JP2018018179A - Conductive sheet for touch sensors, method for producing conductive sheet for touch sensors, touch sensor, touch panel laminate, touch panel, and composition for forming transparent insulating layers - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、タッチセンサー用導電シート、タッチセンサー用導電シートの製造方法、タッチセンサー、タッチパネル積層体、タッチパネル、及び、透明絶縁層形成用組成物に関する。 The present invention relates to a conductive sheet for a touch sensor, a method for producing a conductive sheet for a touch sensor, a touch sensor, a touch panel laminate, a touch panel, and a composition for forming a transparent insulating layer.
近年、携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触することにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルの普及が進んでいる。 In recent years, in various electronic devices such as portable information devices, touch panels that are used in combination with a display device such as a liquid crystal display device and perform an input operation to the electronic device by touching a screen have been widely used.
一般に、タッチパネルは、各部材(ガラス基板、タッチセンサー用導電シート、表示装置等)をOCA(Optical Clear Adhisive)フィルム等の粘着フィルムを介して貼り合わせることで製造されている。
タッチセンサー用導電シートは、通常、基材上に、検出電極(センサー電極)又は引き出し配線(周辺電極)となるパターン状の金属細線からなる導電部を有する。
昨今、ハンドリング性を向上させる目的で、或いは、検出電極又は引き出し配線となる導電部の耐擦傷性又は耐溶剤性を向上させる目的で、タッチセンサー用導電シートの導電部の表面に保護膜として透明絶縁層を形成する場合がある。この透明絶縁層は、製造工程時にタッチセンサー用導電シートの表面を一時的に保護するための剥離可能な保護フィルム(剥離フィルム)とは異なり、導電部の表面から剥離されない。つまり、例えば、導電部の表面を透明絶縁層で保護したタッチセンサー用導電シートを用いて静電容量式タッチパネルを作製する場合、この透明絶縁層上に粘着層を介してガラス基板が配置される。
例えば、特許文献1では「検知領域及び上記検知領域のエッジに位置する枠領域を含む本体と、上記本体の一側から延びるように形成され且つ上記本体の幅より小さい幅を有するフレキシブル基板とを含む透明ベースと、上記透明ベースに設けられる導通用配線と、互いに交差する第一導電ワイヤを含み且つ上記検知領域の一側に設けられる格子状の第一導電層と、互いに交差する第二導電ワイヤを含み且つ上記検知領域の上記第一導電層に対向する一側に設けられる格子状の第二導電層と、上記枠領域の一側に設けられ、上記第一導電層と上記導通用配線とを電気的に接続する第一リード線電極と、上記枠領域の他側に設けられ、上記第二導電層と上記導通用配線とを電気的に接続する第二リード線電極と、を含むことを特徴とする透明導電膜。」が開示されている。特許文献1は、段落[0056]に、タッチパネル作製時に検出電極となる第一導電層20及び第二導電層30、引き出し配線となる第一リード線電極40及び第二リード線電極50等を少なくとも部分的に被覆する透明保護層を設置してよい旨が記載されている。また、透明保護層の材料として紫外線硬化型接着剤(UV(ultra violet)接着剤)等が挙げられている。
Generally, a touch panel is manufactured by bonding each member (a glass substrate, a conductive sheet for a touch sensor, a display device, and the like) via an adhesive film such as an OCA (Optical Clear Additive) film.
The conductive sheet for a touch sensor usually has a conductive part made of a patterned thin metal wire serving as a detection electrode (sensor electrode) or a lead-out wiring (peripheral electrode) on a base material.
In recent years, for the purpose of improving the handling property, or for the purpose of improving the scratch resistance or solvent resistance of the conductive part serving as the detection electrode or lead-out wiring, it is transparent as a protective film on the surface of the conductive part of the conductive sheet for the touch sensor. An insulating layer may be formed. This transparent insulating layer is not peeled off from the surface of the conductive portion, unlike a peelable protective film (peeling film) for temporarily protecting the surface of the touch sensor conductive sheet during the manufacturing process. That is, for example, when a capacitive touch panel is manufactured using a conductive sheet for a touch sensor in which the surface of the conductive portion is protected with a transparent insulating layer, a glass substrate is disposed on the transparent insulating layer via an adhesive layer. .
For example, in Patent Document 1, “a main body including a detection region and a frame region located at an edge of the detection region, and a flexible substrate formed so as to extend from one side of the main body and having a width smaller than the width of the main body. Including a transparent base, a conductive wiring provided on the transparent base, a grid-like first conductive layer including a first conductive wire intersecting each other and provided on one side of the detection region, and a second conductive intersecting each other A grid-like second conductive layer including a wire and provided on one side of the detection region facing the first conductive layer, and provided on one side of the frame region, the first conductive layer and the conduction wiring A first lead wire electrode that electrically connects the second conductive layer and a second lead wire electrode that is provided on the other side of the frame region and electrically connects the second conductive layer and the conductive wiring. Transparent guidance characterized by Film. "Is disclosed. In Patent Document 1, the paragraph [0056] includes at least a first conductive layer 20 and a second conductive layer 30 that serve as detection electrodes when a touch panel is manufactured, a first lead wire electrode 40 and a second lead wire electrode 50 that serve as lead wires, and the like. It describes that a transparent protective layer that partially covers may be provided. Further, as a material for the transparent protective layer, an ultraviolet curable adhesive (UV (ultra violet) adhesive) or the like is cited.
本発明者らは、特許文献1に記載されるような紫外線硬化型接着剤を用い、透明保護層(透明絶縁層)を配置したタッチセンサー用導電シートを作製して検討していたところ、特に、導電部が金属細線からなるメッシュパターンで構成されている場合に、透明絶縁層の表面のレベリング性(言い換えると、「平滑性に優れる」且つ「膜中にスポット的な非成膜領域なく、膜が全面に渡っている(はじき性に優れる)」)が不十分となったり、透明絶縁層がメッシュパターン上の所定位置に形成できない場合があることを知見するに至った。 The inventors of the present invention have been studying by producing a conductive sheet for a touch sensor in which a transparent protective layer (transparent insulating layer) is disposed using an ultraviolet curable adhesive as described in Patent Document 1, and in particular, In the case where the conductive part is composed of a mesh pattern made of fine metal wires, the leveling property of the surface of the transparent insulating layer (in other words, “excellent smoothness” and “no spot non-deposition region in the film, It has been found that there is a case where the film covers the entire surface (excelling in repelling property) ”) or the transparent insulating layer cannot be formed at a predetermined position on the mesh pattern.
透明絶縁層形成用組成物を付与する際、導電部はパターン形状を有することから、透明絶縁層形成用組成物は、基材の導電部側の表面(導電部が形成されていない領域)及び導電部を覆うように配される。つまり、例えば、導電部が金属細線からなるメッシュパターンで構成されている場合、金属細線からなるメッシュパターンが形成された領域は、基材に対して立体部(凸部)となっており、塗膜は、このメッシュパターンを構成する金属細線上と、メッシュパターンの形成されていない基材表面に接するように形成される。本発明者らの検討の結果、この構造及び金属細線と基材との表面自由エネルギー差に起因して、塗膜表面に凹凸ができたり、はじきにより塗膜中にスポット的に成膜されない非成膜領域が生じたり、或いは、塗膜が収縮してメッシュパターンの所定位置に膜が形成されない問題が生じることを確認した。特に、金属細線からなるメッシュパターンの厚みが大きい場合、より性能が落ちることを明らかとした。
このような塗膜を露光により硬化して得られる透明絶縁層は、結果として表面のレベリング性に劣り、また、メッシュパターン上の所定位置に膜が形成されないという欠点を有する。
一方で、本発明者らは、透明絶縁層のレベリング性を解消すべく表面改質剤を使用して検討を行ったところ、レベリング性は向上するものの、形成される透明絶縁層は、タッチパネル等の作製の際に用いられる粘着シートとの密着性が低下する問題が生じることを知見した。
When applying the transparent insulating layer forming composition, since the conductive portion has a pattern shape, the transparent insulating layer forming composition has a surface on the conductive portion side of the substrate (region where the conductive portion is not formed) and It arrange | positions so that a conductive part may be covered. That is, for example, when the conductive portion is configured with a mesh pattern made of fine metal wires, the area where the mesh pattern made of fine metal wires is formed is a three-dimensional portion (convex portion) with respect to the substrate, and A film | membrane is formed so that it may contact | connect the metal substrate which comprises this mesh pattern, and the base-material surface in which the mesh pattern is not formed. As a result of the study by the present inventors, the surface of the coating film is uneven due to this structure and the difference in surface free energy between the fine metal wire and the base material, or the film is not spot-formed in the coating film due to the repelling. It was confirmed that there was a problem that a film formation region occurred or the coating film contracted and a film was not formed at a predetermined position of the mesh pattern. In particular, it has been clarified that the performance decreases when the thickness of the mesh pattern made of fine metal wires is large.
As a result, the transparent insulating layer obtained by curing such a coating film by exposure is inferior in surface leveling property and has a drawback that a film is not formed at a predetermined position on the mesh pattern.
On the other hand, the present inventors have studied using a surface modifier to eliminate the leveling property of the transparent insulating layer, and although the leveling property is improved, the formed transparent insulating layer is a touch panel or the like. It has been found that there arises a problem that the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive sheet used in the production of is reduced.
そこで、本発明は、タッチパネル等の作製時に用いられる粘着シートとの密着性に優れつつ、レベリング性にも優れた透明絶縁層を所定位置に有するタッチセンサー用導電シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記タッチセンサー用導電シートを含む、タッチセンサー、タッチパネル積層体及びタッチパネルを提供することを目的とする。
また、本発明は、タッチパネル等の作製時に用いられる粘着シートとの密着性に優れつつ、レベリング性にも優れた透明絶縁層を所定位置に有するタッチセンサー用導電シートを与え得る、透明絶縁層形成用組成物を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention provides a conductive sheet for a touch sensor having a transparent insulating layer in a predetermined position, which is excellent in adhesiveness with an adhesive sheet used at the time of producing a touch panel or the like, and excellent in leveling properties, and a method for manufacturing the same. With the goal.
Moreover, this invention aims at providing the touch sensor, touch-panel laminated body, and touch panel containing the said electrically conductive sheet for touch sensors.
In addition, the present invention provides a transparent insulating layer formation that can provide a conductive sheet for a touch sensor having a transparent insulating layer in a predetermined position, which has excellent leveling properties while being excellent in adhesiveness with an adhesive sheet used when producing a touch panel or the like It is an object to provide a composition for use.
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、透明絶縁層を形成するための透明絶縁層形成用組成物が、特定構造を有する化合物を含有することで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
As a result of intensive studies to achieve the above problems, the present inventors have found that the composition for forming a transparent insulating layer for forming a transparent insulating layer can solve the above problems by containing a compound having a specific structure. The headline and the present invention were completed.
That is, it has been found that the above object can be achieved by the following configuration.
(1) 基材と、
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層が、化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いて形成された層であり、
前記化合物Aが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、且つ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、タッチセンサー用導電シート。
(2) 前記透明絶縁層形成用組成物が、さらに、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する重合性化合物と、重合開始剤とを含む、(1)に記載のタッチセンサー用導電シート。
(3) 前記透明絶縁層形成用組成物の表面張力が、25℃において、35mN/m以下である、(1)または(2)に記載のタッチセンサー用導電シート。
(4) 基材と、
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層が、化合物Bを含み、
前記化合物Bが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、且つ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、タッチセンサー用導電シート。
(5) 基材と、
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層の表面において、シロキサン末端構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位と、エチレンオキサイド構造単位と、プロピレンオキサイド構造単位を含み、前記シロキサン末端構造単位に対する前記ジメチルシロキサン構造単位のモル比率が2以上であり、且つ、前記エチレンオキサイド構造単位に対する前記プロピレンオキサイド構造単位のモル比率が0.1以上である、タッチセンサー用導電シート。
(6) 前記透明絶縁層の表面エネルギーが、25℃において、30mN/m以下である、(1)〜(5)のいずれか1項に記載のタッチセンサー用導電シート。
(7) 前記導電部が、前記基材の両面にそれぞれ配置され且つ銀細線からなるメッシュパターンを有する、(1)〜(6)ののいずれか1項に記載のタッチセンサー用導電シート。
(8) (1)〜(7)のいずれか1項に記載のタッチセンサー用導電シートの製造方法であって、
前記基材及び前記導電部上に、スクリーン印刷法により透明絶縁層を形成する透明絶縁層形成工程を有する、タッチセンサー用導電シートの製造方法。
(9) (1)〜(7)のいずれか1項に記載のタッチセンサー用導電シートを含む、タッチセンサー。
(10) (1)〜(6)ののいずれか1項に記載のタッチセンサー用導電シートと、粘着シートと、剥離シートとをこの順に備える、タッチパネル積層体。
(11) (9)に記載のタッチセンサーを含む、タッチパネル。
(12) タッチセンサー用導電シートの製造に用いられ、金属細線からなるパターン状の導電部の表面に塗布される透明絶縁層形成用組成物であって、
前記透明絶縁層形成用組成物が、化合物Aを含み
前記化合物Aが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、さらに、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、且つ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、タッチセンサー用導電シート。
(13) 前記透明絶縁層形成用組成物の表面張力が、25℃において、35mN/m以下である、(12)に記載の透明絶縁層形成用組成物。
(1) a base material;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The transparent insulating layer is a layer formed using a composition for forming a transparent insulating layer containing compound A,
Compound A has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is not less than mol%, and the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The conductive sheet for touch sensors which is 20 mol% or more with respect to the total of the respective molar amounts.
(2) The conductive sheet for a touch sensor according to (1), wherein the transparent insulating layer forming composition further includes a polymerizable compound having an acryloyl group or a methacryloyl group and a polymerization initiator.
(3) The conductive sheet for a touch sensor according to (1) or (2), wherein a surface tension of the composition for forming a transparent insulating layer is 35 mN / m or less at 25 ° C.
(4) a base material;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The transparent insulating layer contains a compound B;
Compound B has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is not less than mol%, and the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The conductive sheet for touch sensors which is 20 mol% or more with respect to the total of the respective molar amounts.
(5) a base material;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The surface of the transparent insulating layer includes a siloxane terminal structural unit, a dimethylsiloxane structural unit, an ethylene oxide structural unit, and a propylene oxide structural unit, and the molar ratio of the dimethylsiloxane structural unit to the siloxane terminal structural unit is 2 or more. The conductive sheet for a touch sensor, wherein the molar ratio of the propylene oxide structural unit to the ethylene oxide structural unit is 0.1 or more.
(6) The conductive sheet for a touch sensor according to any one of (1) to (5), wherein the surface energy of the transparent insulating layer is 30 mN / m or less at 25 ° C.
(7) The conductive sheet for a touch sensor according to any one of (1) to (6), wherein the conductive portions are arranged on both surfaces of the base material and have a mesh pattern made of silver thin wires.
(8) A method for producing a conductive sheet for a touch sensor according to any one of (1) to (7),
The manufacturing method of the conductive sheet for touch sensors which has the transparent insulating layer formation process which forms a transparent insulating layer by the screen printing method on the said base material and the said electroconductive part.
(9) A touch sensor including the touch sensor conductive sheet according to any one of (1) to (7).
(10) A touch panel laminate comprising the conductive sheet for a touch sensor according to any one of (1) to (6), an adhesive sheet, and a release sheet in this order.
(11) A touch panel including the touch sensor according to (9).
(12) A composition for forming a transparent insulating layer, which is used in the production of a conductive sheet for a touch sensor and is applied to the surface of a patterned conductive portion made of a fine metal wire,
The composition for forming a transparent insulating layer contains a compound A, the compound A has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit, Furthermore, it has an acryloyl group or a methacryloyl group,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is not less than mol%, and the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The conductive sheet for touch sensors which is 20 mol% or more with respect to the total of the respective molar amounts.
(13) The composition for forming a transparent insulating layer according to (12), wherein the surface tension of the composition for forming a transparent insulating layer is 35 mN / m or less at 25 ° C.
本発明によれば、タッチパネル等の作製時に用いられる粘着シートとの密着性に優れつつ、レベリング性にも優れた透明絶縁層を所定位置に有するタッチセンサー用導電シート及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、上記タッチセンサー用導電シートを含む、タッチセンサー、タッチパネル積層体及びタッチパネルを提供することができる。
また、本発明によれば、タッチパネル等の作製時に用いられる粘着シートとの密着性に優れつつ、レベリング性にも優れた透明絶縁層を所定位置に有するタッチセンサー用導電シートを与え得る、透明絶縁層形成用組成物を提供することができる。
According to the present invention, there is provided a conductive sheet for a touch sensor having a transparent insulating layer in a predetermined position, which is excellent in adhesion with an adhesive sheet used at the time of producing a touch panel and the like, and in a predetermined position, and a method for producing the same Can do.
Moreover, according to this invention, the touch sensor, touch-panel laminated body, and touch panel containing the said conductive sheet for touch sensors can be provided.
Further, according to the present invention, a transparent insulation that can provide a conductive sheet for a touch sensor having a transparent insulating layer in a predetermined position while having excellent adhesion with an adhesive sheet used at the time of producing a touch panel or the like and also having excellent leveling properties. A layer forming composition can be provided.
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
本明細書における基(原子群)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
また、本明細書において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光等による露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表す。また、「(メタ)アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
In the description of the group (atom group) in this specification, the description that does not indicate substitution and non-substitution includes those that do not have a substituent and those that have a substituent, as long as the effects of the present invention are not impaired. To do. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group). This is synonymous also about each compound.
Moreover, in this specification, light means an actinic ray or radiation. Unless otherwise specified, “exposure” in the present specification is not only exposure with far ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also drawing with particle beams such as electron beams and ion beams. Are also included in the exposure.
In the present specification, “(meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate, and “(meth) acryl” represents both and / or acryl and methacryl. “(Meth) acryloyl” represents both or one of acryloyl and methacryloyl.
