JP2017199863A - cassette - Google Patents

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JP2017199863A
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万平 田中
Manpei Tanaka
万平 田中
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Disco Abrasive Systems Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cassette capable of accommodating workpieces of different sizes and reducing burden on an operator.SOLUTION: A cassette 30 includes: a first cassette unit 80 and a second cassette unit 90 having different side wall spacings; and a connection plate 100 connecting the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90. The second cassette part 90 is connected onto the first cassette part 80 via the connection plate 100. Further, the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90 are made to be detachable using positioning pins 88, 103.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、例えば、半導体ウエーハのような板状の被加工物を複数収容するカセットに関する。   The present invention relates to a cassette for accommodating a plurality of plate-like workpieces such as semiconductor wafers.

一般に、半導体ウエーハや光デバイスウエーハ(サファイア、SiCなどで形成)、パッケージ基板、セラミックス基板などの被加工物にレーザー加工、もしくは、切削加工を施す加工装置が知られている(例えば、特許文献1、2参照)。また、これら板状の被加工物を砥石で薄化する研削加工を施す研削装置も知られている(例えば、特許文献3参照)。これらの装置に被加工物をセットする場合、高さ方向に複数段のガイドレールを有し、各ガイドレールに沿って被加工物を挿入して収容するカセットが広く使われている。これらのカセットには、通常、同一のサイズ(大きさ)の被加工物が収容されている。   In general, a processing apparatus that performs laser processing or cutting processing on a workpiece such as a semiconductor wafer, an optical device wafer (formed of sapphire, SiC, or the like), a package substrate, or a ceramic substrate is known (for example, Patent Document 1). 2). There is also known a grinding apparatus that performs a grinding process for thinning these plate-like workpieces with a grindstone (see, for example, Patent Document 3). When a workpiece is set in these apparatuses, a cassette having a plurality of guide rails in the height direction and inserting and storing the workpiece along each guide rail is widely used. These cassettes usually contain workpieces of the same size (size).

特開2015−119003号公報JP2015-119003A 特開2014−222748号公報JP 2014-222748 A 特開2002−66865号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-66865

ところで、上記した加工装置もしくは研削装置(以下、加工装置などという)では、加工対象となる被加工物の大きさが変更されることがある。この場合、変更前の被加工物を収容するカセットを加工装置などから取り外し、大きさが異なる被加工物を収容する別のカセットを新たに加工装置などに搭載する。このため、被加工物の大きさを変更する度に、カセットを変更する作業により加工動作が中断され、作業員の負担が増大すると共に、被加工物の加工効率が低減する問題が生じるおそれがある。特に、少量多品種の被加工物の加工を行う装置では、被加工物のサイズ変更が頻繁に行われるが、この場合、例えば25段のガイドレールを有する一般的なカセットに、数枚の被加工物が収容されることも多く、作業員の作業負担が増大することが多い。   By the way, in the above-described processing apparatus or grinding apparatus (hereinafter referred to as a processing apparatus or the like), the size of a workpiece to be processed may be changed. In this case, the cassette that accommodates the workpiece before the change is removed from the machining apparatus or the like, and another cassette that accommodates the workpiece having a different size is newly mounted on the machining apparatus or the like. For this reason, every time the size of the workpiece is changed, the processing operation is interrupted by the operation of changing the cassette, which increases the burden on the worker and may cause a problem of reducing the processing efficiency of the workpiece. is there. In particular, in an apparatus for processing a small amount of various kinds of workpieces, the size of the workpiece is frequently changed. In this case, for example, several sheets are placed in a general cassette having 25-step guide rails. In many cases, workpieces are accommodated, and the workload of workers is often increased.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、異なる複数の大きさの被加工物を収容可能とし、作業員の負担を低減できるカセットを提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the above, Comprising: It aims at providing the cassette which can accommodate the workpiece of a several different magnitude | size, and can reduce a worker's burden.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、上壁と、底壁と、間隔を空けて平行に対向し該上壁と底壁とを連結する一対の側壁と、を備え、該側壁の内側に、収容する板状の被加工物を支える複数のガイドレールが設置されたカセットであって、該側壁の間隔が第1の間隔に設定された第1カセット部と、該側壁の間隔が第1の間隔と異なる第2の間隔に設定された第2カセット部と、を備え、該第1カセット部に該第2カセット部が着脱可能に連結されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention includes an upper wall, a bottom wall, and a pair of side walls that face each other in parallel with a space therebetween and connect the upper wall and the bottom wall. A cassette in which a plurality of guide rails for supporting a plate-shaped workpiece to be housed are installed inside the side wall, wherein the side wall interval is set to a first interval, And a second cassette part in which the interval between the side walls is set to a second interval different from the first interval, and the second cassette part is detachably connected to the first cassette part. And

この構成によれば、側壁の間隔が異なる複数のカセット部を備え、これらカセット部を着脱可能とすることにより、大きさの異なる被加工物を各カセットに収容し、これらカセット部を容易に着脱することができる。これにより、被加工物のサイズ変更を行う場合には、複数のカセット部に所望の大きさの被加工物を予め収容しておくことで、カセットを載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。   According to this configuration, a plurality of cassette portions having different side wall intervals are provided, and by making these cassette portions detachable, workpieces having different sizes can be accommodated in each cassette, and these cassette portions can be easily attached and detached. can do. As a result, when changing the size of the workpiece, by storing the workpieces of a desired size in a plurality of cassette portions in advance, the work of replacing the cassette becomes unnecessary, and the operator's work The burden can be reduced.

この構成において、該第1カセット部と該第2カセット部とは、連結プレートを介して着脱可能に構成されてもよい。また、該被加工物は、環状のフレームの開口に粘着テープで支持されたフレームユニットの形態でガイドレールに保持されてもよい。   In this configuration, the first cassette portion and the second cassette portion may be configured to be detachable via a connecting plate. The workpiece may be held on the guide rail in the form of a frame unit supported by an adhesive tape at the opening of the annular frame.

本発明によれば、側壁の間隔が異なる複数のカセット部を備え、これらカセット部を着脱可能とすることにより、大きさの異なる被加工物を各カセットに収容し、これらカセット部を容易に着脱することができる。これにより、被加工物のサイズ変更を行う場合には、複数のカセット部に所望の大きさの被加工物を予め収容しておくことで、カセットを載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。   According to the present invention, by providing a plurality of cassette portions with different side wall intervals and making these cassette portions detachable, workpieces having different sizes can be accommodated in each cassette, and these cassette portions can be easily attached and detached. can do. As a result, when changing the size of the workpiece, by storing the workpieces of a desired size in a plurality of cassette portions in advance, the work of replacing the cassette becomes unnecessary, and the operator's work The burden can be reduced.

図1は、第1実施形態に係るカセットが搭載された加工装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a processing apparatus on which a cassette according to the first embodiment is mounted. 図2は、第1実施形態に係るカセットの分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the cassette according to the first embodiment. 図3は、カセットの側断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of the cassette. 図4は、第2実施形態に係るカセットの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of a cassette according to the second embodiment. 図5は、カセットの分解斜視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view of the cassette. 図6は、カセットの側断面図である。FIG. 6 is a side sectional view of the cassette. 図7は、第2カセット部と第1カセット部との連結構成を示す拡大斜視図である。FIG. 7 is an enlarged perspective view showing a connection configuration between the second cassette portion and the first cassette portion. 図8−1は、連結穴と連結片との連結動作を示す模式図である。FIG. 8A is a schematic diagram illustrating a connecting operation between the connecting hole and the connecting piece. 図8−2は、連結穴と連結片との連結動作を示す模式図である。FIG. 8-2 is a schematic diagram illustrating a connecting operation between the connecting hole and the connecting piece. 図8−3は、連結穴と連結片との連結動作を示す模式図である。FIG. 8-3 is a schematic diagram illustrating a connection operation between the connection hole and the connection piece. 図9−1は、被加工物の一例としての第2パッケージ基板を示す図である。FIG. 9A is a diagram illustrating a second package substrate as an example of a workpiece. 図9−2は、被加工物の一例としての第1パッケージ基板を示す図である。FIG. 9-2 is a diagram illustrating a first package substrate as an example of a workpiece.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.

