JP2010134436A - Filter for display - Google Patents

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慶二 岩永
Akira Kuwagata
昌 鍬形
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for display, which comprises a pressure-sensitive adhesive layer having satisfactory adhesive strength for base material of a display panel or filter for display and having adequate shock resistance and, moreover, prevents decoloration of the pressure-sensitive adhesive layer due to the lapse of time. <P>SOLUTION: The filter for display comprises a conductive film having a conductive layer on a base material (A) and a pressure-sensitive adhesive layer (1). The pressure-sensitive adhesive layer (1) contains a resin having hydroxide group and/or carboxyl group, has a thickness of 100 μm or more and is arranged so as not to be brought into contact with the base material (A) and the conductive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ディスプレイ用フィルターに関し、詳細には、衝撃吸収機能を有する粘着剤層を備えた、耐衝撃性に優れたディスプレイ用フィルターに関する。   The present invention relates to a display filter, and more particularly, to a display filter having an impact resistance and having an adhesive layer having an impact absorbing function.

有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルター(ディスプレイ用フィルター)がディスプレイの視認側に配置されている。   A display such as an organic EL display, a liquid crystal display, or a plasma display is a display device capable of clear full color display. The display is usually provided with a front filter (display filter) on the viewing side of the display for the purpose of preventing reflection of external light, shielding electromagnetic waves generated from the display, and protecting the display.

特にプラズマディスプレイはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するために、電磁波を遮蔽する機能と、外光の反射やギラツキを防止するための、反射防止機能や防眩機能が付与されたディスプレイ用フィルターが通常用いられている。   In particular, because plasma displays generate strong electromagnetic waves due to their structure and operating principle, they have been given anti-reflection and anti-glare functions to shield electromagnetic waves and prevent reflection and glare from outside light. Display filters are usually used.

従来の一般的なディスプレイ用フィルター、特にプラズマディスプレイに用いられている一般的なディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム等の基材に導電層(電磁波遮蔽層)が積層された導電性フィルム(電磁波遮蔽フィルム)と、反射防止層、防眩層、ハードコート層等の機能層がプラスチックフィルム等の基材に積層された機能性フィルムとを粘着剤層を介して貼合された構成になっている。そして、このディスプレイ用フィルターをプラズマディスプレイの表示パネルに貼り合わせるために、ディスプレイ用フィルターの電磁波遮蔽フィルム側に予め粘着剤層が設けられた構成になっている。   Conventional general display filters, particularly general display filters used in plasma displays, are conductive films (electromagnetic wave shielding films) in which a conductive layer (electromagnetic wave shielding layer) is laminated on a substrate such as a plastic film. ) And a functional film in which a functional layer such as an antireflection layer, an antiglare layer, or a hard coat layer is laminated on a base material such as a plastic film is bonded via an adhesive layer. And in order to affix this display filter to the display panel of a plasma display, it has the structure by which the adhesive layer was previously provided in the electromagnetic wave shielding film side of the display filter.

上記したディスプレイ用フィルターには、表示パネルを保護するという機能も求められており、粘着剤層に衝撃吸収機能を付与することが提案されている(例えば特許文献1〜3)。   The display filter described above is also required to have a function of protecting the display panel, and it has been proposed to impart an impact absorbing function to the adhesive layer (for example, Patent Documents 1 to 3).

特開2006−171261号公報JP 2006-171261 A 特開2007−182557号公報JP 2007-182557 A 特開2007−254705号公報JP 2007-254705 A

粘着剤層に十分な耐衝撃性を付与するには、粘着剤層の厚みは100μm以上であることが好ましい。また、ディスプレイの表示パネルあるいはディスプレイ用フィルターの基材に対して良好な密着強度を確保するという観点から、粘着剤層を構成する樹脂として水酸基もしくはカルボキシ基を有する樹脂を用いることが好ましい。   In order to give sufficient impact resistance to the pressure-sensitive adhesive layer, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 100 μm or more. Moreover, it is preferable to use resin which has a hydroxyl group or a carboxy group as resin which comprises an adhesive layer from a viewpoint of ensuring favorable adhesive strength with respect to the display panel of a display, or the base material of the filter for displays.

上記したように、粘着剤層に水酸基もしくはカルボキシ基を有する樹脂を用いると、導電性フィルム(電磁波遮蔽フィルム)を構成する導電層と直接あるいは間接的に、粘着剤層が接触することによって、時間経過とともに、粘着剤層が変色することが判明した。この粘着剤層の変色は、粘着剤層の厚みが大きくなるほど目立ちやすくなり、衝撃吸収機能を付与すべく粘着剤層の厚みを大きくする際の支障となった。   As described above, when a resin having a hydroxyl group or a carboxy group is used for the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer is directly or indirectly brought into contact with the conductive layer constituting the conductive film (electromagnetic wave shielding film). It has been found that the adhesive layer changes color with the passage of time. This discoloration of the pressure-sensitive adhesive layer becomes more conspicuous as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is increased, which has been a hindrance when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is increased in order to provide an impact absorbing function.

従って、本発明の目的は、上記課題に鑑み、表示パネルあるいはディスプレイ用フィルターの基材に対して良好な密着強度を有し、かつ十分な耐衝撃性を有する粘着剤層を備えたディスプレイ用フィルターにおいて、該粘着剤層の時間経過による変色を防止することにある。   Accordingly, in view of the above problems, an object of the present invention is to provide a display filter having a pressure-sensitive adhesive layer having good adhesion strength to a display panel or display filter substrate and having sufficient impact resistance. In this case, discoloration of the pressure-sensitive adhesive layer over time is prevented.

本発明の上記目的は、基本的に以下の発明によって達成された。
1)基材(A)上に導電層を有する導電性フィルム、並びに、粘着剤層(1)を有するディスプレイ用フィルターであって、
粘着剤層(1)は、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有し、厚みが100μm以上であり、
粘着剤層(1)は、基材(A)及び導電層に接触しないように配置されたことを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
2)ディスプレイ用フィルターが、基材(B)上に粘着剤層(1)を積層した積層体(B)と、導電性フィルムとが積層された積層体(AB)を有し、
積層体(AB)における積層体(B)と導電性フィルムの位置関係が、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されたことを特徴とする、前記1)に記載のディスプレイ用フィルター。
3)ディスプレイ用フィルターが、基材(C)上に厚みが5μm以上100μm未満の粘着剤層(2)を積層した積層体(C)をさらに有し、
積層体(C)と積層体(AB)が、粘着剤層(2)、基材(C)、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されるよう積層されたことを特徴とする、前記2)に記載のディスプレイ用フィルター。
4)前記導電性フィルムの導電層側に、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が、直接あるいは基材を介して配置されている、前記1)〜3)のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
5)粘着剤層(1)が活性エネルギー線硬化型組成物を硬化せしめたものである、前記1)〜4)に記載のディスプレイ用フィルター。
6)前記活性エネルギー線硬化型組成物が、無溶剤型のウレタン系紫外線硬化型組成物である、前記5)に記載のディスプレイ用フィルター。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
1) A conductive film having a conductive layer on a substrate (A), and a display filter having a pressure-sensitive adhesive layer (1),
The pressure-sensitive adhesive layer (1) contains a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group, and has a thickness of 100 μm or more.
The display-use filter, wherein the pressure-sensitive adhesive layer (1) is disposed so as not to contact the substrate (A) and the conductive layer.
2) The display filter has a laminate (B) in which the adhesive layer (1) is laminated on the substrate (B), and a laminate (AB) in which the conductive film is laminated.
The positional relationship between the laminate (B) and the conductive film in the laminate (AB) is characterized in that the adhesive layer (1), the substrate (B), the substrate (A), and the conductive layer are arranged in this order. The display filter as described in 1) above.
3) The display filter further includes a laminate (C) in which a pressure-sensitive adhesive layer (2) having a thickness of 5 μm or more and less than 100 μm is laminated on the substrate (C),
Laminate (C) and laminate (AB) are arranged in the order of pressure-sensitive adhesive layer (2), base material (C), pressure-sensitive adhesive layer (1), base material (B), base material (A), and conductive layer. The display filter as described in 2) above, wherein the display filter is laminated.
4) On the conductive layer side of the conductive film, a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function is directly or via a substrate. The display filter according to any one of 1) to 3), which is arranged.
5) The display filter as described in 1) to 4) above, wherein the pressure-sensitive adhesive layer (1) is obtained by curing the active energy ray-curable composition.
6) The display filter according to 5), wherein the active energy ray-curable composition is a solventless urethane-based ultraviolet curable composition.

本発明によれば、表示パネルあるいはディスプレイ用フィルターの基材に対して良好な密着強度を有し、かつ十分な耐衝撃性を有する粘着剤層を備えたディスプレイ用フィルターにおいて、該粘着剤層の時間経過による変色を防止することができる。   According to the present invention, in a display filter having a pressure-sensitive adhesive layer having good adhesion strength to a display panel or display filter substrate and having sufficient impact resistance, Discoloration over time can be prevented.

本発明にかかるディスプレイ用フィルターは、基材(A)上に導電層を有する導電性フィルム、並びに、粘着剤層(1)を有するディスプレイ用フィルターである。   The display filter according to the present invention is a display filter having a conductive film having a conductive layer on a substrate (A) and an adhesive layer (1).

本発明のディスプレイ用フィルターを、プラズマディスプレイのような電磁波を発するディスプレイに適用する場合は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する導電性フィルムは、十分な電磁波遮蔽性能を有することが好ましい。   When the display filter of the present invention is applied to a display that emits an electromagnetic wave such as a plasma display, the conductive film constituting the display filter of the present invention preferably has sufficient electromagnetic wave shielding performance.

本発明にかかる導電性フィルムは、基材(A)上に導電層を形成することによって得られる。以下の導電性フィルムにかかる説明において、断りのない限り、基材は基材(A)を意味する。導電性フィルムを構成する基材(A)としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。   The conductive film according to the present invention is obtained by forming a conductive layer on the substrate (A). In the following description of the conductive film, the base means the base (A) unless otherwise specified. A plastic film is preferably used as the base material (A) constituting the conductive film. Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, polycarbonate resins, arton resins, and epoxy resins. , Polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, and the like. Among these, a polyester resin, a polyolefin resin, and a cellulose resin are preferable, and a polyester resin is particularly preferably used.

また、基材(A)として用いられるプラスチックフィルムは、上記した樹脂で形成された単一層のフィルムであってもよいし、あるいは上記した樹脂で形成されたフィルムが2層以上積層された複合フィルムであってもよい。   The plastic film used as the substrate (A) may be a single layer film formed of the above-mentioned resin, or a composite film in which two or more layers of the above-described resin film are laminated. It may be.

基材(A)として用いられるプラスチックフィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から90〜250μmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the plastic film used as the substrate (A) is suitably in the range of 50 to 300 μm, but is particularly preferably in the range of 90 to 250 μm from the viewpoint of cost and ensuring the rigidity of the display filter.

基材(A)として用いられるプラスチックフィルムは、基材上(A)に形成される導電層あるいは他の機能層との密着性(接着強度)を強化するための易接着層(プライマー層、下引き層)を有するプラスチックフィルムが好ましい。   The plastic film used as the substrate (A) is an easy-adhesive layer (primer layer, lower layer) for strengthening the adhesion (adhesive strength) to the conductive layer or other functional layer formed on the substrate (A). A plastic film having a pulling layer) is preferred.

基材(A)上に設けられる導電層は、従来から公知の導電層を用いることができる。例えば、導電性薄膜や導電性メッシュなどが挙げられる。導電層の面抵抗としては、10Ω/□以下が適当であるが、電磁波遮蔽の観点からは、5Ω/□以下が好ましく、3Ω/□以下がより好ましく、特に1Ω/□以下が好ましい。面抵抗は低いほど電磁波遮蔽性が向上するために好ましいが、現実的な下限は0.01Ω/□程度と考えられる。   A conventionally well-known conductive layer can be used for the conductive layer provided on a base material (A). For example, a conductive thin film, a conductive mesh, etc. are mentioned. The sheet resistance of the conductive layer is suitably 10Ω / □ or less, but from the viewpoint of electromagnetic wave shielding, it is preferably 5Ω / □ or less, more preferably 3Ω / □ or less, and particularly preferably 1Ω / □ or less. A lower sheet resistance is preferable because the electromagnetic wave shielding property is improved, but a practical lower limit is considered to be about 0.01Ω / □.

導電層に用いられる導電性薄膜としては、金属薄膜や酸化物半導体膜、あるいはそれらの積層体が挙げられる。金属薄膜の材料としては、銀、金、パラジウム、銅、インジウムおよびスズから選ばれた金属や、銀とそれ以外の金属の合金などが用いられる。金属薄膜の形成方法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等の公知の方法を用いることができる。酸化物半導体膜の材料としては、亜鉛、チタン、インジウム、スズ、ジルコニウム、ビスマス、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物または硫化物、またはこれら酸化物の混合物などが用いられる。酸化物半導体の形成方法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等の公知の方法を用いることができる。   Examples of the conductive thin film used for the conductive layer include a metal thin film, an oxide semiconductor film, and a laminate thereof. As a material for the metal thin film, a metal selected from silver, gold, palladium, copper, indium and tin, an alloy of silver and other metals, or the like is used. As a method for forming the metal thin film, a known method such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, or plating can be used. As a material of the oxide semiconductor film, an oxide or sulfide of zinc, titanium, indium, tin, zirconium, bismuth, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, or a mixture of these oxides Etc. are used. As a method for forming the oxide semiconductor, a known method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, or wet coating can be used.

導電層に用いられる導電性メッシュとしては、例えば合成繊維または金属繊維のメッシュに金属被覆した繊維メッシュ、金属をメッシュパターン化した金属メッシュなどが挙げられる。   Examples of the conductive mesh used for the conductive layer include a fiber mesh obtained by metal coating a synthetic fiber or metal fiber mesh, a metal mesh obtained by forming a metal mesh pattern, and the like.

本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる導電層としては、導電性メッシュを含む導電層が好ましい。導電性メッシュを含む導電層の構成は、例えば、導電層の全域がメッシュパターンで構成された態様、あるいは導電層を有するディスプレイ用フィルターをディスプレイに設置したときに、ディスプレイの画像表示領域に相当する部分の導電層がメッシュパターンで構成され、その外周(非画像表示領域)に相当する部分の導電層が金属ベタ部で構成された態様が挙げられる。   The conductive layer used in the display filter of the present invention is preferably a conductive layer containing a conductive mesh. The configuration of the conductive layer including the conductive mesh corresponds to, for example, an aspect in which the entire conductive layer is configured in a mesh pattern, or an image display region of the display when a display filter having the conductive layer is installed in the display. A mode in which the portion of the conductive layer is formed of a mesh pattern and the portion of the conductive layer corresponding to the outer periphery (non-image display region) is formed of a solid metal portion is exemplified.

導電性メッシュを含む導電層を基材(A)上に形成して導電性フィルムを形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、1)基材(A)上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。2)メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、3)導電性繊維を用いる方法、4)基材(A)上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、5)基材(A)上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、6)感光性銀塩を用いる方法、及び7)金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、これらに限定されない。   As a method for forming a conductive film by forming a conductive layer including a conductive mesh on the substrate (A), a known method can be used. For example, 1) A method of printing a conductive ink in a pattern on the substrate (A). 2) Method of performing plating after pattern printing with ink containing catalyst core of plating, 3) Method of using conductive fiber, 4) Method of patterning after bonding metal foil on base material (A) with adhesive 5) A method of patterning after forming a metal thin film on the substrate (A) by vapor deposition or plating, 6) a method using a photosensitive silver salt, and 7) a method of laser ablating the metal thin film. However, it is not limited to these.

上記の導電性メッシュを含む導電層を有する導電性フィルムの製造方法について詳細に説明する。   The manufacturing method of the electroconductive film which has an electroconductive layer containing said electroconductive mesh is demonstrated in detail.

1)基材(A)上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、基材(A)上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。   1) The method of printing conductive ink in a pattern on the substrate (A) is to print the conductive ink in a pattern on the substrate (A) by a known printing method such as screen printing or gravure printing. Is the method.

2)メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インキを用いて、基材(A)上にパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにNi−Sn合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。   2) The method of performing plating after pattern printing with ink containing catalyst nuclei for plating is, for example, printing on the substrate (A) in a pattern using a catalyst ink made of a palladium colloid-containing paste, In this method, electroless copper plating is performed by immersion in an electrolytic copper plating solution, followed by electrolytic copper plating, and further by electrolytic plating of a Ni-Sn alloy to form a conductive mesh pattern.

