JP2017210377A - Production method for cha-type zeolite - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method for CHA-type zeolite that uses an organic structure-directing agent inexpensive than N, N, N-trimethyladamantyl ammonium hydroxide and has high directivity of CHA type zeolite.SOLUTION: A production method for CHA type zeolite has a crystallization step for crystallizing a composition containing an alumina source, a silica source, an alkali source, water, and N, N, N-dimethylethylbenzyl ammonium salt .SELECTED DRAWING: None

Description

本発明はCHA型ゼオライトの製造方法に関する。特に、工業的なCHA型ゼオライトの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing CHA-type zeolite. In particular, it relates to an industrial method for producing CHA-type zeolite.

アルミナに対するシリカの比が5〜50のCHA型ゼオライトとしてSSZ−13が知られている(特許文献1)。SSZ−13は安定性が高いため、メタノールからのエチレン製造又はプロピレン製造用の固体酸触媒(MTO触媒)、尿素存在下における窒素酸化物還元触媒(NH−SCR触媒)、又は、これらの触媒担体として使用されている。 SSZ-13 is known as a CHA-type zeolite having a silica to alumina ratio of 5 to 50 (Patent Document 1). Since SSZ-13 has high stability, a solid acid catalyst (MTO catalyst) for producing ethylene or propylene from methanol, a nitrogen oxide reduction catalyst (NH 3 -SCR catalyst) in the presence of urea, or these catalysts Used as a carrier.

SSZ−13は特許文献1で初めて報告された合成CHA型ゼオライトであり、その製造にはN−アルキル−3−キヌクリジノールアンモニウム塩、N,N,N−トリアルキル−2−アンモニウムエキソノルボルナン塩又はN,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩が有機構造指向剤として使用される。CHA型ゼオライトが結晶化できる範囲が広いため、これら有機構造指向剤の中でも水酸化N,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム(以下、「TMAdOH」ともいう。)が、工業的なSSZ−13の製造方法で使用されている。   SSZ-13 is a synthetic CHA-type zeolite reported for the first time in Patent Document 1, and N-alkyl-3-quinuclidinol ammonium salt, N, N, N-trialkyl-2-ammonium exonorbornane is used for the production thereof. Salts or N, N, N-trimethyladamantyl ammonium salts are used as organic structure directing agents. Among these organic structure directing agents, N, N, N-trimethyladamantyl ammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “TMAdOH”) is an industrial production of SSZ-13 because of the wide range in which CHA-type zeolite can be crystallized. Used in the way.

その一方、TMAdOHは比較的高価であるため、より安価な有機構造指向剤が求められている。   On the other hand, since TMAdOH is relatively expensive, a cheaper organic structure directing agent is required.

TMAdOHより安価な化合物であり、CHA型ゼオライトが得られる有機構造指向剤として、水酸化N,N,N−トリメチルベンジルアンモニウム又は水酸化N,N,N−トリエチルベンジルアンモニウム(特許文献2)、水酸化N,N,N−トリメチルシクロヘキシルアンモニウム(特許文献3)、水酸化N,N,N−トリエチルシクロヘキシルアンモニウム、水酸化N,N,N−メチルジエチルシクロヘキシルアンモニウム、水酸化N,N,N−ジメチルエチルシクロヘキシルアンモニウム、水酸化2,7−ジメチル−1−アゾニウム[5.4]デカン(特許文献4)が報告されている。   As an organic structure directing agent that is a cheaper compound than TMAdOH and can obtain a CHA-type zeolite, N, N, N-trimethylbenzylammonium hydroxide or N, N, N-triethylbenzylammonium hydroxide (Patent Document 2), water N, N, N-trimethylcyclohexylammonium oxide (Patent Document 3), N, N, N-triethylcyclohexylammonium hydroxide, N, N, N-methyldiethylammonium hydroxide, N, N, N-dimethyl hydroxide Ethylcyclohexylammonium, 2,7-dimethyl-1-azonium hydroxide [5.4] decane (Patent Document 4) has been reported.

米国特許第4,544,538号U.S. Pat.No. 4,544,538 米国特許第7,597,874号US Pat. No. 7,597,874 米国公開特許2013/0323164US Published Patent 2013/0323164 米国特許第7,670,589号U.S. Patent No. 7,670,589

特許文献2乃至4で開示された有機構造指向剤は、CHA型ゼオライトが結晶化する場合がある。しかしながら、これらの有機構造指向剤は、CHA型ゼオライトが生成する条件が非常に限定されており、例えば、アルカリ濃度が高い領域でしかCHA型ゼオライトが得られない、などの制限があった。また、CHA型ゼオライトが生成した場合であっても不純物を含む混合物となり易いなど、CHA型ゼオライトの指向性が低かった。   In the organic structure directing agents disclosed in Patent Documents 2 to 4, CHA-type zeolite may crystallize. However, these organic structure directing agents are very limited in the conditions under which CHA-type zeolite is produced. For example, CHA-type zeolite can be obtained only in a region where the alkali concentration is high. Moreover, the directivity of the CHA-type zeolite is low, for example, even when the CHA-type zeolite is produced, it tends to be a mixture containing impurities.

これらの課題に鑑み、本発明は、TMAdOHより安価な有機構造指向剤を使用し、なおかつCHA型ゼオライトの指向性の高いCHA型ゼオライトの製造方法を提供することを目的とする。   In view of these problems, an object of the present invention is to provide a method for producing a CHA zeolite that uses an organic structure directing agent that is less expensive than TMAdOH and that has a high directivity of the CHA zeolite.

本発明者は、CHA型ゼオライトを結晶化するための原料組成、特に有機構造指向剤について検討した。その結果、TMAdOHを必須とすることなく、高いCHA型ゼオライトの指向性を示す製造方法を見出し、本発明を完成した。   This inventor examined the raw material composition for crystallizing CHA type zeolite, especially the organic structure directing agent. As a result, a production method showing high directivity of CHA-type zeolite was found without requiring TMAdOH, and the present invention was completed.

すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
[1] アルミナ源、シリカ源、アルカリ源、水及びN,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩を含む組成物を結晶化する結晶化工程、を有することを特徴とするCHA型ゼオライトの製造方法。
[2] 前記N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩が、N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウムの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種である上記[1]に記載の製造方法。
[3] 前記組成物が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩、N−アルキル−3−キヌクリジノールアンモニウム塩、及び、N,N,N−トリアルキル−2−アンモニウムエキソノルボルナン塩からなる群の少なくとも1種の四級アンモニウム塩を含む上記[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4] 前記四級アンモニウム塩が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウムの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種である上記[3]に記載の製造方法。
[5] 前記四級アンモニウム塩がN,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩である上記[3]又は[4]に記載の製造方法。
[6] 前記四級アンモニウム塩がN,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩がN,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩である上記[3]乃至[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 前記アルミナ源及びシリカ源が非晶質アルミノシリケートを含む上記[1]乃至[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8] 前記原料組成物が以下の組成を有する上記[1]乃至[7]のいずれかに記載の製造方法。
SiO/Al =10以上60以下
OSDA/SiO =0.06以上0.20以下
M/SiO =0.10以上0.30以下
OH/SiO =0.10以上0.50以下
O/SiO =10.0以上20.0以下
種晶 =0.0重量%以上10.0重量%以下
但し、OSDAはN,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩であり、N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩及びN,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩を含んでいてもよい、MはNa及びKである。
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A method for producing a CHA-type zeolite, comprising a crystallization step of crystallizing a composition comprising an alumina source, a silica source, an alkali source, water and N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt. .
[2] The N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt is a hydroxide, chloride, bromide, iodide, carbonic acid monoester salt, sulfuric monoester salt of N, N, N-dimethylethylbenzylammonium, The production method according to the above [1], which is at least one member of the group consisting of nitrate and sulfate.
[3] The composition comprises N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt, N-alkyl-3-quinuclidinol ammonium salt, and N, N, N-trialkyl-2-ammonium exonorbornane salt. The production method according to the above [1] or [2], comprising at least one quaternary ammonium salt of the group consisting of:
[4] The quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt, a hydroxide, chloride, bromide, iodide, or carbonic acid monoester salt of an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt. The production method according to the above [3], which is at least one member selected from the group consisting of monoester salts of sulfate, nitrates and sulfates.
[5] The production method according to [3] or [4], wherein the quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt.
[6] The production method according to any one of [3] to [5], wherein the quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt.
[7] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the alumina source and the silica source include amorphous aluminosilicate.
[8] The production method according to any one of [1] to [7], wherein the raw material composition has the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 = 10 or more and 60 or less
OSDA / SiO 2 = 0.06 or more and 0.20 or less
M / SiO 2 = 0.10 to 0.30
OH / SiO 2 = 0.10 to 0.50
H 2 O / SiO 2 = 10.0 or more and 20.0 or less
Seed crystal = 0.0 wt% or more and 10.0 wt% or less However, OSDA is N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt, N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt and N, N, N -May contain a trimethyladamantyl ammonium salt, M is Na and K.