[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係るカセットが搭載された加工装置の斜視図である。加工装置1は、例えば円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハなどのウエーハW(被加工物)に対して切削加工を行う装置である。被加工物には、円板状のウエーハWだけでなく、矩形状に形成されたパッケージ基板、セラミクス基板、ガラス基板などが含まれる。加工装置1は、図1に示すように、直方体状の基台2に配置され、上記ウエーハWを有するウエーハユニット(フレームユニット)WUを保持するチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持されたウエーハユニットWUのウエーハWに対して切削加工をする切削ユニット20とを備える。本構成では、被加工物としてのウエーハWは、第1ウエーハW1と、第1ウエーハW1よりも小さく形成される第2ウエーハW2を含む。同様に、ウエーハユニットWUは、第1ウエーハW1を有する第1ウエーハユニットWU1と、第2ウエーハW2を有し、第1ウエーハユニットWU1よりも小さく形成される第2ウエーハユニットWU2を含む。なお、第1ウエーハW1と第2ウエーハW2とを区別しない場合には、単にウエーハWと記載する。ウエーハユニットWUについても同様である。また、ウエーハWの大きさとしては、例えば、直径200mmや300mmのものが挙げられる。また、ウエーハユニットWUの大きさとしては、例えば、直径230mm、300mmまたは400mmのものが挙げられる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view of a processing apparatus on which a cassette according to the first embodiment is mounted. The processing apparatus 1 is an apparatus that performs a cutting process on a wafer W (workpiece) such as a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer. The workpiece includes not only the disk-shaped wafer W but also a package substrate, a ceramic substrate, a glass substrate and the like formed in a rectangular shape. As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 is disposed on a rectangular parallelepiped base 2 and holds a wafer unit (frame unit) WU having the wafer W, and a wafer held by the chuck table 10. And a cutting unit 20 for cutting the wafer W of the unit WU. In this configuration, the wafer W as a workpiece includes a first wafer W1 and a second wafer W2 formed smaller than the first wafer W1. Similarly, the wafer unit WU includes a first wafer unit WU1 having a first wafer W1, and a second wafer unit WU2 having a second wafer W2 and being smaller than the first wafer unit WU1. In addition, when not distinguishing the 1st wafer W1 and the 2nd wafer W2, it describes only as the wafer W. The same applies to the wafer unit WU. Moreover, as a magnitude | size of the wafer W, the diameter of 200 mm and 300 mm is mentioned, for example. Moreover, as a magnitude | size of the wafer unit WU, a thing with a diameter of 230 mm, 300 mm, or 400 mm is mentioned, for example.

また、加工装置1は、切削加工前後の第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ収容するカセット30が載置されるカセット載置機構(カセット載置台)40と、切削加工後のウエーハユニットWUを洗浄する洗浄部50とを備える。カセット載置機構40は、該カセット載置機構40上に載置されたカセット30をZ軸方向(鉛直方向)に昇降させる。また、加工装置1は、カセット30とチャックテーブル10との間でウエーハユニットWUを搬送するカセット搬送部60と、チャックテーブル10と洗浄部50との間でウエーハユニットWUを搬送する洗浄搬送部70とを備える。   Further, the processing apparatus 1 includes a cassette mounting mechanism (cassette mounting table) 40 on which a cassette 30 that houses the first wafer unit WU1 and the second wafer unit WU2 before and after the cutting process is mounted, and a wafer after the cutting process. And a cleaning unit 50 for cleaning the unit WU. The cassette placing mechanism 40 moves the cassette 30 placed on the cassette placing mechanism 40 up and down in the Z-axis direction (vertical direction). Further, the processing apparatus 1 includes a cassette transport unit 60 that transports the wafer unit WU between the cassette 30 and the chuck table 10, and a cleaning transport unit 70 that transports the wafer unit WU between the chuck table 10 and the cleaning unit 50. With.

第1ウエーハユニットWU1は、図1に示すように、円環状に形成された第1フレームF1と、この第1フレームF1の開口Fa1に配置される円板形状に形成された第1ウエーハW1と、この第1ウエーハW1及び第1フレームF1の裏面に貼着された粘着テープTとを備える。本実施形態では、第1ウエーハW1は、粘着テープTによって第1フレームF1の開口Fa1に保持される。第1ウエーハW1は、その表面に格子状に形成されたストリート(分割予定ライン)によって区画された多数の領域にIC、LSI等のデバイスが形成されている。第2ウエーハユニットWU2は、第1ウエーハユニットWU1と比べて大きさ(サイズ)が小さく形成されている点で異なる。具体的には、第2ウエーハW2は第1ウエーハW1よりも小さく形成され、同様に第2フレームF2及び開口Fa2も第1フレームF1及び開口Fa1よりも小さく形成されている。その他の構成については、同等であるため説明を省略する。   As shown in FIG. 1, the first wafer unit WU1 includes a first frame F1 formed in an annular shape, and a first wafer W1 formed in a disk shape disposed in the opening Fa1 of the first frame F1. The first wafer W1 and the adhesive tape T attached to the back surface of the first frame F1 are provided. In the present embodiment, the first wafer W1 is held by the adhesive tape T in the opening Fa1 of the first frame F1. The first wafer W1 has devices such as ICs and LSIs formed in a large number of regions partitioned by streets (division lines) formed in a lattice pattern on the surface. The second wafer unit WU2 is different in that the size (size) is smaller than that of the first wafer unit WU1. Specifically, the second wafer W2 is formed smaller than the first wafer W1, and similarly, the second frame F2 and the opening Fa2 are also formed smaller than the first frame F1 and the opening Fa1. Other configurations are the same and will not be described.

チャックテーブル10は、上記した基台2に、X軸方向(切削送り方向)に移動可能に設けられている。チャックテーブル10は、ウエーハユニットWUが載置されて吸引される保持面11を有している。また、チャックテーブル10は、図示しない回転機構によってZ軸を回転軸に回動可能に構成されている。   The chuck table 10 is provided on the base 2 so as to be movable in the X-axis direction (cutting feed direction). The chuck table 10 has a holding surface 11 on which the wafer unit WU is placed and sucked. The chuck table 10 is configured to be rotatable about the Z axis as a rotation axis by a rotation mechanism (not shown).

また、基台2の上面には、Y軸方向(割出方向)に沿ってそれぞれ延在するとともに、チャックテーブル10を跨いで配置される門型の支持構造12,14が設けられている。一方の支持構造14には、切削ユニット20が、Y軸方向(割出方向)及びZ軸方向(鉛直方向)にそれぞれ移動可能に設けられている。切削ユニット20は、回転駆動される回転スピンドル(不図示)に装着された切削ブレード21を備え、この切削ブレード21が回転しつつ、Z軸方向に下降することにより、ウエーハWの表面に切削加工が行われる。なお、図1に示す加工装置1では、加工手段として、切削ブレード21を備える切削ユニット20を例示したが、ウエーハWに対して、レーザー光線を照射することで該ウエーハWにレーザー加工を行うレーザー照射部を加工手段として備える構成としてもよい。   Further, on the upper surface of the base 2, portal-type support structures 12 and 14 are provided that extend along the Y-axis direction (index direction) and are disposed across the chuck table 10. One support structure 14 is provided with a cutting unit 20 movably in the Y-axis direction (index direction) and the Z-axis direction (vertical direction). The cutting unit 20 includes a cutting blade 21 mounted on a rotating spindle (not shown) that is driven to rotate, and the cutting blade 21 descends in the Z-axis direction while rotating, thereby cutting the surface of the wafer W. Is done. In the processing apparatus 1 shown in FIG. 1, the cutting unit 20 including the cutting blade 21 is exemplified as the processing means. However, laser irradiation is performed on the wafer W by irradiating the wafer W with a laser beam. It is good also as a structure provided with a part as a process means.

