JP2017199863A - cassette - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、半導体ウエーハのような板状の被加工物を複数収容するカセットに関する。 The present invention relates to a cassette for accommodating a plurality of plate-like workpieces such as semiconductor wafers.
一般に、半導体ウエーハや光デバイスウエーハ(サファイア、SiCなどで形成)、パッケージ基板、セラミックス基板などの被加工物にレーザー加工、もしくは、切削加工を施す加工装置が知られている(例えば、特許文献1、2参照)。また、これら板状の被加工物を砥石で薄化する研削加工を施す研削装置も知られている(例えば、特許文献3参照)。これらの装置に被加工物をセットする場合、高さ方向に複数段のガイドレールを有し、各ガイドレールに沿って被加工物を挿入して収容するカセットが広く使われている。これらのカセットには、通常、同一のサイズ(大きさ)の被加工物が収容されている。 In general, a processing apparatus that performs laser processing or cutting processing on a workpiece such as a semiconductor wafer, an optical device wafer (formed of sapphire, SiC, or the like), a package substrate, or a ceramic substrate is known (for example, Patent Document 1). 2). There is also known a grinding apparatus that performs a grinding process for thinning these plate-like workpieces with a grindstone (see, for example, Patent Document 3). When a workpiece is set in these apparatuses, a cassette having a plurality of guide rails in the height direction and inserting and storing the workpiece along each guide rail is widely used. These cassettes usually contain workpieces of the same size (size).
ところで、上記した加工装置もしくは研削装置(以下、加工装置などという)では、加工対象となる被加工物の大きさが変更されることがある。この場合、変更前の被加工物を収容するカセットを加工装置などから取り外し、大きさが異なる被加工物を収容する別のカセットを新たに加工装置などに搭載する。このため、被加工物の大きさを変更する度に、カセットを変更する作業により加工動作が中断され、作業員の負担が増大すると共に、被加工物の加工効率が低減する問題が生じるおそれがある。特に、少量多品種の被加工物の加工を行う装置では、被加工物のサイズ変更が頻繁に行われるが、この場合、例えば25段のガイドレールを有する一般的なカセットに、数枚の被加工物が収容されることも多く、作業員の作業負担が増大することが多い。 By the way, in the above-described processing apparatus or grinding apparatus (hereinafter referred to as a processing apparatus or the like), the size of a workpiece to be processed may be changed. In this case, the cassette that accommodates the workpiece before the change is removed from the machining apparatus or the like, and another cassette that accommodates the workpiece having a different size is newly mounted on the machining apparatus or the like. For this reason, every time the size of the workpiece is changed, the processing operation is interrupted by the operation of changing the cassette, which increases the burden on the worker and may cause a problem of reducing the processing efficiency of the workpiece. is there. In particular, in an apparatus for processing a small amount of various kinds of workpieces, the size of the workpiece is frequently changed. In this case, for example, several sheets are placed in a general cassette having 25-step guide rails. In many cases, workpieces are accommodated, and the workload of workers is often increased.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、異なる複数の大きさの被加工物を収容可能とし、作業員の負担を低減できるカセットを提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above, Comprising: It aims at providing the cassette which can accommodate the workpiece of a several different magnitude | size, and can reduce a worker's burden.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、上壁と、底壁と、間隔を空けて平行に対向し該上壁と底壁とを連結する一対の側壁と、を備え、該側壁の内側に、収容する板状の被加工物を支える複数のガイドレールが設置されたカセットであって、該側壁の間隔が第1の間隔に設定された第1カセット部と、該側壁の間隔が第1の間隔と異なる第2の間隔に設定された第2カセット部と、を備え、該第1カセット部に該第2カセット部が着脱可能に連結されていることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention includes an upper wall, a bottom wall, and a pair of side walls that face each other in parallel with a space therebetween and connect the upper wall and the bottom wall. A cassette in which a plurality of guide rails for supporting a plate-shaped workpiece to be housed are installed inside the side wall, wherein the side wall interval is set to a first interval, And a second cassette part in which the interval between the side walls is set to a second interval different from the first interval, and the second cassette part is detachably connected to the first cassette part. And
この構成によれば、側壁の間隔が異なる複数のカセット部を備え、これらカセット部を着脱可能とすることにより、大きさの異なる被加工物を各カセットに収容し、これらカセット部を容易に着脱することができる。これにより、被加工物のサイズ変更を行う場合には、複数のカセット部に所望の大きさの被加工物を予め収容しておくことで、カセットを載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。 According to this configuration, a plurality of cassette portions having different side wall intervals are provided, and by making these cassette portions detachable, workpieces having different sizes can be accommodated in each cassette, and these cassette portions can be easily attached and detached. can do. As a result, when changing the size of the workpiece, by storing the workpieces of a desired size in a plurality of cassette portions in advance, the work of replacing the cassette becomes unnecessary, and the operator's work The burden can be reduced.