3)導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して、基材(A)と貼り合わせる方法である。   3) The method using conductive fibers is a method in which a knitted fabric made of conductive fibers is bonded to the base material (A) via an adhesive or an adhesive.

4)基材(A)上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、基材(A)上に金属箔(銅、アルミニウム、又はニッケル等)を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。   4) The method of patterning after bonding a metal foil on the base material (A) with an adhesive is the method of patterning the metal foil (copper, aluminum, nickel, etc.) on the base material (A) via an adhesive or an adhesive. Then, after the metal foil is bonded together, a resist pattern is produced using a photolithography method or a screen printing method, and then the metal foil is etched. As a method for forming the above resist pattern, a photolithography method is preferable, and the photolithography method is a method of applying a photosensitive resist on a metal foil or laminating a photosensitive resist film, adhering a pattern mask, and exposing, This is a method of forming an etching resist pattern by developing with a developing solution, and further eluting metals other than the pattern portion with an appropriate etching solution to form a desired conductive mesh.

5)基材(A)上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、基材(A)上に金属薄膜(銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属)を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、透明基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。   5) A method of patterning after forming a metal thin film on the substrate (A) by vapor deposition or plating is performed by using a metal thin film (copper, aluminum, silver, gold, palladium, indium on the substrate (A). , Tin, or a metal made of an alloy of silver and other metals) is formed by vapor deposition such as vapor deposition, sputtering, ion plating, or plating, and this metal thin film is formed by photolithography or screen. This is a method of etching a metal thin film after preparing a resist pattern using a printing method or the like. As a method of forming the above resist pattern, a photolithography method is preferable, and the photolithography method is a method of applying a photosensitive resist on a metal thin film or laminating a photosensitive resist film, adhering a pattern mask, and exposing, This is a method of forming an etching resist pattern by developing with a developing solution, and further eluting metals other than the pattern portion with an appropriate etching solution to form a desired conductive mesh. In this method, it is preferable to form a metal thin film on a transparent substrate without using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.

6)感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を基材(A)上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、WO2004/7810号公報、特開2004−221564号公報、特開2006−12935号公報などに記載されており、参照することができる。   6) In the method using a photosensitive silver salt, a silver salt emulsion layer such as silver halide is coated on the substrate (A), and after photomask exposure or laser exposure, development processing is performed to form a silver mesh. There is a way. The formed silver mesh is preferably further plated with a metal such as copper or nickel. This method is described in WO 2004/7810, JP-A 2004-221564, JP-A 2006-12935, and the like, and can be referred to.

7)金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記5)と同様の方法で基材(A)上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。   7) The method of laser ablating a metal thin film is a method of producing a metal thin film mesh pattern by laser ablation of a metal thin film formed on a substrate (A) in the same manner as in 5) above.

レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。   Laser ablation means that when a solid surface that absorbs laser light is irradiated with laser light with a high energy density, the bonds between the irradiated parts are broken and evaporated, causing the solid surface of the irradiated part to break. It is a phenomenon that is cut away. By utilizing this phenomenon, the solid surface can be processed. Since laser light is highly straight and condensing, it is possible to selectively process a fine area about 3 times the wavelength of the laser light used for ablation, and high processing accuracy is obtained by the laser ablation method. I can do it.

かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源(SHG)、第三高調波光源(THG)、第四高調波光源(FHG)を用いることが出来る。   The laser used for such ablation can be any laser having a wavelength that is absorbed by the metal. For example, a gas laser, a semiconductor laser, an excimer laser, or a solid laser using a semiconductor laser as an excitation light source can be used. A second harmonic light source (SHG), a third harmonic light source (THG), or a fourth harmonic light source (FHG) obtained by combining these solid-state lasers and a nonlinear optical crystal can be used.

かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が254nmから533nmの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはNd:YAG(ネオジウム:イットリウム・アルミニウム・ガーネット)などの固体レーザーのSHG(波長533nm)、さらに好ましくはNd:YAG などの固体レーザーのTHG(波長355nm)の紫外線レーザーを用いることが好ましい。   Among such solid-state lasers, an ultraviolet laser having a wavelength of 254 nm to 533 nm is preferably used from the viewpoint of not processing a plastic film. Among them, it is preferable to use a solid-state laser SHG (wavelength 533 nm) such as Nd: YAG (neodymium: yttrium, aluminum, garnet), more preferably a solid laser THG (wavelength 355 nm) ultraviolet laser such as Nd: YAG. .

かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが,加工精度の点からパルスレーザーを用い,さらに望ましくはパルス幅がns以下のQスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。   As a laser oscillation method, any type of laser can be used. From the viewpoint of processing accuracy, a pulse laser is preferably used, and a Q-switch type pulse laser having a pulse width of ns or less is more preferable.

金属薄膜の上(視認側)に更に0.01〜0.1μmの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションするのが好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。   It is preferable to laser ablate the metal thin film and the metal oxide layer after further forming a 0.01 to 0.1 μm metal oxide layer on the metal thin film (viewing side). As the metal oxide, metal oxides such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, chromium, titanium, and tin can be used. However, copper oxide is used from the viewpoint of price and film stability. preferable. As a method for forming the metal oxide, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plate method, a chemical vapor deposition method, an electroless method, an electrolytic plating method, or the like can be used.

上記した導電性メッシュを含む導電層の製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ(例えば厚みが8μm以下の導電性メッシュ)を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の2)、5)、6)及び7)の製造方法が好ましく用いられる。また、導電性メッシュの製造コストが低いことから、上記5)の製造方法が特に好ましく用いられる。   Among the above-described methods for producing a conductive layer including a conductive mesh, a conductive mesh having a relatively small thickness (for example, a conductive mesh having a thickness of 8 μm or less) can be easily produced, and high electromagnetic shielding properties are ensured. From the viewpoint of being able to do so, the above production methods 2), 5), 6) and 7) are preferably used. Moreover, since the manufacturing cost of a conductive mesh is low, the manufacturing method of said 5) is used especially preferable.

上記5)の製造方法について、更に詳細に説明する。   The production method 5) will be described in more detail.

基材(A)上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、1種または2種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。   As a method for forming a metal thin film on the substrate (A), a vapor deposition method is preferred. Examples of the vapor deposition method include sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, and chemical vapor deposition. Among these, sputtering and vacuum vapor deposition are preferable. As a metal for forming a metal thin film, an alloy or a multilayer of one or more of metals such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, chromium and titanium is used. can do. Among these, copper is preferably used from the viewpoints of obtaining good electromagnetic shielding properties, easy mesh pattern processing, and low cost.

また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材(A)と銅薄膜との間に、5〜100nmの厚みのニッケル薄膜をさらに用いるのが好ましい。これによって、基材(A)であるフィルムと銅薄膜の接着性が向上する。なお、このような態様における導電性メッシュの厚みとは、ニッケル薄膜層及び銅薄膜層の和の厚みを意味するものとする。   Moreover, when using copper as a metal of a metal thin film, it is preferable to further use a nickel thin film with a thickness of 5 to 100 nm between the base material (A) and the copper thin film. Thereby, the adhesiveness of the film which is a base material (A), and a copper thin film improves. In addition, the thickness of the electroconductive mesh in such an aspect shall mean the sum total thickness of a nickel thin film layer and a copper thin film layer.

金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。   As a method for forming a resist pattern on the metal thin film, photolithography is preferably used. In such a photolithography method, a photosensitive resist layer is laminated on a metal thin film, the resist layer is exposed to a mesh pattern, developed to form a resist pattern, and then the metal thin film is etched to form a mesh pattern. In this method, the resist layer on the mesh is peeled and removed.

感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。   As the photosensitive resist layer, a negative resist in which the exposed portion is cured or a positive resist in which the exposed portion is dissolved by development can be used. The photosensitive resist layer may be coated and laminated directly on the metal thin film, or a film made of a photoresist may be bonded. As a method for exposing the photoresist layer, there can be used a method of exposing with an ultraviolet ray or the like through a photomask, or a method of directly scanning and exposing using a laser.

エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。   Etching methods include chemical etching methods. Chemical etching is a method in which a metal other than a metal portion protected by a resist pattern is dissolved and removed with an etching solution. Examples of the etching solution include a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, and an alkaline etching solution.

本発明にかかる導電性メッシュを含む導電層は、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。   The conductive layer including the conductive mesh according to the present invention is preferably blackened. By applying a blackening treatment, reflection from the viewer side and reflection from the display side due to the metallic luster of the conductive mesh can be reduced, and further reduction in image visibility can be reduced. An excellent display filter can be obtained.

導電性メッシュを含む導電層における、導電性メッシュのピッチは、50〜500μmの範囲が好ましく、75〜450nmの範囲がより好ましく、100〜350μmの範囲が更に好ましい。導電性メッシュのピッチが50μmより小さくなると透過率が低下する傾向にあり、500μmより大きくなると導電性が低下する傾向があり好ましくない。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュが存在しない部分(導電性メッシュの細線で囲まれた開口部分)の間隔であり、具体的には、1つの開口部の重心と、この開口部と1辺を共有する隣接する開口部の重心との、重心間の距離である。   The pitch of the conductive mesh in the conductive layer including the conductive mesh is preferably in the range of 50 to 500 μm, more preferably in the range of 75 to 450 nm, and still more preferably in the range of 100 to 350 μm. If the pitch of the conductive mesh is smaller than 50 μm, the transmittance tends to decrease. If the pitch is larger than 500 μm, the conductivity tends to decrease, which is not preferable. Here, the pitch of the conductive mesh is the interval between the portions where the conductive mesh does not exist (opening portions surrounded by the thin lines of the conductive mesh). Specifically, the center of gravity of one opening portion, The distance between the center of gravity of the opening and the center of gravity of the adjacent opening sharing one side.

導電性メッシュを含む導電層における、導電性メッシュの線幅は、3〜30μmの範囲が好ましく、5〜20μmの範囲がより好ましい。導電メッシュの線幅が、3μmより小さくなると電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が30μmより大きくなると透過率が低下する傾向にある。   The line width of the conductive mesh in the conductive layer including the conductive mesh is preferably in the range of 3 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 20 μm. When the line width of the conductive mesh is smaller than 3 μm, the electromagnetic shielding property tends to be lowered. On the other hand, when the line width is larger than 30 μm, the transmittance tends to be lowered.

導電性メッシュのメッシュパターンの形状(開口部の形状)は、例えば、正方形、長方形、菱形等の4角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、5角形、6角形、8角形、12角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、4角形からなる格子状メッシュパターン、6角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。   The shape of the mesh pattern of the conductive mesh (the shape of the opening) is, for example, a lattice mesh pattern formed of a quadrangle such as a square, a rectangle, or a rhombus, a triangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, or a dodecagon. Examples thereof include a mesh pattern made of a polygon, a mesh pattern made of a circle and an ellipse, a mesh pattern made of the composite shape, and a random mesh pattern. Among these, a lattice mesh pattern made of a tetragon and a mesh pattern made of a hexagon are preferable, and a regular mesh pattern is more preferably used.

本発明のディスプレイ用フィルターは、上述した導電性フィルムと特定の粘着剤層(1)を有するものである。かかる特定の粘着剤層(1)は、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含むことが重要である。以下の説明において、断りのない限り、粘着剤層とは、粘着剤層(1)を意味する。   The display filter of the present invention has the above-described conductive film and a specific pressure-sensitive adhesive layer (1). It is important that the specific pressure-sensitive adhesive layer (1) contains a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group. In the following description, unless otherwise noted, the pressure-sensitive adhesive layer means the pressure-sensitive adhesive layer (1).

本発明のディスプレイ用フィルターは、粘着剤層(1)に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有させることによって、ガラス板(ディスプレイの表示パネル)やディスプレイ用フィルターを構成する基材(導電性フィルム中の基材(A)とは別の基材であり、例えば後述する基材(B)、基材(C))と粘着剤層(1)との密着性が良好になる。   The display filter of the present invention includes a substrate (conductive) that constitutes a glass plate (display panel of display) or a filter for display by containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the adhesive layer (1). It is a base material different from the base material (A) in a film, for example, the adhesiveness of the base material (B) mentioned later, a base material (C)), and an adhesive layer (1) becomes favorable.

本発明にかかる水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含む粘着剤層(1)は、活性エネルギー線硬化型組成物に活性エネルギー線を照射して硬化せしめた粘着剤で形成されていることが好ましい。ここで活性エネルギー線とは、紫外線、可視光線、赤外線等の電磁波、電子線等の放射線等のエネルギー線を指し、これらの中でも生産設備や生産工程の面から紫外線が好ましく用いられる。また、活性エネルギー線硬化型組成物とは、上記活性エネルギー線を照射することにより化学反応が起こり硬化する組成物を指す。   The pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group according to the present invention is formed of a pressure-sensitive adhesive cured by irradiating an active energy ray-curable composition with active energy rays. preferable. Here, active energy rays refer to energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, electromagnetic waves such as infrared rays, and radiations such as electron beams. Among these, ultraviolet rays are preferably used from the viewpoint of production equipment and production process. Moreover, an active energy ray hardening-type composition points out the composition which a chemical reaction occurs and hardens | cures by irradiating the said active energy ray.

活性エネルギー線硬化型組成物に用いられる樹脂としては、公知のものが用いられる。例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂等が挙げられ、これらの中でも、アクリル系樹脂及びウレタン系樹脂が好ましく、特に、ウレタン系樹脂が好ましい。   As the resin used for the active energy ray-curable composition, known resins are used. For example, acrylic resins, urethane resins, polyester resins, silicone resins, rubber resins and the like can be mentioned. Among these resins, acrylic resins and urethane resins are preferable, and urethane resins are particularly preferable.

粘着剤層(1)を構成する樹脂は、1)予め分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有していてもよいし、あるいは、2)活性エネルギー線照射による硬化過程で、分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基が導入されたものであってもよく、また、3)上記両者の組み合わせであってもよい。好ましくは、粘着剤層(1)を構成する樹脂として、少なくとも上記の1)の予め分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を用いることである。   The resin constituting the pressure-sensitive adhesive layer (1) may have 1) a hydroxyl group and / or carboxy group in the molecule in advance, or 2) a hydroxyl group in the molecule in the curing process by irradiation with active energy rays. And / or a carboxy group introduced therein, or 3) a combination of the two. Preferably, as the resin constituting the pressure-sensitive adhesive layer (1), a resin having at least a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule in the above 1) is used.

上記1)の予め分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂としては、分子の末端及び/または側鎖に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するポリマーが挙げられる。好ましくは、少なくとも分子の片末端あるいは両末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するポリマーであり、より好ましくは、分子の片末端のみあるいは両末端のみに水酸基及び/またはカルボキシ基を有するポリマーである。上記ポリマーは、重合性のプレポリマー(オリゴマーを含む)であってもよい。   Examples of the resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule in 1) above include a polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at the terminal and / or side chain of the molecule. Preferred is a polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at least at one or both ends of the molecule, and more preferred is a polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at only one or both ends of the molecule. The polymer may be a polymerizable prepolymer (including an oligomer).

上記2)の活性エネルギー線照射による硬化過程で、樹脂の分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を導入する場合は、重合性のプレポリマーと、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する重合性モノマーとを活性エネルギー線硬化型組成物中に含有させればよい。   In the case of introducing a hydroxyl group and / or a carboxy group into the resin molecule during the curing process by active energy ray irradiation in 2) above, a polymerizable prepolymer and a polymerizable monomer having a hydroxyl group and / or a carboxy group are used. What is necessary is just to make it contain in an active energy ray hardening-type composition.

また、上記3)の上記1)及び上記2)の2つの態様を組み合わせる場合は、(i)予め分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するポリマー、及び、予め分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する重合性のプレポリマーからなる群の中から選ばれる少なくとも一種と、(ii)重合性のプレポリマーと、(iii)水酸基及び/またはカルボキシ基を有する重合性モノマーとを活性エネルギー線硬化型組成物中に含有(つまり、(i)、(ii)、及び(iii)を活性エネルギー線硬化型組成物中に含有)させればよい。   When combining the two aspects 1) and 2) of 3) above, (i) a polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule in advance, and a hydroxyl group and / or carboxy in the molecule in advance. Active energy ray curing of at least one selected from the group consisting of a polymerizable prepolymer having a group, (ii) a polymerizable prepolymer, and (iii) a polymerizable monomer having a hydroxyl group and / or a carboxy group What is necessary is just to make it contain in a type | mold composition (that is, (i), (ii), and (iii) are contained in an active energy ray hardening-type composition).