また、他方の支持構造12には、カセット搬送部60が設けられている。このカセット搬送部60は、ウエーハユニットWUを上記した割出方向と平行となるY軸方向(搬出入方向)に沿ってカセット30に搬送する。カセット搬送部60は、支持構造12の側面に配置され、Y軸方向に平行なガイドレール61と、このガイドレール61上をスライド移動可能な移動ユニット62とを備える。移動ユニット62は、ガイドレール61との対向面側にナット部(不図示)を備え、このナット部は、ガイドレール61に設けられるボールねじ61Aに進退自在に取り付けられている。ボールねじ61Aの一端部には、パルスモータ(不図示)が連結されており、パルスモータでボールねじ61Aを回転させると、移動ユニット62はガイドレール61に沿ってY軸方向に移動する。また、移動ユニット62は、Z軸方向(鉛直方向)下方に延びるシリンダ部63と、このシリンダ部63の下端部に連結される保持部64と、この保持部64に設けられる把持部65とを備える。シリンダ部63は、Z軸方向(鉛直方向)に伸縮し、保持部64及び把持部65のZ軸方向の高さ位置を調整する。保持部64はH字形状に形成されており、該保持部64の先端の下部には、それぞれバキュームパッド(不図示)が設けられている。このバキュームパッドは、ウエーハユニットWUのフレームFの表面を吸引することでウエーハユニットWUを保持する。把持部65は、カセット30と対向してY軸方向の先端部に設けられ、ウエーハユニットWUのフレームFの縁部を把持する。ウエーハユニットWUは、把持部65により把持され、ウエーハユニットWUをカセット30から後述するレール13に搬出、もしくは、レール13からカセット30に搬入する。   The other support structure 12 is provided with a cassette transport section 60. The cassette transport unit 60 transports the wafer unit WU to the cassette 30 along the Y-axis direction (carrying in / out direction) parallel to the above-described indexing direction. The cassette transport unit 60 includes a guide rail 61 that is disposed on the side surface of the support structure 12 and is parallel to the Y-axis direction, and a moving unit 62 that is slidable on the guide rail 61. The moving unit 62 includes a nut portion (not shown) on the side facing the guide rail 61, and this nut portion is attached to a ball screw 61 </ b> A provided on the guide rail 61 so as to freely advance and retract. A pulse motor (not shown) is connected to one end of the ball screw 61A. When the ball screw 61A is rotated by the pulse motor, the moving unit 62 moves along the guide rail 61 in the Y-axis direction. The moving unit 62 includes a cylinder portion 63 that extends downward in the Z-axis direction (vertical direction), a holding portion 64 that is coupled to the lower end portion of the cylinder portion 63, and a gripping portion 65 that is provided on the holding portion 64. Prepare. The cylinder part 63 expands and contracts in the Z-axis direction (vertical direction), and adjusts the height position of the holding part 64 and the grip part 65 in the Z-axis direction. The holding part 64 is formed in an H shape, and a vacuum pad (not shown) is provided at the lower part of the tip of the holding part 64. This vacuum pad holds the wafer unit WU by sucking the surface of the frame F of the wafer unit WU. The gripping portion 65 is provided at the front end portion in the Y-axis direction so as to face the cassette 30 and grips the edge portion of the frame F of the wafer unit WU. The wafer unit WU is gripped by the gripping portion 65, and the wafer unit WU is carried out from the cassette 30 to the rail 13 described later or from the rail 13 into the cassette 30.

洗浄搬送部70は、カセット搬送部60と同様に、支持構造12に設けられ、ウエーハユニットWUを上記した割出方向と平行となるY軸方向(搬出入方向)に沿って洗浄部50に搬送する。洗浄搬送部70は、支持構造12の側面に配置され、Y軸方向に平行なガイドレール71と、このガイドレール71上をスライド移動可能な移動ユニット72とを備える。移動ユニット72は、ガイドレール71との対向面側にナット部(不図示)を備え、このナット部は、ガイドレール71に設けられるボールねじ71Aに進退自在に取り付けられている。ボールねじ71Aの一端部には、パルスモータ(不図示)が連結されており、パルスモータでボールねじ71Aを回転させると、移動ユニット72はガイドレール71に沿ってY軸方向に移動する。また、移動ユニット72は、ガイドレール71からX軸方向に延びるアーム部73と、このアーム部73の先端からZ軸方向(鉛直方向)下方に延びるシリンダ部74と、このシリンダ部74の下端に設けられる保持部75とを備える。この保持部75は、H字形状に形成され、該保持部75の先端の下部には、それぞれバキュームパッド(不図示)が設けられる。このバキュームパッドは、ウエーハユニットWUのフレームFの表面を吸引することでウエーハユニットWUを保持する。シリンダ部74は、Z軸方向(鉛直方向)に伸縮し、保持部75のZ軸方向の高さ位置を調整する。   As with the cassette transport unit 60, the cleaning transport unit 70 is provided on the support structure 12, and transports the wafer unit WU to the cleaning unit 50 along the Y-axis direction (the carry-in / out direction) parallel to the indexing direction described above. To do. The cleaning and conveying unit 70 includes a guide rail 71 that is disposed on the side surface of the support structure 12 and is parallel to the Y-axis direction, and a moving unit 72 that is slidable on the guide rail 71. The moving unit 72 includes a nut portion (not shown) on the side facing the guide rail 71, and this nut portion is attached to a ball screw 71 </ b> A provided on the guide rail 71 so as to freely advance and retract. A pulse motor (not shown) is connected to one end of the ball screw 71A. When the ball screw 71A is rotated by the pulse motor, the moving unit 72 moves in the Y-axis direction along the guide rail 71. The moving unit 72 includes an arm portion 73 extending from the guide rail 71 in the X-axis direction, a cylinder portion 74 extending downward from the tip of the arm portion 73 in the Z-axis direction (vertical direction), and a lower end of the cylinder portion 74. The holding part 75 provided is provided. The holding portion 75 is formed in an H shape, and a vacuum pad (not shown) is provided at the lower part of the tip of the holding portion 75. This vacuum pad holds the wafer unit WU by sucking the surface of the frame F of the wafer unit WU. The cylinder part 74 extends and contracts in the Z-axis direction (vertical direction), and adjusts the height position of the holding part 75 in the Z-axis direction.

本実施形態では、カセット30及び洗浄部50は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70の搬送経路上に位置しており、チャックテーブル10がX軸方向に移動可能な領域を挟んで、基台2の両側に配置されている。また、カセット30は、カセット搬送部60側に開口して形成され、洗浄部50は、上面が開口して形成されている。カセット30と洗浄部50との間には、ウエーハユニットWUが一時的に仮置きされる一対のレール13,13が設けられる。このレール13,13上には、カセット搬送部60の把持部65によりカセット30から搬出される未加工のウエーハユニットWU、または、カセット30に搬入される加工後のウエーハユニットWUが仮置きされる。レール13,13上に仮置きされた未加工のウエーハユニットWUは、カセット搬送部60の保持部64のバキュームパッドにより吸引保持され、レール13上からチャックテーブル10に搬送される。チャックテーブル10上で切削加工がなされたウエーハユニットWUは、洗浄搬送部70の保持部75のバキュームパッドにより吸引保持され、洗浄部50に搬送される。洗浄部50で洗浄されたウエーハユニットWUは、カセット搬送部60の保持部64のバキュームパッドにより吸引保持され、洗浄部50からレール13上に仮置きされる。また、レール13,13は、互いに近接または離間するようにX軸方向に移動可能に構成される。レール13,13は、ウエーハユニットWUを載置した状態で互いに近接することで、ウエーハユニットWUの中心位置が所定の位置に位置付けられ、チャックテーブル10への搬送時にはチャックテーブル10の中心とウエーハユニットWUの中心とを合わせることができる。同様に、レール13,13は、ウエーハユニットWUを載置した状態で互いに近接することで、カセット30の中心とウエーハユニットWUの中心とも合わせることができる。   In the present embodiment, the cassette 30 and the cleaning unit 50 are located on the transport path of the cassette transport unit 60 and the cleaning transport unit 70, and the base is sandwiched by an area where the chuck table 10 can move in the X-axis direction. 2 on both sides. Further, the cassette 30 is formed with an opening on the cassette transport unit 60 side, and the cleaning unit 50 is formed with an upper surface opened. A pair of rails 13 and 13 on which the wafer unit WU is temporarily placed are provided between the cassette 30 and the cleaning unit 50. On the rails 13 and 13, an unprocessed wafer unit WU unloaded from the cassette 30 by the gripping unit 65 of the cassette transport section 60 or a processed wafer unit WU loaded into the cassette 30 is temporarily placed. . The unprocessed wafer unit WU temporarily placed on the rails 13 and 13 is sucked and held by the vacuum pad of the holding unit 64 of the cassette transfer unit 60 and transferred from the rail 13 to the chuck table 10. The wafer unit WU that has been cut on the chuck table 10 is sucked and held by the vacuum pad of the holding unit 75 of the cleaning transfer unit 70 and transferred to the cleaning unit 50. The wafer unit WU cleaned by the cleaning unit 50 is sucked and held by the vacuum pad of the holding unit 64 of the cassette transport unit 60 and temporarily placed on the rail 13 from the cleaning unit 50. Further, the rails 13 and 13 are configured to be movable in the X-axis direction so as to approach or separate from each other. The rails 13 and 13 come close to each other with the wafer unit WU placed thereon, so that the center position of the wafer unit WU is positioned at a predetermined position. The center of the WU can be aligned. Similarly, the rails 13 and 13 can be aligned with the center of the cassette 30 and the center of the wafer unit WU by being close to each other with the wafer unit WU mounted thereon.

