはJosiphos配位子、MeOBIPHEP配位子又はMonoPhos配位子であり、さらに好ましくは、式(a−1)から式(a−8)
(a−1):(R)−(6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス[ビス(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィン]
(a−2):(S)−(6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス[ビス(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィン]
(a−3):(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン
(a−4):(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン
(a−5):(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−[ビス[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ホスフィノ]フェロセン
(a−6):(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−[ビス[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ホスフィノ]フェロセン
(a−7):(S,S,S)−(+)−(3,5−ジオキサ−4−ホスファシクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−4−イル)ビス(1−フェニルエチル)アミン
(a−8):(R,R,R)−(+)−(3,5−ジオキサ−4−ホスファシクロヘプタ[2,1−a:3,4−a’]ジナフタレン−4−イル)ビス(1−フェニルエチル)アミン
L 4 used in the production method of the present invention is preferably a BINAP ligand, a SEGPHOS ligand, a Josiphos ligand, a MeOBIPHEP ligand, a Walphos ligand, a Taniaphos ligand, a Mandyphos derivative, or a DuPhos coordination. Ligand, P-Phos ligand, PhanePhos ligand, BoPhoz ligand, MonoPhos ligand, Reetz ligand, BOX ligand, PYBOX ligand, PHOX ligand, QuinoxP * ligand , A DIPAMP ligand or a DIOP ligand, more preferably a Josiphos ligand, a MeOBIPHEP ligand or a MonoPhos ligand, and more preferably a formula (a-1) to a formula (a-8).
(A-1): (R)-(6,6′-dimethoxybiphenyl-2,2′-diyl) bis [bis (3,5-di-t-butylphenyl) phosphine]
(A-2): (S)-(6,6′-dimethoxybiphenyl-2,2′-diyl) bis [bis (3,5-di-t-butylphenyl) phosphine]
(A-3): (2R) -1-[(1R) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (a-4): (2S ) -1-[(1S) -1- [Bis (1,1-dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (a-5): (2R) -1-[(1R) -1- [Bis (1,1-dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- [bis [4- (trifluoromethyl) phenyl] phosphino] ferrocene (a-6): (2S) -1-[(1S ) -1- [Bis (1,1-dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- [bis [4- (trifluoromethyl) phenyl] phosphino] ferrocene (a-7): (S, S, S)- (+)-(3,5-dioxa-4-phosphine Cyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalen-4-yl) bis (1-phenylethyl) amine (a-8): (R, R, R)-(+)-(3 , 5-Dioxa-4-phosphacyclohepta [2,1-a: 3,4-a ′] dinaphthalen-4-yl) bis (1-phenylethyl) amine
ロジウム錯体触媒の使用量は、1当量の化合物(3)に対して、0.00001当量から1当量を用いることができる。好ましい使用量は、0.001当量乃至0.5当量であり、より好ましい使用量は、0.01当量乃至0.1当量である。 The amount of the rhodium complex catalyst used can be 0.00001 equivalent to 1 equivalent with respect to 1 equivalent of compound (3). A preferable usage amount is 0.001 equivalent to 0.5 equivalent, and a more preferable usage amount is 0.01 equivalent to 0.1 equivalent.
光学活性配位子は、1当量の化合物(3)に対して、1当量乃至3当量を用いることができる。好ましい使用量は、1当量乃至2当量であり、より好ましい使用量は、1当量乃至1.2当量である。 As the optically active ligand, 1 equivalent to 3 equivalents can be used with respect to 1 equivalent of the compound (3). A preferred usage amount is 1 equivalent to 2 equivalents, and a more preferred usage amount is 1 equivalent to 1.2 equivalents.
反応に使用する溶媒は、反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、アルコール溶媒(例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、エチレングリコール、ベンジルアルコール、2,2,2−トリフルオロエタノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロパノール等)、含ハロゲン炭化水素溶媒(例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等)、含ハロゲン芳香族炭化水素溶媒(例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等)、芳香族炭化水素溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、脂肪族炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、ヘプタン等)、ピリジン系溶媒(例えば、ピリジン、ピコリン等)、エーテル溶媒(例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、1−メトキシ−2−(2−メトキシエトキシ)エタン等)、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で使用しても良いし、2種以上を混合して使用しても良い。好ましくは、芳香族炭化水素溶媒、アルコール溶媒、含ハロゲン炭化水素溶媒又はアルコール溶媒と含ハロゲン炭化水素溶媒の混合溶媒であり、より好ましくは、トルエン、エタノール、塩化メチレン、クロロホルム又はエタノールと塩化メチレンの混合溶媒であり、さらに好ましくは、塩化メチレン又はエタノールと塩化メチレンの混合溶媒である。 The solvent used for the reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the progress of the reaction. For example, an alcohol solvent (for example, methanol, ethanol, 2-propanol, ethylene glycol, benzyl alcohol, 2,2,2- Trifluoroethanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropanol, etc.), halogen-containing hydrocarbon solvents (for example, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1 -Trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, etc.), halogen-containing aromatic hydrocarbon solvents (eg, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc.), aromatic hydrocarbon solvents (eg, benzene, toluene, xylene, etc.), aliphatic hydrocarbon solvents (eg, Hexane, heptane, etc.), pyridine solvents (eg , Pyridine, picoline, etc.), ether solvents (eg, dimethyl ether, diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, cyclopentylmethyl ether, 1-methoxy-2- (2-methoxyethoxy) ethane, etc. ), Dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, water and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Preferably, it is an aromatic hydrocarbon solvent, an alcohol solvent, a halogen-containing hydrocarbon solvent, or a mixed solvent of an alcohol solvent and a halogen-containing hydrocarbon solvent, more preferably toluene, ethanol, methylene chloride, chloroform or ethanol and methylene chloride. It is a mixed solvent, more preferably methylene chloride or a mixed solvent of ethanol and methylene chloride.
