JP2018025430A - Measurement result notification device, measurement system, and measurement result notification method - Google Patents

Measurement result notification device, measurement system, and measurement result notification method Download PDF

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  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the failure degree of each conductor path in each substrate to be inspected to be reliably and easily grasped.SOLUTION: When visually notifying of the measurement result specifiably for each conductor pattern of the failure degree of each conductor pattern in N substrates to be inspected, on the basis of measured values that are measured by measurement processing carried out on a plurality of substrates to be inspected of the same kind in which a plurality of conductor patterns (conductor paths) are provided, a "previously stipulated value" by which the failure degree is specifiable is computed for each conductor pattern on the basis of each measured value, and "one of previously stipulated hue, brightness and saturation" of each pattern image Gl arranged in accordance with the position of each conductor pattern in the substrate to be inspected is changed in correspondence to the "previously stipulated value," whereby the data of image G4 for notification is generated, and the magnitude of the "previously stipulated value" for each conductor pattern is notified on the basis of an image G1a of the substrate to be inspected of the generated data.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、被検査基板に設けられた複数の導体路についての測定結果を視覚的に報知する測定結果報知装置および測定結果報知方法、並びに、そのような測定結果報知装置を備えて構成された測定システムに関するものである。   The present invention is configured to include a measurement result notification device, a measurement result notification method, and such a measurement result notification device that visually notify measurement results of a plurality of conductor paths provided on a substrate to be inspected. It relates to a measurement system.

例えば、下記の特許文献には、被検査基板についての検査を実行して検査結果を表示または印刷可能に構成されたインサーキットテスタ(インサーキットテスタによる不良データの出力表示方法)の発明が開示されている。   For example, the following patent document discloses an invention of an in-circuit tester (a method for outputting and displaying defective data using an in-circuit tester) configured to execute inspection on a substrate to be inspected and display or print the inspection result. ing.

このインサーキットテスタでは、まず、被検査基板上に規定されている複数の測定ポイントにプローブピンをプロービングさせた状態で各測定ポイント間(検査を目的として規定された測定箇所:以下、「検査箇所」ともいう)についての測定処理を実行して測定データを得る。次いで、良品基板の対応箇所から吸収した基準データの値(以下、「基準値」ともいう)と、上記の測定データの値(以下、「測定値」ともいう)とを比較することにより、各検査箇所の良否を検査する。この場合、このインサーキットテスタでは、基準値に対する測定値の充足率についての許容範囲が各検査箇所(各測定ステップ)毎に設定されており、測定処理と並行して充足率が許容範囲内であるか否が判別され、充足率が許容範囲を外れているときには、その検査箇所に不良が生じているとして検査データに追記される構成が採用されている。   In this in-circuit tester, first, probe pins are probed to a plurality of measurement points defined on a substrate to be inspected, and each measurement point (measurement points defined for the purpose of inspection: Measurement data is obtained by executing the measurement process for “. Next, by comparing the value of the reference data absorbed from the corresponding part of the non-defective substrate (hereinafter also referred to as “reference value”) and the value of the above measurement data (hereinafter also referred to as “measurement value”), Inspect the quality of the inspection location. In this case, in this in-circuit tester, an allowable range for the satisfaction rate of the measured value with respect to the reference value is set for each inspection point (each measurement step), and the satisfaction rate is within the allowable range in parallel with the measurement process. When it is determined whether or not there is a satisfaction rate that is outside the allowable range, a configuration is adopted in which the inspection data is additionally recorded as a defect in the inspection location.

また、このインサーキットテスタでは、測定処理のステップ数を示す「測定ステップ数表示欄」、測定処理に使用したプローブピンの番号を示す「ピン番号表示欄」、測定値を示す「測定値表示欄」、充足率を示す「充足率表示欄」、規定された許容範囲を示す「許容範囲表示欄」、および測定値と基準値との格差(両値の差)を示す「格差表示欄」が各検査箇所(各測定ステップ)毎に設けられた一覧表を上記の検査データに基づいて表示または印刷することで被検査基板についての検査結果を報知する構成が採用されている。これにより、このインサーキットテスタでは、表示または印刷された一覧表内の数値を参照することにより、いずれの検査箇所(いずれの測定ステップ)に不良が生じているかを特定させることが可能となっている。   In this in-circuit tester, the “measurement step number display field” indicating the number of steps of the measurement process, the “pin number display field” indicating the probe pin number used in the measurement process, and the “measurement value display field” indicating the measurement value ”,“ Satisfaction rate display field ”indicating the satisfaction rate,“ Tolerance range display field ”indicating the specified tolerance, and“ Disparity display field ”indicating the difference between the measured value and the reference value (difference between both values) A configuration is adopted in which a list provided for each inspection location (each measurement step) is displayed or printed based on the above-described inspection data so as to notify the inspection result of the substrate to be inspected. Thereby, in this in-circuit tester, it becomes possible to identify which inspection location (which measurement step) is defective by referring to the numerical values in the displayed or printed list. Yes.

特開平3−197880号公報(第2−4頁、第1−3図)JP-A-3-197880 (page 2-4, Fig. 1-3)

ところが、上記の特許文献に開示されているインサーキットテスタには、以下のような解決すべき課題が存在する。すなわち、上記のインサーキットテスタでは、基準値に対する測定値の充足率が許容範囲を外れている検査箇所(測定ステップ)を不良と判別して検査データを生成し、検査データに基づく一覧表を表示または印刷することで被検査基板についての検査結果を報知する構成が採用されている。   However, the in-circuit tester disclosed in the above patent document has the following problems to be solved. In other words, in the above-mentioned in-circuit tester, inspection points (measurement steps) where the satisfaction rate of measured values with respect to the reference value is outside the allowable range are determined as defective, and inspection data is generated, and a list based on the inspection data is displayed. Or the structure which alert | reports the test result about a to-be-inspected board | substrate by printing is employ | adopted.

この場合、上記のインサーキットテスタによる検査によって不良と検査される各検査箇所は、その充足率が一定の値ではなく、許容範囲を下回る各種値の充足率が測定されている。また、被検査基板は、その製造条件(製造環境)の変化等に起因して、不良が生じる検査箇所(許容範囲を下回る充足率が測定される検査箇所)が変化したり、その不良の度合い(充足率の値)が変化したりする。このため、この種の装置を用いた検査に際しては、各被検査基板毎の個別の検査結果だけでなく、複数枚の被検査基板を対象として、各検査箇所毎の不良の程度(いずれの検査箇所にどの程度の不良が生じているか)を特定して分析する必要がある。   In this case, each of the inspection points that are inspected as defective by the inspection by the in-circuit tester has a filling rate that is not a constant value but various values that fall below the allowable range. In addition, due to changes in the manufacturing conditions (manufacturing environment) of the substrate to be inspected, the inspection point where the defect occurs (the inspection point where the sufficiency rate is measured below the allowable range) changes or the degree of the defect (The value of the sufficiency rate) changes. For this reason, in the inspection using this type of apparatus, not only the individual inspection results for each substrate to be inspected, but also the degree of defect for each inspection location (which inspection is to be performed) on a plurality of substrates to be inspected. It is necessary to identify and analyze how many defects are occurring at the location.

しかしながら、上記のインサーキットテスタでは、不良と検査された検査箇所が存在する複数枚の被検査基板についての測定値が一覧表内に数値で表示される。このため、不良と検査された被検査基板の枚数が少ない検査箇所については、一覧表内に充足率が記録される回数も少ないため、その検査箇所の不良の程度を容易に把握できる可能性があるものの、不良と検査された被検査基板の枚数が多い検査箇所については、一覧表内に充足率が記録される回数も多いため、その検査箇所の不良の程度を把握するのに非常に長い時間を要することとなる。   However, in the above-described in-circuit tester, measured values for a plurality of substrates to be inspected in which there are inspection locations inspected as defective are displayed numerically in a list. For this reason, for inspection locations where the number of inspected substrates that are inspected for defects is small, the number of times that the satisfaction rate is recorded in the list is small, so there is a possibility that the degree of failure at that inspection location can be easily grasped. Although there are many inspection locations where there are many substrates to be inspected that are defective, the filling rate is recorded many times in the list, so it is very long to grasp the degree of defects at the inspection locations. It will take time.

この場合、この種の装置を使用した検査に不慣れな者にとっては、不良と検査された検査箇所の数が多いときに、長い時間をかけたとしても、「測定ステップ数表示欄」、「ピン番号表示欄」、「測定値表示欄」、「充足率表示欄」、「許容範囲表示欄」および「格差表示欄」からなる「行」が連続して多数存在する一覧表を参照して各検査箇所の不良の程度をそれぞれ把握することが非常に困難となっている。   In this case, if you are unfamiliar with the inspection using this type of equipment, even if it takes a long time when there are many inspection locations that are inspected as defective, Refer to the list that contains a number of "rows" consisting of "number display column", "measurement value display column", "satisfaction rate display column", "acceptable range display column" and "difference display column" in succession. It is very difficult to grasp the degree of defect at each inspection location.