ところで、この種の加工装置1では、加工対象となるウエーハWの大きさが変更されることがある。この場合、一般的には、変更前のウエーハWを収容するカセットを加工装置1のカセット載置機構40から取り外し、大きさが異なるウエーハWを収容する別のカセットが新たにカセット載置機構40に搭載される。このように、ウエーハWの大きさを変更する度に、カセットを変更する作業を要するため、この変更作業により加工動作が中断され、作業員の負担が増大すると共に、ウエーハWの加工効率が低減する問題が生じるおそれがある。特に、少量多品種のウエーハWの加工を行う加工装置1では、ウエーハWのサイズ変更が頻繁に行われるが、この場合、例えば25段のガイドレールを有する一般的なカセットに、数枚のみのウエーハWが収容されることも多く、作業員の作業負担が増大することが多い。   By the way, in this kind of processing apparatus 1, the size of the wafer W to be processed may be changed. In this case, generally, the cassette for storing the wafer W before the change is removed from the cassette mounting mechanism 40 of the processing apparatus 1, and another cassette for storing the wafer W having a different size is newly added to the cassette mounting mechanism 40. Mounted on. As described above, every time the size of the wafer W is changed, an operation of changing the cassette is required. Therefore, the processing operation is interrupted by the change operation, and the burden on the worker is increased, and the processing efficiency of the wafer W is reduced. May cause problems. In particular, in the processing apparatus 1 that processes a small amount of various types of wafers W, the size of the wafer W is frequently changed. In this case, for example, only a few sheets are provided in a general cassette having 25-step guide rails. In many cases, the wafer W is accommodated, and the work load of the worker is often increased.

本構成では、大きさの異なるウエーハWを収容できるカセットの構成に特徴を有する。次に、カセット30について説明する。図2は、第1実施形態に係るカセットの分解斜視図であり、図3は、カセットの側断面図である。カセット30は、図2に示すように、第1カセット部80と、第2カセット部90と、これら第1カセット部80及び第2カセット部90を連結する連結プレート100とを備える。第1実施形態では、第1カセット部80は、第2カセット部90よりも幅方向(X軸方向)及び奥行方向(Y軸方向)に大きく形成されている。また、第1カセット部80は、カセット載置機構40に載置され、この第1カセット部80の上に、連結プレート100を介して、第2カセット部90が連結されている。   This structure is characterized by the structure of a cassette that can accommodate wafers W of different sizes. Next, the cassette 30 will be described. FIG. 2 is an exploded perspective view of the cassette according to the first embodiment, and FIG. 3 is a side sectional view of the cassette. As shown in FIG. 2, the cassette 30 includes a first cassette unit 80, a second cassette unit 90, and a connecting plate 100 that connects the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90. In the first embodiment, the first cassette unit 80 is formed larger than the second cassette unit 90 in the width direction (X-axis direction) and the depth direction (Y-axis direction). The first cassette unit 80 is mounted on the cassette mounting mechanism 40, and the second cassette unit 90 is connected to the first cassette unit 80 via the connection plate 100.

第1カセット部80は、図3に示すように、上壁81と、底壁82と、一対の側壁83,83と、これら上壁81、底壁82及び側壁83,83で形成された開口を塞ぐ奥壁84(図2)を備えて構成される。側壁83,83は、第1の間隔L1を空けて平行に対向配置されて、上壁81と底壁82とを連結する。また、側壁83,83の各内面83A,83Aには、第1ウエーハユニットWU1を支持する複数段のガイドレール85が形成されている。第1カセット部80の正面側には、開口80Aが形成され、この開口80Aを通じて、第1ウエーハユニットWU1が搬入または搬出される。上壁81の上面81Aには、上方に突出した突出部86が設けられ、この突出部86にハンドル87が取り付けられている。このハンドル87は、突出部86の周囲に倒れるようになっている。また、上壁81の上面81Aには、例えば、側壁83,83の上方に位置する縁部に位置決めピン88が設けられている。この位置決めピン88は、第1カセット部80と連結プレート100とを連結する際の位置決めをするものである。また、底壁82の底面82Aには、例えば、側壁83,83の下方に位置する縁部に、位置決め穴89が設けられている。この位置決め穴89は、第1カセット部80を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、カセット載置機構40に設けられた位置決めピン41に嵌る位置、大きさに形成されている。これにより、カセット載置機構40の位置決めピン41に位置決め穴89が嵌るように、第1カセット部80を配置することで、第1カセット部80をカセット載置機構40上の規定の位置に容易に設置することができる。   As shown in FIG. 3, the first cassette unit 80 includes an upper wall 81, a bottom wall 82, a pair of side walls 83, 83, and an opening formed by the upper wall 81, the bottom wall 82, and the side walls 83, 83. The back wall 84 (FIG. 2) which closes is comprised. The side walls 83, 83 are opposed to each other in parallel with a first interval L 1, and connect the upper wall 81 and the bottom wall 82. Further, a plurality of guide rails 85 for supporting the first wafer unit WU1 are formed on the inner surfaces 83A and 83A of the side walls 83 and 83, respectively. An opening 80A is formed on the front side of the first cassette unit 80, and the first wafer unit WU1 is carried in or out through the opening 80A. On the upper surface 81 </ b> A of the upper wall 81, a protruding portion 86 protruding upward is provided, and a handle 87 is attached to the protruding portion 86. The handle 87 is configured to fall around the protrusion 86. Further, on the upper surface 81A of the upper wall 81, for example, positioning pins 88 are provided at the edge portions located above the side walls 83, 83. The positioning pins 88 are used for positioning when the first cassette unit 80 and the connecting plate 100 are connected. In addition, a positioning hole 89 is provided in the bottom surface 82A of the bottom wall 82, for example, at an edge located below the side walls 83, 83. The positioning hole 89 is for installing the first cassette unit 80 at a predetermined position, and is formed, for example, at a position and size that fits the positioning pin 41 provided in the cassette mounting mechanism 40. As a result, the first cassette unit 80 is arranged so that the positioning holes 89 fit into the positioning pins 41 of the cassette mounting mechanism 40, so that the first cassette unit 80 can be easily placed at a specified position on the cassette mounting mechanism 40. Can be installed.

