JP2018028500A - Liquid detection device and substrate processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置、および、当該液体検出装置を備える基板処理装置に関する。 The present invention relates to a photoelectric liquid detection device that detects a liquid in a pipe line, and a substrate processing apparatus including the liquid detection device.
従来、半導体基板(以下、単に「基板」という。)の製造工程では、基板に対して様々な処理が施される。例えば、表面上にレジストのパターンが形成された基板上に、ノズルから薬液を吐出することにより、基板の表面に対してエッチング等の薬液処理が行われる。このように、基板に対して処理液を供給する処理が行われる装置では、処理液用配管における処理液のリーク等を監視する検出部が設けられることがある。当該検出部では、例えば、タンク内の液面レベルを光学的に測定するための液面センサが利用される。 Conventionally, in a manufacturing process of a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”), various processes are performed on the substrate. For example, a chemical solution such as etching is performed on the surface of the substrate by discharging the chemical solution from a nozzle onto a substrate having a resist pattern formed on the surface. As described above, in an apparatus that performs a process of supplying a processing liquid to a substrate, a detection unit that monitors a leakage of the processing liquid in the processing liquid piping may be provided. In the detection unit, for example, a liquid level sensor for optically measuring the liquid level in the tank is used.
例えば、特許文献1では、透光性管体に取り付けられる液位検出器が開示されている。当該液位検出器は、透光性管体の外周面に近接させた1つの発光素子と、透光性管体の外周面に近接させて発光素子に対向配設した1つの受光素子とを備える。また、特許文献2では、管体に収容された液体の液面レベルを検出する検出装置が開示されている。当該検出装置では、管体の長手方向に平行に延びる投光部および受光部を備える。
For example,
ところで、特許文献1および特許文献2の装置では、管路内に充満する液体の液面レベルを検出することはできるが、管路断面の一部のみを通過して流れる少量の液体を精度良く検出することは難しい。例えば、バルブの故障等により少量の液体がリークし、管路の内周面の一部を伝わって流れている場合、当該液体の流れる経路が投光部から受光部への光路を偶然横切らない限り、特許文献1および特許文献2の装置では、当該液体を検出することは難しい。
By the way, in the apparatus of
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、管路断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to accurately detect a liquid flowing through only a part of a pipe cross section.
請求項1に記載の発明は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置であって、重力方向に沿って延びる管路に向けて光を出射する発光部と、前記管路を経由した前記発光部からの光を受ける受光部と、前記受光部からの出力に基づいて前記管路の断面の一部を流れる液体の存否を判断する判断部とを備え、前記管路内における前記発光部からの光に対応する複数の検出ポイントが、前記管路の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の液体検出装置であって、前記複数の検出ポイントが、前記管路の幅方向において、前記管路の全幅に亘って配列される。 A second aspect of the present invention is the liquid detection device according to the first aspect, wherein the plurality of detection points are arranged over the entire width of the pipe line in the width direction of the pipe line.
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の液体検出装置であって、前記複数の検出ポイントが、前記管路の前記長手方向および前記長手方向に垂直な方向にマトリクス状に配置される。 A third aspect of the present invention is the liquid detection device according to the first or second aspect, wherein the plurality of detection points are arranged in a matrix in the longitudinal direction of the conduit and in a direction perpendicular to the longitudinal direction. Be placed.
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記受光部が、前記管路の外面に沿って配置される。 A fourth aspect of the present invention is the liquid detection device according to any one of the first to third aspects, wherein the light receiving unit is arranged along an outer surface of the pipe line.
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記管路が重力方向に平行に延びる。 A fifth aspect of the present invention is the liquid detection device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the pipe line extends in parallel to the direction of gravity.
請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載の液体検出装置であって、前記判断部が、前記受光部からの出力に基づいて、前記管路の断面全体に液体が存在することも検出可能である。 A sixth aspect of the present invention is the liquid detection device according to any one of the first to fifth aspects, wherein the determination unit is configured to apply liquid to the entire cross section of the pipe line based on an output from the light receiving unit. It is also possible to detect the presence of.
