JP2017181333A - 試料積載プレート及びその製造方法 - Google Patents
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MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートであって、試料積載プレートは、試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に、親水性表面が形成され、辺縁部に疎水性表面が形成され、内側中心近傍と辺縁部との間の中間領域は、試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、親水性が弱くなり疎水性に変化していくように表面が形成されていることを特徴とする。
はじめに、本発明に係る実施形態である試料積載プレートの構成について図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態で説明する2つの実施例の一つに関する図であるが、まず、本発明の概略構成を説明するために使用する。
次に、実施例1の試料積載プレート100の製造方法について図4及び図5を用いて説明する。図4は、実施例1における試料積載プレート100の製造方法を示す工程図である。図5は、製造工程で使うマスク15のパターン例である。
図4において、試料積載プレート110の製造方法について310〜370の主要な工程を図示し説明する。尚、各工程において特定の記載がない限りそれぞれの工程に必要な一般的な例えば、移送、検査、洗浄、乾燥、アニール等の作業を行うことは当然のこととし、それらの説明は省略する。
まず、基板受け入れ工程310では、基板1の平面度及び表面粗さの検査を行い、所定の平坦度、表面粗さであることを確認する。
次に、基板表面加工工程320では、基板1にラッピング加工やポリッシング加工を施し、所定の基板厚や表面粗さ、平坦度に仕上げる。尚、本工程での主要な検査項目は基板の表面粗さ及び平坦度である。
次に、第1の金属膜形成工程330では、第1の金属膜2Mを形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法を用い、例えば、Niを厚さ300nmに形成する。このとき、できるだけ均一な膜とするために成膜粒子の照射方向は垂直方向が望ましい(破線矢印参照)。
次に、光学多層膜形成工程340では光学多層膜2Aを積層形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法によって、図4にある2d層、2c層、2b層、2a層を順番に形成する。
次に、疎水膜形成工程350では、前工程で形成された光学多層膜2Aの表面に疎水膜12を積層形成する。例えば、真空蒸着等の成膜方法によって、例えば、C(炭素)またはF(フッ素)またはSi(シリコン)を含む撥水材またはそれらの複合された撥水材を、例えば、2nmの厚さに形成する。
最後に、疎水膜除去工程370では、試料積載スポット10の内側領域(内側中心近傍21及び中間領域24)に形成された疎水膜12を剥離する。例えば、プラズマエッチング等の加工方法により、試料積載プレート100の上面にマスク15を載置しプラズマエッチング等の加工方法を用いて疎水膜12を剥離し、そののち、マスク15を取り外す工程とする。マスク15は、図5において白い部分として示す開口部が形成されている。図5には3つの例を示した。
次に、実施例2の試料積載プレート100の製造方法について図9および図10を用いて説明する。図9は、試料積載プレート100の製造方法を示す工程図である。図10は、製造工程で使うマスク15のパターン例である。
図9において、試料積載プレート100の製造方法について410〜470の主要な工程を図示し説明する。尚、各工程において特定の記載がない限りそれぞれの工程に必要な一般的な例えば、移送、検査、洗浄、乾燥、アニール等の作業を行うことは当然のこととし、それらの説明は省略する。
まず、基板受け入れ工程410では、基板1の平面度及び表面粗さの検査を行い、所定の平坦度、表面粗さであることを確認する。
次に、基板表面加工工程420では、基板1にラッピング加工やポリッシング加工を施し、所定の基板厚や表面粗さ、平坦度に仕上げる。尚、本工程での主要な検査項目は基板の表面粗さ及び平坦度である。また、必要であれば、次工程で金属膜を形成する際の密着性を向上させるように表面の微細構造を形成する場合もある。
次に、第1の金属膜形成工程430では、第1の金属膜2Mを形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法を用い、例えば、Niを厚さ300nmに形成する。このとき、できるだけ均一な膜とするために成膜粒子の照射方向は垂直方向が望ましい(破線矢印参照)。
次に、光学多層膜形成工程440では光学多層膜2Aを積層形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法によって、図4にある2d層、2c層、2b層、2a層を順番に形成する。
最後に、光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mの除去工程470では、試料積載スポット10の内側領域(内側中心近傍21及び中間領域24)に形成された光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mを剥離する。例えば、プラズマエッチング等の加工方法により、試料積載プレート100の上面にマスク15を載置しプラズマエッチング等の加工方法を用いて光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mを剥離し、そののち、マスク15を取り外す工程とする。マスク15は、図10において白い部分として示す開口部が形成されている。図10には3つの例を示した。
次に、試料積載プレートの着色に関して図5を用いて説明する。図11は、基板に光学多層膜形成した場合の光の干渉を説明する模式図である。