以下、本発明のCHA型ゼオライトの製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the method for producing the CHA-type zeolite of the present invention will be described in detail.

本発明はCHA型ゼオライトの製造方法に係る。CHA型ゼオライトは、国際ゼオライト学会で定義される構造コードでCHA構造となる結晶構造(以下、単に「CHA構造」ともいう。)を有する結晶性アルミノシリケートである。CHA構造は、粉末X線回折(以下、「XRD」とする。)パターンによって確認することができる。例えば、特許文献1Table.1又は2のXRDパターンと比較することでSSZ−13と同等の結晶構造を有するCHA型ゼオライトであることを確認することができる。   The present invention relates to a method for producing CHA-type zeolite. The CHA-type zeolite is a crystalline aluminosilicate having a crystal structure (hereinafter, also simply referred to as “CHA structure”) that has a CHA structure according to a structure code defined by the International Zeolite Society. The CHA structure can be confirmed by a powder X-ray diffraction (hereinafter referred to as “XRD”) pattern. For example, Patent Document 1 Table. By comparing with the XRD pattern of 1 or 2, it can be confirmed that the zeolite is a CHA-type zeolite having a crystal structure equivalent to SSZ-13.

本発明の製造方法は、アルミナ源、シリカ源、アルカリ源、水及びN,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩を含む組成物(以下、「原料組成物」ともいう。)を結晶化させる結晶化工程、を含む。   The production method of the present invention is a crystal for crystallizing a composition containing an alumina source, a silica source, an alkali source, water and N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt (hereinafter also referred to as “raw material composition”). Process.

原料組成物は、N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム(以下、「DMEBA」ともいう。)塩を含む。DMEBA塩に含まれるDMEBAカチオン(以下、「DMEBA」ともいう。)はCHA構造を指向する有機構造指向剤(以下、「OSDA」ともいう。)として機能する。これにより、N,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩(以下、「TMAd塩」ともいう。)やその他の高価な四級アンモニウム塩を必須とすることなく、単一相のCHA型ゼオライトを結晶化することができる。 The raw material composition contains an N, N, N-dimethylethylbenzylammonium (hereinafter also referred to as “DMEBA”) salt. A DMEBA cation (hereinafter also referred to as “DMEBA + ”) contained in the DMEBA salt functions as an organic structure directing agent (hereinafter also referred to as “OSDA”) that directs the CHA structure. As a result, a single-phase CHA-type zeolite is crystallized without requiring N, N, N-trimethyladamantyl ammonium salt (hereinafter also referred to as “TMAd salt”) or other expensive quaternary ammonium salt. can do.

DMEBA塩は、DMEBAを含む化合物であればよい。DMEBA塩として、DMEBAの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種を挙げることができる。工業的な観点からDMEBA塩はDMEBAの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種、更にはDMEBAの塩化物、臭化物及びヨウ化物からなる群の少なくとも1種、また更にはDMEBAの塩化物又は臭化物の少なくともいずれかであることが好ましい。 The DMEBA salt may be a compound containing DMEBA + . Examples of the DMEBA salt include at least one member selected from the group consisting of hydroxide, chloride, bromide, iodide, carbonate monoester salt, monoester sulfate, nitrate and sulfate of DMEBA. From an industrial viewpoint, the DMEBA salt is at least one member selected from the group consisting of hydroxides, chlorides, bromides, iodides, nitrates and sulfates of DMEBA. It is preferable to use at least one of DMEBA chloride and bromide.

DMEBA塩の製造方法として、例えば、N,N−ジメチルベンジルアミンとエチル化剤とを溶媒中、室温〜150℃で反応させる製造方法が挙げられる。エチル化剤としてハロゲン化エチル、炭酸ジエチル及び硫酸ジエチルからなる群の少なくとも1種が挙げられる。溶媒は原料を溶解できるものが好ましく、水、アルコール、更にはメタノール、エタノール及び2−プロパノールからなる群の少なくとも1種を挙げることができる。これにより、DMEBA塩として、DMEBAのハロゲン化塩、炭酸モノエステル塩又は硫酸モノエステル塩のいずれかを合成することができる。また、DMEBAの水酸化物塩を得る場合は、水酸化物イオン型強塩基性陰イオン交換樹脂を用いて上記で得られたDMEBA塩をイオン交換すればよい。   As a method for producing the DMEBA salt, for example, a production method in which N, N-dimethylbenzylamine and an ethylating agent are reacted in a solvent at room temperature to 150 ° C. can be mentioned. Examples of the ethylating agent include at least one member selected from the group consisting of ethyl halide, diethyl carbonate, and diethyl sulfate. The solvent is preferably one that can dissolve the raw material, and includes at least one member selected from the group consisting of water, alcohol, methanol, ethanol, and 2-propanol. Thereby, as a DMEBA salt, either a halogenated salt of DMEBA, a carbonic acid monoester salt, or a sulfuric acid monoester salt can be synthesized. Moreover, when obtaining the hydroxide salt of DMEBA, the DMEBA salt obtained above may be ion-exchanged using a hydroxide ion type strongly basic anion exchange resin.

原料組成物はOSDAとしてDMEBA塩を含んでいればよいが、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩(以下、「アダマンタン塩」又は「ADA塩」ともいう。)、N−アルキル−3−キヌクリジノールアンモニウム塩、及び、N,N,N−トリアルキル−2−アンモニウムエキソノルボルナン塩からなる群の少なくとも1種の四級アンモニウム塩を含んでいてもよい。これら四級アンモニウム塩の中で、ADA塩が好ましく、N,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩(以下、「TMAd塩」ともいう。)が特に好ましい。TMAd塩を含むことで、より少ないOSDA含有量の原料組成物であっても高結晶性のCHAゼオライトを得ることができる。   The raw material composition only needs to contain DMEBA salt as OSDA, but N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt (hereinafter also referred to as “adamantane salt” or “ADA salt”), N-alkyl-3-. It may contain at least one quaternary ammonium salt of the group consisting of quinuclidinol ammonium salt and N, N, N-trialkyl-2-ammonium exonorbornane salt. Among these quaternary ammonium salts, ADA salts are preferable, and N, N, N-trimethyladamantyl ammonium salt (hereinafter also referred to as “TMAd salt”) is particularly preferable. By including the TMAd salt, a highly crystalline CHA zeolite can be obtained even with a raw material composition having a lower OSDA content.

原料組成物に含まれる四級アンモニウム塩は水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種であることが挙げられる。工業的な観点から四級アンモニウム塩は水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種、更には塩化物、臭化物及びヨウ化物からなる群の少なくとも1種、また更には塩化物又は臭化物の少なくともいずれかであることが好ましい。   The quaternary ammonium salt contained in the raw material composition is at least one member selected from the group consisting of hydroxide, chloride, bromide, iodide, carbonic acid monoester salt, sulfuric acid monoester salt, nitrate and sulfate. . From an industrial viewpoint, the quaternary ammonium salt is at least one member selected from the group consisting of hydroxides, chlorides, bromides, iodides, nitrates and sulfates, and at least one member selected from the group consisting of chlorides, bromides and iodides. Furthermore, it is preferable that it is at least one of chloride and bromide.