請求項7に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、チャンバと、前記チャンバ内において基板を保持する基板保持部と、前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、前記処理液供給部からの処理液を前記チャンバの外部へと導く排液管と、請求項1ないし6のいずれかに記載の液体検出装置とを備え、前記液体検出装置が、前記管路である前記排液管内の液体を検出する。
The invention according to
本発明では、管路断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。 In the present invention, it is possible to accurately detect the liquid flowing through only a part of the pipe cross section.
図1は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置1の構成を示す図である。基板処理装置1は、半導体基板9(以下、単に「基板9」という。)を1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、基板9に処理液を供給して処理を行う。図1では、基板処理装置1の構成の一部を断面にて示す。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a
基板処理装置1は、チャンバ11と、基板保持部31と、基板回転機構33と、カップ部4と、処理液供給部5と、制御ユニット7とを備える。チャンバ11の内部には、基板保持部31およびカップ部4等が収容される。制御ユニット7は、基板処理装置1の各構成を制御する。制御ユニット7は、各種演算処理を行うCPU、基本プログラムを記憶するROMおよび各種情報を記憶するRAM等を含む一般的なコンピュータシステムである。制御ユニット7により、判断部71の機能が実現される。換言すれば、制御ユニット7は判断部71を備える。
The
基板保持部31は、上下方向を向く中心軸J1を中心とする略円板状の部材である。基板9は、基板保持部31の上方に配置される。基板9は、チャンバ11内において水平状態にて基板保持部31により保持される。基板回転機構33は、基板保持部31の下方に配置される。基板回転機構33は、中心軸J1を中心として基板9を基板保持部31と共に回転する。基板回転機構33は、有蓋略円筒状の回転機構収容部34の内部に収容される。
The
処理液供給部5は、基板9に複数種類の処理液を個別に供給する。処理液供給部5は、第1ノズル51と、第2ノズル52と、第3ノズル53とを備える。第1ノズル51および第2ノズル52はそれぞれ、基板9の上方から基板9の上側の主面(以下、「上面91」という。)に向けて処理液を供給する。第1ノズル51から基板9に処理液の供給が行われている状態では、第2ノズル52および第3ノズル53は、基板9の径方向外側へと退避している。第2ノズル52から基板9に処理液の供給が行われる際には、第1ノズル51および第3ノズル53が基板9の径方向外側へと退避し、第2ノズル52が基板9の上方に位置する。第3ノズル53は、基板9の上方から基板9の上面91の周縁領域(すなわち、エッジ部)に向けて処理液を供給する。図1では、第1ノズル51、第2ノズル52および第3ノズル53を、基板9の上方に描いている。図1に例示するように、処理液供給部5は、基板9の下方に配置されて基板9の下側の主面に処理液を供給する下部ノズルも備えてもよい。
The treatment
カップ部4は、中心軸J1を中心とする環状の部材であり、基板9および基板保持部31の周囲に配置される。カップ部4は、上カップ部41と、下カップ部42と、カップ移動機構43とを備える。上カップ部41は、中心軸J1を中心とする略円筒状の部材である。上カップ部41は、基板9および基板保持部31の径方向外側に配置され、基板9および基板保持部31の側方を全周に亘って覆う。上カップ部41は、回転中の基板9から周囲に向かって飛散する処理液等を受ける。カップ移動機構43は、上カップ部41を上下方向に移動する。上カップ部41は、図1に示す基板9の周囲の位置である処理位置と、当該処理位置よりも下方の退避位置との間を、カップ移動機構43により移動する。
The
下カップ部42は、中心軸J1を中心とする有底略円筒状の部材である。下カップ部42は、上カップ部41の下方にて回転機構収容部34の径方向外側に配置される。下カップ部42は、例えば、回転機構収容部34の外側面に固定される。下カップ部42は、上カップ部41の下部に接続される。具体的には、上カップ部41の下端部が、下カップ部42の内部に挿入される。下カップ部42は、上カップ部41にて受けられた処理液等を受ける。下カップ部42の底部には、下カップ部42にて受けられた処理液等を排出する排液ポート44が設けられる。排液ポート44には、処理液等をチャンバ11の外部へと導く共通排液管45が接続される。共通排液管45は、排液ポート44から下方に延びる。共通排液管45は、例えば、略鉛直下方に延びてもよく、上下方向に対して傾斜しつつ下方に延びてもよい。
