JP2017507234A - 光誘起フリーラジカルおよび/またはカチオン光重合法 - Google Patents

光誘起フリーラジカルおよび/またはカチオン光重合法 Download PDF

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Abstract

本発明は、穏やかな照射条件下での光誘起光重合の新しい方法、該方法で使用する銅開始剤複合体、および該方法により得られる重合体に関する。

Description

優先権
本発明の出願は、2014年3月6日に出願された欧州特許出願番号EP14158217.1の優先権を主張し、その内容全体を本明細書の一部を構成するものとして援用する。
本発明は、穏やかな照射条件下での光誘起光重合の新しい方法、該方法で使用する銅開始剤複合体、および該方法により得られる重合体に関する。
本明細書において、角括弧([])中の数は、本明細書の最後に与えられている参考文献の一覧に関するものである。
近年、カチオン光重合を含む光重合は、新しいモノマーおよび/または光開始剤系の学術的応用および工業的応用の継続的成長のため、精力的な調査の対象となってきた。光開始剤の使用は、コーティング、インク、および接着剤などの従来の応用で着実に増加しているだけでなく、さらに最近では、オプトエレクトロニクス、ステレオリソグラフィー、およびナノテクノロジーなどのハイテクな応用においても着実に増加している。
光重合は、従来の熱重合と比べて、開始の空間的制御などの多くの利点を与え、また実際、光重合により、重合を溶媒なしに実施することによってコストを削減できる。他の重要な利点としては、高温が必要となることが多い熱重合とは異なり、光重合は、室温で実施できるので、経済的コストとエネルギーコストを節減する点においても利得があることが挙げられる。最後に、カチオン重合では、一般的に酸素感受性ではないことが、不活性雰囲気を使用する必要がないため大きな利点となっている。従って、カチオン光重合は、上記の全ての利点を兼ね備えている。
これまで、光重合で使用する配合物の大半は、強力紫外線ランプとのみ使用可能であった。このことにより、使用する波長が原因となって作業員に対する安全上の問題が生じ、さらに、エネルギー効率が最適ではないため、このアプローチの範囲が狭められている。従って、これらの問題を克服するために、穏やかな照射条件の使用が大きな課題であり、可視光吸収性の高い新しい物質の開発、および可視域で発光する物質と低消費開始剤の使用を可能にすることが、工業的レベルでも学術的にも精力的に探求されている。
従って、穏やかな条件下で、例えば可視光を使用して、光重合を誘起する新規の開始剤系の開発の必要性が残されている。
(a)ジクロロメタン中のE1、G1、およびG2の紫外可視吸収スペクトル、および(b)ジクロロメタン(DCM)とアセトニトリル(ACN)中のG1の紫外可視吸収スペクトル。 様々な照射(405nmのレーザーダイオード)時間の後での(a)DCMおよび(b)ACN中のG1の紫外可視スペクトル。 アセトニトリル中のE1のサイクリックボルタモグラム。 ハロゲンランプ暴露時にG1/Iod1中で生成し、トルエン中のPBNにより捕捉されたラジカルのESRスペクトル:(a)実験的スペクトルおよび(b)シミュレーションしたスペクトル。 405nmのレーザーダイオード暴露時のDCM中の(a)E1/Iod2、(b)G1/Iod2、および(c)G2/Iod2([Iod2]=2.2mM)の定常状態光分解;様々な照射時間で記録した紫外可視スペクトル。 355nmのレーザー励起直後の480nmでモニタリングしたE1の崩壊トレース。 355nmのレーザー励起直後の600nmでモニタリングした様々な量のIod1を添加した窒素飽和ジクロロメタン中のG1の崩壊曲線。 (a)405nmまたは457nmのレーザーダイオード暴露時の積層物中のE1/Iod2(0.2%/2%,w/w);(b)405nm(曲線1)または457nm(曲線2)のレーザーダイオード、またはハロゲンランプ(曲線3)暴露時の積層物中のG1/Iod2(0.2%/2% w/w);ハロゲンランプ暴露時の積層物中(曲線4)、または空気中(曲線5)のG1/Iod2/NVK(0.2%/2%/3%,w/w/w);(c)405nm(曲線1)または457nm(曲線2)のレーザーダイオード、またはハロゲンランプ(曲線3)暴露時の積層物中のG2/Iod2(0.2%/2% w/w)、の存在下でのTMPTAの光重合特性。 空気中でのハロゲンランプ暴露時のG1/Iod1/NVK(0.2%/2%/3%,w/w/w)の存在下でのEPOXの光重合の前後に記録した(a)光重合特性および(b)IRスペクトル。 ハロゲンランプ暴露時の(a)空気中、または(b)積層物中でのG1/Iod2/NVK(0.1%/3%/5%,w/w/w)の存在下でのEPOX/TMPTA混合物(50%/50%,w/w)の光重合特性。 ハロゲンランプの発光スペクトル 様々な照射(405nmのレーザーダイオード)時間の後でのDCM中の(a)E1および(b)G2の紫外可視スペクトル。 LEP実験前後のDCM中のG1/Iod1の紫外可視スペクトル。 実施例11に記載の開始系を使用したTMPTA/EPOX混合物(50%/50%)の光重合から得られた相互貫入高分子網目構造。光学分析では、相分離は観察されない。
定義
本発明を理解しやすくするために、いくつかの用語と句を以下に定義する。
概して、用語「されていてもよい(optionally)」を伴うまたは伴わない用語「置換」、および本発明の式中に含まれる置換基は、与えられた構造中の水素ラジカルが、特定の置換基のラジカルと置き換わることに関する。任意の与えられた構造における1つ以上の位置が、特定の群から選択された1つ以上の置換基で置換されていてもよく、置換基は、各位置で同一であってもよく、または異なっていてもよい。本明細書で使用される場合、用語「置換」は、有機化合物の全ての許容可能な置換基を含むことが意図されている。
本明細書で使用される場合、用語「脂肪族」は、以下に定義するアルキル基、アルケニル基、およびアルキニル基を意味する。
本明細書で使用される場合、用語「アルキル」は、直鎖状および分岐状アルキル基を意味する。「アルケニル」、「アルキニル」などのその他の総称に、同様の解釈が適用される。特定の実施形態において、本明細書で使用される場合、「低級アルキル」は、約1〜6の炭素原子を有する(置換型、非置換型、分岐状、または非分岐状)アルキル基を示すように使用される。具体的なアルキル基として、限定はされないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、アリル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、sec−ペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、sec−ヘキシル基などが挙げられ、これらは、さらに、1つ以上の置換基を有していてもよい。アルケニル基として、限定はされないが、例えば、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、1−メチル−2−ブテン−1−イル基などが挙げられる。代表的なアルキニル基として、限定はされないが、エチニル基、2−プロピニル(プロパルギル)基、1−プロピニル基などが挙げられる。
概して、用語「芳香族基」または「アリール」は、本明細書で使用される場合、好ましくは3〜14の炭素原子を有し、芳香族性に関するヒュッケル則を満たす少なくとも1つの環を含む安定な置換型または非置換型不飽和単環式または多環式炭化水素基を意味する。芳香族基の例として、限定はされないが、フェニル基、インダニル基、インデニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントラシル基(anthracyl)が挙げられる。
本明細書で使用される場合、用語「アルキルアリール」は、少なくとも1つのアルキル置換基を有するアリール基を意味し、アルキルアリール基は、置換基をまだ有していないアリール環原子のいずれかを介して分子の残部と結合している。一例として、用語「C6〜C14アルキルアリール」は、上記で定義したように、アルキル基とアリール基の間に全部で6〜14の炭素原子を含むアルキルアリール基を意味する。例えば、メチルフェニル基は、C7アルキルアリールである。例えば、「C6〜C14アルキルアリール」は、C0〜C4アルキルC6〜C10アリール基を含む。
同様に、用語「アラルキル」は、少なくとも1つのアリール置換基を有するアルキル基を意味し、アラルキル基は、置換基をまだ有していないアルキル鎖原子のいずれかを介して分子の残部と結合している。一例として、用語「C6〜C14アラルキル」は、上記で定義したように、アルキル基とアリール基の間に全部で6〜14の炭素原子を含むアラルキル基を意味する。例えば、全部で8つの炭素原子を含むフェニルエチル基は、C8アラルキル基である。例えば、「C6〜C14アラルキル」は、C6〜C10アリールC0〜C4アルキル基を含む。