アルミナ源は、アルミナ(Al)又はその前駆体となるアルミニウム化合物であり、例えば、アルミナ、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、非晶質アルミノシリケート、金属アルミニウム及びアルミニウムアルコキシドからなる群の少なくとも1種を用いることができる。 The alumina source is alumina (Al 2 O 3 ) or an aluminum compound serving as a precursor thereof. For example, alumina, aluminum sulfate, aluminum nitrate, sodium aluminate, aluminum hydroxide, aluminum chloride, amorphous aluminosilicate, metal At least one member of the group consisting of aluminum and aluminum alkoxide can be used.

シリカ源は、シリカ(SiO)又はその前駆体となるケイ素化合物であり、例えば、コロイダルシリカ、無定型シリカ、珪酸ナトリウム、テトラエトキシシラン、テトラエチルオルトシリケート、沈殿法シリカ、ヒュームドシリカ、非晶質アルミノシリケートからなる群の少なくとも1種を挙げることができる。 The silica source is silica (SiO 2 ) or a silicon compound serving as a precursor thereof. For example, colloidal silica, amorphous silica, sodium silicate, tetraethoxysilane, tetraethylorthosilicate, precipitated silica, fumed silica, amorphous There may be mentioned at least one member of the group consisting of quality aluminosilicate.

CHA型ゼオライトの結晶化速度が速くなるため、アルミナ源及びシリカ源は、非晶質アルミノシリケートを含むことが好ましい。   Since the crystallization speed of the CHA-type zeolite is increased, the alumina source and the silica source preferably contain amorphous aluminosilicate.

アルカリ源は、アルカリ金属化合物であり、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムからなる群の少なくとも1種の化合物、更にはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムからなる群の少なくとも2種の化合物であることが好ましい。アルカリ金属化合物は、アルカリ金属の水酸化物、フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物からなる群の少なくとも1種であることが好ましい。特に好ましいアルカリ源として、ナトリウム又はカリウムの少なくともいずれかの化合物、更には水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの少なくともいずれか、更には水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムであることが好ましい。また、原料組成物に含まれる他の原料がアルカリ金属を含む場合、これらに含まれるアルカリ金属もアルカリ源として機能する。   The alkali source is an alkali metal compound and is at least one compound selected from the group consisting of lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium, and at least two compounds selected from the group consisting of lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium. Preferably there is. The alkali metal compound is preferably at least one member selected from the group consisting of alkali metal hydroxides, fluorides, chlorides, bromides, and iodides. As a particularly preferred alkali source, it is preferable to use at least one compound of sodium or potassium, further at least one of sodium hydroxide or potassium hydroxide, and further sodium hydroxide and potassium hydroxide. Moreover, when the other raw material contained in a raw material composition contains an alkali metal, the alkali metal contained in these also functions as an alkali source.

原料組成物に含まれる水は、脱イオン水や、純水を挙げることができる。また、アルミナ源、シリカ源、DMEBA塩又はアルカリ源の少なくともいずれかが水溶液である場合、これらの原料に含まれる水であってもよい。   Examples of water contained in the raw material composition include deionized water and pure water. Moreover, when at least one of an alumina source, a silica source, a DMEBA salt, or an alkali source is an aqueous solution, the water contained in these raw materials may be sufficient.

原料粗生物のシリカに対するOSDAのモル比(以下、「OSDA/SiO」ともいう。)は、0.03以上、更には0.06以上である。OSDA/SiOが0.03以上であることでCHA型ゼオライトの単相が得られやすくなる。製造コストの観点からOSDAを必要以上に多くする必要はなく、OSDA/SiOは0.30以下、更には0.20以下であればよい。特に好ましいOSDA/SiOとして、0.06以上0.20以下を挙げることができる。 The molar ratio of OSDA to raw material crude silica (hereinafter also referred to as “OSDA / SiO 2 ”) is 0.03 or more, and further 0.06 or more. When OSDA / SiO 2 is 0.03 or more, a single phase of CHA-type zeolite is easily obtained. It is not necessary to increase OSDA more than necessary from the viewpoint of manufacturing cost, and OSDA / SiO 2 may be 0.30 or less, and further 0.20 or less. Particularly preferable OSDA / SiO 2 may be 0.06 or more and 0.20 or less.

原料組成物がOSDAとしてDMEBA塩及びアダマンタン塩を含有する場合、そのOSDA/SiOは0.03以上、更には0.05以上であることが好ましい。OSDA/SiOが0.03以上であることでCHA型ゼオライトの単相が得られやすくなる。製造コストの観点からOSDAを必要以上に多くする必要はなく、OSDA/SiOは0.20以下、更には0.10以下であればよい。なお、原料組成物がOSDAとしてDMEBA塩とアダマンタン塩とを含有する場合、及び、DMEBA塩とTMAd塩を含有する場合、OSDA/SiOはそれぞれ(DMEBA+ADA)/SiO、及び、(DMEBA+TMAd)/SiOとして表すこともできる。特に好ましい(DMEBA+TMAd)/SiOとして0.06以上0.12以下を挙げることができる。 When the raw material composition contains DMEBA salt and adamantane salt as OSDA, the OSDA / SiO 2 is preferably 0.03 or more, more preferably 0.05 or more. When OSDA / SiO 2 is 0.03 or more, a single phase of CHA-type zeolite is easily obtained. It is not necessary to increase OSDA more than necessary from the viewpoint of manufacturing cost, and OSDA / SiO 2 may be 0.20 or less, and further 0.10 or less. When the raw material composition contains a DMEBA salt and an adamantane salt as OSDA, and a DMEBA salt and a TMAd salt, OSDA / SiO 2 is (DMEBA + ADA) / SiO 2 and (DMEBA + TMAd) / It can also be expressed as SiO 2 . Particularly preferred (DMEBA + TMAd) / SiO 2 is 0.06 or more and 0.12 or less.

原料組成物がOSDAとしてDMEBA塩及びアダマンタン塩を含有する場合、DMEBA塩に対するアダマンタン塩のモル比(以下、「ADA/DMEBA」ともいう)は0.2以上3.0以下であることが好ましい。ADA/DMEBAが2.0を超えると、CHA型ゼオライト指向性が高くなるが、製造コストも高くなりやすい。また、ADA/DMEBAが0.2以上であれば高結晶性のCHA型ゼオライトがより得られやすくなる。   When the raw material composition contains a DMEBA salt and an adamantane salt as OSDA, the molar ratio of the adamantane salt to the DMEBA salt (hereinafter also referred to as “ADA / DMEBA”) is preferably 0.2 or more and 3.0 or less. When ADA / DMEBA exceeds 2.0, the CHA-type zeolite directivity increases, but the production cost tends to increase. Moreover, if ADA / DMEBA is 0.2 or more, a highly crystalline CHA-type zeolite is more easily obtained.

この場合、原料組成物の好ましいOSDA含有量として、DMEBA/SiOが0.02以上0.10以下、シリカに対するアダマンタン塩のモル比(以下、「ADA/SiO」ともいう。)が0.02以上0.10以下であり、なおかつ、ADA/DMEBAが1.0以下であることが挙げられる。 In this case, as a preferable OSDA content of the raw material composition, DMEBA / SiO 2 is 0.02 or more and 0.10 or less, and the molar ratio of adamantane salt to silica (hereinafter also referred to as “ADA / SiO 2 ”) is 0. It is 02 or more and 0.10 or less, and ADA / DMEBA is 1.0 or less.

原料組成物のアルミナに対するシリカのモル比(以下、「SiO/Al」ともいう。)は10以上100以下、更には10以上60以下であることが好ましい。SiO/Alが10以上であることでCHA型ゼオライトの耐熱性が高くなりやすい。一方、SiO/Alが100以下であれば触媒反応に寄与する十分な酸点を有するゼオライトとなる。原料組成物のSiO/Alが10以上40以下、更には10以上35以下であることで、より触媒用途に適したCHA型ゼオライトが得られやすくなる。 The molar ratio of silica to alumina in the raw material composition (hereinafter also referred to as “SiO 2 / Al 2 O 3 ”) is preferably 10 or more and 100 or less, and more preferably 10 or more and 60 or less. When the SiO 2 / Al 2 O 3 is 10 or more, the heat resistance of the CHA-type zeolite tends to be high. On the other hand, if SiO 2 / Al 2 O 3 is 100 or less, the zeolite has a sufficient acid site that contributes to the catalytic reaction. When the SiO 2 / Al 2 O 3 of the raw material composition is 10 or more and 40 or less, and further 10 or more and 35 or less, it becomes easier to obtain a CHA-type zeolite more suitable for a catalyst application.