上記した水酸基及び/またはカルボキシ基を有する重合性のプレポリマーとは、水酸基及び/またはカルボキシ基を有し、さらに分子中にエチレン性不飽和基を有するポリマーである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基等が挙げられる。   The above-mentioned polymerizable prepolymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group is a polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group and further having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acrylic group, and a methacryl group.

アクリル系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物としては、分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、重合性モノマー及び/又は重合性オリゴマー、並びに重合開始剤を含む組成物が挙げられる。以下、アクリル系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物に好適な各成分について説明する。   Examples of the active energy ray-curable composition using an acrylic resin include a composition containing an acrylic polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in a molecule, a polymerizable monomer and / or a polymerizable oligomer, and a polymerization initiator. Can be mentioned. Hereinafter, each component suitable for the active energy ray-curable composition using an acrylic resin will be described.

分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル(アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル)のモノマーと、カルボキシル基及び/または水酸基を有するモノマーとを共重合したアクリル系ポリマーを挙げることができる。活性エネルギー線硬化型組成物における分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーの使用量は、活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して10〜80質量%の範囲が好ましく、20〜60質量%の範囲がより好ましい。   Examples of the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule include a monomer of (meth) acrylic acid ester (acrylic acid ester, methacrylic acid ester) and a monomer having a carboxyl group and / or a hydroxyl group. A polymerized acrylic polymer can be mentioned. The amount of the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule in the active energy ray curable composition is preferably in the range of 10 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the active energy ray curable composition, The range of 20-60 mass% is more preferable.

また更に、上記の分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーに加えて、側鎖にエチレン性不飽和基を有する重合性アクリル系プレポリマーを用いることができる。側鎖にエチレン性不飽和基を有する重合性アクリル系プレポリマーの使用量は、上記分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマー100質量部に対して5〜500質量部の範囲が好ましく、10〜300質量%の範囲がより好ましい。   Furthermore, in addition to the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule, a polymerizable acrylic prepolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain can be used. The amount of the polymerizable acrylic prepolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain ranges from 5 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule. The range of 10 to 300% by mass is more preferable.

上記の分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマー及び側鎖にエチレン性不飽和基を有する重合性アクリル系プレポリマーの重量平均分子量としては1万〜50万の範囲が好ましく、2万〜40万の範囲がより好ましい。   The weight average molecular weight of the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or carboxy group in the molecule and the polymerizable acrylic prepolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain is preferably in the range of 10,000 to 500,000. The range of 10,000 to 400,000 is more preferable.

上記の分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するアクリル系ポリマー及び側鎖にエチレン性不飽和基を有する重合性アクリル系プレポリマーの使用量は、粘着剤層の原料である活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して30〜95質量%の範囲が好ましい。   The use amount of the acrylic polymer having a hydroxyl group and / or carboxy group in the molecule and the polymerizable acrylic prepolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain is an active energy ray curable type which is a raw material of the pressure-sensitive adhesive layer. The range of 30-95 mass% is preferable with respect to 100 mass% of compositions.

重合性モノマーとしては、例えば2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロイソフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロテレフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルイソフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルテレフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのカプロラクトン変性物、2−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、フェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エチルへキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロノニル(メタ)アクリレート、シクロデシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、シクロステアリル(メタ)アクリレート、シクロラウリル(メタ)アクリレート、4−t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリシクロデカル(メタ)アクリレート、シクロプロピル(メタ)アクリレート、シクロブチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エチレンオキサイド付加(メタ)アクリレート、水転ビスフェノールA型エチレンオキサイド付加(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、アジピン酸ビニル、アクリル酸ビニル等が挙げられる。これらの中でも、単官能の(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。   Examples of the polymerizable monomer include 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydroisophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydroterephthalic acid, 2 -(Meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl terephthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, (meth) Acrylate, (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, 2- Hydroxyethyl (meth) a Modified caprolactone, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate Fate, phenyl (meth) acrylate, nonylphenol EO adduct (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cyclononyl (meth) acrylate, cyclodecyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate Rate, cyclostearyl (meth) acrylate, cyclolauryl (meth) acrylate, 4-t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) Acrylate, phenoxy (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy-polyethylene glycol (meth) acrylate, tricyclodecal (meth) acrylate, cyclopropyl (meth) acrylate, cyclobutyl (meth) Acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, bisphenol A type ethylene oxide addition (meth) acrylate, water bisphenol A type Eth Examples include lenoxide added (meth) acrylate, divinylbenzene, vinyl adipate, and vinyl acrylate. Among these, monofunctional (meth) acrylate compounds are preferably used.

重合性オリゴマーとしては、ウレタン系オリゴマー、ポリエーテル系オリゴマー、ポリエステル系オリゴマー、ポリカーボネート系オリゴマー、ポリブタジエン系オリゴマーなどが挙げられる。   Examples of the polymerizable oligomer include urethane oligomers, polyether oligomers, polyester oligomers, polycarbonate oligomers, and polybutadiene oligomers.

重合性モノマー及び/又は重合性オリゴマーの使用量(重合性モノマーと重合性オリゴマーを併用する場合は両者の合計量)は、アクリル系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して、1〜30質量%の範囲が好ましく、2〜20質量%の範囲がより好ましい。   The amount of the polymerizable monomer and / or polymerizable oligomer used (the total amount of both when the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer are used together) is 100% by mass of the active energy ray-curable composition using an acrylic resin. And the range of 1-30 mass% is preferable, and the range of 2-20 mass% is more preferable.

重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル等のベンゾフェノン系、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のヒドロキシアルキルフェノン系、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン系、トリエタノールアミン、4−ジメチル安息香酸エチル等のアミン系が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator include acetophenones such as diethoxyacetophenone and benzyldimethyl ketal, benzoin ethers such as benzoin and benzoin methyl ether, benzophenones such as benzophenone and methyl o-benzoylbenzoate, and 1-hydroxy-cyclohexyl- Examples thereof include hydroxyalkylphenones such as phenyl-ketone, thioxanthones such as 2-isopropylthioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone, and amines such as triethanolamine and ethyl 4-dimethylbenzoate.

重合開始剤の使用量は、アクリル系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して、0.05〜5質量%の範囲が適当である。   The amount of the polymerization initiator used is suitably in the range of 0.05 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the active energy ray-curable composition using an acrylic resin.

前述したように、粘着剤層としては、ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物が特に好ましく用いられる。以下、ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物について説明する。   As described above, an active energy ray-curable composition using a urethane resin is particularly preferably used as the pressure-sensitive adhesive layer. Hereinafter, the active energy ray-curable composition using a urethane resin will be described.

かかる組成物に用いられるウレタン系樹脂として、分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマー(A1)あるいは分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンプレポリマー(A2)が好ましい。ここで、ウレタンプレポリマー(A2)は、重合性ポリマーを意味し、より具体的には分子中にエチレン性不飽和基を有するポリマーを意味する。上記のエチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基等が挙げられる。   As the urethane resin used in such a composition, a urethane polymer (A1) having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule or a urethane prepolymer (A2) having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule is preferable. Here, the urethane prepolymer (A2) means a polymerizable polymer, more specifically, a polymer having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group.

前記ウレタンポリマー(A1)の中でも、分子片末端もしくは両末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマーが好ましく、分子の両末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマーがより好ましく、特に分子の両末端にのみ水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマーがより好ましい。   Among the urethane polymers (A1), a urethane polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at one or both ends of the molecule is preferable, and a urethane polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at both ends of the molecule is more preferable. A urethane polymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group only at both terminals is more preferred.

前記ウレタンプレポリマー(A2)の中でも、分子末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンプレポリマーが好ましく、分子の片末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有し、もう一方の末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーがより好ましく、特に分子の片末端にのみ水酸基及び/またはカルボキシ基を有し、もう一方の末端にのみエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーがより好ましい。   Among the urethane prepolymers (A2), a urethane prepolymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group at the molecular end is preferable, having a hydroxyl group and / or a carboxy group at one end of the molecule, and having no ethylenic group at the other end. A urethane prepolymer having a saturated group is more preferable, and a urethane prepolymer having a hydroxyl group and / or a carboxy group only at one end of the molecule and an ethylenically unsaturated group only at the other end is more preferable.

分子末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマー(A1)あるいはウレタンプレポリマー(A2)の重量平均分子量としては、1万〜10万の範囲が好ましく、2〜8万の範囲がより好ましく、特に2〜5万の範囲が好ましい。   The weight average molecular weight of the urethane polymer (A1) or urethane prepolymer (A2) having a hydroxyl group and / or a carboxy group at the molecular end is preferably in the range of 10,000 to 100,000, more preferably in the range of 2 to 80,000. The range of 2 to 50,000 is particularly preferable.

上記の分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマー(A1)及び分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンプレポリマー(A2)を総称して、以降、単にウレタンプレポリマー(A)という。   The urethane polymer (A1) having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule and the urethane prepolymer (A2) having a hydroxyl group and / or a carboxy group in the molecule are collectively referred to as a urethane prepolymer (A) hereinafter. That's it.

ウレタン系樹脂を含む活性エネルギー線硬化型組成物において、上記のウレタンプレポリマー(A)と組み合わせて、その他のウレタン系樹脂として分子末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(B)を用いることが好ましい。   In the active energy ray-curable composition containing a urethane resin, a urethane prepolymer (B) having an ethylenically unsaturated group at the molecular end is used as another urethane resin in combination with the urethane prepolymer (A). It is preferable.

上記のウレタンプレポリマー(B)として、分子の片末端もしくは両末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーが挙げられるが、分子の両末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーが好ましく用いられる。上記のエチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基等が挙げられる。上記ウレタンプレポリマーの重量平均分子量は、1万〜10万の範囲が好ましく、2〜8万の範囲がより好ましく、特に2〜5万の範囲が好ましい。   Examples of the urethane prepolymer (B) include urethane prepolymers having an ethylenically unsaturated group at one or both ends of the molecule, but urethane prepolymers having an ethylenically unsaturated group at both ends of the molecule are preferred. Used. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acryl group, and a methacryl group. The weight average molecular weight of the urethane prepolymer is preferably in the range of 10,000 to 100,000, more preferably in the range of 2 to 80,000, and particularly preferably in the range of 2 to 50,000.

上記のウレタンプレポリマー(A)とウレタンプレポリマー(B)の使用比率は、質量比で、9:1〜1:9の範囲が好ましく、8:2〜2:8の範囲がより好ましい。これによって、表示パネルあるいはディスプレイ用フィルターの基材との密着性が良好で、かつ耐衝撃性に優れた粘着剤層を形成することができる。   The use ratio of the urethane prepolymer (A) and the urethane prepolymer (B) is preferably in the range of 9: 1 to 1: 9, more preferably 8: 2 to 2: 8 in terms of mass ratio. As a result, it is possible to form a pressure-sensitive adhesive layer that has good adhesion to the substrate of the display panel or display filter and is excellent in impact resistance.

活性エネルギー線硬化型組成物におけるウレタン系樹脂の使用量は、該組成物100質量%に対して、30〜95質量%の範囲が好ましく、40〜95質量%の範囲がより好ましく、特に50〜95質量%の範囲が好ましい。   The amount of the urethane resin used in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 30 to 95% by mass, more preferably in the range of 40 to 95% by mass, particularly 50 to 50% with respect to 100% by mass of the composition. A range of 95% by mass is preferred.

上記のウレタンプレポリマー(A)は、例えば、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーのイソシアネート基と、多価カルボン酸、オキシカルボン酸、多価アルコールとを反応させることによって得ることができる。   The urethane prepolymer (A) can be obtained, for example, by reacting an isocyanate group of a urethane prepolymer having an isocyanate group at a molecular terminal with a polyvalent carboxylic acid, an oxycarboxylic acid, or a polyhydric alcohol.

また、上記ウレタンプレポリマー(B)は、例えば、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーのイソシアネート基と、該イソシアネート基と反応しうる官能基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基等)と(メタ)アクリレート基とを有する化合物とを反応させることによって得ることができる。   The urethane prepolymer (B) includes, for example, an isocyanate group of a urethane prepolymer having an isocyanate group at a molecular end and a functional group capable of reacting with the isocyanate group (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide). Group) and a compound having a (meth) acrylate group can be obtained.

分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーは、ポリオールとイソシアネート化合物とを反応させて合成することができる。ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙げられるが、これらの中でもポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、及びポリカプロラクトンポリオールが好ましい。   The urethane prepolymer having an isocyanate group at the molecular end can be synthesized by reacting a polyol and an isocyanate compound. Examples of the polyol include polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, and polycarbonate polyol. Among these, polyester polyol, polyether polyol, and polycaprolactone polyol are preferable.

上記ポリエステルポリオールは、多価カルボン酸と多価アルコールをエステル化反応させて得ることができる。かかる多価カルボン酸としては、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、乳酸、ダイマー酸等が挙げられ、中でもアジピン酸、セバシン酸、ピロリメット酸、ダイマー酸が好ましい。   The polyester polyol can be obtained by esterifying a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol. Such polycarboxylic acids include adipic acid, sebacic acid, succinic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itacone Examples include acids, trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, lactic acid, dimer acid, and the like. Of these, adipic acid, sebacic acid, pyrrolimetic acid, and dimer acid are preferable.

多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル1,5−ペンタンジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等を用いることができ、中でもエチレングリコール、1,4−ブタンジオール等の2官能アルコールが好ましい。   Polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polybutylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6 -Hexanediol, 3-methyl 1,5-pentanediol, ethylene oxide or propylene oxide adduct of bisphenol A, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc. can be used. Bifunctional alcohols such as 4-butanediol are preferred.

上記ポリエーテルポリオールは多価アルコールをエーテル化反応させて得ることができる。ここで用いる多価アルコールとしては、上記ポリエステルポリオールの製造に用いる多価アルコールと同様のものを用いることができる。   The polyether polyol can be obtained by an etherification reaction of a polyhydric alcohol. As a polyhydric alcohol used here, the thing similar to the polyhydric alcohol used for manufacture of the said polyester polyol can be used.

上記ポリカプロラクトンポリオールは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール,1,9−ノナンジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド,もしくはプロピレンオキサイド付加物、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等公知慣用の多価アルコールのε−カプロラクトン付加物等が挙げられる。   The polycaprolactone polyol is ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, ethylene oxide of bisphenol A, or Examples include propylene oxide adducts, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ε-caprolactone adducts of known and commonly used polyhydric alcohols such as pentaerythritol.

上記ポリカーボネートポリオールとしては、前述のポリエステルポリオールの合成に用いられる多価アルコールとホスゲンとの脱塩酸反応、あるいは前記多価アルコールとジエチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート等とのエステル交換反応で得られるものが挙げられる。   Examples of the polycarbonate polyol include a dehydrochlorination reaction between the polyhydric alcohol and phosgene used in the synthesis of the polyester polyol, or a transesterification reaction between the polyhydric alcohol and diethylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, and the like. What is obtained is mentioned.

分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの合成に用いられるイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物が挙げられる。   Isocyanate compounds used for the synthesis of urethane prepolymers having an isocyanate group at the molecular end include tolylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, lysine diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate. And diisocyanate compounds such as xylene diisocyanate and hydrogenated xylylene diisocyanate.

ウレタンプレポリマー(A)及びウレタンプレポリマー(B)の合成に用いられる分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーとしては、分子の両末端にイソシアネート基を有するものが好ましい。   As a urethane prepolymer which has an isocyanate group in the molecular terminal used for the synthesis | combination of a urethane prepolymer (A) and a urethane prepolymer (B), what has an isocyanate group in the both terminal of a molecule | numerator is preferable.

前述したようにウレタンプレポリマー(A)は、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーのイソシアネート基と、多価カルボン酸、オキシカルボン酸、多価アルコールとを反応させることによって得ることができるが、ここで用いられる、多価カルボン酸、オキシカルボン酸、多価アルコールを以下に例示する。   As described above, the urethane prepolymer (A) can be obtained by reacting an isocyanate group of a urethane prepolymer having an isocyanate group at a molecular terminal with a polyvalent carboxylic acid, an oxycarboxylic acid, or a polyhydric alcohol. Examples of polycarboxylic acids, oxycarboxylic acids and polyhydric alcohols used here are as follows.

