JP2018009203A - 表面処理材 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明の要旨構成は以下のとおりである。
(1)アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる被膜を有する表面処理材であって、前記被膜のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
(2)前記被膜は、結晶粒径が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする上記(1)に記載の表面処理材。
(3)前記被膜は、リンおよびホウ素の含有量がいずれも0.1質量%未満であることを特徴とする上記(1)または(2)に記載の表面処理材。
(4)前記被膜は、電気めっき被膜により構成される上記(1)から(3)までのいずれか1項に記載の表面処理材。
(5)アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる下地層と、該下地層上に直接または中間層を介して形成された、錫または錫合金からなる表面被覆層とを有する表面処理材であって、前記下地層のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
(6)アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる下地層と、該下地層上に直接または中間層を介して形成された、銀または銀合金からなる表面被覆層とを有する表面処理材であって、下地層のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
(7)前記中間層が、銅または銅合金からなることを特徴とする上記(5)または(6)に記載の表面処理材。
(8)前記下地層は、結晶粒径が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする上記(5)から(7)までのいずれか1項に記載の表面処理材。
(9)前記下地層は、リンおよびホウ素の含有量がいずれも0.1質量%未満であることを特徴とする上記(5)から(8)までのいずれか1項に記載の表面処理材。
(10)前記下地層、前記中間層および前記表面被覆層は、いずれも電気めっき被膜により構成される上記(5)から(9)までのいずれか1項に記載の表面処理材。
図1および図2は、それぞれ本発明に従う第1および第2実施形態の表面処理材の断面構造を模式的に示したものである。
図1に示す表面処理材1は、基材2と被膜3とを有しており、また、図2に示す表面処理剤1Aは、基材2と、下地層4と、表面被覆層5とを有している。
ニッケル系被膜は、ニッケルまたはニッケル合金からなり、基材2に対する保護等の目的から、アルミニウムまたはアルミニウム合金の基材2の少なくとも一面に形成されている。ニッケル系被膜3の厚さは、基材の一面当たり0.01〜10μmであることが好ましい。ニッケル系被膜3の厚さが0.01μm未満だと、基材2に対する保護効果が十分に得られず、また、ニッケル系被膜3の厚さが10μmを超えると、アルミニウム系基材2よりも硬質なニッケル系被膜3の硬さの影響が大きくなって、曲げ加工性が劣る傾向があるからである。
被膜3または下地層4のナノインデンテーション硬さは、被膜内部の応力や結晶粒径などによって変化するため、硬さを下げたい場合にはめっき時における電流密度を下げるなどして調整することが可能である。
次に、本発明に従う表面処理材の製造方法のいくつかの実施形態を以下で説明する。
表7に示すアルミニウムまたはアルミニウム合金材料からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程および酸洗活性化工程を行い、その後、表1に示すスルファミン酸浴およびめっき条件で電気ニッケルめっき層(下地層4)を形成し、次いで、表2に示す銅めっき浴およびめっき条件で電気銅めっき層(中間層6)を形成し、さらに、表3に示す錫めっき浴およびめっき条件で電気錫めっき層(被覆層5)を形成し、表面処理材1を作製した。各めっき層4〜6の厚さは、電気ニッケルめっき層4が0.5μm、電気銅めっき層6が0.5μm、そして、電気錫めっき層5が2μmであった。また、実施例1〜3に基材として用いたA6061P−T6のナノインデンテーション硬さHITは1136〜1147であり、実施例4に基材として用いたA1100のナノインデンテーション硬さHITは390であった。
表7に示すアルミニウムまたはアルミニウム合金材料からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程および酸洗活性化工程を行い、その後、表1に示すワット浴およびめっき条件で電気ニッケルめっき層(下地層4)を形成し、次いで、表5に示す銀めっき浴およびめっき条件で電気銀めっき層(被覆層5)を形成し、表面処理材を作製した。各めっき層4および5の厚さは、電気ニッケルめっき層が0.5μm、そして、電気銀めっき層が2μmであった。
表7に示すアルミニウム合金材料(A6061P−T6)からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程を行い、次いで、硝酸溶液で酸洗工程を行った後に、亜鉛を含むジンケート浴に30秒浸漬した後、水洗し、硝酸溶液に浸漬してから再びジンケート浴に30秒浸漬するというダブルジンケート処理を施した。その後、無電解Ni−Pめっき浴にて、無電解ニッケルめっきを施し、次いで、表2に示す硫酸銅浴およびめっき条件にて電気銅めっきをし、さらに、表3に示す硫酸錫めっき浴およびめっき条件にて電気錫めっきをし、表面処理材を作製した。各めっき層の厚さは、無電解ニッケルめっき層が0.5μm、電気銅めっき層が0.5μm、そして、電気錫めっき層が2μmであった。
表7に示すアルミニウム合金材料(A6061P−T6)からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程を行い、次いで、硝酸溶液で酸洗工程を行った後に、亜鉛を含むジンケート浴に30秒浸漬した後、水洗し、硝酸溶液に浸漬してから再びジンケート浴に30秒浸漬するというダブルジンケート処理を施した。その後、無電解Ni−Bめっき浴にて、無電解ニッケルめっきを施し、次いで、表5に示す銀めっき浴およびめっき条件にて電気銀めっきをし、表面処理材を作製した。各めっき層の厚さは、無電解ニッケルめっき層が0.5μm、そして、電気銀めっき層が2μmであった。