原料組成物のシリカに対するアルカリ金属のモル比(以下、「M/SiO」ともいう。)は0.10以上0.50以下、更には0.10以上0.30以下であることが好ましい。M/SiOが0.10以上であることでCHA型ゼオライトの結晶化が促進されやすい。一方、M/SiOが1以下であれば、CHA構造以外の構造を有するゼオライトの生成がより生じにくくなる。 The molar ratio of the alkali metal to silica of the raw material composition (hereinafter also referred to as “M / SiO 2 ”) is preferably 0.10 or more and 0.50 or less, and more preferably 0.10 or more and 0.30 or less. When M / SiO 2 is 0.10 or more, crystallization of CHA-type zeolite is easily promoted. On the other hand, if M / SiO 2 is 1 or less, the production of zeolite having a structure other than the CHA structure is less likely to occur.

原料組成物がアルカリ金属としてナトリウム及びカリウムを含有する場合、ナトリウムに対するカリウムのモル比(以下、「Na/K」ともいう。)は0.05以上20.0以下、更には0.1以上2.0以下であることが挙げられる。   When the raw material composition contains sodium and potassium as alkali metals, the molar ratio of potassium to sodium (hereinafter also referred to as “Na / K”) is 0.05 or more and 20.0 or less, and further 0.1 or more and 2 0.0 or less.

原料組成物のシリカに対する水(HO)のモル比(以下、「HO/SiO」ともいう。)は5.0以上50.0以下、更には10.0以上20.0以下であることが好ましい。HO/SiOが5.0以上であることで原料組成物が撹拌できる程度の流動性を有する。一方、HO/SiOが50.0以下であることで、CHA型ゼオライトの収率が高くなりやすい。更に、本発明の製造方法においてはHO/SiOが10.0以上15.5以下であっても、単一相のCHA型ゼオライトが得られる場合がある。 The molar ratio of water (H 2 O) to silica of the raw material composition (hereinafter also referred to as “H 2 O / SiO 2 ”) is 5.0 or more and 50.0 or less, and more preferably 10.0 or more and 20.0 or less. It is preferable that When H 2 O / SiO 2 is 5.0 or more, the raw material composition has fluidity that can be stirred. On the other hand, when H 2 O / SiO 2 is 50.0 or less, the yield of CHA-type zeolite tends to be high. Furthermore, in the production method of the present invention, even when H 2 O / SiO 2 is 10.0 or more and 15.5 or less, a single-phase CHA-type zeolite may be obtained.

原料組成物は、シリカに対する水酸基アニオン(OH)のモル比(以下、「OH/SiO」ともいう。)が0.05以上1.0以下、更には0.1以上0.5以下であることが好ましい。OH/SiOが0.05以上であることで、CHA構造以外の構造を有するゼオライトの生成がより生じにくくなる。一方、OH/SiOが1.0以下であれば、十分な収率のCHA型ゼオライトが得られやすくなる。本発明においては、OH/SiOが0.3以下、更には0.25以下であっても、高い結晶性を有する単一相のCHA型ゼオライトが得られる場合がある。 The raw material composition has a molar ratio of hydroxyl anion (OH ) to silica (hereinafter also referred to as “OH / SiO 2 ”) of 0.05 to 1.0, and further 0.1 to 0.5. Preferably there is. When OH / SiO 2 is 0.05 or more, production of zeolite having a structure other than the CHA structure is less likely to occur. On the other hand, if OH / SiO 2 is 1.0 or less, a sufficient yield of CHA-type zeolite is easily obtained. In the present invention, even when OH / SiO 2 is 0.3 or less, and even 0.25 or less, a single-phase CHA-type zeolite having high crystallinity may be obtained.

原料組成物は、種晶を含んでもよい。種晶を含むことで結晶化が促進される。種晶はCHA型ゼオライト、更にはSSZ−13であることが好ましい。   The raw material composition may include seed crystals. Including seed crystals promotes crystallization. The seed crystal is preferably CHA-type zeolite, more preferably SSZ-13.

種晶を含む場合、以下の式を満たす含有量(重量%)とすればよい。   When seed crystals are included, the content (% by weight) may satisfy the following formula.

0重量%≦{(w3+w4)/(w1+w2)}×100≦30重量%             0% by weight ≦ {(w3 + w4) / (w1 + w2)} × 100 ≦ 30% by weight

上記式において、w1は原料組成物中のAlをAlに換算した重量、w2は原料組成物中のSiをSiOに換算した重量、w3は種晶中のAlをAlに換算した重量、及び、w4は種晶中のSiをSiOに換算した重量である。 In the above formula, w1 is a weight obtained by converting Al in the raw material composition into Al 2 O 3 , w2 is a weight obtained by converting Si in the raw material composition into SiO 2 , and w3 represents Al in the seed crystal as Al 2 O 3. weight in terms of, and a weight in terms of Si in w4 seed crystal to SiO 2.

種晶は以下の式を満たす含有量であることが更に好ましい。   More preferably, the seed crystal has a content satisfying the following formula.

0重量%≦{(w3+w4)/(w1+w2)}×100≦10重量%             0 wt% ≦ {(w3 + w4) / (w1 + w2)} × 100 ≦ 10 wt%

原料組成物の好ましい組成として以下のものをあげることができる。
SiO/Al =10以上100以下
OSDA/SiO =0.03以上0.30以下
M/SiO =0.05以上1.0以下
OH/SiO =0.05以上1.0以下
O/SiO =5.0以上50.0以下
種晶 =0.0重量%以上30.0重量%以下
但し、OSDAはDMEBA塩であり、DMEBA塩及びTMAd塩を含んでいてもよい、MはNa及びKである。
The following can be mentioned as a preferable composition of a raw material composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 = 10 or more and 100 or less
OSDA / SiO 2 = 0.03 or more and 0.30 or less
M / SiO 2 = 0.05 or more and 1.0 or less
OH / SiO 2 = 0.05 or more and 1.0 or less
H 2 O / SiO 2 = 5.0 or more and 50.0 or less
Seed crystal = 0.0 wt% or more and 30.0 wt% or less However, OSDA is a DMEBA salt, which may contain a DMEBA salt and a TMAd salt, and M is Na and K.

さらに好ましい原料組成物の組成として以下のものをあげることができる。   More preferable raw material compositions include the following.

SiO/Al =10以上60以下
OSDA/SiO =0.06以上0.20以下
M/SiO =0.10以上0.30以下
OH/SiO =0.10以上0.50以下
O/SiO =10.0以上20.0以下
種晶 =0.0重量%以上10.0重量%以下
但し、OSDAはDMEBA塩であり、DMEBA塩及びTMAd塩を含んでいてもよい、MはNa及びKである。
SiO 2 / Al 2 O 3 = 10 or more and 60 or less
OSDA / SiO 2 = 0.06 or more and 0.20 or less
M / SiO 2 = 0.10 to 0.30
OH / SiO 2 = 0.10 to 0.50
H 2 O / SiO 2 = 10.0 or more and 20.0 or less
Seed crystal = 0.0 wt% or more and 10.0 wt% or less However, OSDA is a DMEBA salt and may contain a DMEBA salt and a TMAd salt, and M is Na and K.

結晶化工程では、原料組成物を結晶化する。結晶化方法は、水熱合成があげられる。その場合、原料混合物を密閉容器に充填し、これを加熱すればよい。結晶化は、静置又は撹拌のいずれの状態で行ってもよい。   In the crystallization step, the raw material composition is crystallized. Examples of the crystallization method include hydrothermal synthesis. In that case, what is necessary is just to fill an airtight container with a raw material mixture, and to heat this. Crystallization may be performed in any state of standing or stirring.