The
図2は、基板処理装置1の処理液供給部5を示すブロック図である。図2では、処理液供給部5以外の構成も併せて示す。第1ノズル51は、薬液供給源54、基板洗浄液供給源55およびIPA(イソプロピルアルコール)供給源56に接続される。第2ノズル52は、充填剤溶液供給源57に接続される。第3ノズル53は、IPA供給源56に接続される。
FIG. 2 is a block diagram illustrating the processing
薬液供給源54から送出された薬液は、第1ノズル51を介して基板9の上面91の中央部に供給される。薬液としては、例えば、フッ酸または水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液等のエッチング液が利用される。基板洗浄液供給源55から送出された基板洗浄液も、第1ノズル51を介して基板9の上面91の中央部に供給される。基板洗浄液としては、例えば、純水(DIW:deionized water)や炭酸水が利用される。IPA供給源56から第1ノズル51へと送出されたIPAは、第1ノズル51を介して基板9の上面91の中央部に供給される。
The chemical solution delivered from the chemical
第1ノズル51の下端には、例えば、薬液用、基板洗浄液用およびIPA用の複数の吐出口が設けられており、種類の異なる処理液は、異なる配管および吐出口を介して基板9の上面91に供給される。処理液供給部5では、例えば、第1ノズル51に代えて、薬液、基板洗浄液およびIPAを基板9の上面91の中央部にそれぞれ供給する複数の処理液ノズルが設けられてもよい。
At the lower end of the
充填剤溶液供給源57から第2ノズル52へと送出された充填剤溶液は、第2ノズル52を介して基板9の上面91の中央部に供給される。充填剤溶液としては、例えば、固体の溶質であるポリマーを溶媒に溶かした溶液が利用される。ポリマーが非水溶性である場合、溶媒としては、例えばIPAが利用される。当該ポリマーは、基板9上において溶媒が気化することにより固化し、基板処理装置1とは別の装置において昇華されるものであり、昇華剤とも呼ばれる。
The filler solution sent from the filler
IPA供給源56から第3ノズル53へと送出されたIPAは、第3ノズル53を介して基板9の上面91の周縁領域に供給される。
The IPA sent from the
基板処理装置1における基板9の処理は、例えば、薬液処理、洗浄処理、IPA置換処理、充填剤充填処理、エッジリンス処理および乾燥処理の順で行われる。具体的には、まず、回転中の基板9に対して第1ノズル51から薬液が供給されることにより、基板9に対する薬液処理が行われる。続いて、薬液の供給が停止され、回転中の基板9に対して第1ノズル51から基板洗浄液が供給されることにより、基板9に対する洗浄処理が行われる。次に、基板洗浄液の供給が停止され、回転中の基板9に対して第1ノズル51からIPAが供給されることにより、基板9上の基板洗浄液がIPAに置換される。
The processing of the
さらに、IPAの供給が停止され、回転中の基板9に対して第2ノズル52から充填剤溶液が所定時間だけ供給された後、基板9の回転速度が低下され、基板9の上面91全体が充填剤溶液により覆われた状態が維持される。これにより、基板9の上面91上のパターンにおける間隙(すなわち、パターンに含まれるパターン要素の間の空間)に充填剤溶液が充填される。その後、基板9の回転速度が増大され、基板9の上面91の周縁領域に第3ノズル53からIPAが供給されることにより、基板9の周縁領域の充填剤溶液を除去するエッジリンス処理が行われる。そして、基板9の回転速度が増大され、基板9の乾燥処理が行われる。上記処理中に基板9上に供給された薬液、基板洗浄液、IPAおよび充填剤溶液は、カップ部4により受けられ、排液ポート44を介して共通排液管45へと排出される。
Furthermore, after the supply of IPA is stopped and the filler solution is supplied from the
図3は、基板9の径方向外側の退避位置に退避した状態の第3ノズル53、および、第3ノズル53近傍の部位を示す図である。図3に示すように、基板処理装置1は、受液部61と、排液管62と、液体検出装置8とをさらに備える。受液部61は、退避位置に位置する第3ノズル53の下方に配置される。受液部61は、例えば、プリディスペンス(すなわち、基板9への処理液の供給前に処理液を予備的に吐出する動作)の際に第3ノズル53から吐出される処理液を受ける。図3では、受液部61を断面にて描く。
FIG. 3 is a view showing the
