JP2018026784A - Semiconductor device and characteristics evaluation method - Google Patents

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PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate characteristics evaluation test of a semiconductor device having temperature dependency, by allowing electrical confirmation of the trimming results of offset voltage adjustment of an operational amplifier mounted on the semiconductor device, from the outside in chip state.SOLUTION: A semiconductor device includes a current output circuit 3 (main circuit M) for controlling a current flowing to a load by performing switching drive of a power semiconductor element 2 according to a control signal, an operational amplifier OP generating a feedback signal for the control signal by detecting a current flowing to the load, and a trimming circuit 14 built in this operational amplifier and adjusting the offset voltage of the feedback signal. The semiconductor device further includes a preset circuit 5 consisting of multiple sets of diode group where diodes 6a, 6b, 6c of the number of stages different from each other are connected in reverse parallel, and multiple poly fuses 7a, 7b, 7c for connecting one of multiple sets of diode group in series with a Zener diode alternatively, according to the trimming results of trimming circuit.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えば負荷をスイッチング駆動する主回路と共に負荷の動作状態を検出するオペアンプを搭載した半導体装置およびその特性評価方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device equipped with an operational amplifier for detecting an operating state of a load together with a main circuit for switching and driving the load, and a method for evaluating characteristics thereof.

自動車に搭載された電力機器等の負荷RLを駆動する半導体装置1として、例えば図5に示すようにMOS-FET等のパワー半導体素子2を出力段に備え、マイクロコンピュータ等の制御回路(上位機器)CONTから与えられる制御信号に従ってパワー半導体素子2をスイッチング駆動する電流出力回路3を備えて集積回路化されたデバイスが知られている。パワー半導体素子2および電流出力回路3は、半導体装置1の主回路Mを構成するもので、負荷RLに一定の駆動電流を供給する役割を担う。また近年では、更に上述した主回路と共に、負荷RLの出力(負荷電流)を検出して制御回路CONTに対するフィードバック信号を生成するオペアンプOPを同時集積して1チップ化した、いわゆるIPS(Intelligent Power Switch)と称される半導体装置1も開発されている。   As a semiconductor device 1 for driving a load RL such as a power device mounted on an automobile, a power semiconductor element 2 such as a MOS-FET is provided in an output stage as shown in FIG. There is known an integrated circuit device including a current output circuit 3 for switching and driving the power semiconductor element 2 in accordance with a control signal supplied from CONT. The power semiconductor element 2 and the current output circuit 3 constitute the main circuit M of the semiconductor device 1 and play a role of supplying a constant drive current to the load RL. In recent years, the IPS (Intelligent Power Switch), in which an operational amplifier OP that detects the output (load current) of the load RL and generates a feedback signal for the control circuit CONT is integrated together into one chip together with the main circuit described above. ) Has also been developed.

ちなみにオペアンプOPは、負荷RLに直列接続されたシャント抵抗SRの両端間に生じる電圧を正端子(非反転入力端子)IN+と負端子(反転入力端子)IN−との間に入力して負荷RLに流れる電流を検出する。そしてオペアンプOPは、正端子IN+と負端子IN−との間に加わる電圧を差動増幅して出力することで、その出力端子AMPに制御回路CONTに対するフィードバック信号を生成する。前述した制御回路CONTは、オペアンプOPの出力端子AMPに得られるフィードバック信号(出力電圧VAMP)に従って、例えば電流出力回路3に与える制御信号のデューティを変化させることで負荷RLの駆動電流を一定化制御する役割を担う。   Incidentally, the operational amplifier OP inputs a voltage generated between both ends of the shunt resistor SR connected in series with the load RL between the positive terminal (non-inverting input terminal) IN + and the negative terminal (inverting input terminal) IN−, and loads RL. Detects the current flowing through The operational amplifier OP differentially amplifies and outputs a voltage applied between the positive terminal IN + and the negative terminal IN−, thereby generating a feedback signal for the control circuit CONT at the output terminal AMP. The control circuit CONT described above makes the drive current of the load RL constant by changing the duty of the control signal applied to the current output circuit 3, for example, according to the feedback signal (output voltage VAMP) obtained at the output terminal AMP of the operational amplifier OP. To play a role.

ここでこの種の半導体装置1に組み込まれるオペアンプOPは、概略的には、例えば図6に示すように正端子IN+と負端子IN−との間に加わる電圧差を増幅する一対のMOS-FET(M2,M3)からなる入力差動回路(MOS差動対)11を備える。またオペアンプOPは、対をなすMOS-FET(M9,M10,M11,M12)を主体とする入力折り返し型のカスコード増幅回路12を備える。このカスコード増幅回路12は、上述した入力差動回路(MOS差動対)11に並列接続され、オペアンプOPの増幅利得(ゲイン)を高める役割を担う。更にオペアンプOPは、出力抵抗を高めてカスコード増幅回路12に得られた電圧を出力端子AMPから出力する為の、MOS-FET(M16,M17,M18)からなる出力回路13を備えて構成される。このように構成されたオペアンプOPについては、例えば特許文献1等に詳しく紹介される通りである。   Here, the operational amplifier OP incorporated in the semiconductor device 1 of this type is roughly a pair of MOS-FETs that amplify a voltage difference applied between the positive terminal IN + and the negative terminal IN− as shown in FIG. 6, for example. An input differential circuit (MOS differential pair) 11 composed of (M2, M3) is provided. The operational amplifier OP includes an input folded cascode amplifier circuit 12 mainly composed of paired MOS-FETs (M9, M10, M11, M12). The cascode amplifier circuit 12 is connected in parallel to the above-described input differential circuit (MOS differential pair) 11 and plays a role of increasing the amplification gain (gain) of the operational amplifier OP. The operational amplifier OP further includes an output circuit 13 composed of MOS-FETs (M16, M17, M18) for increasing the output resistance and outputting the voltage obtained in the cascode amplifier circuit 12 from the output terminal AMP. . The operational amplifier OP configured in this way is as described in detail in, for example, Patent Document 1.

またこの種のオペアンプOPには、特許文献1に詳しく紹介されるようにオフセット電圧を調整する為の、例えばMOS-FET(M13,M14)からなるトリミング回路14が組み込まれる(図6を参照)。このトリミング回路14は、基本的には対をなして設けられたMOS-FET(M13,M14)にそれぞれ流れる電流を調整(トリミング)することで、入力差動回路(MOS差動対)11を構成する一対のMOS-FET(M2,M3)間での電流アンバランスを補正する役割を担う。このトリミング回路14におけるMOS-FET(M13,M14)のトリミング調整により、入力差動回路(MOS差動対)11におけるオフセット電圧、ひいては出力端子AMPに生じるオフセット電圧(出力電圧VAMP)が調整(最小化)される。   Further, this type of operational amplifier OP incorporates a trimming circuit 14 made of, for example, a MOS-FET (M13, M14) for adjusting the offset voltage as described in detail in Patent Document 1 (see FIG. 6). . The trimming circuit 14 basically adjusts (trims) the currents flowing in the MOS-FETs (M13, M14) provided in a pair to make the input differential circuit (MOS differential pair) 11 It plays a role of correcting current imbalance between the pair of MOS-FETs (M2, M3). By trimming adjustment of the MOS-FETs (M13, M14) in the trimming circuit 14, the offset voltage in the input differential circuit (MOS differential pair) 11, and consequently the offset voltage (output voltage VAMP) generated at the output terminal AMP is adjusted (minimum). ).

尚、トリミング回路14を構成するMOS-FET(M13,M14)のそれぞれは、一般的には並列に設けられて選択的にオン・オフされる複数のMOS-FETからなる。これらの並列に設けられたMOS-FETの選択的なオン・オフにより、トリミング回路14を構成するMOS-FET(M13,M14)にそれぞれ流れる電流が調整される。ちなみにトリミング回路14におけるトリミングは、例えばMOS-FET(M13)に流れる電流を増やすことでオフセット電圧を高くする+トリミングが実施され、逆にMOS-FET(M14)に流れる電流を増やすことでオフセット電圧を低くする−トリミングが実施される。このトリミング回路14の具体的な構成例およびトリミング回路14によるオフセット電圧(出力電圧VAMP)の調整については、前述した特許文献1に詳しく説明される通りである。   Each of the MOS-FETs (M13, M14) constituting the trimming circuit 14 is generally composed of a plurality of MOS-FETs provided in parallel and selectively turned on / off. By selectively turning on and off the MOS-FETs provided in parallel, the currents flowing through the MOS-FETs (M13 and M14) constituting the trimming circuit 14 are adjusted. Incidentally, the trimming in the trimming circuit 14 is performed by, for example, increasing the offset voltage by increasing the current flowing through the MOS-FET (M13) and conversely increasing the current flowing through the MOS-FET (M14). -Trimming is performed. A specific configuration example of the trimming circuit 14 and adjustment of the offset voltage (output voltage VAMP) by the trimming circuit 14 are as described in detail in Patent Document 1 described above.