概して、用語「複素環式芳香族基」、「ヘテロアリール」、または「ヘテロアリール」は、本明細書で使用される場合、上記で定義したように、約5〜約10の環原子を有し、1つの環原子が、S、O、およびNから選択され、0、1、または2つの環原子が、S、O、およびNから独立して選択される別の異種原子であり、残りの環原子が、炭素である、安定な置換型または非置換型芳香族基を意味し、該ラジカルは、環原子のいずれかを介して分子の残部と結合しており、例えば、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、チオフェニル、フラニル、キノリニル、イソキノリニルなどが挙げられる。
本明細書で使用される場合、用語「シリル」は、−Si(R)基または−Si(R)−基を意味し、式中、存在する各Rは、独立して、C1〜C6アルキル基、またはC6〜C10アリール基である。
本明細書で使用される場合、表現「C〜C、好ましくはCx1〜Cy1、アルキルアリール、アラルキル、またはアリール」は、式中のx、y、x1、およびy1が、指し示す化学基(例えば、「アルキルアリール」、「アラルキル」、「アリール」)中の炭素原子数を示す整数を表し、「C〜Cアルキルアリール、C〜Cアラルキル、またはC〜Cアリール、好ましくはCx1〜Cy1アルキルアリール、Cx1〜Cy1アラルキル、またはCx1〜Cy1アリール」を意味する。同様に、表現「C〜Cアルキルアリール、アラルキル、またはアリール」は、C〜Cアルキルアリール、C
アラルキル、またはC〜Cアリールを意味する。
本発明の特定の好ましい実施形態の詳細な説明
上述したように、近年、穏やかな条件下で、例えば可視光照射下で重合反応を触媒する複合体開始剤の開発に対する関心が高まっている。これを達成するイリジウムおよびルテニウム複合体が報告されている。しかしながら、これらの構造体は、高価であり、合成が難しく、そのため応用範囲がかなり限られており、特に、工業的応用には適さない。他の試みが、Ni、Zn、Fe、Cr、およびCo複合体についてなされてきた。しかし、これらの試みは失敗した。本発明者は、穏やかな光照射下で、例えば可視光下で光重合を誘起するための好適な特性を有する光開始剤複合体を生じる金属原子と配位子の正しい組み合わせを決定するのが難しいため、該分野は完全に予測不能であることを発見した。特に、このような目的に対して有用であるために、得られる複合体は、以下を含む好適な特性のバランスを保っているべきである。
−好ましくは穏やかな照射条件下で、光を吸収する能力
−フリーラジカル重合の開始に適合する励起状態の存続期間
−好適なレドックス特性
−レドックス反応の可逆性
得られる複合体が、以下の特性を示し得ることが好ましい。
−200〜900nmの範囲、例えば390〜700nmの可視域などの穏やかな照射条件で光を吸収する能力
−存続期間>10ps
−−2〜2Vの範囲のレドックス特性
−50%より高いレドックス反応の可逆性
本発明者は、適当な配位子を選択した銅は、フリーラジカル光重合の光開始剤として、また適当なビニルカチオン開始剤と共に使用される場合には、フリーラジカルにより促進されるカチオン光重合の光開始剤として作用するのに好適である上記の要求される特性を有する複合体を形成できることを発見した。
これに関連して、穏やかな光照射下、例えば可視光照射下でのフリーラジカルおよび/またはカチオン光重合のための新規の光重合法が本明細書で与えられ、さらに、新規の触媒種が採用される。本発明によると、一態様において、穏やかな光照射条件下で、例えば可視光照射下でフリーラジカルおよび/またはカチオン光重合に達するための方法であって、
(i)重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマー;および/または
(ii)重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマー
からなる群から選択される少なくとも1種の重合可能な成分を重合する工程を含み、
A)穏やかな光照射;好ましくは、λ=200〜900nmの範囲、例えばλ=390〜700nmの可視域;
B)式IまたはIIの光開始剤複合体であって、
式中、
は、孤立電子対が銅原子との結合を形成する2つの窒素原子を含む共役多環芳香族系を表し、
およびQは、独立して、孤立電子対が銅原子との結合を形成する1つの窒素原子を含む共役多環芳香族系を表し、
Wは、リン原子または窒素原子を表し、
、R、R、R、R、およびRは、それぞれ独立して、脂肪族基または芳香族基、好ましくはC6〜20アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、前記アルキル基および/または前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基でさらに置換されていてもよく、RおよびRは、P原子、Cu原子、およびW原子と共に6〜8員環を形成してもよく、
Xは、好適な対イオンを表し、BF 、PF、SbF 、またはClであることが好ましい、前記光開始剤複合体;
C)式(Rのヨードニウム塩であって、式中、存在する各Rは、独立して、C6〜10アリール基を表し、前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の脂肪族基または芳香族基、好ましくは1つ以上の直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜
10アリール基でさらに置換されていてもよい前記ヨードニウム塩;
の存在下の前記光重合法であって、
ただし、少なくとも1種の重合可能な成分が、重合がカチオン重合により達成されるエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーである場合、
D)構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤であって:
式中、Rは、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC1〜10ヘテロアルケニル基、またはC6〜10アリール基を表し、
およびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、環式ヘテロアリール基を形成してもよい前記ビニルカチオン開始剤
の存在下でさらに実施される、前記光重合法。
読者が理解するように、使用するモノマーの種類(すなわち、モノマーがフリーラジカル機構、カチオン機構のどちらにより重合するか)に依存して、かつ、銅光開始剤B)およびヨードニウム塩C)と組み合わせてビニルカチオン開始剤D)を使用するか否かに依存して、本発明に係る光重合法は以下を達成し得る。
−フリーラジカル光重合
−カチオン光重合、または
−フリーラジカル重合とカチオン重合の両方
言い換えると、ビニルカチオン開始剤D)は、任意選択されるものであり、カチオン光重合を望む場合に使用してもよい。このように、上記で定義したように、また以下の変形において、本発明に係る光重合法は、A)、B)、およびC)を含んでもよい。また、上記で定義したように、また以下の変形において、本発明に係る光重合法は、A)、B)、C)、およびD)を含んでもよい。
D)を使用する場合、光重合法は、構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤と組み合わせて式(RSiHのシラン成分をさらに含み、式中、存在する各Rは、独立して、−SiRを表し、存在する各Rは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6
アルキル基を表すことが、好ましい。
a)重合可能な成分
重合可能な成分が、重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーであり得ることが好ましい。本明細書で使用される場合、用語「エチレン性不飽和モノマー」は、少なくとも1つの炭素間二重結合を含むモノマーを意味する。重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーが、アリール基(例えば、フェニル基)、カルボキシル(C=O)基、または他の二重結合と共役している炭素間二重結合を少なくとも1つ含むことが好ましい。このカテゴリーにおけるそのようなモノマーとして、例えば、アクリレート−[(ROCO)CHCH]−(アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなど)、メタクリレート−[(ROCO)C(Me)CH]−(メタクリル酸、メタクリル酸メチルなど)、スチレン、エチレン、プロピレン、N−ビニルアクリルアミド、N−ビニルピロリドンが挙げられる。例えば、重合可能な成分は、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA):