上記の多価カルボン酸としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、ダイマー酸、エタン−1,1,2−トリカルボン酸、ヘキサン−2,3,5−トリカルボン酸等公知慣用の有機酸が好適に用いられるが、他の成分との相溶性の面からジカルボン酸が好ましい。   Examples of the polyvalent carboxylic acid include adipic acid, sebacic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, and fumaric acid. , Maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, dimer acid, ethane-1,1,2-tricarboxylic acid, hexane-2,3,5 -Known and commonly used organic acids such as tricarboxylic acids are preferably used, but dicarboxylic acids are preferred from the standpoint of compatibility with other components.

上記のオキシカルボン酸としては、例えば、乳酸、グリコール酸、トリオキシ酪酸、トリオキシ吉草酸、トリオキシヘキサン酸、グルコン酸等公知慣用の有機酸が好適に用いられる。   As said oxycarboxylic acid, well-known and usual organic acids, such as lactic acid, glycolic acid, trioxybutyric acid, trioxyvaleric acid, trioxyhexanoic acid, gluconic acid, are used suitably, for example.

上記の多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル1,5−ペンタンジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールを好ましく用いることができる。中でも、他の成分との相溶性や吸水安定性の面から1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル1,5−ペンタンジオール等のジオールが特に好ましい。   Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polybutylene glycol, polypropylene glycol, and 1,3-butanediol. 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide adduct, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc. A polyhydric alcohol can be preferably used. Among them, diols such as 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 3-methyl-1,5-pentanediol are preferable from the viewpoint of compatibility with other components and water absorption stability. Particularly preferred.

前述したようにウレタンプレポリマー(B)は、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーのイソシアネート基と、該イソシアネート基と反応しうる官能基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基等)と(メタ)アクリレート基とを有する化合物とを反応させることによって得ることができるが、ここで用いられる、イソシアネート基と反応しうる官能基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基等)と(メタ)アクリレート基とを有する化合物について、以下に例示する。   As described above, the urethane prepolymer (B) includes an isocyanate group of a urethane prepolymer having an isocyanate group at a molecular end and a functional group capable of reacting with the isocyanate group (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group). Etc.) and a compound having a (meth) acrylate group can be obtained by using a functional group capable of reacting with an isocyanate group used herein (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide). Examples of compounds having a group or the like) and a (meth) acrylate group are given below.

上記のイソシアネート基と反応しうる官能基と(メタ)アクリレート基とを有する化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのカプロラクトン変性物、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸等のカルボキシル基含有(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基含有(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メチロールプロパン(メタ)アクリルアミドなどのアミド基含有(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、特にヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。   Examples of the compound having a functional group capable of reacting with the isocyanate group and a (meth) acrylate group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and butanediol mono (meth) acrylate. , 2-hydroxyethyl (meth) acrylate modified with caprolactone, glycidol di (meth) acrylate, hydroxyl group-containing (meth) acrylate such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate , Carboxyl group-containing (meth) acrylates such as carboxypentyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, and amino group-containing (meta) such as N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate Amide group-containing (meth) acrylates such as acrylate, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methylolpropane (meth) acrylamide Etc. Among these, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound is particularly preferably used.

また、本発明において、ウレタン系樹脂として、上記のウレタンプレポリマー(A)とウレタンプレポリマー(B)とを1つの合成過程で同時に合成して得られたウレタンプレポリマー(C)を用いることも好ましい。   In the present invention, the urethane prepolymer (C) obtained by simultaneously synthesizing the urethane prepolymer (A) and the urethane prepolymer (B) in one synthesis process may be used as the urethane resin. preferable.

上記のウレタンプレポリマー(C)は、例えば、前述の分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーに、多価カルボン酸、オキシカルボン酸および多価アルコールから選ばれる少なくとも一種と、イソシアネート基と反応しうる官能基と(メタ)アクリレート基を有する化合物とを同時に反応させることによって得ることができる。ここで使用する、多価カルボン酸、オキシカルボン酸、多価アルコール、イソシアネート基と反応しうる官能基と(メタ)アクリレート基とを有する化合物としては、前述と同様の化合物が用いられる。   For example, the urethane prepolymer (C) reacts with an isocyanate group with at least one selected from polycarboxylic acid, oxycarboxylic acid and polyhydric alcohol in the urethane prepolymer having an isocyanate group at the molecular end described above. It can be obtained by reacting a functional group that can be obtained and a compound having a (meth) acrylate group simultaneously. As the compound having a functional group capable of reacting with a polyvalent carboxylic acid, oxycarboxylic acid, polyhydric alcohol, or isocyanate group and a (meth) acrylate group, the same compounds as described above are used.

上記ウレタンプレポリマー(C)の中には、前述の、分子の片末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有し、もう一方の末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(A2)、及び分子の両末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(B)が少なくとも含まれる。前述の分子両末端に水酸基及び/またはカルボキシ基を有するウレタンポリマー(A1)も、合成方法を調整することによって含ませることが可能である。   In the urethane prepolymer (C), the urethane prepolymer (A2) having a hydroxyl group and / or a carboxy group at one end of the molecule and an ethylenically unsaturated group at the other end, and At least the urethane prepolymer (B) having an ethylenically unsaturated group at both ends of the molecule is included. The urethane polymer (A1) having a hydroxyl group and / or a carboxy group at both molecular ends can be included by adjusting the synthesis method.

上記ウレタンプレポリマー(C)において、分子末端アクリレート比率は、全てのウレタン分子の全末端の50〜90%であるのが好ましい。上記分子末端アクリレート比率は、多価カルボン酸、オキシカルボン酸、及び多価アルコールから選ばれる少なくとも一種と、イソシアネート基と反応しうる官能基と(メタ)アクリレート基とを有する化合物との仕込み比率を調整することによって、あるいは仕込み順序と仕込み時間を調整することによって、調製することができる。   In the urethane prepolymer (C), the molecular terminal acrylate ratio is preferably 50 to 90% of all terminals of all urethane molecules. The molecular terminal acrylate ratio is a charge ratio of a compound having at least one selected from polyvalent carboxylic acid, oxycarboxylic acid, and polyhydric alcohol, a functional group capable of reacting with an isocyanate group, and a (meth) acrylate group. It can be prepared by adjusting, or by adjusting the charging sequence and charging time.

上記の分子末端アクリレート比率は、ウレタンプレポリマー(C)の酸価もしくは水酸基価を滴定法等で求め、得られた酸価もしくは水酸基価と分子量から算出することができる。   The molecular terminal acrylate ratio can be calculated from the acid value or hydroxyl value and molecular weight obtained by determining the acid value or hydroxyl value of the urethane prepolymer (C) by a titration method or the like.

ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物には、更に重合性モノマーとして、(メタ)アクリレート化合物やビニル化合物を用いることが好ましい。   In the active energy ray-curable composition using a urethane resin, it is preferable to use a (meth) acrylate compound or a vinyl compound as a polymerizable monomer.

かかる重合性モノマーとしては、例えば2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロイソフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロテレフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルイソフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルテレフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのカプロラクトン変性物、2−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、フェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロノニル(メタ)アクリレート、シクロデシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、シクロステアリル(メタ)アクリレート、シクロラウリル(メタ)アクリレート、4−t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリシクロデカル(メタ)アクリレート、シクロプロピル(メタ)アクリレート、シクロブチル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エチレンオキサイド付加(メタ)アクリレート、水転ビスフェノールA型エチレンオキサイド付加(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、アジピン酸ビニル、アクリル酸ビニル等が挙げられる。これらの中でも、単官能の(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。特に、ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物の硬化過程で、ウレタン系樹脂に水酸基あるいはカルボキシ基を導入するという観点から、水酸基あるいはカルボキシ基を有する単官能の(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。   Examples of the polymerizable monomer include 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydroisophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydroterephthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl isophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl terephthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, (meta ) Acrylate, (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, 2 -Hydroxyethyl (me ) Caprolactone modified product of acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl acid Phosphate, phenyl (meth) acrylate, nonylphenol EO adduct (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cyclononyl (meth) acrylate, cyclodecyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) Acrylate, cyclostearyl (meth) acrylate, cyclolauryl (meth) acrylate, 4-t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) Acrylate, phenoxy (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy-polyethylene glycol (meth) acrylate, tricyclodecal (meth) acrylate, cyclopropyl (meth) acrylate, cyclobutyl (meth) Acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, bisphenol A type ethylene oxide addition (meth) acrylate, water bisphenol A Type ethylene oxide addition (meth) acrylate, divinylbenzene, vinyl adipate, vinyl acrylate and the like. Among these, monofunctional (meth) acrylate compounds are preferably used. In particular, a monofunctional (meth) acrylate compound having a hydroxyl group or a carboxy group is used from the viewpoint of introducing a hydroxyl group or a carboxy group into the urethane resin during the curing process of the active energy ray-curable composition using the urethane resin. Preferably used.

上記した重合性モノマーの使用量は、ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して、1〜50質量%の範囲が好ましく、2〜30質量%の範囲が好ましい。   The amount of the polymerizable monomer described above is preferably in the range of 1 to 50% by mass and preferably in the range of 2 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the active energy ray-curable composition using a urethane resin.

また、上記の水酸基あるいはカルボキシ基を有する単官能の(メタ)アクリレート化合物の使用量は、前述したウレタンプレポリマー(A2)とウレタンプレポリマー(B)の合計量100質量部に対して、2〜20質量部の範囲が好ましく、特に3〜15質量部の範囲が好ましい。   Moreover, the usage-amount of the monofunctional (meth) acrylate compound which has said hydroxyl group or carboxy group is 2-2 with respect to 100 mass parts of total amounts of the urethane prepolymer (A2) and urethane prepolymer (B) mentioned above. The range of 20 parts by mass is preferable, and the range of 3 to 15 parts by mass is particularly preferable.

ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物には、更に重合開始剤を含有させることが好ましい。かかる重合開始剤としては市販のものを広く使用することができるが、以下に示すような重合開始剤が好ましく用いられる。例えば、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル等のベンゾフェノン系、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のヒドロキシアルキルフェノン系、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン系、トリエタノールアミン、4−ジメチル安息香酸エチル等のアミン系が挙げられる。   The active energy ray-curable composition using a urethane resin preferably further contains a polymerization initiator. Commercially available products can be widely used as such polymerization initiators, but the following polymerization initiators are preferably used. For example, acetophenone series such as diethoxyacetophenone and benzyldimethyl ketal, benzoin ether series such as benzoin and benzoin methyl ether, benzophenone series such as benzophenone and methyl o-benzoylbenzoate, and hydroxy such as 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone Examples include alkylphenones, thioxanthones such as 2-isopropylthioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone, and amines such as triethanolamine and ethyl 4-dimethylbenzoate.

重合開始剤の使用量は、ウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に対して、0.05〜5質量%の範囲が適当である。   The amount of the polymerization initiator used is suitably in the range of 0.05 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the active energy ray-curable composition using a urethane resin.

前述したウレタン系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物やアクリル系樹脂を用いた活性エネルギー線硬化型組成物などの活性エネルギー線硬化型組成物は、実質的に有機溶剤を含まない、所謂、無溶剤型であることが好ましく、無溶剤型のウレタン系紫外線硬化型組成物であることがより好ましい。ここで、活性エネルギー線硬化型組成物が実質的に有機溶剤を含まないとは、活性エネルギー線硬化型組成物100質量%に含まれる有機溶剤の量が5質量%以下であることを意味し、好ましくは有機溶剤量が3質量%以下であり、より好ましくは有機溶剤量が1質量%以下であり、特に好ましくは有機溶剤を全く含まないことである。   The active energy ray-curable composition such as the active energy ray-curable composition using the urethane resin and the active energy ray-curable composition using the acrylic resin are substantially free of an organic solvent. The solvent-free type is preferable, and a solvent-free urethane-based ultraviolet curable composition is more preferable. Here, that the active energy ray-curable composition does not substantially contain an organic solvent means that the amount of the organic solvent contained in 100% by mass of the active energy ray-curable composition is 5% by mass or less. The amount of the organic solvent is preferably 3% by mass or less, more preferably the amount of the organic solvent is 1% by mass or less, and particularly preferably no organic solvent is contained.

上記有機溶剤は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸ブチル、エタノール、メタノールなどの揮発性の高い有機溶剤を対象とし、特に、沸点が130℃以下の有機溶剤を対象とする。   The organic solvent is a highly volatile organic solvent such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, butyl acetate, ethanol, and methanol, and particularly an organic solvent having a boiling point of 130 ° C. or less.

上記有機溶剤には、液状の重合性モノマー(例えば反応性希釈剤として用いられるような低分子のアクリレートモノマー等)は含まれない。   The organic solvent does not include a liquid polymerizable monomer (for example, a low-molecular acrylate monomer used as a reactive diluent).

前述の活性エネルギー線硬化型組成物を無溶剤型とすることで、製造工程における安全性や環境性が改善され、また、粘着剤層(1)の残存溶剤の大幅な低減が図られる。   By making the above-mentioned active energy ray-curable composition non-solvent type, safety and environmental performance in the production process are improved, and the residual solvent in the pressure-sensitive adhesive layer (1) can be greatly reduced.

本発明の水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)には、黄変防止のために、酸化防止剤や光安定剤を含有させることが好ましい。   In order to prevent yellowing, the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group of the present invention preferably contains an antioxidant or a light stabilizer.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が好ましく用いられる。光安定剤としては、立体障害ピペリジル基とエチレン性不飽和基とを有する単量体が好ましく用いられる。   As the antioxidant, a hindered phenol antioxidant and a phosphorus antioxidant are preferably used. As the light stabilizer, a monomer having a sterically hindered piperidyl group and an ethylenically unsaturated group is preferably used.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンタエリスリトール−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、エチレンビス(オキシエチレン)ビス〔3−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート〕、ヘキサメチレン−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス〔2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカン、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナミド〕、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、N,N’−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン、ジエチル〔(3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル)メチル〕ホスフェート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、3,3’,3’’,5,5’,5’’−ヘキサ−t−ブチル−a,a’,a’’−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル)イソシアヌル酸、1,3,5−トリス(4−sec−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル)イソシアヌル酸、1,3,5−トリス(4−ネオペンチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル)イソシアヌル酸、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、p−クロロメチルスチレンとp−クレゾールの重縮合物、p−クロロメチルスチレンとジビニルベンゼンの重縮合物、p−クレゾールとジビニルベンゼン重縮合物のイソブチレン反応物、などが挙げられる。   Examples of the hindered phenol antioxidant include triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol-tetrakis [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-t-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylene-bis [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], isooctyl-3- 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, N, N′-hexane-1,6-diylbis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], N, N′-hexamethylenebis ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, diethyl [(3 5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl) methyl] phosphate, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphonate-diethyl ester, 3,3 ′, 3 ″ , 5,5 ′, 5 ″ -hexa-t-butyl-a, a ′, a ″-(mesitylene-2,4,6-triyl) tri-p-cresol, 1,1,3-tris ( 2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethyl) isocyanuric acid, 1,3,5- Tris (4-sec-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethyl) isocyanuric acid, 1,3,5-tris (4-neopentyl-3-hydroxy-2,6-dimethyl) isocyanuric acid, 2,2 ′ -Methylenebis (4 -Methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, Tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, polycondensate of p-chloromethylstyrene and p-cresol, polycondensate of p-chloromethylstyrene and divinylbenzene, p -An isobutylene reaction product of cresol and divinylbenzene polycondensate, and the like.

上記化合物の中でも、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンタエリスリトール−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、エチレンビス(オキシエチレン)ビス〔3−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート〕、ヘキサメチレン−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のプロピオネート化合物が好ましく用いられる。   Among the above compounds, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-t-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylene-bis [3- (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], isooctyl-3- (3,5-di-t-butyl-4- Hydroxyphenyl) propionate compounds such propionate are preferably used.

リン系酸化防止剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジフェニルオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンフォスファイト、トリスノニルフェニルフォスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトール−ジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)(1,1−ビフェニル)−4,4’−ジイルビスホスホナイト、ジ−t−ブチル−m−クレジル−ホスホナイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ペンタエリスリールジホスファイト、ジ(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリールジホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライル(オクタデシルホスファイト)、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ビス(トリデシル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールAペンタエリスリトールホスファイトポリマー、水添ビスフェノールAホスファイトポリマー、テトラフェニルテトラ(トリデシル)ペンタエリスリトールテトラホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイトなどが挙げられる。   Examples of phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, diphenyl octyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tetrakis (2, 4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene phosphite, trisnonylphenyl phosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphos Phyto, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4- Dicumylphenyl) pentaerythrito Ru-diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) (1,1-biphenyl) -4,4'-diylbisphosphonite, di-t-butyl-m-cresyl-phosphonite, distearyl penta Erythritol diphosphite, di (2,4-di-t-butylphenyl) -pentaerythryl diphosphite, di (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythryl diphosphite 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenyl-ditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl (octadecyl phosphite), diisodecyl pentaerythritol diphosphite, 2,2-methylene bis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, bis (tridecyl ) Pentaerythritol diphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, hydrogenated bisphenol A pentaerythritol phosphite polymer, hydrogenated bisphenol A phosphite polymer, tetraphenyltetra (tridecyl) pentaerythritol tetraphosphite, tetra ( Tridecyl) -4,4′-isopropylidene diphenyl diphosphite, tetraphenyl dipropylene glycol diphosphite and the like.