ここでトリミング回路14によるオフセット電圧の調整について簡単に説明すると、正端子IN+と負端子IN−との間に加わる電圧がゼロ(零)であるときのオペアンプOPの出力電圧VAMP(オフセット電圧)は、理想的にはゼロ(零)である。しかし一般的には出力電圧VAMPは、オペアンプOPの製造上のバラつき等に起因する素子固有の値を有し、しかも出力電圧VAMPは素子の温度Tjに応じて変化する。ちなみに出力電圧VAMPの温度特性aが、例えば図7(a)に示すように上限値Hiと下限値Loとにより規定される出力特性の仕様の範囲内に収まる場合には、トリミング回路14によるオペアンプOPのトリミングは実施されない。   Here, the adjustment of the offset voltage by the trimming circuit 14 will be briefly described. The output voltage VAMP (offset voltage) of the operational amplifier OP when the voltage applied between the positive terminal IN + and the negative terminal IN− is zero. Ideally it is zero. However, in general, the output voltage VAMP has a value unique to the element due to variations in manufacturing of the operational amplifier OP, and the output voltage VAMP changes according to the temperature Tj of the element. Incidentally, when the temperature characteristic a of the output voltage VAMP falls within the output characteristic specification defined by the upper limit value Hi and the lower limit value Lo as shown in FIG. 7A, for example, the operational amplifier by the trimming circuit 14 OP trimming is not performed.

しかし、例えば図7(b)に示すように出力電圧VAMPの温度特性bが下限値Loを下回る場合には、出力電圧VAMP(オフセット電圧)が出力特性の仕様の範囲に収まるように+トリミングが実施される。この+トリミングは、図6におけるMOS-FET(M13)をトリミングし、これによってMOS-FET(M13)に流れる電流を増加させることにより行われる。この+トリミングは、概念的には図6に示すようにMOS-FET(M13)に新たな電流源(M13a)を並列に接続することによって実施される。   However, when the temperature characteristic b of the output voltage VAMP is lower than the lower limit Lo as shown in FIG. 7B, for example, + trimming is performed so that the output voltage VAMP (offset voltage) falls within the output characteristic specification range. To be implemented. This + trimming is performed by trimming the MOS-FET (M13) in FIG. 6 and thereby increasing the current flowing through the MOS-FET (M13). Conceptually, this + trimming is performed by connecting a new current source (M13a) in parallel to the MOS-FET (M13) as shown in FIG.

具体的にはMOS-FET(M13)をトリミングすると、これに伴って該MOS-FET(M3)に流れる電流が増加し、カスコード増幅回路12におけるMOS-FET(M11)のドレインであるノードAの電圧が下がる。するとノードAの電圧低下に伴って出力回路13におけるMOS-FET(M16)のドレインであるノードCの電圧が上昇する。この結果、オペアンプOPの出力電圧VAMPが高くなり、例えば図7(b)に温度特性btとして示すように出力電圧VAMP(オフセット電圧)が仕様の範囲内に収まるように高く調整される。   Specifically, when the MOS-FET (M13) is trimmed, the current flowing through the MOS-FET (M3) is increased accordingly, and the drain of the MOS-FET (M11) in the cascode amplifier circuit 12 is connected to the node A. The voltage drops. Then, as the voltage at node A decreases, the voltage at node C, which is the drain of the MOS-FET (M16) in output circuit 13, increases. As a result, the output voltage VAMP of the operational amplifier OP increases, and is adjusted to be high so that the output voltage VAMP (offset voltage) falls within the specification range, for example, as shown by the temperature characteristic bt in FIG.

またこのような+トリミング調整を施した場合、常温時に比較して高温時においてMOS-FET(M11)に流れる電流が増加するのでノードAの電圧が低くなり、またこれに伴ってノードCの電圧が更に高くなる。この結果、+トリミング調整後の出力電圧VAMPの温度特性btは、いわゆる正の温度依存性を持つようになる。換言すれば+トリミングを施す前には負の温度依存性を示したオペアンプOPの温度特性bが、+トリミングの実施により正の温度依存性を有する温度特性btとなる。   Further, when such + trimming adjustment is performed, the current flowing through the MOS-FET (M11) increases at a higher temperature than at a normal temperature, so that the voltage at the node A becomes lower. Is even higher. As a result, the temperature characteristic bt of the output voltage VAMP after + trimming adjustment has a so-called positive temperature dependency. In other words, the temperature characteristic b of the operational amplifier OP that showed negative temperature dependence before + trimming becomes a temperature characteristic bt having positive temperature dependence by performing + trimming.

一方、例えば図7(c)に示すように出力電圧VAMPの温度特性bが上限値Hiを上回る場合には、出力電圧VAMP(オフセット電圧)が仕様の範囲に収まるように、−トリミングが実施される。この−トリミングは、図6に示すMOS-FET(M14)をトリミングし、MOS-FET(M14)に流れる電流を増加させることにより行われる。この−トリミングは、概念的には図6に示すようにMOS-FET(M14)に新たな電流源(M14a)を並列に接続することによって実施される。   On the other hand, for example, as shown in FIG. 7C, when the temperature characteristic b of the output voltage VAMP exceeds the upper limit value Hi, -trimming is performed so that the output voltage VAMP (offset voltage) falls within the specification range. The This -trimming is performed by trimming the MOS-FET (M14) shown in FIG. 6 and increasing the current flowing through the MOS-FET (M14). This -trimming is conceptually performed by connecting a new current source (M14a) in parallel to the MOS-FET (M14) as shown in FIG.

具体的にはMOS-FET(M14)をトリミングすることでMOS-FET(M2)に流れる電流が増加する。するとMOS-FET(M8,M10)のドレイン・ソース間電圧の上昇を伴ってカスコード増幅回路12におけるMOS-FET(M12)のドレインであるノードBの電圧が下がる。またこれに相反してカスコード増幅回路12におけるMOS-FET(M11)のドレインであるノードAの電圧が上がる。この結果、出力回路13におけるMOS-FET(M16)のドレインであるノードCの電圧が下がり、オペアンプOPの出力電圧VAMPは、図7(c)に温度特性ctとして示すように低く設定される。   Specifically, the current flowing through the MOS-FET (M2) increases by trimming the MOS-FET (M14). Then, the voltage at the node B, which is the drain of the MOS-FET (M12) in the cascode amplifier circuit 12, decreases with the increase in the drain-source voltage of the MOS-FET (M8, M10). Contrary to this, the voltage at the node A, which is the drain of the MOS-FET (M11) in the cascode amplifier circuit 12, rises. As a result, the voltage at the node C, which is the drain of the MOS-FET (M16) in the output circuit 13, decreases, and the output voltage VAMP of the operational amplifier OP is set low as shown by the temperature characteristic ct in FIG.

ちなみにこのような−トリミング調整を施した場合、常温時に比較して高温時におけるノードBの電圧が更に低くなる。しかしこの際、―トリミングに伴うMOS-FET(M7,M9)のドレイン・ソース間の電圧上昇とMOS-FET(M13)のドレイン・ソース間の電圧上昇とによってノードAの電圧の低下が相殺される。この結果、−トリミング調整後の出力電圧VAMPの温度特性ctは、−トリミング調整前の温度特性cよりも温度変化の少ない略フラットな特性となる。尚、このようなオペアンプOPのトリミング調整は、専ら、所定の大きさのウェハ上に上述した構成の複数の半導体装置1を生成した段階で実施される。   Incidentally, when such a trimming adjustment is performed, the voltage of the node B at a high temperature is further lowered as compared with a normal temperature. However, at this time, the voltage drop between the drain and source of the MOS-FET (M7, M9) accompanying the trimming and the voltage rise between the drain and source of the MOS-FET (M13) are offset by the voltage drop at the node A. The As a result, the temperature characteristic ct of the output voltage VAMP after -trimming adjustment is substantially flat with less temperature change than the temperature characteristic c before -trimming adjustment. Note that such trimming adjustment of the operational amplifier OP is performed only when a plurality of semiconductor devices 1 having the above-described configuration are generated on a wafer having a predetermined size.