であってもよい。
重合可能な成分が、重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーであり得ることが好ましい。これらのモノマーの例として、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテルなどのビニルエーテル−[ROCHCH]−、およびエポキシモノマーが挙げられる。本明細書で使用される場合、用語「エポキシモノマー」は、以下の構造を有するオキシラン基を含む成分を意味する。

式中、「*」は、オキシラン基がモノマーの残部と結合する場所を示す。例えば、重合可能な成分は、以下の構造を有するエポキシドモノマー(EPOX)であってもよい。

重合可能な成分が、フリーラジカル重合またはカチオン重合という異なる重合機構を介してそれぞれが重合可能である2つ以上の成分の混合物であり得ることが好ましい。例えば、重合可能な成分は、TMPTAとEPOXの混合物であってもよい。その他の例として、ビニルエーテル/アクリレート、ビニルエーテル/エポキシといった混合物が挙げられる。
本明細書に記載の銅光開始剤複合体の1つの重要な利点として、以下の2要素がある。(i)銅光開始剤複合体は、かなり穏やかな照射条件下(例えば、λ=200〜900nm、例えば、λ=390〜700nmの可視光域下)でフリーラジカルを生じさせ、かつ、(ii)銅光開始剤複合体は、好適なカチオン性ビニル開始剤と組み合わされた場合に、フリーラジカルにより促進されるカチオン光重合を開始する光レドックス触媒サイクルを引き起こす。従って、本発明の銅光開始剤複合体を穏やかな光照射条件下で使用することにより、フリーラジカル重合およびカチオン重合という異なる重合機構を有するモノマーの混合物を使用する場合に、これらの重合が同時に起きる。このことは、異なる重合機構(フリーラジカルとカチオン)を有する重合体の相互貫入網目構造を単一の光開始剤を用いて調製することを可能にする。フリーラジカル重合のための光開始剤とカチオン重合のためのカチオン開始剤という2つの異なる重合開始剤の使用が必要な既存の方法と比べて、このことは顕著な利点である。必然的に、2つの異なる開始剤の使用は、異なる開始時間を意味するため、重合が、異なる速度および/または異なる効率で進み、それによって、本発明の光重合法により得られるものよりも均一性がかなり低い相互貫入高分子網目構造がもたらされることがある。
b)穏やかな光照射
本明細書で使用される場合、用語「穏やかな光照射」は、波長が200〜900nmの範囲の可視スペクトルおよび中〜近紫外線スペクトルを意味する。
穏やかな光照射が、可視光源により与えられ得ることが好ましい。任意の可視光源を使用して、本発明に係る光重合法を実施し得ることが好ましい。可視光とは、約390〜700nmの波長の可視スペクトルを意味する。例えば、LED電球、レーザーダイオード、緑色蛍光電球、ハロゲンランプ、省エネルギーランプを含む家庭用ランプ、または自然光から放出される光を使用してもよい。
穏やかな光照射が、中〜近紫外光源により与えられ得ることが好ましい。任意の中〜近紫外光源を使用して、本発明に係る光重合法を実施し得ることが好ましい。中〜近紫外光とは、約200〜390nmの波長の光スペクトルを意味する。例えば、BLB型ランプ、水銀ランプ、ナトリウムランプ、またはキセノンアークランプから放出される光を使用してもよい。
本発明の重要な利点は、かなり穏やかな照射条件下で光重合を達成し得ることにある。例えば、単純な家庭用ハロゲンランプを用いてもよい。
c)開始剤複合体
式Iの開始剤複合体において、
が、以下の式:



または

を有し得、
式中、
Q1およびRQ2は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表し、
Q3およびRQ4は、独立して、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、5または6員環ヘテロシクリル基を形成してもよく、前記ヘテロシクリル基は、−CN、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、C6〜10アリール基、またはC6〜12ヘテロアリール基でさらに置換されていてもよく、
Q5およびRQ6は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜10アルキル基を表し、前記アルキル基は、独立して、−NRでさらに置換されていてもよく、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表すか、またはRおよびRは、結合している窒素原子と共に単環式または多環式C6〜12ヘテロシクリル基を形成し、
Q7およびRQ8は、独立して、H、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基を表すことが好ましい。
式Iの開始剤複合体において、Q1が、以下の式:

を有する縮合多環式ヘテロアリール基であって、
式中、
Q1およびRQ2は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表し、
Q3およびRQ4は、独立して、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、5または6員環ヘテロシクリル基を形成してもよく、前記ヘテロシクリル基は、−CN、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基、C6〜10アリール基、またはC6〜12ヘテロアリール基でさらに置換されていてもよいことが好ましい。
式IIの開始剤複合体において、
およびQが、独立して、以下の式:

を有し得、
式中、RQ9は、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表すことが好ましい。
開始剤複合体が、式IまたはII


または

を有し得、
式中、Q、Q、およびQは、上記で定義した通りであり、RiおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。
開始剤複合体が、式IまたはII


または

を有し得、
式中、Q、Q、およびQは、上記で定義した通りであり、RiおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。
開始剤複合体が、式I

を有し得、
式中、
Q1およびRQ2は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表し、
Q3およびRQ4は、独立して、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、5または6員環ヘテロシクリル基を形成してもよく、前記ヘテロシクリル基は、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基、またはC6〜12ヘテロアリール基でさらに置換されていてもよく、
iおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。
開始剤複合体が、式I

を有し得、
式中、
Q1およびRQ2は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表し、
Q3およびRQ4は、独立して、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、5または6員環ヘテロシクリル基を形成してもよく、前記ヘテロシクリル基は、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基、またはC6〜12ヘテロアリール基でさらに置換されていてもよく、
iおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。
開始剤複合体は、以下の構造のうち1つを有し得ることが好ましい。

































上記の複合体1bおよび2bにおいて、≪X=H,H≫は、キノリニル基上の対応する位置が置換されていないことを意味する。



開始剤複合体が、以下の構造のうち1つを有し得ることが好ましい。

または

式IまたはIIの開始剤複合体において、対イオンXが、BF 、PF、SbF 、またはClで表され得ることが好ましい。
d)ヨードニウム塩
式(Rのヨードニウム塩において、存在する各Rは、独立して、フェニル基を表し、前記フェニル基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基でさらに置換されていてもよいことが好ましい。例えば、フェニル基は、ヨウ素原子に対して好ましくはオルト位に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基を含んでもよい。
式(Rのヨードニウム塩の対イオンが、任意の好適な負電荷の対イオンであり得ることが好ましい。例えば、B(PhF 、PF 、SbF 、またはClであってもよい。
ヨードニウム塩が、以下の構造のうち1つを有し得ることが好ましい。

または

e)ビニルカチオン開始剤
ビニルカチオン開始剤が式III

を有し得、式中、Rは、−(CH−CH)−O−(CH−CH)−O−(CH−CH)−O−CH=CHを表し得る(すなわち、ビニルカチオン開始剤は、トリエチレングリコールジビニルエーテルであり得る)ことが好ましい。
ビニルカチオン開始剤が式IV:

を有し得、式中、RおよびRは、共に、環式ヘテロアリール基を形成してもよいことが好ましい。例えば、ビニルカチオン開始剤は、以下の構造を有す。

式IIIまたはIVのビニルカチオン開始剤を、式(RSiHのシラン成分と組み合わせて使用し得、式中、存在する各Rは、独立して、−SiRを表し、存在する各Rは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。例えば、シラン成分は、以下の構造を有し得る。

f)重合体
別の態様において、本発明に係る光重合法により得られる重合体材料が与えられる。該光重合法のための様々な成分に関する上記の変形は、必要な変更を加えてこのセクションへ適用可能であり、本発明の方法により得られる重合体材料の定義に適用するように理解
されるであろう。
重合がフリーラジカル重合により達成されるエチレン性不飽和モノマー、および重合がカチオン重合により達成されるエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーを、本発明に係る穏やかな光により誘起される光重合によって、少なくとも部分的に光重合することによって重合体材料を得、同時性のフリーラジカル重合およびカチオン重合により生じる重合体の相互貫入網目構造を形成し得ることが好ましい。
g)液体組成物
別の態様において、穏やかな光照射、好ましくは、λ=200〜900nmの範囲の光照射、例えばλ=390〜700nmの可視域の光照射に暴露することにより硬化可能であり、
(a)(b)重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマー;および/または
(ii)重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマー
からなる群から選択される少なくとも1種の重合可能な成分;
(b)式IまたはIIの光開始剤複合体であって、


式中、
は、孤立電子対が銅原子との結合を形成する2つの窒素原子を含む共役多環芳香族系を表し、
およびQは、独立して、孤立電子対が銅原子との結合を形成する1つの窒素原子を含む共役多環芳香族系を表し、
Wは、リン原子または窒素原子を表し、
、R、R、R、R、およびRは、それぞれ独立して、C6〜20アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、前記アルキル基および/または前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基でさらに置換されていてもよく、RおよびRは、P原子、Cu原子、およびW原子と共に6〜8員環を形成してもよく、
Xは、好適な対イオンを表し、BF 、PF、SbF 、またはClであることが好ましい、前記光開始剤複合体;
(c)式(Rのヨードニウム塩であって、式中、存在する各Rは、独立して、C6〜10アリール基を表し、前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基でさらに置換されていてもよい前記ヨードニウム塩;を含み、ただし、
(d)少なくとも1種の重合可能な成分(a)が、重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーである場合、構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤であって、


