JP2017534186A - 適応フィードバック制御研磨方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- (a)光学終点システムを用いて、CMP(Chemical mechanical polish)工程の間、基板の前面からの誘電体層の除去を監視することと、
(b)研磨サイクルの開始時刻(tS)後の第1の時刻(t1)での第1環状領域からの反射光干渉信号を集めるとともに、前記研磨サイクルの開始時刻(tS)後の第2の時刻(t2)での第2環状領域からの反射光干渉信号を集めることにより、前記基板上の少なくとも2つの環状領域の前記誘電体層の除去の事前除去時間を決定することと、
(c)前記研磨サイクルの最後での前記第1および前記第2環状領域の間の除去の時間差を最小にするために、リテーニングリングの圧力およびCMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する調整値を計算することと、
(d)前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する前記調整値を適用することと、
(e)前記研磨サイクルを完了することと
を含み、
前記基板の前面は、前記研磨サイクルの間研磨パッドに対向し、かつ、前記基板の背面は前記CMPヘッドメンブレンに隣接するとともに、前記リテーニングリングにより所定の位置に保持され、
前記CMP工程は、前記誘電体層内の金属層の上部も除去する
CMP適応フィードバック制御方法。 - 前記光学終点システムは、
基板に入射光を与えるための光源および光学窓と、
前記第1環状領域および前記第2環状領域を含む複数の環状領域からの前記反射光干渉信号を取得するための検出器と
を含む
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記研磨サイクルの全体の工程時間は、約40秒から500秒である
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 差t1−t2は、−2秒,−1秒,0,+1秒または+2秒と等しい
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記CMPヘッドメンブレンの圧力に対する調整値は、負の値,0または正の値をとり得、
前記リテーニングリングの圧力に対する調整値は、負の値,0または正の値をとり得る
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記第1環状領域と前記第2環状領域との間の事前除去時間の差は、ルックアップテーブル(LUT:look up table)中の所定の行の値に適合し、
前記CMPヘッドメンブレンの圧力に対する調整値および前記リテーニングリングの圧力に対する調整値は、前記所定の行内の隣接する列に見つけられる
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記反射光干渉信号は、前記誘電体層からの反射光と、前記基板と前記誘電体層との間に設けられたエッチングストッパ層からの反射光とから形成された、前記第1環状領域の誘電体層の厚みに対応する前記第1の時刻t1での前記反射光の位相差および前記第2環状領域の誘電体層の厚みに対応する前記第2の時刻t2での前記反射光の位相差を含む
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記第1および前記第2環状領域の前記誘電体層の厚みは、前記第1および前記第2環状領域各々における少なくとも2つの異なる部分からの前記反射光干渉信号の位相差の平均により求められる
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 中央演算処理装置(CPU:Central Processing Unit)は、
前記検出器から反射光干渉データを受信し、
前記(b)および前記(c)の工程を行い、
情報の入力を行うことにより、CMP条件を制御し、
前記研磨サイクルの間の前記圧力の調整を行う
請求項2に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 更に、
(a)前記(d)の工程での調整の後に、第3の時刻での前記第1環状領域からの反射光干渉信号を集めるとともに、第4の時刻での前記第2環状領域からの反射光干渉信号を集めることにより、前記基板上の少なくとも2つの環状領域の前記誘電体層の除去の第2の事前除去時間を決定することと、
(b)前記研磨サイクルの最後での前記第1および前記第2環状領域の間の除去の時間差を最小にするための第2の事前除去時間の差に応じて、前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する第2の調整値を計算することと、
(c)前記研磨サイクルの最後まで維持される、前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する前記第2の調整値を適用することと
を含む
請求項1に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - (a)光学終点システムを用いて、CMP(Chemical mechanical polish)工程の間の基板の前面に設けられた複数のnの環状領域からの誘電体層の除去を監視することと、
(b)研磨サイクルの開始時刻(tS)後の第1の時刻(t1)での第1環状領域からの反射光干渉信号を集めるとともに、前記研磨サイクルの開始時刻(tS)後の第2の時刻(t2)での第2環状領域からの反射光干渉信号を集めることにより、前記基板上の少なくとも2つの環状領域の前記誘電体層の除去の事前除去時間を決定することと、
(c)研磨サイクルの最後での前記第1および前記第2環状領域の間の除去の時間差を最小にするために、少なくとも第1環状部分および第2環状部分でのリテーニングリングの圧力およびCMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する調整値を計算することと、
(d)少なくとも前記第1環状部分および前記第2環状部分での前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する前記調整値を適用することと、
(e)前記研磨サイクルを完了することと
を含み、
前記基板の前面は、前記研磨サイクルの間研磨パッドに対向し、かつ、前記基板の背面は前記CMPヘッドメンブレンに隣接するとともに、前記リテーニングリングにより所定の位置に保持され、