第2カセット部90は、図3に示すように、上壁91と、底壁92と、一対の側壁93,93と、これら上壁91、底壁92及び側壁93,93で形成された開口を塞ぐ奥壁94(図2)を備えて構成される。側壁93,93は、第1カセット部80の第1の間隔L1よりも小さい第2の間隔L2を空けて平行に対向配置されて、上壁91と底壁92とを連結する。また、側壁93,93の各内面93A,93Aには、第2ウエーハユニットWU2を支持する複数段のガイドレール95が形成されている。第2カセット部90の正面側には、開口90Aが形成され、この開口90Aを通じて、第2ウエーハユニットWU2が搬入または搬出される。上壁91の上面91Aには、上方に突出した突出部96が設けられ、この突出部96にハンドル97が取り付けられている。このハンドル97は、突出部96の周囲に倒れるようになっている。また、上壁91の上面91Aには、例えば、側壁93,93の上方に位置する縁部に位置決めピン98が設けられている。また、底壁92の底面92Aには、例えば、側壁93,93の下方に位置する縁部に、位置決め穴99が設けられている。この位置決め穴99は、第2カセット部90を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、連結プレート100に設けられた第2カセット用位置決めピン103に嵌る位置、大きさに形成されている。   As shown in FIG. 3, the second cassette unit 90 includes an upper wall 91, a bottom wall 92, a pair of side walls 93, 93, and an opening formed by the upper wall 91, the bottom wall 92, and the side walls 93, 93. The back wall 94 (FIG. 2) which closes is comprised. The side walls 93, 93 are arranged to face each other in parallel with a second interval L 2 that is smaller than the first interval L 1 of the first cassette unit 80, and connect the upper wall 91 and the bottom wall 92. A plurality of stages of guide rails 95 that support the second wafer unit WU2 are formed on the inner surfaces 93A and 93A of the side walls 93 and 93, respectively. An opening 90A is formed on the front side of the second cassette unit 90, and the second wafer unit WU2 is carried in or out through the opening 90A. A protrusion 96 protruding upward is provided on the upper surface 91 </ b> A of the upper wall 91, and a handle 97 is attached to the protrusion 96. The handle 97 is configured to fall around the protrusion 96. Further, on the upper surface 91A of the upper wall 91, for example, a positioning pin 98 is provided at an edge located above the side walls 93, 93. In addition, a positioning hole 99 is provided on the bottom surface 92A of the bottom wall 92, for example, at an edge located below the side walls 93, 93. The positioning hole 99 is for installing the second cassette portion 90 at a predetermined position. For example, the positioning hole 99 is formed at a position and size that fits in the second cassette positioning pin 103 provided in the connecting plate 100. Yes.

連結プレート100は、第1カセット部80と第2カセット部90とを規定の位置に位置決めした状態で連結するための部材である。連結プレート100は、図2に示すように、第1カセット部80の上壁81と同等の大きさを有する板材として構成される。連結プレート100の底面100Aには、図3に示すように、第1カセット部80の位置決めピン88に対応する位置に該位置決めピン88が嵌る位置決め穴101が形成されている。また、連結プレート100の底面100Aには、第1カセット部80の突出部86及びハンドル87に対応する位置に、該突出部86及びハンドル87を避ける凹部102が形成されている。この凹部102は、突出部86及びハンドル87と干渉しない大きさ及び深さ(高さ)を有し、第1カセット部80と連結プレート100との間に隙間を生じることなく第1カセット部80と連結プレート100とを連結する。また、連結プレート100の上面100Bには、第2カセット部90の位置決め穴99に嵌る第2カセット用位置決めピン103が設けられている。この第2カセット用位置決めピン103は、第2カセット部90の位置決め穴99に嵌るものであり、図3に示すように、第1カセット部80及び第2カセット部90の幅方向中心線Sを合致させた規定の位置に容易に設置することができる。なお、連結プレート100の上面100Bには、第1カセット部80の位置決め穴89に嵌る第1カセット用位置決めピン104も設けられている。この第1カセット用位置決めピン104は、連結プレート100に第1カセット部80を連結する際に用いられる。   The connecting plate 100 is a member for connecting the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90 in a state where they are positioned at a predetermined position. As shown in FIG. 2, the connecting plate 100 is configured as a plate material having a size equivalent to the upper wall 81 of the first cassette unit 80. As shown in FIG. 3, a positioning hole 101 into which the positioning pin 88 is fitted is formed in the bottom surface 100 </ b> A of the connecting plate 100 at a position corresponding to the positioning pin 88 of the first cassette unit 80. In addition, a recess 102 that avoids the protrusion 86 and the handle 87 is formed on the bottom surface 100 </ b> A of the connecting plate 100 at a position corresponding to the protrusion 86 and the handle 87 of the first cassette portion 80. The recess 102 has a size and depth (height) that does not interfere with the protruding portion 86 and the handle 87, and the first cassette portion 80 does not generate a gap between the first cassette portion 80 and the connecting plate 100. And the connecting plate 100 are connected. A second cassette positioning pin 103 that fits into the positioning hole 99 of the second cassette portion 90 is provided on the upper surface 100 </ b> B of the connection plate 100. This second cassette positioning pin 103 fits into the positioning hole 99 of the second cassette portion 90, and as shown in FIG. 3, the width direction center line S of the first cassette portion 80 and the second cassette portion 90 is It can be easily installed at the specified position matched. A first cassette positioning pin 104 that fits into the positioning hole 89 of the first cassette unit 80 is also provided on the upper surface 100 </ b> B of the connecting plate 100. The first cassette positioning pins 104 are used when connecting the first cassette unit 80 to the connecting plate 100.

上記した構成では、カセット30は、側壁の間隔が異なる第1カセット部80と第2カセット部90とを備え、これら第1カセット部80と第2カセット部90とを位置決めピンを用いて着脱可能としたことにより、大きさの異なる第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ第1カセット部80及び第2カセット部90に収容し、これら第1カセット部80及び第2カセット部90を容易に着脱することができる。これにより、ウエーハユニットWのサイズを変更して加工を行う場合には、予め第1カセット部80及び第2カセット部90にそれぞれ第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2を収容しておくことで、従来のようにカセットをカセット載置機構40に載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。また、ウエーハユニットWUの大きさに合わせて、異なる大きさのカセットを所有する必要が無く、コストやカセット収容エリアの削減を図ることができる。   In the above-described configuration, the cassette 30 includes the first cassette portion 80 and the second cassette portion 90 having different side wall intervals, and the first cassette portion 80 and the second cassette portion 90 can be attached and detached using positioning pins. Accordingly, the first wafer unit WU1 and the second wafer unit WU2 having different sizes are accommodated in the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90, respectively, and the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90 are accommodated. It can be easily attached and detached. As a result, when processing is performed with the wafer unit W being changed in size, the first wafer unit WU1 and the second wafer unit WU2 are respectively stored in the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90 in advance. Thus, it is not necessary to replace the cassette with the cassette mounting mechanism 40 as in the prior art, and the burden on the operator can be reduced. Further, it is not necessary to own a cassette having a different size in accordance with the size of the wafer unit WU, and the cost and the cassette accommodation area can be reduced.

また、上記した構成では、第1カセット部80及び第2カセット部90は、それぞれ数段(図3では5段)のガイドレールを備えた構成としているが、例えば、複数のカセット部を重ねた際に、各カセット部のガイドレールを加算した合計の段数が、一般に用いられるカセットの段数(例えば25段)と同等、もしくは、少なくなるように形成することが好ましい。この構成によれば、複数のカセット部を連結したカセットをカセット載置機構40に設置して使用することが可能となる。   In the above-described configuration, each of the first cassette unit 80 and the second cassette unit 90 includes a plurality of stages (five levels in FIG. 3) of guide rails. For example, a plurality of cassette sections are stacked. At this time, it is preferable that the total number of stages including the guide rails of each cassette portion is formed so as to be equal to or less than the number of generally used cassette stages (for example, 25 stages). According to this configuration, it is possible to install and use a cassette in which a plurality of cassette units are connected to the cassette mounting mechanism 40.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態に係るカセットについて説明する。図4は、第2実施形態に係るカセットの斜視図であり、図5は、カセットの分解斜視図であり、図6は、カセットの側断面図である。カセット130は、図4及び図5に示すように、第1カセット部110と、第2カセット部120とを備える。第2実施形態では、第1カセット部110は、第2カセット部120よりも幅方向(X軸方向)及び奥行方向(Y軸方向)に大きく形成されている。また、第1カセット部110は、図6に示すように、カセット載置機構40に載置され、この第1カセット部110の上に第2カセット部120が連結されている。
[Second Embodiment]
Next, a cassette according to the second embodiment will be described. 4 is a perspective view of the cassette according to the second embodiment, FIG. 5 is an exploded perspective view of the cassette, and FIG. 6 is a side sectional view of the cassette. As shown in FIGS. 4 and 5, the cassette 130 includes a first cassette unit 110 and a second cassette unit 120. In the second embodiment, the first cassette unit 110 is formed larger than the second cassette unit 120 in the width direction (X-axis direction) and the depth direction (Y-axis direction). Further, as shown in FIG. 6, the first cassette unit 110 is mounted on the cassette mounting mechanism 40, and the second cassette unit 120 is connected to the first cassette unit 110.