式中、R、R、およびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、環式ヘテロアリール基を形成してもよい前記ビニルカチオン開始剤をさらに含む、液体組成物が与えられる。
該光重合法のための様々な成分に関する上記の変形は、必要な変更を加えてこのセクションへ適用可能であり、上記で定義した液体組成物の定義に適用するように理解されるであろう。
液体組成物が、構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤と組み合わせて式(RSiHのシラン成分をさらに含み得、式中、存在する各Rは、独立して、−SiRを表し、存在する各Rは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基を表すことが好ましい。
h)使用
別の態様において、穏やかな光照射条件下(好ましくは200〜900nmの範囲)、例えば、可視光照射下(好ましくは390〜700nmの範囲)での、フリーラジカル光重合またはカチオン光重合のための開始剤としての式IまたはIIの銅複合体の使用が与えられる。
別の態様において、重合が穏やかな光照射条件下(好ましくはλ=200〜900nmの範囲)、例えば、可視光照射下(好ましくはλ=390〜700nmの範囲)でフリーラジカル光重合およびカチオン光重合によりそれぞれ達成される少なくとも2種の重合体の相互貫入網目構造を調製するための式IまたはIIの銅複合体の使用が与えられる。
同様に、該光重合法のための様々な成分に関する上記の変形は、必要な変更を加えてこのセクションへ適用可能であり、上記で定義した使用の定義に適用するように理解されるであろう。
i)合成法
実施者には、合成戦略、保護基、および本発明の銅複合体の合成に有用なその他の材料と方法に関する指針として、本明細書に含まれる情報と組み合わせて参考にするための配位子と複素環化学の確立した文献がある。例えば、読者は、以下の例証のセクション、および本明細書に記載のいくつかの配位子の調製に好適な合成法に関して例証のセクションで引用されている参考文献を参照してもよい。また、読者は、本発明を実施するのに好適
な特定の銅複合体の合成法に関する参考文献41〜45を参照してもよい。
本発明に係る銅複合体の合成は、単純であり、好適な銅出発物質と適当な配位子を等モル比で反応させることを含む。
例えば、式Iの銅開始剤複合体を、以下の一般スキームにより調製してもよい。

同様に、式IIの銅開始剤複合体を、以下の一般スキームにより調製してもよい。

均等物
以下の代表的な実施例は、本発明の説明に役立つことが意図されており、本発明の範囲を限定することが意図されているのではなく、本発明を限定するものとして解釈されるべきではない。実際に、本明細書に示され記載されているものに加えて、本発明の様々な修正、および本発明の多くのさらなる実施形態が、下記の実施例と本明細書に引用されている科学文献および特許文献への参照とを含む本明細書の全内容から当業者には明らかとなるであろう。これらの引用される参考文献の内容が、本明細書の一部を構成するものとして援用されて、当分野の現状を説明するのに役立つことが、さらに理解されるべきである。
以下の実施例は、本発明の様々な実施形態とその均等物における、本発明の実施に適用
可能な重要な追加の情報、例証、および指針を含む。
例証
本発明の複合体、その調製、および穏やかな光により誘起される光重合反応におけるその使用は、これらの化合物を調製または使用するいくつかの工程を説明する実施例によりさらに理解することができる。しかしながら、これらの実施例は、本発明を限定しないことが理解されるであろう。現在分かっている、またはさらに開発される本発明の変形は、本明細書に記載され、特許請求の範囲で主張されている本発明の範囲内に含まれるとみなされる。
要約:
例えば、ルテニウム[1,2]またはイリジウム[3〜8]複合体などの金属複合体は、優れた光化学特性(例えば、可視光の強度の吸収、長く続く励起状態、および好適なレドックス電位)を有し、酸化サイクルか還元サイクルのいずれかを通して機能して、反応種、例えば、ラジカルやカチオンを生成させることができるため、重合体合成のための光開始系(PIS)[9]に成功裏に使用されてきた。[10〜15]近年、銅複合体は、比較的コスト優位性があるため、光重合領域でますます関心を集めている。好適な配位子を有する銅複合体は、強い光照射(可視域および中〜近紫外域の外側)を受けると存続期間の長い励起状態を呈し[16]、このことにより、有機発光ダイオード(OLED)[17〜19]または光を介した光化学反応などの様々な応用の可能性が該銅複合体に与えられ得る。[20〜23]興味深いことに、一般的な有機光開始剤または染料の存在下で[24,25]または非存在下で光により誘起される原子移動ラジカル重合(ATRP)用の銅複合体が報告されている。[26,27]しかし一方で、可視域と中〜近紫外域を超えた強い光照射が必要であった。しかしながら、我々の知っている限りでは、穏やかな光照射下でのカチオン光重合とラジカル光重合の両方のためのPISにおいて銅複合体を使用するための試みはなされていない。
以下では、(ヨードニウム塩と任意選択的に他の添加剤とを含む)PISに3つの銅複合体を組み込み、反応種(すなわち、ラジカルおよびカチオン)を光化学的に生じさせた。このことは、サイクリックボルタンメトリー、電子スピン共鳴スピントラップ、定常状態光分解、およびレーザーフラッシュフォトリシス技術を使用して研究されてきた。ラジカル光重合またはカチオン光重合に対する銅複合体系PISの光開始能力を調査し、基準のカンフルキノン(CQ)系PISと比較した。
調査した銅複合体(E1、G1、およびG2)とその他の化合物をスキーム1および2に示す。

スキーム1.研究した銅複合体の化学構造(E1、G1、およびG2)
材料および方法
全ての試薬と溶媒は、アルドリッチ(Aldrich)またはAlfa Aesarから購入し、さらなる精製を何もせずに受け取ったまま使用した。質量分析をエクス−マルセイユ(Aix-Marseille)大学のSpectropoleにより実施した。ESI質量スペクトル解析を、3200 QTRAP(アプライドバイオシステムズサイエックス(Applied Biosystems SCIEX))質量分析計で記録した。HRMS質量スペクトル解析を、QStar Elite(アプライドバイオシステムズサイエックス(Applied Biosystems SCIEX))質量分析計で実施した。元素分析を、Eager 300ソフトウェアにより動かされるThermo Finnigan EA 1112元素分析装置で記録した。Hおよび13CのNMRスペクトルを、室温、外径5mmの管、SpectropoleのBruker Avance 400分光器で測定した:H(400MHz)および13C(100MHz)。Hの化学シフトは、溶媒ピークDMSO−d(2.49ppm)を基準とし、13Cの化学シフトは、溶媒ピークDMSO−d(39.5ppm)を基準とした。複合体G1およびG2を、文献の手順を採用して調製した。[33]
[メチル−4−フェニル(メチル−1−エチル)−4−フェニル]ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(Iod1)[28,29]を、フランスのBluestar Siliconesから入手した。ジフェニルヨードニウムヘキサフロオロホスフェート(Iod2)、トリス(トリメチルシリル)シラン((TMS)Si−H)、N−ビニルカルバゾール(NVK)、および溶媒を、シグマアルドリッチ(Sigma-Aldrich)またはAlfa Aesarから購入し、さらなる精製を何もせずに受け取ったまま使用した。トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)および(3,4−エポキシシクロヘキサン)メチル3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(EPOX)をサイテック(Cytec)から入手し、ラジカル光重合およびカチオン光重合のための基準モノマーとして使用した。