溶媒の使用量は、化合物(3)の質量に対して、好ましくは0.1質量倍乃至1000質量倍であり、より好ましくは1質量倍乃至100質量倍である。 The amount of the solvent to be used is preferably 0.1 to 1000 times by mass, more preferably 1 to 100 times by mass with respect to the mass of compound (3).
反応温度は、特に制限は無いが、好ましくは−10℃から90℃であり、より好ましくは0℃から30℃である。 The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably −10 ° C. to 90 ° C., more preferably 0 ° C. to 30 ° C.
水素ガスの圧力は、特に制限は無いが、好ましくは0.1MPa乃至10MPaであり、より好ましくは0.2MPa乃至1.0MPaである。 The pressure of the hydrogen gas is not particularly limited, but is preferably 0.1 MPa to 10 MPa, more preferably 0.2 MPa to 1.0 MPa.
化合物(4)は、脱保護反応(例えば、プロテクティング・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第4板(Protective Groups in Organic Synthesis,Fourth edition),グリーン(T.W.Greence)著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド(John Wiley & Sons Inc.)(2006年)など参照)を行うことにより、R1を除去し、化合物(8)へ誘導することができる。 Compound (4) is a deprotection reaction (e.g., Protective Groups in Organic Synthesis, Fourth edition), John (TW Greens), John Wiley. and Sons, Inc. (John Wiley & Sons Inc.) by performing (2006) refer to the like) to remove the R 1, can be derived to the compound (8).
得られる化合物(8)の単離、精製は常法により実施することが出来る。例えば、溶媒による抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、結晶化など公知の方法によって、化合物(8)を単離、精製することができる。 Isolation and purification of the resulting compound (8) can be carried out by conventional methods. For example, the compound (8) can be isolated and purified by a known method such as extraction with a solvent, silica gel column chromatography, high performance liquid chromatography, or crystallization.
以下に参考合成例、合成例を示し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 Reference Synthesis Examples and Synthesis Examples are shown below to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.
実施例のプロトン核磁気共鳴(1H NMR)は、日本電子(JEOL)社製JNM−ECP300、又は日本電子(JEOL)社製JNM−ECX300を用いて重溶媒中で測定した。化学シフトは、テトラメチルシランを内部標準(0.0ppm)としたときのδ値(ppm)で示した。 The proton nuclear magnetic resonance ( 1 H NMR) of the examples was measured in a heavy solvent using JNM-ECP300 manufactured by JEOL or JNM-ECX300 manufactured by JEOL. The chemical shift is indicated by a δ value (ppm) when tetramethylsilane is used as an internal standard (0.0 ppm).
NMRスペクトルの記載において、「s」はシングレット、「d」はダブレット、「t」はトリプレット、「q」はカルテット、「m」はマルチプレット、「br」はブロード、「J」はカップリング定数、「Hz」はヘルツ、「CDCl3」は重クロロホルムを意味する。 In the description of NMR spectra, “s” is a singlet, “d” is a doublet, “t” is a triplet, “q” is a quartet, “m” is a multiplet, “br” is broad, and “J” is a coupling constant. , “Hz” means Hertz and “CDCl 3 ” means deuterated chloroform.
参考合成例で使用する、4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1H−イミダゾールは、欧州特許出願公開第1918282号に記載の方法に準じて合成した。 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1H-imidazole used in the reference synthesis example was synthesized according to the method described in European Patent Application Publication No. 1918282.