特開2014−204291号公報JP 2014-204291 A

ところで上述したオペアンプOPに対するトリミング調整を施した複数の半導体装置1をウェハから個々に切り出して、いわゆる1チップのオペアンプ搭載IPSを製作した場合には、個々の半導体装置(オペアンプ搭載IPS)1毎に、該半導体装置1に組み込まれたオペアンプOPのオフセット電圧が所定の仕様を満たしているか否かの最終検査が行われる。しかしこの最終的な出荷検査に際しては、一般的には前述したオペアンプOPをトリミングしたか、更には+トリミングを施したか、或いは−トリミングを施したかのトリミング状態が不明である。   By the way, when a plurality of semiconductor devices 1 subjected to the trimming adjustment to the operational amplifier OP described above are individually cut out from the wafer to manufacture a so-called one-chip operational amplifier mounting IPS, each individual semiconductor device (operational amplifier mounting IPS) 1 is provided. A final inspection is performed to determine whether the offset voltage of the operational amplifier OP incorporated in the semiconductor device 1 satisfies a predetermined specification. However, in this final shipping inspection, it is generally unknown whether the above-described operational amplifier OP has been trimmed, further + trimmed, or −trimmed.

これ故、オペアンプOPの出力電圧VAMPは、例えば図7(d)に示すように温度特性a,bt,ctのいずれかを有するが、その実体は不明である。従ってオペアンプOPの出力特性を検査するには、所定の温度範囲の全てにおいてオペアンプOPの出力電圧VAMP(オフセット電圧)が上限値Hiと下限値Loとにより規定される範囲内に収まるか否かを計測することが必要となる。   Therefore, the output voltage VAMP of the operational amplifier OP has one of the temperature characteristics a, bt, and ct as shown in FIG. 7D, for example, but the substance is unknown. Therefore, in order to inspect the output characteristics of the operational amplifier OP, it is determined whether or not the output voltage VAMP (offset voltage) of the operational amplifier OP is within a range defined by the upper limit value Hi and the lower limit value Lo in the entire predetermined temperature range. It is necessary to measure.

故に、オペアンプOPの最終的な特性検査に際しては、半導体装置(オペアンプ搭載IPS)1に対して所定の温度範囲の全体に亘る測定温度環境を設定する為の、例えば−50℃〜175℃に亘る設定温度幅の広い恒温槽が必要となる。更には図7(b)に示したように出力電圧VAMPの温度特性が不明なので、高精度な電圧測定器を用いて所定の温度範囲に亘ってオペアンプOPの出力電圧VAMPを計測することが必要となる。従ってオペアンプOPの最終的な出力特性の検査に多大な手間と時間が掛かることが否めない。   Therefore, in the final characteristic inspection of the operational amplifier OP, for example, the temperature range is set to −50 ° C. to 175 ° C. for setting the measurement temperature environment over the entire predetermined temperature range for the semiconductor device (operational amplifier mounted IPS) 1. A constant temperature bath with a wide set temperature range is required. Furthermore, since the temperature characteristic of the output voltage VAMP is unknown as shown in FIG. 7B, it is necessary to measure the output voltage VAMP of the operational amplifier OP over a predetermined temperature range using a highly accurate voltage measuring instrument. It becomes. Therefore, it cannot be denied that it takes a lot of labor and time to inspect the final output characteristics of the operational amplifier OP.

本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、その目的は、制御回路から与えられた制御信号に従って負荷を駆動する主回路と、負荷の出力を検出して制御回路に対するフィードバック信号を生成するオペアンプとを備えて構成される半導体装置において、オペアンプのオフセット電圧を調整するトリミング回路によるトリミングの状態を外部から容易に判定することを可能とし、その判定結果に応じてオペアンプの出力特性を効率的に検査することを可能とする半導体装置およびその特性評価方法を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of such circumstances, and its purpose is to provide a main circuit for driving a load in accordance with a control signal given from the control circuit, and a feedback signal to the control circuit by detecting the output of the load. In a semiconductor device configured with an operational amplifier to be generated, it is possible to easily determine the trimming state by a trimming circuit that adjusts the offset voltage of the operational amplifier from the outside, and the output characteristics of the operational amplifier can be determined according to the determination result. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device and its characteristic evaluation method that enable efficient inspection.

上述した目的を達成するべく本発明に係る半導体装置は、
制御回路から与えられた制御信号に従って負荷を駆動する主回路と、
前記負荷の出力を検出して前記制御回路に対するフィードバック信号を生成するオペアンプと、
このオペアンプに組み込まれて前記フィードバック信号のオフセット電圧を調整するトリミング回路と、
前記主回路に設けられて前記トリミング回路に対するトリミング結果に応じて不可逆的に設定されるプリセット回路と
を具備したことを特徴としている。
In order to achieve the above-described object, a semiconductor device according to the present invention includes:
A main circuit for driving a load in accordance with a control signal given from the control circuit;
An operational amplifier that detects the output of the load and generates a feedback signal for the control circuit;
A trimming circuit incorporated in this operational amplifier to adjust the offset voltage of the feedback signal;
A preset circuit provided in the main circuit and irreversibly set in accordance with a trimming result for the trimming circuit.

好ましくは前記主回路は、例えばパワー半導体素子を出力段に備え、前記制御信号に従って前記パワー半導体素子をスイッチング駆動して前記負荷に流れる電流を制御する電流出力回路からなる。また前記主回路および前記オペアンプは、同時集積回路化された1チップの素子として実現される。   Preferably, the main circuit includes a current output circuit that includes, for example, a power semiconductor element in an output stage, and controls the current flowing through the load by switching the power semiconductor element in accordance with the control signal. Further, the main circuit and the operational amplifier are realized as a one-chip element integrated into a simultaneous integrated circuit.

ちなみに前記制御回路は、前記オペアンプから出力されるフィードバック信号に応じて前記制御信号のデューティを可変して前記負荷の出力を一定化する上位機器としての役割を担う。また前記プリセット回路は、当該半導体装置において前記主回路の動作に影響を及ぼすことのない端子間に設けられ、当該端子間の電気的特性として当該プリセット回路の設定状態を、ひいては前記トリミング回路に対するトリミング結果を外部から確認可能に構成されたものからなる。   Incidentally, the control circuit serves as a host device that varies the duty of the control signal in accordance with the feedback signal output from the operational amplifier to make the output of the load constant. In addition, the preset circuit is provided between terminals that do not affect the operation of the main circuit in the semiconductor device, and the setting state of the preset circuit as an electrical characteristic between the terminals, and thus trimming the trimming circuit. It consists of what can be confirmed from the outside.

好ましくは前記プリセット回路は、例えば前記主回路の入力段に設けられて前記制御信号に対するクランプ電圧を規定するツェナーダイオードと、互いに異なる段数のダイオードをそれぞれ逆並列に接続した複数組のダイオード群と、前記トリミング回路のトリミング結果に応じて前記複数組のダイオード群の中の1つを前記ツェナーダイオードに択一的に直列接続して前記クランプ電圧を変更する複数のポリフューズとを備えて構成される。   Preferably, the preset circuit includes, for example, a Zener diode that is provided in an input stage of the main circuit and defines a clamp voltage for the control signal, and a plurality of diode groups in which diodes having different numbers of stages are connected in antiparallel, respectively. And a plurality of polyfuses that change the clamp voltage by selectively connecting one of the plurality of diode groups to the Zener diode in series according to the trimming result of the trimming circuit. .

具体的には前記複数のポリフューズは、前記複数組のダイオード群にそれぞれ直列接続して設けられ、前記トリミング回路のトリミング結果に応じて切断されて前記複数組のダイオード群の中の1つと前記ツェナーダイオードとの直列回路を択一的に形成して前記制御信号に対するクランプ電圧を変更する役割を担う。ここで前記プリセット回路により変更設定された前記クランプ電圧は、前記オペアンプのトリミング結果の判定に用いられ、半導体装置の特性を評価する際の検査規格の決定に用いられる。ちなみに前記ポリフューズの切断は、例えば外部から与えられて前記トリミング回路のトリミングに用いる信号を利用し、トリミングなし、オフセット電圧を高くする+トリミング、オフセット電圧を低くする−トリミングのいずれかに応じてポリフューズを選択的に溶断するようにすれば良い。   Specifically, the plurality of polyfuses are provided in series with the plurality of sets of diode groups, respectively, and are cut according to a trimming result of the trimming circuit, and one of the plurality of sets of diode groups and the A series circuit with a Zener diode is alternatively formed to change the clamp voltage for the control signal. Here, the clamp voltage changed and set by the preset circuit is used to determine the trimming result of the operational amplifier, and is used to determine the inspection standard when evaluating the characteristics of the semiconductor device. By the way, the polyfuse is cut by using, for example, a signal given from the outside and used for trimming of the trimming circuit, without trimming, by increasing the offset voltage + trimming, or by decreasing the offset voltage-trimming. The polyfuse may be selectively melted.