次に、試料の質量分析を行う動作について図3、図8、図12を用いて説明する。ここでは主に試料積載プレート及び試料のイオン化に係る部分を説明し、他は原理的な説明にとどめ詳細は省略する。図3および図8は、前述した試料積載プレート100に試料200を積載した状態を示した模式図であり、図3に実施例1における状態、図8に実施例2における状態を示している。図12は、質量分析装置300に試料200が積載された試料積載プレートを載置した状態を示す模式図である。
2A 光学多層膜(第1の親水膜)
2M 第1の金属膜
2a、2b、2c、2d 誘電体膜または第2の金属膜
10 試料積載スポット
12 疎水膜
15 マスク
20 試料積載プレートの辺縁部
21 (試料積載スポットの)内側中心近傍
22 (試料積載スポットの)外側周辺部
24 (試料積載スポットの)中間領域
30 列アドレスマーク
40 行アドレスマーク
50 シリアルナンバー
60 バーコード
100 試料積載プレート
200 試料
200a、200b、200c イオン化した試料
220 レーザ光源
220a レーザ光
230 イオン加速部
231 イオントラップ部
232 質量分離部(飛行空間)
240 イオン検出部
300 MALDI質量分析装置
Claims (11)
- MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートであって、
前記試料積載プレートは、前記試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に、親水性表面が形成され、前記辺縁部に疎水性表面が形成され、前記内側中心近傍と前記辺縁部との間の中間領域は、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、親水性が弱くなり疎水性に変化していくように表面が形成されていることを特徴とする試料積載プレート。 - 前記中間領域は、親水性表面と疎水性表面がそれぞれ部分的に形成されており、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、前記疎水性表面の面積割合が大きくなることを特徴とする請求項1に記載の試料積載プレート。
- 前記基板は、樹脂であり、前記辺縁部および前記中間領域に形成される疎水性表面は、前記基板が露出していることを特徴とする請求項1または2に記載の試料積載プレート。
- 前記内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面は、前記基板上に形成された光学多層膜が露出していること特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の試料積載プレート。
- 前記基板はセラミックスまたは金属であり、前記内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面は、前記基板が露出していることを特徴とする請求項1または2に記載の試料積載プレート。
- MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法であって、
基板表面を親水性表面とする工程と、
前記親水性表面の上に疎水性の膜を形成し疎水性表面とする工程と、
前記試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位に開口部が形成されており、前記辺縁部に対する部位には開口部が形成されておらず、前記内側中心近傍と前記辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が少なくなるように開口部が形成されたマスクを前記試料積載プレートの表面に載置する工程と、
前記試料積載スポットの表面にある疎水膜を前記マスクを使って除去する工程と、
前記マスクを取り除く工程とを有することを特徴とする試料積載プレートの製造方法。 - 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部を有し、前記内側中心近傍に対する部位では、開口しており、前記辺縁部に対する部位には開口部がなく、前記中間領域に対する部位において、開口面積の割合が前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に少なくなること特徴とする請求項6に記載の試料積載プレートの製造方法。
- 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、一定の幅または中心から外側に向かって小さくなっていく幅を持つ線状の開口部を複数有すること特徴とする請求項6に記載の試料積載プレートの製造方法。
- MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法であって、
基板表面を疎水性表面とする工程と、
前記疎水性表面の上に親水性の膜を形成し親水性表面とする工程と、
前記試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位には開口部が形成されておらず、前記辺縁部に対する部位には開口部が形成されており、前記内側中心近傍と前記辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が多くなるように開口部が形成されたマスクを前記試料積載プレートの表面に載置する工程と、
前記試料積載スポットの表面にある親水膜を前記マスクを使って除去する工程と、
前記マスクを取り除く工程 とを有することを特徴とする試料積載プレートの製造方法。 - 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部を有し、前記内側中心近傍に対する部位には、開口部が無く、前記辺縁部に対する部位には開口しており、前記中間領域に対する部位において、開口面積の割合が前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に多くなること特徴とする請求項9に記載の試料積載プレートの製造方法。
- 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、幅が一定または中心から外側に向かって小さくなっていく幅をもつ線状の複数の領域に対する部位に非開口部を有すること特徴とする請求項9に記載の試料積載プレートの製造方法。
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