参考合成例1
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物10)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.44(d,1H,J=1.1Hz)、7.32−7.25(m,9H)、7.14−7.09(m,6H)、7.07−7.00(m,3H)、6.25(d,1H,J=1.5Hz)、6.09(d,1H,J=2.2Hz)、4.99(d,1H,J=2.2Hz)、2.19(s,3H)、1.97(s,3H)
Reference synthesis example 1
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 10)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.44 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 7.32-7.25 (m, 9H), 7.14-7.09 (m, 6H), 7.07-7.00 (m, 3H), 6.25 (d, 1H, J = 1.5 Hz), 6.09 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 4.99 (d, 1H) , J = 2.2 Hz), 2.19 (s, 3H), 1.97 (s, 3H)
参考合成例2
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−N,N−ジメチル−1H−イミダゾール−1−スルホンアミド(化合物11)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.90(d,1H,J=1.2Hz)、7.19−7.04(m,3H)、6.63(d,1H,J=1.2Hz)、6.23(d,1H,J=2.0Hz)、5.16(d,1H,J=2.0Hz)、2.82(s,6H)、2.33(s,3H)、2.12(s,3H)
Reference synthesis example 2
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -N, N-dimethyl-1H-imidazole-1-sulfonamide (Compound 11)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.90 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.19-7.04 (m, 3H), 6.63 (d, 1H, J = 1.2 Hz) ), 6.23 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 5.16 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 2.82 (s, 6H), 2.33 (s, 3H), 2.12 (s, 3H)
参考合成例3
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1−(メタンスルホニル)−1H−イミダゾール(化合物12)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.96(s,1H)、7.18−7.04(m,3H)、6.68(s,1H)、6.26(s,1H)、5.19(s,1H)、3.22(s,3H)、2.32(s,3H)、2,11(s,3H)
Reference synthesis example 3
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1- (methanesulfonyl) -1H-imidazole (Compound 12)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.96 (s, 1H), 7.18-7.04 (m, 3H), 6.68 (s, 1H), 6.26 (s, 1H), 5 .19 (s, 1H), 3.22 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 2, 11 (s, 3H)
参考合成例4
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1−トシル−1H−イミダゾール(化合物13)の合成
1H NMR(300MHz、CDCl3)δ7.98(d,1H,J=1.5Hz)、7.74(d,2H,J=8.5Hz)、7.33(d,2H,J=8.1Hz)、7.17−6.98(m,3H)、6.66(d,1H,J=1.1Hz)、6.17(d,1H,J=1.5Hz)、5.11(d,1H,J=1.8Hz)、2.43(s,3H)、2.31(s,3H)、2.03(S,3H)
Reference synthesis example 4
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1-tosyl-1H-imidazole (Compound 13)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.98 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 7.74 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.33 (d, 2 H, J = 8) .1 Hz), 7.17-6.98 (m, 3H), 6.66 (d, 1 H, J = 1.1 Hz), 6.17 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 5.11 (D, 1H, J = 1.8 Hz), 2.43 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.03 (S, 3H)
参考合成例5
tert−ブチル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1H−イミダゾール−1−カルボキシレート(化合物14)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ8.05(d,1H,J=0.7Hz)、7.16−7.04(m,3H)、6.74(s,1H)、6.19(d,1H、J=1.8Hz)、5.11(d,1H,J=1.8Hz)、2.31(s,3H)、2.12(s,3H)、1.58(s,9H)
Reference synthesis example 5
Synthesis of tert-butyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1H-imidazole-1-carboxylate (Compound 14)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.05 (d, 1H, J = 0.7 Hz), 7.16-7.04 (m, 3H), 6.74 (s, 1H), 6.19 ( d, 1H, J = 1.8 Hz), 5.11 (d, 1H, J = 1.8 Hz), 2.31 (s, 3H), 2.12 (s, 3H), 1.58 (s, 9H)
参考合成例6
ベンジル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1H−イミダゾール−1−カルボキシレート(化合物15)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ8.13(d,1H,J=1.1Hz)、7.42−7.37(m,5H)、7.16−7.02(m,3H)、6.79(d,1H,J=1.1Hz)、6.21(d,1H,J=2.2Hz)、5.36(s,2H)、5.13(d,1H,J=2.2Hz)、2.31(s,3H)、2.10(s,3H)
Reference synthesis example 6
Synthesis of benzyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1H-imidazole-1-carboxylate (Compound 15)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.13 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 7.42-7.37 (m, 5H), 7.16-7.02 (m, 3H), 6.79 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 6.21 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 5.36 (s, 2H), 5.13 (d, 1H, J = 2) .2 Hz), 2.31 (s, 3H), 2.10 (s, 3H)
参考合成例7
1−ベンジル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1H−イミダゾール(化合物16)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.52(d,1H,J=1.1Hz)、7.36−7.29(m,3H)、7.13−7.04(m,5H)、6.34(d,1H,J=1.1Hz)、6.12(d,1H,J=2.2Hz)、5.01(s,2H)、4.98(d,1H,J=1.8Hz)、2.28(s,3H)、2.11(s,3H)
Reference synthesis example 7
Synthesis of 1-benzyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1H-imidazole (Compound 16)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.52 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 7.36-7.29 (m, 3H), 7.13-7.04 (m, 5H), 6.34 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 6.12 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 5.01 (s, 2H), 4.98 (d, 1H, J = 1) .8 Hz), 2.28 (s, 3H), 2.11 (s, 3H)
参考合成例8
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1−(メトキシメチル)1H−イミダゾール(化合物17)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.60(d,1H,J=1.6Hz)、7.16−7.08(m,3H)、6.46(d,1H,J=1.2Hz)、6.15(d,1H,J=2.0Hz)、5.12(s,2H)、5.03(d,1H,J=2.0Hz)、3.25(s,3H)、2.32(s,3H)、2.14(s,3H)
Reference synthesis example 8
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1- (methoxymethyl) 1H-imidazole (Compound 17)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.60 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 7.16-7.08 (m, 3H), 6.46 (d, 1H, J = 1.2 Hz) ), 6.15 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 5.12 (s, 2H), 5.03 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 3.25 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 2.14 (s, 3H)
参考合成例9
1−(4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1H−イミダゾール−1−イル)エタン−1−オン(化合物18)の合成
1H NMR(300MHz、CDCl3)δ8.14(d,1H,J=1.1Hz)、7.17−7.03(m,3H)、6.81(d,1H,J=1.1Hz)、6.24(d,1H,J=1.8Hz)、5.16(d,1H,J=1.8Hz)、2.51(s,3H)、2.32(s,3H)、2.11(s,3H)
Reference synthesis example 9
Synthesis of 1- (4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1H-imidazol-1-yl) ethane-1-one (Compound 18)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.14 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 7.17-7.03 (m, 3H), 6.81 (d, 1H, J = 1.1 Hz) ), 6.24 (d, 1H, J = 1.8 Hz), 5.16 (d, 1H, J = 1.8 Hz), 2.51 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 2.11 (s, 3H)
参考合成例10
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−1−((2−(トリメチルシリル)エトキシ)メチル)−1H−イミダゾール(化合物19)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.85(d,1H,J=1.1Hz)、7.15−7.07(m,3H)、6.43(d,1H,J=1.1Hz)、6.13(d,1H,J=1.8Hz)、5.14(s,2H)、5.01(d,1H,J=2.2Hz)、3.46−3.40(m,2H)、2.31(s,3H)、2.12(s,3H)、0.89−0.84(m,2H)、−0.04(s,9H)