前記CMP工程は、前記誘電体層内の金属層の上部も除去するとともに、複数のnの環状部分に適用されるCMPヘッドメンブレンの圧力を含み、
前記第1環状部分および前記第2環状部分は、各々、前記第1および前記第2環状領域に並んで設けられている
CMP適応フィードバック制御方法。 - 前記光学終点システムは、
基板に入射光を与えるための光源および光学窓と、
前記第1環状領域および前記第2環状領域を含む前記複数の環状領域からの前記反射光干渉信号を取得するための検出器と
を含む
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記圧力の調整は、更に、前記圧力の調整のための事前除去時間の差を決定するために用いられなかった環状領域に並んで配置された各々の環状部分のCMPヘッドメンブレンの圧力を調整することを含む
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記金属層はダマシン(damascene)構造内に設けられ、あるいは、前記金属層は磁気トンネル接合(MTJ:Magnetic tunnel junction)素子内のキャッピング層である
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記少なくとも前記第1環状部分および前記第2環状部分でのCMPヘッドメンブレンの圧力に対する調整値は、負の値,0または正の値をとり得、
前記リテーニングリングの圧力に対する調整値は、負の値,0または正の値をとり得る
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記第1環状領域と前記第2環状領域との間の事前除去時間の差は、ルックアップテーブル(LUT:look up table)中の所定の行の値に適合し、
前記第1および前記第2環状部分各々での前記CMPヘッドメンブレンの圧力に対する調整値および前記リテーニングリングの圧力に対する調整値は、前記所定の行内の隣接する列に見つけられる
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記反射光干渉信号は、前記誘電体層からの反射光と、前記基板と前記誘電体層との間に設けられたエッチングストッパ層からの反射光とから形成された、前記第1環状領域の誘電体層の厚みに対応する前記第1の時刻t1での前記反射光の位相差および前記第2環状領域の誘電体層の厚みに対応する前記第2の時刻t2での前記反射光の位相差を含む
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 前記第1および前記第2環状領域の前記誘電体層の厚みは、前記第1および前記第2環状領域各々における少なくとも2つの異なる部分からの前記反射光干渉信号の位相差の平均により求められる
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 中央演算処理装置(CPU:Central Processing Unit)は、
前記検出器から反射光干渉データを受信し、
前記(b)および前記(c)の工程を行い、
情報の入力を行うことにより、CMP条件を制御し、
前記研磨サイクルの間の前記圧力の調整を行う
請求項12に記載のCMP適応フィードバック制御方法。 - 更に、
(a)前記(d)の工程での調整の後に、第3の時刻での前記第1環状領域からの反射光干渉信号を集めるとともに、第4の時刻での前記第2環状領域からの反射光干渉信号を集めることにより、前記基板上の少なくとも2つの環状領域の前記誘電体層の除去の第2の事前除去時間を決定することと、
(b)研磨サイクルの最後での前記第1および前記第2環状領域の間の除去の時間差を最小にするための第2の事前除去時間の差に応じて、前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する第2の調整値を計算することと、
(c)前記研磨サイクルの最後まで維持される、前記リテーニングリングの圧力および前記CMPヘッドメンブレンの圧力のどちらかまたは両方に対する第2の調整値を適用することと
を含む
請求項11に記載のCMP適応フィードバック制御方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004012302A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Hitachi Ltd | 膜厚分布計測方法及びその装置 |
JP2005011977A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Ebara Corp | 基板研磨装置および基板研磨方法 |
JP2005340679A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨装置及び研磨終点検出方法ならびに半導体装置の製造方法 |
JP2009252342A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Headway Technologies Inc | 複合シード層およびこれを有する磁気再生ヘッド、ならびにtmrセンサおよびccp−cpp−gmrセンサの形成方法 |
JP2010093147A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 研磨進捗監視方法および研磨装置 |
JP2014512704A (ja) * | 2011-04-28 | 2014-05-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 研磨制御のための係数および関数の変動 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5872633A (en) | 1996-07-26 | 1999-02-16 | Speedfam Corporation | Methods and apparatus for detecting removal of thin film layers during planarization |
WO1998005066A2 (en) | 1996-07-26 | 1998-02-05 | Speedfam Corporation | Methods and apparatus for the in-process detection and measurement of thin film layers |