結晶化温度は130℃以上200℃以下、更には140℃以上180℃以下、また更には140℃以上180℃以下であることが好ましい。   The crystallization temperature is preferably 130 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 140 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and further preferably 140 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.

上記の範囲であれば、結晶化中に結晶化温度を変更してもよい。例えば、130℃以上160℃以下で結晶化を開始し、その後、結晶化温度を160℃超200℃以下に変更して結晶化してもよい。   If it is said range, you may change crystallization temperature during crystallization. For example, crystallization may be started at 130 ° C. or more and 160 ° C. or less, and then the crystallization temperature may be changed to more than 160 ° C. and 200 ° C. or less for crystallization.

結晶化時間は、結晶化温度により異なるが、10時間以上、更には24時間(1日)以上であることが好ましい。これによりCHA型ゼオライトが結晶化する。一方、結晶時間が5日以下、更には72時間(3日)以下、また更には48時間(2日)以下であればCHA型ゼオライトの単一相が得られやすくなる。特に原料組成物がOSDAとしてDMEBA塩及びTMAd塩を含んでいる場合、結晶化時間が48時間以下であっても、不純物を含まない、CHA型ゼオライトの単一相が得られる。   The crystallization time varies depending on the crystallization temperature, but is preferably 10 hours or longer, more preferably 24 hours (one day) or longer. As a result, the CHA-type zeolite crystallizes. On the other hand, if the crystallization time is 5 days or less, further 72 hours (3 days) or less, and even 48 hours (2 days) or less, a single phase of CHA-type zeolite is easily obtained. In particular, when the raw material composition contains DMEBA salt and TMAd salt as OSDA, a single phase of CHA-type zeolite containing no impurities can be obtained even if the crystallization time is 48 hours or less.

本発明の製造方法では、結晶化工程の後、洗浄工程、乾燥工程及びイオン交換工程の少なくともいずれかを含んでいてもよい。   The production method of the present invention may include at least one of a washing step, a drying step, and an ion exchange step after the crystallization step.

洗浄工程は、結晶化後のCHA型ゼオライトと液相とを固液分離する。洗浄工程は、公知の方法で固液分離をし、固相として得られるCHA型ゼオライトを脱イオン水で洗浄すればよい。   In the washing step, the crystallized CHA-type zeolite and the liquid phase are subjected to solid-liquid separation. In the washing step, solid-liquid separation may be performed by a known method, and the CHA-type zeolite obtained as a solid phase may be washed with deionized water.

乾燥工程は、結晶化工程後又は洗浄工程後のCHA型ゼオライトから水分を除去する。乾燥工程の条件は任意であるが、結晶化工程後又は洗浄工程後のCHA型ゼオライトを、大気中、50℃以上150℃以下で2時間以上、静置することが例示できる。   In the drying step, moisture is removed from the CHA-type zeolite after the crystallization step or the washing step. Although the conditions for the drying step are arbitrary, it can be exemplified that the CHA-type zeolite after the crystallization step or the washing step is allowed to stand in the atmosphere at 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for 2 hours or longer.

結晶化後のCHA型ゼオライトは、そのイオン交換サイト上にアルカリ金属イオン等の金属イオンを有する場合がある。イオン交換工程では、これをアンモニウムイオン(NH )や、プロトン(H)等の非金属カチオンにイオン交換する。アンモニウムイオンへのイオン交換は、CHA型ゼオライトを塩化アンモニウム水溶液に混合、攪拌することが挙げられる。また、プロトンへのイオン交換は、CHA型ゼオライトをアンモニアでイオン交換した後、これを焼成することがあげられる。 The CHA-type zeolite after crystallization may have metal ions such as alkali metal ions on its ion exchange site. In the ion exchange step, this is ion-exchanged to a non-metallic cation such as ammonium ion (NH 4 + ) or proton (H + ). Examples of ion exchange to ammonium ions include mixing and stirring CHA-type zeolite in an ammonium chloride aqueous solution. In addition, ion exchange for protons may be performed by ion-exchanging CHA-type zeolite with ammonia and then calcining it.

本発明の製造方法により得られるCHA型ゼオライトは、CHA構造以外の構造を有するゼオライトを含まず、CHA型ゼオライトの単相である。   The CHA-type zeolite obtained by the production method of the present invention does not include a zeolite having a structure other than the CHA structure, and is a single phase of the CHA-type zeolite.

さらに、本発明の製造方法では、ハイシリカゼオライトであって、なおかつ、必要以上にSiO/Alが高くないCHA型ゼオライトが得られる。例えば、本発明の製造方法により得られるCHA型ゼオライトの好ましいSiO/Alとして5以上50以下、更には10以上30以下を挙げることができる。 Furthermore, in the production method of the present invention, a CHA-type zeolite that is a high silica zeolite and that does not have SiO 2 / Al 2 O 3 higher than necessary is obtained. For example, preferred SiO 2 / Al 2 O 3 of the CHA-type zeolite obtained by the production method of the present invention is 5 or more and 50 or less, and further 10 or more and 30 or less.

本発明は、TMAdOHより安価なOSDAを使用し、なおかつCHA型ゼオライトの指向性の高いCHA型ゼオライトの製造方法を提供することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a method for producing a CHA zeolite that uses OSDA that is less expensive than TMAdOH and that has a high directivity of the CHA zeolite.

実施例1のCHA型ゼオライトのXRDパターンXRD pattern of the CHA-type zeolite of Example 1 比較例1のゼオライトのXRDパターンXRD pattern of the zeolite of Comparative Example 1 実施例5のCHA型ゼオライトのXRDパターンXRD pattern of the CHA-type zeolite of Example 5 実施例5のCHA型ゼオライトの走査型電子顕微鏡観察図Scanning electron microscope observation of the CHA-type zeolite of Example 5

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。本実施例及び比較例において、「比」は特に断らない限り、「モル比」を表す。以下、評価方法及び評価条件を示す。
(結晶構造の同定)
粉末X線回折装置(装置名:UltimaIV、株式会社リガク社製)を使用し、試料のXRD測定をした。線源にはCuKα線(λ=1.5405Å)を用い、測定範囲は2θとして5°から43°の範囲で測定した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the examples and comparative examples, “ratio” represents “molar ratio” unless otherwise specified. Hereinafter, an evaluation method and evaluation conditions are shown.
(Identification of crystal structure)
Using a powder X-ray diffractometer (device name: Ultimate IV, manufactured by Rigaku Corporation), XRD measurement of the sample was performed. A CuKα ray (λ = 1.5405 mm) was used as the radiation source, and the measurement range was 2θ and the measurement was performed in the range of 5 ° to 43 °.

得られたXRDパターンと、(公知のCHAゼオライトの)特許文献1のTable.1のXRDパターンとを比較することで、試料の構造を同定した。   The obtained XRD pattern and Table. 1 of Patent Document 1 (of a known CHA zeolite). The structure of the sample was identified by comparing with 1 XRD pattern.

また、実施例5として得たCHA型ゼオライトの2θ=20.8°に相当するXRDピークの強度を100%とし、同ピーク強度との相対強度をCHA結晶度(%)とした。
(組成分析)
フッ酸と硝酸の混合水溶液に試料を溶解して試料溶液を調製した。ICP装置(装置名:OPTIMA5300DV、PerkinElmer社製)を使用して、当該試料溶液を誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP−AES)で測定した。得られたSi、Alの測定値から、試料のSiO/Al比を求めた。
The intensity of the XRD peak corresponding to 2θ = 20.8 ° of the CHA-type zeolite obtained as Example 5 was 100%, and the relative intensity with the peak intensity was CHA crystallinity (%).
(Composition analysis)
A sample solution was prepared by dissolving a sample in a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid. The sample solution was measured by inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-AES) using an ICP device (device name: OPTIMA5300DV, manufactured by PerkinElmer). From the measured values of Si and Al obtained, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of the sample was determined.