〔タッチセンサー用導電シート〕
本発明のタッチセンサー用導電シートは、
基材と、
上記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
上記基材の導電部側の表面及び導電部を覆うように配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
上記透明絶縁層が、後述する化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いて形成された層である。
[Conductive sheet for touch sensor]
The conductive sheet for a touch sensor of the present invention is
A substrate;
A pattern-shaped conductive portion made of fine metal wires disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor, comprising a transparent insulating layer disposed so as to cover the surface of the conductive part side of the substrate and the conductive part,
The said transparent insulating layer is a layer formed using the composition for transparent insulating layer formation containing the compound A mentioned later.
本発明のタッチセンサー用導電シートは、上記の構成とすることで、タッチパネル等の作製時に用いられる粘着シートとの密着性に優れつつ、レベリング性にも優れた透明絶縁層を所定位置に有する。 The conductive sheet for a touch sensor according to the present invention has a transparent insulating layer in a predetermined position while having excellent adhesion with an adhesive sheet used at the time of producing a touch panel or the like and having excellent leveling properties by adopting the above configuration.
本発明のタッチセンサー用導電シートの特徴点は、透明絶縁層を、化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いて形成した点にある。
化合物Aは、表面張力の低いジメチルシロキサン構造単位を、所定の構造単位の合計量に対して20モル%以上有し、さらに、親水性であるポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、疎水性であるポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位とを有し、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上有する。このような化合物Aを用いることにより、透明絶縁層形成用組成物は、導電部が金属細線からなるメッシュパターンで構成されている場合においても、基材と基材に対して凸部となるメッシュパターンの双方に対して良好に塗れ広がる。この結果、形成される塗膜ははじき性に優れるほか、塗膜の収縮が抑制されることによりメッシュパターンの所定位置に透明絶縁層を形成することができる。また、表面張力の低いジメチルシロキサン構造単位が20モル%以上含まれるため、得られる塗膜は平滑性にも優れたものとなると推測される。また、疎水性であるポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位を一定量以上含むため、塗料に対し良好な相溶性を得やすいと推測される。
また、上記塗膜を硬化してなる透明絶縁層(後述する化合物Bを含む層)は、レベリング性に優れ、メッシュパターンの所定位置に配置することができる。また、タッチパネル等の作製の際に用いられる粘着シートとの密着性も良好であることを確認している。
The characteristic point of the conductive sheet for touch sensors of this invention exists in the point which formed the transparent insulating layer using the composition for transparent insulating layer formation containing the compound A. FIG.
Compound A has a dimethylsiloxane structural unit having a low surface tension of 20 mol% or more based on the total amount of the predetermined structural units, and further has a hydrophilic polyoxyethylene chain and a hydrophobic structure. A siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, wherein the content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, and the siloxane having the polyoxypropylene chain It has 20 mol% or more with respect to the sum total of each molar amount of a structural unit and the said dimethylsiloxane structural unit. By using such a compound A, the composition for forming a transparent insulating layer is a mesh that becomes a convex part with respect to the base material and the base material even when the conductive part is composed of a mesh pattern made of fine metal wires. It spreads well on both sides of the pattern. As a result, the formed coating film is excellent in repellency, and a transparent insulating layer can be formed at a predetermined position of the mesh pattern by suppressing the shrinkage of the coating film. Moreover, since 20 mol% or more of dimethylsiloxane structural units with low surface tension are contained, it is estimated that the obtained coating film is excellent in smoothness. Moreover, since it contains a certain amount or more of siloxane structural units having a polyoxypropylene chain that is hydrophobic, it is presumed that good compatibility with the paint is easily obtained.
Moreover, the transparent insulation layer (layer containing the compound B mentioned later) formed by hardening | curing the said coating film is excellent in leveling property, and can be arrange | positioned in the predetermined position of a mesh pattern. Moreover, it has confirmed that adhesiveness with the adhesive sheet used in the case of preparation of a touch panel etc. is also favorable.
また、今般、本発明者らは、形成された透明絶縁膜(言い換えると、塗膜を露光により硬化して形成された透明絶縁膜)の表面状態を評価することにより、レベリング性に優れた絶縁膜を選定することが出来ることを見出した。すなわち、上記透明絶縁層の表面において、シロキサン末端構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位と、エチレンオキサイド構造単位と、プロピレンオキサイド構造単位を含み、シロキサン末端構造単位に対するジメチルシロキサン構造単位のモル比率が2以上であり、且つ、ポチレンオキサイド構造単位に対するプロピレンオキサイド構造単位のモル比率が0.1以上となる場合に、上記透明絶縁層のレベリング性に優れることを見出した。上記構成の透明絶縁層は、表面の自由エネルギーが均一に効果的に減少されるシロキサン構造が配置された構造であり、且つ、相溶性に優れた状態となっていると考えられ、この結果、均一なレベリング性が実現できていると推定される。
表面の各構造単位の量は、透明絶縁層表面のTOF−SIMS(Time-of-Flight Secondary Mass Spectrometry)解析により好ましく同定することができる。
In addition, the present inventors have recently evaluated the surface state of a formed transparent insulating film (in other words, a transparent insulating film formed by curing a coating film by exposure) to provide an insulating material with excellent leveling properties. It has been found that a membrane can be selected. That is, the surface of the transparent insulating layer includes a siloxane terminal structural unit, a dimethylsiloxane structural unit, an ethylene oxide structural unit, and a propylene oxide structural unit, and the molar ratio of the dimethylsiloxane structural unit to the siloxane terminal structural unit is 2 or more. In addition, when the molar ratio of the propylene oxide structural unit to the potylene oxide structural unit is 0.1 or more, it has been found that the leveling property of the transparent insulating layer is excellent. The transparent insulating layer having the above structure is a structure in which a siloxane structure in which the free energy on the surface is uniformly and effectively reduced is disposed, and is considered to have excellent compatibility. It is estimated that uniform leveling can be realized.
The amount of each structural unit on the surface can be preferably identified by TOF-SIMS (Time-of-Flight Secondary Mass Spectrometry) analysis on the surface of the transparent insulating layer.
以下、本発明のタッチセンサー用導電シートの好適態様について図面を参照して説明する。
図1に、本発明のタッチセンサー用導電シート10の第1実施態様の一部断面図を示す。また、図2は、タッチセンサー用導電シート10の第1実施態様の一部平面図を示す。なお、図1は、図2中の切断線A−Aに沿って切断した断面図である。タッチセンサー用導電シート10は、基材12と、基材12上に配置された、複数の金属細線14からなる導電部16と、導電部16上に配置された(言い換えると、基材12の表面及び導電部16と接するように配置された)透明絶縁層18とを備える。なお、図2に示すように、導電部16は、金属細線14より構成されるメッシュパターンを有する。
Hereinafter, the suitable aspect of the electrically conductive sheet for touch sensors of this invention is demonstrated with reference to drawings.
In FIG. 1, the partial cross section figure of the 1st embodiment of the electrically conductive sheet 10 for touch sensors of this invention is shown. FIG. 2 is a partial plan view of the first embodiment of the touch sensor conductive sheet 10. 1 is a cross-sectional view taken along a cutting line AA in FIG. The conductive sheet 10 for a touch sensor is disposed on the base 12, the conductive portion 16 including a plurality of fine metal wires 14 disposed on the base 12, and in other words, on the conductive portion 16 (in other words, And a transparent insulating layer 18 disposed so as to be in contact with the surface and the conductive portion 16. As shown in FIG. 2, the conductive portion 16 has a mesh pattern composed of fine metal wires 14.
以下、タッチセンサー用導電シートを構成する各部材について詳述する。
<<基材>>
基材は、導電部を支持できればその種類は制限されず、透明基材であることが好ましく、プラスチックフィルムがより好ましい。
基材を構成する材料の具体例としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)(258℃)、ポリシクロオレフィン(134℃)、ポリカーボネート(250℃)、(メタ)アクリル樹脂(128℃)、PEN(ポリエチレンナフタレート)(269℃)、PE(ポリエチレン)(135℃)、PP(ポリプロピレン)(163℃)、ポリスチレン(230℃)、ポリ塩化ビニル(180℃)、ポリ塩化ビニリデン(212℃)、又は、TAC(トリアセチルセルロース)(290℃)等の融点が約290℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、(メタ)アクリル樹脂、PET、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネートがより好ましく、上層となる透明絶縁層との密着性の観点からは(メタ)アクリル樹脂がさらに好ましい。( )内の数値は融点である。基材の全光線透過率は、85%〜100%であることが好ましい。
基材の厚みは特に制限されないが、タッチパネルへの応用の点からは、通常、25〜500μmの範囲で任意に選択することができる。なお、基材の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、500μmを超えた厚みで設計することも可能である。
Hereinafter, each member which comprises the conductive sheet for touch sensors is explained in full detail.
<< Base material >>
If the base material can support the electroconductive part, the kind will not be restrict | limited, It is preferable that it is a transparent base material, and a plastic film is more preferable.
Specific examples of the material constituting the substrate include PET (polyethylene terephthalate) (258 ° C.), polycycloolefin (134 ° C.), polycarbonate (250 ° C.), (meth) acrylic resin (128 ° C.), PEN (polyethylene naphthalate). Phthalate) (269 ° C.), PE (polyethylene) (135 ° C.), PP (polypropylene) (163 ° C.), polystyrene (230 ° C.), polyvinyl chloride (180 ° C.), polyvinylidene chloride (212 ° C.), or TAC A plastic film having a melting point of about 290 ° C. or less such as (triacetylcellulose) (290 ° C.) is preferable, (meth) acrylic resin, PET, polycycloolefin, polycarbonate is more preferable, and adhesion with the transparent insulating layer as an upper layer From the viewpoint of properties, (meth) acrylic resins are more preferable. Figures in parentheses are melting points. The total light transmittance of the substrate is preferably 85% to 100%.
Although the thickness in particular of a base material is not restrict | limited, From the point of the application to a touchscreen, it can normally be arbitrarily selected in 25-500 micrometers. In addition, when it serves as the function of a touch surface in addition to the function of a base material, it can also be designed with a thickness exceeding 500 μm.
基材の他の好適態様としては、その表面上に高分子を含む下塗り層を有することが好ましい。この下塗り層上に導電部が形成されることにより、導電部の密着性がより向上する。
下塗り層の形成方法は特に制限されないが、例えば、高分子を含む下塗り層形成用組成物を基材上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下塗り層形成用組成物には、必要に応じて、溶剤が含まれていてもよい。溶剤の種類は特に制限されず、公知の溶剤が例示される。また、高分子を含む下塗り層形成用組成物として、高分子の微粒子を含むラテックスを使用してもよい。
下塗り層の厚みは特に制限されないが、導電部の密着性がより優れる点で、0.02〜0.3μmが好ましく、0.03〜0.2μmがより好ましい。
As another preferred embodiment of the substrate, it is preferable to have an undercoat layer containing a polymer on the surface thereof. By forming the conductive portion on the undercoat layer, the adhesion of the conductive portion is further improved.
The method for forming the undercoat layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a composition for forming an undercoat layer containing a polymer is applied on a substrate and subjected to heat treatment as necessary. The undercoat layer forming composition may contain a solvent, if necessary. The kind in particular of solvent is not restrict | limited, A well-known solvent is illustrated. Moreover, latex containing polymer fine particles may be used as the composition for forming an undercoat layer containing polymer.
The thickness of the undercoat layer is not particularly limited, but is preferably 0.02 to 0.3 μm, and more preferably 0.03 to 0.2 μm, from the viewpoint that the adhesion of the conductive portion is more excellent.
<<導電部>>
導電部16は、上記基材12上に配置され、複数の金属細線14からなるメッシュパターンを有する。導電部16は、主に、後述するように、タッチセンサーのセンサー部を構成することが好ましい。
図2に示すように、導電部16は、複数の金属細線14からなるメッシュパターンを有する。つまり、交差する金属細線14による複数の開口部(格子)36を含んでいる。
<< Conductive part >>
The conductive portion 16 is disposed on the substrate 12 and has a mesh pattern composed of a plurality of fine metal wires 14. It is preferable that the conductive part 16 mainly constitutes a sensor part of a touch sensor as will be described later.
As shown in FIG. 2, the conductive portion 16 has a mesh pattern composed of a plurality of fine metal wires 14. That is, it includes a plurality of openings (lattices) 36 formed by intersecting metal thin wires 14.
金属細線14の線幅Waは特に制限されないが、30μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、10μm以下がさらに好ましく、9μm以下が特に好ましく、7μm以下が最も好ましく、0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。上記範囲であれば、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる。
金属細線14の厚みは特に制限されないが、導電性と視認性との観点から、0.00001mm〜0.2mmから選択可能であるが、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、0.01〜9μmがさらに好ましく、0.05〜5μmが特に好ましい。
金属細線14の厚みが大きいほど、後述する透明絶縁層のレベリング性が低下する傾向がある。このため、金属細線14の厚みが0.0002mm以上、特に0.0004mm以上の場合に本発明の効果をより一層享受することができる。
The line width Wa of the fine metal wire 14 is not particularly limited, but is preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less, further preferably 10 μm or less, particularly preferably 9 μm or less, most preferably 7 μm or less, and preferably 0.5 μm or more. More preferably, it is 0.0 μm or more. If it is the said range, a low resistance electrode can be formed comparatively easily.
Although the thickness of the fine metal wire 14 is not particularly limited, it can be selected from 0.00001 mm to 0.2 mm from the viewpoint of conductivity and visibility, but is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and 0.01 to 9 μm is more preferable, and 0.05 to 5 μm is particularly preferable.
As the thickness of the fine metal wire 14 is larger, the leveling property of the transparent insulating layer described later tends to be lowered. For this reason, the effect of this invention can be enjoyed much more when the thickness of the metal fine wire 14 is 0.0002 mm or more, especially 0.0004 mm or more.
開口部36は、金属細線14で囲まれる開口領域である。開口部36の一辺の長さWbは、800μm以下が好ましく、600μm以下がより好ましく、400μm以下がさらに好ましく、5μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、80μm以上がさらに好ましい。金属細線14の配列ピッチは、上記Wbの数値範囲であることが好ましい。なお、本明細書において、金属細線の配列ピッチとは、上記Waと上記Wbとの合計長さ(金属細線の線幅と開口部の幅の合計の長さ)を意図する。
可視光透過率の点から、開口率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、95%以上であることがさらに好ましい。開口率とは、導電部16中において金属細線14を除いた透過性部分(開口部)が全体に占める割合に相当する。
The opening 36 is an opening region surrounded by the thin metal wire 14. The length Wb of one side of the opening 36 is preferably 800 μm or less, more preferably 600 μm or less, further preferably 400 μm or less, preferably 5 μm or more, more preferably 30 μm or more, and further preferably 80 μm or more. The arrangement pitch of the thin metal wires 14 is preferably in the numerical range of Wb. In the present specification, the arrangement pitch of the fine metal wires is intended to be the total length of the Wa and the Wb (the total length of the line width of the fine metal wires and the width of the opening).
From the viewpoint of visible light transmittance, the aperture ratio is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more. The aperture ratio corresponds to the ratio of the transmissive portion (opening) excluding the thin metal wires 14 in the conductive portion 16 to the whole.
図2において、開口部36は、略ひし形の形状を有している。但し、その他、多角形状(例えば、三角形、四角形、六角形、ランダムな多角形)としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば、対向する2辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する2辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
さらに、図2においては、メッシュ状のパターンについて説明したが、金属細線のパターン形状はこの態様に限定されない。
In FIG. 2, the opening 36 has a substantially rhombus shape. However, other polygonal shapes (for example, a triangle, a quadrangle, a hexagon, and a random polygon) may be used. Further, the shape of one side may be a curved shape or a circular arc shape in addition to a linear shape. In the case of the arc shape, for example, the two opposing sides may have an outwardly convex arc shape, and the other two opposing sides may have an inwardly convex arc shape. The shape of each side may be a wavy shape in which an outwardly convex arc and an inwardly convex arc are continuous. Of course, the shape of each side may be a sine curve.
Furthermore, in FIG. 2, although the mesh-shaped pattern was demonstrated, the pattern shape of a metal fine wire is not limited to this aspect.
金属細線14の材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)等の金属又は合金等が挙げられる。なかでも、金属細線14の導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。
金属細線14の中には、金属細線14と基材12との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、金属細線14と基材12との密着性がより優れる理由から、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体及びキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、又は、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
Examples of the material for the fine metal wires 14 include metals such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al), alloys, and the like. Especially, it is preferable that it is silver from the reason for which the electroconductivity of the metal fine wire 14 is excellent.
In the metal fine wire 14, it is preferable that the binder is contained from a viewpoint of the adhesiveness of the metal fine wire 14 and the base material 12. As shown in FIG.
As the binder, (meth) acrylic resin, styrene resin, vinyl resin, polyolefin resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin are used because the adhesion between the fine metal wire 14 and the substrate 12 is more excellent. At least one resin selected from the group consisting of resins, polycarbonate resins, polydiene resins, epoxy resins, silicone resins, cellulose polymers, and chitosan polymers, or monomers constituting these resins And the like.
金属細線14の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、後述する、ハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。この方法に関しては、後段で詳述する。 The manufacturing method in particular of the metal fine wire 14 is not restrict | limited, A well-known method is employable. For example, the method using silver halide mentioned later is mentioned. This method will be described in detail later.
<<透明絶縁層>>
透明絶縁層18は、導電部16上に配置されている。より具体的には、透明絶縁層18は、基材12の表面(導電部16がない領域)及び導電部16上にこれらを覆うように配置されている。つまり、導電部16はパターン形状を有するため、透明絶縁層18は、基材12の表面と導電部16を構成するパターン部位とに接することになる。
この透明絶縁層18は、タッチセンサー用導電シート10を例えば後述するような静電容量式タッチパネルに用いる場合、この透明絶縁層18に粘着シート(粘着層)を介してガラス基板等の他部材が配置される。
透明絶縁層18は、耐溶剤性、耐擦傷性、折り曲げ耐性を有していることが好ましい。 以下、透明絶縁層を構成する各成分について説明する。
透明絶縁層の構成は、下記に示す第1の実施形態又は第2の実施形態が挙げられる。
以下、透明絶縁層の第1実施形態について説明する。
<< Transparent insulating layer >>
The transparent insulating layer 18 is disposed on the conductive portion 16. More specifically, the transparent insulating layer 18 is disposed on the surface of the base material 12 (a region where the conductive portion 16 is not provided) and the conductive portion 16 so as to cover them. That is, since the conductive portion 16 has a pattern shape, the transparent insulating layer 18 comes into contact with the surface of the substrate 12 and the pattern portion constituting the conductive portion 16.