これらの中でも、トリフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジフェニルオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト等のトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、モノフェニルジアルキルホスファイトが好ましく用いられる。   Among these, triphenyl phosphites such as triphenyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, diphenyl octyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, and diphenyl alkyl phosphite. Phytes and monophenyl dialkyl phosphites are preferably used.

本発明に用いることができる、立体障害ピペリジル基とエチレン性不飽和基とを有する単量体、について説明する。係る単量体における立体障害ピペリジル基とは、ピペリジル基の2位と6位にそれぞれ1乃至2個のアルキル基を有するものであり、エチレン性不飽和基とは、アクリル基(アクリロイル基)、メタクリル基(メタクリロイル基)、クロトノイル基、ビニル基、アリル基等であり、エチレン性不飽和基が立体障害ピペリジル基の1位および/または4位に、直接もしくは酸素原子やイミノ基等の連結基を介して結合した化合物である。   A monomer having a sterically hindered piperidyl group and an ethylenically unsaturated group that can be used in the present invention will be described. The sterically hindered piperidyl group in such a monomer is one having 1 to 2 alkyl groups at the 2-position and 6-position of the piperidyl group, respectively. The ethylenically unsaturated group is an acryl group (acryloyl group), A methacryl group (methacryloyl group), a crotonoyl group, a vinyl group, an allyl group, etc., and an ethylenically unsaturated group is directly or directly at the 1-position and / or 4-position of a sterically hindered piperidyl group, or a linking group such as an oxygen atom or imino group It is a compound bound via

本発明に好ましく用いられる立体障害ピペリジル基とエチレン性不飽和基とを有する単量体は、下記一般式(1)および(2)で表すことができる。   Monomers having a sterically hindered piperidyl group and an ethylenically unsaturated group that are preferably used in the present invention can be represented by the following general formulas (1) and (2).

Figure 2010134436
Figure 2010134436

(式中、R は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、R〜Rはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を表し、Rは水素原子またはシアノ基を表し、R、Rはそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子またはイミノ基を表す。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 to R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 6 represents a hydrogen atom or a cyano group. R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 represents an oxygen atom or an imino group.)

Figure 2010134436
Figure 2010134436

(式中、R12〜R15はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を表し、R16は水素原子またはシアノ基を表し、R17〜R20はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子またはイミノ基を表す。)
前記一般式(1)で表される化合物としては、例えば4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられる。
(Wherein R 12 to R 15 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 16 represents a hydrogen atom or a cyano group, and R 17 to R 20 each independently represents a hydrogen atom or methyl) And X 2 represents an oxygen atom or an imino group.)
Examples of the compound represented by the general formula (1) include 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6. -Tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4 -Cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoylamino-2,2 , 6,6-tetramethylpiperidine and the like.

前記一般式(2)で表される化合物としては、例えば1−(メタ)アクリロイル−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトノイル−4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられる。   Examples of the compound represented by the general formula (2) include 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl-4. -Cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-crotonoyl-4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.

上記した化合物の中でも、一般式(1)で表される化合物が好ましく、特に4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンが好ましく用いられる。   Among the compounds described above, the compound represented by the general formula (1) is preferable, and 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1, 2,2,6,6-pentamethylpiperidine is preferably used.

上記したヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、および立体障害ピペリジル基とエチレン性不飽和基とを有する単量体の、それぞれの含有比率は、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)の全成分(有機溶剤は含まない)100質量%に対して0.05〜5質量%の範囲が好ましく、それぞれの含有比率が0.1〜3質量%の範囲がより好ましい。   Resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group in each content ratio of the hindered phenol antioxidant, the phosphorus antioxidant, and the monomer having a sterically hindered piperidyl group and an ethylenically unsaturated group The range of 0.05-5 mass% is preferable with respect to 100 mass% of all the components (an organic solvent is not included) of the adhesive layer (1) containing A, and each content ratio is 0.1-3 mass%. A range is more preferred.

本発明にかかる水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)には必要に応じて可塑剤を加えることもできる。かかる可塑剤としては、安息香酸ベンジル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジブチルベンジル、フタル酸ジオクチル、ブチルフタリルブチルグリコレートなどのフタル酸系化合物、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジブトキシエチルなどのアジピン酸系化合物、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシルなどのセバシン酸系化合物、リン酸トリエチレン、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリキシレニル、リン酸クレジルフェニルなどのリン酸化合物、ジオクチルセバケート、メチルアセチルリシノレートなどの脂肪酸系化合物、ジイソデシル−4,5−エポキシテトラヒドロフタレートなどのエポキシ系化合物、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ−2−エチルヘキシル、トリメリット酸トリn−オクチル、トリメリット酸トリイソデシルなどのトリメリット酸系化合物、その他オレイン酸ブチル、塩素化パラフィン、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリブテン、ポリイソブチレンなどが挙げられる。   A plasticizer can be added to the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group according to the present invention, if necessary. Such plasticizers include benzyl benzoate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, diisononyl phthalate, diisodecyl phthalate, dibutyl benzyl phthalate, dioctyl phthalate Phthalic acid compounds such as butyl phthalyl butyl glycolate, diisobutyl adipate, diisononyl adipate, diisodecyl adipate, dibutoxyethyl adipate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, etc. Sebacic acid compounds such as triethylene phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresylphenyl phosphate, dioctyl sebacate, methylacetylricinolate Any fatty acid compound, epoxy compound such as diisodecyl-4,5-epoxytetrahydrophthalate, trimellit such as tributyl trimellitic acid, tri-2-ethylhexyl trimellitic acid, tri-n-octyl trimellitic acid, triisodecyl trimellitic acid Examples include acid compounds, butyl oleate, chlorinated paraffin, polyoxypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polybutene, and polyisobutylene.

上記可塑剤の使用量は、粘着剤層(1)の全成分(有機溶剤は含まない)100質量%に対して、1〜30質量%の範囲が好ましい。   The amount of the plasticizer used is preferably in the range of 1 to 30% by mass with respect to 100% by mass of all components (not including the organic solvent) of the pressure-sensitive adhesive layer (1).

さらに、本発明にかかる水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)には、必要に応じて各種の重合禁止剤を添加することもできる。かかる重合禁止剤としてはハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、p−t−ブチルカテコール、2,6−ジブチル−4−メチルフェノール等を用いることができる。   Furthermore, various polymerization inhibitors can be added to the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group according to the present invention, if necessary. As such a polymerization inhibitor, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, benzoquinone, pt-butylcatechol, 2,6-dibutyl-4-methylphenol and the like can be used.

また、必要に応じて、上記以外の各種添加剤、たとえば、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色防止剤、顔料等を用いることもできる。   Moreover, various additives other than the above, for example, antioxidants, antifoaming agents, leveling agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, anti-coloring agents, pigments, and the like can be used as necessary.

本発明にかかる水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)の厚みは100μm以上である。本発明の水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有する粘着剤層(1)の厚みは、耐衝撃性を高めるという観点から大きい方が好ましいが、該粘着剤層(1)の厚みの上限は、塗布適性、硬化速度等の生産性、及びディスプレイの表示画像の視認性を考慮して、2000μm以下が好ましく、1500μm以下がより好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group according to the present invention is 100 μm or more. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group of the present invention is preferably larger from the viewpoint of improving impact resistance, but the upper limit of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (1). Is preferably 2000 μm or less, more preferably 1500 μm or less, in consideration of productivity such as application suitability, curing speed, and visibility of the display image on the display.

本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、前記水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含む粘着剤層(1)は前述の導電性フィルムを構成する基材(A)及び導電層に接触しないように配置される。   In the display filter of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group is disposed so as not to contact the substrate (A) and the conductive layer constituting the conductive film. The

前述のように、粘着剤層(1)に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を用いると、導電性フィルムを構成する導電層と直接あるいは間接的に、該粘着剤層(1)が接触することによって、時間経過とともに、粘着剤層(1)が変色する。ここで、導電層と粘着剤層(1)が間接的に接触するとは、予め導電層と接触状態にあった部材と該粘着剤層(1)とが接触する態様であり、例えば、以下のような、1)、2)及び3)の態様がある。   As described above, when a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group is used for the pressure-sensitive adhesive layer (1), the pressure-sensitive adhesive layer (1) is in direct contact with the conductive layer constituting the conductive film. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer (1) changes color over time. Here, the indirect contact between the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer (1) is a mode in which the pressure-sensitive adhesive layer (1) is in contact with a member that has been in contact with the conductive layer in advance. There are such aspects of 1), 2) and 3).

1)基材(A)上に導電層を形成する製造過程において、長尺状の基材(A)の一方の面に導電層を形成した後、ロール状に巻き取る場合、基材(A)の導電層とは反対面と導電層とが接触した状態となり、基材(A)の反対面にも導電層の成分が転写される場合がある。このような基材(A)の反対面に、その後の工程で粘着剤層(1)を積層した場合、上記のような変色の問題が起こりうる。   1) In the production process of forming a conductive layer on a base material (A), after forming a conductive layer on one surface of the long base material (A), the base material (A ) And the conductive layer are in contact with each other, and the component of the conductive layer may be transferred to the opposite surface of the substrate (A). When the pressure-sensitive adhesive layer (1) is laminated on the opposite surface of the base material (A) in the subsequent process, the problem of discoloration as described above may occur.

2)導電性フィルムの基材(A)の一方の面に予め他の層(例えば、易接着層、中間層、近赤外線遮蔽層、色調調整層等)を積層した後、基材(A)の他方の面に導電層を形成した後、ロール状に巻き取る場合も、上記と同様に、他の層と導電層は接触状態にあり、他の層に導電層の成分が転写する場合があり、上記と同様に粘着剤層(1)の変色が起こりうる。   2) After laminating other layers (for example, an easy-adhesion layer, an intermediate layer, a near-infrared shielding layer, a color tone adjustment layer, etc.) in advance on one surface of the substrate (A) of the conductive film, the substrate (A) When the conductive layer is formed on the other side of the film, it may be wound into a roll shape, as in the case described above, the other layer and the conductive layer may be in contact with each other, and the component of the conductive layer may be transferred to the other layer. In the same manner as above, discoloration of the pressure-sensitive adhesive layer (1) may occur.

3)基材(A)の一方の面に導電層が形成された導電性フィルムの他方の面に、上記の他の層を積層した後ロール状に巻き取る場合も、上記と同様の問題が起こりうる。   3) Even when the other layer is laminated on the other surface of the conductive film having the conductive layer formed on one surface of the substrate (A), the same problem as described above also occurs when the film is wound into a roll. It can happen.

上記のように、本発明は、前記水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含む粘着剤層(1)が導電層と直接あるいは間接的に接触しないように配置することが重要であり、従って粘着剤層(1)は、基材(A)及び導電層と接触しないように配置される。ここで、基材(A)とは、上記の2)及び3)の態様のように、基材(A)上に他の層が積層された状態のものが含まれる。   As described above, in the present invention, it is important to dispose the pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group so as not to contact the conductive layer directly or indirectly. The agent layer (1) is disposed so as not to contact the base material (A) and the conductive layer. Here, the base material (A) includes those in which other layers are laminated on the base material (A) as in the above-described aspects 2) and 3).

本発明のディスプレイ用フィルターの好ましい態様の1つとして、粘着剤層(1)が基材(B)上に積層された積層体(B)と導電性フィルムとが積層された積層体(AB)を含む態様が挙げられる。この積層体(AB)における積層体(B)と導電性フィルムの位置関係は、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されるように、積層体(B)と導電性フィルムが積層されている。   As one of the preferable embodiments of the display filter of the present invention, a laminate (AB) in which a laminate (B) in which an adhesive layer (1) is laminated on a substrate (B) and a conductive film are laminated. The aspect containing is mentioned. The positional relationship between the laminate (B) and the conductive film in the laminate (AB) is arranged in the order of the pressure-sensitive adhesive layer (1), the substrate (B), the substrate (A), and the conductive layer. The laminate (B) and the conductive film are laminated.

上記の積層体(AB)において、基材(B)と基材(A)、つまり積層体(B)と導電性フィルムは、粘着剤あるいは接着剤からなる厚みが5〜50μm程度の接着層を介して積層することができる。   In the laminated body (AB), the base material (B) and the base material (A), that is, the laminated body (B) and the conductive film are adhesive layers having a thickness of about 5 to 50 μm made of an adhesive or an adhesive. Can be stacked.

上記の積層体(AB)において、導電性フィルムの導電層側に、更に、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が、直接あるいはプラスチックフィルム等の基材を介して配置されていることが好ましい。上記した、導電性フィルムの導電層側に前記機能層が配置されたものを積層体(A)と言う。つまり積層体(A)とは、基材(A)、導電層、上記機能層がこの順に配置された構成である。   In the laminate (AB), a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function is further provided on the conductive layer side of the conductive film. It is preferable that they are arranged directly or via a substrate such as a plastic film. The above-described one in which the functional layer is disposed on the conductive layer side of the conductive film is referred to as a laminate (A). That is, the laminate (A) is a configuration in which the substrate (A), the conductive layer, and the functional layer are arranged in this order.

上記の積層体(A)と積層体(B)が貼合されたディスプレイ用フィルターにおいて、積層体(B)に設けられている粘着剤層(1)を、ディスプレイ用フィルターの最外層に配置して、該ディスプレイ用フィルターをディスプレイの表示パネルに貼り付けるための粘着剤層として用いることができる。   In the display filter in which the laminate (A) and the laminate (B) are bonded, the pressure-sensitive adhesive layer (1) provided in the laminate (B) is disposed in the outermost layer of the display filter. Thus, the display filter can be used as an adhesive layer for adhering to a display panel of a display.

上記態様において、粘着剤層(1)を、ディスプレイ用フィルターの最外層に配置して、該ディスプレイ用フィルターをディスプレイの表示パネルに、該粘着剤層(1)を介して直接に貼り付ける場合は、表示パネルとの密着性が良好であることが好ましい。   In the above aspect, when the pressure-sensitive adhesive layer (1) is disposed on the outermost layer of the display filter, and the display filter is directly attached to the display panel of the display via the pressure-sensitive adhesive layer (1). The adhesiveness with the display panel is preferably good.

また、本発明のディスプレイ用フィルターの好ましい他の態様として、前記積層体(AB)に、基材(C)上に厚みが5μm以上100μm未満の粘着剤層(2)を積層した積層体(C)をさらに積層した態様が挙げられる。   Further, as another preferred embodiment of the display filter of the present invention, a laminate (C) in which an adhesive layer (2) having a thickness of 5 μm or more and less than 100 μm is laminated on the substrate (AB) on the laminate (AB). ) Is further laminated.

この態様における積層体(C)と積層体(AB)は、粘着剤層(2)、基材(C)、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されるように、積層体(C)と積層体(AB)が積層されている。ここで、積層体(C)の粘着剤層(2)は、ディスプレイ用フィルターをディスプレイの表示パネルに貼り付けるためのものである。   The laminate (C) and laminate (AB) in this embodiment are the pressure-sensitive adhesive layer (2), the base material (C), the pressure-sensitive adhesive layer (1), the base material (B), the base material (A), and the conductive layer. The stacked body (C) and the stacked body (AB) are stacked so as to be arranged in this order. Here, the pressure-sensitive adhesive layer (2) of the laminate (C) is for affixing the display filter to the display panel of the display.

上記積層体(AB)に積層体(C)を積層した態様において、導電性フィルムの導電層側に、更に、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が、直接あるいはプラスチックフィルム等の基材を介して積層された積層体(A)を用いるのが好ましい。つまり、粘着剤層(2)、基材(C)、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層、機能層の順に配置されるように、積層体(C)、並びに、積層体(A)を有する積層体(AB)が積層されている態様が好ましい。   In the aspect in which the laminate (C) is laminated on the laminate (AB), the conductive film is further selected from the antireflection function, the antiglare function, the hard coat function, and the antifouling function on the conductive layer side of the conductive film. It is preferable to use a laminate (A) in which a functional layer having at least one function is laminated directly or via a substrate such as a plastic film. That is, the laminate (2), the base material (C), the pressure sensitive adhesive layer (1), the base material (B), the base material (A), the conductive layer, and the functional layer are arranged in this order. C) and an embodiment in which the laminate (AB) having the laminate (A) are laminated are preferable.