さらに、上記のインサーキットテスタでは、上記の一覧表を参照することで、複数枚の被検査基板における各検査箇所(導体パターンやビア等:以下、「導体路」ともいう)毎の不良の程度を把握することができたとしても、不良の程度を把握した導体路が、被検査基板におけるいずれの位置に設けられている導体路であるかを特定するには、検査を行った(測定処理を実施した)導体路と、各検査箇所毎の測定ステップ数との対応関係を示す別の図面等を参照する必要がある。このため、特にこの種の装置を使用した検査に不慣れな者にとっては、被検査基板上のいずれの位置に設けられたいずれの導体路の不良の程度が大きく、いずれの導体路の不良の程度が小さいかを特定するのが非常に困難となっている。   Furthermore, in the above-mentioned in-circuit tester, by referring to the above list, the degree of failure at each inspection point (conductor pattern, via, etc .: hereinafter also referred to as “conductor path”) on a plurality of substrates to be inspected. Even if it was possible to identify the conductor path, it was inspected to determine which position on the board to be inspected was the conductor path whose degree of failure was determined (measurement process) It is necessary to refer to another drawing or the like showing the correspondence relationship between the conductor path and the number of measurement steps for each inspection point. For this reason, especially for those unaccustomed to inspection using this type of apparatus, the degree of failure of any conductor path provided at any position on the substrate to be inspected is large, and the degree of failure of any conductor path It is very difficult to determine whether the is small.

本発明は、かかる解決すべき課題に鑑みてなされたものであり、各被検査基板におけるいずれの導体路の不良の程度が大きく、いずれの導体路の不良の程度が小さいかを確実かつ容易に把握させ得る測定結果報知装置、測定システムおよび測定結果報知方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the problems to be solved, and it is possible to reliably and easily determine which of the conductor paths in each inspected substrate has a large degree of defect and which of the conductor paths has a small degree of defect. It is a main object to provide a measurement result notification device, a measurement system, and a measurement result notification method that can be grasped.

上記目的を達成すべく、請求項1記載の測定結果報知装置は、複数の導体路が設けられた同種の複数枚の被検査基板を対象とする測定処理によって測定された当該各被検査基板毎の当該各導体路についての測定値に基づき、N枚(Nは、2以上の自然数)の前記被検査基板における前記各導体路の不良の程度を当該各導体路毎にそれぞれ特定可能に測定結果を視覚的に報知する処理部を備えた測定結果報知装置であって、前記処理部は、前記N枚の被検査基板についての前記各測定値に基づき、前記不良の程度を特定可能な予め規定された値を前記各導体路毎にそれぞれ演算すると共に、前記各被検査基板における前記各導体路の位置に応じて当該各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像の基板画像データを使用して当該被検査基板像における当該各導体路像の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを前記予め規定された値に対応させて変更することで報知用画像データを生成し、生成した当該報知用画像データに基づいて前記各導体路毎の前記予め規定された値の大きさを報知する。   In order to achieve the above object, the measurement result notification device according to claim 1 is provided for each of the substrates to be inspected measured by a measurement process for a plurality of the same type of substrates to be inspected provided with a plurality of conductor paths. Based on the measured values for each of the conductor paths, the measurement results can be specified for each of the conductor paths for each of the N conductors (N is a natural number greater than or equal to 2). A measurement result notification device provided with a processing unit for visually informing the measurement result, wherein the processing unit is preliminarily defined to be able to specify the degree of the defect based on the measured values for the N substrates to be inspected. The calculated value is calculated for each conductor path, and a plurality of conductor path images indicating the conductor paths are arranged in accordance with the positions of the conductor paths on the inspected boards. The substrate image data is used to The notification image data is generated by changing one of the hue, brightness, and saturation of each conductor path image in the inspection board image corresponding to the predetermined value. Based on the image data for notification, the size of the predetermined value for each conductor path is notified.

請求項2記載の測定結果報知装置は、請求項1記載の測定結果報知装置において、前記処理部は、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の分散値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の標準偏差値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の変動係数、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の誤差率、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の標準得点、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の平均値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の工程能力指数、および前記N枚の被検査基板のうちの予め規定された条件を満たす前記測定値が測定された当該被検査基板の比率のいずれかを前記予め規定された値として演算して前記報知用画像データを生成する。   The measurement result notifying device according to claim 2 is the measurement result notifying device according to claim 1, wherein the processing unit includes a variance value of the measurement values for each of the conductor paths in the N test substrates, and the N pieces. The standard deviation value of the measured value for each of the conductor paths in the substrate to be inspected, the coefficient of variation of the measured value for each of the conductor paths in the N substrates to be inspected, and the conductor path in the N substrates to be inspected Error rate of the measured value, standard score of the measured value for each of the conductor paths in the N test substrates, average value of the measured values for the conductor paths in the N test substrates, N One of the process capability index for each of the conductor paths in the one board to be inspected and the ratio of the board to be inspected in which the measurement value satisfying a predetermined condition among the N boards to be inspected is measured. As the pre-defined value Wherein generating the broadcast image data.

請求項3記載の測定結果報知装置は、請求項1または2記載の測定結果報知装置において、前記処理部は、前記予め規定された値の大きさを特定可能なカラーバーを前記被検査基板像と並べて描画して前記報知用画像データを生成する。   The measurement result notifying device according to claim 3 is the measurement result notifying device according to claim 1 or 2, wherein the processing unit displays a color bar that can specify the size of the predetermined value. To draw the image data for notification.

請求項4記載の測定システムは、請求項1から3のいずれかに記載の測定結果報知装置と、前記各被検査基板における前記各導体路についての測定処理を実行して前記各測定値を取得する測定装置とを備えて構成された。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a measurement system according to any one of the first to third aspects, and the measurement results obtained by executing the measurement process for the respective conductor paths in each of the substrates to be inspected. And a measuring device to be configured.

請求項5記載の測定結果報知方法は、複数の導体路が設けられた同種の複数枚の被検査基板を対象とする測定処理によって測定された当該各被検査基板毎の当該各導体路についての測定値に基づき、N枚(Nは、2以上の自然数)の前記被検査基板における前記各導体路の不良の程度を当該各導体路毎にそれぞれ特定可能に測定結果を視覚的に報知する測定結果報知方法であって、前記N枚の被検査基板についての前記各測定値に基づき、前記不良の程度を特定可能な予め規定された値を前記各導体路毎にそれぞれ演算すると共に、前記各被検査基板における前記各導体路の位置に応じて当該各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像の基板画像データを使用して当該被検査基板像における当該各導体路像の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを前記予め規定された値に対応させて変更することで報知用画像データを生成し、生成した当該報知用画像データに基づいて前記各導体路毎の前記予め規定された値の大きさを報知する。   The measurement result notifying method according to claim 5 is a method for measuring each of the conductor paths for each of the inspected boards measured by a measurement process for a plurality of inspected boards of the same type provided with a plurality of conductor paths. Based on the measurement value, the measurement result visually notifies the measurement result in such a manner that the degree of failure of each conductor path in the N substrates (N is a natural number of 2 or more) can be specified for each conductor path. In the result notification method, based on the measured values for the N substrates to be inspected, a predetermined value that can specify the degree of the defect is calculated for each conductor path, and Each of the conductor paths in the inspected board image using board image data of the inspected board image in which a plurality of conductor path images indicating the respective conductor paths are arranged according to the position of each of the conductor paths in the inspected board Image hue, brightness and The notification image data is generated by changing a predetermined one of the degrees corresponding to the predetermined value, and based on the generated notification image data, for each conductor path Announces the size of the value defined in advance.

請求項1記載の測定結果報知装置、および請求項5記載の測定結果報知方法では、N枚の被検査基板についての各測定値に基づき、不良の程度を特定可能な予め規定された値を各導体路毎にそれぞれ演算すると共に、各被検査基板における各導体路の位置に応じて各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像の基板画像データを使用して被検査基板像における各導体路像の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを予め規定された値に対応させて変更することで報知用画像データを生成し、生成した報知用画像データに基づいて各導体路毎の予め規定された値の大きさを視覚的に報知する。また、請求項4記載の測定システムでは、上記の測定結果報知装置と、各被検査基板における各導体路についての測定処理を実行して各測定値を取得する測定装置とを備えて構成されている。   In the measurement result notification device according to claim 1 and the measurement result notification method according to claim 5, each of the predetermined values that can specify the degree of failure is determined on the basis of each measurement value for N substrates to be inspected. Inspected using the substrate image data of the inspected board image in which a plurality of conductor path images indicating each conductor path are arranged according to the position of each conductor path in each inspected board, while calculating for each conductor path Notification image data is generated by changing a predetermined one of the hue, brightness, and saturation of each conductor path image in the board image to correspond to a predetermined value, and the generated notification image Based on the data, the size of a predetermined value for each conductor path is visually notified. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a measurement system comprising: the above-described measurement result notification device; and a measurement device that executes a measurement process for each conductor path in each board to be inspected to obtain each measurement value. Yes.

