JP2017160830A - 貯水タンク - Google Patents
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Abstract
【課題】渦を発生させることなく、送出ポンプで適切に水を送出すること。【解決手段】貯水タンク(11)は、水供給源から供給された水を貯留して送出ポンプ(14)で水処理システムに送出するものであり、水供給源から供給された水を下限水位(L1)から上限水位(L2)までの所定量貯留し、底板(43)に開口した送出口(46)を通じて送出ポンプで水が送出されるタンク本体(41)と、下限水位より下でタンク本体の底板に接触しない高さで送出口を覆うサイズに形成され、送出口の上方においてタンク本体に貯留されている水が該送出口から送出される際に発生する渦を防止する渦防止プレート(47)とを備える構成にした。【選択図】図3
Description
本発明は、送出ポンプで送出される水を貯留する貯水タンクに関する。
一般に研削装置や切削装置等の加工装置は、加工水やスピンドルの冷却水等を供給する水処理システムに接続されている(例えば、特許文献1参照)。水処理システムでは、貯水タンクに貯留された水が送出ポンプによって送出され、加工水や冷却水として加工装置の各部に供給されている。このような貯水タンクは貯水量が管理されており、通常は貯水タンク内の水位が送出ポンプで送出するのに必要な規定水位以上に保たれている。また、貯水タンクの水位が下がって規定水位を下回ると、貯水タンクから加工装置への加工水や冷却水の供給が停止される。
ところで、貯水タンク内の水位が送出ポンプで送出するのに必要な下限水位(規定水位)以上であれば、下限水位付近であっても送出ポンプによって貯水タンクから水が送出され続ける。しかしながら、貯水タンク内の水位が下限水位付近では、貯水タンクの底部の送出口に向かう水流によって渦が生じ、渦によって水面から巻き込まれた気泡が送出ポンプ内や流路内に気泡が混入してしまう。この気泡の混入によって送出ポンプが空回りして水を送出できなくなったり、十分な送出圧が得られなくなったりするという問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、渦を発生させることなく、送出ポンプで適切に水を送出することができる貯水タンクを提供することを目的とする。
本発明の貯水タンクは、水供給源から供給された水を貯留し、送出ポンプで送出口から水処理する水処理システムへ送出する貯水タンクであって、水供給源から供給された水を下限水位から上限水位までの所定量貯留するタンク本体と、該タンク本体の底板に開口し送出ポンプを介して水を水処理システムへ送出する送出配管に連通する送出口と、少なくとも該送出口を覆うサイズに形成され、該下限水位より下で該タンク本体の底板に接触しない高さで該送出口の上方に配設され、該タンク本体に貯留されている水が該送出口から送出される際に発生する渦を防止する渦防止プレートと、を備える。
この構成によれば、送出ポンプによってタンク本体に貯留された水が送出口から水処理システムに送出される。下限水位付近では、タンク本体の水が送出口に流れ込むことで水面に渦が生じ易くなるが、送出口の上方が渦防止プレートによって覆われているため水面に渦が現れることがない。このため、タンク本体内の水位が下限水位に近づいても、渦によって水面から気泡が巻き込まれることがなく、送出ポンプへの気泡を防止して水処理システムに対して適切に水を送出することができる。
本発明によれば、渦防止プレートによって送出口の上方を覆って水面での渦の発生を抑えることで、送出ポンプに気泡が混入することがなく、送出ポンプで適切に水処理システムに水を送出することができる。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態の貯水タンクを備えた水処理システムについて説明する。図1は、本実施の形態の水処理システムの模式図である。図2は、比較例の貯水タンクの渦発生状態の説明図である。なお、以下の説明では、加工水用の貯水タンクと冷却水用の貯水タンクを有する水処理システムについて説明するが、この構成に限定されない。水処理システムは、少なくとも1つの貯水タンクを有していればよく、図1に示す水の供給システムに限定されない。
図1に示すように、水処理システム1は、水供給源2からの水を定温に調整して加工装置3に供給するものであり、加工用の水を供給する第1系統10とスピンドル冷却用の水を供給する第2系統20と備えている。第1系統10では、加工装置3のノズル(不図示)等に加工用の水が供給されて加工箇所が冷却及び洗浄される。供給後の加工用の水は加工装置3のウォータケース(不図示)等を介して外部に排水される。加工用の水は加工対象のワーク等にも吹き付けられるため、加工精度に影響が生じないように一定温度に調整されている。