排液管62は、受液部61に接続され、重力方向に沿って延びる。排液管62は、例えば、略鉛直下方に延びてもよく、重力方向に対して傾斜しつつ下方に延びてもよい。図3に示す例では、排液管62は重力方向に略平行に延びる。排液管62は、受液部61にて受けられた第3ノズル53からの処理液をチャンバ11(図1参照)の外部へと導く。液体検出装置8は、管路内の液体を検出する光電式の液体検出装置である。液体検出装置8は、当該管路である排液管62に取り付けられ、排液管62内の液体を検出する。
The
液体検出装置8は、発光部81と、受光部82と、上述の判断部71とを備える。発光部81および受光部82は、排液管62に取り付けられる。排液管62のうち、少なくとも発光部81および受光部82が取り付けられる部位は、透光性を有する。好ましくは、排液管62のうち発光部81および受光部82が取り付けられる部位は、透明である。発光部81および受光部82は、排液管62の外面に沿って配置される。発光部81は、例えば、排液管62を挟んで受光部82の反対側に配置される。
The
発光部81は、排液管62に向けて光を出射する。発光部81は、複数の発光素子を含む。発光素子は、例えば、LED(Light Emitting Diode)またはLD(Laser Diode)である。発光素子は、光源からの光を導く光ファイバであってもよい。複数の発光素子は、排液管62の外面に沿って配置される。受光部82は、排液管62を経由した発光部81の複数の発光素子からの複数の光を受ける。受光部82は、1つまたは複数の受光素子を含む。当該受光素子は、排液管62の外面に沿って配置される。
The
図4は、排液管62内における発光部81からの複数の光に対応する複数の検出ポイント83を示す図である。図4では、受光部82側から見た発光部81の外形を破線にて示す。検出ポイント83とは、発光部81から排液管62へと出射される光に対応する排液管62内における位置であり、当該位置に液体が存在すると、発光部81から受光部82へと向かう当該光が遮られる。検出ポイント83は、センシングポイントとも呼ばれる。実際には、排液管62内において、各検出ポイント83を通って紙面に垂直な直線上の各位置が、液体を検出する検出ポイントである。後述する図5においても同様である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a plurality of detection points 83 corresponding to a plurality of lights from the
複数の検出ポイント83は、排液管62の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。図4に示す例では、排液管62は重力方向に略平行に延びるため、複数の検出ポイント83の配列方向は、重力方向に対しても傾斜する。また、複数の検出ポイント83の配列方向は、排液管62の長手方向に対して垂直な幅方向に対しても傾斜する。具体的には、複数の検出ポイント83の配列方向は、排液管62の長手方向に対して約45度傾斜している。複数の検出ポイント83は、排液管62の長手方向および幅方向に関して、略等ピッチにて配列される。なお、複数の検出ポイント83の配列方向は、排液管62の長手方向に対して傾斜していればよく、例えば、当該配列方向は、排液管62の幅方向に略平行であってもよい。
The plurality of detection points 83 are arranged in an arrangement direction that is inclined with respect to the longitudinal direction of the
複数の検出ポイント83は、排液管62の幅方向において、排液管62の略全幅に亘って配列される。具体的には、図4において排液管62の幅方向の最も外側に位置する検出ポイント83(すなわち、図中の最も左側および最も右側に位置する検出ポイント83)と、排液管62の内面との間の幅方向の距離D1が、複数の検出ポイント83の幅方向に関するピッチP1よりも小さい。
The plurality of detection points 83 are arranged over substantially the entire width of the
図3に示すように、判断部71は、受光部82に接続される。判断部71は、受光部82からの出力に基づいて、排液管62のうち発光部81および受光部82が取り付けられた部位において、排液管62の断面の不特定の一部を流れる液体の存否を判断する。また、判断部71は、受光部82からの出力に基づいて、排液管62の断面の略全体に液体が存在することも検出可能である。
As shown in FIG. 3, the