また本発明に係る半導体装置は、上述した構成に加えて更に、対をなすサージ保護用ダイオードを極性を逆向きにして直列接続して構成された保護回路を前記プリセット回路に並列接続して構成される。この保護回路は、サージ等の印加によって複数のポリフューズの全てが不本意に溶断された場合であっても、その後に加わるサージ等から半導体装置の主回路等を保護する役割を担う。ちなみに前記対をなすサージ保護用ダイオードは、前記プリセット回路における最大順方向降下電圧よりも大きい耐圧を有する一対のツェナーダイオードからなる。   In addition to the above-described configuration, the semiconductor device according to the present invention further includes a protection circuit configured by connecting a pair of surge protection diodes in series with opposite polarities in reverse, and connecting the protection circuit in parallel to the preset circuit. Is done. This protection circuit plays a role of protecting the main circuit and the like of the semiconductor device from a surge or the like applied thereafter even when all of the plurality of polyfuses are melted unintentionally by application of a surge or the like. Incidentally, the pair of surge protection diodes comprises a pair of Zener diodes having a breakdown voltage larger than the maximum forward drop voltage in the preset circuit.

また本発明に係る半導体装置の特性評価方法は、上述した構成の半導体装置における前記オペアンプの所定の温度範囲に亘る出力特性を評価するに際し、
前記プリセット回路の出力から電気的に判定される前記トリミング回路のトリミング結果に応じて、複数の代表的な温度点において前記オペアンプから出力される前記フィードバック信号のオフセット電圧に対する上限値および下限値をそれぞれ設定することを特徴としている。
In addition, the semiconductor device characteristic evaluation method according to the present invention evaluates the output characteristic over a predetermined temperature range of the operational amplifier in the semiconductor device having the above-described configuration.
According to the trimming result of the trimming circuit that is electrically determined from the output of the preset circuit, an upper limit value and a lower limit value for the offset voltage of the feedback signal output from the operational amplifier at a plurality of representative temperature points, respectively. It is characterized by setting.

好ましくは前記オフセット電圧に対する上限値および下限値は、前記オペアンプの出力特性の温度依存性に応じて、予め定められた温度範囲での出力特性仕様を満たす検査規格として設定される。   Preferably, the upper limit value and the lower limit value with respect to the offset voltage are set as inspection standards that satisfy the output characteristic specifications in a predetermined temperature range according to the temperature dependence of the output characteristics of the operational amplifier.

本発明によれば、主回路とオペアンプとを備えた複数の半導体装置を形成したウェハにおいて各半導体装置のオペアンプをそれぞれトリミングして該オペアンプのオフセット電圧を調整した後、ウェハから切り出して1チップ化した状態の半導体装置において、各半導体装置におけるオペアンプのトリミング結果を前記プリセット回路の出力としてそれぞれ簡易に判定することができる。従って所定の温度範囲における前記オペアンプの電気的特性が予め設定された仕様を満たしているか否かの評価試験を行う上での評価規格を、トリミング結果に伴うオペアンプの温度特性の変化を考慮して、例えば予め定めた代表的な複数の温度点での評価規格として適切に設定することができる。この結果、個々の半導体装置におけるオペアンプの特性評価試験を簡易に実行することが可能となる。   According to the present invention, in a wafer on which a plurality of semiconductor devices each including a main circuit and an operational amplifier are formed, the operational amplifier of each semiconductor device is trimmed to adjust the offset voltage of the operational amplifier, and then cut out from the wafer to form one chip. In the semiconductor device in the above state, the trimming result of the operational amplifier in each semiconductor device can be easily determined as the output of the preset circuit. Therefore, an evaluation standard for performing an evaluation test as to whether or not the electric characteristics of the operational amplifier in a predetermined temperature range satisfy a preset specification is considered in consideration of a change in the temperature characteristics of the operational amplifier due to the trimming result. For example, it can be appropriately set as an evaluation standard at a plurality of typical temperature points determined in advance. As a result, it is possible to easily execute the operational amplifier characteristic evaluation test in each semiconductor device.

特に本発明においては、前記プリセット回路は、例えば互いに異なる段数のダイオードをそれぞれ逆並列に接続した複数組のダイオード群の中の1つを、ポリフューズを介して主回路の入力段に設けられたツェナーダイオードに択一的に直列接続するように構成される。このような構成のプリセット回路によれば、主回路の機能を損なうことなく、オペアンプのトリミング結果に応じて前記ツェナーダイオードにより規定されるクランプ電圧を不可逆的に容易に変更することができる。   In particular, in the present invention, the preset circuit is provided at the input stage of the main circuit via a polyfuse, for example, one of a plurality of diode groups in which different numbers of diodes are connected in antiparallel. The Zener diode is alternatively configured to be connected in series. According to the preset circuit having such a configuration, the clamp voltage defined by the Zener diode can be easily and irreversibly changed in accordance with the trimming result of the operational amplifier without impairing the function of the main circuit.

また更に対をなすサージ保護用ダイオードを極性を逆向きにして直列接続して構成されて前記プリセット回路に並列接続された保護回路を備えることで、サージ等によって前記プリセット回路におけるポリフューズの全てが溶断した場合であっても、その後のサージ等から半導体装置における前記主回路等を確実に保護することが可能となる。   Further, by providing a protection circuit that is configured by connecting a pair of surge protection diodes in series with reverse polarity and connected in parallel to the preset circuit, all of the polyfuses in the preset circuit are caused by a surge or the like. Even when blown, the main circuit and the like in the semiconductor device can be reliably protected from subsequent surges and the like.

故に本発明によれば前記プリセット回路から電気的に検出されるクランプ電圧から前記オペアンプに施されたトリミングの状態(トリミング結果)、具体的にはトリミングなし、+トリミング、−トリミングを個々の半導体装置において外部から容易に識別することができる。従って上述した如く識別されたトリミング結果に応じて、前記オペアンプの出力特性のトリミングの有無に伴う温度依存性の変化を判定することが可能となる。故に前記オペアンプの動作特性が、予め定められた温度範囲において所定の仕様を満たすか否かを評価するに必要な検査規格を、トリミング結果に基づいて判定された温度依存性に応じて適切に設定することができる。従って、1チップ化された半導体装置におけるオペアンプに対する特性評価試験の効率化と容易化を図ることが可能となる。   Therefore, according to the present invention, the trimming state (trimming result) applied to the operational amplifier from the clamp voltage electrically detected from the preset circuit, specifically, no trimming, + trimming, and -trimming are performed for each semiconductor device. Can be easily identified from the outside. Accordingly, it is possible to determine a change in temperature dependency with the presence or absence of trimming of the output characteristics of the operational amplifier, according to the trimming result identified as described above. Therefore, the inspection standard necessary for evaluating whether the operational characteristics of the operational amplifier satisfy a predetermined specification within a predetermined temperature range is appropriately set according to the temperature dependency determined based on the trimming result. can do. Therefore, it is possible to improve the efficiency and ease of the characteristic evaluation test for the operational amplifier in the one-chip semiconductor device.

本発明の一実施形態に係る半導体装置(オペアンプ搭載IPS)の要部概略構成図。The principal part schematic block diagram of the semiconductor device (op amp mounted IPS) concerning one Embodiment of this invention. 図1に示す半導体装置におけるオペアンプの出力電圧特性の例を示す図。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of output voltage characteristics of an operational amplifier in the semiconductor device illustrated in FIG. 1. 本発明の別の実施形態に係る半導体装置(オペアンプ搭載IPS)の要部概略構成図。The principal part schematic block diagram of the semiconductor device (IPS mounted with operational amplifier) which concerns on another embodiment of this invention. 図3に示す半導体装置における保護回路の作用を説明するための図。FIG. 4 is a diagram for explaining an operation of a protection circuit in the semiconductor device illustrated in FIG. 3. 主回路およびオペアンプを備えた従来の半導体装置(オペアンプ搭載IPS)の概略的な構成例を示す図。The figure which shows the schematic structural example of the conventional semiconductor device (IPS-equipped IPS) provided with the main circuit and the operational amplifier. 図5に示す半導体装置に一体に組み込まれたオペアンプOPの概略構成を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an operational amplifier OP integrated with the semiconductor device shown in FIG. 5. オペアンプOPの出力電圧(オフセット電圧)と、トリミング調整に伴う出力電圧(オフセット電圧)の変化を模式的に示す図。The figure which shows typically the change of the output voltage (offset voltage) of operational amplifier OP, and the output voltage (offset voltage) accompanying trimming adjustment.