第2系統20では、スピンドル4内のウォータジャケット(不図示)等にスピンドル冷却用の水が供給されて、スピンドルシャフトで発生する摩擦熱が冷却される。スピンドル冷却用の水は、スピンドルシャフトを冷却すればよいため、加工用の水のような純度や温度調整が不要であり、水処理システム1と加工装置3の間で循環されている。このように、加工装置3の稼働時には、水供給源2からの水が第1系統10を通じて加工装置3に供給され続けると共に、第2系統20で水が循環してスピンドル4の摩擦熱を冷却し続けている。
第1系統10には、第1貯水タンク(貯水タンク)11から加工装置3に至る第1流路12が設けられている。第1流路12上には、上流から下流に向かって第1貯水タンク11、第1送出ポンプ(送出ポンプ)14、第1圧力検出手段15、水温調整手段16、第1フィルタ17が順に設けられている。第1貯水タンク11には水供給源2から供給された加工用の水が貯留されており、第1貯水タンク11内の水は第1送出ポンプ14によって第1貯水タンク11から加工装置3に送出されている。
第1送出ポンプ14の送出圧は第1圧力検出手段15によって検出され、第1圧力検出手段15の検出結果に応じて第1送出ポンプ14の送出圧が調整されている。第1流路12上の第1送出ポンプ14の下流では、水温調整手段16によって水の温度が所定温度に調整される。水温調整手段16は、チラー等の第1冷却手段18とヒータ等の加熱手段19とから成り、第1冷却手段18の冷却と加熱手段19の加熱を組み合わせて水が所定温度に調整される。所定温度になった水は第1フィルタ17を通過して、加工用の水として加工装置3内のノズルに供給される。
第2系統20には、第2貯水タンク(貯水タンク)21から加工装置3のスピンドル4に至る第2流路22と、加工装置3のスピンドル4から第2貯水タンク21に至る循環流路23とが設けられている。第2流路22上には、上流から下流に向かって第2貯水タンク21、第2送出ポンプ(送出ポンプ)24、第2圧力検出手段25、第2冷却手段26、第2フィルタ27が設けられている。第2貯水タンク21には加工装置3のスピンドル冷却用の水が貯留されており、第2貯水タンク21内の水は第2送出ポンプ24によって第2貯水タンク21から加工装置3のスピンドル4に送出されている。
第2送出ポンプ24の送出圧は第2圧力検出手段25によって検出され、第2圧力検出手段25の検出結果に応じて第2送出ポンプ24の送出圧が調整されている。第2流路22上の第2送出ポンプ24の下流では、チラー等の第2冷却手段26によって水の温度が所定温度に冷却される。所定温度に冷却された水は第2フィルタ27を通過して、スピンドル冷却用の水として加工装置3内のスピンドル4に供給される。また、スピンドル冷却後の水は、循環流路23を通じて第2貯水タンク21内に戻されて、第2貯水タンク21とスピンドル4との間で循環されている。
また、第1系統10には、水温調整手段16の下流で第1流路12から分岐して第2貯水タンク21に連通する定温水供給流路31が設けられ、定温水供給流路31を通じて第1流路12から第2貯水タンク21に所定温度に調整された水が供給される。第2系統20には、第2送出ポンプ24の下流で第2流路22から分岐して第2貯水タンク21の水を外部へ排水する排水流路32が設けられている。第1流路12から定温水供給流路31への分岐箇所には、第2貯水タンク21への給水用の第1電磁弁33が配設され、第2流路22から排水流路32への分岐箇所には、第2貯水タンク21の排水用の第2電磁弁34が配設されている。
このように構成された水処理システム1では、所定のタイミングで、第2電磁弁34が開かれて第2貯水タンク21内の水が所定量だけ排水されると共に、第1電磁弁33が開かれて第1流路12内の水が第2貯水タンク21に所定量だけ供給される。第2貯水タンク21内の水が所定量ずつ入れ替わりながら、第2貯水タンク21と加工装置3のスピンドル4との間で水が循環されている。よって、第2貯水タンク21とスピンドル4とで循環する水の不純物濃度の上昇が抑えられると共に、第2貯水タンク21内のスピンドル冷却用の水が自動的に交換されている。
ところで、図2に示すように、一般的な貯水タンク61にはタンク本体62内の底板63に送出口64が開口されており、タンク内の水位が低くなるにつれて送出口64に流れ込む水流によって水面Sに渦Vが生じ易くなっている。貯水タンク61の水位は送出ポンプ65を作動させるのに必要な下限水位L1以上に保たれているが、下限水位L1付近まで水位が下がると水面Sに渦Vが生じ始める。この水面Sに生じた渦Vに気泡Bが巻き込まれて、水流と共に気泡Bが送出ポンプ65や管路等に入り込むことで、送出ポンプ65が空回りしたり、送出圧が低下したりするという不具合が生じる。
そこで、本実施の形態の第1、第2貯水タンク11、21では、タンク内に設けた渦防止プレート47(図3参照)によって水面での渦の発生を防止している。これにより、第1、第2貯水タンク11、12内の水面に渦が発生することがなく、第1、第2送出ポンプ14、24への気泡の混入を防止して適切な送出圧で加工装置3に向けて水を送出し続けることが可能になっている。