以下、液体検出装置8による処理液の具体的な検出について説明する。例えば、第3ノズル53から処理液の漏れ(いわゆる、スローリーク)が生じ、少量の処理液が排液管62に流入している場合、排液管62内の処理液は、複数の検出ポイント83のうちの一部を通過し、発光部81からの光のうち、当該一部に対応する光を遮る。処理液の透光性が比較的低い場合、処理液により遮られた光は受光部82へは到達せず、処理液の透光性が比較的高い場合、処理液により遮られた光の一部が処理液を通過して受光部82へと到達する。いずれの場合も、処理液により光が遮られることにより、受光部82における受光量が低下する。受光部82からの出力は継続的に判断部71に送られる。
Hereinafter, specific detection of the processing liquid by the
判断部71は、受光部82における受光量がある程度以上低下し、予め定められている第1閾値受光量以下になると、排液管62の断面の一部を流れる処理液が存在すると判断する。第1閾値受光量は、発光部81からの光が排液管62内で遮られずに受光部82により受光された場合の受光量(以下、「正常受光量」という。)よりも小さい光量である。液体検出装置8により排液管62の断面の一部を流れる処理液が検出されると、図示省略のアラーム等の報知手段により、第3ノズル53からの処理液の漏れが生じていることが作業者に対して報知される。
The
また、例えば、排液管62の下流にて詰まりが生じている状態で第3ノズル53から受液部61へとプリディスペンスが行われた場合、第3ノズル53からの処理液は、排液管62内に滞留する。この場合、排液管62内の処理液は、複数の検出ポイント83の大部分または全てと重なり、発光部81からの光の大部分または全てを遮る。処理液の透光性が比較的低い場合、処理液により遮られた光は受光部82へは到達せず、処理液の透光性が比較的高い場合、処理液により遮られた光の一部が処理液を通過して受光部82へと到達する。いずれの場合も、処理液により光が遮られることにより、受光部82における受光量が低下する。
Further, for example, when pre-dispensing is performed from the
判断部71は、受光部82における受光量が、予め定められている第2閾値受光量以下まで低下すると、排液管62の断面の略全体に処理液が存在すると判断する。第2閾値受光量は、正常受光量および第1閾値受光量よりも小さい光量である。液体検出装置8により排液管62の断面略全体に処理液が存在することが検出されると、図示省略のアラーム等の報知手段により、排液管62に詰まりが生じていることが作業者に対して報知される。
The
基板処理装置1では、第1ノズル52の退避位置にも、第3ノズル53の退避位置と同様に、受液部61、排液管62および液体検出装置8が設けられ、第1ノズル51からの処理液の漏れ、および、排液管62の詰まりの検出が行われる。第2ノズル52の退避位置についても同様である。
In the
以上に説明したように、液体検出装置8は、発光部81と、受光部82と、判断部71とを備える。発光部81は、重力方向に沿って延びる管路である排液管62に向けて光を出射する。受光部82は、排液管62を経由した発光部81からの光を受ける。判断部71は、受光部82からの出力に基づいて排液管62の断面の一部を流れる液体の存否を判断する。排液管62内における発光部81からの光に対応する複数の検出ポイント83は、排液管62の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列される。これにより、複数の検出ポイントが排液管の長手方向に平行に配列される場合と異なり、排液管62の周方向の広い範囲に亘って液体の存否を検出することができる。したがって、液体が排液管62の内面の一部を伝わって流れている場合等であっても、排液管62の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。
As described above, the
液体検出装置8では、複数の検出ポイント83が、排液管62の幅方向において、排液管62の全幅に亘って配列される。これにより、排液管62の周方向のさらに広い範囲に亘って液体の存否を検出することができる。その結果、排液管62の断面の一部のみを流れる液体を、さらに精度良く検出することができる。
In the
上述のように、受光部82は、排液管62の外面に沿って配置される。これにより、排液管62を通過した直後の光を受光部82により受光することができるため、排液管62内の液体の検出精度を向上することができる。
As described above, the
排液管62が重力方向に平行に延びている場合、排液管62に流入した少量の液体は、排液管62の断面のいずれの位置をも流れる可能性がある。液体検出装置8では、上述のように、排液管62の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができるため、液体検出装置8の構造は、重力方向に平行に延びる排液管62内の液体の検出に特に適している。
When the
液体検出装置8では、判断部71が、受光部82からの出力に基づいて、排液管62の断面全体に液体が存在することも検出可能である。これにより、処理液供給部5からの処理液の漏れを検出する構成を、排液管62の詰まりを検出する構成として兼用することができる。その結果、液体検出装置8を備える基板処理装置1の構造を簡素化することができる。