この構成において、該第1カセット部と該第2カセット部とは、連結プレートを介して着脱可能に構成されてもよい。また、該被加工物は、環状のフレームの開口に粘着テープで支持されたフレームユニットの形態でガイドレールに保持されてもよい。 In this configuration, the first cassette portion and the second cassette portion may be configured to be detachable via a connecting plate. The workpiece may be held on the guide rail in the form of a frame unit supported by an adhesive tape at the opening of the annular frame.
本発明によれば、側壁の間隔が異なる複数のカセット部を備え、これらカセット部を着脱可能とすることにより、大きさの異なる被加工物を各カセットに収容し、これらカセット部を容易に着脱することができる。これにより、被加工物のサイズ変更を行う場合には、複数のカセット部に所望の大きさの被加工物を予め収容しておくことで、カセットを載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。 According to the present invention, by providing a plurality of cassette portions with different side wall intervals and making these cassette portions detachable, workpieces having different sizes can be accommodated in each cassette, and these cassette portions can be easily attached and detached. can do. As a result, when changing the size of the workpiece, by storing the workpieces of a desired size in a plurality of cassette portions in advance, the work of replacing the cassette becomes unnecessary, and the operator's work The burden can be reduced.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係るカセットが搭載された加工装置の斜視図である。加工装置1は、例えば円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハなどのウエーハW(被加工物)に対して切削加工を行う装置である。被加工物には、円板状のウエーハWだけでなく、矩形状に形成されたパッケージ基板、セラミクス基板、ガラス基板などが含まれる。加工装置1は、図1に示すように、直方体状の基台2に配置され、上記ウエーハWを有するウエーハユニット(フレームユニット)WUを保持するチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持されたウエーハユニットWUのウエーハWに対して切削加工をする切削ユニット20とを備える。本構成では、被加工物としてのウエーハWは、第1ウエーハW1と、第1ウエーハW1よりも小さく形成される第2ウエーハW2を含む。同様に、ウエーハユニットWUは、第1ウエーハW1を有する第1ウエーハユニットWU1と、第2ウエーハW2を有し、第1ウエーハユニットWU1よりも小さく形成される第2ウエーハユニットWU2を含む。なお、第1ウエーハW1と第2ウエーハW2とを区別しない場合には、単にウエーハWと記載する。ウエーハユニットWUについても同様である。また、ウエーハWの大きさとしては、例えば、直径200mmや300mmのものが挙げられる。また、ウエーハユニットWUの大きさとしては、例えば、直径230mm、300mmまたは400mmのものが挙げられる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view of a processing apparatus on which a cassette according to the first embodiment is mounted. The processing apparatus 1 is an apparatus that performs a cutting process on a wafer W (workpiece) such as a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer. The workpiece includes not only the disk-shaped wafer W but also a package substrate, a ceramic substrate, a glass substrate and the like formed in a rectangular shape. As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 is disposed on a rectangular parallelepiped base 2 and holds a wafer unit (frame unit) WU having the wafer W, and a wafer held by the chuck table 10. And a
また、加工装置1は、切削加工前後の第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ収容するカセット30が載置されるカセット載置機構(カセット載置台)40と、切削加工後のウエーハユニットWUを洗浄する洗浄部50とを備える。カセット載置機構40は、該カセット載置機構40上に載置されたカセット30をZ軸方向(鉛直方向)に昇降させる。また、加工装置1は、カセット30とチャックテーブル10との間でウエーハユニットWUを搬送するカセット搬送部60と、チャックテーブル10と洗浄部50との間でウエーハユニットWUを搬送する洗浄搬送部70とを備える。
Further, the processing apparatus 1 includes a cassette mounting mechanism (cassette mounting table) 40 on which a
第1ウエーハユニットWU1は、図1に示すように、円環状に形成された第1フレームF1と、この第1フレームF1の開口Fa1に配置される円板形状に形成された第1ウエーハW1と、この第1ウエーハW1及び第1フレームF1の裏面に貼着された粘着テープTとを備える。本実施形態では、第1ウエーハW1は、粘着テープTによって第1フレームF1の開口Fa1に保持される。第1ウエーハW1は、その表面に格子状に形成されたストリート(分割予定ライン)によって区画された多数の領域にIC、LSI等のデバイスが形成されている。第2ウエーハユニットWU2は、第1ウエーハユニットWU1と比べて大きさ(サイズ)が小さく形成されている点で異なる。具体的には、第2ウエーハW2は第1ウエーハW1よりも小さく形成され、同様に第2フレームF2及び開口Fa2も第1フレームF1及び開口Fa1よりも小さく形成されている。その他の構成については、同等であるため説明を省略する。 As shown in FIG. 1, the first wafer unit WU1 includes a first frame F1 formed in an annular shape, and a first wafer W1 formed in a disk shape disposed in the opening Fa1 of the first frame F1. The first wafer W1 and the adhesive tape T attached to the back surface of the first frame F1 are provided. In the present embodiment, the first wafer W1 is held by the adhesive tape T in the opening Fa1 of the first frame F1. The first wafer W1 has devices such as ICs and LSIs formed in a large number of regions partitioned by streets (division lines) formed in a lattice pattern on the surface. The second wafer unit WU2 is different in that the size (size) is smaller than that of the first wafer unit WU1. Specifically, the second wafer W2 is formed smaller than the first wafer W1, and similarly, the second frame F2 and the opening Fa2 are also formed smaller than the first frame F1 and the opening Fa1. Other configurations are the same and will not be described.