合成例1(DMEBABrの合成)
50.0gのN,N−ジメチルベンジルアミン及び40.3gの臭化エチルをエタノール100mLに混合した後、混合液を60℃で3時間反応させた。反応終了後、70℃で減圧処理することで未反応物及び溶媒を除去し、DMEBABrの白色固体を得た。得られたDMEBABrを脱イオン水に溶解し、25重量%DMEBABr水溶液を得た。
Synthesis Example 1 (Synthesis of DMEBABr)
After 50.0 g of N, N-dimethylbenzylamine and 40.3 g of ethyl bromide were mixed with 100 mL of ethanol, the mixture was reacted at 60 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, unreacted substances and the solvent were removed by treating at 70 ° C. under reduced pressure to obtain a white solid of DMEBABr. The obtained DMEBABr was dissolved in deionized water to obtain a 25 wt% DMEBABr aqueous solution.

合成例2(DMEBAOHの合成)
合成例1で得られたDMEBABrの白色固体20gを脱イオン水180gに溶解させDMEBABr水溶液とした。DMEBABr水溶液を陰イオン交換樹脂(商品名:ダイヤイオンSA−10A、三菱化学株式会社製)を充填したカラムに通してイオン交換し、DMEBAOH水溶液を得た。イオン交換後のDMEBAOH水溶液を濃縮することでし、25重量%DMEBAOH水溶液を得た。
Synthesis Example 2 (Synthesis of DMEBAOH)
20 g of the white solid of DMEBABr obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 180 g of deionized water to obtain a DMEBABr aqueous solution. The DMEBABr aqueous solution was ion-exchanged through a column packed with an anion exchange resin (trade name: Diaion SA-10A, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) to obtain a DMEBAOH aqueous solution. The DMEBAOH aqueous solution after ion exchange was concentrated to obtain a 25 wt% DMEBAOH aqueous solution.

実施例1
25重量%DMEBAOH水溶液、48%水酸化ナトリウム水溶液、48重量%水酸化カリウム水溶液、脱イオン水、非晶質アルミノシリケート(SiO/Al=25.7)及び、種晶を混合して以下の組成を有する原料組成物50.0gを得た。種晶にはCHA型ゼオライトを用いた。
Example 1
25% by weight DMEBAOH aqueous solution, 48% sodium hydroxide aqueous solution, 48% by weight potassium hydroxide aqueous solution, deionized water, amorphous aluminosilicate (SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7) and seed crystals were mixed. Thus, 50.0 g of a raw material composition having the following composition was obtained. CHA-type zeolite was used as a seed crystal.

SiO/Al =25.7
DMEBAOH/SiO =0.15
K/SiO =0.12
Na/SiO =0.10
Na/K =0.83
O/SiO =15.0
OH/SiO =0.37
種晶 =5.0重量%
SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7
DMEBAOH / SiO 2 = 0.15
K / SiO 2 = 0.12
Na / SiO 2 = 0.10
Na / K = 0.83
H 2 O / SiO 2 = 15.0
OH / SiO 2 = 0.37
Seed crystal = 5.0 wt%

原料組成物を内容積80mLの密閉容器内に充填し、当該容器を55rpmで回転攪拌しながら170℃で72時間反応させた。得られた結晶化物を固液分離し、脱イオン水で洗浄した後、110℃で乾燥した。   The raw material composition was filled in a sealed container having an internal volume of 80 mL, and the container was reacted at 170 ° C. for 72 hours while rotating and stirring at 55 rpm. The obtained crystallized product was subjected to solid-liquid separation, washed with deionized water, and dried at 110 ° C.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は84%であった。また、SiO/Al比は20.0であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 84%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 20.0. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 2 shows the results of the product.

実施例2
結晶化温度を160℃としたこと及び結晶化時間を96時間(4日)としたこと以外は、実施例1と同様な条件で結晶化物を得た。
Example 2
A crystallized product was obtained under the same conditions as in Example 1 except that the crystallization temperature was 160 ° C. and the crystallization time was 96 hours (4 days).

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は86%であった。また、SiO/Al比は20.2であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 86%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 20.2. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 2 shows the results of the product.

比較例1
25重量%DMEBAOH水溶液の代わりに、25重量%水酸化N,N,N−トリメチルベンジルアンモニウム(以下、「TMBAOH」ともいう。)水溶液を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で本比較例のゼオライトを得た。
Comparative Example 1
This comparison was performed in the same manner as in Example 1 except that a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-trimethylbenzylammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “TMBAOH”) was used instead of the 25 wt% DMEBAOH aqueous solution. An example zeolite was obtained.

XRD測定の結果、当該結晶化物はERI型ゼオライトとCHA型ゼオライトの混合物であり、単一相のCHA型ゼオライトは得られなかった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。   As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of ERI-type zeolite and CHA-type zeolite, and no single-phase CHA-type zeolite was obtained. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 2 shows the results of the product.

比較例2
25重量%DMEBAOH水溶液の代わりに、25重量%水酸化N,N,N−ジメチルイソプロピルベンジルアンモニウム(以下、「DMiPBAOH」ともいう。)水溶液を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で本比較例のゼオライトを得た。本比較例ではゼオライトが結晶化しなかった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。
Comparative Example 2
This method was carried out in the same manner as in Example 1 except that an aqueous 25 wt% N, N, N-dimethylisopropylbenzylammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “DMiPBAOH”) aqueous solution was used instead of the 25 wt% DMEBAOH aqueous solution. A comparative zeolite was obtained. In this comparative example, the zeolite was not crystallized. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 2 shows the results of the product.

比較例3
25重量%DMEBAOH水溶液の代わりに、25重量%水酸化N,N,N−ジメチルプロピルベンジルアンモニウム(以下、「DMPBAOH」ともいう。)水溶液を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で本比較例のゼオライトを得た。
Comparative Example 3
This method was carried out in the same manner as in Example 1 except that an aqueous 25 wt% N, N, N-dimethylpropylbenzylammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “DMPBAOH”) aqueous solution was used instead of the 25 wt% DMEBAOH aqueous solution. A comparative zeolite was obtained.

XRD測定の結果、当該結晶化物はERI型ゼオライトであり、CHA型ゼオライトは得られなかった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。   As a result of XRD measurement, the crystallized product was ERI type zeolite, and CHA type zeolite was not obtained. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 2 shows the results of the product.

比較例4
25重量%DMEBAOH水溶液の代わりに、25重量%水酸化N,N,N−メチルジエチルベンジルアンモニウム(以下、「MDEBAOH」ともいう。)水溶液を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で本比較例のゼオライトを得た。
Comparative Example 4
In the same manner as in Example 1, except that a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-methyldiethylbenzylammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “MDEBAOH”) was used instead of the 25 wt% DMEBAOH aqueous solution. A comparative zeolite was obtained.

XRD測定の結果、当該結晶化物はMOR型ゼオライトとERI型ゼオライトの混合物であり、CHA型ゼオライトは得られなかった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。   As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of MOR type zeolite and ERI type zeolite, and CHA type zeolite was not obtained. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 2 shows the results of the product.

比較例5
25重量%DMEBAOH水溶液の代わりに、25重量%水酸化N,N,N−トリエチルベンジルアンモニウム(以下、「TEBAOH」ともいう。)を使用したこと以外は実施例1と同様な方法で本比較例のゼオライトを得た。
Comparative Example 5
This comparative example was prepared in the same manner as in Example 1 except that 25 wt% N, N, N-triethylbenzylammonium hydroxide (hereinafter also referred to as “TEBAOH”) was used instead of the 25 wt% DMEBAOH aqueous solution. Of zeolite was obtained.

XRD測定の結果、当該結晶化物はMOR型ゼオライトとERI型ゼオライトの混合物であり、CHA型ゼオライトは得られなかった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表1に、生成物の結果を表2に示す。   As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of MOR type zeolite and ERI type zeolite, and CHA type zeolite was not obtained. Table 1 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 2 shows the results of the product.