In the
図5は、排液管62内における複数の検出ポイント83の他の好ましい例を示す図である。図5に示す例では、複数の検出ポイント83は、管路である排液管62の長手方向、および、長手方向に垂直な幅方向にマトリクス状に配置される。換言すれば、当該複数の検出ポイント83は、幅方向に略平行に配列される検出ポイント83の列である検出ポイント列を複数含み、当該複数の検出ポイント列は、長手方向に沿って配列される。
FIG. 5 is a view showing another preferred example of the plurality of detection points 83 in the
各検出ポイント列に注目すると、各検出ポイント列に含まれる複数の検出ポイント83の配列方向は、排液管62の長手方向に対して傾斜している。これにより、上述の例と同様に、排液管62の断面の一部のみを流れる液体を精度良く検出することができる。また、複数の検出ポイント83が、排液管62の長手方向および幅方向にマトリクス状に配置されることにより、発光部81からの光が排液管62内の液体により遮られた場合、受光部82における受光量と正常受光量との差を大きくすることができる。その結果、排液管62の断面の一部のみを流れる液体を、さらに精度良く検出することができる。また、排液管62の断面全体に液体が存在することも精度良く検出することができる。
When attention is paid to each detection point row, the arrangement direction of the plurality of detection points 83 included in each detection point row is inclined with respect to the longitudinal direction of the
上述の液体検出装置8および基板処理装置1では、様々な変更が可能である。
Various modifications can be made in the
例えば、複数の検出ポイント83の配置は、複数の検出ポイント83の配列方向が排液管62の長手方向に対して傾斜しているのであれば、上述の配置例に限定される必要はなく、様々に変更されてよい。また、複数の検出ポイント83は、必ずしも排液管62の全幅に亘って配列される必要はない。
For example, the arrangement of the plurality of detection points 83 is not limited to the above arrangement example as long as the arrangement direction of the plurality of detection points 83 is inclined with respect to the longitudinal direction of the
発光部81および受光部82は、必ずしも排液管62の外面に沿って配置される必要はなく、排液管62の外面から離間した位置に配置されてもよい。
The
判断部71では、排液管62の断面全体に液体が存在することは、判断されなくてもよい。
The
液体検出装置8は、基板処理装置1において、上述の排液管62以外の様々な管路に設けられ、当該管路内の液体の検出に利用されてよい。例えば、液体検出装置8の発光部81および受光部82は、充填剤溶液供給源57から第2ノズル52に充填剤溶液を供給する管路において、重力方向に沿って延びる部位に設けられてもよい。この場合、液体検出装置8により、充填剤溶液供給源57からの充填剤溶液のスローリーク等が検出される。
The
基板処理装置1では、処理液供給部5から基板9に供給される複数種類の処理液は、上述の例には限定されず、様々に変更されてよい。あるいは、処理液供給部5から基板9に供給される処理液は1種類のみであってもよい。
In the
上述の基板処理装置1は、半導体基板以外に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、FED(field emission display)等の表示装置に使用されるガラス基板の処理に利用されてもよい。あるいは、上述の基板処理装置1は、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理に利用されてもよい。
The
液体検出装置8は、必ずしも基板処理装置1に設けられる必要はなく、基板処理装置1以外の装置にて利用されてもよい。また、液体検出装置8は、他の装置とは独立して単独で利用されてもよい。
The
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。 The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.