When the conductive sheet 10 for a touch sensor is used for, for example, a capacitive touch panel as will be described later, the transparent insulating layer 18 is provided with other members such as a glass substrate via an adhesive sheet (adhesive layer). Be placed.
The transparent insulating layer 18 preferably has solvent resistance, scratch resistance, and bending resistance. Hereinafter, each component which comprises a transparent insulating layer is demonstrated.
The configuration of the transparent insulating layer includes the first embodiment or the second embodiment described below.
Hereinafter, a first embodiment of the transparent insulating layer will be described.
・透明絶縁層の第1実施形態
第1実施形態に係る透明絶縁層は、化合物Bを含む。
化合物Bは、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有する。
ジメチルシロキサン構造単位の含有量は、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上である。上限は特に限定されないが60モル%以下であることが好ましく、45モル%以下であることがより好ましい。
-1st Embodiment of a transparent insulating layer The transparent insulating layer which concerns on 1st Embodiment contains the compound B. FIG.
Compound B has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit.
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 mol% or more based on the total amount of each of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. is there. Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 60 mol% or less, and it is more preferable that it is 45 mol% or less.
また、化合物B中において、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量は、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上であることが好ましく、25モル%以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが60モル%以下であることが好ましく、45モル%以下であることがより好ましい。 In the compound B, the content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is such that each mole of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The amount is preferably 20 mol% or more, more preferably 25 mol% or more, based on the total amount. Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 60 mol% or less, and it is more preferable that it is 45 mol% or less.
化合物B中において、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量は、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して5モル%以上であればよく、本発明の効果をより一層優れたものとする観点から10モル%以上であることが好ましく、30モル%以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが80モル%以下であることが好ましく、60モル%以下であることがより好ましい。 In compound B, the content of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain is the molar amount of each of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. It may be 5 mol% or more based on the total, and is preferably 10 mol% or more, and more preferably 30 mol% or more from the viewpoint of further improving the effects of the present invention. Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 80 mol% or less, and it is more preferable that it is 60 mol% or less.
化合物B中の含有量は、透明絶縁層の全質量に対して、0.001〜10質量%が好ましい。透明絶縁層中、化合物Bの含有量を0.01質量%以上とすることで、レベリング性により優れる。化合物Bの含有量は、透明絶縁層の全質量に対して、0.01〜5質量%がより好ましく、0.01〜2質量%がさらに好ましく、0.05〜1質量%が特に好ましい。 The content in compound B is preferably 0.001 to 10% by mass with respect to the total mass of the transparent insulating layer. By setting the content of Compound B to 0.01% by mass or more in the transparent insulating layer, the leveling property is more excellent. The content of Compound B is more preferably 0.01 to 5% by mass, further preferably 0.01 to 2% by mass, and particularly preferably 0.05 to 1% by mass with respect to the total mass of the transparent insulating layer.
透明絶縁層は、下層となる基材及び導電部との密着性により優れ、さらに耐候性に優れる観点から、架橋構造を有する(メタ)アクリル樹脂を含むことが好ましい。また、その表面エネルギーは、レベリング性を発現しうる膜とする観点から、25℃において、30mN/m以下であることが好ましく、28mN/m以下であることがより好ましい。密着力の観点から、表面エネルキ゛ーは低すぎ事が好ましく、10mN/m以上が好ましく、より好ましくは20mN/mである。
絶縁膜表面には、易接着性の保護フィルムや、光学粘着剤(OCA)が貼り合わせられる場合があるが、密着力が適切な値が得られる事が好ましく、易接着性の保護フィルムの場合は0.1N/25mm以上、光学粘着剤(OCA)など貼り合わせ形態で使用するケースは10N/25mm以上であることが好ましい。
The transparent insulating layer preferably contains a (meth) acrylic resin having a cross-linked structure from the viewpoint of excellent adhesion to the underlying substrate and the conductive part and further excellent weather resistance. Further, the surface energy is preferably 30 mN / m or less, more preferably 28 mN / m or less at 25 ° C., from the viewpoint of forming a film capable of expressing leveling properties. From the viewpoint of adhesion, the surface energy is preferably too low, preferably 10 mN / m or more, and more preferably 20 mN / m.
An easy-adhesive protective film or an optical adhesive (OCA) may be bonded to the surface of the insulating film, but it is preferable that an appropriate value is obtained for the adhesion, and in the case of an easy-adhesive protective film Is preferably 0.1 N / 25 mm or more, and the case of use in a bonded form such as an optical adhesive (OCA) is preferably 10 N / 25 mm or more.
透明絶縁層の厚みは特に制限されないが、厚みが大きいと折り曲げた際にクラックが生じやすくなる。クラックを抑制しつつ、導電部の密着性により優れ、膜強度により優れる観点から、1〜20μmが好ましく、5〜15μmがより好ましい。 The thickness of the transparent insulating layer is not particularly limited, but if the thickness is large, cracks are likely to occur when bent. 1-20 micrometers is preferable and 5-15 micrometers is more preferable from a viewpoint which is excellent by the adhesiveness of an electroconductive part, and excellent by film | membrane intensity | strength, suppressing a crack.
透明絶縁層は、押し込み硬度が0.01MPa〜200MPaであることが好ましく、140MPa以下であることがより好ましい。上記範囲とすることで、透明絶縁層が柔軟性を有し、タッチセンサー用導電シートを折り曲げて使用しても透明絶縁層にクラックが生じにくい。
透明絶縁層の押し込み硬度は、微小硬度試験機(ピコデンタ―)により測定することができる。
The insulative hardness of the transparent insulating layer is preferably 0.01 MPa to 200 MPa, and more preferably 140 MPa or less. By setting it as the said range, even if a transparent insulating layer has a softness | flexibility and bends and uses the electrically conductive sheet for touch sensors, it is hard to produce a crack in a transparent insulating layer.
The indentation hardness of the transparent insulating layer can be measured with a micro hardness tester (picodenter).
透明絶縁層は、50〜90℃における弾性率が1×106Pa以上であることが好ましい。基材が熱膨張すると、基材上に形成された基材よりも膨張率の低い金属細線も同様に延び、これにより金属細線にクラックが生じることがある。特に、タッチセンサー用導電シートを折り曲げた状態で使用する場合には金属細線の断線に至ることもある。50〜90℃における透明絶縁層の弾性率を1×106Pa以上とすることで、上記クラック又は断線を抑制することができる。なお、透明絶縁層の弾性率は、微小硬度試験機(ピコデンタ―)により測定することができる。 The transparent insulating layer preferably has an elastic modulus at 50 to 90 ° C. of 1 × 10 6 Pa or more. When the base material is thermally expanded, a fine metal wire having a lower expansion coefficient than that of the base material formed on the base material extends in the same manner, which may cause a crack in the fine metal wire. In particular, when the touch sensor conductive sheet is used in a folded state, the fine metal wire may be broken. The crack or disconnection can be suppressed by setting the elastic modulus of the transparent insulating layer at 50 to 90 ° C. to 1 × 10 6 Pa or more. The elastic modulus of the transparent insulating layer can be measured with a micro hardness tester (picodenter).
透明絶縁層を含めたタッチセンサー用導電シートの全光線透過率は、可視光領域(波長400〜700nm)に対し、85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。
なお、上記全光線透過率は、分光測色計CM−3600A(コニカミノルタ株式会社製)によって測定した値である。
なお、透明絶縁層自体の全光線透過率は、タッチセンサー用導電シートが上記全光線透過率を示すように調整されることが好ましく、少なくとも85%以上であることが好ましい。
The total light transmittance of the conductive sheet for a touch sensor including the transparent insulating layer is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more with respect to the visible light region (wavelength 400 to 700 nm).
The total light transmittance is a value measured with a spectrocolorimeter CM-3600A (manufactured by Konica Minolta, Inc.).
The total light transmittance of the transparent insulating layer itself is preferably adjusted so that the touch sensor conductive sheet exhibits the total light transmittance, and is preferably at least 85% or more.
基材、導電部、及び、透明絶縁層の線膨張率差に起因する導電率の低下を抑制するため、透明絶縁層の線膨張率と基材の線膨張率との差が小さいことが好ましく、差分が300ppm/℃以下であることが好ましく、150ppm/℃以下であることが更に好ましい。 Preferably, the difference between the linear expansion coefficient of the transparent insulating layer and the linear expansion coefficient of the substrate is small in order to suppress a decrease in the conductivity due to the difference in linear expansion coefficient of the base material, the conductive part, and the transparent insulating layer. The difference is preferably 300 ppm / ° C. or less, and more preferably 150 ppm / ° C. or less.
透明絶縁層は、導電部との密着性に優れることが好ましく、具体的には、3M社製「610」よるテープ密着力評価試験で剥離がないことがより好ましい。
また、透明絶縁層は、導電部だけでなく、基材(又は、下塗り層若しくはバインダー層)の導電部の形成されていない領域とも接するため、基材(又は、下塗り層若しくはバインダー層)との密着性に優れていることが好ましい。透明絶縁層の基材(又は、下塗り層若しくはバインダー層)への密着性が悪いと、透明絶縁層が導電部だけに密着するため、透明絶縁層の線膨張率>導電部の線膨張率である場合、導電部に力が加わり、導電部のパターン形状が変形する恐れがある。なお、バインダー層とは、基材上であって金属細線間に配置されるバインダーからなる層であり、ハロゲン化銀法により金属細線を製造する際に形成される場合が多い。
The transparent insulating layer is preferably excellent in adhesiveness with the conductive part, and more specifically, it is more preferable that there is no peeling in a tape adhesion evaluation test by “610” manufactured by 3M Company.
Moreover, since the transparent insulating layer is in contact with not only the conductive portion but also the region where the conductive portion of the base material (or undercoat layer or binder layer) is not formed, the transparent insulating layer is not in contact with the base material (or undercoat layer or binder layer). It is preferable that the adhesiveness is excellent. If the adhesion of the transparent insulating layer to the base material (or undercoat layer or binder layer) is poor, the transparent insulating layer adheres only to the conductive part. In some cases, force is applied to the conductive part, and the pattern shape of the conductive part may be deformed. In addition, a binder layer is a layer which consists of a binder arrange | positioned on a base material and between metal fine wires, and is often formed when manufacturing a metal fine wire by a silver halide method.
タッチセンサー用導電シートの表面反射を抑制する観点から、透明絶縁層の屈折率と、基材の屈折率との屈折率差が小さいほど好ましい。
また、導電部の金属細線にバインダー成分が含まれている場合には、透明絶縁層の屈折率と、上記バインダー成分の屈折率との屈折率差が小さいほど好ましく、透明絶縁層を形成する樹脂成分と、上記バインダー成分とが同じ材料であることがより好ましい。
なお、透明絶縁層を形成する樹脂成分と、上記バインダー成分とが同じ材料であるとは、バインダー成分及び透明絶縁層を形成する樹脂成分のいずれもが(メタ)アクリル系樹脂である場合が一例として挙げられる。
From the viewpoint of suppressing the surface reflection of the conductive sheet for the touch sensor, it is preferable that the refractive index difference between the refractive index of the transparent insulating layer and the refractive index of the substrate is small.
Moreover, when the binder component is contained in the thin metal wire of the conductive part, the smaller the refractive index difference between the refractive index of the transparent insulating layer and the refractive index of the binder component, the better, and the resin forming the transparent insulating layer More preferably, the component and the binder component are the same material.
Note that the resin component forming the transparent insulating layer and the binder component are the same material as an example when both the binder component and the resin component forming the transparent insulating layer are (meth) acrylic resins. As mentioned.
さらに、上述のとおりタッチセンサー用導電シートを例えばタッチパネルに適用する場合、タッチセンサー用導電シートの透明絶縁層に粘着シート(粘着層)を貼り合せることになる。透明絶縁層と粘着シートとの界面での光散乱を抑制するため、透明絶縁層の屈折率と粘着シートの屈折率との屈折率差は小さいほど好ましい。 Furthermore, when the touch sensor conductive sheet is applied to, for example, a touch panel as described above, an adhesive sheet (adhesive layer) is bonded to the transparent insulating layer of the touch sensor conductive sheet. In order to suppress light scattering at the interface between the transparent insulating layer and the pressure-sensitive adhesive sheet, the smaller the refractive index difference between the refractive index of the transparent insulating layer and the refractive index of the pressure-sensitive adhesive sheet, the better.
基材及び導電部上に上述の第1実施形態の透明絶縁層を形成する方法は特に制限されない。例えば、基材及び導電部上に後述する化合物A及び任意で添加される各種成分を含んだ透明絶縁層形成用組成物を塗布して透明絶縁層を形成する方法(塗布法)、又は、仮基板上に透明絶縁層を形成して、導電部表面に転写する方法(転写法)等が挙げられる。なかでも、厚みの制御がしやすい観点からは、塗布法が好ましい。
以下、第1実施形態の透明絶縁層を形成し得る透明絶縁層形成用組成物の各成分、及び、第1実施形態の透明絶縁層の形成方法について詳述する。
The method for forming the transparent insulating layer of the first embodiment described above on the substrate and the conductive part is not particularly limited. For example, a method (coating method) for forming a transparent insulating layer by applying a composition for forming a transparent insulating layer containing a compound A, which will be described later, and various components optionally added onto the base material and the conductive part, or a temporary Examples thereof include a method (transfer method) in which a transparent insulating layer is formed on a substrate and transferred to the surface of the conductive portion. Among these, the coating method is preferable from the viewpoint of easy control of the thickness.
Hereinafter, each component of the composition for transparent insulating layer formation which can form the transparent insulating layer of 1st Embodiment, and the formation method of the transparent insulating layer of 1st Embodiment are explained in full detail.
<透明絶縁層形成用組成物>
以下、第1実施形態の透明絶縁層を形成し得る透明絶縁層形成用組成物の各成分について詳述する。
(化合物A)
透明絶縁層形成用組成物は、化合物Aを含有する。
化合物Aは、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、さらに、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物ある。
化合物Aにおいて、ジメチルシロキサン構造単位の含有量は、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計(以下、「全シロキサン構造単位」ともいう。)に対して、20モル%以上である。上限は特に限定されないが60モル%以下であることが好ましく、45モル%以下であることがより好ましい。
<Composition for forming transparent insulating layer>
Hereinafter, each component of the composition for transparent insulating layer formation which can form the transparent insulating layer of 1st Embodiment is explained in full detail.
(Compound A)
The composition for forming a transparent insulating layer contains compound A.
Compound A is a compound having a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit, and further having an acryloyl group or a methacryloyl group.
In Compound A, the content of the dimethylsiloxane structural unit is the sum of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit (hereinafter referred to as “total”). It is also referred to as “siloxane structural unit”)). Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 60 mol% or less, and it is more preferable that it is 45 mol% or less.
化合物Aにおいて、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量は、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上であることが好ましく、25モル%以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが60モル%以下であることが好ましく、45モル%以下であることがより好ましい。 In compound A, the content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is the sum of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The amount is preferably 20 mol% or more, more preferably 25 mol% or more. Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 60 mol% or less, and it is more preferable that it is 45 mol% or less.
化合物Aにおいて、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量は、全シロキサン構造単位に対して5モル%以上であればよく、本発明の効果をより一層優れたものとする観点から10モル%以上であることが好ましく、30モル%以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが80モル%以下であることが好ましく、60モル%以下であることがより好ましい。 In compound A, the content of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain may be 5 mol% or more based on the total siloxane structural unit, and is 10 mol from the viewpoint of further improving the effects of the present invention. % Or more, more preferably 30 mol% or more. Although an upper limit is not specifically limited, It is preferable that it is 80 mol% or less, and it is more preferable that it is 60 mol% or less.
ポリオキシエチレン鎖の鎖長は特に限定されないが、オキシエチレン単位を1〜200個有することが好ましく、1〜100個有することがより好ましい。
また、ポリオキシプロピレン鎖の鎖長は特に限定されないが、オキシプロピレン単位を1〜200個有することが好ましく、1〜100個有することがより好ましい。
The chain length of the polyoxyethylene chain is not particularly limited, but preferably 1 to 200 oxyethylene units, more preferably 1 to 100.
The chain length of the polyoxypropylene chain is not particularly limited, but preferably 1 to 200 oxypropylene units, more preferably 1 to 100.
化合物Aにおいて、(メタ)アクリロイル基の位置は特に限定されないが、側鎖に導入されていることが好ましい。 In compound A, the position of the (meth) acryloyl group is not particularly limited, but it is preferably introduced into the side chain.
化合物Aとしては、なかでも下記式(1)〜式(3)で示されるシロキサン構造単位を有するものが好ましい。 As compound A, what has a siloxane structural unit shown by following formula (1)-formula (3) especially is preferable.
式(1)〜式(3) Formula (1)-Formula (3)
上記式(2)及び式(3)において、A1及びA2は、それぞれ独立に、単結合又は2価の有機基を表し、EOはオキシエチレン基を表し、mはオキシエチレン基の個数を表し、POはオキシプロピレン基を表し、nはオキシプロピレン基の個数を表し、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又は(メタ)アクリロイル基を表す。 In the above formulas (2) and (3), A 1 and A 2 each independently represent a single bond or a divalent organic group, EO represents an oxyethylene group, and m represents the number of oxyethylene groups. PO represents an oxypropylene group, n represents the number of oxypropylene groups, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a (meth) acryloyl group.
上記式(2)及び式(3)において、A1及びA2が表す2価の有機基としては、置換若しくは無置換の2価の脂肪族炭化水素基(例えば、炭素数1〜8。例えば、メチレン基、エチレン基、又はプロピレン基等のアルキレン基)、置換若しくは無置換の2価の芳香族炭化水素基(例えば、炭素数6〜12。例えば、フェニレン基)、−O−、−S−、−SO2−、−N(R)−(R:アルキル基)、−CO−、−NH−、−COO−、−CONH−、又はこれらを組み合わせた基(例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、又はアルキレンカルボニルオキシ基等)等が挙げられる。 In the above formulas (2) and (3), the divalent organic group represented by A 1 and A 2 is a substituted or unsubstituted divalent aliphatic hydrocarbon group (for example, having 1 to 8 carbon atoms. For example, An alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, or a propylene group), a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group (for example, having 6 to 12 carbon atoms, for example, a phenylene group), -O-, -S. —, —SO 2 —, —N (R) — (R: alkyl group), —CO—, —NH—, —COO—, —CONH—, or a combination thereof (eg, alkyleneoxy group, alkylene Oxycarbonyl group or alkylenecarbonyloxy group).