スキーム2.添加剤およびモノマーの化学構造
照射源
様々な可視光を、光硬化性サンプルの照射のために使用した:ハロゲンランプからの多色光(Fiber−Lite,DC−950;入射光強度:370〜800nmの範囲で〜12mW cm−2)、405nmの紫色レーザーダイオード(〜8mW cm−2)、または457nmの青色レーザーダイオード(〜80mW cm−2)。405または455nmのLEDも使用した(ソーラボ(Thorlabs);〜80mW cm−2)。ハロゲンランプの発光スペクトルを図11に与える。
レドックス電位
研究対象の銅複合体の酸化電位(Eox対SCE)をテトラブチルアンモニウムヘキサフロオロホスフェート(0.1M)を支持電解質として用いたサイクリックボルタンメトリーによりアセトニトリル中で測定した(Voltalab 6 Radiometer)。作用電極は、白金ディスクであり、参照電極は、飽和カロメル電極(SCE)であった。フェロセンを標準として使用し、半分のピーク電位から決定した電位を、この化合物の可逆見掛け電位(+0.44V/SCE)に当てはめた。研究対象の銅複合体とヨードニウム塩との間の電子移動に関する自由エネルギー変化ΔGは、以下の典型的なレームウェラー式(Rehm-Weller equation)から計算できる:ΔG=Eox−Ered−E+C;式中、Eox、Ered、E、およびCは、研究対象の銅複合体の酸化電位、ヨードニウム塩の還元電位、研究対象の銅複合体の励起状態のエネルギー、および一般的に極性溶媒では無視できるとみなされる、最初に形成されたイオン対に関する静電相互作用のエネルギーである。[30]
ESRスピントラップ(ESR−ST)実験
ESR−ST実験を、Xバンド分光器(MS 400 Magnettech)を用いて実施した。他で詳細に記載されている手順[31]に従い、室温、N下でハロゲンランプ暴露をしてラジカルを生成させ、フェニル−N−tert−ブチルニトロン(PBN)により捕捉した。ESRスペクトルのシミュレーションをWINSIMソフトウェアを使用して実施した。
定常状態光分解実験
銅複合体(および任意選択的にヨードニウム塩)溶液に、405nmのレーザーダイオードを照射し、紫外可視スペクトルを、様々な照射時間でJASCO V−530紫外可視分光光度計を使用して記録した。
レーザーフラッシュフォトリシス
ナノセカンドレーザーフラッシュフォトリシス(LEP)実験を、Continuum(Minilite)からのQスイッチナノセカンドNd/YAGレーザー(λexc=355nm、9nsパルス、10mJへ低減されたエネルギー)、および、セラミックキセノンランプ、モノクロメーター、高速光電子増倍管、およびトランジェントディジタイザー(Luzchem LEP 212)からなる分析システムを用いて実施した。[2]
光重合実験
光重合実験について、条件は、図の説明文に与えられている。感光性配合物を、様々な光を用いた照射のために、空気中または積層物(25μmの厚さ)中でBaFペレット上に堆積させた。TMPTAの二重結合含有率およびEPOXのエポキシ基含有率の進展を、それぞれ約1630cm−1および790cm−1でのリアルタイムFTIR分光法(JASCO FTIR 4100)[8,32]により継続的に追跡した。
調査対象の銅複合体(E1、G1、およびG2)とその他の化合物をスキーム1および2に示す。E1、G1、およびG2を、合成例1〜4に従って調製した。
実施例1:5,5’−ビス((9H−カルバゾール−9−イル)メチル)−2,2’−ビピリジンの合成

無水THF30mL中の9H−カルバゾール(1.08g,5.98mmol,2.2当量)に、NaH0.3g(鉱油中で60%の分散)を加えた。20分後、5,5’−ビス(ブロモメチル)−2,2’−ビピリジン(1.0g,2.93mmol)を加え、反応混合物を60℃で一夜加熱した。冷却後、反応混合物を氷上でクエンチし、不溶性の沈殿物を形成させた。これをろ過し、乾燥した。これをさらなる精製を何もせずに使用した(386mg,収率75%)。1H NMR (CDCl3) δ (ppm): 5.99 (s, 4H), 7.24-7.36 (8H), 7.38-7.48 (m, 8H), 8.13 (d, 2H, J = 7.6 Hz), 8.18 (d, 2H, J = 7.8 Hz), 8.54 (s, 2H); Anal.Calc. for C36H26N4: C,84.0; H, 5.1; N, 10.9; Found: C, 83.9; H, 5.4; N, 11.5%; HRMS (ESI MS) m/z: theor: 515.2230 found: 515.2233 ([M+H]+ detected).
実施例2:[Cu(bpyカルバゾール)(DPEphos)]BF (E1)の合成
ジクロロメタン200mL中の[Cu(CHCN)]BF(310mg,1mmol)およびビス[2−(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル(540mg,1mmol)を、25℃で2時間攪拌し、次いで、ジクロロメタン50mL中の5,5’−ビス((9H−カルバゾール−9−イル)メチル)−2,2’−ビピリジン(515mg,1mmol)溶液で処理した。反応混合物を沈殿が形成されるまで室温で攪拌した。これをろ過し、ペンタンで洗浄し、真空下で乾燥した(794mg,収率66%)。1H NMR
(CDCl3) δ (ppm): 5.25 (s, 4H), 6.3(-6.37 (m, 2H), 6.48-6.57 (m, 4H), 6.60-6.80
(m, 8H), 6.80-7.10 (m, 16H), 7.20-7.45 (m, 16H), 7.91-8.13 (m, 2H), 8.35-8.37 (m, 2H); 13C NMR (CDCl3) δ (ppm): 108.1, 110.8, 119.2, 119.7, 120.2, 120.3, 120.1, 123.3, 124.8-124.9 (m), 125.7, 126.2, 128.5 (t, J = 4.9 Hz), 129.0 (t, J = 4.7 Hz), 129.8 (t, J = 3.9 Hz), 130.6, 131.9 (t, J = 8.1 Hz), 132.7 (t, J = 8.1 Hz), 133.7 (t, J = 4.7 Hz), 134.3, 139.6, 140.2; 31P NMR (CDCl3) δ (ppm): - 11.23; HRMS (ESI MS) m/z: theor: 1115.3063 found: 1115.3066 (M+. detected)
実施例3:[Cu(neo)(DPEphos)]BF (G1)の合成
ジクロロメタン200mL中の[Cu(CHCN)]BF(310mg,1mmol)およびビス[2−(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル(540mg,1mmol)の混合物を、25℃で2時間攪拌し、次いで、ジクロロメタン50mL中のネオクプロイン(208mg,1mmol)溶液で処理した。この反応混合物を室温で一夜攪拌し、溶液をおよそ15mLへ濃縮した。ペンタンを加えて複合体を沈殿させ、これをろ過し、数回ペンタンで洗浄し、真空下で乾燥した。表題の複合体を淡黄色固体として収率86%(772mg)で単離した。1H NMR (CDCl3) δ (ppm): 2.45 (s, 6H), 6.94-7.05 (m, 18H),7.17-7.22 (m, 8H), 7.34 (td, 2H, J = 6.5 Hz, J = 1.8 Hz), 7.63 (d, 2H, J = 8.3 Hz), 7.86 (s, 2H), 8.40 (d, 2H, J = 8.3 Hz); 13C NMR (CDCl3) δ (ppm): 26.9, 120.0, 125.0-125.2 (m), 125.4, 125.9, 127.5, 128.4 (t, J = 4.6 Hz), 129.7, 131.5 (t, J = 16.3 Hz), 132.1, 132.6 (t, J = 7.8 Hz), 133.6, 137.9, 142.8 (t,
J = 1.7 Hz), 158.2 (t, J = 6.1 Hz), 158.8; 31P NMR (CDCl3) δ (ppm): -12.93; HRMS (ESI MS) m/z: theor: 809.1906 found: 809.1606 (M+.detected).
実施例4:G2の合成
銅複合体G2を、実施例3に従って、ビス[2−(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテルをキサントホス(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス(ジフェニルホスファン)と置き換えることにより調製した。