1 基板処理装置
8 液体検出装置
9 基板
11 チャンバ
31 基板保持部
62 排液管
71 判断部
81 発光部
82 受光部
83 検出ポイント
J1 中心軸
DESCRIPTION OF
Claims (7)
重力方向に沿って延びる管路に向けて光を出射する発光部と、
前記管路を経由した前記発光部からの光を受ける受光部と、
前記受光部からの出力に基づいて前記管路の断面の一部を流れる液体の存否を判断する判断部と、
を備え、
前記管路内における前記発光部からの光に対応する複数の検出ポイントが、前記管路の長手方向に対して傾斜する配列方向に配列されることを特徴とする液体検出装置。 A photoelectric liquid detection device for detecting a liquid in a pipeline,
A light emitting unit that emits light toward a pipe line extending along the direction of gravity;
A light receiving portion for receiving light from the light emitting portion via the conduit;
A determination unit that determines the presence or absence of liquid flowing in a part of a cross section of the pipe line based on an output from the light receiving unit;
With
The liquid detection apparatus according to claim 1, wherein a plurality of detection points corresponding to light from the light emitting unit in the pipe line are arranged in an arrangement direction inclined with respect to a longitudinal direction of the pipe line.
前記複数の検出ポイントが、前記管路の幅方向において、前記管路の全幅に亘って配列されることを特徴とする液体検出装置。 The liquid detection device according to claim 1,
The liquid detection device, wherein the plurality of detection points are arranged over the entire width of the pipeline in the width direction of the pipeline.
前記複数の検出ポイントが、前記管路の前記長手方向および前記長手方向に垂直な方向にマトリクス状に配置されることを特徴とする液体検出装置。 The liquid detection device according to claim 1 or 2,
The liquid detection apparatus, wherein the plurality of detection points are arranged in a matrix in the longitudinal direction of the pipe line and in a direction perpendicular to the longitudinal direction.
前記受光部が、前記管路の外面に沿って配置されることを特徴とする液体検出装置。 The liquid detection device according to any one of claims 1 to 3,
The liquid detection device, wherein the light receiving unit is disposed along an outer surface of the pipe line.
前記管路が重力方向に平行に延びることを特徴とする液体検出装置。 The liquid detection device according to any one of claims 1 to 4,
The liquid detection device according to claim 1, wherein the pipe line extends in parallel with a gravitational direction.
前記判断部が、前記受光部からの出力に基づいて、前記管路の断面全体に液体が存在することも検出可能であることを特徴とする液体検出装置。 The liquid detection device according to any one of claims 1 to 5,
The liquid detection device, wherein the determination unit can detect the presence of liquid in the entire cross section of the pipe line based on an output from the light receiving unit.
チャンバと、
前記チャンバ内において基板を保持する基板保持部と、
前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液供給部からの処理液を前記チャンバの外部へと導く排液管と、
請求項1ないし6のいずれかに記載の液体検出装置と、
を備え、
前記液体検出装置が、前記管路である前記排液管内の液体を検出することを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus for processing a substrate,
A chamber;
A substrate holder for holding the substrate in the chamber;
A treatment liquid supply unit for supplying a treatment liquid to the substrate;
A drain pipe for guiding the processing liquid from the processing liquid supply unit to the outside of the chamber;
A liquid detection device according to any one of claims 1 to 6,
With
The substrate processing apparatus, wherein the liquid detection device detects a liquid in the drainage pipe which is the pipe line.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016161056A JP2018028500A (en) | 2016-08-19 | 2016-08-19 | Liquid detection device and substrate processing apparatus |
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Publications (1)
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Family
ID=61247811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2016161056A Pending JP2018028500A (en) | 2016-08-19 | 2016-08-19 | Liquid detection device and substrate processing apparatus |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2018028500A (en) |
-
2016
- 2016-08-19 JP JP2016161056A patent/JP2018028500A/en active Pending
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