上記の積層体(A)、積層体(B)、及び積層体(C)に用いられる各基材(つまり、基材(B)、基材(C))としては、前述の導電性フィルムの基材(A)と同様のものが用いられる。   As each base material (namely, base material (B), base material (C)) used for said laminated body (A), laminated body (B), and laminated body (C), the above-mentioned conductive film is used. The same substrate (A) is used.

上記の態様において、本発明の水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含む粘着剤層(1)は、積層体(B)の基材(B)と積層体(C)の基材(C)との間に配置されるために、前記基材との密着強度はある程度高い方が好ましく、具体的には、密着強度(対ガラス板)は、3N/25mm以上が好ましく、4N/25mm以上が好ましく、特に5N/25mm以上が好ましい。密着強度の上限は、粘着剤層(1)の密着強度を高くしすぎると耐衝撃性が低下するので、30N/25mm以下であることが好ましく、25N/mm以下がより好ましい。   Said aspect WHEREIN: The adhesive layer (1) containing the resin which has a hydroxyl group and / or carboxy group of this invention is a base material (B) of a laminated body (B), and a base material (C) of a laminated body (C). The adhesion strength with the base material is preferably higher to some extent. Specifically, the adhesion strength (to the glass plate) is preferably 3 N / 25 mm or more, and more preferably 4 N / 25 mm or more. Particularly preferred is 5 N / 25 mm or more. The upper limit of the adhesion strength is preferably 30 N / 25 mm or less, and more preferably 25 N / mm or less, since the impact resistance decreases when the adhesion strength of the pressure-sensitive adhesive layer (1) is too high.

また、上記態様において、積層体(C)に用いられる粘着剤層(2)の密着強度は、表示パネルとの密着性が良好であることが好ましい。   Moreover, in the said aspect, it is preferable that the adhesive strength of the adhesive layer (2) used for a laminated body (C) has favorable adhesiveness with a display panel.

上記の積層体(A)を構成する機能層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層であることが好ましい。かかる機能層は、導電性フィルムの導電層上に直接に塗工形成されても良いし、予めプラスチックフィルム等の基材(D)に機能層が積層された機能性フィルムの基材(D)側と導電性フィルムの導電層側とを、厚みが5〜50μm程度の粘着剤あるいは接着剤からなる接着層を介して積層しても良い。また、上記導電性フィルムの基材(A)の導電層とは反対面に近赤外線遮蔽層あるいは色調調整層を積層しておいてもよいし、あるいは機能性フィルムの基材(D)の機能層とは反対面に近赤外線遮蔽層あるいは色調調整層を積層しておいても良い。この場合、近赤外線遮蔽層に色調調整機能を付与することが好ましい。   The functional layer constituting the laminate (A) is preferably a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function. Such a functional layer may be directly formed on the conductive layer of the conductive film, or a functional film base (D) in which the functional layer is previously laminated on a base (D) such as a plastic film. You may laminate | stack the side and the conductive layer side of an electroconductive film via the contact bonding layer which consists of an adhesive or an adhesive agent whose thickness is about 5-50 micrometers. Moreover, you may laminate | stack the near-infrared shielding layer or the color tone adjustment layer on the surface opposite to the electroconductive layer of the said base material (A) of the said electroconductive film, or the function of the base material (D) of a functional film. A near-infrared shielding layer or a color tone adjusting layer may be laminated on the surface opposite to the layer. In this case, it is preferable to provide a color tone adjusting function to the near-infrared shielding layer.

また更に、上記の導電性フィルムあるいは機能性フィルムの一方の面に近赤外線遮蔽層あるいは色調調整層を積層する代わりに、プラスチックフィルム等の基材(E)に近赤外線遮蔽層あるいは色調調整層が積層された近赤外線遮フィルム(色調調整フィルム)を、導電性フィルムと機能性フィルムとの間に配置して、厚みが5〜50μm程度の粘着剤あるいは接着剤からなる接着層を介して積層しても良い。この場合、近赤外線遮蔽フィルムの近赤外線遮蔽層に色調調整機能を付与することが好ましい。   Furthermore, instead of laminating a near-infrared shielding layer or a color tone adjusting layer on one surface of the conductive film or functional film, a near-infrared shielding layer or a color tone adjusting layer is formed on a substrate (E) such as a plastic film. The laminated near-infrared shielding film (color tone adjusting film) is disposed between the conductive film and the functional film, and laminated through an adhesive layer made of an adhesive or adhesive having a thickness of about 5 to 50 μm. May be. In this case, it is preferable to provide a color tone adjusting function to the near-infrared shielding layer of the near-infrared shielding film.

以下に、本発明にかかるディスプレイ用フィルターの構成例のいくつかを例示する。
a)粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/近赤外線遮蔽層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/機能層
b)粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/近赤外線遮蔽層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/接着層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
c)粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/接着層/近赤外線遮蔽層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
d)粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/接着層/近赤外線遮蔽フィルム(=近赤外線遮蔽層/基材(E))/接着層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
e)粘着剤層(2)/基材(C)/粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/近赤外線遮蔽層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/機能層
f)粘着剤層(2)/基材(C)/粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/近赤外線遮蔽層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/接着層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
g)粘着剤層(2)/基材(C)/粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/導電性フィルム(=基材(D)/導電層)/接着層/近赤外線遮蔽層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
h)粘着剤層(2)/基材(C)/粘着剤層(1)/基材(B)/接着層/導電性フィルム(=基材(A)/導電層)/接着層/近赤外線遮蔽フィルム(=近赤外線遮蔽層/基材(E)/接着層/機能性フィルム(=基材(D)/機能層)
上記の構成例において、近赤外線遮蔽層は色調調整機能を併せ持つことが好ましい。また、上記の構成例の中でも、c)、d)、g)及びh)の構成が好ましい。また更に、上記の構成例において、機能層が形成される基材(D)の厚みは150μm以上250μm以下で、他の全ての基材の厚みは50μm以上150μm未満であることが好ましい。
Below, some of the structural examples of the filter for display concerning this invention are illustrated.
a) Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Functional layer b) Adhesive layer (1) / Group Material (B) / Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Adhesive layer / Functional film (= Substrate (D) / Functional layer)
c) Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Functional film (= Substrate (D) ) / Functional layer)
d) Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Adhesive layer / Near-infrared shielding film (= Near-infrared shielding layer / Substrate ( E)) / adhesive layer / functional film (= base material (D) / functional layer)
e) Adhesive layer (2) / Substrate (C) / Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Functional layer f) Adhesive layer (2) / Base material (C) / Adhesive layer (1) / Base material (B) / Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Conductive film (= Base material (A) / Conductive layer) / adhesive layer / functional film (= base material (D) / functional layer)
g) Adhesive layer (2) / Substrate (C) / Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Conductive film (= Substrate (D) / Conductive layer) / Adhesive layer / Near Infrared shielding layer / functional film (= base material (D) / functional layer)
h) Adhesive layer (2) / Substrate (C) / Adhesive layer (1) / Substrate (B) / Adhesive layer / Conductive film (= Substrate (A) / Conductive layer) / Adhesive layer / Near Infrared shielding film (= near infrared shielding layer / base material (E) / adhesive layer / functional film (= base material (D) / functional layer)
In the above configuration example, the near-infrared shielding layer preferably has a color tone adjustment function. Among the above configuration examples, the configurations c), d), g), and h) are preferable. Furthermore, in the above configuration example, the thickness of the base material (D) on which the functional layer is formed is preferably 150 μm or more and 250 μm or less, and the thickness of all other base materials is preferably 50 μm or more and less than 150 μm.

以下、本発明のディスプレイ用フィルターの好ましい態様を構成する、機能層、近赤外線遮蔽層、色調調整層について説明する。   Hereinafter, the functional layer, the near-infrared shielding layer, and the color tone adjusting layer constituting the preferred embodiment of the display filter of the present invention will be described.

上記機能層は、前述のように、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する。この機能層は、ディスプレイ用フィルターをディスプレイの表示パネルに貼り付けたときに視認側(観賞側)の最表面に設けられることが好ましい。かかる機能層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。   As described above, the functional layer has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function. This functional layer is preferably provided on the outermost surface on the viewing side (viewing side) when the display filter is attached to the display panel of the display. Such a functional layer may be a single layer or a plurality of layers, or may be a layer having a plurality of functions.

反射防止機能を有する層(反射防止層)は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。   The layer having an antireflection function (antireflection layer) prevents reflection or reflection of external light such as a fluorescent lamp that affects the image display of the display.

このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように2層以上積層したものを用いることができる。高屈折率層の屈折率は1.5〜1.7の範囲が好ましく、特に1.55〜1.69の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は1.25〜1.49の範囲が好ましく、特に1.3〜1.45の範囲が好ましい。   As such an antireflection layer, a layer in which two or more layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated so that the low refractive index layer is on the viewing side can be used. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.7, particularly preferably in the range of 1.55 to 1.69. The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.25 to 1.49, particularly preferably in the range of 1.3 to 1.45.

高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、更に上記有機系材料に屈折率が1.6〜3程度の金属酸化物微粒子、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等を含有するものが挙げられる。   Materials for forming the high refractive index layer include those obtained by polymerizing and curing urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, etc., or those obtained by crosslinking and curing a silicone-based, melamine-based, or epoxy-based crosslinkable resin material. Further, an organic material such as metal oxide fine particles having a refractive index of about 1.6 to 3 such as titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, Examples thereof include zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, and fluorine-doped tin oxide.

高屈折率層の厚みは、0.01〜20μmの範囲が好ましく、0.05〜10μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 0.01 to 20 μm, and more preferably in the range of 0.05 to 10 μm.

反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、MgF2 、CaF2 、SiO2 等の無機系材料で構成することができる。低屈折率層の厚みは、0.01〜1μmの範囲が好ましく、0.02〜0.5μmの範囲がより好ましい。 The low refractive index layer constituting the antireflection layer is composed of a fluorine-containing polymer, a (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester, an organic material such as fluorine-containing silicone, an inorganic material such as MgF 2 , CaF 2 , and SiO 2. It can be composed of a system material. The thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 0.01 to 1 μm, and more preferably in the range of 0.02 to 0.5 μm.

防眩機能を有する層(防眩層)は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値(JISK 7136:2000年)が0.5〜20%であることが好ましい。防眩層の厚みは、0.01〜20μmが好ましい。   The layer having an antiglare function (antiglare layer) prevents glare in the image, and a film having minute irregularities on the surface is preferably used. As the antiglare layer, for example, particles are dispersed in a thermosetting resin or a photocurable resin and applied and cured on a support, or a thermosetting resin or a photocurable resin is applied to the surface. For example, a mold having a desired surface state and pressed to form an unevenness and then cured can be used. The antiglare layer preferably has a haze value (JIS K 7136: 2000) of 0.5 to 20%. The thickness of the antiglare layer is preferably from 0.01 to 20 μm.

ハードコート機能を有する層(ハードコート層)は、傷防止のために設けられる層である。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ハードコート層の表面硬度はJIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度で表すことができ、ハードコート層が設けられた側の表面(ハードコート層上に他の機能層を有する場合は他の機能層表面)を直接鉛筆で引っかくことによって鉛筆硬度を評価することができる。本発明におけるハードコート層が設けられた側の表面の鉛筆硬度は、1H〜9Hが好ましく、2H〜9Hがより好ましい。   The layer having a hard coat function (hard coat layer) is a layer provided for preventing scratches. The hard coat layer preferably has high hardness, and the surface hardness of the hard coat layer can be expressed by pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999), and the surface on the side where the hard coat layer is provided. The pencil hardness can be evaluated by scratching the surface of another functional layer (if another functional layer is provided on the hard coat layer) directly with a pencil. In the present invention, the pencil hardness of the surface on which the hard coat layer is provided is preferably 1H to 9H, and more preferably 2H to 9H.

ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などを用いることができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。   For the hard coat layer, acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, or the like can be used. In particular, silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.

ハードコート層の厚みは、0.1〜20μmが好ましく、より好ましくは1〜10μmである。ハードコート層の厚みが0.1μm未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚みが20μmを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。   As for the thickness of a hard-coat layer, 0.1-20 micrometers is preferable, More preferably, it is 1-10 micrometers. When the thickness of the hard coat layer is less than 0.1 μm, even if it is sufficiently cured, it is too thin, so that the surface hardness is not sufficient and it tends to be easily scratched. On the other hand, when the thickness of the hard coat layer exceeds 20 μm, the cured film tends to be cracked due to stress such as bending.

ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、高屈折率の金属酸化物微粒子を添加することにより図られる。   The hard coat layer can be given a function as a high refractive index layer constituting the antireflection layer described above. The refractive index of the hard coat layer can be increased by adding metal oxide fine particles having a high refractive index.

防汚機能を有する層(防汚層)は、ディスプレイ用フィルターの表面を人が触ることによる油脂性物質の付着や環境からのごみや埃の付着を防止し、あるいは付着しても除去しやすくするための層である。防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚みは、1〜10nmの範囲が好ましい。   The antifouling layer (antifouling layer) prevents or prevents the adhesion of greasy substances and dust and dirt from the environment due to human touching the surface of the display filter. It is a layer to do. As the antifouling layer, for example, a fluorine coating agent, a silicon coating agent, a silicon / fluorine coating agent, or the like is used. The thickness of the antifouling layer is preferably in the range of 1 to 10 nm.

機能層が単一層で構成される場合は、複数の機能を併せ持つことが好ましく、以下に例示する。
a)反射防止性ハードコート層
b)防眩性ハードコート層
c)防眩性反射防止層。
When the functional layer is composed of a single layer, it preferably has a plurality of functions, which will be exemplified below.
a) Antireflection hard coat layer b) Antiglare hard coat layer c) Antiglare antireflection layer.

また、機能層を複数層で構成することも好ましく、以下に複数構成の機能層を例示する。尚、下記例示の複数構成においては、右側に記載の層が視認側に配置される(左側に記載の層が表示パネル側に配置される)。
d)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
e)高屈折率ハードコート層/低屈折率層
f)ハードコート層/防眩層
g)ハードコート層/防眩性反射防止層
h)高屈折率ハードコート層/低屈折率層/防汚層
i)ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/防汚層
j)防眩性高屈折率ハードコート層/低屈折率層
k)防眩性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
l)防眩性ハードコート層/防汚層。
Moreover, it is also preferable that the functional layer is composed of a plurality of layers, and a plurality of functional layers are exemplified below. In the following plural configurations, the layers described on the right side are arranged on the viewing side (the layers described on the left side are arranged on the display panel side).
d) hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer e) high refractive index hard coat layer / low refractive index layer f) hard coat layer / antiglare layer g) hard coat layer / antiglare antireflection layer h ) High refractive index hard coat layer / low refractive index layer / antifouling layer i) Hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer / antifouling layer j) Antiglare high refractive index hard coat layer / low refractive index Layer k) Antiglare hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer l) Antiglare hard coat layer / antifouling layer.

上記近赤外線遮蔽層は、ディスプレイから発生される近赤外線を遮蔽する層である。近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成することができる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の公知の有機系吸収剤、または特開2006−154516号公報に記載のタングステン酸化物微粒子あるいは複合タングステン酸化物微粒子等の公知の無機系吸収剤を用いることができる。   The near-infrared shielding layer is a layer that shields near-infrared rays generated from the display. The near-infrared shielding layer can be formed by applying and drying a paint in which a near-infrared absorber is dispersed or dissolved in a resin binder. As a near-infrared absorber, known organic absorbers such as phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, diimonium compounds, or tungsten oxide fine particles or composite tungsten oxides described in JP-A No. 2006-154516 Known inorganic absorbents such as fine particles can be used.

上記色調調整層は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、オレンジ光を吸収する色素としては、テトラアザポルフィリン色素が好ましく用いられる。   The color tone adjusting layer is a function for improving color purity and whiteness by absorbing light of a specific wavelength emitted from the display. In particular, it is preferable to shield orange light that reduces the color purity of red light emission, and a tetraazaporphyrin dye is preferably used as the dye that absorbs orange light.

色調調整層として、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を設けてもよいし、上記の近赤外線遮蔽層に上記色素を含有させてもよい。   As the color tone adjusting layer, a layer containing a dye that absorbs light of the above-described wavelength may be provided, or the dye may be contained in the near infrared shielding layer.