Figure 2017210377
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Figure 2017210377
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実施例1及び2よりDMEBAOHをOSDAとして使用することで、TMAd塩を使用することなく、CHA型ゼオライトの単一相が得られることが確認できた。一方、比較例1で使用したTMBAOHは、特許文献2においてCHA型ゼオライトが得られるとされたOSDAである。しかしながら、特許文献2の開示に対し、比較例1の原料組成物のSiO/Alは低く、65以下である。また、比較例1はOSDA以外が実施例1と同等な条件であるにも関わらず当該原料組成物においてはCHA型ゼオライトに加え、CHA構造以外のゼオライトの生成が顕著であった。また、比較例2乃至5より、他のN,N,N−トリアルキルベンジル4級アンモニウム塩をOSDAとして使用しても、CHA型ゼオライトが得られないことが確認できた。 From Examples 1 and 2, it was confirmed that by using DMEBAOH as OSDA, a single phase of CHA-type zeolite was obtained without using a TMAd salt. On the other hand, TMBAOH used in Comparative Example 1 is OSDA in which a CHA-type zeolite is obtained in Patent Document 2. However, with respect to the disclosure of Patent Document 2, the raw material composition of Comparative Example 1 has a low SiO 2 / Al 2 O 3 value of 65 or less. Further, in Comparative Example 1, in addition to the CHA-type zeolite, in addition to the CHA-type zeolite, formation of zeolite other than the CHA structure was remarkable in the raw material composition in spite of the conditions equivalent to Example 1 except for OSDA. Further, from Comparative Examples 2 to 5, it was confirmed that a CHA-type zeolite could not be obtained even when another N, N, N-trialkylbenzyl quaternary ammonium salt was used as OSDA.

実施例3
25重量%DMEBABr水溶液、25重量%TMAdCl水溶液、48重量%水酸化ナトリウム水溶液、48重量%水酸化カリウム水溶液、脱イオン水、非晶質アルミノシリケート(SiO/Al=25.7)、及び、種晶を混合して以下の組成を有する原料組成物50.0gを得た。種晶にはCHA型ゼオライトを用いた。
Example 3
25 wt% DMEBABr aqueous solution, 25 wt% TMAdCl aqueous solution, 48 wt% sodium hydroxide aqueous solution, 48 wt% potassium hydroxide aqueous solution, deionized water, amorphous aluminosilicate (SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7) And 50.0 g of a raw material composition having the following composition was obtained by mixing seed crystals. CHA-type zeolite was used as a seed crystal.

SiO/Al =25.7
DMEBABr/SiO =0.06
TMAdCl/SiO =0.02
OSDA/SiO =0.08
K/SiO =0.10
Na/SiO =0.10
Na/K =1.0
O/SiO =15.0
OH/SiO =0.20
種晶 =5.0重量%
SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7
DMEBABr / SiO 2 = 0.06
TMAdCl / SiO 2 = 0.02
OSDA / SiO 2 = 0.08
K / SiO 2 = 0.10
Na / SiO 2 = 0.10
Na / K = 1.0
H 2 O / SiO 2 = 15.0
OH / SiO 2 = 0.20
Seed crystal = 5.0 wt%

原料組成物を内容積80mLの密閉容器内に充填し、当該容器を55rpmで回転攪拌しながら150℃で6時間反応させた後、昇温して180℃で40時間反応させ、合計46時間結晶化した。得られた結晶化物を固液分離し、脱イオン水で洗浄した後、110℃で乾燥した。   The raw material composition was filled in a sealed container with an internal volume of 80 mL, and the container was reacted at 150 ° C. for 6 hours while rotating and stirring at 55 rpm, then heated up and reacted at 180 ° C. for 40 hours, for a total of 46 hours of crystallization. Turned into. The obtained crystallized product was subjected to solid-liquid separation, washed with deionized water, and dried at 110 ° C.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は91%であった。また、SiO/Al比は22.4であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 91%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 22.4. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 4 shows the results of the product.

実施例4
25重量%TMAdCl水溶液の代わりに、25重量%TMAdOH水溶液を使用したこと、及びK/SiOを0.12としたこと以外は実施例3と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Example 4
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 3 except that a 25 wt% TMAdOH aqueous solution was used instead of the 25 wt% TMAdCl aqueous solution, and K / SiO 2 was set to 0.12, and this was washed and washed. Dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は90%であった。また、SiO/Al比は22.1であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 90%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 22.1. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 4 shows the results of the product.

実施例5
25重量%DMEBABr水溶液、25重量%TMAdCl水溶液、48重量%水酸化ナトリウム水溶液、48重量%水酸化カリウム水溶液、脱イオン水、非晶質アルミノシリケート(SiO/Al=25.7)、及び、種晶を混合して以下のモル組成を有する原料組成物50.0gを得た。種晶にはCHA型ゼオライトを用いた。
Example 5
25 wt% DMEBABr aqueous solution, 25 wt% TMAdCl aqueous solution, 48 wt% sodium hydroxide aqueous solution, 48 wt% potassium hydroxide aqueous solution, deionized water, amorphous aluminosilicate (SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7) And 50.0 g of a raw material composition having the following molar composition was obtained by mixing seed crystals. CHA-type zeolite was used as a seed crystal.

SiO/Al =25.7
DMEBABr/SiO =0.04
TMAdCl/SiO =0.04
OSDA/SiO =0.08
K/SiO =0.10
Na/SiO =0.10
Na/K =1.0
O/SiO =15.0
OH/SiO =0.20
種晶 =5.0重量%
SiO 2 / Al 2 O 3 = 25.7
DMEBABr / SiO 2 = 0.04
TMAdCl / SiO 2 = 0.04
OSDA / SiO 2 = 0.08
K / SiO 2 = 0.10
Na / SiO 2 = 0.10
Na / K = 1.0
H 2 O / SiO 2 = 15.0
OH / SiO 2 = 0.20
Seed crystal = 5.0 wt%

原料組成物を内容積80mLの密閉容器内に充填し、当該容器を55rpmで回転攪拌しながら150℃で48時間結晶化した。得られた結晶化物を固液分離し、脱イオン水で洗浄した後、110℃で乾燥した。   The raw material composition was filled in a sealed container having an internal volume of 80 mL, and the container was crystallized at 150 ° C. for 48 hours while rotating and stirring at 55 rpm. The obtained crystallized product was subjected to solid-liquid separation, washed with deionized water, and dried at 110 ° C.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は100%であった。また、SiO/Al比は24.5であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 100%. Further, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 24.5. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 4 shows the results of the product.

実施例6
25重量%TMAdCl水溶液の代わりに、25重量%TMAdOH水溶液を使用したこと、及び、K/SiOを0.08としたこと以外は実施例5と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Example 6
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 5 except that a 25 wt% TMAdOH aqueous solution was used instead of the 25 wt% TMAdCl aqueous solution, and K / SiO 2 was changed to 0.08, and this was washed. And dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は99%であった。また、SiO/Al比は23.8であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 99%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 23.8. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 4 shows the results of the product.

実施例7
25重量%DMEABr水溶液の替わりに、25重量%DMEAOH水溶液を使用したこと、及び、K/SiOを0.06としたこと以外は実施例6と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Example 7
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 6 except that a 25 wt% DMEAOH aqueous solution was used instead of the 25 wt% DMEABr aqueous solution and that K / SiO 2 was changed to 0.06. And dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はCHA型ゼオライトの単一相であり、CHA結晶度は98%であった。また、SiO/Al比は23.6であった。本実施例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a single phase of CHA-type zeolite, and the CHA crystallinity was 98%. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 23.6. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this example, and Table 4 shows the results of the product.

比較例6
25重量%DMEBABr水溶液の替わりに、25重量%臭化N,N,N−トリメチルベンジルアンモニウム(以下、TMBABrともいう)水溶液を使用した以外は実施例5と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Comparative Example 6
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 5 except that a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-trimethylbenzylammonium bromide (hereinafter also referred to as TMBABr) was used instead of the 25 wt% DMEBABr aqueous solution. Was washed and dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はERI型ゼオライトとCHA型ゼオライトの混合物であり、単一相のCHA型ゼオライトは得られなかった。また、SiO/Al比は23.9であった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of ERI-type zeolite and CHA-type zeolite, and no single-phase CHA-type zeolite was obtained. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 23.9. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 4 shows the results of the product.