以下、図面を参照して本発明の一実施形態に係る半導体装置とその特性評価方法について説明する。   Hereinafter, a semiconductor device and its characteristic evaluation method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1(a)は本発明の一実施形態に係る半導体装置(オペアンプ搭載IPS)1の要部概略構成図であり、図5に示した従来装置と同一部分には同一符号を付して示してある。この半導体装置1が特徴とするところは、電流出力回路3の入力段、具体的には半導体装置1の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に設けられたツェナーダイオード4を利用して、トリミング回路14のトリミング結果を外部から電気的に確認可能なプリセット回路5を設けた点にある。ツェナーダイオード4は、基本的には制御回路CONTから与えられる制御信号を所定の耐圧電圧Vzでクランプして電流出力回路3を保護する役割を担う。   FIG. 1A is a schematic configuration diagram of a main part of a semiconductor device (an IPS with an operational amplifier) 1 according to an embodiment of the present invention. The same parts as those in the conventional device shown in FIG. It is. The semiconductor device 1 is characterized by using a Zener diode 4 provided between the input stage of the current output circuit 3, specifically, the control signal input terminal IN and the ground terminal GND of the semiconductor device 1. The preset circuit 5 is provided which can electrically confirm the trimming result of the trimming circuit 14 from the outside. The Zener diode 4 basically serves to protect the current output circuit 3 by clamping the control signal supplied from the control circuit CONT with a predetermined withstand voltage Vz.

具体的にはプリセット回路5は、例えば互いに異なる段数のダイオードDをそれぞれ逆並列に接続した複数組、例えば3組のダイオード群6a,6b,6cと、トリミング回路14のトリミング結果に応じてダイオード群6a,6b,6cの中の1つをツェナーダイオード4に択一的に直列接続するポリフューズ7a,7b,7cとからなる。   Specifically, the preset circuit 5 includes, for example, a plurality of diode groups 6a, 6b, and 6c in which different stages of diodes D are connected in anti-parallel, for example, three diode groups 6a, 6b, and 6c, and diode groups according to the trimming result of the trimming circuit 14. It comprises polyfuses 7a, 7b, and 7c in which one of 6a, 6b, and 6c is alternatively connected in series to the Zener diode 4.

ちなみに第1のダイオード群6aは、2個のダイオードD1,D2を逆並列に接続して構成される。また第2のダイオード群6bは、それぞれ2段ずつ直列に接続したダイオードD3,D4の列とダイオードD5,D6の列とを逆並列に接続して構成される。更に第3のダイオード群6cは、それぞれ3段ずつ直列に接続したダイオードD7,D8,D9の列とダイオードD10,D11,D12の列とを逆並列に接続して構成される。   Incidentally, the first diode group 6a is configured by connecting two diodes D1 and D2 in antiparallel. The second diode group 6b is configured by connecting the columns of diodes D3 and D4 and the columns of diodes D5 and D6 connected in series in two stages in antiparallel. Further, the third diode group 6c is configured by connecting the columns of the diodes D7, D8, D9 and the columns of the diodes D10, D11, D12 connected in series with each other in three stages in antiparallel.

ポリフューズ7a,7b,7cは、これらの第1〜第3のダイオード群6a,6b,6cを介してツェナーダイオード4にそれぞれ直列に接続され、図1(b)に示すようにトリミング回路14のトリミング結果に応じて選択的に切断される。ちなみにこれらのポリフューズ7a,7b,7cの切断は、例えばポリフューズ7a,7b,7cにそれぞれ接続された端子から選択的に所定の電流を強制的に流すことで、ポリフューズ7a,7b,7cを溶断することで不可逆的に行われる。   The polyfuses 7a, 7b, and 7c are connected in series to the Zener diode 4 through the first to third diode groups 6a, 6b, and 6c, respectively, and as shown in FIG. It is selectively cut according to the trimming result. Incidentally, the cutting of the polyfuses 7a, 7b, 7c is performed by forcibly flowing a predetermined current from terminals connected to the polyfuses 7a, 7b, 7c, for example, to thereby cause the polyfuses 7a, 7b, 7c to flow. It is done irreversibly by fusing.

尚、前述したトリミング回路14を構成するMOS-FET(M13,M14;図6を参照)をトリミングするトリミング制御信号を利用して、或いはトリミング制御信号によってトリミングされたMOS-FET(M13,M14)のトリミングの状態に従ってポリフューズ7a,7b,7cを選択的に切断するようにしても良い。そしてポリフューズ7a,7b,7cの選択的な切断により、ツェナーダイオード4に第1〜第3のダイオード群6a,6b,6cの1つが択一的に接続されて制御信号に対するクランプ電圧、即ち、制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の耐圧が変更される。   Note that the MOS-FETs (M13, M14) trimmed by using the trimming control signal for trimming the MOS-FETs (M13, M14; see FIG. 6) constituting the trimming circuit 14 or by the trimming control signal. The polyfuses 7a, 7b, and 7c may be selectively cut according to the trimming state. Then, by selectively disconnecting the polyfuses 7a, 7b, 7c, one of the first to third diode groups 6a, 6b, 6c is selectively connected to the Zener diode 4, and the clamp voltage for the control signal, that is, The withstand voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND is changed.

具体的にはオペアンプOPに対するトリミングを行わなかった場合、つまりトリミングなしの場合にはポリフューズ7b,7cが切断される。この結果、残されたポリフューズ7aを介してツェナーダイオード4と第1のダイオード群6aとの直列回路が制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に介装される。そしてツェナーダイオード4と第1のダイオード群6aとにより制御信号に対するクランプ電圧が設定される。この場合における制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の耐圧は、ツェナーダイオード4の耐圧Vzにダイオード1段分の耐圧Vfを加えた[Vz+Vf]となる。   Specifically, when trimming is not performed on the operational amplifier OP, that is, when trimming is not performed, the polyfuses 7b and 7c are cut. As a result, a series circuit of the Zener diode 4 and the first diode group 6a is interposed between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND through the remaining polyfuse 7a. The Zener diode 4 and the first diode group 6a set a clamp voltage for the control signal. In this case, the withstand voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND is [Vz + Vf] obtained by adding the withstand voltage Vf for one stage of the diode to the withstand voltage Vz of the Zener diode 4.

またオペアンプOPに対して+トリミングを施した場合には、ポリフューズ7a,7cが切断される。この結果、残されたポリフューズ7bを介してツェナーダイオード4と第2のダイオード群6bとの直列回路が制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に介装される。そしてツェナーダイオード4と第2のダイオード群6bとにより制御信号に対するクランプ電圧が設定される。この場合における制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の耐圧は、ツェナーダイオード4の耐圧Vzにダイオード2段分の耐圧Vfを加えた[Vz+2Vf]となる。   When + trimming is performed on the operational amplifier OP, the polyfuses 7a and 7c are cut. As a result, a series circuit of the Zener diode 4 and the second diode group 6b is interposed between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND through the remaining polyfuse 7b. A clamp voltage for the control signal is set by the Zener diode 4 and the second diode group 6b. In this case, the withstand voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND is [Vz + 2Vf] obtained by adding the withstand voltage Vf of two stages of diodes to the withstand voltage Vz of the Zener diode 4.

これに対してオペアンプOPに対して−トリミングを施した場合には、ポリフューズ7a,7bが切断される。この結果、残されたポリフューズ7cを介してツェナーダイオード4と第3のダイオード群6cとの直列回路が制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に介装される。そしてツェナーダイオード4と第3のダイオード群6cとにより制御信号に対するクランプ電圧が設定される。この場合における制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の耐圧は、ツェナーダイオード4の耐圧Vzにダイオード3段分の耐圧Vfを加えた[Vz+3Vf]となる。   On the other hand, when -trimming is performed on the operational amplifier OP, the polyfuses 7a and 7b are cut. As a result, a series circuit of the Zener diode 4 and the third diode group 6c is interposed between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND via the remaining polyfuse 7c. The Zener diode 4 and the third diode group 6c set a clamp voltage for the control signal. In this case, the withstand voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND is [Vz + 3Vf] obtained by adding the withstand voltage Vf of three stages of diodes to the withstand voltage Vz of the Zener diode 4.

ちなみにこのようにして変更設定される制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の耐圧については、制御信号入力端子INに所定の電圧を印加したときのクランプ電圧を計測することにより電気的に容易に判定することができる。しかもそのクランプ電圧は、トリミング回路14のトリミング結果に応じて設定されたものであり、半導体装置1の機能を妨げることなしに計測可能である。   Incidentally, the withstand voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND changed and set in this way is electrically measured by measuring a clamp voltage when a predetermined voltage is applied to the control signal input terminal IN. It can be easily determined. Moreover, the clamp voltage is set according to the trimming result of the trimming circuit 14 and can be measured without interfering with the function of the semiconductor device 1.