Reference synthesis example 10
Synthesis of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) vinyl) -1-((2- (trimethylsilyl) ethoxy) methyl) -1H-imidazole (Compound 19)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.85 (d, 1H, J = 1.1 Hz), 7.15-7.07 (m, 3H), 6.43 (d, 1H, J = 1.1 Hz) ), 6.13 (d, 1H, J = 1.8 Hz), 5.14 (s, 2H), 5.01 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 3.46-3.40 (m , 2H), 2.31 (s, 3H), 2.12 (s, 3H), 0.89-0.84 (m, 2H), -0.04 (s, 9H)
合成例1
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物20)の合成
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 20)
HPLC分析条件[1]
カラム:YMC−Pack SIL(250×4.6mm、5μm)
→ダイセル製CHIRALPAK IB(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/イソプロパノール=97/3(0−25分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:(S)体 11.2分、(R)体 7.6分
HPLC analysis conditions [1]
Column: YMC-Pack SIL (250 × 4.6 mm, 5 μm)
→ Daicel CHIRALPAK IB (250mm × 4.6mm, 5μm)
Mobile phase: n-hexane / isopropanol = 97/3 (0-25 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: (S) 11.2 minutes, (R) 7.6 minutes
合成例2
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物20)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(65.8mg、0.15mmol)、(R)−(6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス[ビス(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィン](18.5mg、0.018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(5.6mg、0.015mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器にトルエン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で24時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は99.9%、表題化合物の光学純度は73.4%ee(R)であった。
Synthesis example 2
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 20) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (65.8 mg, 0.15 mmol), (R)-(6,6′-dimethoxybiphenyl-2,2′-diyl) bis [bis (3,5-di-t-butylphenyl) phosphine] (18.5 mg, 0.018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (5.6 mg, 0.015 mmol) sequentially In addition, the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Toluene (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the conversion was 99.9% and the optical purity of the title compound was 73.4% ee (R).
合成例3
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物20)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.1mg、0.15mmol)、(R)−(6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス[ビス(3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィン](18.8mg、0.018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(5.6mg、0.015mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器にクロロホルム(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で24時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は99.6%、表題化合物の光学純度は75.8%ee(R)であった。
Synthesis example 3
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 20) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.1 mg, 0.15 mmol), (R)-(6,6′-dimethoxybiphenyl-2,2′-diyl) bis [bis (3,5-di-t-butylphenyl) phosphine] (18.8 mg, 0.018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (5.6 mg, 0.015 mmol) sequentially In addition, the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Chloroform (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the conversion was 99.6% and the optical purity of the title compound was 75.8% ee (R).
合成例4(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物20)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.1mg、0.15mmol)、(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(9.7mg、0.018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(5.6mg、0.015mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で24時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は99.9%、表題化合物の光学純度は92.0%ee(R)であった。
Synthesis Example 4 Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 20) 4- (1- (2, 3-Dimethylphenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.1 mg, 0.15 mmol), (2R) -1-[(1R) -1- [bis (1,1- Dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (9.7 mg, 0.018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (5.6 mg, 0.015 mmol) Were sequentially added, and the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the conversion was 99.9% and the optical purity of the title compound was 92.0% ee (R).
合成例5
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物20)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.0mg、0.15mmol)、(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−[ビス[4−(トリフルオロメチル)フェニル]ホスフィノ]フェロセン(12.2mg、0.018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(5.5mg、0.015mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で24時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は100%、表題化合物の光学純度は87.9%ee(R)であった。
Synthesis example 5
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 20) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.0 mg, 0.15 mmol), (2R) -1-[(1R) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) Phosphino] ethyl] -2- [bis [4- (trifluoromethyl) phenyl] phosphino] ferrocene (12.2 mg, 0.018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (5. 5 mg, 0.015 mmol) was sequentially added, and the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the conversion was 100% and the optical purity of the title compound was 87.9% ee (R).
合成例6
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物21)の合成
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 21)
合成例7
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物21)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.2mg、0.15mmol)、(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(1.0mg、0.0018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(0.6mg、0.0016mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で3時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は99.9%、表題化合物の光学純度は91.7%ee(S)であった。
Synthesis example 7
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 21) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.2 mg, 0.15 mmol), (2S) -1-[(1S) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) Phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (1.0 mg, 0.0018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (0.6 mg, 0.0016 mmol) were added sequentially. The inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 3 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). The obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1]. As a result, the conversion was 99.9% and the optical purity of the title compound was 91.7% ee (S).