以下に、実施例を具体的に挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Examples will be specifically described below, but the present invention is not limited to these examples.

<ポリウレタン系樹脂の合成>
先ず、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(a)を以下のようにして合成した。
<Synthesis of polyurethane resin>
First, a urethane prepolymer (a) having an isocyanate group at the molecular end was synthesized as follows.

<分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(a)の合成>
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を装備したフラスコに、「エクセノ−ル3020」[旭硝子ウレタン(株)製のポリプロピレングリコール(数平均分子量3200)]97.98質量部、ジラウリル酸ジブチルすず0.11質量部を仕込んだ。
<Synthesis of urethane prepolymer (a) having an isocyanate group at the molecular terminal>
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube, “EXENOL 3020” [polypropylene glycol (number average molecular weight 3200) manufactured by Asahi Glass Urethane Co., Ltd.] 97.98 parts by mass, dilauric acid 0.11 part by mass of dibutyltin was charged.

次に窒素ガスを吹き込みながら系内を70℃まで昇温し、均一に溶解した後、イソホロンジイソシアネート8.65質量部を加え、3時間攪拌しながら保温して30分ごとのGPC測定の結果、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnが1.5で一定であることを確認し反応を終了し、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(a)を得た。   Next, the temperature inside the system was raised to 70 ° C. while blowing nitrogen gas, and after uniformly dissolving, 8.65 parts by mass of isophorone diisocyanate was added, and the temperature was kept stirring for 3 hours. As a result of GPC measurement every 30 minutes, The ratio Mw / Mn between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) was confirmed to be constant at 1.5, and the reaction was terminated to obtain a urethane prepolymer (a) having an isocyanate group at the molecular end. It was.

<分子末端に水酸基を有するウレタンポリマー(A1)の合成>
上記のウレタンプレポリマー(a)を撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を装備したフラスコに200質量部仕込み、次に系内を70℃まで昇温し、窒素ガスを吹き込みながら1,3−ブタンジオール2.6質量部を加え、攪拌しながら保温(70℃)し、IR測定にてイソシアネート基が完全に消失したことを確認し反応を終了させて、ウレタンプレポリマー(A1)(重量平均分子量24000)を得た。
<Synthesis of urethane polymer (A1) having a hydroxyl group at the molecular terminal>
200 parts by mass of the urethane prepolymer (a) above was charged into a flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen introduction tube, and then the temperature of the system was raised to 70 ° C. while blowing nitrogen gas. Then, 2.6 parts by mass of 3-butanediol was added, and the mixture was kept warm (70 ° C.) with stirring, and the reaction was terminated after confirming that the isocyanate group had completely disappeared by IR measurement. The urethane prepolymer (A1) (Weight average molecular weight 24000) was obtained.

<分子末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(B)の合成>
上記のウレタンプレポリマー(a)を撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を装備したフラスコに200質量部仕込み、次に系内を80℃まで昇温し、2−ヒドロキエチルアクリレート3.69質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.22質量部を加え、攪拌しながら保温(80℃)し、IR測定にてイソシアネート基が完全に消失したことを確認し反応を終了させてウレタンプレポリマー(B)(重量平均分子量24000)を得た。
<Synthesis of urethane prepolymer (B) having an ethylenically unsaturated group at the molecular terminal>
200 parts by mass of the above urethane prepolymer (a) was charged into a flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube, and then the system was heated to 80 ° C. to give 2-hydroxyethyl acrylate 3 .69 parts by mass and 0.22 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were added, and the mixture was kept warm (80 ° C.) with stirring. After confirming that the isocyanate group had completely disappeared by IR measurement, the reaction was terminated and a urethane prepolymer ( B) (weight average molecular weight 24000) was obtained.

<ウレタンプレポリマー(AB)の合成>
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を装備したフラスコに、「エクセノール3020」[旭硝子ウレタン(株)製のポリプロピレングリコール(数平均分子量3200)]97.98質量部、ジラウリル酸ジブチルすず0.11質量部を仕込んだ。次に窒素ガスを吹き込みながら系内を70℃まで昇温し、均一に溶解した後、イソホロンジイソシアネート8.65質量部を加え、3時間攪拌しながら保温した。その後、酸素ガス、窒素ガスを吹き込みながら、1,3−ブタンジオール0.42質量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート1.27質量部を加え、3時間攪拌しながら保温して30分ごとの分子量測定の結果、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnが1.5で一定であることを確認し反応を終了し、ウレタンプレポリマー(AB)(重量平均分子量24000)を得た。アクリレート末端比率は70%であった。このウレタンプレポリマー(AB)には、分子両末端に水酸基を有するウレタンポリマー(A1)、分子の片末端に水酸基を有し、もう一方の末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(A2)、及び分子の両末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー(B)が含まれる。
<Synthesis of urethane prepolymer (AB)>
In a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube, “Exenol 3020” [polypropylene glycol (number average molecular weight 3200) manufactured by Asahi Glass Urethane Co., Ltd.] 97.98 parts by mass, dibutyltin dilaurate 0.11 part by mass was charged. Next, the temperature inside the system was raised to 70 ° C. while blowing nitrogen gas, and after uniformly dissolving, 8.65 parts by mass of isophorone diisocyanate was added, and the temperature was kept while stirring for 3 hours. Thereafter, while blowing oxygen gas and nitrogen gas, 0.42 parts by mass of 1,3-butanediol and 1.27 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were added, and the mixture was kept warm for 3 hours while measuring the molecular weight every 30 minutes. As a result, the ratio Mw / Mn between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) was confirmed to be constant at 1.5, and the reaction was terminated, and the urethane prepolymer (AB) (weight average molecular weight 24000). Got. The acrylate end ratio was 70%. The urethane prepolymer (AB) includes a urethane polymer (A1) having a hydroxyl group at both molecular ends, a urethane prepolymer (A2) having a hydroxyl group at one end of the molecule and an ethylenically unsaturated group at the other end. And urethane prepolymer (B) having an ethylenically unsaturated group at both ends of the molecule.

<重量平均分子量の測定>
上記で合成したウレタンポリマー(A1)、ウレタンプレポリマー(B)及びウレタンプレポリマー(AB)の重量平均分子量をGPCにより測定した。測定にはWALTERS GPC−150CPlus(日本WALTERS社製)を用い下記条件にて測定した。
・検出器:WALTERS 2410
・溶媒:テトラヒドロフラン
・カラム:HR4 2本、HR4E 1本(7.5mm×300mm)
・温度:40℃
・濃度:0.2%
・注入量:100μl
流速:1.0m/m
・n数:3。
<Measurement of weight average molecular weight>
The weight average molecular weights of the urethane polymer (A1), urethane prepolymer (B) and urethane prepolymer (AB) synthesized above were measured by GPC. For measurement, WALTERS GPC-150CPplus (manufactured by Japan WALTERS) was used under the following conditions.
Detector: WALTERS 2410
・ Solvent: Tetrahydrofuran ・ Column: 2 HR4, 1 HR4E (7.5 mm × 300 mm)
・ Temperature: 40 ℃
・ Concentration: 0.2%
・ Injection volume: 100 μl
Flow velocity: 1.0m / m
-N number: 3.

<アクリレート末端比率>
ウレタンプレポリマー(AB)のアクリレート末端比率は、JISK−1557に準拠し、樹脂をクロロホルム中に溶解させ、無水酢酸を添加しKOHで滴定することにより水酸基価を算出し、水酸基価と重量平均分子量からアクリレート末端比率を算出した。
<Acrylate terminal ratio>
The acrylate terminal ratio of the urethane prepolymer (AB) is based on JISK-1557, the hydroxyl value is calculated by dissolving the resin in chloroform, adding acetic anhydride and titrating with KOH, and the hydroxyl value and the weight average molecular weight. From this, the acrylate end ratio was calculated.

(実施例1)
まず、以下のようにして本発明の水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含む粘着剤層(1)を基材(B)(PETフィルム)上に形成した。
Example 1
First, a pressure-sensitive adhesive layer (1) containing a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group of the present invention was formed on a substrate (B) (PET film) as follows.

<紫外線硬化型組成物の調製>
前記ウレタンポリマー(A1)を35質量部、前記ウレタンプレポリマー(B)を55質量部、反応性希釈剤(重合性モノマー)として4−ヒドロキシブチルアクリレートを10質量部、可塑剤としてフタル酸ジブチルを2質量部、および重合開始剤としてヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤(チバガイギー社製、イルガキュアー184、以下IC184と表記)を0.5質量部加えて均一に混合することにより紫外線硬化型組成物を調製した。
<Preparation of UV curable composition>
35 parts by mass of the urethane polymer (A1), 55 parts by mass of the urethane prepolymer (B), 10 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate as a reactive diluent (polymerizable monomer), and dibutyl phthalate as a plasticizer. UV curable composition by adding 2 parts by mass and 0.5 parts by mass of hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator (Ciba Geigy, Irgacure 184, hereinafter referred to as IC184) as a polymerization initiator and mixing them uniformly. Was prepared.

<粘着剤層(1a)の作製>
基材(B)として、厚みが100μmのPETフィルム(東レ(株)製のルミラー;登録商標)を使用し、該基材上に上記の紫外線硬化型組成物をスリットダイコーターで塗布し、紫外線(メタルハライドランプ)を照射(積算光量1600mJ/cmを照射)して、厚みが500μmの粘着剤層を形成した。更に、この粘着剤層の面に、厚みが75μmの離型フィルム(東レフィルム加工(株)製 セラピール(登録商標)MD)を積層して、基材(B)/粘着剤層(1a)/離型フィルムの積層体(b1)を得た。
<Preparation of pressure-sensitive adhesive layer (1a)>
As the base material (B), a PET film having a thickness of 100 μm (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc .; registered trademark) was used, and the UV curable composition was applied onto the base material with a slit die coater. (Metal halide lamp) was irradiated (irradiated with an integrated light amount of 1600 mJ / cm 2 ) to form an adhesive layer having a thickness of 500 μm. Furthermore, on the surface of this pressure-sensitive adhesive layer, a release film having a thickness of 75 μm (Celape (registered trademark) MD manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) was laminated, and the base material (B) / pressure-sensitive adhesive layer (1a) / A release film laminate (b1) was obtained.

<機能性フィルムの作製>
基材(D)(厚み188μmのPETフィルム(東レ(株)製のルミラー;登録商標))の片面に、下記のハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を順次積層して機能性フィルムを得た。それぞれの層の乾燥厚みは、ハードコート層が5μm、高屈折率層が0.1μm、低屈折率層が0.1μmである。
<Production of functional film>
The following hard coat layer, high refractive index layer, and low refractive index layer are sequentially laminated on one side of the substrate (D) (PET film having a thickness of 188 μm (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.)). A film was obtained. The dry thickness of each layer is 5 μm for the hard coat layer, 0.1 μm for the high refractive index layer, and 0.1 μm for the low refractive index layer.

<ハードコート層>
市販のハードコート剤(JSR(株)製 オプスター(登録商標)Z7534;固形分濃度60質量%)を、固形分濃度が45質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈してハードコート層用塗工液とした。この塗工液をマイクログラビアコーターで塗工し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
<Hard coat layer>
A commercially available hard coat agent (Opstar (registered trademark) Z7534 manufactured by JSR Corporation; solid content concentration 60% by mass) is diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration is 45% by mass. It was. This coating solution was applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet rays of 1.0 J / cm 2 to form a hard coat layer.

<高屈折率層>
市販の高屈折率・帯電防止塗料(JSR(株)製 オプスター (登録商標) TU4005)をイソプロピルアルコールで固形分濃度8%に希釈して高屈折率層用塗工液とした。この塗工液を、マイクログラビアコーターで塗布し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、ハードコート層上に屈折率が1.65の高屈折率層を形成した。
<High refractive index layer>
A commercially available high refractive index / antistatic coating (Opstar (registered trademark) TU4005 manufactured by JSR Corporation) was diluted with isopropyl alcohol to a solid content concentration of 8% to obtain a coating solution for a high refractive index layer. This coating liquid is applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to form a high refractive index layer having a refractive index of 1.65 on the hard coat layer. Formed.

<低屈折率層>
市販の低屈折率層用塗料(JSR(株)製 オプスター(登録商標) TU2180)をメチルイソブチルケトンで固形分濃度が3質量%になるように希釈して低屈折率層用塗工液とした。この塗工液をマイクログラビアコーターで塗布し、100℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、高屈折率層上に屈折率が1.37の低屈折率層を形成した。
<Low refractive index layer>
A commercially available coating for a low refractive index layer (Opstar (registered trademark) TU2180, manufactured by JSR Corporation) was diluted with methyl isobutyl ketone so that the solid content concentration was 3% by mass to obtain a coating solution for a low refractive index layer. . This coating solution is applied with a micro gravure coater, dried at 100 ° C., and then cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.37 on the high refractive index layer. Formed.

<近赤外線遮蔽層の形成>
上記で得た機能性フィルムの基材(D)の機能層とは反対側の面(つまり、基材(D)側の面)に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層(近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが12μmになるように塗工した層)を設けて、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムを得た。
<Formation of near-infrared shielding layer>
The near-infrared shielding layer (near-infrared absorption) which has an orange light shielding function on the surface opposite to the functional layer of the base material (D) of the functional film obtained above (that is, the surface on the base material (D) side) A layer in which a paint obtained by mixing an acrylic resin with a phthalocyanine dye and a diimonium dye as an dye and a tetraazaporphyrin dye as an orange light absorbing dye in an acrylic resin is provided. The functional film provided with the near-infrared shielding layer was obtained.

<導電性フィルムの作製>
基材(A)(厚み100μmのPETフィルム(東レ(株)製のルミラー;登録商標))の片面に、常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層(厚み0.02μm)を形成した。さらにその上に、同じく常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法により銅層(厚み2.5μm)を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、線幅13μmでピッチ300μmの格子状の導電性メッシュを有する導電層を作製した。さらに、導電層に黒化処理(酸化処理)を施した。このようにして基材(A)上に導電層が形成された後、ロール状に巻き取った。
<Preparation of conductive film>
On one side of the substrate (A) (100 μm-thick PET film (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.)), a nickel layer (thickness) by vacuum deposition under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa at room temperature. 0.02 μm) was formed. Further, a copper layer (thickness: 2.5 μm) was formed thereon by a vacuum vapor deposition method at a room temperature and under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa. Thereafter, a photoresist layer is applied and formed on the surface of the copper layer, and the photoresist layer is exposed and developed through a mask having a lattice mesh pattern. Then, an etching process is performed, and the line width is 13 μm and the pitch is 300 μm. A conductive layer having a grid-like conductive mesh was produced. Further, the conductive layer was blackened (oxidized). Thus, after the conductive layer was formed on the base material (A), it was wound up in a roll shape.

<ディスプレイ用フィルターの作製>
上記で作製した、積層体(b1)、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルム、導電性フィルムを、所定サイズのシートに切断し、先ず、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムの近赤外線遮蔽層の面と、導電性フィルムの導電層の面とが向き合うように、市販のアクリル系粘着剤(厚み25μm)で貼合して、積層体(a1)を得た。次に、積層体(a1)の導電性フィルム側に、本発明の粘着剤層(1a)を有する積層体(b1)の基材が向き合うように(積層体(a1)中の基材(A)と、積層体(b1)中の基材(B)が向き合うように)、市販のアクリル系粘着剤(厚み25μm)で貼合して、本発明のディスプレイ用フィルターを得た。
<Preparation of display filter>
The laminate (b1) produced above, the functional film provided with the near infrared shielding layer, and the conductive film are cut into sheets of a predetermined size, and first, the near infrared of the functional film provided with the near infrared shielding layer. The laminate (a1) was obtained by pasting with a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 25 μm) so that the surface of the shielding layer and the surface of the conductive layer of the conductive film face each other. Next, the substrate of the laminate (b1) having the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of the present invention faces the conductive film side of the laminate (a1) (the substrate (A in the laminate (a1)). And a substrate (B) in the laminate (b1) face each other) and a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 25 μm) to obtain a display filter of the present invention.

<評価>
上記で作製されたディスプレイ用フィルターについて、以下のようにして、粘着剤層(1a)の変色、耐衝撃性、ガラス板との密着性を評価した。その結果を表1に示す。
<Evaluation>
About the display filter produced above, discoloration of the pressure-sensitive adhesive layer (1a), impact resistance, and adhesion to a glass plate were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

<粘着剤層の変色>
ディスプレイ用フィルターを、60℃−90%(RH)の環境下に7日間放置後、粘着剤層の変色の状態を目視で観察し、以下の基準で評価した。
○:変色がない。
×:変色がある。
<Discoloration of adhesive layer>
The display filter was allowed to stand in an environment of 60 ° C. to 90% (RH) for 7 days, and then the state of discoloration of the pressure-sensitive adhesive layer was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: No discoloration.
X: There is discoloration.