上記式(2)及び式(3)において、m及びnは、それぞれ独立して、1〜200であることが好ましく、1〜100であることがより好ましい。
また、オキシプロピレン基(PO)は、直鎖及び分岐のいずれであってもよい。
In the above formula (2) and formula (3), m and n are each independently preferably 1 to 200, and more preferably 1 to 100.
The oxypropylene group (PO) may be either linear or branched.
R1及びR2が表すアルキル基としては、炭素数1〜10であることが好ましく、炭素数1〜5であることがより好ましい。R1及びR2が表すアルキル基としては、例えば、メチル基又はエチル基が挙げられる。 The alkyl group represented by R 1 and R 2 preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkyl group represented by R 1 and R 2 include a methyl group or an ethyl group.
化合物Aは、上記式(1)〜式(3)で表されるシロキサン構造単位以外の構造単位をさらに有していてもよいが、上記式(1)〜式(3)で表される構造単位の合計含有量が、全構造単位に対して50モル%以上であることが好ましく、全構造単位に対して80モル%以上であることがより好ましく、全構造単位に対して90モル%以上であることがさらに好ましい。 Compound A may further have structural units other than the siloxane structural units represented by the above formulas (1) to (3), but the structures represented by the above formulas (1) to (3). The total content of units is preferably 50 mol% or more with respect to all structural units, more preferably 80 mol% or more with respect to all structural units, and 90 mol% or more with respect to all structural units. More preferably.
本発明で用いることができる化合物Aは、例えば、具体的には、BYK−3455等が挙げられる。 Specific examples of the compound A that can be used in the present invention include BYK-3455.
透明絶縁層形成用組成物中の化合物Aの含有量は特に制限されないが、全固形分量に対して、0.001〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.01〜0.5質量%がさらに好ましく、0.05〜0.15質量%が特に好ましい。
また、化合物Aは、単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of Compound A in the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content. 01-0.5 mass% is further more preferable, and 0.05-0.15 mass% is especially preferable.
Compound A may be used alone or in combination of two or more.
((メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物)
透明絶縁層形成用組成物は、(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物を含有することが好ましい。ただし、上述した化合物Aは、上記(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物には含まれない。
重合性化合物(重合性基含有化合物)としては、重合性基としてアクリロイル基又はメタクリロイル基を有していれば特に限定されず、モノマー、オリゴマー及びポリマーから選ばれるいずれの形態であってもよい。つまり、重合性化合物は、重合性基を有するオリゴマーであっても、重合性基を有するポリマーであってもよい。
なお、モノマーとしては分子量が1,000未満である化合物が好ましい。
また、オリゴマー及びポリマーは、有限個(一般的には5〜100個)のモノマーが結合した重合体である。オリゴマーとは重量平均分子量が3000以下である化合物であり、ポリマーとは重量平均分子量が3000である化合物である。
重合性化合物は、1種であっても、複数種を併用してもよい。
また、重合性化合物としては、単官能であっても、多官能であってもよい。
(Polymerizable compound having (meth) acryloyl group)
The composition for forming a transparent insulating layer preferably contains a polymerizable compound having a (meth) acryloyl group. However, the above-mentioned compound A is not included in the polymerizable compound having the (meth) acryloyl group.
The polymerizable compound (polymerizable group-containing compound) is not particularly limited as long as it has an acryloyl group or a methacryloyl group as the polymerizable group, and may be any form selected from monomers, oligomers and polymers. That is, the polymerizable compound may be an oligomer having a polymerizable group or a polymer having a polymerizable group.
The monomer is preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000.
The oligomer and polymer are polymers in which a finite number of monomers (generally 5 to 100) are bonded. An oligomer is a compound having a weight average molecular weight of 3000 or less, and a polymer is a compound having a weight average molecular weight of 3000.
The polymerizable compound may be one kind or a combination of plural kinds.
In addition, the polymerizable compound may be monofunctional or polyfunctional.
単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等の長鎖アルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラフルフリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート等の環状構造を有する(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、及び、ジエチエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル等が挙げられる。 Examples of monofunctional (meth) acrylates include butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, and lauryl. Long chain alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone modified tetrafurfuryl (meth) acrylate Rate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol ( (Meth) acrylate having a cyclic structure such as meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate , 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, and diethylethylaminoethyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, Examples include 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and an ester of (meth) acrylic acid and a polyhydric alcohol.
2官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジ(メタ)アクリレート、1,3ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2’−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、及び、ビスフェノールAテトラエチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and 1,4-butane. Diol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl -1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanedi (meth) acrylate, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dip Pyrene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate di (meth) acrylate, 1,3 butanediol di (meth) acrylate, di Methylol dicyclopentane diacrylate, hexamethylene glycol diacrylate, hexaethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, 2,2 ' -Bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane, bisphenol A tetraethylene glycol diacrylate and the like.
3官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、εカプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、及び、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the trifunctional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris (acryloxyethyl). ) Isocyanurate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) Acrylate, ethylene oxide modified glycerol triacrylate, propylene oxide modified glycerol triacrylate, epsilon caprolactone Sex trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol triacrylate, and the like.
4官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、及び、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the tetrafunctional (meth) acrylate include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate.
5官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及び、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the pentafunctional or higher functional (meth) acrylate compound include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa ( And (meth) acrylate and polypentaerythritol polyacrylate.
さらに、上述のとおり、重合性化合物は(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーであってもよい。また、重合性基の数は1つであっても、2以上であってもよく、本発明の効果をより優れたものとする観点から2以上であることが好ましい。
(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーは、プレポリマーとして機能する。言い換えると、他のモノマー又は多官能化合物と重合し得るものである。
上記プレポリマーの製造方法は特に制限されないが、例えば、上述した単官能(メタ)アクリレートと、光重合開始剤又は熱重合開始剤と、溶剤とを混合した溶液中で重合する方法等が挙げられる。プレポリマーの形成方法は熱重合であるのが好ましい。
Furthermore, as described above, the polymerizable compound may be an oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group. The number of polymerizable groups may be one or may be 2 or more, and is preferably 2 or more from the viewpoint of further improving the effect of the present invention.
The oligomer or polymer having a (meth) acryloyl group functions as a prepolymer. In other words, it can be polymerized with other monomers or polyfunctional compounds.
The method for producing the prepolymer is not particularly limited, and examples thereof include a method of polymerizing in a solution obtained by mixing the above-described monofunctional (meth) acrylate, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, and a solvent. . The formation method of the prepolymer is preferably thermal polymerization.
(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物のなかでも、ウレタン(メタ)アクリレート化合物又はエポキシ(メタ)アクリレート化合物が好ましい。耐候性の観点からウレタン(メタ)アクリレート化合物がより好ましい。黄変を抑制する観点からは、脂肪族ウレタン(メタ)アクリレート化合物が好ましい。 Among the polymerizable compounds having a (meth) acryloyl group, a urethane (meth) acrylate compound or an epoxy (meth) acrylate compound is preferable. From the viewpoint of weather resistance, a urethane (meth) acrylate compound is more preferable. From the viewpoint of suppressing yellowing, an aliphatic urethane (meth) acrylate compound is preferable.
ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、詳しくは、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイルオキシ基、及び、メタクリロイル基からなる群から選ばれる光重合性基を1分子中に2つ以上含み、かつ、ウレタン結合を1分子中に1つ以上含む化合物であることが好ましい。このような化合物は、例えば、イソシアネートとヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート化合物とのウレタン化反応によって製造することができる。なお、ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、いわゆるオリゴマーであっても、ポリマーであってもよい。
上記光重合性基は、ラジカル重合可能な重合性基である。光重合性基を1分子中に2つ以上含む多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物は、高硬度な透明絶縁層を形成するうえで有用である。
ウレタン(メタ)アクリレート化合物1分子中に含まれる光重合性基の数は、少なくとも2つであることが好ましく、例えば、2〜10つがより好ましく、2〜6つがさらに好ましい。なお、ウレタン(メタ)アクリレート化合物に含まれる2つ以上の光重合性基は同一のものであっても、異なるものであってもよい。
光重合性基としては、中でも、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。
Specifically, the urethane (meth) acrylate compound includes two or more photopolymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, and a methacryloyl group, and a urethane bond. It is preferable that it is a compound which contains 1 or more in 1 molecule. Such a compound can be produced, for example, by a urethanization reaction between an isocyanate and a hydroxy group-containing (meth) acrylate compound. The urethane (meth) acrylate compound may be a so-called oligomer or polymer.
The photopolymerizable group is a radically polymerizable group. A polyfunctional urethane (meth) acrylate compound containing two or more photopolymerizable groups in one molecule is useful for forming a transparent insulating layer having high hardness.
The number of photopolymerizable groups contained in one molecule of the urethane (meth) acrylate compound is preferably at least 2, for example, 2 to 10 is more preferable, and 2 to 6 is more preferable. The two or more photopolymerizable groups contained in the urethane (meth) acrylate compound may be the same or different.
Among them, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group are preferable as the photopolymerizable group.
ウレタン(メタ)アクリレート化合物1分子中に含まれるウレタン結合の数は、1つ以上であればよく、形成される透明樹脂層の硬度がより高くなる点で、2つ以上が好ましく、例えば、2〜5つがより好ましい。
なお、1分子中にウレタン結合を2つ含むウレタン(メタ)アクリレート化合物において、光重合性基は一方のウレタン結合のみに直接又は連結基を介して結合していてもよく、2つのウレタン結合にそれぞれ直接又は連結基を介して結合していてもよい。
一態様では、連結基を介して結合している2つのウレタン結合に、それぞれ1つ以上の光重合性基が結合していることが、好ましい。
The number of urethane bonds contained in one molecule of the urethane (meth) acrylate compound may be one or more, and two or more are preferable in that the hardness of the formed transparent resin layer becomes higher. ~ 5 are more preferred.
In the urethane (meth) acrylate compound containing two urethane bonds in one molecule, the photopolymerizable group may be bonded to only one urethane bond directly or via a linking group. Each may be bonded directly or via a linking group.
In one embodiment, it is preferable that one or more photopolymerizable groups are bonded to two urethane bonds bonded via a linking group.
上述したように、ウレタン(メタ)アクリレート化合物中において、ウレタン結合と光重合性基は直接結合していてもよく、ウレタン結合と光重合性基との間に連結基が存在していてもよい。連結基は特に限定されるものではなく、直鎖又は分岐の飽和又は不飽和の炭化水素基、環状基、及びこれらの2つ以上の組み合わせからなる基、等を挙げることができる。上記炭化水素基の炭素数は、例えば、2〜20程度であるが、特に限定されるものではない。また、環状基に含まれる環状構造としては、一例として、脂肪族環(シクロヘキサン環など)、芳香族環(ベンゼン環、ナフタレン環など)などが挙げられる。上記の基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。
なお、本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基(例えば、炭素数1〜6のアルキル基)、ヒドロキシ基、アルコキシル基(例えば、炭素数1〜6のアルコキシル基)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシル基等を挙げることができる。
As described above, in the urethane (meth) acrylate compound, the urethane bond and the photopolymerizable group may be directly bonded, and a linking group may be present between the urethane bond and the photopolymerizable group. . The linking group is not particularly limited, and examples thereof include a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, a cyclic group, and a group composed of a combination of two or more thereof. The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is, for example, about 2 to 20, but is not particularly limited. Examples of the cyclic structure contained in the cyclic group include an aliphatic ring (such as a cyclohexane ring) and an aromatic ring (such as a benzene ring and a naphthalene ring). The above group may be unsubstituted or may have a substituent.
In the present specification, unless otherwise specified, the group described may have a substituent or may be unsubstituted. When a certain group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group (for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), a hydroxy group, an alkoxyl group (for example, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms), a halogen atom ( For example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), cyano group, amino group, nitro group, acyl group, carboxyl group and the like can be mentioned.
上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。
合成方法の一例としては、例えば、アルコール、ポリオール、及び/又はヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有化合物とイソシアネートとを反応させる方法が挙げられる。また、必要に応じて、上記反応によって得られたウレタン化合物を(メタ)アクリル酸でエステル化する方法を挙げることができる。なお、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸とメタクリル酸を包含する意味で用いるものとする。
The urethane (meth) acrylate compound can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
As an example of the synthesis method, for example, a method of reacting an alcohol, a polyol, and / or a hydroxyl group-containing compound such as a hydroxyl group-containing (meth) acrylate with isocyanate. Moreover, the method of esterifying the urethane compound obtained by the said reaction with (meth) acrylic acid as needed can be mentioned. In addition, (meth) acrylic acid shall be used in the meaning including acrylic acid and methacrylic acid.
上記イソシアネートとしては、例えば、芳香族系、脂肪族系、及び、脂環式系等のポリイソシアネートが挙げられ、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化キシリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート、及び、ナフタレンジイソシアネート等が挙げられる。これらは1種でもよく2種以上を併用してもよい。 Examples of the isocyanate include aromatic, aliphatic, and alicyclic polyisocyanates, such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate, and modified diphenylmethane. Diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, phenylene diisocyanate, lysine Diisocyanate, lysine triisocyanate, and naphthalene diisocyanate Sulfonates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
上記ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンジアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチルアクリレート、及び、シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート等が挙げられる。これらは1種でもよく2種以上を併用してもよい。 Examples of the hydroxy group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, and 2-acryloyloxyethyl. 2-hydroxypropyl phthalate, glycerin diacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate, cyclohexane dimethanol monoacrylate, etc. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
ウレタン(メタ)アクリレート化合物の市販品としては、下記のものに限定されるものではないが、例えば、共栄社化学社製UA−306H、UA−306I、UA−306T、UA−510H、UF−8001G、UA−101I、UA−101T、AT−600、AH−600、AI−600、新中村化学社製U−4HA、U−6HA、U−6LPA、UA−32P、U−15HA、UA−1100H、日本合成化学工業社製紫光UV−1400B、同UV−1700B、同UV−6300B、同UV−7550B、同UV−7600B、同UV−7605B、同UV−7610B、同UV−7620EA、同UV−7630B、同UV−7640B、同UV−6630B、同UV−7000B、同UV−7510B、同UV−7461TE、同UV−3000B、同UV−3200B、同UV−3210EA、同UV−3310EA、同UV−3310B、同UV−3500BA、同UV−3520TL、同UV−3700B、同UV−6100B、同UV−6640B、同UV−2000B、同UV−2010B、同UV−2250EAを挙げることができる。また、日本合成化学工業社製紫光UV−2750B、共栄社化学社製UL−503LN、大日本インキ化学工業社製ユニディック17−806、同17−813、同V−4030、同V−4000BA、ダイセルUCB社製EB−1290K、トクシキ製ハイコープAU−2010、同AU−2020等も挙げられる。
6官能以上のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、根上工業(株)製のアートレジンUN−3320HA、アートレジンUN−3320HC、アートレジンUN−3320HS、アートレジンUN−904、日本合成化学(株)製の紫光UV−1700B、紫光UV−7605B、紫光UV−7610B、紫光UV−7630B、紫光UV−7640B、新中村化学工業(株)製のNKオリゴU−6PA、NKオリゴU−10HA、NKオリゴU−10PA、NKオリゴU−1100H、NKオリゴU−15HA、NKオリゴU−53H、NKオリゴU−33H、ダイセル・サイテック(株)製のKRM8452、EBECRYL1290、KRM8200、EBECRYL5129、KRM8904、日本化薬(株)製のUX−5000等を挙げることができる。
また、2〜3官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、Nagase(株)製のナトコUV自己治癒、DIC社製のEXP DX‐40等も挙げることができる。
As a commercial item of a urethane (meth) acrylate compound, although not limited to the following, for example, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UA-306H, UA-306I, UA-306T, UA-510H, UF-8001G, UA-101I, UA-101T, AT-600, AH-600, AI-600, Shin-Nakamura Chemical U-4HA, U-6HA, U-6LPA, UA-32P, U-15HA, UA-1100H, Japan Violet UV-1400B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, Synthetic Chemical Industries, Ltd. Same UV-7640B, Same UV-6630B, Same UV-7000B, Same UV-7510B, Same UV-7461 E, same UV-3000B, same UV-3200B, same UV-3210EA, same UV-3310EA, same UV-3310B, same UV-3500BA, same UV-3520TL, same UV-3700B, same UV-6100B, same UV- 6640B, UV-2000B, UV-2010B, and UV-2250EA. In addition, purple light UV-2750B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UL-503LN manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Unidic 17-806 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., 17-813 Examples include EB-1290K manufactured by UCB, Hicorp AU-2010 and AU-2020 manufactured by Tokushi.
Examples of the hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate compounds include, for example, Art Resin UN-3320HA, Art Resin UN-3320HC, Art Resin UN-3320HS, Art Resin UN-904, Nippon Synthetic Chemical (Negami Kogyo Co., Ltd.) Violet UV-1700B, Violet UV-7605B, Violet UV-7610B, Violet UV-7630B, Violet UV-7640B, NK Oligo U-6PA, NK Oligo U-10HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U-10PA, NK Oligo U-1100H, NK Oligo U-15HA, NK Oligo U-53H, NK Oligo U-33H, KRM8452, EBECRYL1290, KRM8200, EBECRYL5129, KRM8904, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd. Made by Yakuhin Co., Ltd. UX-5000, or the like can be mentioned.
Moreover, as a 2-3 trifunctional urethane (meth) acrylate compound, Nagase UV self-healing by Nagase Co., Ltd., EXP DX-40 by DIC, etc. can be mentioned.
上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物の分子量(重量平均分子量Mw)は、300〜10,000の範囲が好ましい。分子量がこの範囲であれば、柔軟性に優れ、且つ、表面硬度に優れた透明絶縁層を得ることができる。 The molecular weight (weight average molecular weight Mw) of the urethane (meth) acrylate compound is preferably in the range of 300 to 10,000. If the molecular weight is within this range, a transparent insulating layer having excellent flexibility and surface hardness can be obtained.