したがって、請求項1記載の測定結果報知装置、請求項4記載の測定システム、および請求項5記載の測定結果報知方法によれば、複数枚の被検査基板における各導体路についての測定値等が一覧表形式で表示・印刷される測定結果(検査結果)とは異なり、表示または印刷した報知用の画像(報知用画像データの画像)の被検査基板像を参照させることで、各被検査基板のいずれの位置に形成された導体路の不良の程度が大きく、いずれの位置に形成された導体路の不良の程度が小さいかを直感的に把握させることができ、しかも、各導体路像の「色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つ」の相違によって各導体路の不良の程度を示す「予め規定された値」の大きさを直感的に把握させることができる。これにより、この種の装置を使用した検査に不慣れな者であっても、複数枚の被検査基板における各「導体路」に生じている不良の原因等を容易に特定することができる。   Therefore, according to the measurement result notifying device according to claim 1, the measurement system according to claim 4, and the measurement result notifying method according to claim 5, the measured value or the like for each conductor path in a plurality of substrates to be inspected is obtained. Unlike the measurement results (inspection results) displayed and printed in a list format, each inspected substrate is referred to by referring to the inspected substrate image of the displayed or printed notification image (image of notification image data). It is possible to intuitively grasp the position of the conductor path formed at which position is large and the position of the conductor path formed at which position is small, and each conductor path image The magnitude of “predetermined value” indicating the degree of failure of each conductor path can be intuitively grasped by the difference of “predetermined one of hue, brightness, and saturation”. Thereby, even a person unfamiliar with the inspection using this type of apparatus can easily identify the cause of a defect occurring in each “conductor path” in a plurality of substrates to be inspected.

請求項2記載の測定結果報知装置およびその測定結果報知方法、並びにそのような測定結果報知装置を備えた測定システムによれば、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の分散値、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の標準偏差値、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の変動係数、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の誤差率、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の標準得点、N枚の被検査基板における導体路毎の測定値の平均値、N枚の被検査基板における導体路毎の工程能力指数、およびN枚の被検査基板のうちの予め規定された条件を満たす測定値が測定された被検査基板の比率のいずれかを予め規定された値として演算して報知用画像データを生成することにより、各導体路の不良の程度を的確に把握させることができる。   According to the measurement result notifying device and the measurement result notifying method according to claim 2, and the measurement system including such a measurement result notifying device, the dispersion value of the measured value for each conductor path in the N test substrates, Standard deviation value of measured value for each conductor path on N test boards, coefficient of variation of measured value for each conductor path on N test boards, error of measured value for each conductor path on N test boards Rate, standard score of measured values for each conductor path on N test boards, average value of measured values for each conductor path on N test boards, process capability index for each conductor path on N test boards , And N of the N substrates to be inspected are calculated as a predetermined value by calculating any one of the ratios of the substrates to be inspected in which the measurement values satisfying the predetermined conditions are generated. Due to the degree of failure of each conductor track It is possible to accurately grasp.

請求項3記載の測定結果報知装置およびその測定結果報知方法、並びにそのような測定結果報知装置を備えた測定システムによれば、予め規定された値の大きさを特定可能なカラーバーを被検査基板像と並べて描画して報知用画像データを生成することにより、各導体路の不良の程度がどの程度であるか(「予め規定された値」の大きさがどの程度であるか)を一層容易に把握させることができる。   According to the measurement result notifying apparatus and the measurement result notifying method according to claim 3, and the measurement system including such a measurement result notifying apparatus, a color bar that can specify the size of a predetermined value is inspected. By generating the image data for notification by drawing along with the board image, it is possible to further determine the degree of the defect of each conductor path (the degree of the “predetermined value”). It can be easily grasped.

基板検査システム100(測定装置1およびデータ処理装置2)の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the board | substrate inspection system 100 (the measuring apparatus 1 and the data processing apparatus 2). 被検査基板X(導体パターンL1,L2・・およびビアV1,V2・・)の一例について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an example of to-be-inspected board | substrate X (conductor pattern L1, L2, ... and via | veer V1, V2, ...). 図2に示す被検査基板Xについての被検査基板像G1(パターン像Gl1,Gl2・・)の一例について説明するための説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining an example of an inspected substrate image G1 (pattern images Gl1, Gl2,...) For the inspected substrate X shown in FIG. 被検査基板像G1の一例について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an example of the to-be-inspected board | substrate image G1. 被検査基板像G2の一例について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an example of the to-be-inspected board | substrate image G2. 検査結果を報知する報知用画像G4(被検査基板像G1aおよびカラーバーG3)の一例について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an example of the image G4 (Inspected substrate image G1a and color bar G3) which alert | reports a test result. 検査結果を報知する報知用画像G4(被検査基板像G2aおよびカラーバーG3)の一例について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating an example of the image G4 (Inspected board | substrate image G2a and color bar G3) which alert | reports a test result.

以下、本発明に係る測定結果報知装置、測定システムおよび測定結果報知方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a measurement result notification device, a measurement system, and a measurement result notification method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1に示す基板検査システム100は、「測定システム」の一例であって、測定装置1およびデータ処理装置2を備え、測定装置1による複数枚の被検査基板Xについての測定結果に基づき、データ処理装置2において各被検査基板Xにおける各「導体路」毎の不良の程度を特定可能に報知する構成が採用されている。この場合、被検査基板Xは、「被検査基板」の一例であって、図2に示すように、導体パターンL1,L2・・やビアV1,V2・・(以下、区別しないときには「導体パターンL」および「ビアV」ともいう)などで構成された複数の「導体路」が設けられている。   A substrate inspection system 100 shown in FIG. 1 is an example of a “measurement system”, and includes a measurement device 1 and a data processing device 2, and based on the measurement results of a plurality of substrates X to be inspected by the measurement device 1, data In the processing apparatus 2, a configuration is used in which the degree of failure for each “conductor path” in each inspected substrate X is informed in a identifiable manner. In this case, the inspected substrate X is an example of the “inspected substrate”, and as shown in FIG. 2, the conductor patterns L1, L2,... And vias V1, V2,. A plurality of “conductor paths” including “L” and “via V”) are provided.

測定装置1は、「測定装置」の一例であって、図1に示すように、測定用治具11、スキャナ12、測定部13、記憶部14および処理部15を備えて複数枚の被検査基板Xを対象とする測定処理(「同種の複数枚の被検査基板を対象とする測定処理」の一例)を順次実行することができるように構成されている。測定用治具11は、被検査基板Xにおける各導体パターンLやビアVについての測定処理のために規定された複数のプロービングポイントPa,Pb・・(図2参照:以下、区別しないときには「プロービングポイントP」ともいう)に対してプロービング可能に植設された複数の測定用プローブ11aを備えている。   The measuring device 1 is an example of a “measuring device” and includes a measuring jig 11, a scanner 12, a measuring unit 13, a storage unit 14, and a processing unit 15 as shown in FIG. The measurement process for the substrate X (an example of “measurement process for a plurality of substrates of the same type”) can be sequentially executed. The measurement jig 11 is provided with a plurality of probing points Pa, Pb... (See FIG. 2; hereinafter referred to as “probing when not distinguished from each other” defined for measurement processing for each conductor pattern L and via V on the substrate X to be inspected. A plurality of measurement probes 11a are provided so as to be probing with respect to the point P).

スキャナ12は、処理部15の制御に従い、測定用治具11における任意の測定用プローブ11aを測定部13に接続させる。測定部13は、処理部15の制御に従い、スキャナ12によって接続される測定用プローブ11aを介して被検査基板Xの任意のプロービングポイントP,P間の電気的パラメータ(「測定値」:一例として、抵抗値)を測定する。記憶部14は、被検査基板Xについての測定手順(検査手順)が記録された測定手順データDaや、処理部15の演算結果などを一時的に記憶する。   The scanner 12 connects an arbitrary measurement probe 11 a in the measurement jig 11 to the measurement unit 13 under the control of the processing unit 15. Under the control of the processing unit 15, the measurement unit 13 uses an electrical parameter (“measurement value”: as an example) between arbitrary probing points P and P of the inspected substrate X via the measurement probe 11 a connected by the scanner 12. , Resistance value). The storage unit 14 temporarily stores measurement procedure data Da in which a measurement procedure (inspection procedure) for the substrate X to be inspected is recorded, a calculation result of the processing unit 15, and the like.

処理部15は、測定装置1を総括的に制御する。具体的には、処理部15は、測定手順データDaに従ってスキャナ12を制御して任意の測定用プローブ11aを測定部13に接続させると共に、測定部13を制御して抵抗値の測定処理を実行させる。また、処理部15は、測定部13から出力される測定値を記録して測定値データD1(「測定値データ」の一例)を生成すると共に、生成した測定値データD1をデータ処理装置2に出力する。   The processing unit 15 controls the measuring apparatus 1 overall. Specifically, the processing unit 15 controls the scanner 12 according to the measurement procedure data Da to connect an arbitrary measurement probe 11a to the measurement unit 13, and also controls the measurement unit 13 to execute a resistance value measurement process. Let Further, the processing unit 15 records the measurement value output from the measurement unit 13 to generate the measurement value data D1 (an example of “measurement value data”), and the generated measurement value data D1 to the data processing device 2. Output.

なお、本例では、一例として、N=20枚の被検査基板X,X・・を対象とする測定処理によって生成された20個の測定値データD1,D1・・(「各被検査基板毎の各導体路についての測定値」が記録されたデータの一例)を使用して各「導体路」毎の不良の程度を特定可能にデータ処理装置2において測定結果が報知されるものとする。   In this example, as an example, 20 pieces of measured value data D1, D1,... ("For each substrate to be inspected" generated by the measurement processing for N = 20 substrates X, X,. It is assumed that the measurement result is notified in the data processing device 2 so that the degree of failure for each “conductor path” can be specified using an example of data in which “measured values for each conductor path” are recorded).