第1カセット部110は、図6に示すように、上壁111と、底壁112と、一対の側壁113,113と、これら上壁111、底壁112及び側壁113,113で形成された開口を塞ぐ奥壁114(図4)を備えて構成される。側壁113,113は、第1の間隔L1を空けて平行に対向配置されて、上壁111と底壁112とを連結する。また、側壁113,113の各内面113A,113Aには、第1ウエーハユニットWU1を支持する複数段のガイドレール115が形成されている。第1カセット部110の正面側には、開口110Aが形成され、この開口110Aを通じて、第1ウエーハユニットWU1が搬入または搬出される。上壁111は、少なくとも側壁113,113側の縁部が該側壁113よりも外側に出張って形成される。上壁111の上面111Aには、上方に突出した突出部116が設けられ、この突出部116にハンドル117が取り付けられている。このハンドル117は、突出部116の周囲に倒れるようになっている。また、上壁111の上面111Aには、第2カセット部120と連結するための連結穴140が複数(例えば4つ)設けられている。これらの連結穴140は、少なくとも第2カセット部120の底壁122(後述する)の投影面積よりも小さな領域内に形成されている。また、上壁111の上面111Aには、一方の側壁側に、第2カセット用位置決め部材150と、第1カセット用位置決め部材160とが並んで形成されている。この連結穴140、第2カセット用位置決め部材150及び第1カセット用位置決め部材160については後述する。   As shown in FIG. 6, the first cassette unit 110 includes an upper wall 111, a bottom wall 112, a pair of side walls 113, 113, and openings formed by the upper wall 111, the bottom wall 112, and the side walls 113, 113. And a back wall 114 (FIG. 4) is provided. The side walls 113, 113 are arranged to face each other in parallel with a first interval L 1, and connect the upper wall 111 and the bottom wall 112. A plurality of guide rails 115 that support the first wafer unit WU1 are formed on the inner surfaces 113A and 113A of the side walls 113 and 113, respectively. An opening 110A is formed on the front side of the first cassette unit 110, and the first wafer unit WU1 is carried in or out through the opening 110A. The upper wall 111 is formed such that at least the edge on the side wall 113, 113 side travels outside the side wall 113. A protrusion 116 protruding upward is provided on the upper surface 111A of the upper wall 111, and a handle 117 is attached to the protrusion 116. The handle 117 is configured to fall around the protrusion 116. In addition, a plurality (for example, four) of connection holes 140 for connecting to the second cassette unit 120 are provided on the upper surface 111A of the upper wall 111. These connection holes 140 are formed in a region smaller than at least the projected area of the bottom wall 122 (described later) of the second cassette unit 120. Further, on the upper surface 111A of the upper wall 111, a second cassette positioning member 150 and a first cassette positioning member 160 are formed side by side on one side wall side. The connecting hole 140, the second cassette positioning member 150, and the first cassette positioning member 160 will be described later.

また、底壁112の底面112Aには、上記した連結穴140に対応する位置に連結片145が設けられている。この連結片145は、第1カセット部110を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、カセット載置機構40に設けられた穴部42に嵌ることにより、カセット載置機構40上の規定の位置に第1カセット部110を容易に設置することができる。また、底壁112の底面112Aには凹部118が形成されている。   Further, a connecting piece 145 is provided on the bottom surface 112 </ b> A of the bottom wall 112 at a position corresponding to the connecting hole 140 described above. The connecting piece 145 is for installing the first cassette unit 110 at a predetermined position. For example, the connecting piece 145 fits into a hole 42 provided in the cassette mounting mechanism 40, so The first cassette unit 110 can be easily installed at a specified position. A recess 118 is formed on the bottom surface 112 </ b> A of the bottom wall 112.

第2カセット部120は、図6に示すように、上壁121と、底壁122と、一対の側壁123,123と、これら上壁121、底壁122及び側壁123,123で形成された開口を塞ぐ奥壁124(図4)を備えて構成される。側壁123,123は、第1カセット部110の第1の間隔L1よりも小さい第2の間隔L2を空けて平行に対向配置されて、上壁121と底壁122とを連結する。また、側壁123,123の各内面123A,123Aには、第2ウエーハユニットWU2を支持する複数段のガイドレール125が形成されている。第2カセット部120の正面側には、開口120Aが形成され、この開口120Aを通じて、第2ウエーハユニットWU2が搬入または搬出される。上壁121は、上記した第1カセット部110の上壁111と同等の大きさ、形状に形成され、上壁121は、少なくとも側壁123,123側の縁部が該側壁123よりも外側に出張って形成される。上壁121の上面121Aには、上方に突出した突出部126が設けられ、この突出部126にハンドル127が取り付けられている。このハンドル127は、突出部126の周囲に倒れるようになっている。また、上壁121の上面121Aにも、第1カセット部110の上壁111と同様に複数の連結穴140が形成されると共に、第2カセット用位置決め部材150と第1カセット用位置決め部材160とが並んで形成されている。これら連結穴140、第2カセット用位置決め部材150及び第1カセット用位置決め部材160は、第1カセット部110の上壁111の連結穴140などと同じ位置に形成されている。   As shown in FIG. 6, the second cassette unit 120 includes an upper wall 121, a bottom wall 122, a pair of side walls 123, 123, and an opening formed by the upper wall 121, the bottom wall 122, and the side walls 123, 123. The rear wall 124 (FIG. 4) is configured to be closed. The side walls 123, 123 are opposed to each other in parallel with a second interval L 2 smaller than the first interval L 1 of the first cassette unit 110, and connect the upper wall 121 and the bottom wall 122. A plurality of guide rails 125 that support the second wafer unit WU2 are formed on the inner surfaces 123A and 123A of the side walls 123 and 123, respectively. An opening 120A is formed on the front side of the second cassette unit 120, and the second wafer unit WU2 is carried in or out through the opening 120A. The upper wall 121 is formed in the same size and shape as the upper wall 111 of the first cassette unit 110 described above, and the upper wall 121 has at least the side wall 123, the edge on the side of the 123 travel outside the side wall 123. Formed. A protrusion 126 protruding upward is provided on the upper surface 121A of the upper wall 121, and a handle 127 is attached to the protrusion 126. The handle 127 is configured to fall around the protrusion 126. In addition, a plurality of connection holes 140 are formed on the upper surface 121A of the upper wall 121 in the same manner as the upper wall 111 of the first cassette unit 110, and the second cassette positioning member 150 and the first cassette positioning member 160 Are formed side by side. The connecting hole 140, the second cassette positioning member 150, and the first cassette positioning member 160 are formed at the same position as the connecting hole 140 of the upper wall 111 of the first cassette unit 110.

また、底壁122の底面122Aには、上記した連結穴140に対応する位置に連結片145が設けられている。この連結片145は、第2カセット部120を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、第1カセット部110の連結穴140と係合して第2カセット部120と第1カセット部110とを連結する。底壁122の底面122Aには第1カセット部110の突出部116及びハンドル117に対応する位置に、該突出部116及びハンドル117を避ける凹部128が形成されている。この凹部128は、突出部116及びハンドル117と干渉しない大きさ及び深さ(高さ)を有し、第1カセット部110の上壁111と第2カセット部120の底壁122との間に隙間を生じることなく第1カセット部110と第2カセット部120とを連結する。   A connecting piece 145 is provided on the bottom surface 122 </ b> A of the bottom wall 122 at a position corresponding to the connecting hole 140 described above. The connecting piece 145 is for installing the second cassette unit 120 at a predetermined position. For example, the connecting piece 145 engages with the connecting hole 140 of the first cassette unit 110 to engage the second cassette unit 120 and the first cassette unit. 110 is connected. On the bottom surface 122A of the bottom wall 122, a recess 128 that avoids the protrusion 116 and the handle 117 is formed at a position corresponding to the protrusion 116 and the handle 117 of the first cassette section 110. The recess 128 has a size and depth (height) that does not interfere with the protrusion 116 and the handle 117, and is between the upper wall 111 of the first cassette unit 110 and the bottom wall 122 of the second cassette unit 120. The 1st cassette part 110 and the 2nd cassette part 120 are connected, without producing a clearance gap.