チャックテーブル10は、上記した基台2に、X軸方向(切削送り方向)に移動可能に設けられている。チャックテーブル10は、ウエーハユニットWUが載置されて吸引される保持面11を有している。また、チャックテーブル10は、図示しない回転機構によってZ軸を回転軸に回動可能に構成されている。
The chuck table 10 is provided on the base 2 so as to be movable in the X-axis direction (cutting feed direction). The chuck table 10 has a holding
また、基台2の上面には、Y軸方向(割出方向)に沿ってそれぞれ延在するとともに、チャックテーブル10を跨いで配置される門型の支持構造12,14が設けられている。一方の支持構造14には、切削ユニット20が、Y軸方向(割出方向)及びZ軸方向(鉛直方向)にそれぞれ移動可能に設けられている。切削ユニット20は、回転駆動される回転スピンドル(不図示)に装着された切削ブレード21を備え、この切削ブレード21が回転しつつ、Z軸方向に下降することにより、ウエーハWの表面に切削加工が行われる。なお、図1に示す加工装置1では、加工手段として、切削ブレード21を備える切削ユニット20を例示したが、ウエーハWに対して、レーザー光線を照射することで該ウエーハWにレーザー加工を行うレーザー照射部を加工手段として備える構成としてもよい。
Further, on the upper surface of the base 2, portal-
また、他方の支持構造12には、カセット搬送部60が設けられている。このカセット搬送部60は、ウエーハユニットWUを上記した割出方向と平行となるY軸方向(搬出入方向)に沿ってカセット30に搬送する。カセット搬送部60は、支持構造12の側面に配置され、Y軸方向に平行なガイドレール61と、このガイドレール61上をスライド移動可能な移動ユニット62とを備える。移動ユニット62は、ガイドレール61との対向面側にナット部(不図示)を備え、このナット部は、ガイドレール61に設けられるボールねじ61Aに進退自在に取り付けられている。ボールねじ61Aの一端部には、パルスモータ(不図示)が連結されており、パルスモータでボールねじ61Aを回転させると、移動ユニット62はガイドレール61に沿ってY軸方向に移動する。また、移動ユニット62は、Z軸方向(鉛直方向)下方に延びるシリンダ部63と、このシリンダ部63の下端部に連結される保持部64と、この保持部64に設けられる把持部65とを備える。シリンダ部63は、Z軸方向(鉛直方向)に伸縮し、保持部64及び把持部65のZ軸方向の高さ位置を調整する。保持部64はH字形状に形成されており、該保持部64の先端の下部には、それぞれバキュームパッド(不図示)が設けられている。このバキュームパッドは、ウエーハユニットWUのフレームFの表面を吸引することでウエーハユニットWUを保持する。把持部65は、カセット30と対向してY軸方向の先端部に設けられ、ウエーハユニットWUのフレームFの縁部を把持する。ウエーハユニットWUは、把持部65により把持され、ウエーハユニットWUをカセット30から後述するレール13に搬出、もしくは、レール13からカセット30に搬入する。
The
洗浄搬送部70は、カセット搬送部60と同様に、支持構造12に設けられ、ウエーハユニットWUを上記した割出方向と平行となるY軸方向(搬出入方向)に沿って洗浄部50に搬送する。洗浄搬送部70は、支持構造12の側面に配置され、Y軸方向に平行なガイドレール71と、このガイドレール71上をスライド移動可能な移動ユニット72とを備える。移動ユニット72は、ガイドレール71との対向面側にナット部(不図示)を備え、このナット部は、ガイドレール71に設けられるボールねじ71Aに進退自在に取り付けられている。ボールねじ71Aの一端部には、パルスモータ(不図示)が連結されており、パルスモータでボールねじ71Aを回転させると、移動ユニット72はガイドレール71に沿ってY軸方向に移動する。また、移動ユニット72は、ガイドレール71からX軸方向に延びるアーム部73と、このアーム部73の先端からZ軸方向(鉛直方向)下方に延びるシリンダ部74と、このシリンダ部74の下端に設けられる保持部75とを備える。この保持部75は、H字形状に形成され、該保持部75の先端の下部には、それぞれバキュームパッド(不図示)が設けられる。このバキュームパッドは、ウエーハユニットWUのフレームFの表面を吸引することでウエーハユニットWUを保持する。シリンダ部74は、Z軸方向(鉛直方向)に伸縮し、保持部75のZ軸方向の高さ位置を調整する。
As with the
本実施形態では、カセット30及び洗浄部50は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70の搬送経路上に位置しており、チャックテーブル10がX軸方向に移動可能な領域を挟んで、基台2の両側に配置されている。また、カセット30は、カセット搬送部60側に開口して形成され、洗浄部50は、上面が開口して形成されている。カセット30と洗浄部50との間には、ウエーハユニットWUが一時的に仮置きされる一対のレール13,13が設けられる。このレール13,13上には、カセット搬送部60の把持部65によりカセット30から搬出される未加工のウエーハユニットWU、または、カセット30に搬入される加工後のウエーハユニットWUが仮置きされる。レール13,13上に仮置きされた未加工のウエーハユニットWUは、カセット搬送部60の保持部64のバキュームパッドにより吸引保持され、レール13上からチャックテーブル10に搬送される。