従ってウェハから切り出して1チップ化された個々の半導体装置(オペアンプ搭載IPS)1の状態において、ウェハの状態においてオペアンプOPに施したトリミングの状態(トリミング結果)を容易に、且つ確実に判定することが可能となる。故に1チップ化された個々の半導体装置1毎に、そこに搭載されたオペアンプOPの特性評価試験を、上述した如く判定されるトリミング結果に従って簡易に実施することが可能となる。   Therefore, it is possible to easily and reliably determine the trimming state (trimming result) applied to the operational amplifier OP in the state of the wafer in the state of the individual semiconductor device (operational amplifier mounted IPS) 1 cut out from the wafer and made into one chip. Is possible. Therefore, it becomes possible to easily perform the characteristic evaluation test of the operational amplifier OP mounted on each semiconductor device 1 made into one chip according to the trimming result determined as described above.

即ち、本発明の係る半導体装置1によれば、ウェハの状態において半導体装置1のオペアンプOPに施したトリミングの状態を検出することができるので、検出したトリミング結果からオペアンプOPの出力特性がどのような温度特性を持っているかを判定することができる。   That is, according to the semiconductor device 1 of the present invention, the trimming state applied to the operational amplifier OP of the semiconductor device 1 in the wafer state can be detected, so what is the output characteristic of the operational amplifier OP from the detected trimming result. It can be determined whether or not it has a proper temperature characteristic.

ちなみに半導体装置1のオペアンプOPは、トリミングなしの場合、+トリミングを施した場合、そして−トリミングを施した場合に応じて、先に図7を参照して説明したように半導体装置1の素子特性に応じた固有の温度特性a,bt,ctを持つ。従ってトリミング結果に応じて定まる温度特性a,bt,ctをシフトすることで、その最大電圧と最小電圧とが所定の電圧範囲に収め得る条件を求めることが可能となる。そしてこの条件に基づいて複数の温度において出力電圧VAMPの変化を許容し得る上限値Hiと下限値Loとをそれぞれ規定することが可能となる。   Incidentally, the operational amplifier OP of the semiconductor device 1 has the element characteristics of the semiconductor device 1 as described above with reference to FIG. 7 according to the case where trimming is not performed, the case where + trimming is performed, and the case where −trimming is performed. It has unique temperature characteristics a, bt, ct according to the above. Therefore, by shifting the temperature characteristics a, bt, and ct determined according to the trimming result, it is possible to obtain conditions that allow the maximum voltage and the minimum voltage to fall within a predetermined voltage range. Based on this condition, it is possible to define an upper limit value Hi and a lower limit value Lo that can allow a change in the output voltage VAMP at a plurality of temperatures.

従って、例えば常温(例えば25℃)並びに高温(例えば125℃)からなる特定の温度でのオペアンプOPの出力電圧VAMP(オフセット電圧)を計測し、上述した如く設定された上限値Hiと下限値Loとにより規定される電圧範囲に含まれるかを評価することで、オペアンプOPの出力特性が所定の仕様を満たしているか否かを容易に検査することが可能となる。   Therefore, for example, the output voltage VAMP (offset voltage) of the operational amplifier OP at a specific temperature of normal temperature (for example, 25 ° C.) and high temperature (for example, 125 ° C.) is measured, and the upper limit value Hi and the lower limit value Lo set as described above. It is possible to easily check whether or not the output characteristic of the operational amplifier OP satisfies a predetermined specification by evaluating whether or not it is included in the voltage range defined by.

換言すれば、例えば25℃および125℃においてそれぞれ計測される出力電圧VAMPから、−50℃〜175℃の温度範囲でのトリミング結果に応じた出力電圧VAMPの変化の様子を推定することが可能となる。その上で25℃および125℃でそれぞれ計測される出力電圧VAMPが、上述した如く設定される当該温度での上限値Hiと下限値Loとにより規定される電圧範囲に含まれるか否かをそれぞれ判定するだけで、設定温度幅の広い恒温槽を用いることなしに簡易に、且つ効率的にはオペアンプOPの最終的な特性評価検査を実施することができる。   In other words, for example, it is possible to estimate how the output voltage VAMP changes according to the trimming result in the temperature range of −50 ° C. to 175 ° C. from the output voltage VAMP measured at 25 ° C. and 125 ° C., respectively. Become. Then, whether or not the output voltage VAMP measured at 25 ° C. and 125 ° C. is included in the voltage range defined by the upper limit value Hi and the lower limit value Lo at the temperature set as described above, respectively. It is possible to simply and efficiently carry out the final characteristic evaluation inspection of the operational amplifier OP without using a constant temperature bath having a wide set temperature range only by determining.

特に素子特性の評価基準となる上限値Hiおよび下限値Loについては、判定した温度特性を考慮することで、素子特性のバラつきや半導体装置1の組み立てに伴う特性シフトに伴う出力電圧VAMPの変動を踏まえて、代表的な素子温度における上限値Hiおよび下限値Loとしてそれぞれ適切に設定することができる。従ってトリミング結果から出力電圧VAMPの温度特性が明らかなので、評価基準(上限値Hiおよび下限値Lo)に余裕を持たせてオペアンプOPの出力特性を評価することができる。従ってその特性評価試験を簡易に歩留まり良く実施することが可能となる等の効果が奏せられる。   In particular, regarding the upper limit value Hi and the lower limit value Lo, which are evaluation criteria for element characteristics, the variation in the output voltage VAMP due to variations in element characteristics and characteristic shifts associated with the assembly of the semiconductor device 1 can be considered by considering the determined temperature characteristics. In light of this, it is possible to appropriately set the upper limit value Hi and the lower limit value Lo at typical element temperatures. Therefore, since the temperature characteristic of the output voltage VAMP is clear from the trimming result, the output characteristic of the operational amplifier OP can be evaluated with a margin for the evaluation criteria (upper limit value Hi and lower limit value Lo). Therefore, effects such as the ability to easily perform the characteristic evaluation test with a high yield can be achieved.

次に本発明に係る半導体装置の別の実施形態について図3を参照して説明する。図3は半導体装置(オペアンプ搭載IPS)10の要部概略構成図であり、基本的には図1に示した半導体装置1と同様に構成される。従って図1に示した半導体装置1と同一部分には同一符号を付して示してある。   Next, another embodiment of the semiconductor device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a main part of the semiconductor device (IPS-equipped IPS) 10 and is basically configured similarly to the semiconductor device 1 shown in FIG. Therefore, the same parts as those of the semiconductor device 1 shown in FIG.

この半導体装置1が特徴とするところは前述した半導体装置1が備える構成に加えて、更にプリセット回路5に対して並列に保護回路15を設けた点にある。この保護回路15は、対をなすサージ保護用ダイオード8a,8bを、その極性を逆向きにして直列接続して構成される。ちなみにサージ保護用ダイオード8a,8bは、プリセット回路5における最大順方向降下電圧よりも大きい耐圧を有する一対のツェナーダイオードからなる。   The semiconductor device 1 is characterized in that a protection circuit 15 is further provided in parallel to the preset circuit 5 in addition to the configuration of the semiconductor device 1 described above. The protection circuit 15 is configured by connecting a pair of surge protection diodes 8a and 8b in series with their polarities reversed. Incidentally, the surge protection diodes 8a and 8b are composed of a pair of Zener diodes having a breakdown voltage larger than the maximum forward voltage drop in the preset circuit 5.

具体的には上述した構成の保護回路15は、電流出力回路3の入力段である半導体装置10の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に設けられる。この保護回路15は、例えば静電気放電(ESD;Electro-Static discharge)に伴うサージを受けてプリセット回路5におけるポリフューズ7a,7b,7cの全てが溶断した場合であっても、その後に加わるESDのサージから半導体装置10の内部回路、具体的には電流出力回路3等の主回路を保護する役割を担う。   Specifically, the protection circuit 15 configured as described above is provided between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND of the semiconductor device 10 that is the input stage of the current output circuit 3. For example, even if all of the polyfuses 7a, 7b, and 7c in the preset circuit 5 are melted by receiving a surge due to electrostatic discharge (ESD), the protection circuit 15 prevents the ESD applied thereafter. It plays a role of protecting an internal circuit of the semiconductor device 10 from the surge, specifically, a main circuit such as the current output circuit 3.

ここで半導体装置1,10において、例えばオペアンプOPに対するトリミングが不要な場合、ポリフューズ7a,7bがそれぞれ溶断される。換言すればプリセット回路5においては、ポリフューズ7cを介する電流路だけが形成される。従ってこの状態において半導体装置1の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間で検出される電圧は、図4(a)に示すように正電圧印加時には[Vz+Vf]となり、負電圧印加時には[2Vf]となる。尚、ここでは説明の徒な複雑化を避けるために、ツェナーダイオード4の耐圧電圧Vzと、サージ保護用ダイオード(ツェナーダイオード)8a,8bの耐圧電圧Vz'とが等しい[Vz=Vz']として説明する。   Here, in the semiconductor devices 1 and 10, for example, when trimming of the operational amplifier OP is not necessary, the polyfuses 7a and 7b are blown out. In other words, in the preset circuit 5, only a current path through the polyfuse 7c is formed. Therefore, in this state, the voltage detected between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND of the semiconductor device 1 is [Vz + Vf] when a positive voltage is applied and [Vz + Vf] when a negative voltage is applied, as shown in FIG. 2Vf]. Here, in order to avoid complicated complications, it is assumed that the withstand voltage Vz of the Zener diode 4 and the withstand voltage Vz ′ of the surge protection diodes (zener diodes) 8a and 8b are equal [Vz = Vz ′]. explain.