US5948203A (en) * | 1996-07-29 | 1999-09-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Optical dielectric thickness monitor for chemical-mechanical polishing process monitoring |
US6051496A (en) * | 1998-09-17 | 2000-04-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene |
US6234870B1 (en) | 1999-08-24 | 2001-05-22 | International Business Machines Corporation | Serial intelligent electro-chemical-mechanical wafer processor |
DE10157452B4 (de) * | 2001-11-23 | 2006-08-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum chemisch-mechanischen Polieren von Wafern |
US7024268B1 (en) | 2002-03-22 | 2006-04-04 | Applied Materials Inc. | Feedback controlled polishing processes |
CN100488729C (zh) * | 2002-10-17 | 2009-05-20 | 株式会社荏原制作所 | 抛光状态监测装置和抛光装置以及方法 |
US7264535B2 (en) | 2004-04-23 | 2007-09-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Run-to-run control of backside pressure for CMP radial uniformity optimization based on center-to-edge model |
CN101088705B (zh) * | 2007-02-14 | 2010-08-25 | 长春设备工艺研究所 | 一种中大口径非球面光学元件的高效数控抛光工艺及设备 |
US8357286B1 (en) | 2007-10-29 | 2013-01-22 | Semcon Tech, Llc | Versatile workpiece refining |
KR101668675B1 (ko) * | 2008-09-04 | 2016-10-24 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 프로세싱 동안 기판의 분광 모니터링의 이용에 의한 연마 속도들의 조정 |
US8628376B2 (en) | 2008-11-07 | 2014-01-14 | Applied Materials, Inc. | In-line wafer thickness sensing |
WO2010062910A2 (en) | 2008-11-26 | 2010-06-03 | Applied Materials, Inc. | Using optical metrology for feed back and feed forward process control |
US8942842B2 (en) | 2011-04-28 | 2015-01-27 | Applied Materials, Inc. | Varying optical coefficients to generate spectra for polishing control |
US20120278028A1 (en) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | Jeffrey Drue David | Generating model based spectra library for polishing |
KR101918800B1 (ko) * | 2012-02-27 | 2018-11-14 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 균일한 토포그래피를 위해 소거의 검출 및 조절을 이용하는 피드백 제어 |
-
2014
- 2014-11-04 US US14/532,338 patent/US9573243B2/en active Active
-
2015
- 2015-10-20 CN CN201580072150.6A patent/CN107107303B/zh not_active Expired - Fee Related
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004012302A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Hitachi Ltd | 膜厚分布計測方法及びその装置 |
JP2005011977A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Ebara Corp | 基板研磨装置および基板研磨方法 |
JP2005340679A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨装置及び研磨終点検出方法ならびに半導体装置の製造方法 |
JP2009252342A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Headway Technologies Inc | 複合シード層およびこれを有する磁気再生ヘッド、ならびにtmrセンサおよびccp−cpp−gmrセンサの形成方法 |
JP2010093147A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 研磨進捗監視方法および研磨装置 |
JP2014512704A (ja) * | 2011-04-28 | 2014-05-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 研磨制御のための係数および関数の変動 |
Also Published As
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---|---|
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