JP2017516162A - 複製による光学素子の製造および対応する複製ツール並びに光学装置 - Google Patents
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Abstract
Description
「能動光学部品」:例えば、フォトダイオード、イメージセンサ、LED、OLED、レーザチップなどのような光検知素子または発光素子である。能動光学部品は、ベアチップまたはパッケージ、すなわちパッケージ化された部品であってもよい。
上記に言及された1つ以上の接触支持棒は、主に、接触面を明確に規定し、ひいては光学構造に関する方向および距離を明確に規定するためのものである。1つ以上の接触支持棒を設けることにより、光学構造を製造する基板(より正確には、基板面)と中央部に位置する複製ツールとの間の縦方向距離を高精度で規定することができる。したがって、接触支持棒によって、高精度で光学素子の縦寸法を規定することができる。
特に、本発明は、第1基板面を有する基板と、第1基板面上に設けられた光学構造とを備える光学装置に関する。
メニスカス部と中間部とが隣接(または当接)する箇所に、稜線(edge line)が存在する。
(I)中間部は、光学素子の中心軸に面し、第2引上げ面と呼ばれる表面を形成し、第2引上げ面は、第1引上げ面よりも中心軸に対してより急峻に配置され、および/または、
(II)中間部は、保持面と呼ばれる表面を形成し、保持面は、中心軸を含む第2方位角範囲内の任意の断面において、第1基板面と本質的に平行に配置され、稜線によって規制される端部を有し、第1基板面と平行な方向は、横方向として規定され、第1基板面から離れる方向に指す方向は、縦方向として規定され、第1基板面から離れる方向に指す方向は、縦方向として規定され、方位角範囲は、中心軸の周囲の横方向平面における角度範囲として規定される。
光学素子は、典型的には、受動光学素子、例えば、レンズまたはレンズ素子、または別の受動光学素子である。さらなる例については、上記を参照する。光学素子は、例えば、回折素子、または屈折素子、または回折素子および屈折素子の組み合わせであってもよい。
さらに、中間部は、通常、メニスカス部に相互接続し、光学素子をおよび/または周囲部は、本質的に中間部およびメニスカス部から構成される。
さらに典型的には、稜線は、横方向に沿って光学素子の中心軸を完全に囲み、またはより具体的には、光学素子を完全に囲む。
さらなる実施形態および利点は、従属請求項および図面から明らかになる。
図1は、光学装置1を示す概略断面図である。より具体的には、光学装置1は、光電子モジュールである。図2は、図1の光学装置1を示す別の概略断面図である。図2において、図1の断面の概略位置は、破線で示されている。
光学素子3,3′は、例えば図2に番号3′で示された屈折レンズ素子などの屈折光学素子であってもよく、例えば、図2に番号3で示された回折レンズ素子などの回折光学素子であってもよく、または他の光学素子、特に他の受動光学素子であってもよい。
Claims (10)
- 光学素子を含む光学構造を製造するための複製ツールであって、
光学構造の一部のネガを規定する形状と、縦方向に整列された中心軸とを有する中央部と、
横方向に沿って前記中央部を囲む周囲部と、
接触面と呼ばれる平面を規定する1つ以上の接触支持棒とを含み、
前記複製ツールのすべての部分は、前記接触面の同一側面に配置され、
前記接触面から、前記接触面と垂直に整列された方向に沿って前記側面に指す方向は、縦方向として規定され、
前記縦方向に垂直な方向は、横方向として規定され、
第1方位角範囲において、前記周囲部は、前記中心軸から外側に面し、第1補償面と呼ばれる表面を形成し、
第2方位角範囲において、前記周囲部は、前記中心軸から外側に面し、第2補償面と呼ばれる表面を形成し、
方位角範囲は、前記中心軸の周囲の横方向平面における角度範囲として規定され、
前記中心軸を含む前記第2方位角範囲内の任意の断面における前記第2補償面の峻度は、前記中心軸を含む前記第1方位角範囲内の任意の断面における第1補償面の峻度よりも大きく、前記峻度の両方は、それぞれの表面の前記中心軸からの距離の増加に対して、それぞれの表面の縦座標の増加として規定される、複製ツール。 - 前記中心軸を含む前記第1方位角範囲内の任意の断面において、前記第1補償面は、前記中心軸からの距離の増加に伴って減少する峻度を有する、請求項1に記載の複製ツール。
- 前記中心軸を含む前記第2方位角範囲内の任意の断面において、前記第2補償面は、一定の峻度または前記中心軸からの距離の増加に伴って増加する峻度を有する、請求項1または2に記載の複製ツール。
- 前記中心軸を含む前記第1方位角範囲内の任意の断面において、前記第1補償面は、連続的に微分可能である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の複製ツール。
- 前記中心軸を含む前記第1方位角範囲内の任意の断面および/または前記中心軸を含む前記第2方位角範囲内の任意の断面において、前記周囲部は、保持部と呼ばれる部分を含み、
この部分において、前記複製ツールは、それぞれの断面における前記接触面に対して最小の非ゼロ距離を有し、
前記保持部は、前記中央部とそれぞれの補償面との間に位置する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の複製ツール。 - 前記保持部は、保持セクションと呼ばれるセクションを含み、
このセクションにおいて、前記複製ツールは、前記接触面と本質的に平行に配置される、請求項5に記載の複製ツール。 - 前記保持部は、横方向に沿って前記中央部を完全に囲む、請求項5または6に記載の複製ツール。
- (a)第1基板面を有する基板を提供する工程と、
(b)請求項1〜7のいずれか1項に記載の複製ツールを提供する工程と、
(c)一定量の複製材料を供給する工程と、
(d)前記量の複製材料を前記基板と前記複製ツールとの間に配置して、前記基板と前記複製ツールを互いに向かって移動する工程と、
(e)前記複製材料を硬化させる工程とを備える、光学装置の製造方法。 - 光学装置であって、
第1基板面を有する基板と、
前記第1基板面上に設けられた光学構造とを備え、
前記光学構造は、光学素子と、横方向に沿って前記光学素子を囲む周囲部とを含み、
前記周囲部は、メニスカス部と呼ばれる部分と、前記光学素子と前記メニスカス部との間に設けられた中間部と呼ばれる部分を含み、
前記周囲部は、前記メニスカス部において、凹状メニスカスを形成し、
前記メニスカス部と前記中間部とが隣接する箇所に、稜線が存在し、
第1方位角範囲において、前記中間部は、前記光学素子の縦方向に整列された中心軸に面し、第1引上げ面と呼ばれる表面を形成し、
第2方位角範囲において、
(I)前記中間部は、前記光学素子の中心軸に面し、第2引上げ面と呼ばれる表面を形成し、前記第2引上げ面は、前記第1引上げ面よりも前記中心軸に対してより急峻に配置され、および/または
(II)前記中間部は、保持面と呼ばれる表面を形成し、前記保持面は、前記中心軸を含む前記第2方位角範囲内の任意の断面において、前記第1基板面と本質的に平行に配置され、前記稜線によって規制される端部を有し、
前記第1基板面と平行な方向は、横方向として規定され、
前記第1基板面から離れる方向に指す方向は、縦方向として規定され、
方位角範囲は、前記中心軸の周囲の横方向平面における角度範囲として規定される、光学装置。 - 前記光学構造と前記第1基板面との間の接触角は、40°未満、具体的には30°未満、より具体的には22°未満である、請求項9に記載の光学装置。
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