チャックテーブル10上で切削加工がなされたウエーハユニットWUは、洗浄搬送部70の保持部75のバキュームパッドにより吸引保持され、洗浄部50に搬送される。洗浄部50で洗浄されたウエーハユニットWUは、カセット搬送部60の保持部64のバキュームパッドにより吸引保持され、洗浄部50からレール13上に仮置きされる。また、レール13,13は、互いに近接または離間するようにX軸方向に移動可能に構成される。レール13,13は、ウエーハユニットWUを載置した状態で互いに近接することで、ウエーハユニットWUの中心位置が所定の位置に位置付けられ、チャックテーブル10への搬送時にはチャックテーブル10の中心とウエーハユニットWUの中心とを合わせることができる。同様に、レール13,13は、ウエーハユニットWUを載置した状態で互いに近接することで、カセット30の中心とウエーハユニットWUの中心とも合わせることができる。
In the present embodiment, the
ところで、この種の加工装置1では、加工対象となるウエーハWの大きさが変更されることがある。この場合、一般的には、変更前のウエーハWを収容するカセットを加工装置1のカセット載置機構40から取り外し、大きさが異なるウエーハWを収容する別のカセットが新たにカセット載置機構40に搭載される。このように、ウエーハWの大きさを変更する度に、カセットを変更する作業を要するため、この変更作業により加工動作が中断され、作業員の負担が増大すると共に、ウエーハWの加工効率が低減する問題が生じるおそれがある。特に、少量多品種のウエーハWの加工を行う加工装置1では、ウエーハWのサイズ変更が頻繁に行われるが、この場合、例えば25段のガイドレールを有する一般的なカセットに、数枚のみのウエーハWが収容されることも多く、作業員の作業負担が増大することが多い。
By the way, in this kind of processing apparatus 1, the size of the wafer W to be processed may be changed. In this case, generally, the cassette for storing the wafer W before the change is removed from the
本構成では、大きさの異なるウエーハWを収容できるカセットの構成に特徴を有する。次に、カセット30について説明する。図2は、第1実施形態に係るカセットの分解斜視図であり、図3は、カセットの側断面図である。カセット30は、図2に示すように、第1カセット部80と、第2カセット部90と、これら第1カセット部80及び第2カセット部90を連結する連結プレート100とを備える。第1実施形態では、第1カセット部80は、第2カセット部90よりも幅方向(X軸方向)及び奥行方向(Y軸方向)に大きく形成されている。また、第1カセット部80は、カセット載置機構40に載置され、この第1カセット部80の上に、連結プレート100を介して、第2カセット部90が連結されている。
This structure is characterized by the structure of a cassette that can accommodate wafers W of different sizes. Next, the
第1カセット部80は、図3に示すように、上壁81と、底壁82と、一対の側壁83,83と、これら上壁81、底壁82及び側壁83,83で形成された開口を塞ぐ奥壁84(図2)を備えて構成される。側壁83,83は、第1の間隔L1を空けて平行に対向配置されて、上壁81と底壁82とを連結する。また、側壁83,83の各内面83A,83Aには、第1ウエーハユニットWU1を支持する複数段のガイドレール85が形成されている。第1カセット部80の正面側には、開口80Aが形成され、この開口80Aを通じて、第1ウエーハユニットWU1が搬入または搬出される。上壁81の上面81Aには、上方に突出した突出部86が設けられ、この突出部86にハンドル87が取り付けられている。このハンドル87は、突出部86の周囲に倒れるようになっている。また、上壁81の上面81Aには、例えば、側壁83,83の上方に位置する縁部に位置決めピン88が設けられている。この位置決めピン88は、第1カセット部80と連結プレート100とを連結する際の位置決めをするものである。また、底壁82の底面82Aには、例えば、側壁83,83の下方に位置する縁部に、位置決め穴89が設けられている。この位置決め穴89は、第1カセット部80を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、カセット載置機構40に設けられた位置決めピン41に嵌る位置、大きさに形成されている。これにより、カセット載置機構40の位置決めピン41に位置決め穴89が嵌るように、第1カセット部80を配置することで、第1カセット部80をカセット載置機構40上の規定の位置に容易に設置することができる。
As shown in FIG. 3, the
第2カセット部90は、図3に示すように、上壁91と、底壁92と、一対の側壁93,93と、これら上壁91、底壁92及び側壁93,93で形成された開口を塞ぐ奥壁94(図2)を備えて構成される。側壁93,93は、第1カセット部80の第1の間隔L1よりも小さい第2の間隔L2を空けて平行に対向配置されて、上壁91と底壁92とを連結する。また、側壁93,93の各内面93A,93Aには、第2ウエーハユニットWU2を支持する複数段のガイドレール95が形成されている。第2カセット部90の正面側には、開口90Aが形成され、この開口90Aを通じて、第2ウエーハユニットWU2が搬入または搬出される。上壁91の上面91Aには、上方に突出した突出部96が設けられ、この突出部96にハンドル97が取り付けられている。このハンドル97は、突出部96の周囲に倒れるようになっている。また、上壁91の上面91Aには、例えば、側壁93,93の上方に位置する縁部に位置決めピン98が設けられている。また、底壁92の底面92Aには、例えば、側壁93,93の下方に位置する縁部に、位置決め穴99が設けられている。この位置決め穴99は、第2カセット部90を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、連結プレート100に設けられた第2カセット用位置決めピン103に嵌る位置、大きさに形成されている。