一方、データ処理装置2は、「測定結果報知装置」に相当し、一例として、データ処理用のプログラムがインストールされた汎用のパーソナルコンピュータで構成されている。具体的には、データ処理装置2は、操作部21、表示部22、印刷部23、記憶部24および処理部25を備えて構成されている。操作部21は、マウスやタッチパッド等のポインティングデバイスおよびキーボードなどで構成され、使用者による操作に応じた操作信号を処理部25に出力する。表示部22は、処理部25の制御に従い、後述するように測定結果の表示画面などを表示する。印刷部23は、処理部25の制御に従い、後述する測定結果などを印刷する。   On the other hand, the data processing device 2 corresponds to a “measurement result notification device”, and as an example, includes a general-purpose personal computer in which a data processing program is installed. Specifically, the data processing apparatus 2 includes an operation unit 21, a display unit 22, a printing unit 23, a storage unit 24, and a processing unit 25. The operation unit 21 includes a pointing device such as a mouse and a touch pad, a keyboard, and the like, and outputs an operation signal corresponding to an operation by the user to the processing unit 25. The display unit 22 displays a measurement result display screen and the like as described later under the control of the processing unit 25. The printing unit 23 prints a measurement result, which will be described later, under the control of the processing unit 25.

記憶部24は、上記のデータ処理用のプログラム、および測定装置1から順次出力される測定値データD1,D1・・・や、基準値データD0、基板画像データD2、カラーバー画像データD3および報知用画像データD4などを記憶する。この場合、基準値データD0は、被検査基板Xにおける上記の各導体パターンLやビアV(各導体路)毎に予め規定された基準値が記録されている。この基準値データD0は、一例として、被検査基板Xの設計データ等に基づいて外部装置において生成されてデータ処理装置2の記憶部24に記憶させられる。   The storage unit 24 stores the above-described data processing program, measurement value data D1, D1,... Sequentially output from the measurement apparatus 1, reference value data D0, substrate image data D2, color bar image data D3, and notification. For example, image data D4 is stored. In this case, as the reference value data D0, a reference value defined in advance for each conductor pattern L or via V (each conductor path) in the inspected substrate X is recorded. For example, the reference value data D0 is generated in an external device based on the design data of the substrate X to be inspected, and is stored in the storage unit 24 of the data processing device 2.

また、基板画像データD2は、「基板画像データ」の一例であって、被検査基板Xにおける各導体パターンLの位置に応じてパターン像Gl1,Gl2・・(以下、区別しないときには「パターン像Gl」ともいう)が配置された被検査基板像G1(図3,4参照:「各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像」の一例)や、被検査基板Xにおける各ビアVの位置に応じてビア像Gv,Gv・・が配置された被検査基板像G2(図5参照:「各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像」の他の一例)などの画像データで構成されている。   The substrate image data D2 is an example of “substrate image data”, and the pattern images Gl1, Gl2,... (Hereinafter referred to as “pattern image Gl when not distinguished from each other) according to the position of each conductor pattern L on the inspected substrate X. ”) (See FIG. 3 and 4: an example of“ inspected substrate image in which a plurality of conductor path images showing each conductor path ”are arranged), or in the inspected board X. Inspected substrate image G2 in which via images Gv, Gv,... Are arranged according to the position of each via V (see FIG. 5: “Inspected substrate image in which a plurality of conductor path images showing each conductor path are arranged”) It is composed of image data such as another example.

具体的には、被検査基板像G1は、例えば、被検査基板Xにおける各導体パターンLのうちの図2に示す導体パターンL1〜L4については、図3に示すように、それらの形状や位置に応じてパターン像Gl1〜Gl4が描画されている。また、被検査基板像G2は、被検査基板Xにおける各ビアVの直径や位置に応じてビア像Gv,Gvが描画されている。これらの被検査基板像G1,G2の基板画像データD2は、一例として、被検査基板Xの設計データ等に基づいて外部装置において生成されてデータ処理装置2の記憶部24に記憶させられる。   Specifically, the board image G1 to be inspected is, for example, the conductor patterns L1 to L4 shown in FIG. 2 among the conductor patterns L on the board X to be inspected, as shown in FIG. The pattern images G11 to G14 are drawn accordingly. In addition, in the inspected substrate image G2, via images Gv and Gv are drawn according to the diameter and position of each via V in the inspected substrate X. The substrate image data D2 of the inspected substrate images G1 and G2 is generated in an external device based on the design data of the inspected substrate X, for example, and stored in the storage unit 24 of the data processing device 2.

カラーバー画像データD3は、後述するように被検査基板像G1内の各パターン像Glや被検査基板像G2内の各ビア像Gvに対して規定される明度の範囲を特定可能なカラーバーG3(図6,7参照)の画像データ構成されている。なお、このカラーバー画像データD3のカラーバーG3と、各パターン像Glや各ビア像Gvの明度との関係については、後に詳細に説明する。報知用画像データD4は、「報知用画像データ」の一例であって、後述するように処理部25によって実行されるデータ処理によって生成される。   As will be described later, the color bar image data D3 is a color bar G3 that can specify the brightness range defined for each pattern image Gl in the inspected substrate image G1 and each via image Gv in the inspected substrate image G2. (See FIGS. 6 and 7). The relationship between the color bar G3 of the color bar image data D3 and the brightness of each pattern image Gl or each via image Gv will be described in detail later. The notification image data D4 is an example of “notification image data”, and is generated by data processing executed by the processing unit 25 as described later.

処理部25は、データ処理装置2を総括的に制御する。この処理部25は、「処理部」の一例であって、上記のデータ処理用のプログラムに従い、基準値データD0,D0・・、測定値データD1,D1・・および基板画像データD2に基づいて報知用画像データD4を生成し、生成した報知用画像データD4を使用して被検査基板Xにおける各導体パターンLや各ビアV等の「導体路」毎の不良の程度(測定結果:検査結果)を特定可能に表示部22に表示させたり印刷部23に印刷させたりする(「視覚的に報知する」との処理の一例)。なお、処理部25による測定結果の報知処理については、後に具体的な例を挙げて詳細に説明する。   The processing unit 25 generally controls the data processing device 2. The processing unit 25 is an example of a “processing unit”, and is based on the reference value data D0, D0,..., The measured value data D1, D1,. The notification image data D4 is generated, and using the generated notification image data D4, the degree of failure for each “conductor path” such as each conductor pattern L and each via V in the inspected substrate X (measurement result: inspection result) ) On the display unit 22 or printable on the printing unit 23 (an example of a process of “notifying visually”). The notification process of the measurement result by the processing unit 25 will be described in detail later with a specific example.

この基板検査システム100による複数枚の被検査基板Xについての測定処理、およびそれらの被検査基板Xについての測定結果の報知に際しては、まず、1枚目の被検査基板Xを測定装置1にセットして各導体パターンLや各ビアVなどの「導体路」についての抵抗値の測定処理を実行させる。これにより、1枚目の被検査基板Xにおける各「導体路(各導体パターンLや各ビアV)」毎の抵抗値が記録された測定値データD1が生成されて記憶部14に記憶される。なお、実際の測定装置1では、図示しない基板保持部による被検査基板Xの保持や、図示しない移動機構による測定用治具11の移動(各プロービングポイントPに対する各測定用プローブ11aのプロービング)などが行われるが、これらの動作については公知のため詳細な説明を省略する。   In the measurement processing for a plurality of substrates X to be inspected by the substrate inspection system 100 and the notification of the measurement results for those substrates X, the first substrate X to be inspected is first set in the measuring apparatus 1. Then, the resistance value measurement process for the “conductor path” such as each conductor pattern L and each via V is executed. As a result, the measurement value data D1 in which the resistance value for each “conductor path (each conductor pattern L or each via V)” in the first substrate to be inspected X is recorded is generated and stored in the storage unit 14. . In the actual measuring apparatus 1, the substrate X to be inspected is held by a substrate holding unit (not shown), the measurement jig 11 is moved by a moving mechanism (not shown) (probing each measurement probe 11a with respect to each probing point P), and the like. However, since these operations are publicly known, detailed description thereof is omitted.

次いで、1枚目の被検査基板Xに代えて2枚目の被検査基板Xを測定装置1にセットして各導体パターンLや各ビアVなどの「導体路」についての抵抗値の測定処理を実行させる。これにより、2枚目の被検査基板Xにおける各「導体路」毎の測定値が記録された測定値データD1が生成されて記憶部14に記憶される。この後、上記の2枚目の被検査基板Xについての測定処理と同様にして、3枚目以降の被検査基板Xについての測定処理を順次実行する。これにより、N=20枚の被検査基板X,X・・についての測定処理が完了したときに、20枚の被検査基板X,X・・の各「導体路」についての抵抗値が記録された20個の測定値データD1,D1・・が記憶部14に記憶された状態となる。   Next, in place of the first board to be inspected X, the second board to be inspected X is set in the measuring apparatus 1 and the resistance value measurement processing for each conductor pattern L, each via V, and the like is measured. Is executed. As a result, measurement value data D1 in which measurement values for each “conductor path” in the second inspected substrate X are recorded is generated and stored in the storage unit 14. Thereafter, in the same manner as the measurement process for the second inspected substrate X, the measurement processes for the third and subsequent inspected substrates X are sequentially executed. Thus, when the measurement processing for N = 20 inspected substrates X, X,... Is completed, the resistance value for each “conductor path” of 20 inspected substrates X, X,. 20 measured value data D1, D1,... Are stored in the storage unit 14.