キサントホス:(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス(ジフェニルホスファン)
実施例5:[Cu(diBu−phen)(DPEphos)]BF の合成
丸底フラスコに、THF(75mL)に溶解した[Cu(CHCN)]BF(93mg,0.4mmol)およびキサントホス(214mg,0.4mmol)を加えた。溶液を室温で1時間攪拌させ、THF(9mL)中の2,9−ジブチル−1,10−フェナントロリン(117mg,0.4mmol)の溶液を加えた。得られた溶液を室温で一夜攪拌した。溶液を最初の体積の3分の1まで濃縮し、ペンタンを加えて固体を沈殿させ、これをろ過し、ペンタンで洗浄し、真空下で乾燥した(302mg,収率74%)。1H NMR (CDCl3) δ (ppm): 0.88 (t, 6H, J = 7.6 Hz, CH3), 1.26-1.30 (m, 4H, CH2CH3), 1.79 (s, 6H), 1.91 (quint, 4H, J = 7.6 Hz, ArCH2CH2), 3.19 (t, 4H, J = 7.6 Hz, ArCH2), 6.94-6.98 (m, 2H), 6.99-7.02 (m, 14H), 7.18-7.33 (m, 6H), 7.51 (d, 2H,
J = 8.2 Hz), 7.57 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 7.64 (d, 2H, J = 7.8 Hz), 7.84 (s, 2H), 8.41 (d, 2H, J = 8.4 Hz); 13C NMR (CDCl3) δ (ppm): 13.7, 13.9, 14.0, 22.2, 30.3, 40.8, 67.8, 121.8 (t, J = 12.3 Hz), 122.4, 123.0, 124.8, 125.2, 127.0, 127.8, 128.4 (t, J = 9.8 Hz), 129.8, 130.2, 131.1 (t, J = 15.9 Hz), 132.7 (t, J = 7.7 Hz), 133.81-133.84 (m), 136.2, 138.0, 142.7 (t, J = 1.7 Hz), 145.2, 154.8 (t, J =
6.7 Hz), 161.5; 31P NMR (CDCl3) δ (ppm): -13.04; HRMS (ESI MS) m/z: theor: 933.3158 found: 933.3152 (M+.detected)
実施例6:光重合実験
光重合実験について、条件は、図の説明文に与えられている。感光性配合物を、様々な光を用いた照射のために、空気中または積層物(25μmの厚さ)中でBaFペレット上に堆積させた。TMPTAの二重結合含有率およびEPOXのエポキシ基含有率の進展を、それぞれ約1630cm−1および790cm−1でのリアルタイムFTIR分光法(JASCO FTIR 4100)により継続的に追跡した[8,32]。
実施例7:銅複合体E1、G1、およびH2の光吸収特性
ジクロロメタン(DCM)中の調査対象の銅複合体(E1、G1、およびG2)の吸収スペクトルは、図1(a)に与えられている。
G1およびG2について、それぞれ、380nm(ε380nm〜3200M−1 cm−1)および383nm(ε383nm〜2300M−1 cm−1)の吸収極大は、金属−配位子電荷移行(MLCT)遷移に対応しており、より短い波長では、より強い配位子内遷移が現れる。 33 [33]
興味深いことに、E1、G1、およびG2の光吸収によって、405nmのレーザーダイオードの発光スペクトルを効率よくカバーすることができる(すなわち、E1、G1、およびG2について、それぞれ、ε405nm 〜2400,2200、および1800M−1 cm−1)。457nmのレーザーダイオードでは、E1とのオーバーラップ(ε457nm 〜670M−1 cm−1)が、G1(ε457nm 〜70M−1 cm−1)またはG2とのオーバーラップ(ε457nm 〜70M−1 cm−1)より大きい。研究対象の銅複合体の光吸収は、ハロゲンランプの発光スペクトルとの良好なオ
ーバーラップも確実にする。
G1の吸収スペクトルを、より極性の溶媒であるアセトニトリル(ACN)でも研究し、DCMおよびACN中のG1の吸収スペクトルを図1(b)で比較している。
より極性の溶媒においてより短い波長へとMLCTの極大がシフトするというこれまでの報告と一致して、MLCTの極大は、DCM中380nmからACN中374nmへとシフトすることが分かる。[33]さらに興味深いことに、約450nmでの吸収バンドが、ACN中で観察され、これは、ACN中のG1の溶媒依存性配位子再分配反応に起因する可能性がある。[33]
さらに、様々な照射(405nmのレーザーダイオード)時間の後でのDCMおよびACN中のG1の紫外可視スペクトルを図2に示す。ACNにおいて照射時間を長くすると、374nmでのG1の吸収バンドは減少し、450nmの吸収は増加したことが、明確にわかる(図2(b))。
〜450nmに吸収が現れるのは、おそらく、溶液中のCu(dmp)複合体(dmp=2,9−ジメチル−1,10−フェナントロリン)の存在に起因し、[34]照射は、Cu(dmp)複合体の生成を促進した。DCM中のG1の場合、光照射後に紫外可視スペクトルの変化は全くなく(図2(a))、このことは、G1が、DCM中で良好な光安定性を呈すことを示す。[33]同様に、E1およびG2もまた、DCM中で光安定性である(図12参照)。
実施例8:ラジカル開始系における銅複合体E1、G1、およびG2
ラジカルは、可視光照射下で銅複合体とハロゲン化物との間の相互作用により生じ得ることが報告されている[21]が、我々の知る限りでは、可視光下で銅複合体/ヨードニウム塩系からラジカルを生成させること、光重合に該系を適用することのどちらに関しても調査がなかった。本明細書では、銅複合体およびヨードニウム塩を含むラジカル開始系からのラジカル生成機構を調査している。
E1/Iod1の電子移動反応の自由エネルギー変化ΔG=−1.72eV(E1の酸化電位、Eox=1.25Vはサイクリックボルタンメトリーにより測定した(図3参照);E=3.17eVはE1の極大吸収波長と極大フルオレセイン放射波長の平均値から求めた;Ered=−0.20VはIod1のために使用した[7])は、かなり負であり、このことにより、該過程が好ましいものとなる。
G1/Iod1の組み合わせに関して、ΔG=−1.17eV(Ered=−0.20VはIod1のために使用し[7]、事前に報告されていたEox=1.35V[33]、または1.36V[35]をG1の酸化電位のために使用し、E=2.72eVはG1の極大吸収波長と極大フルオレセイン放射波長の平均値から求めた)もまた、好ましい電子移動過程を裏付けている。
この場合において、開始ラジカルは、励起状態の銅複合体とヨードニウム塩との間の相互作用から生成し得る。ESRスピントラップ実験において、可視光(ハロゲンランプ)をG1/Iod1に照射すると、PBNスピン付加物のシグナルが観察され(超微細結合定数:a=14.2G;a=2.2G)(図4参照)、これはTMPTAのラジカル重合を開始することができるフェニルラジカル[1,36]の生成によるものと考えられる。
さらに、生成したフェニルラジカル(Ph・)は、N−ビニルカルバゾール(NVK)の二重結合上の別の過程により酸化されやすいラジカルへと変換され得、新しく生成したNVK系ラジカルは、ヨードニウム塩によりさらに容易に酸化されて、エポキシドの開環カチオン重合(ROP)のために有効な開始カチオンが生じ得る(スキーム3)。[37]

スキーム3.フェニルラジカルから酸化されやすいNVK系ラジカルへの変換、およびヨードニウム塩によるNVK系ラジカルの酸化からの開始カチオンの生成。
ジクロロメタン中のE1/Iod2、G1/Iod2、およびG2/Iod2の定常状態光分解を図5に与える(空気中での405nmのレーザーダイオードの暴露)。かなり速い光分解が、照射下でG1(またはG2)/Iod2で観察された(図5(b)および(c))。さらに具体的には、G1について380nm(またはG2では383nm)での吸収が照射中に速い速度で減少し、ACN中にG1のみがある場合のピークと同様に、450nmで小さなショルダーピークが現れた。このことは、G1(またはG2)とIod2との間に光化学反応が起こったこと、および、DCM中に単独に含まれるG1(またはG2)はかなり光安定性であるが、溶液中にIod2を添加することにより、DCM中のG1(またはG2)の光分解が促進され得ることを表す。一方で、かなり速度の遅い脱色が、E1/Iod2系で起こり(図5(a))、これらの系の効率性がはるかに低いことを裏付けている。このことは、この系の相対的な光開始能力に一致している(以下参照)。
レーザーフラッシュフォトリシス実験もまた、光化学機構のより良い調査のために実施した。銅複合体E1では、励起状態の存続期間が短く(τ<6ns)(図6)、励起状態のE1とヨードニウム塩との間の相互作用にとって好ましくなく、ラジカルの収率が低くなる。
355nmでのジクロロメタン中のG1のレーザー励起後、Iod1の非存在下で、600nmでの発光は、長い存続期間(およそ3μs)を示した(図7)。ここで測定した値は、事前に報告されている期間(14.3μs)[33]とは異なるが、両者ともマイクロセカンドの範囲内にあった。Iod1の量を増加させたとき、発光がクエンチされ、かなり長く存続した過度の吸収が観察されたことが明らかであり、このことは、G1/Iod1の組み合わせのレーザー励起の間に新しく生成した光化学的産物によるものと考えられる。さらに、サンプルの紫外可視吸収スペクトルも、レーザーフラッシュフォトリシス実験の前後で測定した(図13)。355nmのLEPのレーザー励起後に吸収特性が変
化したことがはっきりと見られ、新しい産物がレーザー励起中に生成したこともまた示されている。
実施例9:アクリレートのフリーラジカル光重合における調査対象の銅複合体E1、G1、およびG2の光開始能力
上記で調査したように、ラジカルは、銅複合体とヨードニウム塩との間の相互作用中に生成し得る。本明細書では、TMPTAのFRPに関して銅複合体系PISの効率性を研究する。レーザーダイオード(405nmまたは457nm)のときの積層物中のTMPTAのFRPでは、E1/Iod2(0.2%/2% w/w)PISを使用したときに、かなり低い変換率(<30%)が得られた(図8(a)および表1)。このことは、E1/Iod2の低速の定常状態光分解(図5(a))とLFPの結果(図6)に一致して、E1の励起状態の存続期間が短い(<6ns)ことが、励起状態のE1とIod2との間の相互作用にとって好ましくなく、TMPTAの重合を開始させるラジカルの生成に対する効率性が低くなるということである。
G1/Iod2系では、405nmもしくは457nmのレーザーダイオード、またはハロゲンランプ照射下で、E1/Iod2よりTMPTAのFRPをより効率よく開始でき、より高い変換率(>40%)が得られた。NVKを添加すると、ハロゲンランプ暴露時に、G1/Iod2/NVK系は、2成分系よりも(例えば、図8(b)における曲線4対曲線3;表1)、より効率が良かった(すなわち、より高い光重合速度と変換率56%)。G1/Iod2/NVKは、空気中でのFRPでも機能した(図8(b)、曲線5)が、酸素阻害効果により、はるかに低い光重合速度と変換率を示した。興味深いことに、G1/Iod2またはG1/Iod2/NVKは、ハロゲンランプ照射時に、周知のCQ系PISよりも良好な効率性を示した(図8(b)および表1)。
G2/Iod2 PIS(図8(c))では、G1/Iod2系ほど効率的ではなく、このことは、G2よりもG1の光吸収特性がより良い(消衰係数がより高い)こと(図1(a))によるものと考えられた。
表2.E1、G1、またはG2系PIS(E1、G1、またはG2:0.2重量%;Iod2:2重量%;NVK:3重量%);基準としてのCQ/Iod(0.5%/2%,w/w)、またはCQ/MDEA(0.5%/2%,w/w)存在下で、様々な可視光源を500秒間暴露時の、積層物中または空気中で得られたTMPTAの変換率