表7に示すアルミニウム合金材料(A6061P−T6)からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程および酸洗活性化工程を行い、その後、表1に示すスルファミン酸浴を用い、電流密度を120A/dm2とし、浴温を60℃とするめっき条件で電気ニッケルめっき層(下地層)を形成し、次いで、表2に示す銅めっき浴およびめっき条件で電気銅めっき層(中間層)を形成し、さらに、表3に示す錫めっき浴およびめっき条件で電気錫めっき層(被覆層)を形成し、表面処理材を作製した。各めっき層の厚さは、電気ニッケルめっき層が0.5μm、電気銅めっき層が0.5μm、そして、電気錫めっき層が2μmであった。
表7に示すアルミニウム合金材料(A6061P−T6)からなる基材に対し、上述した条件で電気脱脂工程および酸洗活性化工程を行い、その後、表1に示すスルファミン酸浴を用い、電流密度を120A/dm2とし、浴温を80℃とするめっき条件で電気ニッケルめっき層(下地層)を形成し、次いで、表5に示す銀めっき浴およびめっき条件で電気銀めっき層(中間層)を形成し、表面処理材を作製した。。各めっき層の厚さは、無電解ニッケルめっき層が0.5μm、そして、電気銀めっき層が2μmであった。
<ナノインデンテーション硬さの測定方法>
ニッケル系被膜または下地層のインデンテーション硬さの測定は、クロスセクションポリッシャを用いて傾斜をつけて断面加工を行い、ニッケル系被膜または下地層を露出させた状態での表面あるいは断面から薄膜硬度計(ナノインデンター)を用いて行ない、ニッケル系被膜または下地層のインデンテーション硬さは、測定した押し込み荷重と押し込み深さの曲線から算出する。また、基材のインデンテーション硬さの測定についてもクロスセクションポリッシャを用いて傾斜をつけて断面加工を行った後に基材の表面あるいは断面からナノインデンターを用いて行ない、基材のインデンテーション硬さは、測定した押し込み荷重と押し込み深さの曲線から算出する。なお、ナノインデンターは、押し込み荷重を10mNに設定し、押し込み深さ(測定深さ)が下地層の厚さより薄くなるように留意して測定し、塑性硬さを示すインデンテーション硬さHITを算出した。
FIB−SIMにて断面加工を行い、2万倍に拡大したSIM像から10μm2あたりの結晶粒数を数え、結晶粒径とした。
リンおよびホウ素の含有率は、1モルの硝酸でめっき被膜を溶解後、過マンガン酸カリウムで酸化した後、発色剤を加えて発色させた溶液の460nmにおける吸光度より求めた。
曲げ加工性は、90度V曲げ試験、および180度密着曲げ条件で曲げ試験を行ない、いずれの試験とも、試験後の供試材に曲げによる割れ(クラック)が観察されない場合を「〇(合格)」とし、少なくとも一方の試験で曲げによる割れが観察される場合を「×(不合格)」として評価した。
2 基材
3 ニッケル系被膜もしくはコバルト系被膜
4 下地層
5 表面被覆層
6 中間層
Claims (10)
- アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる被膜を有する表面処理材であって、前記被膜のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
- 前記被膜は、結晶粒径が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の表面処理材。
- 前記被膜は、リンおよびホウ素の含有量がいずれも0.1質量%未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の表面処理材。
- 前記被膜は、電気めっき被膜により構成される請求項1から3までのいずれか1項に記載の表面処理材。
- アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる下地層と、該下地層上に直接または中間層を介して形成された、錫または錫合金からなる表面被覆層とを有する表面処理材であって、前記下地層のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
- アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の少なくとも一面に、ニッケルもしくはニッケル合金またはコバルトもしくはコバルト合金からなる下地層と、該下地層上に直接または中間層を介して形成された、銀または銀合金からなる表面被覆層とを有する表面処理材であって、下地層のナノインデンテーション硬さが、前記基材のナノインデンテーション硬さの3倍以下であることを特徴とする表面処理材。
- 前記中間層が、銅または銅合金からなることを特徴とする請求項5または6に記載の表面処理材。
- 前記下地層は、結晶粒径が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項5から7までのいずれか1項に記載の表面処理材。
- 前記下地層は、リンおよびホウ素の含有量がいずれも0.1質量%未満であることを特徴とする請求項5から8までのいずれか1項に記載の表面処理材。
- 前記下地層、前記中間層および前記表面被覆層は、いずれも電気めっき被膜により構成される請求項5から9までのいずれか1項に記載の表面処理材。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016137237A JP6738675B2 (ja) | 2016-07-12 | 2016-07-12 | 表面処理材 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2018009203A true JP2018009203A (ja) | 2018-01-18 |
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