比較例7
25重量%DMEBABr水溶液の替わりに、25重量%臭化N,N,N−ジメチルプロピルベンジルアンモニウム(以下、DMPBABrともいう)水溶液を使用した以外は実施例5と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Comparative Example 7
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 5 except that a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-dimethylpropylbenzylammonium bromide (hereinafter also referred to as DMPBABr) was used instead of the 25 wt% DMEBABr aqueous solution. This was washed and dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はERI型ゼオライトとCHA型ゼオライトの混合物であり、単一相のCHA型ゼオライトは得られなかった。また、SiO/Al比は23.0であった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of ERI-type zeolite and CHA-type zeolite, and no single-phase CHA-type zeolite was obtained. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 23.0. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 4 shows the results of the product.

比較例8
25重量%DMEBABr水溶液の替わりに、25重量%臭化N,N,N−トリエチルベンジルアンモニウム(以下、TEBABrともいう)水溶液を使用した以外は実施例5と同様な方法で結晶化物を得、これを洗浄及び乾燥した。
Comparative Example 8
A crystallized product was obtained in the same manner as in Example 5 except that a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-triethylbenzylammonium bromide (hereinafter also referred to as TEBABr) was used instead of the 25 wt% DMEBABr aqueous solution. Was washed and dried.

XRD測定の結果、当該結晶化物はFER型ゼオライトとCHA型ゼオライトの混合物であり、単一相のCHA型ゼオライトは得られなかった。また、SiO/Al比は22.8であった。本比較例の原料組成物の主な組成及び反応条件を表3に、生成物の結果を表4に示す。 As a result of XRD measurement, the crystallized product was a mixture of FER type zeolite and CHA type zeolite, and no single phase CHA type zeolite was obtained. The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 22.8. Table 3 shows the main composition and reaction conditions of the raw material composition of this comparative example, and Table 4 shows the results of the product.

Figure 2017210377
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Figure 2017210377
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表3および表4より、DMEBA塩とTMAd塩とをOSDAとした実施例では、単一相のCHA型ゼオライトが得られ、なおかつ、いずれも高いCHA結晶度を有するものであった。さらに、これらの実施例より、OH/SiOが0.25以下であっても、高い結晶性を有する単一相のCHA型ゼオライトが得られることが分かった。 From Tables 3 and 4, in Examples where DMEBA salt and TMAd salt were OSDA, single-phase CHA-type zeolite was obtained, and both had high CHA crystallinity. Furthermore, it was found from these examples that a single-phase CHA-type zeolite having high crystallinity can be obtained even when OH / SiO 2 is 0.25 or less.

比較例6乃至8はTMAd塩と、DMEBAとは異なるN,N,N−トリアルキルベンジルアンモニウム塩とをOSDAとした原料組成物である。特に、比較例6及び8は特許文献2でCHA型ゼオライトが得られるOSDAとして開示されたN,N,N−トリアルキルベンジルアンモニウム塩である。しかしながら、これらのOSDAを含む原料組成物では、CHA型ゼオライトと共に、不純物としてCHA型ゼオライト以外のゼオライトが生成した。さらに、比較例に含まれるCHA結晶度は、いずれも実施例よりも低いものであった。   Comparative Examples 6 to 8 are raw material compositions in which TMAd salt and N, N, N-trialkylbenzylammonium salt different from DMEBA are used as OSDA. In particular, Comparative Examples 6 and 8 are N, N, N-trialkylbenzylammonium salts disclosed in Patent Document 2 as OSDA from which a CHA-type zeolite is obtained. However, in these raw material compositions containing OSDA, zeolite other than CHA zeolite was produced as an impurity along with CHA zeolite. Furthermore, the CHA crystallinity included in the comparative examples was lower than that of the examples.

これより、DMEBAとTMAdとをOSDAとすることで、より結晶性に優れたCHA型ゼオライトが得られることが確認できた。   From this, it was confirmed that a CHA-type zeolite having better crystallinity can be obtained by using DMEBA and TMAd as OSDA.

本発明の製造方法は、CHA型ゼオライトの製造方法として使用することができ、特に工業的なCHA型ゼオライトの製造方法など、大規模なCHA型ゼオライトの製造方法に適用することができる。特に、触媒担体用のCHA型ゼオライトや吸着剤用のCHA型ゼオライトの工業的な製造方法として使用することができる。   The production method of the present invention can be used as a production method of CHA-type zeolite, and can be applied to a large-scale production method of CHA-type zeolite such as an industrial production method of CHA-type zeolite. In particular, it can be used as an industrial production method for CHA-type zeolite for catalyst carriers and CHA-type zeolite for adsorbents.

Claims (8)

アルミナ源、シリカ源、アルカリ源、水及びN,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩を含む組成物を結晶化する結晶化工程、を有することを特徴とするCHA型ゼオライトの製造方法。   A crystallization process for crystallizing a composition comprising an alumina source, a silica source, an alkali source, water and N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt. 前記N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩が、N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウムの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種である請求項1に記載の製造方法。   The N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt is a hydroxide, chloride, bromide, iodide, carbonic acid monoester salt, sulfuric monoester salt, nitrate and sulfuric acid of N, N, N-dimethylethylbenzylammonium. The production method according to claim 1, which is at least one member of the group consisting of salts. 前記組成物が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩、N−アルキル−3−キヌクリジノールアンモニウム塩、及び、N,N,N−トリアルキル−2−アンモニウムエキソノルボルナン塩からなる群の少なくとも1種の四級アンモニウム塩を含む請求項1又は2に記載の製造方法。   The group consisting of N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt, N-alkyl-3-quinuclidinol ammonium salt, and N, N, N-trialkyl-2-ammonium exonorbornane salt The production method according to claim 1, comprising at least one quaternary ammonium salt. 前記四級アンモニウム塩が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩が、N,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウムの水酸化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸モノエステル塩、硫酸モノエステル塩、硝酸塩及び硫酸塩からなる群の少なくとも1種である請求項3に記載の製造方法。   The quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt, which is a hydroxide, chloride, bromide, iodide, carbonic acid monoester salt, sulfuric acid monoester salt of N, N, N-trialkyladamantyl ammonium. The production method according to claim 3, wherein the production method is at least one member selected from the group consisting of ester salts, nitrates and sulfates. 前記四級アンモニウム塩がN,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩である請求項3又は4に記載の製造方法。   The method according to claim 3 or 4, wherein the quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt. 前記四級アンモニウム塩がN,N,N−トリアルキルアダマンチルアンモニウム塩がN,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩である請求項3乃至5のいずれか一項に記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 3 to 5, wherein the quaternary ammonium salt is an N, N, N-trialkyladamantyl ammonium salt, and the N, N, N-trimethyladamantyl ammonium salt. 前記アルミナ源及びシリカ源が非晶質アルミノシリケートを含む請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 1 to 6, wherein the alumina source and the silica source include amorphous aluminosilicate. 前記原料組成物が以下の組成を有する請求項1乃至7のいずれか一項に記載の製造方法。
SiO/Al =10以上60以下
OSDA/SiO =0.06以上0.20以下
M/SiO =0.10以上0.30以下
OH/SiO =0.10以上0.50以下
O/SiO =10.0以上20.0以下
種晶 =0.0重量%以上10.0重量%以下
但し、OSDAはN,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩であり、N,N,N−ジメチルエチルベンジルアンモニウム塩及びN,N,N−トリメチルアダマンチルアンモニウム塩を含んでいてもよい、MはNa及びKである。
The manufacturing method according to claim 1, wherein the raw material composition has the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 = 10 or more and 60 or less
OSDA / SiO 2 = 0.06 or more and 0.20 or less
M / SiO 2 = 0.10 to 0.30
OH / SiO 2 = 0.10 to 0.50
H 2 O / SiO 2 = 10.0 or more and 20.0 or less
Seed crystal = 0.0 wt% or more and 10.0 wt% or less However, OSDA is N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt, N, N, N-dimethylethylbenzylammonium salt and N, N, N -May contain a trimethyladamantyl ammonium salt, M is Na and K.
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