As shown in FIG. 3, the
連結プレート100は、第1カセット部80と第2カセット部90とを規定の位置に位置決めした状態で連結するための部材である。連結プレート100は、図2に示すように、第1カセット部80の上壁81と同等の大きさを有する板材として構成される。連結プレート100の底面100Aには、図3に示すように、第1カセット部80の位置決めピン88に対応する位置に該位置決めピン88が嵌る位置決め穴101が形成されている。また、連結プレート100の底面100Aには、第1カセット部80の突出部86及びハンドル87に対応する位置に、該突出部86及びハンドル87を避ける凹部102が形成されている。この凹部102は、突出部86及びハンドル87と干渉しない大きさ及び深さ(高さ)を有し、第1カセット部80と連結プレート100との間に隙間を生じることなく第1カセット部80と連結プレート100とを連結する。また、連結プレート100の上面100Bには、第2カセット部90の位置決め穴99に嵌る第2カセット用位置決めピン103が設けられている。この第2カセット用位置決めピン103は、第2カセット部90の位置決め穴99に嵌るものであり、図3に示すように、第1カセット部80及び第2カセット部90の幅方向中心線Sを合致させた規定の位置に容易に設置することができる。なお、連結プレート100の上面100Bには、第1カセット部80の位置決め穴89に嵌る第1カセット用位置決めピン104も設けられている。この第1カセット用位置決めピン104は、連結プレート100に第1カセット部80を連結する際に用いられる。
The connecting
上記した構成では、カセット30は、側壁の間隔が異なる第1カセット部80と第2カセット部90とを備え、これら第1カセット部80と第2カセット部90とを位置決めピンを用いて着脱可能としたことにより、大きさの異なる第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ第1カセット部80及び第2カセット部90に収容し、これら第1カセット部80及び第2カセット部90を容易に着脱することができる。これにより、ウエーハユニットWのサイズを変更して加工を行う場合には、予め第1カセット部80及び第2カセット部90にそれぞれ第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2を収容しておくことで、従来のようにカセットをカセット載置機構40に載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。また、ウエーハユニットWUの大きさに合わせて、異なる大きさのカセットを所有する必要が無く、コストやカセット収容エリアの削減を図ることができる。
In the above-described configuration, the
また、上記した構成では、第1カセット部80及び第2カセット部90は、それぞれ数段(図3では5段)のガイドレールを備えた構成としているが、例えば、複数のカセット部を重ねた際に、各カセット部のガイドレールを加算した合計の段数が、一般に用いられるカセットの段数(例えば25段)と同等、もしくは、少なくなるように形成することが好ましい。この構成によれば、複数のカセット部を連結したカセットをカセット載置機構40に設置して使用することが可能となる。
In the above-described configuration, each of the
[第2実施形態]
次に、第2実施形態に係るカセットについて説明する。図4は、第2実施形態に係るカセットの斜視図であり、図5は、カセットの分解斜視図であり、図6は、カセットの側断面図である。カセット130は、図4及び図5に示すように、第1カセット部110と、第2カセット部120とを備える。第2実施形態では、第1カセット部110は、第2カセット部120よりも幅方向(X軸方向)及び奥行方向(Y軸方向)に大きく形成されている。また、第1カセット部110は、図6に示すように、カセット載置機構40に載置され、この第1カセット部110の上に第2カセット部120が連結されている。
[Second Embodiment]
Next, a cassette according to the second embodiment will be described. 4 is a perspective view of the cassette according to the second embodiment, FIG. 5 is an exploded perspective view of the cassette, and FIG. 6 is a side sectional view of the cassette. As shown in FIGS. 4 and 5, the