次に、第2カセット部120と第1カセット部110との連結構成について説明する。図7は、第2カセット部と第1カセット部との連結構成を示す拡大斜視図である。また、図8−1、図8−2及び図8−3は、連結穴と連結片との連結動作を示す模式図である。連結片145は、図7に示すように、第2カセット部の底壁122の底面122A(図6)から下方に突出して形成されている。さらに、連結片145は、第2カセット部120の幅方向(X方向)に突出する爪部145Aを備える。連結穴140は、連結片145よりも大きく形成されて該連結片145が遊嵌される。さらに、連結穴140は、第2カセット部120の幅方向(X方向)に延びる係合穴140Aを有し、連結片145を連結穴140内でスライド移動させると、係合穴140Aに連結片145の爪部145Aが進入する。これにより、連結片145と連結穴140とが係合するため、第2カセット部120と第1カセット部110とが連結される。   Next, a connection configuration between the second cassette unit 120 and the first cassette unit 110 will be described. FIG. 7 is an enlarged perspective view showing a connection configuration between the second cassette portion and the first cassette portion. FIGS. 8A, 8B, and 8C are schematic diagrams illustrating a connection operation between the connection hole and the connection piece. As shown in FIG. 7, the connecting piece 145 is formed to protrude downward from the bottom surface 122A (FIG. 6) of the bottom wall 122 of the second cassette portion. Further, the connecting piece 145 includes a claw portion 145A that protrudes in the width direction (X direction) of the second cassette portion 120. The connection hole 140 is formed larger than the connection piece 145, and the connection piece 145 is loosely fitted thereto. Furthermore, the connecting hole 140 has an engaging hole 140A extending in the width direction (X direction) of the second cassette portion 120. When the connecting piece 145 is slid in the connecting hole 140, the connecting hole 140A is connected to the engaging piece 140A. 145 claw portion 145A enters. Thereby, since the connection piece 145 and the connection hole 140 engage, the 2nd cassette part 120 and the 1st cassette part 110 are connected.

第2カセット用位置決め部材150は、第1カセット部110に連結される第2カセット部120を幅方向(X方向)に位置決めするものであり、図6に示すように、第2カセット部120の一方の側壁123の外面の位置に設けられている。また、第1カセット用位置決め部材160は、第1カセット部110の上に第1カセット部110を連結する際に、この第1カセット部110を幅方向(X方向)に位置決めするものであり、図6に示すように、第1カセット部110の一方の側壁113の外面の位置に設けられている。第1カセット用位置決め部材160と第2カセット用位置決め部材150とは、設けられる位置のみが異なり他の構成は同一なので、第2カセット用位置決め部材150について説明する。第2カセット用位置決め部材150は、図7に示すように、第1カセット部110の上壁111に形成された収容穴151と、この収容穴151に収容される位置決め片152と、この位置決め片152を収容穴151から突出する方向に付勢するばね部材(付勢部材)153とを備える。   The second cassette positioning member 150 positions the second cassette unit 120 connected to the first cassette unit 110 in the width direction (X direction). As shown in FIG. It is provided at the position of the outer surface of one side wall 123. The first cassette positioning member 160 positions the first cassette unit 110 in the width direction (X direction) when the first cassette unit 110 is connected to the first cassette unit 110. As shown in FIG. 6, the first cassette unit 110 is provided on the outer surface of one side wall 113. Since the first cassette positioning member 160 and the second cassette positioning member 150 are different only in the provided positions and the other configurations are the same, the second cassette positioning member 150 will be described. As shown in FIG. 7, the second cassette positioning member 150 includes a receiving hole 151 formed in the upper wall 111 of the first cassette unit 110, a positioning piece 152 received in the receiving hole 151, and this positioning piece. And a spring member (biasing member) 153 that urges 152 in a direction protruding from the accommodation hole 151.

連結穴140と連結片145とを連結する場合には、図8−1に示すように、第2カセット部120を降下させて、連結片145を連結穴140に挿入する。この場合、第2カセット用位置決め部材150は、図8−2に示すように、第2カセット部120の底壁122によって、下方に押されるため、収容穴151内に収容される。次に、第2カセット部120を連結片145の爪部145Aが突出する方向(図中X1方向)にスライド移動させる。これにより、図8−3に示すように、連結穴140の係合穴140Aに連結片145の爪部145Aが進入することにより、連結穴140が形成された第1カセット部110と連結片145が設けられた第2カセット部120とが連結される。この場合に、第2カセット用位置決め部材150は、爪部145Aが突出する方向と反対側に設けられているため、ばね部材153(図7)の付勢力によって、収容穴151から進出し、第2カセット部120の底壁122の側面に沿って位置する。これにより、爪部145Aが係合穴140Aから離脱する方向に連結片145がスライドすることを防止することができると共に、図6に示すように、第1カセット部110及び第2カセット部120の幅方向中心線Sを合致させた規定の位置に容易に設置することができる。   When connecting the connecting hole 140 and the connecting piece 145, the second cassette unit 120 is lowered and the connecting piece 145 is inserted into the connecting hole 140 as shown in FIG. 8A. In this case, since the second cassette positioning member 150 is pushed downward by the bottom wall 122 of the second cassette portion 120 as shown in FIG. Next, the second cassette part 120 is slid in the direction (X1 direction in the figure) in which the claw part 145A of the connecting piece 145 protrudes. As a result, as shown in FIG. 8C, when the claw portion 145A of the connecting piece 145 enters the engaging hole 140A of the connecting hole 140, the first cassette portion 110 and the connecting piece 145 in which the connecting hole 140 is formed. Are connected to the second cassette part 120 provided with. In this case, since the second cassette positioning member 150 is provided on the side opposite to the direction in which the claw portion 145A protrudes, the second cassette positioning member 150 advances from the accommodation hole 151 by the urging force of the spring member 153 (FIG. 7). 2 Located along the side surface of the bottom wall 122 of the cassette portion 120. Accordingly, the connecting piece 145 can be prevented from sliding in the direction in which the claw portion 145A is detached from the engagement hole 140A, and the first cassette portion 110 and the second cassette portion 120 can be prevented from moving as shown in FIG. It can be easily installed at a specified position where the center line S in the width direction is matched.

上記した構成では、カセット130は、側壁の間隔が異なる第1カセット部110と第2カセット部120とを備え、これら第1カセット部110の連結穴140に、第2カセット部120の連結片145を係合させて着脱可能としたことにより、大きさの異なる第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ第1カセット部110及び第2カセット部120に収容し、これら第1カセット部110及び第2カセット部120を容易に着脱することができる。これにより、ウエーハユニットWのサイズを変更して加工を行う場合には、予め第1カセット部110及び第2カセット部120にそれぞれ第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2を収容しておくことで、従来のようにカセットをカセット載置機構40に載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。また、ウエーハユニットWUの大きさに合わせて、異なる大きさのカセットを所有する必要が無く、コストやカセット収容エリアの削減を図ることができる。   In the configuration described above, the cassette 130 includes the first cassette unit 110 and the second cassette unit 120 having different side wall intervals, and the connection piece 145 of the second cassette unit 120 is inserted into the connection hole 140 of the first cassette unit 110. The first wafer unit WU1 and the second wafer unit WU2 having different sizes are accommodated in the first cassette unit 110 and the second cassette unit 120, respectively, so that the first cassette unit 110 can be attached and detached. And the 2nd cassette part 120 can be attached or detached easily. As a result, when processing is performed with the wafer unit W being changed in size, the first wafer unit WU1 and the second wafer unit WU2 are respectively stored in the first cassette unit 110 and the second cassette unit 120 in advance. Thus, it is not necessary to replace the cassette with the cassette mounting mechanism 40 as in the prior art, and the burden on the operator can be reduced. Further, it is not necessary to own a cassette having a different size in accordance with the size of the wafer unit WU, and the cost and the cassette accommodation area can be reduced.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。具体的には、上記した実施形態では、被加工物としてウエーハWを用いていたが、矩形状に形成されたパッケージ基板を用いることもできる。図9−1は、被加工物の一例としての第2パッケージ基板を示す図であり、図9−2は、被加工物の一例としての第1パッケージ基板を示す図である。第2パッケージ基板P2は、図9−1に示すように、基板200の表面200A側に、所定のストリートSTによって区分けされたエリアに形成されたデバイスDを有する複数(例えば3つ)のデバイス領域を備える。また、基板200の裏面200B側には、デバイス領域に対応してモールド樹脂201が形成されている。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, the said embodiment was shown as an example and is not intending limiting the range of invention. Specifically, in the above-described embodiment, the wafer W is used as the workpiece. However, a package substrate formed in a rectangular shape can also be used. FIG. 9A is a diagram illustrating a second package substrate as an example of a workpiece, and FIG. 9B is a diagram illustrating a first package substrate as an example of the workpiece. As illustrated in FIG. 9A, the second package substrate P2 includes a plurality of (for example, three) device regions having devices D formed in an area divided by a predetermined street ST on the surface 200A side of the substrate 200. Is provided. A mold resin 201 is formed on the back surface 200B side of the substrate 200 corresponding to the device region.