また、エポキシ(メタ)アクリレート化合物としては、ポリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反応により得られるものをいい、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2個有している場合が多い。 The epoxy (meth) acrylate compound is obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth) acrylic acid, and often has at least two (meth) acryloyl groups in the molecule. .
(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物は、耐溶剤性、密着性、レベリング性、又は、硬度の観点から、ウレタン(メタ)アクリレート化合物又はエポキシ(メタ)アクリレート化合物と、多官能化合物として2官能以上の(メタ)アクリレートモノマー(ただし、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物又はエポキシ(メタ)アクリレート化合物は含まない。)とを少なくとも含むことが好ましく、さらに希釈性モノマーとして、単官能(メタ)アクリレートモノマーを含むことも好ましい。なお、ここでいう耐溶剤性とは、溶剤付着に際し変質(白化)しないことを意味する。溶剤膨張により、透明絶縁層中でポリマー成分が陽動して膜質変性を生じる現象を抑制する特性と推測される。 The polymerizable compound having a (meth) acryloyl group is bifunctional as a polyfunctional compound and a urethane (meth) acrylate compound or an epoxy (meth) acrylate compound from the viewpoint of solvent resistance, adhesion, leveling properties, or hardness. It is preferable to contain at least the above (meth) acrylate monomer (however, the urethane (meth) acrylate compound or epoxy (meth) acrylate compound is not included), and further, as a diluting monomer, a monofunctional (meth) acrylate monomer It is also preferable to contain. In addition, solvent resistance here means not changing in quality (whitening) at the time of solvent adhesion. It is presumed to be a characteristic that suppresses a phenomenon in which the polymer component positively moves in the transparent insulating layer due to the solvent expansion to cause film quality modification.
透明絶縁層形成用組成物中におけるウレタン(メタ)アクリレート化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物の合計含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、透明絶縁層形成用組成物中の全固形分に対して、10〜70質量%が好ましく、30〜65質量%がより好ましい。
上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物及びエポキシ(メタ)アクリレート化合物は、1種を単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用できる。なお、これらが2種以上含まれる場合には、その合計量が上記範囲に含まれることが好ましい。
The total content of the urethane (meth) acrylate compound and the epoxy (meth) acrylate compound in the transparent insulating layer forming composition is not particularly limited, but in the transparent insulating layer forming composition, the effect of the present invention is more excellent. 10-70 mass% is preferable with respect to the total solid of, and 30-65 mass% is more preferable.
The urethane (meth) acrylate compound and the epoxy (meth) acrylate compound can be used singly or in combination of two or more. In addition, when these 2 or more types are contained, it is preferable that the total amount is contained in the said range.
重合性化合物が多官能化合物として2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを含有する場合、重合性化合物の全質量に対する2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーの含有量は特に制限されないが、0〜50質量%が好ましく、20〜45質量%がより好ましい。 When the polymerizable compound contains a bifunctional or higher (meth) acrylate monomer as a polyfunctional compound, the content of the bifunctional or higher (meth) acrylate monomer with respect to the total mass of the polymerizable compound is not particularly limited. % By mass is preferable, and 20 to 45% by mass is more preferable.
上記多官能化合物の中でも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、若しくは、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、又は、これらの混合物が、耐擦傷性の点から好ましい。
上記多官能化合物は、1種を単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用できる。
Among the polyfunctional compounds, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or a mixture thereof, It is preferable from the viewpoint of scratch resistance.
The said polyfunctional compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
重合性化合物が、希釈性モノマーとして、単官能モノマーを含有する場合、重合性化合物の全質量に対する単官能モノマーの含有量は特に制限されないが、少ない方が好ましく、40質量%以下がより好ましく、10質量%以下であることがさらに好ましい。 When the polymerizable compound contains a monofunctional monomer as a diluting monomer, the content of the monofunctional monomer with respect to the total mass of the polymerizable compound is not particularly limited, but is preferably less, more preferably 40% by mass or less, More preferably, it is 10 mass% or less.
上記希釈性モノマーの中でも、密着性や硬化速度の観点から、長鎖アルキル(メタ)アクリレート又は環状構造を有する(メタ)アクリレート等が好ましく、中でも、ラウリル(メタ)アクリレート又はヘキサデシル(メタ)アクリレート等の長鎖アルキル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート又はジシクロペンテニル(メタ)アクリレート等の環状構造を有する(メタ)アクリレートがより好ましい。
上記希釈性モノマーは、1種を単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用できる。
Among the dilutable monomers, from the viewpoint of adhesion and curing speed, long-chain alkyl (meth) acrylate or (meth) acrylate having a cyclic structure is preferable, among which lauryl (meth) acrylate or hexadecyl (meth) acrylate is preferable. (Meth) acrylate having a cyclic structure such as long-chain alkyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, or dicyclopentenyl (meth) acrylate is more preferable.
The said diluting monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
(重合開始剤)
透明絶縁層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤及び熱重合開始剤のいずれでもよいが、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤の種類は特に制限されず、公知の光重合開始剤(ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤)を使用できる。例えば、アセトフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−シクロヘキシルフェニルケトン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、エチル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィネート、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、メチルベンゾイルホルメート、4−メチルベンゾフェノン、4−フェニルベンソフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、1−[4−(4−ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]−2−メチル−2−(4−メチルフェニルスルホニル)プロパン−1−オン等のカルボニル化合物、及び、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物等が挙げられる。
重合開始剤は、1種を単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用できる。
(Polymerization initiator)
The composition for forming a transparent insulating layer preferably contains a polymerization initiator. The polymerization initiator may be either a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, but is preferably a photopolymerization initiator.
The kind in particular of photoinitiator is not restrict | limited, A well-known photoinitiator (a radical photoinitiator, a cationic photoinitiator) can be used. For example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-cyclohexyl phenyl ketone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl)) Phenyl) propanone), 2- Droxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine Oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, ethyl- (2,4,6-trimethylbenzoyl) Phenyl phosphinate, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-ben) Yloxime)], methylbenzoylformate, 4-methylbenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 1- [4- (4-benzoyl) Carbonyl compounds such as phenylsulfanyl) phenyl] -2-methyl-2- (4-methylphenylsulfonyl) propan-1-one and sulfur such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, tetramethylthiuram disulfide Compounds and the like.
A polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
透明絶縁層形成用組成物中、重合開始剤の含有量は特に制限されないが、透明絶縁層の硬化性の点から、組成物全質量に対して、0.1〜10質量%であることが好ましく、2〜5質量%であることがより好ましい。なお、重合開始剤が2種以上使用される場合は、重合開始剤の総含有量が上記範囲にあることが好ましい。 In the composition for forming a transparent insulating layer, the content of the polymerization initiator is not particularly limited, but is 0.1 to 10% by mass with respect to the total mass of the composition from the viewpoint of curability of the transparent insulating layer. Preferably, it is 2-5 mass%. In addition, when 2 or more types of polymerization initiators are used, it is preferable that total content of a polymerization initiator exists in the said range.
(その他の添加物)
透明絶縁層形成用組成物には、上記以外にも、表面潤滑剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機若しくは有機の充填剤、金属粉、顔料等の粉体、粒子状、又は、箔状物等の従来公知の各種の添加剤を使用する用途に応じて適宜添加することができる。それらの詳細については、例えば特開2012−229412号公報段落0032〜0034を参照できる。ただしこれらに限らず、光重合性組成物に一般に使用され得る各種添加剤を用いることができる。また、組成物への添加剤の添加量は適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。
(Other additives)
In addition to the above, the composition for forming a transparent insulating layer includes a surface lubricant, an antioxidant, a corrosion inhibitor, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, a silane coupling agent, and an inorganic or organic filler. In addition, various conventionally known additives such as powders such as metal powders and pigments, particulates, and foils can be added as appropriate according to the use. For details thereof, see paragraphs 0032 to 0034 of JP2012-229212A, for example. However, the present invention is not limited thereto, and various additives that can be generally used for the photopolymerizable composition can be used. Moreover, what is necessary is just to adjust the addition amount of the additive to a composition suitably, and is not specifically limited.
<第1実施形態の透明絶縁層の形成方法>
第1の実施形態の透明絶縁層を形成し得る透明絶縁層形成用組成物は、化合物Aのほか、(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物、及び、光重合開始剤を少なくとも含むことが好ましい。
また、透明絶縁層形成用組成物は、取扱い性の点から溶剤を含んでいてもよいが、VOC(揮発性有機化合物)抑制の観点及びタクトタイムの低減の観点から、無溶剤系とすることが好ましい。上記透明絶縁層形成用組成物は、化合物A中に含まれる疎水性のポリオキシプロピレン鎖により、溶剤を含まずとも、(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物、及び、光重合開始剤との相溶性に優れる。
なお、透明絶縁層形成用組成物が溶剤を含有する場合、使用できる溶剤は特に限定されず、例えば、水及び有機溶剤が挙げられる。
<Method for Forming Transparent Insulating Layer of First Embodiment>
The composition for forming a transparent insulating layer capable of forming the transparent insulating layer of the first embodiment preferably contains at least a polymerizable compound having a (meth) acryloyl group and a photopolymerization initiator in addition to the compound A. .
The composition for forming a transparent insulating layer may contain a solvent from the viewpoint of handleability, but from the viewpoint of suppressing VOC (volatile organic compound) and reducing the tact time, it should be a solvent-free system. Is preferred. The composition for forming a transparent insulating layer comprises a polymerizable compound having a (meth) acryloyl group and a photopolymerization initiator, even if it does not contain a solvent, due to the hydrophobic polyoxypropylene chain contained in the compound A Excellent compatibility.
In addition, when the composition for transparent insulating layer formation contains a solvent, the solvent which can be used is not specifically limited, For example, water and an organic solvent are mentioned.
塗布法の場合に、透明絶縁層形成用組成物を基材及び導電部上に塗布する方法は特に制限されず、公知の方法(例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーター若しくはロールコーター等の塗布法式、インクジェット方式、又は、スクリーン印刷方式等)を使用できる。特に、スクリーン印刷方式を使用した場合に、本発明の効果をより享受することができる。スクリーン印刷方式は、バー塗布等と比較すると、印刷時に塗膜表面に原理的に凹凸が形成される。化合物Aを含有する透明絶縁層形成用組成物によれば、スクリーン印刷方式を使用した場合においても、レベリング性の高い塗膜を形成することができる。
また、基材及び導電部への濡れ性をより向上させて本発明の効果をより一層優れたものとする観点から、透明絶縁層形成用組成物の表面張力は、25℃において35mN/m以下であることが好ましく、30mN/m以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、15mN/m以上が好ましい。
取り扱い性及び製造効率の観点からは、組成物を基材及び導電部上に塗布し、必要に応じて乾燥処理を行って残存する溶剤を除去して、塗膜を形成する態様が好ましい。
なお、乾燥処理の条件は特に制限されないが、生産性がより優れる点で、室温〜220℃(好ましくは50〜120℃)で、1〜30分間(好ましく1〜10分間)実施することが好ましい。生産性の観点からは、更に、透明絶縁層形成用組成物は溶剤成分を含まず、乾燥工程がない状況が好ましい。
In the case of the coating method, the method for coating the transparent insulating layer forming composition on the substrate and the conductive part is not particularly limited, and known methods (for example, gravure coater, comma coater, bar coater, knife coater, die coater). Alternatively, a coating method such as a roll coater, an ink jet method, or a screen printing method can be used. In particular, when the screen printing method is used, the effects of the present invention can be enjoyed more. In the screen printing method, as compared with bar coating or the like, irregularities are formed on the surface of the coating film in principle during printing. According to the composition for forming a transparent insulating layer containing Compound A, a coating film having high leveling properties can be formed even when a screen printing method is used.
Further, from the viewpoint of further improving the wettability to the base material and the conductive part and further improving the effect of the present invention, the surface tension of the composition for forming a transparent insulating layer is 35 mN / m or less at 25 ° C. It is preferable that it is 30 mN / m or less. Although a minimum in particular is not restrict | limited, 15 mN / m or more is preferable.
From the viewpoint of handleability and production efficiency, an embodiment in which the composition is applied onto the substrate and the conductive part, and if necessary, a drying treatment is performed to remove the remaining solvent to form a coating film.
In addition, although the conditions of a drying process are not restrict | limited in particular, It is preferable to implement for 1 to 30 minutes (preferably 1 to 10 minutes) at room temperature-220 degreeC (preferably 50-120 degreeC) by the point which productivity is more excellent. . From the viewpoint of productivity, the transparent insulating layer forming composition preferably does not contain a solvent component and does not have a drying step.
乾燥処理後、露光を行うことが好ましい。
露光する方法は特に制限されないが、例えば、活性光線又は放射線を照射する方法が挙げられる。活性光線による照射としては、UV(紫外線)ランプ、及び、可視光線等による光照射等が用いられる。光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、及び、カーボンアーク灯等が挙げられる。また、放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、及び、遠赤外線等が挙げられる。塗膜を露光することにより、塗膜中の化合物に含まれる重合性基が活性化され、化合物間の架橋が生じ、層の硬化が進行する。露光エネルギーとしては、10〜8000mJ/cm2程度であればよく、好ましくは50〜3000mJ/cm2の範囲である。
It is preferable to perform exposure after the drying treatment.
Although the method to expose is not specifically limited, For example, the method of irradiating actinic light or a radiation is mentioned. As the irradiation with actinic light, UV (ultraviolet) lamps, light irradiation with visible light, or the like is used. Examples of the light source include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays. By exposing a coating film, the polymeric group contained in the compound in a coating film is activated, the bridge | crosslinking between compounds arises, and hardening of a layer advances. The exposure energy may be about 10 to 8000 mJ / cm 2 and is preferably in the range of 50 to 3000 mJ / cm 2 .
・透明絶縁層の第2実施形態
以下、透明絶縁層の第2実施形態について説明する。
第2実施形態に係る透明絶縁層は、その表面状態が、シロキサン末端構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位とエチレンオキサイド構造単位と、プロピレンオキサイド構造単位を含み、シロキサン末端構造単位に対するジメチルシロキサン構造単位のモル比率が2以上であり、且つ、エチレンオキサイド構造単位に対する、プロピレンオキサイド構造単位のモル比率が0.1以上である。
表面の各構造単位の量は、上記のとおり、透明絶縁層表面のTOF−SIMS(Time-of-Flight Secondary Mass Spectrometry)解析により好ましく同定することができる。
-2nd Embodiment of a transparent insulating layer Hereinafter, 2nd Embodiment of a transparent insulating layer is described.
The transparent insulating layer according to the second embodiment includes a siloxane terminal structural unit, a dimethylsiloxane structural unit, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, an ethylene oxide structural unit, and a propylene oxide structural unit. The molar ratio of the dimethylsiloxane structural unit to the siloxane terminal structural unit is 2 or more, and the molar ratio of the propylene oxide structural unit to the ethylene oxide structural unit is 0.1 or more.
As described above, the amount of each structural unit on the surface can be preferably identified by TOF-SIMS (Time-of-Flight Secondary Mass Spectrometry) analysis on the surface of the transparent insulating layer.
シロキサン末端構造単位に対するジメチルシロキサン構造単位のモル比率は、レベリング性をより一層優れたものとする観点から、2以上が好ましく、5以上がより好ましい。また、エチレンオキサイド構造単位に対する、プロピレンオキサイド構造単位のモル比率は、レベリング性をより一層優れたものとする観点から、0.12以上が好ましく、0.15以上がより好ましい。 The molar ratio of the dimethylsiloxane structural unit to the siloxane terminal structural unit is preferably 2 or more, and more preferably 5 or more, from the viewpoint of further improving the leveling property. Further, the molar ratio of the propylene oxide structural unit to the ethylene oxide structural unit is preferably 0.12 or more, and more preferably 0.15 or more, from the viewpoint of further improving the leveling property.
上述のような透明絶縁層は、例えば第1実施形態で説明した化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いることにより形成することができる。例えば、化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いて第2実施形態の透明絶縁層を形成した場合、そのシロキサン末端構造単位としては、例えば、下記式(4)に示す構造が挙げられる。
また、第2実施形態の透明絶縁層を形成し得る透明絶縁層形成用組成物中には、上記化合物A以外の成分を含んでもよく、例えば第1実施形態の透明絶縁層を形成し得る透明絶縁層形成用組成物中に含まれる化合物A以外の成分が挙げられ、また、その好適態様も同じである。
The transparent insulating layer as described above can be formed, for example, by using the transparent insulating layer forming composition containing the compound A described in the first embodiment. For example, when the transparent insulating layer of the second embodiment is formed using a composition for forming a transparent insulating layer containing compound A, examples of the siloxane terminal structural unit include a structure represented by the following formula (4). .
Further, the composition for forming a transparent insulating layer capable of forming the transparent insulating layer of the second embodiment may contain a component other than the compound A. For example, the transparent insulating layer capable of forming the transparent insulating layer of the first embodiment may be included. Ingredients other than compound A contained in the composition for insulating layer formation are mentioned, The suitable aspect is also the same.
式(4) Formula (4)
図1においてタッチセンサー用導電シートの第1実施態様について詳述したが、タッチセンサー用導電シートの構成はこの態様には限定されない。
図1においては、基材12上の片面のみに導電部16が配置されたタッチセンサー用導電シートを説明したが、本発明のタッチセンサー用導電シートは、基材12上の両面に導電部16及び透明絶縁層18が配置されていてもよい。
Although the 1st embodiment of the conductive sheet for touch sensors was explained in full detail in FIG. 1, the structure of the conductive sheet for touch sensors is not limited to this aspect.
In FIG. 1, the conductive sheet for a touch sensor in which the conductive portion 16 is disposed only on one surface on the base material 12 has been described. However, the conductive sheet for a touch sensor of the present invention has a conductive portion 16 on both surfaces on the base material 12. And the transparent insulating layer 18 may be arrange | positioned.