この状態において半導体装置1にESDによるサージが加わると、そのサージ電流がプリセット回路5におけるポリフューズ7cを介して流れるので、このサージ電流によってポリフューズ7cが溶断することがある。そしてポリフューズ7cが溶断した後、再度ESDによるサージが加わるとプリセット回路5自体がポリフューズ7a,7b,7cの溶断よって回路遮断されているので、半導体装置1の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間にはESDによるサージがそのまま印加される。従って半導体装置1の内部回路である電流出力回路3等からなる主回路に対するサージ保護対策が損なわれることになる。   If a surge due to ESD is applied to the semiconductor device 1 in this state, the surge current flows through the polyfuse 7c in the preset circuit 5, so that the polyfuse 7c may be blown by the surge current. When the surge is caused by ESD again after the polyfuse 7c is melted, the preset circuit 5 itself is cut off by the melting of the polyfuses 7a, 7b, 7c, so that the control signal input terminal IN and the ground terminal of the semiconductor device 1 are disconnected. A surge caused by ESD is directly applied to the GND. Therefore, the surge protection measures for the main circuit including the current output circuit 3 and the like which are internal circuits of the semiconductor device 1 are impaired.

これに対して半導体装置10において、前述したようにプリセット回路5に対して並列に、具体的にはその制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に、サージ保護用ダイオード8a,8bを極性を逆向きにして直列接続した保護回路15が設けられている。従ってこの保護回路15により、仮にESDによるサージによってプリセット回路5におけるポリフューズ7a,7b,7cの全てが溶断された場合であっても、その後のESDによるサージから半導体装置1の電流出力回路3等からなる主回路を確実に保護することができる。   On the other hand, in the semiconductor device 10, as described above, the polarity of the surge protection diodes 8a and 8b is set in parallel with the preset circuit 5, specifically, between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND. A protection circuit 15 is provided which is connected in series in the reverse direction. Therefore, even if all of the polyfuses 7a, 7b, and 7c in the preset circuit 5 are melted by this surge due to ESD, the current output circuit 3 of the semiconductor device 1 and the like from the subsequent surge due to ESD. The main circuit consisting of can be reliably protected.

ちなみに保護回路15を備えた半導体装置10においては、半導体装置1の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間で検出される電圧は、図4(b)に示すように正電圧印加時にはサージ保護用ダイオード(ツェナーダイオード)8aによる電圧クランプにより[Vz']となり、負電圧印加時には[2Vf]となる。そして負電圧印加時における制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間の電圧から、そのトリミング結果を判定することが可能となる。   Incidentally, in the semiconductor device 10 including the protection circuit 15, the voltage detected between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND of the semiconductor device 1 is a surge when a positive voltage is applied as shown in FIG. It becomes [Vz ′] by voltage clamping by the protective diode (zener diode) 8a, and becomes [2Vf] when a negative voltage is applied. The trimming result can be determined from the voltage between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND when a negative voltage is applied.

尚、このときブリセット回路5に加わる電圧は、保護回路15のサージ保護用ダイオード8a,8bによりクランプされる。従って正電圧印加時には、保護回路15によりクランプされた電圧が制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に生じる。この電圧は、本来、プリセット回路5に生じる電圧[Vz+Vf]よりも低い電圧である。また負電圧印加時には保護回路15によりクランプされた電圧よりも低く、プリセット回路5における降下電圧[2Vf]となる。従って制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に生じる電圧を計測することでトリミング結果を判定することが可能となる。   At this time, the voltage applied to the reset circuit 5 is clamped by the surge protection diodes 8a and 8b of the protection circuit 15. Therefore, when a positive voltage is applied, a voltage clamped by the protection circuit 15 is generated between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND. This voltage is originally lower than the voltage [Vz + Vf] generated in the preset circuit 5. Further, when a negative voltage is applied, the voltage is lower than the voltage clamped by the protection circuit 15 and becomes a voltage drop [2Vf] in the preset circuit 5. Therefore, the trimming result can be determined by measuring the voltage generated between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND.

ところでこの状態において半導体装置10にESDによるサージが加わると、そのサージ電流がプリセット回路5におけるポリフューズ7cを介して流れ、このサージ電流によってポリフューズ7cが溶断することがある。ちなみにポリフューズ7cが溶断した後にはプリセット回路5自体がポリフューズ7a,7b,7cの溶断よって回路遮断されているので、半導体装置1の制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間にはESDによるサージがそのまま印加される。従ってこの場合には、前述した半導体層1と同様に、単にブリセット回路5にはサージ保護用ダイオード(ツェナーダイオード)8a,8bによりクランプされた電圧が印加されるだけである。尚、サージ保護用ダイオード(ツェナーダイオード)8a,8bによりクランプされた電圧については、外部から電気的に計測することは困難である。   By the way, when a surge due to ESD is applied to the semiconductor device 10 in this state, the surge current flows through the polyfuse 7c in the preset circuit 5, and the polyfuse 7c may be blown by the surge current. Incidentally, after the polyfuse 7c is melted, the preset circuit 5 itself is interrupted by the melting of the polyfuses 7a, 7b, 7c, so that the ESD between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND of the semiconductor device 1 is interrupted. The surge due to is applied as it is. Therefore, in this case, similarly to the semiconductor layer 1 described above, the voltage clamped by the surge protection diodes (zener diodes) 8a and 8b is simply applied to the reset circuit 5. Note that it is difficult to electrically measure the voltage clamped by the surge protection diodes (zener diodes) 8a and 8b from the outside.

またこの場合、ESDによるサージの印加によりポリフューズ7a,7b,7cの全てが溶断されるので、その後によりESDによるサージが加わった地合、プリセット回路5において上述したサージから半導体装置1の内部における主回路を保護することが困難となる。この点、半導体装置10においては、プリセット回路5に対して保護回路15が並列に設けられているので、この保護回路15によりESDによるサージから半導体装置10の内部回路である電流出力回路3等の主回路Mを確実に保護することができる。   In this case, since all of the polyfuses 7a, 7b, and 7c are blown by the application of the surge due to ESD, the pre-set circuit 5 causes the above-described surge in the semiconductor device 1 from being affected by the ESD surge. It becomes difficult to protect the main circuit. In this respect, in the semiconductor device 10, since the protection circuit 15 is provided in parallel to the preset circuit 5, the protection circuit 15 prevents the current output circuit 3, which is an internal circuit of the semiconductor device 10, from a surge caused by ESD. The main circuit M can be reliably protected.

具体的には図4(b)に示すように、制御信号入力端子INと接地端子GNDとの間に加わる電圧を保護回路15によりクランプすることが可能となるので、電流出力回路3等の半導体装置11の内部回路を前述したESD等に起因するサージから確実に保護することが可能となる。即ち、プリセット回路5に対して成就した構成の保護回路15を並列に設けるだけで、サージに対する保護機能を保ちながら、オペアンプOPに対するトリミング結果を、外部から電気的に容易に確認することのできる簡易に構成の半導体装置10を実現することが可能となる。   Specifically, as shown in FIG. 4B, the voltage applied between the control signal input terminal IN and the ground terminal GND can be clamped by the protection circuit 15, so that the semiconductor such as the current output circuit 3 or the like. It becomes possible to reliably protect the internal circuit of the device 11 from the surge caused by the ESD or the like. In other words, simply by providing the protection circuit 15 having the configuration achieved for the preset circuit 5 in parallel, the trimming result for the operational amplifier OP can be easily confirmed electrically from the outside while maintaining the surge protection function. It is possible to realize the semiconductor device 10 configured as described above.

尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。ここではプリセット回路5におけるダイオード群6a,6b,6cとして、1段のダイオード並びに直列接続した2段および3段のダイオードを用いたが、ダイオードの構成段数について特に限定されない。例えばトリミングなしにおいてはツェナーダイオード4だけでクランプ電圧を規定し、+トリミングではツェナーダイオード4に2段のダイオードを直列に接続し、更に−トリミングにおいてはツェナーダイオード4に4段のダイオードを直列に接続してクランプ電圧を変更するようにしても良い。   The present invention is not limited to the embodiment described above. Here, as the diode groups 6a, 6b, and 6c in the preset circuit 5, one-stage diode and two-stage and three-stage diodes connected in series are used. However, the number of diodes is not particularly limited. For example, a clamp voltage is defined only by the Zener diode 4 without trimming, a two-stage diode is connected in series to the Zener diode 4 in + trimming, and a four-stage diode is connected in series to the Zener diode 4 in -trimming. Then, the clamp voltage may be changed.