同様に、第1パッケージ基板P1は、図9−2に示すように、基板210の表面210A側に、所定のストリートSTによって区分けされたエリアに形成されたデバイスDを有する複数(例えば3つ)のデバイス領域を備える。また、基板210の裏面210B側には、デバイス領域に対応してモールド樹脂211が形成されている。第1パッケージ基板P1は、基板210の短手方向の長さPL1が、第2パッケージ基板P2の基板200の短手方向の長さPL2よりも長く形成されている。第1パッケージ基板P1と第2パッケージ基板P2とは、短手方向の長さ以外は同一である。すなわち、デバイス領域の周縁部の大きさに相違点がある。この構成では、第1パッケージ基板P1は、上記した第1カセット部80,110に収容され、第2パッケージ基板P2は、上記した第2カセット部90,120に収容される。   Similarly, as shown in FIG. 9B, the first package substrate P1 includes a plurality (for example, three) of devices D formed in areas separated by a predetermined street ST on the surface 210A side of the substrate 210. Device area. A mold resin 211 is formed on the back surface 210B side of the substrate 210 corresponding to the device region. The first package substrate P1 is formed such that the length 210 in the short direction of the substrate 210 is longer than the length PL2 in the short direction of the substrate 200 of the second package substrate P2. The first package substrate P1 and the second package substrate P2 are the same except for the length in the short direction. That is, there is a difference in the size of the peripheral portion of the device region. In this configuration, the first package substrate P1 is accommodated in the first cassette portions 80 and 110, and the second package substrate P2 is accommodated in the second cassette portions 90 and 120.

図9−1において、符号202は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドが第2パッケージ基板P2を搬送する際に吸引する吸引位置である。同様に、図9−2において、符号212は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドが第1パッケージ基板P1を搬送する際に吸引する吸引位置である。この構成では、第1パッケージ基板P1と第2パッケージ基板P2とはデバイス領域の周縁部の大きさに相違点があるものの、バキュームパッドが吸引する吸引位置202、212は同じ位置であるため、第2パッケージ基板P2の吸引中心202A,202A間の短手方向の長さWA1及び長手方向の長さWA2は、第1パッケージ基板P1の吸引中心212A,212A間の短手方向の長さWA1及び長手方向の長さWA2と同一である。このため、例えば、第1パッケージ基板P1から第2パッケージ基板P2に加工対象物が変更した場合であっても、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドの位置を調整する必要がなく、加工効率を高めることができる。   In FIG. 9A, reference numeral 202 denotes a suction position at which the vacuum pads of the cassette transport unit 60 and the cleaning transport unit 70 suck when the second package substrate P2 is transported. Similarly, in FIG. 9B, reference numeral 212 denotes a suction position for suction when the vacuum pads of the cassette transport unit 60 and the cleaning transport unit 70 transport the first package substrate P1. In this configuration, the first package substrate P1 and the second package substrate P2 are different in the size of the peripheral portion of the device region, but the suction positions 202 and 212 sucked by the vacuum pad are the same position. The length WA1 in the short direction and the length WA2 in the short direction between the suction centers 202A and 202A of the two package substrates P2 are the length WA1 and the length in the short direction between the suction centers 212A and 212A of the first package substrate P1. It is the same as the direction length WA2. For this reason, for example, even when the object to be processed is changed from the first package substrate P1 to the second package substrate P2, there is no need to adjust the positions of the vacuum pads of the cassette transport unit 60 and the cleaning transport unit 70. Processing efficiency can be increased.

また、上記した実施形態では、カセット30,130は、2つのカセット部を連結した構成について説明したが、3つ以上のカセット部を連結しても良いことは勿論である。   In the embodiment described above, the cassettes 30 and 130 have been described with respect to a configuration in which two cassette units are connected, but it is needless to say that three or more cassette units may be connected.

1 加工装置
30、130 カセット
40 カセット載置機構
80、110 第1カセット部
81、91、111、121 上壁
82、92、112、122 底壁
83、93、113、123 側壁
85、95、115、125 ガイドレール
88、98 位置決めピン
89、99、101 位置決め穴
90、120 第2カセット部
100 連結プレート
103 第2カセット用位置決めピン
104 第1カセット用位置決めピン
140 連結穴
140A 係合穴
145 連結片
145A 爪部
150 第2カセット用位置決め部材
151 収容穴
152 位置決め片
153 ばね部材
S 幅方向中心線
L1 第1の間隔
L2 第2の間隔
W1 第1ウエーハ(被加工物)
W2 第2ウエーハ(被加工物)
WU1 第1ウエーハユニット(フレームユニット)
WU2 第2ウエーハユニット(フレームユニット)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing apparatus 30, 130 Cassette 40 Cassette mounting mechanism 80, 110 1st cassette part 81, 91, 111, 121 Upper wall 82, 92, 112, 122 Bottom wall 83, 93, 113, 123 Side wall 85, 95, 115 , 125 Guide rail 88, 98 Positioning pin 89, 99, 101 Positioning hole 90, 120 Second cassette part 100 Connection plate 103 Second cassette positioning pin 104 First cassette positioning pin 140 Connection hole 140A Engagement hole 145 Connection piece 145A Claw 150 Positioning member for second cassette 151 Accommodating hole 152 Positioning piece 153 Spring member S Center line in width direction L1 First interval L2 Second interval W1 First wafer (workpiece)
W2 2nd wafer (workpiece)
WU1 First wafer unit (frame unit)
WU2 Second wafer unit (frame unit)

Claims (3)

上壁と、底壁と、間隔を空けて平行に対向し該上壁と底壁とを連結する一対の側壁と、を備え、該側壁の内側に、収容する板状の被加工物を支える複数のガイドレールが設置されたカセットであって、
該側壁の間隔が第1の間隔に設定された第1カセット部と、
該側壁の間隔が第1の間隔と異なる第2の間隔に設定された第2カセット部と、
を備え、該第1カセット部に該第2カセット部が着脱可能に連結されていることを特徴とするカセット。
An upper wall, a bottom wall, and a pair of side walls that face each other in parallel with a space therebetween and connect the upper wall and the bottom wall, and support a plate-like workpiece to be accommodated inside the side walls A cassette with a plurality of guide rails installed,
A first cassette portion in which the interval between the side walls is set to the first interval;
A second cassette portion in which the interval between the side walls is set to a second interval different from the first interval;
And the second cassette part is detachably connected to the first cassette part.
該第1カセット部と該第2カセット部とは、連結プレートを介して着脱可能に構成されている請求項1に記載のカセット。   The cassette according to claim 1, wherein the first cassette part and the second cassette part are configured to be detachable via a connecting plate. 該被加工物は、環状のフレームの開口に粘着テープで支持されたフレームユニットの形態で該ガイドレールに保持されている請求項1または2に記載のカセット。   The cassette according to claim 1 or 2, wherein the workpiece is held on the guide rail in the form of a frame unit supported by an adhesive tape in an opening of an annular frame.
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