〔タッチセンサー、タッチパネル積層体、タッチパネル〕
また、タッチセンサー用導電シートは、タッチパネルに適用される。タッチセンサー用導電シートがタッチパネルに適用される場合、上記タッチセンサー用導電シートはタッチセンサーの一部として機能する。上記タッチセンサー用導電シートを含むタッチパネルの好適態様としては、図3に示すような静電容量式タッチパネルが挙げられる。図3に示す静電容量式タッチパネル100は、保護基板20と、粘着シート15と、静電容量式タッチセンサー180と、粘着シート15と、表示装置50とを備える。後述するように、静電容量式タッチセンサー180は、本発明のタッチセンサー用導電シートで構成され、導電部が検出電極として機能する。
以下、静電容量式タッチパネル100で使用される各種部材について詳述する。
なお、以下では、静電容量式のタッチパネルについて説明するが、本発明のタッチセンサー用導電シートは他の形式のタッチパネルに適用されてもよい。
[Touch sensor, touch panel laminate, touch panel]
Moreover, the conductive sheet for touch sensors is applied to a touch panel. When the touch sensor conductive sheet is applied to a touch panel, the touch sensor conductive sheet functions as a part of the touch sensor. As a suitable aspect of the touch panel containing the said conductive sheet for touch sensors, a capacitive touch panel as shown in FIG. 3 is mentioned. The capacitive touch panel 100 illustrated in FIG. 3 includes a protective substrate 20, an adhesive sheet 15, a capacitive touch sensor 180, an adhesive sheet 15, and a display device 50. As will be described later, the capacitive touch sensor 180 is configured by the conductive sheet for a touch sensor of the present invention, and the conductive portion functions as a detection electrode.
Hereinafter, various members used in the capacitive touch panel 100 will be described in detail.
In the following, a capacitive touch panel will be described, but the conductive sheet for a touch sensor of the present invention may be applied to other types of touch panels.
図4に、静電容量式タッチセンサー180の平面図を示す。図5は、図4中の切断線A−Aに沿って切断した断面図である。静電容量式タッチセンサー180は、基材22と、基材22の一方の主面上(表面上)に配置される第1検出電極24と、第1引き出し配線26と、基材22の他方の主面上(裏面上)に配置される第2検出電極28と、第2引き出し配線30と、フレキシブルプリント配線板32と、第1検出電極24及び第1引き出し配線26を覆うように配置される第1透明絶縁層40と、第2検出電極28及び第2引き出し配線30を覆うように配置される第2透明絶縁層42とを備える。なお、第1検出電極24及び第2検出電極28がある領域は、使用者によって入力操作が可能な入力領域EI(物体の接触を検知可能な入力領域(センシング部))を構成し、入力領域EIの外側に位置する外側領域EOには第1引き出し配線26、第2引き出し配線30及びフレキシブルプリント配線板32が配置される。
なお、静電容量式タッチセンサー180の基材22が上述したタッチセンサー用導電シートの基材に相当し、静電容量式タッチセンサー180の第1検出電極24及び第2検出電極28が上述したタッチセンサー用導電シートの導電部に相当し、静電容量式タッチセンサー180の第1透明絶縁層40及び第2透明絶縁層42が上述したタッチセンサー用導電シートの透明絶縁層に相当する。
以下では、上記構成について詳述する。
FIG. 4 shows a plan view of the capacitive touch sensor 180. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the cutting line AA in FIG. The capacitive touch sensor 180 includes a base material 22, a first detection electrode 24 disposed on one main surface (on the surface) of the base material 22, a first lead wire 26, and the other of the base material 22. The second detection electrode 28, the second lead wiring 30, the flexible printed wiring board 32, the first detection electrode 24, and the first lead wiring 26 are arranged so as to cover the main surface (on the back surface). A first transparent insulating layer 40, and a second transparent insulating layer 42 disposed so as to cover the second detection electrode 28 and the second lead-out wiring 30. The region where the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 are provided constitutes an input region E I (an input region (sensing unit) capable of detecting contact of an object) that can be input by the user, and is input. A first lead wiring 26, a second lead wiring 30 and a flexible printed wiring board 32 are arranged in the outer region E O located outside the region E I.
The base material 22 of the capacitive touch sensor 180 corresponds to the base material of the conductive sheet for the touch sensor described above, and the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 of the capacitive touch sensor 180 are described above. The first transparent insulating layer 40 and the second transparent insulating layer 42 of the capacitive touch sensor 180 correspond to the transparent insulating layer of the touch sensor conductive sheet described above.
Below, the said structure is explained in full detail.
基材22は、入力領域EIにおいて第1検出電極24及び第2検出電極28を支持する役割を担うと共に、外側領域EOにおいて第1引き出し配線26及び第2引き出し配線30を支持する役割を担う部材である。
基材22の定義及び好適態様は、上述した基材12と同義である。
The base material 22 plays a role of supporting the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 in the input region E I and also plays a role of supporting the first lead wiring 26 and the second lead wiring 30 in the outer region E O. It is a member to bear.
The definition and preferred embodiment of the base material 22 are synonymous with the base material 12 described above.
第1検出電極24及び第2検出電極28は、静電容量の変化を感知するセンシング電極であり、感知部(センサー部)を構成する。つまり、指先をタッチパネルに接触させると、第1検出電極24及び第2検出電極28の間の相互静電容量が変化し、この変化量に基づいて指先の位置をIC回路(集積回路)によって演算する。 The first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 are sensing electrodes that sense a change in capacitance, and constitute a sensing unit (sensor unit). That is, when the fingertip is brought into contact with the touch panel, the mutual capacitance between the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 changes, and the position of the fingertip is calculated by an IC circuit (integrated circuit) based on the change amount. To do.
第1検出電極24は、入力領域EIに接近した使用者の指のX方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第1検出電極24は、第1方向(X方向)に延び、第1方向と直交する第2方向(Y方向)に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。
第2検出電極28は、入力領域EIに接近した使用者の指のY方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第2検出電極28は、第2方向(Y方向)に延び、第1方向(X方向)に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。図4においては、第1検出電極24は5つ、第2検出電極28は5つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。
First detection electrode 24, which has a role to detect the input position in the X direction of the finger of the user in proximity to the input region E I, has the function of generating an electrostatic capacitance between the finger ing. The first detection electrodes 24 are electrodes that extend in a first direction (X direction) and are arranged at a predetermined interval in a second direction (Y direction) orthogonal to the first direction. Contains a pattern.
The second detection electrode 28 has a role of detecting the input position in the Y direction of the user's finger approaching the input area E I and has a function of generating a capacitance between the second detection electrode 28 and the finger. ing. The second detection electrodes 28 are electrodes that extend in the second direction (Y direction) and are arranged at a predetermined interval in the first direction (X direction), and include a predetermined pattern as will be described later. In FIG. 4, five first detection electrodes 24 and five second detection electrodes 28 are provided, but the number is not particularly limited and may be plural.
図4中、第1検出電極24及び第2検出電極28は、金属細線により構成される。図6に、第1検出電極24の一部の拡大平面図を示す。図6に示すように、第1検出電極24は、金属細線34により構成され、交差する金属細線34による複数の開口部36を含んでいる。なお、第2検出電極28も、第1検出電極24と同様に、交差する金属細線34による複数の開口部36を含んでいる。つまり、第1検出電極24及び第2検出電極28が、上述した複数の金属細線からなるメッシュパターンを有する導電部に該当する。
第1検出電極24及び第2検出電極28は、上述した導電部16に該当し、複数の金属細線からなるメッシュパターンを有する。第1検出電極24及び第2検出電極28を構成する金属細線34の定義及び好適態様は、上述した金属細線14と同義である。また、開口部36の定義は上述の通りである。
In FIG. 4, the 1st detection electrode 24 and the 2nd detection electrode 28 are comprised by the metal fine wire. FIG. 6 shows an enlarged plan view of a part of the first detection electrode 24. As shown in FIG. 6, the first detection electrode 24 is constituted by a thin metal wire 34, and includes a plurality of openings 36 by the intersecting thin metal wires 34. Note that, similarly to the first detection electrode 24, the second detection electrode 28 also includes a plurality of openings 36 formed by intersecting metal thin wires 34. That is, the 1st detection electrode 24 and the 2nd detection electrode 28 correspond to the electroconductive part which has the mesh pattern which consists of a several metal fine wire mentioned above.
The first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 correspond to the conductive portion 16 described above, and have a mesh pattern composed of a plurality of fine metal wires. The definition and preferred embodiments of the fine metal wires 34 constituting the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28 are the same as the fine metal wires 14 described above. The definition of the opening 36 is as described above.
第1引き出し配線26及び第2引き出し配線30は、それぞれ上記第1検出電極24及び第2検出電極28に電圧を印加するための役割を担う部材である。
第1引き出し配線26は、外側領域EOの基材22上に配置され、その一端が対応する第1検出電極24に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板32に電気的に接続される。
第2引き出し配線30は、外側領域EOの基材22上に配置され、その一端が対応する第2検出電極28に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板32に電気的に接続される。
なお、図4においては、第1引き出し配線26は5本、第2引き出し配線30は5本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。
The first lead wiring 26 and the second lead wiring 30 are members that play a role in applying a voltage to the first detection electrode 24 and the second detection electrode 28, respectively.
The first lead-out wiring 26 is disposed on the base material 22 in the outer region E O , one end thereof is electrically connected to the corresponding first detection electrode 24, and the other end is electrically connected to the flexible printed wiring board 32. Is done.
The second lead wiring 30 is disposed on the base material 22 in the outer region E O , one end thereof is electrically connected to the corresponding second detection electrode 28, and the other end is electrically connected to the flexible printed wiring board 32. Is done.
In FIG. 4, five first extraction wirings 26 and five second extraction wirings 30 are illustrated, but the number is not particularly limited, and a plurality of the first extraction wirings are usually arranged according to the number of detection electrodes. The
第1引き出し配線26及び第2引き出し配線30を構成する材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)若しくは銅(Cu)等の金属、又は、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム若しくは酸化チタン等の金属酸化物等が挙げられる。なかでも、導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。また、銀ペースト又は銅ペースト等の金属ペーストを用いて作製してもよい。さらに、アルミニウム(Al)若しくはモリブデン(Mo)等の金属、又は、合金薄膜で構成されていてもよい。金属ペーストの場合は、スクリーン印刷又はインクジェット印刷法で、金属又は合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法等のパターニング方法が好適に用いられる。
なお、第1引き出し配線26及び第2引き出し配線30中には、基材22との密着性がより優れる点から、バインダーが含まれていることが好ましい。バインダーの種類は、上述の通りである。
Examples of the material constituting the first lead wiring 26 and the second lead wiring 30 include metals such as gold (Au), silver (Ag), and copper (Cu), tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, and oxide. Examples thereof include metal oxides such as gallium or titanium oxide. Among these, silver is preferable because of its excellent conductivity. Alternatively, a metal paste such as a silver paste or a copper paste may be used. Furthermore, it may be made of a metal such as aluminum (Al) or molybdenum (Mo), or an alloy thin film. In the case of a metal paste, a screen printing or ink jet printing method is used, and in the case of a metal or alloy thin film, a patterning method such as a photolithography method is suitably used for the sputtered film.
In addition, it is preferable that the binder is contained in the 1st extraction wiring 26 and the 2nd extraction wiring 30 from the point which adhesiveness with the base material 22 is more excellent. The kind of binder is as above-mentioned.
フレキシブルプリント配線板32は、基板上に複数の配線及び端子が設けられた板であり、第1引き出し配線26のそれぞれの他端及び第2引き出し配線30のそれぞれの他端に接続され、静電容量式タッチセンサー180と外部の装置(例えば、表示装置)とを接続する役割を果たす。 The flexible printed wiring board 32 is a board in which a plurality of wirings and terminals are provided on a substrate, and is connected to the other end of each of the first lead-out wirings 26 and the other end of each of the second lead-out wirings 30 and electrostatically It plays a role of connecting the capacitive touch sensor 180 and an external device (for example, a display device).
第1透明絶縁層40は、第1検出電極24及び第1引き出し配線26を覆うように基材22上に配置される層である。また、第2透明絶縁層42は、第2検出電極28及び第2引き出し配線30を覆うように基材22上に配置される層である。
第1透明絶縁層40及び第2透明絶縁層42の定義は、上述した透明絶縁層と同義である。
なお、第1透明絶縁層40及び第2透明絶縁層42は、上述したフレキシブルプリント配線板32が配置される領域以外の基材22上に配置される。
The first transparent insulating layer 40 is a layer disposed on the base material 22 so as to cover the first detection electrode 24 and the first lead wiring 26. The second transparent insulating layer 42 is a layer disposed on the base material 22 so as to cover the second detection electrode 28 and the second lead wiring 30.
The definition of the 1st transparent insulating layer 40 and the 2nd transparent insulating layer 42 is synonymous with the transparent insulating layer mentioned above.
In addition, the 1st transparent insulating layer 40 and the 2nd transparent insulating layer 42 are arrange | positioned on the base materials 22 other than the area | region where the flexible printed wiring board 32 mentioned above is arrange | positioned.
〔静電容量式タッチセンサーの製造方法〕
静電容量式タッチセンサー180の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができる。
まず、基材上に検出電極及び引き出し配線を形成する方法としては、例えば、基材の両主面上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングする方法が挙げられる。また、基材の両主面上に金属微粒子又は金属ナノワイヤーを含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行う方法が挙げられる。
さらに、上記方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、特開2014−209332号公報の段落0056〜0114に記載の方法が挙げられる。
[Manufacturing method of capacitive touch sensor]
The manufacturing method of the capacitive touch sensor 180 is not particularly limited, and a known method can be adopted.
First, as a method of forming the detection electrode and the lead wiring on the base material, for example, a photoresist film on the metal foil formed on both main surfaces of the base material is exposed and developed to form a resist pattern. And a method of etching the metal foil exposed from the resist pattern. Moreover, the method of printing the paste containing a metal microparticle or metal nanowire on both main surfaces of a base material, and performing metal plating to a paste is mentioned.
Furthermore, in addition to the above method, a method using silver halide can be mentioned. More specifically, a method described in paragraphs 0056 to 0114 of JP-A-2014-209332 is exemplified.
上記手順によって、金属細線からなるパターン状の導電部を有する基材が製造される。次に、得られた導電部を覆うように、透明絶縁層が配置される。
透明絶縁層の形成方法は、上述した、透明絶縁層形成用組成物を用いる方法が挙げられる。
The base material which has the pattern-shaped electroconductive part which consists of metal fine wires by the said procedure is manufactured. Next, a transparent insulating layer is arrange | positioned so that the obtained electroconductive part may be covered.
Examples of the method for forming the transparent insulating layer include the above-described methods using the transparent insulating layer forming composition.
<<粘着シート>>
粘着シート(粘着層)15は、静電容量式タッチセンサー180と、保護基板20又は表示装置50を貼り合せるために配置される。粘着シート(粘着層)15としては特に限定されず、公知の粘着シートを使用することができる。
<< Adhesive sheet >>
The pressure-sensitive adhesive sheet (adhesive layer) 15 is disposed for bonding the capacitive touch sensor 180 to the protective substrate 20 or the display device 50. It does not specifically limit as the adhesive sheet (adhesion layer) 15, A well-known adhesive sheet can be used.
<<保護基板>>
保護基板20は、粘着シート上に配置される基板であり、外部環境から後述する静電容量式タッチセンサー180を保護する役割を果たすと共に、その主面はタッチ面を構成する。
保護基板20として、透明基板であることが好ましく、プラスチックフィルム、プラスチック板、及び、ガラス板等が用いられる。基板の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜選択することが望ましい。
上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVA(酢酸ビニル共重合ポリエチレン)等のポリオレフィン類;ビニル系樹脂;その他、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、及び、シクロオレフィン系樹脂(COP)等を用いることができる。
また、保護基板20としては、偏光板、円偏光板等を用いてもよい。
<< Protection board >>
The protective substrate 20 is a substrate disposed on the adhesive sheet, and serves to protect a capacitive touch sensor 180 described later from the external environment, and its main surface constitutes a touch surface.
The protective substrate 20 is preferably a transparent substrate, and a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like is used. It is desirable that the thickness of the substrate is appropriately selected according to each application.
Examples of the raw material for the plastic film and plastic plate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, EVA (vinyl acetate copolymer polyethylene). Polyolefins such as: vinyl resins; in addition, polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin (COP), and the like can be used.
Further, as the protective substrate 20, a polarizing plate, a circular polarizing plate, or the like may be used.
<<表示装置>>
表示装置50は、画像を表示する表示面を有する装置であり、表示画面側に各部材が配置される。
表示装置50の種類は特に制限されず、公知の表示装置を使用することができる。例えば、陰極線管(CRT)表示装置、液晶表示装置(LCD)、有機発光ダイオード(OLED)表示装置、真空蛍光ディスプレイ(VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、表面電界ディスプレイ(SED)、電界放出ディスプレイ(FED)、及び、電子ペーパー(E−Paper)等が挙げられる。
<< Display device >>
The display device 50 is a device having a display surface for displaying an image, and each member is arranged on the display screen side.
The type of the display device 50 is not particularly limited, and a known display device can be used. For example, cathode ray tube (CRT) display, liquid crystal display (LCD), organic light emitting diode (OLED) display, vacuum fluorescent display (VFD), plasma display panel (PDP), surface field display (SED), field emission display (FED), electronic paper (E-Paper), etc. are mentioned.
以上、本発明のタッチセンサー用導電シートをタッチセンサーの一部として機能させて用いたタッチパネルの一例を説明したが、本発明のタッチセンサー用導電シートは、タッチパネル積層体として構成されていてもよい。タッチパネル積層体としては、例えば、タッチセンサー用導電シートと、粘着シートと、剥離シートとを備えた構成が挙げられる。剥離シートは、タッチパネル積層体を搬送時に、タッチセンサー用導電シートに傷などがつくのを防止するための保護シートとして機能する。
また、本発明のタッチセンサー用導電シートは、例えば、タッチセンサー用導電シート、粘着シート、及び、保護基板をこの順で有する複合体の形態で取り扱われてもよい。
As mentioned above, although an example of the touch panel which functioned and used the conductive sheet for touch sensors of this invention as a part of touch sensor was demonstrated, the conductive sheet for touch sensors of this invention may be comprised as a touchscreen laminated body. . As a touch panel laminated body, the structure provided with the conductive sheet for touch sensors, the adhesive sheet, and the peeling sheet is mentioned, for example. The release sheet functions as a protective sheet for preventing the touch sensor conductive sheet from being damaged when the touch panel laminate is conveyed.