次いで、測定装置1において生成された測定値データD1,D1・・をデータ処理装置2に転送する。なお、この測定値データD1の転送処理については、20枚の被検査基板X,X・・についての測定処理が完了したこの時点に限定されず、1枚の被検査基板Xについての測定処理が完了する都度、その被検査基板Xについての測定値データD1を転送することもできる。   Next, the measured value data D1, D1,... Generated in the measuring device 1 are transferred to the data processing device 2. The transfer processing of the measurement value data D1 is not limited to this time point when the measurement processing for the 20 inspected substrates X, X,... Is completed, and the measurement processing for one inspection substrate X is performed. Each time it is completed, the measurement value data D1 for the substrate X to be inspected can be transferred.

一方、データ処理装置2では、処理部25が、測定装置1から転送される(送信される)測定値データD1を記憶部24に記憶させると共に、20枚の被検査基板X,X・・についての20個の測定値データD1,D1・・が記憶部24に記憶されたときに、検査結果(測定結果)の報知処理を開始する。具体的には、処理部25は、まず、記憶部24から基準値データD0、および20個の測定値データD1,D1・・を読み出して、20枚の被検査基板X,Xの各「導体路」の不良の程度を特定可能な「予め規定された値(以下、「特定用値」ともいう)」を演算する。   On the other hand, in the data processing device 2, the processing unit 25 stores the measured value data D1 transferred (transmitted) from the measuring device 1 in the storage unit 24, and the 20 test substrates X, X,. Are stored in the storage unit 24, the inspection result (measurement result) notification process is started. Specifically, the processing unit 25 first reads the reference value data D0 and the 20 measurement value data D1, D1,... From the storage unit 24, and each of the “conductors” of the 20 substrates to be inspected X, X A “predetermined value (hereinafter also referred to as“ specific value ”)” that can specify the degree of failure of the “road” is calculated.

この場合、本例のデータ処理装置2(基板検査システム100)では、処理部25が、一例として、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「分散値」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「標準偏差値」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「変動係数」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「誤差率(相違率)」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「標準得点」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「測定値」の「平均値」、N=20枚の被検査基板X,X・・における「導体路」毎の「工程能力指数」、およびN=20枚の被検査基板X,X・・のうちの「予め規定された条件を満たす測定値が測定された被検査基板Xの比率」を「特定用値(予め規定された値)」として各「導体路」毎にそれぞれ演算する。   In this case, in the data processing apparatus 2 (substrate inspection system 100) of this example, the processing unit 25, for example, “measured value” for each “conductor path” in N = 20 substrates X, X,. , “Standard deviation value” of “measured value” for each “conductor path” in N = 20 substrates X, X,..., N = 20 substrates X, X,. "Coefficient of variation" of "measured value" for each "conductor path" in N, "error rate (difference rate)" of "measured value" for each "conductor path" in N = 20 substrates X, X ... N = “standard score” of “measured value” for each “conductor path” in 20 inspected boards X, X,..., N = for each “conductor path” in 20 inspected boards X, X,. The “average value” of “measured values”, “process capability index” for each “conductor path” of N = 20 test substrates X, X..., And N = 20 Each “conductor path” is defined as “specific value (predetermined value)” as “a ratio of the inspected substrate X in which a measurement value satisfying a preliminarily defined condition” is measured among the inspection substrates X, X. Calculate each time.

また、処理部25は、上記の「標準得点」として、「Z得点」、「z得点」および「T得点」を各「導体路」毎にそれぞれ演算する。さらに、処理部25は、上記の「予め規定された条件を満たす測定値が測定された被検査基板Xの比率(以下、単に「比率」ともいう)」として、基準値データD0に記録されている各「導体路」毎の「基準値」に基づいて規定される「良好と判定される抵抗値範囲(以下、「許容範囲」ともいう)」内の抵抗値(「予め規定された条件を満たす測定値」の一例)が測定された被検査基板Xの比率(以下、「良好判定比率」ともいう)と、上記の「許容範囲」を外れる抵抗値(「予め規定された条件を満たす測定値」の他の一例)が測定された被検査基板Xの比率(以下、「不良判定比率」ともいう)と、「許容範囲」を外れる抵抗値であってプロービングポイントPに対する測定用プローブ11aの接触不良や「導体路」の断線に起因するような高抵抗の抵抗値が測定された被検査基板Xの比率(不良判定時に処理部25によって特定される不良コードが、上記の条件を満たすコードである不良が生じている被検査基板Xの比率:以下、「特定不良コード発生比率」ともいう)とを各「導体路」毎にそれぞれ演算する。   Further, the processing unit 25 calculates “Z score”, “z score”, and “T score” as the “standard score” for each “conductor path”. Further, the processing unit 25 is recorded in the reference value data D0 as the above-mentioned “ratio of the inspected substrates X on which the measurement values satisfying the predefined conditions are measured (hereinafter also simply referred to as“ ratio ”)”. The resistance value within the “resistance value range determined to be good (hereinafter also referred to as“ allowable range ”)” defined based on the “reference value” for each “conductor path” (“predetermined condition is An example of the “measurable measurement value”) is the ratio of the inspected substrate X (hereinafter also referred to as “good determination ratio”), and the resistance value that deviates from the above “allowable range” (measurement that satisfies a “predetermined condition”). (Another example of “value”) is the ratio of the inspected substrate X (hereinafter also referred to as “defect determination ratio”) measured, and the resistance value that deviates from the “allowable range”, and the measurement probe 11a with respect to the probing point P Caused by poor contact or broken conductor tracks The ratio of the inspected substrate X in which the resistance value of such a high resistance is measured (the ratio of the inspected substrate X in which the defect code specified by the processing unit 25 at the time of the defect determination is a code satisfying the above-described condition occurs. : Hereinafter referred to as “specific defect code occurrence ratio”) for each “conductor path”.

なお、「分散値」、「標準偏差値」、「変動係数」、「誤差率(相違率)」、「標準得点(「Z得点」、「z得点」および「T得点」)」、「平均値」、「工程能力指数」および「比率(「良好判定比率」、「不良判定比率」および「特定不良コード発生比率」)」のすべてを「特定用値(予め規定された値)」として演算する構成・方法に代えて、これらの各値や、これらの値以外の任意の値を含む各種値のうちの1つ以上を「特定用値(予め規定された値)」として演算する構成・方法を採用することもできる。なお、上記の例示の各値の具体的な演算方法については公知のため、詳細な説明を省略する。   In addition, “variance value”, “standard deviation value”, “variation coefficient”, “error rate (difference rate)”, “standard score (“ Z score ”,“ z score ”and“ T score ”)”, “average” "Value", "Process capability index" and "Ratio (" Good judgment ratio "," Defect judgment ratio "and" Specific defect code occurrence ratio ")" are all calculated as "Specific values (predetermined values)" In place of the configuration / method, one or more of these values and various values including any value other than these values are calculated as “specific values (predefined values)”. The method can also be adopted. In addition, since the concrete calculation method of each value of said illustration is well-known, detailed description is abbreviate | omitted.

次いで、処理部25は、基板画像データD2の被検査基板像G1,G2における各パターン像Glや各ビア像Gvの明度(「色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つ」が「明度」である処理の一例)を、演算した「特定用値」に対応させて変更する。なお、以下の説明では、上記の「特定用値」としての「良好判定比率」を報知する例について説明する。   Next, the processing unit 25 obtains the brightness of each pattern image Gl and each via image Gv in the board image G1 and G2 of the board image data D2 (“one of the hue, brightness, and saturation defined in advance”). An example of the process of “brightness”) is changed in correspondence with the calculated “specific value”. In the following description, an example in which the “good determination ratio” as the “specific value” is notified will be described.

具体的には、処理部25は、図4に示す被検査基板像G1に関し、上記の「良好判定比率」が高い導体パターンL(20枚の被検査基板X,X・・において良好と判定された被検査基板Xの枚数が多い導体パターンL)のパターン像Glほど明度を低く規定すると共に、「良好判定比率」が低い導体パターンL(20枚の被検査基板X,X・・において良好と判定された被検査基板Xの枚数が少ない導体パターンL)のパターン像Glほど明度を高く規定することにより、図6に示すように、グレースケール画像の被検査基板像G1aとして再描画する。これにより、各パターン像Glの明度が、対応する導体パターンLの不良の程度(本例では、「良好判定比率」)に応じて相違する基板画像データD2が生成される。   Specifically, the processing unit 25 determines that the conductor pattern L (20 test substrates X, X,... Is good) with respect to the above-described “good determination ratio” with respect to the test substrate image G1 shown in FIG. The pattern image Gl of the conductor pattern L) having a larger number of substrates X to be inspected is defined to have lower brightness, and the conductor pattern L having a lower “good judgment ratio” (20 substrates to be inspected X, X,. By defining the lightness of the pattern image Gl of the conductor pattern L) having a smaller number of determined substrates X to be inspected, as shown in FIG. 6, the grayscale image is redrawn as the inspected substrate image G1a. Thereby, the board image data D2 in which the brightness of each pattern image Gl differs depending on the degree of defect of the corresponding conductor pattern L (in this example, “good determination ratio”) is generated.