合成例8
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物21)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(3.00g、6.81mmol)、(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(44.5mg、0.082mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(25.4mg、0.068mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(23mL)及びエタノール(45mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、0℃から2℃の範囲で18時間撹拌した。得られた反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、表題化合物(2.79g、92.7%)を白色固体として得た。得られた表題化合物をHPLC分析条件[1]で分析したところ、光学純度は94.8%ee(S)であった。
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.37(d,1H,J=1.2Hz)、7.34−7.30(m,9H)、7.17−7.11(m,6H)、7.05−6.95(m,3H)、6.44(s,1H)、4.36(q,1H,J=7.0Hz)、2.26(s,3H)、2.21(s,3H)、1.53(d,3H,J=7.0Hz)
Synthesis example 8
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 21) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (3.00 g, 6.81 mmol), (2S) -1-[(1S) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) Phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (44.5 mg, 0.082 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (25.4 mg, 0.068 mmol) were added sequentially. The inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (23 mL) and ethanol (45 mL) were added to the reaction vessel, and the mixture was stirred under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa) in the range of 0 ° C. to 2 ° C. for 18 hours. The resulting reaction solution was concentrated. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate / n-hexane) to give the title compound (2.79 g, 92.7%) as a white solid. When the obtained title compound was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the optical purity was 94.8% ee (S).
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.37 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.34-7.30 (m, 9H), 7.17-7.11 (m, 6H), 7.05-6.95 (m, 3H), 6.44 (s, 1H), 4.36 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 2.26 (s, 3H), 2.21 ( s, 3H), 1.53 (d, 3H, J = 7.0 Hz)
合成例9
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物21)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.2mg、0.15mmol)、(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(1.0mg、0.0018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)トリフルオロメタンスルホナート(0.7mg、0.0016mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、10℃で3時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は99.0%、表題化合物の光学純度は93.7%ee(S)であった。
Synthesis Example 9
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 21) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.2 mg, 0.15 mmol), (2S) -1-[(1S) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) Phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (1.0 mg, 0.0018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) trifluoromethanesulfonate (0.7 mg, 0.0016 mmol) sequentially In addition, the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 3 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1], the conversion was 99.0%, and the optical purity of the title compound was 93.7% ee (S).
合成例10
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物21)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)1−トリチル−1H−イミダゾール(化合物(10))(66.0mg、0.15mmol)、(2S)−1−[(1S)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(1.0mg、0.0018mmol)及びビス(1、5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(0.6mg、0.0016mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、30℃で19時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[1]で分析したところ、転化率は100%、表題化合物の光学純度は90.9%ee(S)であった。
Synthesis Example 10
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-trityl-1H-imidazole (Compound 21) 4- (1- (2,3-dimethyl) was added to a pressure-resistant reaction vessel. Phenyl) vinyl) 1-trityl-1H-imidazole (compound (10)) (66.0 mg, 0.15 mmol), (2S) -1-[(1S) -1- [bis (1,1-dimethylethyl) Phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (1.0 mg, 0.0018 mmol) and bis (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) tetrafluoroborate (0.6 mg, 0.0016 mmol). Sequentially added, the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 19 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). The obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [1]. As a result, the conversion rate was 100% and the optical purity of the title compound was 90.9% ee (S).
合成例11
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−N,N−ジメチル−1H−イミダゾール−1−スルホンアミド(化合物22)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.84(d,1H,J=1.2Hz)、7.11−7.01(m,3H)、6.81(s,1H)、4.40(q,1H,J=7.0Hz)、2.83(s,6H)、2.31(s,3H)、2.26(s,3H)、1.61(d,3H,7.0Hz)
Synthesis Example 11
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -N, N-dimethyl-1H-imidazole-1-sulfonamide (Compound 22)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.84 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.11-7.01 (m, 3H), 6.81 (s, 1H), 4.40 ( q, 1H, J = 7.0 Hz), 2.83 (s, 6H), 2.31 (s, 3H), 2.26 (s, 3H), 1.61 (d, 3H, 7.0 Hz)
HPLC分析条件[2]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK IA(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/イソプロパノール=97/3(0−15分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:(S)体 8.0分、(R)体 9.3分
HPLC analysis conditions [2]
Column: Daicel CHIRALPAK IA (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / isopropanol = 97/3 (0-15 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: (S) body 8.0 minutes, (R) body 9.3 minutes
合成例12
(R)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−N,N−ジメチル−1H−イミダゾール−1−スルホンアミド(化合物22)の合成
耐圧用の反応容器に4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)ビニル)−N,N−ジメチル−1H−イミダゾール−1−スルホンアミド(化合物(11))(45.8mg、0.15mmol)、(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(9.8mg、0.018mmol)及びビス(2,5−ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート(5.6mg、0.015mmol)を順次加え、反応容器の内部をアルゴンガスで置換した。反応容器に塩化メチレン(1.5mL)を加え、水素雰囲気下(0.8MPa)、25℃で24時間撹拌した。得られた溶液をHPLC分析条件[2]で分析したところ、転化率は100%、表題化合物の光学純度は90.8%ee(R)であった。
Synthesis Example 12
Synthesis of (R) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -N, N-dimethyl-1H-imidazole-1-sulfonamide (Compound 22) 4- (1 -(2,3-Dimethylphenyl) vinyl) -N, N-dimethyl-1H-imidazole-1-sulfonamide (Compound (11)) (45.8 mg, 0.15 mmol), (2R) -1-[( 1R) -1- [Bis (1,1-dimethylethyl) phosphino] ethyl] -2- (diphenylphosphino) ferrocene (9.8 mg, 0.018 mmol) and bis (2,5-norbornadiene) rhodium (I) Tetrafluoroborate (5.6 mg, 0.015 mmol) was sequentially added, and the inside of the reaction vessel was replaced with argon gas. Methylene chloride (1.5 mL) was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours under a hydrogen atmosphere (0.8 MPa). When the obtained solution was analyzed under HPLC analysis conditions [2], the conversion was 100% and the optical purity of the title compound was 90.8% ee (R).