第1カセット部110は、図6に示すように、上壁111と、底壁112と、一対の側壁113,113と、これら上壁111、底壁112及び側壁113,113で形成された開口を塞ぐ奥壁114(図4)を備えて構成される。側壁113,113は、第1の間隔L1を空けて平行に対向配置されて、上壁111と底壁112とを連結する。また、側壁113,113の各内面113A,113Aには、第1ウエーハユニットWU1を支持する複数段のガイドレール115が形成されている。第1カセット部110の正面側には、開口110Aが形成され、この開口110Aを通じて、第1ウエーハユニットWU1が搬入または搬出される。上壁111は、少なくとも側壁113,113側の縁部が該側壁113よりも外側に出張って形成される。上壁111の上面111Aには、上方に突出した突出部116が設けられ、この突出部116にハンドル117が取り付けられている。このハンドル117は、突出部116の周囲に倒れるようになっている。また、上壁111の上面111Aには、第2カセット部120と連結するための連結穴140が複数(例えば4つ)設けられている。これらの連結穴140は、少なくとも第2カセット部120の底壁122(後述する)の投影面積よりも小さな領域内に形成されている。また、上壁111の上面111Aには、一方の側壁側に、第2カセット用位置決め部材150と、第1カセット用位置決め部材160とが並んで形成されている。この連結穴140、第2カセット用位置決め部材150及び第1カセット用位置決め部材160については後述する。
As shown in FIG. 6, the
また、底壁112の底面112Aには、上記した連結穴140に対応する位置に連結片145が設けられている。この連結片145は、第1カセット部110を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、カセット載置機構40に設けられた穴部42に嵌ることにより、カセット載置機構40上の規定の位置に第1カセット部110を容易に設置することができる。また、底壁112の底面112Aには凹部118が形成されている。
Further, a connecting
第2カセット部120は、図6に示すように、上壁121と、底壁122と、一対の側壁123,123と、これら上壁121、底壁122及び側壁123,123で形成された開口を塞ぐ奥壁124(図4)を備えて構成される。側壁123,123は、第1カセット部110の第1の間隔L1よりも小さい第2の間隔L2を空けて平行に対向配置されて、上壁121と底壁122とを連結する。また、側壁123,123の各内面123A,123Aには、第2ウエーハユニットWU2を支持する複数段のガイドレール125が形成されている。第2カセット部120の正面側には、開口120Aが形成され、この開口120Aを通じて、第2ウエーハユニットWU2が搬入または搬出される。上壁121は、上記した第1カセット部110の上壁111と同等の大きさ、形状に形成され、上壁121は、少なくとも側壁123,123側の縁部が該側壁123よりも外側に出張って形成される。上壁121の上面121Aには、上方に突出した突出部126が設けられ、この突出部126にハンドル127が取り付けられている。このハンドル127は、突出部126の周囲に倒れるようになっている。また、上壁121の上面121Aにも、第1カセット部110の上壁111と同様に複数の連結穴140が形成されると共に、第2カセット用位置決め部材150と第1カセット用位置決め部材160とが並んで形成されている。これら連結穴140、第2カセット用位置決め部材150及び第1カセット用位置決め部材160は、第1カセット部110の上壁111の連結穴140などと同じ位置に形成されている。
As shown in FIG. 6, the
また、底壁122の底面122Aには、上記した連結穴140に対応する位置に連結片145が設けられている。この連結片145は、第2カセット部120を所定の位置に設置するためのものであり、例えば、第1カセット部110の連結穴140と係合して第2カセット部120と第1カセット部110とを連結する。底壁122の底面122Aには第1カセット部110の突出部116及びハンドル117に対応する位置に、該突出部116及びハンドル117を避ける凹部128が形成されている。この凹部128は、突出部116及びハンドル117と干渉しない大きさ及び深さ(高さ)を有し、第1カセット部110の上壁111と第2カセット部120の底壁122との間に隙間を生じることなく第1カセット部110と第2カセット部120とを連結する。
A connecting
次に、第2カセット部120と第1カセット部110との連結構成について説明する。図7は、第2カセット部と第1カセット部との連結構成を示す拡大斜視図である。また、図8−1、図8−2及び図8−3は、連結穴と連結片との連結動作を示す模式図である。連結片145は、図7に示すように、第2カセット部の底壁122の底面122A(図6)から下方に突出して形成されている。さらに、連結片145は、第2カセット部120の幅方向(X方向)に突出する爪部145Aを備える。連結穴140は、連結片145よりも大きく形成されて該連結片145が遊嵌される。さらに、連結穴140は、第2カセット部120の幅方向(X方向)に延びる係合穴140Aを有し、連結片145を連結穴140内でスライド移動させると、係合穴140Aに連結片145の爪部145Aが進入する。これにより、連結片145と連結穴140とが係合するため、第2カセット部120と第1カセット部110とが連結される。
Next, a connection configuration between the