また、処理部25は、図5に示す被検査基板像G2に関し、上記の「良好判定比率」が高いビアV(20枚の被検査基板X,X・・において良好と判定された被検査基板Xの枚数が多いビアV)のビア像Gvほど明度を低く規定すると共に、「良好判定比率」が低いビアV(20枚の被検査基板X,X・・において良好と判定された被検査基板Xの枚数が少ない導体パターンL)のビア像Gvほど明度を高く規定して各ビア像Gvを再描画する。   Further, the processing section 25 relates to the inspected substrate image G2 shown in FIG. 5 and the via V (the inspected substrate determined to be good in the 20 inspected substrates X, X,. The via image Gv of the via V having a larger number of X is defined to have a lower brightness, and the via V having a lower “good determination ratio” (the inspected substrate determined to be good in the 20 inspected substrates X, X... The via image Gv of the conductor pattern L) having a smaller number of X is defined to have higher brightness and each via image Gv is redrawn.

この場合、本例のデータ処理装置2(基板検査システム100)では、小径のビアVを示すビア像Gvの視認を容易とするために、上記の明度の変更と並行して、各ビア像Gvを拡大して描画する構成が採用されている。具体的には、一例として、図5に示す被検査基板像G2における各ビア像Gvを、それぞれの中心を変化させることなく、例えば2倍から10倍の範囲内で予め規定された拡大率で拡大する。これにより、一例として、図7に示すようなグレースケールの被検査基板像G2aが描画されて、各ビア像Gvの明度が、対応するビアVの良否の程度(本例では、「良好判定比率」)に応じて相違する基板画像データD2が生成される。   In this case, in the data processing apparatus 2 (substrate inspection system 100) of this example, in order to facilitate the visual recognition of the via image Gv indicating the small-diameter via V, each via image Gv is concurrently with the change in the brightness described above. A configuration for enlarging and drawing is employed. Specifically, as an example, each via image Gv in the inspected substrate image G2 shown in FIG. 5 is enlarged at a predetermined magnification within a range of, for example, 2 to 10 times without changing the center of each. Expanding. Accordingly, as an example, a grayscale inspected substrate image G2a as shown in FIG. 7 is drawn, and the brightness of each via image Gv indicates the degree of quality of the corresponding via V (in this example, “good judgment ratio”). ”), Different board image data D2 is generated.

続いて、処理部25は、図6に示すように、各パターン像Glの明度を変更した上記の被検査基板像G1aと、記憶部24から読み出したカラーバー画像データD3のカラーバーG3とを並べて描画する。これにより、20枚の被検査基板X,X・・における各導体パターンLについての測定結果(不良の度合い)を示す報知用画像G4の報知用画像データD4が生成される。また、処理部25は、図7に示すように、各ビア像Gvの明度を変更した上記の被検査基板像G2aとカラーバーG3とを並べて描画する。これにより、20枚の被検査基板X,X・・における各ビアVについての測定結果(不良の度合い)を示す報知用画像G4の報知用画像データD4が生成される。   Subsequently, as illustrated in FIG. 6, the processing unit 25 obtains the above-described inspected substrate image G1a in which the brightness of each pattern image Gl is changed, and the color bar G3 of the color bar image data D3 read from the storage unit 24. Draw side by side. Thereby, the notification image data D4 of the notification image G4 indicating the measurement result (degree of defect) for each conductor pattern L in the 20 test substrates X, X,... Is generated. Further, as illustrated in FIG. 7, the processing unit 25 draws the above-described inspected substrate image G2a and the color bar G3, in which the brightness of each via image Gv is changed, side by side. Thereby, the notification image data D4 of the notification image G4 indicating the measurement result (degree of defect) for each via V in the 20 test substrates X, X... Is generated.

この場合、上記のカラーバー画像データD3のカラーバーG3は、「カラーバー」の一例であって、被検査基板Xの各「導体路」に関する「良好判定比率」の範囲(0%〜100%)と、各パターン像Glや各ビア像Gvに規定する明度の範囲(この例では、白色から黒色の範囲)との対応関係を特定可能に構成されている。具体的には、本例のカラーバーG3では、「良好判定比率」が高いほど、低い明度(黒色寄りの明度)が対応付けられ、「良好判定比率」が低いほど、高い明度(白色寄りの明度)が対応付けられていることを特定可能に構成されている。つまり、「良好判定比率」が高いほど明度が漸減し、かつ「良好判定比率」が低いほど明度が漸増する。   In this case, the color bar G3 of the color bar image data D3 is an example of a “color bar”, and a range of “good determination ratio” (0% to 100%) for each “conductor path” of the board X to be inspected. ) And the range of lightness defined in each pattern image Gl and each via image Gv (in this example, a range from white to black) can be specified. Specifically, in the color bar G3 of this example, the higher the “good determination ratio”, the lower the lightness (lightness closer to black) is associated, and the lower the “good determination ratio”, the higher lightness (closer to white). It is configured to be able to specify that the (lightness) is associated. That is, the lightness gradually decreases as the “good determination ratio” is high, and the lightness gradually increases as the “good determination ratio” is low.

次いで、処理部25は、生成した報知用画像データD4に基づき、図6に示すように、報知用画像G4(被検査基板像G1aおよびカラーバーG3)を表示部22に表示させる。これにより、20枚の被検査基板X,X・・における各導体パターンLについての測定結果(不良の程度:本例では、導体パターンLの「良好判定比率」の値の大きさ)を示す被検査基板像G1aがカラーバーG3と並んで表示される(「測定結果を視覚的に報知する」との処理の一例)。   Next, the processing unit 25 causes the display unit 22 to display the notification image G4 (inspected substrate image G1a and color bar G3) based on the generated notification image data D4 as shown in FIG. As a result, the measurement results for each conductor pattern L on the 20 test substrates X, X... (Degree of defect: in this example, the magnitude of the value of the “good judgment ratio” of the conductor pattern L) are shown. The inspection board image G1a is displayed side by side with the color bar G3 (an example of a process of “notifying the measurement result visually”).

この報知用画像G4(被検査基板像G1a)では、基準値データD0および測定値データD1,D1・・に基づいて演算された各導体パターンL毎の「良好判定比率」に応じて、対応するパターン像Glの明度が相違させられている。また、この報知用画像G4(被検査基板像G1a)では、各導体パターンLのパターン像Glが、被検査基板X上の実際の導体パターンLの位置に対応して描画されている。したがって、表示部22に表示された被検査基板像G1aをカラーバーG3と共に参照することにより、被検査基板Xの各部に形成された導体パターンLの不良の程度を直感的に把握することができる。   The notification image G4 (inspected substrate image G1a) corresponds to the “good determination ratio” for each conductor pattern L calculated based on the reference value data D0 and the measured value data D1, D1,. The brightness of the pattern image Gl is made different. In the notification image G4 (inspected substrate image G1a), the pattern image Gl of each conductor pattern L is drawn corresponding to the position of the actual conductor pattern L on the inspected substrate X. Therefore, by referring to the inspected substrate image G1a displayed on the display unit 22 together with the color bar G3, it is possible to intuitively grasp the degree of defect of the conductor pattern L formed on each part of the inspected substrate X. .

なお、表示部22への表示に代えて、報知用画像データD4を印刷部23に出力することで上記の報知用画像G4(被検査基板像G1aおよびカラーバーG3)を紙面に印刷させることもできる(「測定結果を視覚的に報知する」との処理の他の一例)。これにより、表示部22に表示された報知用画像G4を参照したときと同様にして、紙面に印刷された報知用画像G4を参照することで、被検査基板Xの各部に形成された導体パターンLの不良の程度を直感的に把握することができる。   Instead of displaying on the display unit 22, the notification image data D4 is output to the printing unit 23 so that the notification image G4 (the inspected substrate image G1a and the color bar G3) is printed on the paper surface. Yes (another example of the process of “notifying the measurement result visually”). Thereby, the conductive pattern formed in each part of the substrate X to be inspected by referring to the notification image G4 printed on the paper surface in the same manner as when the notification image G4 displayed on the display unit 22 is referred to. It is possible to intuitively grasp the degree of L failure.

また、処理部25は、操作部21による表示画面の切り替え操作に応じて、他の報知用画像データD4に基づき、図7に示すように、他の報知用画像G4(被検査基板像G2aおよびカラーバーG3)を表示部22に表示させる。これにより、20枚の被検査基板X,X・・における各ビアVについての測定結果(不良の度合い:本例では、ビアVの「良好判定比率」の値の大きさ)を示す被検査基板像G2aがカラーバーG3と並んで表示される(「測定結果を視覚的に報知する」との処理のさらに他の一例)。   Further, the processing unit 25 responds to the switching operation of the display screen by the operation unit 21 based on the other notification image data D4, as shown in FIG. 7, the other notification image G4 (inspected substrate image G2a and The color bar G3) is displayed on the display unit 22. Thereby, the substrate to be inspected indicating the measurement result (degree of defect: the value of the “good judgment ratio” value of the via V in this example) for each via V in the 20 substrates to be inspected X, X. The image G2a is displayed side by side with the color bar G3 (another example of the process of “notifying the measurement result visually”).