実施例10:エポキシドのカチオン光重合における調査対象の銅複合体E1、G1、およびG2の光開始能力
E1(0.2%)、E1/Iod1(0.2%/2%,w/w)、またはE1/(TMS)Si−H/Iod1(0.2%/3%/2%,w/w/w)の存在下での空気中のEPOXのカチオン光重合を、レーザーダイオード(457nm)またはハロゲンランプ照射を使用して実施したが、重合は全ての場合において観察されなかった。
G2系PIS(例えば、G2/Iod1またはG2/Iod1/NVK)は、どれもEPOXのCPには無効であった。同様に、周知のCQをベースとする系(すなわち、CQ/Iod2またはCQ/Iod2/NVK)は、ハロゲンランプ照射下でどちらも機能しなかった。
注目すべきであるのは、G1/Iod1/NVK PISが、ハロゲンランプ暴露時に空気中でEPOXの重合に対して優れた開始能力を示す(図9(a))ことである。光重合中、EPOXのエポキシ基(790cm−1で、最終変換率が61%)の消費は、NVKの二重結合(〜1640cm−1で最終的な変換率が74%)の消費、およびポリエーテル(〜1080cm−1)と水酸基(〜3500cm−1)の同時形成に関連していた(図9(b)参照)。405nmのレーザーダイオードは、EPOX(最終変換率32%)のCPも開始できたが、ハロゲンランプほど効率的ではなかった。G1/Iod1 PISのEPOXのCPに対する開始能力もまた、ハロゲンランプおよび405nmのレーザーダイオード暴露時に空気中で調べたが、重合変換率(ハロゲンランプと405nmのレーザーダイオードについて、最終変換率はそれぞれ、11%と13%である)は、かなり低かった。このことは、配合物中へのNVKの添加が、これまでに報告されているよう
に、EPOXのCPを促進できたことを意味する。[37]
実施例11:IPN合成における調査対象の銅複合体E1、G1、およびG2の光開始能力:EPOX/TMPTA混合物の光重合
G1/Iod1/NVK PISは、ハロゲンランプ暴露時の空気中または積層物中でのEPOX/TMPTA混合物(50%/50% w/w)の同時性カチオン/ラジカル光重合を介して相互貫入高分子網目構造(IPN)の形成を可能にする(図10)。他で記載されているように、[38〜40]TMPTAの重合変換率は、空気中よりも積層物中の方が高く、EPOXの変換を考慮する場合は、状況は反対となる(表2)。このことは、TMPTAのFRPは、酸素阻害効果が積層された状態によって減少する場合に、EPOXのFRPCPより速く、大部分のフリーラジカルが消費されて、FRPが開始されるという事実に起因する。
表2.G1/Iod1/NVK(0.1%/3%/5%,w/w/w)存在下でのハロゲンランプへの暴露時の(t=800s)空気中または積層物中のEPOX/TMPTA混合物(50%/50%,w/w)の光重合で得られたEPOXおよびTMPTAの変換率

上記の研究に基づき、カチオン形成の光化学機構を、反応1〜4に提唱する。
CuICuI(hυ) (1)
CuI+Ph→CuII+PhI・→CuII+Ph・+Ph−I (2)
Ph・+NVK→Ph−NVK・ (3)
Ph−NVK・+Ph→Ph−NVK+Ph・+Ph−I (4)
反応2で形成されたCuIIは、EPOXの光重合を開始する低い最終変換率の僅かな効率性を呈したが、このことは、活性部位(CuII)が配位子に囲まれており、配合物中のエポキシ基と相互作用することが難しかったという事実に起因する可能性がある。フェニルラジカルがより酸化されやすいNVK系ラジカルに変換された後(反応3)、次に、ヨードニウム塩によりNVK系ラジカルの酸化からNVK系カチオンが生成した(反応4)。そして、NVK系カチオンは、EPOXの光重合を開始する高い効率性を呈した。
結論として、銅複合体G1またはG2は、ヨードニウム塩(および任意選択的にNVK)と共に、様々な可視光照射(例えば、ハロゲンランプからの多色可視光、405nmまたは457nmのレーザーダイオード)下でのTMPTAのラジカル光重合のための光開始系として機能することができる。さらに興味深いことに、G1/Iod1/NVK系は、ハロゲンランプ暴露時に空気中でEPOXのカチオン光重合に対して優れた開始能力を示した。E1をベースとする系は、それほど有効ではなかった。光化学機構研究は、銅複合体の配位子が、銅複合体の光開始能力に影響を与え得る銅複合体の特性(例えば、光吸
収特性、または発光の存続期間)に対して重要な役割を果たすことを明らかにしている。
実施例12:重合体分析
本発明の光重合法により合成した重合体は、以下の様々な方法により特徴付けることができる。
−重合体の化学構造を確認するためのNMRデータ。
−鎖長および重合体分散度の評価のためのゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)データ。Mn値は、GPCによりルーチンに測定でき、GPC分析は、株式会社島津製作所のRID10A屈折率検出器、および3つの5−μl PLゲルカラム(バリアン社(Varian Corporation)の300×7.5mmと多孔性Mixed−C)を連続して備えるGPCシステムで、HPLCグレードTHFを溶離液として使用して実施した。GPCカラムをTHFを用いて45℃、1mL/分で溶離してもよく、ポリスチレン標準、具体的には23単分散ポリスチレン標準を用いて較正した。GPCデータの分析とMn値およびPDI値の計算とを、標準GPCソフトウェアで行ってもよい。分子量と多分散性指標(polydispersity indice)(PDI)とを、ポリスチレン標準を使用して計算してもよい。分子量の数値(M)の場合、これらを、実験値(PS標準)に補正因子0.58(Saveらの[46]を参照)を掛けることにより補正してもよい。従って、本明細書を通して、Mn値およびDPI値が記載されている場合、Mn値およびDPI値は、示差屈折率検出器を備えるGPCとポリスチエレン標準により測定した測定値を意味する。THFを溶離液として使用し、室温で実施する測定が好ましい。代替的に、または追加的に、Mn値およびDPI値を、光示差検出器(light diffraction detector)を備えるGPCとポリスチレン標準により測定し得る。
−融点の測定のための示差走査熱量測定(DSC)、および重合体の結晶性または半結晶性の評価。
−光重合、または同時性フリーラジカル/カチオン光重合の進行をモニタリングするためのフーリエ変換赤外、および得られた相互貫入高分子網目構造の均一性の評価。
要約すると、異なる配位子を有する3つの銅複合体(E1、G1、およびG2)を使用して、可視光を暴露し、ヨードニウム塩(およびその他の添加剤)を併用してアリールラジカルを生成させた。例えばハロゲンランプおよびレーザーダイオード、または任意の可視光源下でフリーラジカル光重合および開環カチオン光重合を開始するこのアプローチは、価値あるものであり得る。開始ラジカル生成の光化学機構を、ESRスピントラップ、光分解、発光、およびレーザーフラッシュフォトリシス技術を使用して研究した。FTIR分光法から得られた光重合動態により分かるように、ヨードニウム塩(およびその他の添加剤)存在下のG1およびG2は、良好な重合開始能力を呈した。
さらにまとめると、様々な配位子を有する有機金属の銅複合体を開発し、かなり穏やかな条件下で(周囲温度、可視太陽光でも)重合体合成のための重合光開始剤系で使用した。このように、フリーラジカルおよび/またはカチオン重合を実施することができた。配位子の選択を実施することにより、可視域の様々な波長域での光吸収特性により銅複合体を特徴づけた。これらの複合体は、様々な合成条件(ハロゲンランプ、LED、レーザーダイオード、太陽光など)に対してかなり有効であることが証明された。穏やかな照射条件下で、銅複合体とヨードニウム塩との間の相互作用によりフリーラジカルを生成させることができた。これらの二成分系は、アクリル樹脂の重合をかなり効率的に開始することができる。ハロゲンランプの照射からわずか5分後に、高い最終変換率に達した。注目すべきであるのは、これらの系で生成したフリーラジカルを、N−ビニルカルバゾール(NVK)などの添加剤を添加することによって、カチオンに変換(酸化ラジカル過程)させながら、カチオン重合開始剤へ接近させ得ること(エポキシ、ビニル、エーテルなどの重合)である。これらの3成分系(銅複合体/ヨードニウム塩/NVK)の使用により、興
味深い合成条件(室温、穏やかな照射、周囲の酸素の存在)下でも、ハイブリッドポリマー混合物または相互貫入相互連結重合体の合成に到達させる、フリーラジカルおよびカチオンモノマー(例えば、アクリレート/エポキシド)の混合物の同時重合が可能となる。
本発明のいくつかの実施形態を説明してきたが、我々の基本的な実施例は、本発明の触媒および方法を利用するその他の実施形態を与えるために変更されてもよいことは明らかである。従って、本発明の範囲は、例として表された具体的な実施形態よりもむしろ添付の特許請求の範囲により定義されるものであることが理解されるであろう。
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Claims (17)