Moreover, the conductive sheet for touch sensors of this invention may be handled with the form of the composite body which has the conductive sheet for touch sensors, an adhesive sheet, and a protective substrate in this order, for example.
〔透明絶縁層形成用組成物〕
本発明の透明絶縁層形成用組成物は、タッチセンサー用導電シートの製造に用いられ、金属細線からなるパターン状の導電部の表面に塗布される透明絶縁層形成用組成物であり、化合物Aを含む。
本発明の透明絶縁層形成用組成物の構成は、タッチセンサー用導電シートの構成において説明した透明絶縁層形成用組成物の構成と同様であり、またその好適態様も同様である。
[Composition for forming transparent insulating layer]
The composition for forming a transparent insulating layer of the present invention is a composition for forming a transparent insulating layer that is used for the production of a conductive sheet for a touch sensor and is applied to the surface of a patterned conductive portion made of fine metal wires. including.
The configuration of the composition for forming a transparent insulating layer of the present invention is the same as the configuration of the composition for forming a transparent insulating layer described in the configuration of the conductive sheet for a touch sensor, and the preferred embodiment thereof is also the same.
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the following examples.
〔実施例1〕
<<タッチセンサー用導電シートの作製>>
<導電部の形成>
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
38℃、pH4.5に保たれた下記1液に、下記の2液及び3液の各々90%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmの核粒子を形成した。続いて下記4液及び5液を8分間にわたって加え、さらに、下記の2液及び3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、粒子を0.21μmまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
[Example 1]
<< Preparation of conductive sheet for touch sensor >>
<Formation of conductive part>
(Preparation of silver halide emulsion)
To the following 1 liquid maintained at 38 ° C. and pH 4.5, an amount corresponding to 90% of each of the following 2 and 3 liquids was added simultaneously over 20 minutes with stirring to form 0.16 μm core particles. Subsequently, the following 4 liquid and 5 liquid were added over 8 minutes, and the remaining 10% of the following 2 liquid and 3 liquid were further added over 2 minutes to grow the particles to 0.21 μm. Further, 0.15 g of potassium iodide was added and ripened for 5 minutes to complete the grain formation.
1液:
水 750ml
ゼラチン 8.6g
塩化ナトリウム 3g
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
2液:
水 300ml
硝酸銀 150g
3液:
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 5ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 7ml
4液:
水 100ml
硝酸銀 50g
5液:
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
1 liquid:
750 ml of water
8.6g gelatin
Sodium chloride 3g
1,3-Dimethylimidazolidine-2-thione 20mg
Sodium benzenethiosulfonate 10mg
Citric acid 0.7g
Two liquids:
300 ml of water
150 g silver nitrate
3 liquids:
300 ml of water
Sodium chloride 38g
Potassium bromide 32g
5 ml of potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution)
Ammonium hexachlororhodate
(0.001% NaCl 20% aqueous solution) 7 ml
4 liquids:
100ml water
Silver nitrate 50g
5 liquids:
100ml water
Sodium chloride 13g
Potassium bromide 11g
Yellow blood salt 5mg
その後、常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、上記で得られた溶液の温度を35℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでpHを下げた(pH3.6±0.2の範囲であった)。次に、上澄み液を約3リットル除去した(第一水洗)。さらに3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を3リットル除去した(第二水洗)。第二水洗と同じ操作をさらに1回繰り返して(第三水洗)、水洗及び脱塩工程を終了した。水洗及び脱塩後の乳剤をpH6.4、pAg7.5に調整し、ゼラチン2.5g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mg、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム3mg、チオ硫酸ナトリウム15mgと塩化金酸10mgを加え55℃にて最適感度を得るように化学増感を施した。その後、さらに、安定剤として1,3,3a,7−テトラアザインデン100mg、防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)100mgを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を0.08モル%含み、塩臭化銀の比率を塩化銀70モル%、臭化銀30モル%とする、平均粒子径0.22μm、変動係数9%のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。 Then, it washed with water by the flocculation method according to a conventional method. Specifically, the temperature of the solution obtained above was lowered to 35 ° C., and the pH was lowered using sulfuric acid until silver halide precipitated (the pH was in the range of 3.6 ± 0.2). Next, about 3 liters of the supernatant was removed (first water washing). Further, 3 liters of distilled water was added, and sulfuric acid was added until the silver halide settled. Again, 3 liters of the supernatant was removed (second water wash). The same operation as the second water washing was further repeated once (third water washing) to complete the water washing and desalting steps. The emulsion after washing and desalting was adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, and 2.5 g gelatin, 10 mg sodium benzenethiosulfonate, 3 mg sodium benzenethiosulfinate, 15 mg sodium thiosulfate and 10 mg chloroauric acid were added. Chemical sensitization was performed to obtain optimum sensitivity at ° C. Thereafter, 100 mg of 1,3,3a, 7-tetraazaindene as a stabilizer and 100 mg of proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd.) as a preservative were further added. The finally obtained emulsion contains 0.08 mol% of silver iodide, and the ratio of silver chlorobromide is 70 mol% of silver chloride and 30 mol% of silver bromide. It was a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having a coefficient of 9%.
(感光性層形成用組成物の調製)
上記乳剤に1,3,3a,7−テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10-2モル/モルAg、クエン酸3.0×10-4モル/モルAg、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAg、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記式(P−1)で表されるポリマーとジアルキルフェニルPEO(polyethylene glycol)硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス(分散剤/ポリマーの質量比が2.0/100=0.02)とをポリマー/ゼラチン(質量比)=0.5/1になるように添加した。
さらに、架橋剤としてEPOXY RESIN DY 022(商品名:ナガセケムテックス社製)を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述するハロゲン化銀含有感光性層中における架橋剤の量が0.09g/m2となるように調整した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、下記式(P−1)で表されるポリマーは、特許第3305459号及び特許第3754745号を参照して合成した。
(Preparation of photosensitive layer forming composition)
1,3,3a, 7-tetraazaindene 1.2 × 10 −4 mol / mol Ag, hydroquinone 1.2 × 10 −2 mol / mol Ag, citric acid 3.0 × 10 −4 mol / Mol Ag, 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 0.90 g / mol Ag, a trace amount of hardener was added, and the coating solution pH was adjusted to 5.6 using citric acid. Adjusted.
Polymer latex containing a polymer represented by the following formula (P-1) and a dialkylphenyl PEO (polyethylene glycol) sulfate ester with respect to gelatin contained in the coating solution (mass of dispersant / polymer) The ratio was 2.0 / 100 = 0.02) and polymer / gelatin (mass ratio) = 0.5 / 1.
Furthermore, EPOXY RESIN DY 022 (trade name: manufactured by Nagase ChemteX Corporation) was added as a crosslinking agent. In addition, the addition amount of the crosslinking agent was adjusted so that the amount of the crosslinking agent in the silver halide-containing photosensitive layer described later was 0.09 g / m 2 .
A photosensitive layer forming composition was prepared as described above.
The polymer represented by the following formula (P-1) was synthesized with reference to Japanese Patent No. 3305459 and Japanese Patent No. 3754745.
(感光性層形成工程)
厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに上記ポリマーラテックスを塗布して、厚み0.05μmの下塗り層を設けた。
次に、下塗り層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチンとを混合したハロゲン化銀不含有層形成用組成物を塗布して、厚み1.0μmのハロゲン化銀不含有層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は2/1であり、ポリマーの含有量は0.65g/m2であった。
次に、ハロゲン化銀不含有層上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、厚み2.5μmのハロゲン化銀含有感光性層を設けた。なお、ハロゲン化銀含有感光性層中のポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は0.5/1であり、ポリマーの含有量は0.22g/m2であった。
次に、ハロゲン化銀含有感光性層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチンとを混合した保護層形成用組成物を塗布して、厚み0.15μmの保護層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は0.1/1であり、ポリマーの含有量は0.015g/m2であった。
(Photosensitive layer forming step)
The polymer latex was applied to a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm to provide an undercoat layer having a thickness of 0.05 μm.
Next, a silver halide-free layer forming composition in which the polymer latex and gelatin were mixed was applied onto the undercoat layer to provide a 1.0 μm-thick silver halide-free layer. The mixing mass ratio of polymer and gelatin (polymer / gelatin) was 2/1, and the polymer content was 0.65 g / m 2 .
Next, the photosensitive layer forming composition was applied on the silver halide-free layer to provide a silver halide-containing photosensitive layer having a thickness of 2.5 μm. The mixing mass ratio (polymer / gelatin) of the polymer and gelatin in the silver halide-containing photosensitive layer was 0.5 / 1, and the polymer content was 0.22 g / m 2 .
Next, a protective layer-forming composition in which the polymer latex and gelatin were mixed was applied onto the silver halide-containing photosensitive layer to provide a protective layer having a thickness of 0.15 μm. The mixing mass ratio of polymer to gelatin (polymer / gelatin) was 0.1 / 1, and the polymer content was 0.015 g / m 2 .
(露光及び現像処理)
上記で作製した感光性層に、図2に示すメッシュパターンの現像銀像を与えうるフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。具体的には、導電部の厚みが1μmであり、且つ、導電性細線/非導電部が4μm/300μmの導電パターンを与える格子(正方形)状のフォトマスクを用いた。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液(商品名:CN16X用N3X−R:富士フイルム社製)を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、その後乾燥した。
(Exposure and development processing)
The photosensitive layer prepared above was exposed using parallel light using a high-pressure mercury lamp as a light source through a photomask capable of providing a developed silver image having a mesh pattern shown in FIG. Specifically, a lattice (square) photomask was used in which the conductive part had a thickness of 1 μm and the conductive thin wire / non-conductive part gave a conductive pattern of 4 μm / 300 μm. After exposure, the film was developed with the following developer, developed with a fixer (trade name: N3X-R for CN16X: manufactured by Fuji Film), rinsed with pure water, and then dried.
(現像液の組成)
現像液1リットル(L)中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N−メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
(Developer composition)
The following compounds are contained in 1 liter (L) of the developer.
Hydroquinone 0.037mol / L
N-methylaminophenol 0.016 mol / L
Sodium metaborate 0.140 mol / L
Sodium hydroxide 0.360 mol / L
Sodium bromide 0.031 mol / L
Potassium metabisulfite 0.187 mol / L
(加熱処理)
さらに、120℃の過熱蒸気槽に130秒間静置して、加熱処理を行った。
(Heat treatment)
Furthermore, it heat-processed by leaving still for 130 second in a 120 degreeC superheated steam tank.
(ゼラチン分解処理)
さらに、下記のとおり調製したゼラチン分解液(40℃)に120秒浸漬し、その後、温水(液温:50℃)に120秒間浸漬して洗浄した。
(Gelatin decomposition treatment)
Further, it was immersed in a gelatin decomposition solution (40 ° C.) prepared as described below for 120 seconds, and then immersed in warm water (liquid temperature: 50 ° C.) for 120 seconds for washing.
ゼラチン分解液の調製:
タンパク質分解酵素(ナガセケムテックス社製ビオプラーゼ30L)の水溶液(タンパク質分解酵素の濃度:0.5質量%)に、トリエタノールアミン、硫酸を加えてpHを8.5に調製した。
Preparation of gelatin degradation solution:
Triethanolamine and sulfuric acid were added to an aqueous solution of proteolytic enzyme (Biolase 30L manufactured by Nagase ChemteX) (proteolytic enzyme concentration: 0.5% by mass) to adjust the pH to 8.5.
(高分子架橋処理)
さらに、カルボジライトV−02−L2(商品名:日清紡社製)1%水溶液に30秒浸漬し、水溶液から取り出し、純水(室温)に60秒間浸漬し、洗浄した。
このようにして、PETフィルム上に導電部を形成したフィルムAを得た。
(Polymer crosslinking treatment)
Furthermore, it was immersed in a 1% aqueous solution of Carbodilite V-02-L2 (trade name: manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.) for 30 seconds, taken out from the aqueous solution, immersed in pure water (room temperature) for 60 seconds and washed.
In this way, a film A having a conductive part formed on a PET film was obtained.
<透明絶縁層の形成>
2官能以上の多官能化合物としてPETA(ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート、(商品名KAYARAD PET=30)日本化薬株式会社製)39.84質量%、(メタ)アクリレートオリゴマーとしてナトコUV自己治癒(Nagase社製)56.67質量%、レベリング剤(化合物A)としてBYK−3455(ビックケミー・ジャパン社製)0.5質量%、光重合開始剤としてIrgacure184(BASF社製)2.99%の混合液を、スクリーン印刷により、上記で作製したフィルムAの導電部である銀メッシュパターン上に塗布し、塗膜を形成した。次いで、上記塗膜を、25℃で15分間静置した後、Fusion社製Dバルブを用いて照射強度160mW/cm2で、積算照度が1000mJ/cm2となるように露光し、厚み10μmの硬化膜である透明絶縁層を形成した。
<Formation of transparent insulating layer>
PETA (pentaerythritol (tri / tetra) acrylate, (trade name KAYARAD PET = 30) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 39.84% by mass as a bifunctional or higher polyfunctional compound, NATCO UV self-healing as a (meth) acrylate oligomer (Manufactured by Nagase Co., Ltd.) The liquid mixture was applied onto the silver mesh pattern, which is the conductive part of the film A produced above, by screen printing to form a coating film. Next, the coating film was allowed to stand at 25 ° C. for 15 minutes, and then exposed to an irradiation intensity of 160 mW / cm 2 and an integrated illuminance of 1000 mJ / cm 2 using a Fusion D bulb, with a thickness of 10 μm. A transparent insulating layer, which is a cured film, was formed.
なお、第1表において「Siユニット」はジメチルシロキサン構造単位、「EOユニット」はポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、「POユニット」はポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位を意味する。また、「Siユニット量」、「EOユニット量」及び「POユニット量」は、上記「Siユニット」、「EOユニット」及び「POユニット」の各モル量の合計に対する各構造単位の含有量(モル%)を意味する。 In Table 1, “Si unit” means a dimethylsiloxane structural unit, “EO unit” means a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, and “PO unit” means a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain. “Si unit amount”, “EO unit amount” and “PO unit amount” are the contents of each structural unit relative to the sum of the molar amounts of the above “Si unit”, “EO unit” and “PO unit” ( Mol%).
<<各物性測定>>
<レベリング剤の同定>
レベリング剤(化合物A)の組成は、レベリング剤のNMR(核磁気共鳴)の測定により同定した。また、透明絶縁層中のレベリング剤の組成は、透明絶縁層表面をSIMS法(Secondary Ion Mass Spectrometry)で測定することによりで同定した。
各種同定方法は、下記の通りである。
レベリング剤(化合物A)のNMR(核磁気共鳴)測定:NMRにてSiユニット、EOユニット、POユニットに帰属されるピーク強度比からmol数を算出する。
透明絶縁層中の化合物BのSIMS法による測定:TOF−SIMS装置について、Bi3+の一次イオンを用いて、各構造単位のそれぞれの二次イオンの信号強度をTotal ion強度(または規格化に適した成分由来の質量ピークの信号強度)で規格化することにより測定した。同定結果を第1表中の「透明絶縁層中に含まれる化合物A、Bの組成(第1実施形態)」欄に示す。
透明絶縁層表面のSIMS法による測定:TOF−SIMS装置について、Bi3+の一次イオンを用いて、シロキサン末端構造単位、エチレンオキサイド構造単位、プロピレンオキサイド構造単位構造単位及びジメチルシロキサン構造単位のそれぞれの二次イオンの信号強度をTotal ion強度(または規格化に適した成分由来の質量ピークの信号強度)で規格化することにより測定した。同定結果を第1表中の「透明絶縁層の表面状態(第2実施形態)」欄に示す。
<< Measurement of physical properties >>
<Identification of leveling agent>
The composition of the leveling agent (Compound A) was identified by NMR (nuclear magnetic resonance) measurement of the leveling agent. Moreover, the composition of the leveling agent in the transparent insulating layer was identified by measuring the surface of the transparent insulating layer by the SIMS method (Secondary Ion Mass Spectrometry).
Various identification methods are as follows.
NMR (nuclear magnetic resonance) measurement of leveling agent (compound A): The number of moles is calculated from the peak intensity ratio attributed to Si unit, EO unit, and PO unit by NMR.
Measurement of compound B in the transparent insulating layer by SIMS method: For TOF-SIMS apparatus, using Bi 3+ primary ions, the signal intensity of each secondary ion of each structural unit is determined as the total ion intensity (or suitable for normalization) It was measured by normalizing with the signal intensity of the mass peak derived from the component. The identification results are shown in the column “Compositions of compounds A and B contained in transparent insulating layer (first embodiment)” in Table 1.
Measurement of transparent insulating layer surface by SIMS method: For TOF-SIMS apparatus, using Bi 3+ primary ion, each of siloxane terminal structural unit, ethylene oxide structural unit, propylene oxide structural unit structural unit and dimethylsiloxane structural unit. The signal intensity of the secondary ion was measured by normalizing with the total ion intensity (or the signal intensity of the mass peak derived from the component suitable for normalization). The identification results are shown in the column “Surface condition of transparent insulating layer (second embodiment)” in Table 1.
<透明絶縁層形成用組成物の表面張力>
透明絶縁層形成用組成物の表面張力は、FTA製の接触角計FTA1000を用いて、25℃にて測定した。
<Surface tension of transparent insulating layer forming composition>
The surface tension of the composition for forming a transparent insulating layer was measured at 25 ° C. using a contact angle meter FTA1000 manufactured by FTA.