この報知用画像G4(被検査基板像G2a)では、基準値データD0および測定値データD1,D1・・に基づいて演算された各ビアV毎の「良好判定比率」に応じて、対応するビア像Gvの明度が相違させられている。また、この報知用画像G4(被検査基板像G2a)では、各ビアVのビア像Gvが、被検査基板X上の実際のビアVの位置に対応して描画されている。したがって、表示部22に表示された被検査基板像G2aをカラーバーG3と共に参照することにより、被検査基板Xの各部に形成されたビアVの不良の程度を直感的に把握することができる。   In the notification image G4 (inspected substrate image G2a), a corresponding via is selected according to the “good determination ratio” for each via V calculated based on the reference value data D0 and the measured value data D1, D1,. The brightness of the image Gv is made different. In the notification image G4 (inspected substrate image G2a), the via image Gv of each via V is drawn corresponding to the actual position of the via V on the inspected substrate X. Therefore, by referring to the inspected substrate image G2a displayed on the display unit 22 together with the color bar G3, it is possible to intuitively grasp the degree of the defect of the via V formed in each part of the inspected substrate X.

なお、表示部22への表示に代えて、報知用画像データD4を印刷部23に出力することで上記の報知用画像G4(被検査基板像G2aおよびカラーバーG3)を紙面に印刷させることもできる(「測定結果を視覚的に報知する」との処理のさらに他の一例)。これにより、表示部22に表示された報知用画像G4を参照したときと同様にして、紙面に印刷された報知用画像G4を参照することで、被検査基板Xの各部に形成されたビアVの不良の程度を直感的に把握することができる。   In place of the display on the display unit 22, the notification image data D4 is output to the printing unit 23 so that the notification image G4 (the inspected substrate image G2a and the color bar G3) is printed on the paper surface. (A further example of the process of “notifying the measurement result visually”). Thereby, the via V formed in each part of the substrate X to be inspected by referring to the notification image G4 printed on the paper surface in the same manner as when the notification image G4 displayed on the display unit 22 is referred to. It is possible to intuitively grasp the degree of defects.

この後、必要に応じて「良好判定比率」以外の各「特定用値」を指定することにより、処理部25による演算結果に基づいて、指定した「特定用値」に対応してパターン像Glやビア像Gvの明度が相違させられた報知用画像G4が表示、または印刷される。これにより、その報知用画像G4を参照することで、「良好判定比率」とは異なる観点で、被検査基板Xの各部に形成された導体パターンLやビアVの不良の程度(「予め規定された値」の大きさ)を直感的に把握することができる。   Thereafter, by designating each “specific value” other than the “good determination ratio” as necessary, the pattern image Gl corresponding to the designated “specific value” based on the calculation result by the processing unit 25. Or a notification image G4 in which the brightness of the via image Gv is made different is displayed or printed. Thereby, by referring to the notification image G4, the degree of failure of the conductor pattern L and the via V formed on each part of the substrate X to be inspected (“preliminarily defined”) from a viewpoint different from the “good determination ratio”. It is possible to intuitively grasp the “size”.

このように、このデータ処理装置2、およびその測定結果報知方法では、N枚の被検査基板Xについての各「測定値(測定値データD1の値)」に基づき、不良の程度を特定可能な「予め規定された値」を各「導体路(ビアVや導体パターンL)」毎にそれぞれ演算すると共に、各被検査基板Xにおける各「導体路」の位置に応じて各「導体路」を示す複数の「導体路像(パターン像Glやビア像Gv)」が配置された「被検査基板像(被検査基板像G1,G2)」の基板画像データD2を使用して「被検査基板像」における各「導体路像」の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを「予め規定された値」に対応させて変更することで報知用画像データD4を生成し、生成した報知用画像データD4に基づいて各「導体路」毎の「予め規定された値」の大きさを表示または印刷して視覚的に報知する。また、この基板検査システム100では、上記のデータ処理装置2と、各被検査基板Xにおける各「導体路」についての測定処理を実行して各「測定値」を取得する測定装置1とを備えて構成されている。   Thus, in this data processing apparatus 2 and its measurement result notification method, the degree of failure can be specified based on each “measurement value (value of measurement value data D1)” for N substrates X to be inspected. A “predetermined value” is calculated for each “conductor path (via V or conductor pattern L)”, and each “conductor path” is determined according to the position of each “conductor path” on each substrate X to be inspected. Using the substrate image data D2 of the “inspected substrate image (inspected substrate images G1, G2)” in which a plurality of “conductor path images (pattern images Gl and via images Gv)” shown in FIG. The notification image data D4 is generated by changing a predetermined one of the hue, brightness, and saturation of each “conductor path image” corresponding to the “predetermined value” and generating For each “conductor path” based on the notified image data D4 Visually notifying by displaying or printing the size of the predefined value. " In addition, the board inspection system 100 includes the data processing apparatus 2 described above and the measurement apparatus 1 that performs measurement processing on each “conductor path” in each board to be inspected X and acquires each “measurement value”. Configured.

したがって、このデータ処理装置2、その測定結果報知方法、およびこの基板検査システム100によれば、複数枚の被検査基板Xにおける各導体パターンLやビアVについての測定値等が一覧表形式で表示・印刷される測定結果(検査結果)とは異なり、表示または印刷した報知用画像G4の被検査基板像G1a,G2aを参照させることで、各被検査基板Xのいずれの位置に形成された導体パターンLの不良の程度が大きく、いずれの位置に形成された導体パターンLの不良の程度が小さいかや、各被検査基板Xのいずれの位置に形成されたビアVの不良の程度が大きく、いずれの位置に形成されたビアVの不良の程度が小さいかを直感的に把握させることができ、しかも、各パターン像Glやビア像Gvの明度の相違によって各導体パターンL毎の不良の程度を示す「予め規定された値」の大きさや、各ビアV毎の不良の程度を示す「予め規定された値」の大きさを直感的に把握させることができる。これにより、この種の装置を使用した検査に不慣れな者であっても、複数枚の被検査基板Xにおける各「導体路」に生じている不良の原因等を容易に特定することができる。   Therefore, according to this data processing apparatus 2, its measurement result notification method, and this board inspection system 100, the measurement values and the like for each conductor pattern L and via V in a plurality of boards to be inspected X are displayed in a list form. Unlike the printed measurement result (inspection result), the conductor formed at any position on each inspected substrate X by referring to the inspected substrate images G1a and G2a of the displayed notification image G4 The degree of defect of the pattern L is large, the degree of defect of the conductor pattern L formed at which position is small, or the degree of defect of the via V formed at which position of each substrate to be inspected X is large, It is possible to intuitively grasp at which position the degree of defect of the via V is small, and each conductor pattern is determined by the difference in brightness of each pattern image Gl and via image Gv. It is possible to intuitively grasp the magnitude of “predetermined value” indicating the degree of failure for each of the lines L and the size of “predetermined value” indicating the degree of failure for each via V. . Thereby, even a person unfamiliar with the inspection using this type of apparatus can easily identify the cause of a defect occurring in each “conductor path” in the plurality of substrates X to be inspected.

また、このデータ処理装置2、その測定結果報知方法、およびそのようなデータ処理装置2を備えた基板検査システム100によれば、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「分散値」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「標準偏差値」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「変動係数」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「誤差率」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「標準得点」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「測定値」の「平均値」、N枚の被検査基板Xにおける「導体路」毎の「工程能力指数」、およびN枚の被検査基板Xのうちの予め規定された条件を満たす「測定値」が測定された被検査基板Xの「比率」のいずれかを「予め規定された値」として演算して報知用画像データD4を生成することにより、各導体パターンLや各ビアVの不良の程度を的確に把握させることができる。   In addition, according to the data processing apparatus 2, the measurement result notification method, and the board inspection system 100 including such a data processing apparatus 2, the “measured value” for each “conductor path” in the N test boards X "Dispersion value", "standard deviation value" of "measurement value" for each "conductor path" in N test boards X, and "measurement value" for each "conductor path" in N test boards X “Variation coefficient”, “error rate” of “measured value” for each “conductor path” in N number of inspected boards X, “measured value” for “conductor path” in N number of inspected boards X “Standard score”, “average value” of “measured value” for each “conductor path” in N test boards X, “process capability index” for each “conductor path” in N test boards X, and N Of the inspected substrate X, the “measured value” satisfying a predetermined condition among the inspected substrates X is measured. Any ratio "by generating a notification image data D4 calculated by the" predefined value ", the degree of failure of the conductor pattern L and each via V can be accurately grasped.

さらに、このデータ処理装置2、その測定結果報知方法、およびそのようなデータ処理装置2を備えた基板検査システム100によれば、「予め規定された値」の大きさを特定可能なカラーバーG3を「被検査基板像」と並べて描画して報知用画像データD4を生成することにより、各導体パターンLや各ビアVの不良の程度がどの程度であるか(「予め規定された値」の大きさがどの程度であるか)を一層容易に把握させることができる。   Furthermore, according to the data processing device 2, the measurement result notification method, and the substrate inspection system 100 including such a data processing device 2, the color bar G3 that can specify the size of the “predetermined value”. Are drawn side by side with the “substrate image to be inspected” to generate the notification image data D4, so that the degree of failure of each conductor pattern L and each via V is determined (“predetermined value”). It is possible to more easily grasp the size).