合成例13
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−メタンスルホニル−1H−イミダゾールの光学活性体(化合物23)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.89(s,1H)、7.10−7.01(m,3H)、6.84(s,1H)、4.38(q,1H,J=7.0Hz)、3.22(s,3H)、2.30(s,3H)、2.24(s,3H)、1.60(d,3H,J=7.0Hz)
Synthesis Example 13
Synthesis of optically active substance (compound 23) of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-methanesulfonyl-1H-imidazole
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.89 (s, 1H), 7.10-7.01 (m, 3H), 6.84 (s, 1H), 4.38 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 3.22 (s, 3H), 2.30 (s, 3H), 2.24 (s, 3H), 1.60 (d, 3H, J = 7.0 Hz)
HPLC分析条件[3]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK AD−H(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/エタノール=90/10(0−20分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:5.6分、6.2分(それぞれ、(R)体又は(S)体)
HPLC analysis conditions [3]
Column: Daicel CHIRALPAK AD-H (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / ethanol = 90/10 (0-20 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: 5.6 minutes, 6.2 minutes (respectively (R) form or (S) form)
合成例14
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−トシル−1H−イミダゾールの光学活性体(化合物24)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.93(d,1H,J=0.8Hz)、7.79(d,2H,J=8.6Hz)、7.35(d,2H,J=8.6Hz)、7.07−6.94(m,3H)、6.86(s,1H)4.32(q,1H,J=7.0Hz)、2.46(s,3H)、2.29(s,3H)、2.19(s,3H)、1.54(d,3H,J=7.0Hz)
Synthesis Example 14
Synthesis of optically active compound (compound 24) of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-tosyl-1H-imidazole
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.93 (d, 1 H, J = 0.8 Hz), 7.79 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.35 (d, 2 H, J = 8) .6 Hz), 7.07-6.94 (m, 3H), 6.86 (s, 1H) 4.32 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 2.46 (s, 3H), 2 .29 (s, 3H), 2.19 (s, 3H), 1.54 (d, 3H, J = 7.0 Hz)
HPLC分析条件[3]
保持時間:4.5分、5.4分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [3]
Retention time: 4.5 minutes, 5.4 minutes (Either (R) body or (S) body)
合成例15
tert−ブチル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1H−イミダゾール−1−カルボキシレートの光学活性体(化合物25)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.97(d,1H,J=1.2Hz)、7.06−6.99(m,3H)、6.93(d,1H,J=1.2Hz)、4.39−4.32(m,1H)、2.29(s,3H)、2.25(s,3H)、1.59(s,9H)1.57(d,3H,J=7.4Hz)
Synthesis Example 15
Synthesis of optically active compound (compound 25) of tert-butyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1H-imidazole-1-carboxylate
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.97 (d, 1 H, J = 1.2 Hz), 7.06 to 6.99 (m, 3 H), 6.93 (d, 1 H, J = 1.2 Hz) ), 4.39-4.32 (m, 1H), 2.29 (s, 3H), 2.25 (s, 3H), 1.59 (s, 9H) 1.57 (d, 3H, J) = 7.4Hz)
HPLC分析条件[4]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK IB(250mm×4.6mm、5μm)
→ダイセル製CHIRALPAK IB(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/イソプロパノール=98.5/1.5(0−10分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:5.5分、6.0分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [4]
Column: Daicel CHIRALPAK IB (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
→ Daicel CHIRALPAK IB (250mm × 4.6mm, 5μm)
Mobile phase: n-hexane / isopropanol = 98.5 / 1.5 (0-10 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: 5.5 minutes, 6.0 minutes (each of (R) and (S) bodies)
合成例16
ベンジル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1H−イミダゾール−1−カルボキシレートの光学活性体(化合物26)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ8.08(d,1H,J=1.2Hz)、7.45−7.37(m,5H)、7.09−6.99(m,4H)、5.38(s,2H)、4.40−4.33(m,1H)、2.30(s,3H)、2.25(s,3H)、1.58(d,3H,J=7.0Hz)
Synthesis Example 16
Synthesis of optically active compound (compound 26) of benzyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1H-imidazole-1-carboxylate
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.08 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.45-7.37 (m, 5H), 7.09-6.99 (m, 4H), 5.38 (s, 2H), 4.40-4.33 (m, 1H), 2.30 (s, 3H), 2.25 (s, 3H), 1.58 (d, 3H, J = 7.0Hz)
HPLC分析条件[1]
保持時間:8.8分、9.4分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [1]
Retention time: 8.8 minutes, 9.4 minutes (each of (R) and (S) bodies)
合成例17
1−ベンジル−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1H−イミダゾールの光学活性体(化合物27)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.46(d,1H,J=1.2Hz)、7.38−7.28(m,3H)、7.14−6.99(m,5H)、6.46(s,1H)、5.02(s,2H)、4.39(q,1H,J=7.0Hz)、2.29(s,3H)、2.25(s,3H)、1.58(d,3H,J=7.0Hz)
Synthesis Example 17
Synthesis of 1-benzyl-4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1H-imidazole optically active compound (compound 27)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.46 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.38-7.28 (m, 3H), 7.14-6.99 (m, 5H), 6.46 (s, 1H), 5.02 (s, 2H), 4.39 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 2.29 (s, 3H), 2.25 (s, 3H) , 1.58 (d, 3H, J = 7.0Hz)
HPLC分析条件[3]
保持時間:4.3分、7.3分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [3]
Retention time: 4.3 minutes, 7.3 minutes (each of (R) and (S) bodies)
合成例18