第2カセット用位置決め部材150は、第1カセット部110に連結される第2カセット部120を幅方向(X方向)に位置決めするものであり、図6に示すように、第2カセット部120の一方の側壁123の外面の位置に設けられている。また、第1カセット用位置決め部材160は、第1カセット部110の上に第1カセット部110を連結する際に、この第1カセット部110を幅方向(X方向)に位置決めするものであり、図6に示すように、第1カセット部110の一方の側壁113の外面の位置に設けられている。第1カセット用位置決め部材160と第2カセット用位置決め部材150とは、設けられる位置のみが異なり他の構成は同一なので、第2カセット用位置決め部材150について説明する。第2カセット用位置決め部材150は、図7に示すように、第1カセット部110の上壁111に形成された収容穴151と、この収容穴151に収容される位置決め片152と、この位置決め片152を収容穴151から突出する方向に付勢するばね部材(付勢部材)153とを備える。
The second
連結穴140と連結片145とを連結する場合には、図8−1に示すように、第2カセット部120を降下させて、連結片145を連結穴140に挿入する。この場合、第2カセット用位置決め部材150は、図8−2に示すように、第2カセット部120の底壁122によって、下方に押されるため、収容穴151内に収容される。次に、第2カセット部120を連結片145の爪部145Aが突出する方向(図中X1方向)にスライド移動させる。これにより、図8−3に示すように、連結穴140の係合穴140Aに連結片145の爪部145Aが進入することにより、連結穴140が形成された第1カセット部110と連結片145が設けられた第2カセット部120とが連結される。この場合に、第2カセット用位置決め部材150は、爪部145Aが突出する方向と反対側に設けられているため、ばね部材153(図7)の付勢力によって、収容穴151から進出し、第2カセット部120の底壁122の側面に沿って位置する。これにより、爪部145Aが係合穴140Aから離脱する方向に連結片145がスライドすることを防止することができると共に、図6に示すように、第1カセット部110及び第2カセット部120の幅方向中心線Sを合致させた規定の位置に容易に設置することができる。
When connecting the connecting
上記した構成では、カセット130は、側壁の間隔が異なる第1カセット部110と第2カセット部120とを備え、これら第1カセット部110の連結穴140に、第2カセット部120の連結片145を係合させて着脱可能としたことにより、大きさの異なる第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2をそれぞれ第1カセット部110及び第2カセット部120に収容し、これら第1カセット部110及び第2カセット部120を容易に着脱することができる。これにより、ウエーハユニットWのサイズを変更して加工を行う場合には、予め第1カセット部110及び第2カセット部120にそれぞれ第1ウエーハユニットWU1及び第2ウエーハユニットWU2を収容しておくことで、従来のようにカセットをカセット載置機構40に載せ替える作業が不要となり、作業員の作業負担を軽減できる。また、ウエーハユニットWUの大きさに合わせて、異なる大きさのカセットを所有する必要が無く、コストやカセット収容エリアの削減を図ることができる。
In the configuration described above, the
以上、本発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。具体的には、上記した実施形態では、被加工物としてウエーハWを用いていたが、矩形状に形成されたパッケージ基板を用いることもできる。図9−1は、被加工物の一例としての第2パッケージ基板を示す図であり、図9−2は、被加工物の一例としての第1パッケージ基板を示す図である。第2パッケージ基板P2は、図9−1に示すように、基板200の表面200A側に、所定のストリートSTによって区分けされたエリアに形成されたデバイスDを有する複数(例えば3つ)のデバイス領域を備える。また、基板200の裏面200B側には、デバイス領域に対応してモールド樹脂201が形成されている。
As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, the said embodiment was shown as an example and is not intending limiting the range of invention. Specifically, in the above-described embodiment, the wafer W is used as the workpiece. However, a package substrate formed in a rectangular shape can also be used. FIG. 9A is a diagram illustrating a second package substrate as an example of a workpiece, and FIG. 9B is a diagram illustrating a first package substrate as an example of the workpiece. As illustrated in FIG. 9A, the second package substrate P2 includes a plurality of (for example, three) device regions having devices D formed in an area divided by a predetermined street ST on the