また、例えば特開2000−68458号公報に開示されるような複数の抵抗と、これらの抵抗を個別に回路接続する複数のポリフューズとからなる固有情報設定回路をプリセット回路として半導体装置1に組み込み、該固有情報設定回路の出力からトリミング結果を検出し得るように構成することも可能である。更にオペアンプOPの具体的な構成や、トリミング回路14の構成についても種々変形可能なことは言うまでもない。   Further, for example, a unique information setting circuit including a plurality of resistors and a plurality of polyfuses individually connecting these resistors as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-68458 is incorporated in the semiconductor device 1 as a preset circuit. The trimming result can be detected from the output of the unique information setting circuit. Further, it goes without saying that the specific configuration of the operational amplifier OP and the configuration of the trimming circuit 14 can be variously modified.

更にはトリミングなし、+トリミングおよび−トリミングの情報に加えて、トリミングの大きさを示す情報を出力可能なようにプリセット回路を構成することも可能である。この場合、例えばツェナーダイオードに択一的に接続されるダイオード群の数を増やし、プリセット電圧を更に多段階に変更可能なように構成すれば良い。またサージ保護用ダイオード(ツェナーダイオード)8a,8bの耐圧Vz'ついては、ツェナーダイオード4およびプリセット回路5において直列に接続されたダイオードD7,D8,D9の各順方向降下電圧よりも高く設定されたものであれば十分である。その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   Further, it is possible to configure the preset circuit so that information indicating the size of trimming can be output in addition to the information of no trimming, + trimming and −trimming. In this case, for example, the number of diode groups selectively connected to the Zener diodes may be increased so that the preset voltage can be changed in more stages. The withstand voltage Vz ′ of the surge protection diodes (zener diodes) 8a and 8b is set higher than the respective forward drop voltages of the diodes D7, D8 and D9 connected in series in the Zener diode 4 and the preset circuit 5. If it is enough. In addition, the present invention can be variously modified and implemented without departing from the scope of the invention.

M 主回路
OP オペアンプ
CONT 制御回路
RL 負荷
SR シャント抵抗
1,10 半導体装置(オペアンプ搭載IPS)
2 パワー半導体素子
3 電圧出力回路
4 ツェナーダイオード
5 プリセット回路
6a,6b,6c ダイオード群
7a,7b,7c ポリフューズ
8a,8b ツェナーダイオード
11 入力差動回路(MOS差動対)
12 カスコード増幅回路
13 出力回路
14 トリミング回路
15 保護回路
M Main circuit OP Operational amplifier CONT Control circuit RL Load SR Shunt resistance 1,10 Semiconductor device (Operational amplifier mounted IPS)
2 Power semiconductor element 3 Voltage output circuit 4 Zener diode 5 Preset circuit 6a, 6b, 6c Diode group 7a, 7b, 7c Polyfuse 8a, 8b Zener diode 11 Input differential circuit (MOS differential pair)
12 Cascode amplifier circuit 13 Output circuit 14 Trimming circuit 15 Protection circuit

Claims (12)

制御回路から与えられた制御信号に従って負荷を駆動する主回路と、
前記負荷の出力を検出して前記制御回路に対するフィードバック信号を生成するオペアンプと、
このオペアンプに組み込まれて前記フィードバック信号のオフセット電圧を調整するトリミング回路と、
前記主回路に設けられて前記トリミング回路に対するトリミング結果に応じて不可逆的に設定されるプリセット回路と
を具備したことを特徴とする半導体装置。
A main circuit for driving a load in accordance with a control signal given from the control circuit;
An operational amplifier that detects the output of the load and generates a feedback signal for the control circuit;
A trimming circuit incorporated in this operational amplifier to adjust the offset voltage of the feedback signal;
A semiconductor device comprising: a preset circuit provided in the main circuit and set irreversibly in accordance with a trimming result for the trimming circuit.
前記主回路は、パワー半導体素子を出力段に備え、前記制御信号に従って前記パワー半導体素子をスイッチング駆動して前記負荷に流れる電流を制御する電流出力回路である請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the main circuit is a current output circuit that includes a power semiconductor element in an output stage, and controls a current flowing through the load by switching driving the power semiconductor element in accordance with the control signal. 前記主回路および前記オペアンプは、同時集積回路化された1チップの素子からなる請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the main circuit and the operational amplifier are formed of a one-chip element that is integrated into a simultaneous integrated circuit. 前記制御回路は、前記オペアンプから出力されるフィードバック信号に応じて前記制御信号のデューティを可変して前記負荷の出力を一定化する役割を担う請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the control circuit plays a role of making the output of the load constant by changing a duty of the control signal in accordance with a feedback signal output from the operational amplifier. 前記プリセット回路は、当該半導体装置において前記主回路の動作に影響を及ぼすことのない端子間に設けられ、当該端子間の電気的特性としてその設定状態を外部から確認可能なものである請求項1に記載の半導体装置。   2. The preset circuit is provided between terminals that do not affect the operation of the main circuit in the semiconductor device, and the set state can be confirmed from the outside as an electrical characteristic between the terminals. A semiconductor device according to 1. 前記プリセット回路は、
前記主回路の入力段に設けられて前記制御信号に対するクランプ電圧を規定するツェナーダイオードと、
互いに異なる段数のダイオードをそれぞれ逆並列に接続した複数組のダイオード群と、
前記トリミング回路のトリミング結果に応じて前記複数組のダイオード群の中の1つを前記ツェナーダイオードに択一的に直列接続して前記クランプ電圧を変更する複数のポリフューズとからなる請求項1に記載の半導体装置。
The preset circuit is
A Zener diode provided at an input stage of the main circuit and defining a clamp voltage for the control signal;
A plurality of sets of diodes in which different numbers of diodes are connected in antiparallel,
2. The plurality of polyfuses that change the clamp voltage by selectively connecting one of the plurality of diode groups to the Zener diode in series according to a trimming result of the trimming circuit. The semiconductor device described.
前記複数のポリフューズは、前記複数組のダイオード群にそれぞれ直列接続して設けられ、前記トリミング回路のトリミング結果に応じて選択的に切断されるものである請求項6に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 6, wherein the plurality of polyfuses are provided in series with the plurality of sets of diode groups, and are selectively cut according to a trimming result of the trimming circuit. 前記プリセット回路により変更設定された前記クランプ電圧は、前記トリミング回路による前記オペアンプのトリミング結果の判定に用いられるものである請求項6に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 6, wherein the clamp voltage changed and set by the preset circuit is used for determination of a trimming result of the operational amplifier by the trimming circuit. 請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置において、
更に対をなすサージ保護用ダイオードを極性を逆向きにして直列接続して構成され、前記プリセット回路に並列接続されて前記主回路をサージ電圧から保護する保護回路を備えることを特徴とする半導体装置。
In the semiconductor device according to claim 1,
Further, a semiconductor device comprising a pair of surge protection diodes connected in series with opposite polarities and having a protection circuit connected in parallel to the preset circuit to protect the main circuit from surge voltage .
前記対をなすサージ保護用ダイオードは、前記プリセット回路における最大順方向降下電圧よりも大きい耐圧を有する一対のツェナーダイオードである請求項9に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 9, wherein the pair of surge protection diodes is a pair of Zener diodes having a breakdown voltage larger than a maximum forward voltage drop in the preset circuit. 請求項1〜6,9,10のいずれかに記載の半導体装置における前記オペアンプの所定の温度範囲に亘る出力特性を評価するに際し、
前記プリセット回路の出力から電気的に判定される前記オペアンプのトリミング結果に応じて、複数の温度点において前記オペアンプから出力される前記フィードバック信号のオフセット電圧に対する上限値および下限値をそれぞれ設定することを特徴とする半導体装置の特性評価方法。
In evaluating output characteristics over a predetermined temperature range of the operational amplifier in the semiconductor device according to any one of claims 1 to 6, 9, and 10,
According to the trimming result of the operational amplifier electrically determined from the output of the preset circuit, an upper limit value and a lower limit value for the offset voltage of the feedback signal output from the operational amplifier at a plurality of temperature points are respectively set. A characteristic evaluation method for a semiconductor device.
前記オフセット電圧に対する上限値および下限値は、前記オペアンプの出力特性の温度依存性に応じて設定されるものである請求項11に記載の半導体装置の特性評価方法。   The semiconductor device characteristic evaluation method according to claim 11, wherein the upper limit value and the lower limit value with respect to the offset voltage are set according to temperature dependency of output characteristics of the operational amplifier.
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