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−(メトキシメチル)1H−イミダゾールの光学活性体(化合物28)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.51(d,1H,J=0.8Hz)、7.09−6.99(m,3H)6.57(s,1H)、5.12(s,2H)、4.38(q,1H,J=7.0Hz)、3.24(s,3H)、2.29(s,3H)、2.24(s,3H)、1.59(d,3H,J=7.4Hz)
Synthesis Example 18
Synthesis of optically active substance (compound 28) of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1- (methoxymethyl) 1H-imidazole
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.51 (d, 1H, J = 0.8 Hz), 7.09-6.99 (m, 3H) 6.57 (s, 1H), 5.12 (s , 2H), 4.38 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 3.24 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 2.24 (s, 3H), 1.59 ( d, 3H, J = 7.4 Hz)
HPLC分析条件[5]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK AD−H(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/エタノール=95/5(0−15分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:5.0分、6.3分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [5]
Column: Daicel CHIRALPAK AD-H (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / ethanol = 95/5 (0-15 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: 5.0 minutes, 6.3 minutes (respectively, either (R) body or (S) body)
合成例19
1−(4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1H−イミダゾール−1−イル)エタン−1−オンの光学活性体(化合物29)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ8.04(d,1H,J=1.2Hz)、7.06−7.00(m,4H)、4.40−4.33(m,1H)、2.52(s,3H)、2.29(s,3H)、2.24(s,3H)、1.59(d,3H、J=7.0Hz)
Synthesis Example 19
Synthesis of optically active substance (compound 29) of 1- (4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1H-imidazol-1-yl) ethane-1-one
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 8.04 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.06 to 7.00 (m, 4H), 4.40-4.33 (m, 1H), 2.52 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 2.24 (s, 3H), 1.59 (d, 3H, J = 7.0 Hz)
HPLC分析条件[6]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK IA(250mm×4.6mm、5μm)
→ダイセル製CHIRALPAK IA(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/エタノール=97/3(0−20分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:17.2分、18.0分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [6]
Column: Daicel CHIRALPAK IA (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
→ Daicel CHIRALPAK IA (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / ethanol = 97/3 (0-20 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: 17.2 minutes, 18.0 minutes (each of (R) and (S) bodies)
合成例20
4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1−((2−(トリメチルシリル)エトキシ)メチル)−1−イミダゾールの光学活性体(化合物30)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.51(d,1H,J=1.2Hz)、7.09−6.99(m,3H)、6.57(s,1H)、5.16(s,2H)、4.39(q,1H,J=7.0Hz)、3.47−3.42(m,2H)、2.29(s,3H)、2.25(s,3H)、1.59(d,3H,J=7.0Hz)、0.92−0.84(m,2H)、−0.02(s,9H)
Synthesis Example 20
Synthesis of optically active compound (compound 30) of 4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1-((2- (trimethylsilyl) ethoxy) methyl) -1-imidazole
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.51 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 7.09-6.99 (m, 3H), 6.57 (s, 1H), 5.16 ( s, 2H), 4.39 (q, 1H, J = 7.0 Hz), 3.47-3.42 (m, 2H), 2.29 (s, 3H), 2.25 (s, 3H) 1.59 (d, 3H, J = 7.0 Hz), 0.92-0.84 (m, 2H), -0.02 (s, 9H)
HPLC分析条件[7]
カラム:ダイセル製CHIRALPAK AD−H(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/エタノール=98/2(0−15分)(v/v)
温度:40℃
流量:2.0mL/分
検出波長:230nm
保持時間:4.0分、4.7分(それぞれ、(R)体又は(S)体の何れか)
HPLC analysis conditions [7]
Column: Daicel CHIRALPAK AD-H (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / ethanol = 98/2 (0-15 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: 4.0 minutes, 4.7 minutes (each of which is either (R) or (S))
合成例21
(S)−4−(1−(2,3−ジメチルフェニル)エチル)−1H−イミダゾール(化合物31)の合成
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ7.50(br,1H)、7.08−6.97(m,3H)、6.77(br,1H)、4.41(q,1H,J=7.2Hz)、2.30(s,3H)、2.24(s,3H)、1.60(d,3H,J=7.2Hz)
Synthesis Example 21
Synthesis of (S) -4- (1- (2,3-dimethylphenyl) ethyl) -1H-imidazole (Compound 31)
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.50 (br, 1H), 7.08-6.97 (m, 3H), 6.77 (br, 1H), 4.41 (q, 1H, J = 7.2 Hz), 2.30 (s, 3H), 2.24 (s, 3H), 1.60 (d, 3H, J = 7.2 Hz)
HPLC分析条件[8]
カラム:ダイセル製CHIRALCEL OD−H(250mm×4.6mm、5μm)
→ダイセル製CHIRALCEL OD−H(250mm×4.6mm、5μm)
移動相:n−ヘキサン/(メタノール/エタノール=1/1(V/V))=95/5(0−20分)(v/v)
温度:40℃
流量:1.5mL/分
検出波長:230nm
保持時間:(S)体 11.4分、(R)体 14.2分
HPLC analysis conditions [8]
Column: Daicel CHIRALCEL OD-H (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
→ Daicel CHIRALCEL OD-H (250 mm × 4.6 mm, 5 μm)
Mobile phase: n-hexane / (methanol / ethanol = 1/1 (V / V)) = 95/5 (0-20 minutes) (v / v)
Temperature: 40 ° C
Flow rate: 1.5 mL / min Detection wavelength: 230 nm
Retention time: (S) body 11.4 minutes, (R) body 14.2 minutes
本発明により、医薬品として有用な、光学活性なイミダゾール化合物の新規な製造方法を提供することができる。また、本発明により、製造中間体である新規の光学活性なイミダゾール化合物を提供することができる。 The present invention can provide a novel method for producing an optically active imidazole compound useful as a pharmaceutical product. The present invention can also provide a novel optically active imidazole compound that is a production intermediate.