なお、「測定結果報知装置」および「測定システム」の構成や、「測定結果報知方法」の処理内容については、上記の例に限定されない。例えば、「色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つ」の一例として、黒色の「導体路像(パターン像Glやビア像Gv)の「明度」を「予め規定された値(上記の例では、「良好判定比率」など)」に応じて異ならせて報知用画像データD4を生成する処理を例に挙げて説明したが、黒色以外の任意の色の「導体路像」の「明度」を「予め規定された値」に応じて異ならせて「報知用画像データ」を生成することもできる。また、「明度」を異ならせる処理に代えて、「導体路像」の色の「色相」または「彩度」を「予め規定された値」に応じて異ならせて「報知用画像データ」を生成することもできる。   Note that the configurations of the “measurement result notification device” and the “measurement system” and the processing content of the “measurement result notification method” are not limited to the above example. For example, as an example of “a pre-defined one of hue, lightness, and saturation”, the “lightness” of a black “conductor path image (pattern image Gl or via image Gv) is set to a“ predetermined value ( In the above example, the process of generating the notification image data D4 with different values depending on “good determination ratio” etc.) has been described as an example. However, the “conductor path image” of any color other than black has been described. The “notification image data” can be generated by changing the “brightness” according to the “predetermined value”. Also, instead of the process of changing the “brightness”, the “hue” or “saturation” of the color of the “conductor path image” is changed according to the “predetermined value” and the “notification image data” is changed. It can also be generated.

さらに、1つの導体パターンLや、1つのビアVを1つの「導体路」として測定して測定結果を報知する例について説明したが、連続する複数の導体パターンLを1つの「導体路」としたり、連続する1つまたは複数の導体パターンLとビアVとを1つの「導体路」としたりして、これを測定して測定結果を報知する構成、方法を採用することもできる。また、「導体路」としての導体パターンLについての測定結果だけを報知したり、「導体路」としてのビアVについての測定結果だけを報知したりする構成および方法を採用することもできる。   Further, the example in which one conductor pattern L or one via V is measured as one “conductor path” and the measurement result is notified has been described, but a plurality of continuous conductor patterns L are defined as one “conductor path”. Alternatively, it is possible to adopt a configuration and a method in which one or more continuous conductor patterns L and vias V are used as one “conductor path”, and this is measured to notify the measurement result. Further, it is possible to adopt a configuration and method for notifying only the measurement result of the conductor pattern L as the “conductor path” or notifying only the measurement result of the via V as the “conductor path”.

加えて、測定用治具11およびスキャナ12を介して被検査基板Xについての測定処理を実行する測定装置1を例に挙げて説明したが、「測定システム」における「測定装置」の構成はこれに限定されず、プローブ移動機構によって各測定用プローブを別個独立して移動させて任意のプロービングポイントにプロービングさせて「被検査基板」についての測定処理を実行可能な「測定装置」を備えて構成することもできる。   In addition, the measurement apparatus 1 that executes the measurement process for the inspected substrate X via the measurement jig 11 and the scanner 12 has been described as an example, but the configuration of the “measurement apparatus” in the “measurement system” is as follows. It is not limited to the above, and it is configured with a “measuring device” capable of performing measurement processing on the “substrate to be inspected” by independently moving each measurement probe by the probe moving mechanism and probing it at an arbitrary probing point. You can also

100 基板検査システム
1 測定装置
2 データ処理装置
11 測定用治具
13 測定部
15,25 処理部
22 表示部
23 印刷部
D0 基準値データ
D1 測定値データ
D2 基板画像データ
D3 カラーバー画像データ
D4 報知用画像データ
G1,G1a,G2,G2a 被検査基板像
G3 カラーバー
G4 報知用画像
Gl1,Gl2・・ パターン像
Gv ビア像
L1,L2・・ 導体パターン
V1,V2・・ ビア
X 被検査基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Board | substrate inspection system 1 Measuring apparatus 2 Data processing apparatus 11 Jig for measurement 13 Measuring part 15, 25 Processing part 22 Display part 23 Printing part D0 Reference value data D1 Measurement value data D2 Board image data D3 Color bar image data D4 For notification Image data G1, G1a, G2, G2a Substrate image to be inspected G3 Color bar G4 Image for notification G11, G12, Pattern image Gv Via image L1, L2, Conductor pattern V1, V2, ... Via X Inspected substrate

Claims (5)

複数の導体路が設けられた同種の複数枚の被検査基板を対象とする測定処理によって測定された当該各被検査基板毎の当該各導体路についての測定値に基づき、N枚(Nは、2以上の自然数)の前記被検査基板における前記各導体路の不良の程度を当該各導体路毎にそれぞれ特定可能に測定結果を視覚的に報知する処理部を備えた測定結果報知装置であって、
前記処理部は、前記N枚の被検査基板についての前記各測定値に基づき、前記不良の程度を特定可能な予め規定された値を前記各導体路毎にそれぞれ演算すると共に、前記各被検査基板における前記各導体路の位置に応じて当該各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像の基板画像データを使用して当該被検査基板像における当該各導体路像の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを前記予め規定された値に対応させて変更することで報知用画像データを生成し、生成した当該報知用画像データに基づいて前記各導体路毎の前記予め規定された値の大きさを報知する測定結果報知装置。
Based on the measured values for the respective conductor paths for each of the inspected substrates measured by the measurement process for the same type of inspected substrates provided with the plurality of conductor paths, N sheets (N is A measurement result notification device including a processing unit that visually notifies a measurement result so that the degree of failure of each of the conductor paths in the inspected substrate of 2 or more natural numbers can be specified for each of the conductor paths; ,
The processing unit calculates a predetermined value that can specify the degree of the defect for each of the conductor paths based on the measured values of the N substrates to be inspected. Using the substrate image data of the board image to be inspected in which a plurality of conductor path images representing the respective conductor paths are arranged according to the positions of the respective conductor paths on the substrate, the respective conductor path images in the board image to be inspected are used. Notification image data is generated by changing a predetermined one of hue, lightness, and saturation corresponding to the predetermined value, and each of the above-described notification image data is generated based on the generated notification image data. A measurement result notification device that notifies the magnitude of the predetermined value for each conductor path.
前記処理部は、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の分散値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の標準偏差値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の変動係数、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の誤差率、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の標準得点、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の前記測定値の平均値、前記N枚の被検査基板における前記導体路毎の工程能力指数、および前記N枚の被検査基板のうちの予め規定された条件を満たす前記測定値が測定された当該被検査基板の比率のいずれかを前記予め規定された値として演算して前記報知用画像データを生成する請求項1記載の測定結果報知装置。   The processing unit includes a variance value of the measurement values for each of the conductor paths in the N test substrates, a standard deviation value of the measurement values for the conductor paths in the N test substrates, The coefficient of variation of the measured value for each conductor path in the board to be inspected, the error rate of the measured value for each conductor path in the N boards to be inspected, and the conductor path for each conductor path in the N boards to be inspected Standard score of measured values, average value of the measured values for each conductor path in the N test substrates, process capability index for each conductor path in the N test substrates, and N test targets 2. The notification image data is generated by calculating, as the predetermined value, any of the ratios of the inspected substrates in which the measurement values satisfying a predetermined condition among the substrates are measured. Measurement result notification device. 前記処理部は、前記予め規定された値の大きさを特定可能なカラーバーを前記被検査基板像と並べて描画して前記報知用画像データを生成する請求項1または2記載の測定結果報知装置。   3. The measurement result notification device according to claim 1, wherein the processing unit generates the notification image data by drawing a color bar capable of specifying the size of the predetermined value side by side with the substrate image to be inspected. . 請求項1から3のいずれかに記載の測定結果報知装置と、前記各被検査基板における前記各導体路についての測定処理を実行して前記各測定値を取得する測定装置とを備えて構成された測定システム。   A measurement result notification device according to any one of claims 1 to 3, and a measurement device that performs measurement processing on each conductor path in each substrate to be inspected and acquires each measurement value. Measuring system. 複数の導体路が設けられた同種の複数枚の被検査基板を対象とする測定処理によって測定された当該各被検査基板毎の当該各導体路についての測定値に基づき、N枚(Nは、2以上の自然数)の前記被検査基板における前記各導体路の不良の程度を当該各導体路毎にそれぞれ特定可能に測定結果を視覚的に報知する測定結果報知方法であって、
前記N枚の被検査基板についての前記各測定値に基づき、前記不良の程度を特定可能な予め規定された値を前記各導体路毎にそれぞれ演算すると共に、前記各被検査基板における前記各導体路の位置に応じて当該各導体路を示す複数の導体路像が配置された被検査基板像の基板画像データを使用して当該被検査基板像における当該各導体路像の色相、明度および彩度のうちの予め規定された1つを前記予め規定された値に対応させて変更することで報知用画像データを生成し、生成した当該報知用画像データに基づいて前記各導体路毎の前記予め規定された値の大きさを報知する測定結果報知方法。
Based on the measured values for the respective conductor paths for each of the inspected substrates measured by the measurement process for the same type of inspected substrates provided with the plurality of conductor paths, N sheets (N is A measurement result notification method for visually informing a measurement result in such a manner that the degree of failure of each conductor path in the inspected substrate of 2 or more natural numbers can be specified for each conductor path,
Based on the measured values for the N substrates to be inspected, a predetermined value capable of specifying the degree of the defect is calculated for each conductor path, and each conductor in each of the substrates to be inspected is calculated. Using the substrate image data of the inspected board image in which a plurality of conductor path images representing the respective conductor paths are arranged according to the position of the path, the hue, brightness, and color of each of the conductor path images in the inspected board image The notification image data is generated by changing a predetermined one of the degrees corresponding to the predetermined value, and based on the generated notification image data, for each conductor path A measurement result notifying method for notifying the size of a predefined value.
JP2016156328A 2016-08-09 2016-08-09 Measurement result notification device, measurement system, and measurement result notification method Active JP6727981B2 (en)

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