  1. λ=200〜900nmの範囲の穏やかな光照射への暴露により硬化可能な液体組成物であって、
    (a)(i)重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマー;および/または
    (ii)重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマー;
    からなる群から選択される少なくとも1種の重合可能な成分;
    (b)式IまたはIIの光開始剤複合体であって:




    式中、
    は、孤立電子対が銅原子との結合を形成する2つの窒素原子を含む共役多環芳香族系を表し、
    およびQは、独立して、孤立電子対が銅原子との結合を形成する1つの窒素原子
    を含む共役多環芳香族系を表し、
    Wは、リン原子または窒素原子を表し、
    、R、R、R、R、およびRは、それぞれ独立して、C6〜20アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、前記アルキル基および/または前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基でさらに置換されていてもよく、RおよびRは、P原子、Cu原子、およびW原子と共に6〜8員環を形成してもよく、
    Xは、好適な対イオンを表し、BF 、PF、SbF 、またはClであることが好ましい、前記光開始剤複合体;
    (c)式(Rのヨードニウム塩であって、式中、存在する各Rは、独立して、C6〜10アリール基を表し、前記アリール基は、それぞれ、1つ以上の直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基でさらに置換されていてもよい、前記ヨードニウム塩
    を含み、
    ただし、少なくとも1種の重合可能な成分(a)が、カチオン重合により重合可能なエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーである場合、
    (c)構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤であって:




    式中、Rは、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC1〜10ヘテロアルケニル基、またはC6〜10アリール基を表し、
    およびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、環式ヘテロアリール基を形成してもよい前記ビニルカチオン開始剤、
    をさらに含む、前記液体組成物。
  2. 前記構造IIIまたはIVを有する前記ビニルカチオン開始剤と組み合わせて式(RSiHのシラン成分をさらに含み、式中、存在する各Rは、独立して、−SiRを表し、存在する各Rは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基を表す、請求項1に記載の液体組成物。
  3. 穏やかな光照射条件(λ=200〜900nm)下でフリーラジカルおよび/またはカチオン光重合に達するための光重合法であって、
    (i)重合がフリーラジカル重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマー;および/または
    (ii)重合がカチオン重合により達成され得るエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマー
    からなる群から選択される少なくとも1種の重合可能な成分を重合する工程を含み、
    A)穏やかな光照射(λ=200〜900nm);
    B)式IまたはIIの光開始剤複合体であって、




    式中、Q、Q、Q、R〜R、W、およびXは、請求項1に記載の通りである、前記光開始剤複合体;および
    C)式(Rのヨードニウム塩であって、Rは請求項1に記載の通りである、前記ヨードニウム塩、
    の存在下の前記光重合法であって、
    少なくとも1種の重合可能な成分が、重合がカチオン重合により達成されるエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーである場合、
    D)構造IIIまたはIVを有するビニルカチオン開始剤であって:




    式中、R〜Rは、請求項1に記載の通りである、前記ビニルカチオン開始剤の存在下でさらに実施される、前記光重合法。
  4. 前記構造IIIまたはIVを有する前記ビニルカチオン開始剤と組み合わせて式(RSiHのシラン成分をさらに含み、式中、存在する各Rは、独立して、−SiRを表し、存在する各Rは、独立して、直鎖状または分岐状C1〜6アルキル基を表す、請求項3に記載の光重合法。
  5. 前記開始剤複合体において、
    は、式:




    または


    を有し、
    式中、
    Q1およびRQ2は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表し、
    Q3およびRQ4は、独立して、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、RおよびRは、共に、5または6員環ヘテロシクリル基を形成してもよく、前記ヘテロシクリル基は、−CN、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基、C6〜10アリール基、またはC6〜12ヘテロアリール基でさらに置換されていてもよく、
    Q5およびRQ6は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜10アルキル基を表し、前記アルキル基は、独立して、−NRでさらに置換されていてもよく、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表すか、またはRおよびRは、結合している窒素原子と共に単環式または多環式C6〜12ヘテロシクリル基を形成し、
    Q7およびRQ8は、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表し、
    かつ、
    およびQは、独立して、式:


    を有し、式中、RQ9は、Hまたは−NRを表し、RおよびRは、独立して、直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基またはC6〜10アリール基を表す、請求項3または4に記載の光重合方法。
  6. 前記開始剤複合体は、式IまたはIIを有し:


    または


    式中、Q、Q、およびQは、請求項1に記載の通りであり、RiおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表す、請求項3〜5のいずれか一項に記載の光重合法。
  7. 前記開始剤複合体は、式IまたはIIを有し:


    または


    式中、Q、Q、およびQは、請求項1に記載の通りであり、RiおよびRiiは、独立して、Hまたは直鎖状もしくは分岐状C1〜6アルキル基を表す、請求項3〜5のいずれか一項に記載の光重合法。
  8. 前記開始剤複合体は、以下の構造:








































































    のうち1つを有する、請求項3〜5のいずれか一項に記載の光重合法。
  9. 重合がフリーラジカル重合により達成される前記エチレン性不飽和モノマーは、アクリレートまたはメタクリレートである、請求項3〜8のいずれか一項に記載の光重合法。
  10. 重合がカチオン重合により達成される前記エチレン性不飽和モノマーは、ビニルエステルまたはエポキサイドである、請求項3〜8のいずれか一項に記載の光重合法。
  11. 前記ヨードニウム塩は、


    または


    である、請求項3〜10のいずれか一項に記載の光重合法。
  12. 前記ビニルカチオン開始剤は、トリエチレングリコールジビニルエーテルであるか、または以下の構造:


    を有する、請求項3〜11のいずれか一項に記載の光重合法。
  13. 前記ビニルカチオン開始剤を以下のシラン成分:


    と組み合わせて使用する、請求項12に記載の光重合法。
  14. 請求項3〜13のいずれか一項に記載の方法により得られる重合体。
  15. 重合がフリーラジカル重合により達成されるエチレン性不飽和モノマー、および重合がカチオン重合により達成されるエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ含有モノマーから少なくとも部分的に光重合されて、同時性のフリーラジカル重合およびカチオン重合により生じる重合体の相互貫入網目構造を形成する、請求項14に記載の重合体。
  16. 式IまたはIIの銅複合体であって、




    式中、Q、Q、Q、R〜R、W、およびXは、請求項1に記載の通りである前記銅複合体の、穏やかな光照射条件(λ=200〜900nm)下でのフリーラジカル光重合またはカチオン光重合のための開始剤としての使用。
  17. 式IまたはIIの銅複合体であって、




    式中、Q、Q、Q、R〜R、W、およびXは、請求項1に記載の通りである前記銅複合体の、重合が穏やかな光照射条件(λ=200〜900nm)下でフリーラジカル光重合およびカチオン光重合によりそれぞれ達成される少なくとも2種の重合体の相互貫入網目構造を調製するための使用。
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