Claims (15)
[式中、R1はアミノ保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を製造する方法であって、
式(3)
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表されるオレフィン化合物に、光学活性金属錯体触媒(該光学活性金属錯体触媒は、光学活性ロジウム錯体触媒、光学活性イリジウム錯体触媒及び光学活性コバルト触媒からなる群より選ばれる化合物である。)の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする製造方法。 Formula (4)
[Wherein R 1 represents an amino protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. A method for producing an optically active imidazole compound represented by the formula:
Formula (3)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. And an optically active metal complex catalyst (the optically active metal complex catalyst is a compound selected from the group consisting of an optically active rhodium complex catalyst, an optically active iridium complex catalyst, and an optically active cobalt catalyst). A production method comprising reacting hydrogen gas in the presence of
Q2は、塩化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンからなる群より単独に選ばれるアニオンである。]で表されるロジウム錯体触媒の前駆体と、Josiphos配位子、MeOBIPHEP配位子及びMonoPhos配位子からなる群より選ばれる光学活性配位子L4より、反応系中で生成させた化合物である、請求項4に記載の製造方法。 The optically active metal complex catalyst is a compound selected from the group consisting of A, B and C, wherein A is the formula (7-1), B is the formula (7-2), and C is the formula (7-3). )
Q 2 is an anion independently selected from the group consisting of chloride ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, and trifluoromethanesulfonate ion. A compound formed in a reaction system from a precursor of a rhodium complex catalyst represented by the following formula and an optically active ligand L 4 selected from the group consisting of a Josiphos ligand, a MeOBIPHEP ligand, and a MonoPhos ligand The manufacturing method according to claim 4, wherein
[式中、L3はノルボルナ−2,5−ジエン及び1,5−シクロオクタジエンであり、Q2はテトラフルオロホウ酸イオン及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。]で表される化合物である、請求項5に記載の製造方法。 The precursor of the rhodium complex catalyst has the formula (7-1)
[Wherein L 3 is norborna-2,5-diene and 1,5-cyclooctadiene, and Q 2 is a tetrafluoroborate ion and a trifluoromethanesulfonate ion. The manufacturing method of Claim 5 which is a compound represented by this.
(a)
請求項1乃至9の何れか1項に記載の方法により、
式(4)
[式中、R1はアミノ保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。
(b)
式(4)で表される光学活性なイミダゾール化合物を脱保護して、式(8)
[式中、*は前期と同じ意味を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物を得る工程。 The manufacturing method of the optically active imidazole compound represented by Formula (8) including the following process (a) and (b).
(A)
A method according to any one of claims 1 to 9,
Formula (4)
[Wherein R 1 represents an amino protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. The process of obtaining the optically active imidazole compound represented by this.
(B)
The optically active imidazole compound represented by formula (4) is deprotected to give formula (8)
[In the formula, * represents the same meaning as in the previous term. The process of obtaining the optically active imidazole compound represented by this.
[式中、R1が、スルファモイル保護基、スルホニル保護基、アルコキシカルボニル保護基、アルキル保護基、シリル保護基、エーテル保護基、アシル保護基又はカルバモイル保護基を表し、*は不斉炭素原子を表す。]で表される光学活性なイミダゾール化合物。 Formula (4)
[Wherein R 1 represents a sulfamoyl protecting group, a sulfonyl protecting group, an alkoxycarbonyl protecting group, an alkyl protecting group, a silyl protecting group, an ether protecting group, an acyl protecting group or a carbamoyl protecting group, and * represents an asymmetric carbon atom. Represent. ] The optically active imidazole compound represented by this.
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表される、請求項11に記載の化合物。 Formula (5)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. The compound of Claim 11 represented by these.
[式中、R1は前記と同じ意味を表す。]で表される、請求項11に記載の化合物。 Formula (6)
[Wherein R 1 represents the same meaning as described above. The compound of Claim 11 represented by these.
R 1 is N, N-dimethylsulfamoyl group, methanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, benzyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy The compound according to claim 14, which is a methyl group, a 2-methoxymethyl group or an acetyl group.
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