<耐衝撃性の評価>
ディスプレイ用フィルターを、粘着剤層(1a)の上に積層されている離型フィルムを剥離して、厚み1.3mmのソーダガラス上に貼合した。その鉛直上方から高さを変えながら、直径38mm、重さ約229gの鋼球を自由落下させ、ガラス破損時の高さで以下の基準で評価した。
◎:高さ45cmで破損無し。
○:高さ30cmで破損無く、45cmで破損した。
×:高さ30cmで破損した。
<Evaluation of impact resistance>
The release filter laminated | stacked on the adhesive layer (1a) was peeled, and the display filter was bonded on the 1.3-mm-thick soda glass. While changing the height from above vertically, a steel ball having a diameter of 38 mm and a weight of about 229 g was freely dropped, and the height at the time of glass breakage was evaluated according to the following criteria.
A: No breakage at a height of 45 cm.
○: No breakage at a height of 30 cm, and breakage at 45 cm.
X: It was damaged at a height of 30 cm.

<密着性>
積層体(b1)を幅25mmに切断し、離型フィルムを剥離してガラス板上に5kgのゴムローラを1往復させて圧着したのち、テンシロンRTM−100(オリエンテック社製)を用いて環境温度25℃にて剥離速度300mm/分で180°剥離試験を行い、ガラス板と粘着剤層(1a)との間の密着強度を測定した。
◎:密着強度が高く良好である。
×:密着強度が低く容易に剥がれる。
<Adhesion>
The laminate (b1) is cut to a width of 25 mm, the release film is peeled off, and a 5 kg rubber roller is reciprocated once on the glass plate, followed by pressure bonding. A 180 ° peel test was conducted at 25 ° C. at a peel rate of 300 mm / min, and the adhesion strength between the glass plate and the pressure-sensitive adhesive layer (1a) was measured.
A: Good adhesion strength and good.
X: Adhesive strength is low and peels easily.

(実施例2)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、紫外線硬化型組成物の調製に用いたウレタンポリマー(A1)及びウレタンプレポリマー(B)に代えて、ウレタンプレポリマー(AB)を90質量部用いる以外は、実施例1と同様にして紫外線硬化型組成物を調製し、該紫外線硬化型組成物を用いる以外は実施例1と同様にして粘着剤層(1b)を基材(B)上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b2)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b2)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Example 2)
In preparation of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, 90 parts by mass of the urethane prepolymer (AB) was used instead of the urethane polymer (A1) and the urethane prepolymer (B) used for the preparation of the ultraviolet curable composition. A UV curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was used, and the pressure-sensitive adhesive layer (1b) was placed on the substrate (B) in the same manner as in Example 1 except that this UV curable composition was used. And a laminate (b2) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b2) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(実施例3)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、粘着剤層の厚みを400μmに変更する以外は、実施例1と同様にして粘着剤層(1c)を基材(B)上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b3)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b3)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Example 3)
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer (1c) was formed on the substrate (B) in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 400 μm. Further, a laminate (b3) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b3) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(実施例4)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、粘着剤層の厚みを250μmに変更する以外は、実施例1と同様にして粘着剤層(1d)を基材(B)上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b4)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b4)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
Example 4
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer (1d) was formed on the substrate (B) in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 250 μm. Further, a laminate (b4) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b4) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(実施例5)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、粘着剤層の厚みを1000μmに変更する以外は、実施例1と同様にして粘着剤層(1e)を基材(B)上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b5)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b5)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Example 5)
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer (1e) was formed on the substrate (B) in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 1000 μm. Further, a laminate (b5) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b5) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(比較例1)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、基材(B)に代えて、厚みが75μmの離型フィルム(東レフィルム加工(株)製 セラピール(登録商標)MD)を用いる以外は実施例1と同様にして、粘着剤層(1f)を形成し、更に実施例1と同様にして、離型フィルム/粘着剤層(1f)/離型フィルムの積層体(b6)を得た。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1と同様にして、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムと導電性フィルムを貼合して作製した積層体(a1)の導電性フィルム側に、上記の積層体(b6)の一方の離型フィルムを剥離して粘着剤層(1f)を貼り合わせてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 1)
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, it was carried out except that a release film having a thickness of 75 μm (Cerape (registered trademark) MD manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) was used instead of the base material (B). A pressure-sensitive adhesive layer (1f) was formed in the same manner as in Example 1, and a release film / pressure-sensitive adhesive layer (1f) / release film laminate (b6) was obtained in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
In the same manner as in Example 1, on the conductive film side of the laminate (a1) prepared by laminating a functional film having a near-infrared shielding layer and a conductive film, one of the laminates (b6) above The release film was peeled off and the pressure-sensitive adhesive layer (1f) was bonded to produce a display filter.

(比較例2)
実施例1と同様にして、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムと導電性フィルムを作製した。近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムの近赤外線遮蔽層の面と、導電性フィルムの導電層とは反対面(つまり基材(A)面)とが向き合うように、市販のアクリル系粘着剤(厚み25μm)で貼合して、積層体(a2)を得た。次に、積層体(a2)の導電性フィルム側の導電層の面に、比較例1と同様にして作製した積層体(b6)の一方の離型フィルムを剥離して、粘着剤層(1f)面を貼り合わせて、ディスプレイ用フィルターを得た。
(Comparative Example 2)
In the same manner as in Example 1, a functional film and a conductive film provided with a near-infrared shielding layer were produced. A commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive so that the surface of the near-infrared shielding layer of the functional film provided with the near-infrared shielding layer faces the surface opposite to the conductive layer of the conductive film (that is, the substrate (A) surface). The laminated body (a2) was obtained by pasting with (thickness 25 μm). Next, one release film of the laminate (b6) produced in the same manner as in Comparative Example 1 is peeled off from the surface of the conductive layer on the conductive film side of the laminate (a2), and the pressure-sensitive adhesive layer (1f ) Surfaces were bonded together to obtain a display filter.

(比較例3)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、粘着剤層の厚みを75μmに変更する以外は、実施例1と同様にして粘着剤層(1g)を基材上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b7)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b7)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 3)
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer (1 g) was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 75 μm, and further implementation was performed. A laminate (b7) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b7) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(比較例4)
実施例1の粘着剤層(1a)の作製において、紫外線硬化型組成物の調製に用いたウレタンポリマー(A1)及びウレタンプレポリマー(B)に代えて、ウレタンプレポリマー(B)を90質量部用い、更に、4−ヒドロキシブチルアクリレート10質量部に代えて2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート10質量部を用いる以外は、実施例1と同様にして紫外線硬化型組成物を調製し、該紫外線硬化型組成物を用いる以外は実施例1と同様にして粘着剤層(1h)を基材(B)上に形成し、更に実施例1と同様にして積層体(b8)を作製した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1の積層体(b1)に代えて積層体(b8)を用いる以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 4)
In preparation of the pressure-sensitive adhesive layer (1a) of Example 1, 90 parts by mass of the urethane prepolymer (B) was used instead of the urethane polymer (A1) and the urethane prepolymer (B) used for the preparation of the ultraviolet curable composition. In addition, an ultraviolet curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of 2-ethylhexyl (meth) acrylate was used instead of 10 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate. A pressure-sensitive adhesive layer (1h) was formed on the substrate (B) in the same manner as in Example 1 except that the composition was used, and a laminate (b8) was produced in the same manner as in Example 1.
<Preparation of display filter>
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (b8) was used in place of the laminate (b1) in Example 1.

(比較例5)
比較例4の粘着剤層(1h)の作製において、基材(B)に代えて、厚みが75μmの離型フィルム(東レフィルム加工(株)製 セラピール(登録商標)MD)を用いる以外は比較例4と同様にして、粘着剤層を形成し、更に比較例4と同様にして、離型フィルム/粘着剤層(1h)/離型フィルムの積層体(b9)を得た。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
実施例1と同様にして、近赤外線遮蔽層を備えた機能性フィルムと導電性フィルムを貼合して作製した積層体(a1)の導電性フィルム側に、上記の積層体(b9)の一方の離型フィルムを剥離して粘着剤層(1h)を貼り合わせてディスプレイ用フィルターを作製した。
(Comparative Example 5)
In the production of the pressure-sensitive adhesive layer (1h) of Comparative Example 4, instead of the base material (B), a release film having a thickness of 75 μm (Toray Film Processing Co., Ltd., Cerapeel (registered trademark) MD) was used. A pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Example 4, and a release film / pressure-sensitive adhesive layer (1h) / release film laminate (b9) was obtained in the same manner as in Comparative Example 4.
<Preparation of display filter>
In the same manner as in Example 1, on the conductive film side of the laminate (a1) prepared by laminating the functional film provided with the near-infrared shielding layer and the conductive film, one of the laminate (b9) above. The release film was peeled off and the pressure-sensitive adhesive layer (1h) was bonded to produce a display filter.

(実施例6)
実施例1と同様にして、積層体(a1)と積層体(b1)とを貼合して積層体(ab)を得た。一方、基材(C)(厚みが100μmのPETフィルム(東レ(株)製のルミラー;登録商標))に、粘着剤層(2a)(厚み25μmのアクリル系粘着剤)が積層された積層体(c1)を作製した。
(Example 6)
In the same manner as in Example 1, the laminate (a1) and the laminate (b1) were bonded to obtain a laminate (ab). On the other hand, a laminate in which an adhesive layer (2a) (an acrylic adhesive having a thickness of 25 μm) is laminated on a substrate (C) (a PET film having a thickness of 100 μm (Lumirror manufactured by Toray Industries, Inc.)). (C1) was produced.

前記積層体(ab)の粘着剤層(1a)側と、前記積層体(c1)の基材(C)面(積層体(c1)の基材(C)に対して、粘着剤層(2a)を有する側の面とは反対面)とが向き合うように貼合して、ディスプレイ用フィルターを作製した。   The pressure-sensitive adhesive layer (2a with respect to the pressure-sensitive adhesive layer (1a) side of the laminate (ab) and the substrate (C) surface of the laminate (c1) (the substrate (C) of the laminate (c1)) ) Was bonded so that the surface opposite to the surface on the side having) faced to produce a display filter.

<評価>
実施例2−6及び比較例1−5のディスプレイ用フィルターについて、実施例1と同様に、粘着剤層の変色、耐衝撃性、及び密着性を評価した。その結果を表1に示す。また、表2に、実施例及び比較例の構成を示す。
<Evaluation>
About the display filter of Example 2-6 and Comparative Example 1-5, in the same manner as in Example 1, discoloration, impact resistance, and adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer were evaluated. The results are shown in Table 1. Table 2 shows configurations of Examples and Comparative Examples.

Figure 2010134436
Figure 2010134436

Figure 2010134436
Figure 2010134436

表1の結果より、本発明の実施例は、分子中に水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂(ウレタン系樹脂)を含む粘着剤層(1)を用いているので、ガラス面(表示パネル)及びディスプレイ用フィルターの基材との密着性が良好であり、かつ粘着剤層(1)の厚みが100μm以上であるので、耐衝撃性が良好であり、更に、導電性フィルムの導電層及び基材と粘着剤層(1)が接触しないように配置されているので、粘着剤層(1)に変色が生じていないことが分かる。   From the result of Table 1, since the Example of this invention uses the adhesive layer (1) containing resin (urethane-type resin) which has a hydroxyl group and / or a carboxy group in a molecule | numerator, it is a glass surface (display panel). And the adhesiveness of the display filter to the base material is good and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (1) is 100 μm or more, the impact resistance is good. Since it arrange | positions so that a material and an adhesive layer (1) may not contact, it turns out that discoloration has not arisen in the adhesive layer (1).

一方、比較例1は、導電性フィルムの基材と粘着剤層(1)が接触するように配置されており、粘着剤層(1)に変色が生じている。   On the other hand, the comparative example 1 is arrange | positioned so that the base material of an electroconductive film and an adhesive layer (1) may contact, and discoloration has arisen in the adhesive layer (1).

比較例2は、導電性フィルムの導電層と粘着剤層(1)が接触するように配置されており、粘着剤層(1)に変色が生じている。   The comparative example 2 is arrange | positioned so that the conductive layer of an electroconductive film and an adhesive layer (1) may contact, and discoloration has arisen in the adhesive layer (1).

比較例3は、粘着剤層(1)の厚みが100μm未満(75μm)であるので、耐衝撃性が劣っている。   Since the thickness of the adhesive layer (1) is less than 100 micrometers (75 micrometers), the comparative example 3 is inferior in impact resistance.

比較例4は、粘着剤層の樹脂として、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を用いていないので、表示パネル(ガラス板)との密着性が劣っている。   Since Comparative Example 4 does not use a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group as the resin for the pressure-sensitive adhesive layer, the adhesion to the display panel (glass plate) is poor.

比較例5は、導電性フィルムの基材と接触するように配置されているが、粘着剤層の樹脂として水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を用いていないので、粘着剤層に変色は起こっていない。但し、表示パネル(ガラス板)との密着性が劣っている。   Although the comparative example 5 is arrange | positioned so that it may contact with the base material of an electroconductive film, since the resin which has a hydroxyl group and / or a carboxy group is not used as resin of an adhesive layer, discoloration arises in an adhesive layer. Not. However, the adhesion with the display panel (glass plate) is poor.

Claims (6)

基材(A)上に導電層を有する導電性フィルム、並びに、粘着剤層(1)を有するディスプレイ用フィルターであって、
粘着剤層(1)は、水酸基及び/またはカルボキシ基を有する樹脂を含有し、厚みが100μm以上であり、
粘着剤層(1)は、基材(A)及び導電層に接触しないように配置されたことを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
A conductive film having a conductive layer on a substrate (A), and a display filter having a pressure-sensitive adhesive layer (1),
The pressure-sensitive adhesive layer (1) contains a resin having a hydroxyl group and / or a carboxy group, and has a thickness of 100 μm or more.
The display-use filter, wherein the pressure-sensitive adhesive layer (1) is disposed so as not to contact the substrate (A) and the conductive layer.
ディスプレイ用フィルターが、基材(B)上に粘着剤層(1)を積層した積層体(B)と、導電性フィルムとが積層された積層体(AB)を有し、
積層体(AB)における積層体(B)と導電性フィルムの位置関係が、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されたことを特徴とする、請求項1に記載のディスプレイ用フィルター。
The display filter has a laminate (B) in which a pressure-sensitive adhesive layer (1) is laminated on a substrate (B), and a laminate (AB) in which a conductive film is laminated,
The positional relationship between the laminate (B) and the conductive film in the laminate (AB) is characterized in that the adhesive layer (1), the substrate (B), the substrate (A), and the conductive layer are arranged in this order. The display filter according to claim 1.
ディスプレイ用フィルターが、基材(C)上に厚みが5μm以上100μm未満の粘着剤層(2)を積層した積層体(C)をさらに有し、
積層体(C)と積層体(AB)が、粘着剤層(2)、基材(C)、粘着剤層(1)、基材(B)、基材(A)、導電層の順に配置されるよう積層されたことを特徴とする、請求項2に記載のディスプレイ用フィルター。
The display filter further includes a laminate (C) in which a pressure-sensitive adhesive layer (2) having a thickness of 5 μm or more and less than 100 μm is laminated on the substrate (C),
Laminate (C) and laminate (AB) are arranged in the order of pressure-sensitive adhesive layer (2), base material (C), pressure-sensitive adhesive layer (1), base material (B), base material (A), and conductive layer. The display filter according to claim 2, wherein the display filter is laminated.
前記導電性フィルムの導電層側に、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも1つの機能を有する機能層が、直接あるいは基材を介して配置されている、請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   On the conductive layer side of the conductive film, a functional layer having at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, a hard coat function, and an antifouling function is disposed directly or via a substrate. The display filter according to any one of claims 1 to 3. 粘着剤層(1)が、活性エネルギー線硬化型組成物を硬化せしめたものである、請求項1〜4のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to any one of claims 1 to 4, wherein the pressure-sensitive adhesive layer (1) is obtained by curing the active energy ray-curable composition. 前記活性エネルギー線硬化型組成物が、無溶剤型のウレタン系紫外線硬化型組成物である、請求項5に記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to claim 5, wherein the active energy ray-curable composition is a solventless urethane-based ultraviolet curable composition.
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