同様に、第1パッケージ基板P1は、図9−2に示すように、基板210の表面210A側に、所定のストリートSTによって区分けされたエリアに形成されたデバイスDを有する複数(例えば3つ)のデバイス領域を備える。また、基板210の裏面210B側には、デバイス領域に対応してモールド樹脂211が形成されている。第1パッケージ基板P1は、基板210の短手方向の長さPL1が、第2パッケージ基板P2の基板200の短手方向の長さPL2よりも長く形成されている。第1パッケージ基板P1と第2パッケージ基板P2とは、短手方向の長さ以外は同一である。すなわち、デバイス領域の周縁部の大きさに相違点がある。この構成では、第1パッケージ基板P1は、上記した第1カセット部80,110に収容され、第2パッケージ基板P2は、上記した第2カセット部90,120に収容される。
Similarly, as shown in FIG. 9B, the first package substrate P1 includes a plurality (for example, three) of devices D formed in areas separated by a predetermined street ST on the
図9−1において、符号202は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドが第2パッケージ基板P2を搬送する際に吸引する吸引位置である。同様に、図9−2において、符号212は、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドが第1パッケージ基板P1を搬送する際に吸引する吸引位置である。この構成では、第1パッケージ基板P1と第2パッケージ基板P2とはデバイス領域の周縁部の大きさに相違点があるものの、バキュームパッドが吸引する吸引位置202、212は同じ位置であるため、第2パッケージ基板P2の吸引中心202A,202A間の短手方向の長さWA1及び長手方向の長さWA2は、第1パッケージ基板P1の吸引中心212A,212A間の短手方向の長さWA1及び長手方向の長さWA2と同一である。このため、例えば、第1パッケージ基板P1から第2パッケージ基板P2に加工対象物が変更した場合であっても、カセット搬送部60及び洗浄搬送部70のバキュームパッドの位置を調整する必要がなく、加工効率を高めることができる。
In FIG. 9A,
また、上記した実施形態では、カセット30,130は、2つのカセット部を連結した構成について説明したが、3つ以上のカセット部を連結しても良いことは勿論である。
In the embodiment described above, the
1 加工装置
30、130 カセット
40 カセット載置機構
80、110 第1カセット部
81、91、111、121 上壁
82、92、112、122 底壁
83、93、113、123 側壁
85、95、115、125 ガイドレール
88、98 位置決めピン
89、99、101 位置決め穴
90、120 第2カセット部
100 連結プレート
103 第2カセット用位置決めピン
104 第1カセット用位置決めピン
140 連結穴
140A 係合穴
145 連結片
145A 爪部
150 第2カセット用位置決め部材
151 収容穴
152 位置決め片
153 ばね部材
S 幅方向中心線
L1 第1の間隔
L2 第2の間隔
W1 第1ウエーハ(被加工物)
W2 第2ウエーハ(被加工物)
WU1 第1ウエーハユニット(フレームユニット)
WU2 第2ウエーハユニット(フレームユニット)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
W2 2nd wafer (workpiece)
WU1 First wafer unit (frame unit)
WU2 Second wafer unit (frame unit)
Claims (3)
該側壁の間隔が第1の間隔に設定された第1カセット部と、
該側壁の間隔が第1の間隔と異なる第2の間隔に設定された第2カセット部と、
を備え、該第1カセット部に該第2カセット部が着脱可能に連結されていることを特徴とするカセット。 An upper wall, a bottom wall, and a pair of side walls that face each other in parallel with a space therebetween and connect the upper wall and the bottom wall, and support a plate-like workpiece to be accommodated inside the side walls A cassette with a plurality of guide rails installed,
A first cassette portion in which the interval between the side walls is set to the first interval;
A second cassette portion in which the interval between the side walls is set to a second interval different from the first interval;
And the second cassette part is detachably connected to the first cassette part.
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