<透明絶縁層の表面エネルギー>
透明絶縁層の表面エネルギーは、協和界面科学(株)製の自動接触角計DM−300を用いて、25℃にて測定した。
<Surface energy of transparent insulating layer>
The surface energy of the transparent insulating layer was measured at 25 ° C. using an automatic contact angle meter DM-300 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
<全光線透過率>
得られたタッチセンサー用導電シートの可視光領域(波長400〜700nm)に対する全光線透過率を測定した(なお、測定位置は、透明絶縁層が形成された領域である)。測定には、分光測色計CM−3600A(コニカミノルタ株式会社製)を用いた。この結果、実施例1のタッチセンサー用導電シートの全光線透過率は95%であった。また、実施例2〜11、比較例1〜5についても同様の測定を行い、いずれのタッチセンサー用導電シートにおいても全光線透過率が95%程度であることを確認した。
<Total light transmittance>
The total light transmittance with respect to the visible light region (wavelength 400 to 700 nm) of the obtained conductive sheet for touch sensor was measured (note that the measurement position is a region where a transparent insulating layer is formed). For the measurement, a spectrocolorimeter CM-3600A (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) was used. As a result, the total light transmittance of the conductive sheet for a touch sensor of Example 1 was 95%. Moreover, the same measurement was performed also about Examples 2-11 and Comparative Examples 1-5, and it confirmed that the total light transmittance was about 95% also in any conductive sheet for touch sensors.
<<評価>>
得られたタッチセンサー用導電シートについて、各種評価を行った。
<レベリング性の評価>
レベリング性の評価は、上記タッチセンサー用導電シートの作製工程において、フィルムA上に配置された透明絶縁層形成用組成物(塗布液)の露光前の塗膜を観察することにより、「平滑性」及び「はじき性」の2つの観点で行った。以下、各評価方法について説明する。
<< Evaluation >>
Various evaluation was performed about the obtained conductive sheet for touch sensors.
<Evaluation of leveling properties>
The leveling property is evaluated by observing the coating film before exposure of the composition for forming a transparent insulating layer (coating liquid) disposed on the film A in the process of producing the conductive sheet for a touch sensor described above. ”And“ repellency ”. Hereinafter, each evaluation method will be described.
(1)平滑性
上記した手順により、フィルムAに透明絶縁層形成用組成物(塗布液)を塗布して塗膜を形成した後、10分間室温下に静置した。静置後、目視により塗膜の平滑性を観察し、下記の評価基準により判定した。結果を第1表に示す。実用上、平滑性は、「4」以上であることが好ましい。
「5」:ほぼ平滑
「4」:わずかに凹凸が見られる
「3」:はっきりした凹凸が見られる。
「2」:大きな凹凸が見られる。
「1」:非常に大きい凹凸が見られる。
(1) Smoothness After applying the transparent insulating layer forming composition (coating liquid) to the film A by the above-described procedure to form a coating film, the film was allowed to stand at room temperature for 10 minutes. After standing, the smoothness of the coating film was visually observed and judged according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1. In practice, the smoothness is preferably “4” or more.
“5”: almost smooth “4”: slight unevenness is observed “3”: clear unevenness is observed.
“2”: Large unevenness is observed.
“1”: Very large unevenness is observed.
(2)はじき性評価
上述した手順により、フィルムAに透明絶縁層形成用組成物(塗布液)を塗布して塗膜を形成した後、10分間室温下に静置した。静置後、目視により塗膜のはじき性を観察し、下記の評価基準により判定した。結果を第1表に示す。実用上、はじき性は、「3」以上であることが好ましい。
「5」:はじきがない
「4」:はじきかけが少しあるが、スポット的な非成膜領域は形成されていない
「3」:はじきかけが多くあるが、スポット的な非成膜領域は形成されていない
「2」:スポット的な非成膜領域が一部見られる
「1」:一面にスポット的な非成膜領域が見られる。
(2) Evaluation of repellency According to the procedure described above, the composition for forming a transparent insulating layer (coating solution) was applied to film A to form a coating film, and then allowed to stand at room temperature for 10 minutes. After standing, the repellency of the coating film was visually observed and judged according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1. Practically, the repelling property is preferably “3” or more.
“5”: No repelling “4”: There is a little splashing, but no spot-like non-film formation region is formed “3”: There are many splashes, but a spot-like non-film-forming region is formed Not “2”: A spot-like non-deposition region is partially seen “1”: A spot-like non-deposition region is seen on one side.
<膜収縮性の評価>
タッチセンサー用導電シートの膜収縮性の評価は、上記タッチセンサー用導電シートの作製工程において、フィルムA上に配置された透明絶縁層形成用組成物(塗布液)の露光前の塗膜を観察することにより行った。
具体的には、上述した手順により、フィルムAに透明絶縁層形成用組成物(塗布液)を塗布して塗膜を形成した後、10分間室温下に静置した。静置後、定規と目視により塗膜の膜収縮性を観察し、下記の評価基準により判定した。結果を第1表に示す。実用上、膜収縮性は、「3」以上であることが好ましい。
「5」:収縮が全く見られない
「4」:端部に少しだけ盛り上がりが見られるが、寸法変化はない
「3」:端部に盛り上がりが見られるが、寸法変化はない
「2」:端部の一部に寸法変化が見られる
「1」:端部の全面に寸法変化が見られる
<Evaluation of film shrinkage>
The film shrinkability of the conductive sheet for touch sensor is evaluated by observing the coating film before exposure of the composition for forming a transparent insulating layer (coating liquid) disposed on film A in the above-mentioned conductive sheet manufacturing process for touch sensor. It was done by doing.
Specifically, the film A was coated with the composition for forming a transparent insulating layer (coating solution) by the procedure described above to form a coating film, and then allowed to stand at room temperature for 10 minutes. After standing, the film shrinkage of the coating film was observed with a ruler and visually, and judged according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1. Practically, the film contractility is preferably “3” or more.
“5”: No contraction is observed at all. “4”: Slight bulge is observed at the end, but there is no dimensional change. “3”: Swell is observed at the end, but there is no dimensional change. “2”: Dimensional change is observed at a part of the end part “1”: Dimensional change is observed at the entire end part
<密着性評価>
得られたタッチセンサー用導電シートの透明絶縁層の上に、粘着層付き保護フィルムである剥離用フィルム(商品名「SRL−0753」、リンテック社製)を貼り付けた。具体的には、タッチセンサー用導電シートの透明絶縁層の上に、2kgローラーを用いて上記の剥離用フィルムを貼り合わせ、オートクレーブ(40℃、0.5MPa)で20分間処理し、24時間放置した。続いて、島津製作所社製オートグラフを用いて剥離フィルムの一端を把持して、180度ピール試験(引張速度300mm/分)を行い、密着力(N/mm)を測定した。結果を第1表に示す。実用上、密着力は、0.12N/mm以上であることが好ましい。
<Adhesion evaluation>
On the transparent insulating layer of the obtained conductive sheet for touch sensor, a peeling film (trade name “SRL-0753”, manufactured by Lintec Corporation), which is a protective film with an adhesive layer, was attached. Specifically, the release film is bonded onto the transparent insulating layer of the conductive sheet for the touch sensor using a 2 kg roller, treated for 20 minutes in an autoclave (40 ° C., 0.5 MPa), and left for 24 hours. did. Subsequently, one end of the release film was gripped using an autograph manufactured by Shimadzu Corporation, a 180 degree peel test (tensile speed of 300 mm / min) was performed, and an adhesion force (N / mm) was measured. The results are shown in Table 1. Practically, the adhesion is preferably 0.12 N / mm or more.
〔実施例2〜11、比較例1〜5〕
下記表1に示すように導電部材料又は透明絶縁層形成用組成物の組成若しくは配合を変更した以外は上記実施例1と同様の方法により、実施例2〜11、比較例1〜5のタッチセンサー用導電シートを作製し、同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[Examples 2-11, Comparative Examples 1-5]
As shown in Table 1 below, touches of Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 5 were performed in the same manner as in Example 1 except that the composition or formulation of the conductive part material or the transparent insulating layer forming composition was changed. A sensor conductive sheet was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.
以下、実施例1〜11、比較例1〜5で使用する各種材料を示す。
((メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物)
(メタ)アクリロイル基を有する重合性化合物としては、下記に示すものを用いた。
・2官能以上の多官能化合物
「PETA」:ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(商品名KAYARAD PET=30)日本化薬株式会社製
「DPHA」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名KAYARAD DPHA)日本化薬株式会社製
Hereinafter, various materials used in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5 are shown.
(Polymerizable compound having (meth) acryloyl group)
As the polymerizable compound having a (meth) acryloyl group, those shown below were used.
Bifunctional or higher polyfunctional compound “PETA”: Pentaerythritol (tri / tetra) acrylate (trade name KAYARAD PET = 30) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “DPHA”: Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name KAYARAD DPHA) Japan Made by Kayaku Co., Ltd.
・ウレタン(メタ)アクリレート化合物
「ナトコUV自己治癒」:ウレタンアクリレート化合物、Nagase社製
「EXP DX−40」:ウレタンアクリレート化合物、DIC社製
「AH−300」:ウレタンアクリレート化合物、共栄化学社製
「UA−300H」:ウレタンアクリレート化合物、共栄化学社製
Urethane (meth) acrylate compound “NATOCO UV self-healing”: urethane acrylate compound, manufactured by Nagase “EXP DX-40”: urethane acrylate compound, manufactured by DIC “AH-300”: urethane acrylate compound, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd. UA-300H ": urethane acrylate compound, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.
・希釈用単官能(メタ)アクリレートモノマー
「HDDA」:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、大阪有機化学工業株式会社製
「IBXA」:イソボニルアクリレート、大阪有機化学工業株式会社製
-Monofunctional (meth) acrylate monomer for dilution "HDDA": 1,6-hexanediol diacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. "IBXA": Isobonyl acrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
(レベリング剤)
レベリング剤(化合物A)としては、下記に示すものを用いた。なお、各レベリング剤中に含まれる「Siユニット量」、「EOユニット量」及び「POユニット量」は、1H−NMR(核磁気共鳴法)により同定した。その結果、レベリング剤中に含まれる各種ユニット量は、表中に示した透明絶縁層の膜のSIMS法(「透明絶縁層中に含まれる化合物A、Bの組成(第1実施形態)」欄)による同定値と略一致することが確認された。
・「BYK−UV3455」:(ビックケミー・ジャパン社製)
・「BYK−302」:(ビックケミー・ジャパン社製)
・「BYK−UV3510」:(ビックケミー・ジャパン社製)
(Leveling agent)
As a leveling agent (compound A), the following were used. The “Si unit amount”, “EO unit amount” and “PO unit amount” contained in each leveling agent were identified by 1 H-NMR (nuclear magnetic resonance method). As a result, the amount of various units contained in the leveling agent is determined by the SIMS method of the film of the transparent insulating layer shown in the table (“Composition of compounds A and B contained in the transparent insulating layer (first embodiment)” column). ) Was confirmed to be almost identical with the identification value obtained.
・ "BYK-UV3455": (Bic Chemie Japan)
・ "BYK-302": (Bic Chemie Japan)
・ "BYK-UV3510": (Bic Chemie Japan)
(光重合開始剤)
光重合開始剤としては、下記に示すものを用いた。
・「Irgacure184」:(BASF社製)
(Photopolymerization initiator)
As the photopolymerization initiator, those shown below were used.
・ Irgacure 184: (BASF)
(導電部材料)
導電部材料としては、下記に示すものを用いた。
・「Agメッシュパターン」:Agメッシュパターンは、実施例1のタッチセンサー用導電シートで詳述した通りである。
(Conductive material)
As the conductive part material, the following materials were used.
“Ag mesh pattern”: The Ag mesh pattern is as described in detail in the conductive sheet for a touch sensor of Example 1.
・「Cuメッシュパターン」:
まず、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムにスパッタリング法により厚さ5nmのNi層を成膜した後、抵抗加熱による真空蒸着法で銅蒸着して厚さ2μmのCu平膜を形成した。次いで、通常のフォトリソグラフィー法により、実施例1で作製したAgメッシュパターンと同様のパターニングを実施し、基材上にCuメッシュパターンからなる導電部を有するフィルムを作製した。
・ "Cu mesh pattern":
First, a Ni layer having a thickness of 5 nm was formed on a polyethylene terephthalate (PET) film by a sputtering method, and then a copper flat film having a thickness of 2 μm was formed by a vacuum evaporation method using resistance heating. Subsequently, the same patterning as the Ag mesh pattern produced in Example 1 was performed by a normal photolithography method, and a film having a conductive portion made of a Cu mesh pattern on the substrate was produced.
・「Agナノワイヤー」:
特開2009−215594号公報に記載の方法に準じてAgナノワイヤーを作製し、厚さ1μmの塗膜を形成した。次いで、通常のフォトリソグラフィー法により、実施例1で作製したAgメッシュパターンと同様のパターニングを実施し、基材上にAgワイヤーからなる導電部を有するフィルムを作製した。
・ "Ag nanowire":
In accordance with the method described in JP-A-2009-215594, an Ag nanowire was produced, and a coating film having a thickness of 1 μm was formed. Subsequently, the same patterning as the Ag mesh pattern produced in Example 1 was implemented by the normal photolithography method, and the film which has the electroconductive part which consists of Ag wires on a base material was produced.
(表1) (Table 1)
(表1つづき) (Table 1 continued)
(表1つづき) (Table 1 continued)
表1の結果から、実施例のタッチパネル導電シートの透明絶縁層は、レベリング性に優れ、また塗膜時の収縮が抑制されていることにより、導電部の所定位置に形成されていることが確認された。また、粘着シートとの密着性も良好であることが確認された。
一方、比較例のタッチパネル導電シートの透明絶縁層は、いずれもレベリング性が悪く、また塗膜時の収縮により導電部の所定位置において被覆されていない箇所があった。
From the results in Table 1, it is confirmed that the transparent insulating layer of the touch panel conductive sheet of the example is formed at a predetermined position of the conductive portion by being excellent in leveling property and suppressing shrinkage during coating. It was done. Moreover, it was confirmed that adhesiveness with an adhesive sheet is also favorable.
On the other hand, all of the transparent insulating layers of the touch panel conductive sheet of the comparative example had poor leveling properties, and there were portions that were not covered at predetermined positions of the conductive portion due to shrinkage during coating.
10 タッチセンサー用導電シート
12、22 基材
14、34 金属細線
15 粘着層(粘着シート)
16 導電部
18、40、42 透明絶縁層
20 保護基板
24 第1検出電極
26 第1引き出し配線
28 第2検出電極
30 第2引き出し配線
32 フレキシブルプリント配線板
36 開口部
50 表示装置
100 静電容量式タッチパネル
180 静電容量式タッチセンサー
10 Conductive sheet for touch sensor 12, 22 Base material 14, 34 Metal fine wire 15 Adhesive layer (adhesive sheet)
16 Conductive portions 18, 40, 42 Transparent insulating layer 20 Protective substrate 24 First detection electrode 26 First extraction wiring 28 Second detection electrode 30 Second extraction wiring 32 Flexible printed wiring board 36 Opening 50 Display device 100 Capacitive type Touch panel 180 capacitive touch sensor
Claims (13)
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層が、化合物Aを含む透明絶縁層形成用組成物を用いて形成された層であり、
前記化合物Aが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、かつ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、タッチセンサー用導電シート。 A substrate;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The transparent insulating layer is a layer formed using a composition for forming a transparent insulating layer containing compound A,
Compound A has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain which is not less than mol% is the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The conductive sheet for touch sensors which is 20 mol% or more with respect to the total of the respective molar amounts.
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層が、化合物Bを含み、
前記化合物Bが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、且つ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、タッチセンサー用導電シート。 A substrate;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The transparent insulating layer contains a compound B;
Compound B has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is not less than mol%, and the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The conductive sheet for touch sensors which is 20 mol% or more with respect to the total of the respective molar amounts.
前記基材上に配置された、金属細線からなるパターン状の導電部と、
前記導電部上に配置された透明絶縁層と、を備えるタッチセンサー用導電シートであって、
前記透明絶縁層の表面において、シロキサン末端構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位と、エチレンオキサイド構造単位と、プロピレンオキサイド構造単位を含み、前記シロキサン末端構造単位に対する前記ジメチルシロキサン構造単位のモル比率が2以上であり、且つ、前記エチレンオキサイド構造単位に対する前記プロピレンオキサイド構造単位のモル比率が0.1以上である、タッチセンサー用導電シート。 A substrate;
A conductive part in the form of a pattern made of fine metal wires, disposed on the base material,
A conductive sheet for a touch sensor comprising a transparent insulating layer disposed on the conductive part,
The surface of the transparent insulating layer includes a siloxane terminal structural unit, a dimethylsiloxane structural unit, an ethylene oxide structural unit, and a propylene oxide structural unit, and the molar ratio of the dimethylsiloxane structural unit to the siloxane terminal structural unit is 2 or more. The conductive sheet for a touch sensor, wherein the molar ratio of the propylene oxide structural unit to the ethylene oxide structural unit is 0.1 or more.
前記基材及び前記導電部上に、スクリーン印刷法により透明絶縁層を形成する透明絶縁層形成工程を有する、タッチセンサー用導電シートの製造方法。 It is a manufacturing method of the conductive sheet for touch sensors according to any one of claims 1 to 7,
The manufacturing method of the conductive sheet for touch sensors which has the transparent insulating layer formation process which forms a transparent insulating layer by the screen printing method on the said base material and the said electroconductive part.
前記透明絶縁層形成用組成物が、化合物Aを含み
前記化合物Aが、ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位と、ジメチルシロキサン構造単位とを有し、さらに、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有し、
前記ジメチルシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位、及び、前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して、20モル%以上であり、且つ、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位の含有量が、前記ポリオキシエチレン鎖を有するシロキサン構造単位、前記ポリオキシプロピレン鎖を有するシロキサン構造単位及び前記ジメチルシロキサン構造単位の各モル量の合計に対して20モル%以上である、透明絶縁層形成用組成物。 A composition for forming a transparent insulating layer, which is used for the production of a conductive sheet for a touch sensor and is applied to the surface of a patterned conductive portion made of a fine metal wire,
The composition for forming a transparent insulating layer contains a compound A, the compound A has a siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, a siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and a dimethylsiloxane structural unit, Furthermore, it has an acryloyl group or a methacryloyl group,
The content of the dimethylsiloxane structural unit is 20 with respect to the total of the molar amounts of the siloxane structural unit having a polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The content of the siloxane structural unit having a polyoxypropylene chain is not less than mol%, and the siloxane structural unit having the polyoxyethylene chain, the siloxane structural unit having the polyoxypropylene chain, and the dimethylsiloxane structural unit. The composition for transparent insulating layer formation which is 20 mol% or more with respect to the sum total of each molar amount of.
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