以下、図3を参照して、本実施の形態の第1貯水タンクについて説明する。図3は本実施の形態の第1貯水タンクの模式図である。なお、以下の説明では、第1貯水タンクを例示して説明するが、第2貯水タンクも同様な構成である。
図3に示すように、第1貯水タンク11は、水供給源2(図1参照)から供給された水を貯留して、第1送出ポンプ14で送出口46から水処理システム1(図1参照)へ送出するように構成されている。第1貯水タンク11のタンク本体41は、上面を開放した箱状に形成されており、水供給源2から供給された水を下限水位L1から上限水位L2までの所定量貯留している。タンク本体41の側板42には、タンク内の下限水位L1を検出する下限センサ44と上限水位L2を検出する上限センサ45とが設けられている。なお、下限水位L1は、第1送出ポンプ14によって加工装置3まで水を送出可能な水位に設定されている。
タンク本体41の底板43には送出口46が開口しており、この送出口46が第1送出ポンプ14を介して水処理システム1(図1参照)へ水を送出する送出配管51の管路内に連通している。タンク本体41の側板42には、送出口46の上方に少なくとも送出口46を覆うサイズの渦防止プレート47が配設され、渦防止プレート47によってタンク本体41に貯留されている水が送出口46から送出される際の渦の発生が防止される。また、渦防止プレート47は、下限水位L1より下でタンク本体41の底板43に接触しない高さに配設され、常に水面Sと送出口46の間に介在している。
なお、渦防止プレート47が側板42に配設される高さに応じて、渦防止プレート47のサイズが変更されることが好ましい。通常、水面Sに発生する渦の径は水面Sから送出口46に向かって小さくなるため、渦防止プレート47が低い位置に配設されるのに伴って渦防止プレート47のサイズを小さくすることができる。また、渦防止プレート47の高さは、タンク本体41のメンテナンス時に送出口46からオペレータの手が入る程度の空間が設けられることが好ましい。また、タンク本体41の側板42には供給口48が開口しており、この供給口48を介して水供給源2から水が供給される。
第1貯水タンク11では、上記の下限センサ44及び上限センサ45によって、タンク本体41への水の供給及びタンク本体41からの水の送出が調整されている。すなわち、上限センサ45で第1貯水タンク11の水位が上限水位L2まで上がったことが検出されると、第1貯水タンク11への水の供給が停止される。下限センサ44で第1貯水タンク11の水位が下限水位L1まで下がったことが検出されると、第1貯水タンク11からの水の送出が停止される。下限水位L1付近であっても下限水位L1に達するまでは第1送出ポンプ14が作動するが、渦防止プレート47に渦の発生が抑えられて第1送出ポンプ14への気泡の混入が防止されている。
以下、図4を参照して、渦防止プレートによる渦防止構造について説明する。図4は、本実施の形態の渦防止プレートによる渦防止構造の説明図である。なお、図4においても、第1貯水タンクを例示して説明するが、第2貯水タンクも同様な構成である。
図4Aに示すように、第1貯水タンク11には十分な水位が確保されており、第1送出ポンプ14によって送出口46から水が送出されている。送出口46の上方には渦防止プレート47が配設されているため、渦防止プレート47を避けるようにして送出口46に水が流れ込んでいる。送出口46の上方では渦防止プレート47を迂回するように流の向きが変えられているが、送出口46から渦防止プレート47が十分に離れているため、送出口46から水が送出され難くなることがない。そして、第1送出ポンプ14によって第1貯水タンク11から水が送出され続けることで、第1貯水タンク11内の水位が徐々に下がって下限水位L1に近づけられる。
図4Bに示すように、第1貯水タンク11内の水位が下限水位L1付近になった場合であっても、第1貯水タンク11内の水位が下限水位L1に達するまでは第1送出ポンプ14が停止されない。このとき、水面Sと送出口46との間が渦防止プレート47に遮られているため、第1貯水タンク11の送出口46に向かう水流によって、二点鎖線に示すような渦Vが生じることがない。すなわち、渦防止プレート47によって送出口46に向かう螺旋状の流れが阻害されているため、送出口46の真上の水面Sに渦Vを発生させるような流れが起こることがない。
このため、渦Vによって表面Sから気泡が巻き込まれないため、渦Vによって気泡が送出口46を通じて第1送出ポンプ14に入り込むことがない。よって、第1送出ポンプ14が空回りすることがなく、加工装置3(図1参照)に向けて適切に水を送出することが可能になっている。さらに、第1送出ポンプ14によって第1貯水タンク11から水が送出されると、第1貯水タンク11の水位が下限水位L1まで下がったことが下限センサ44に検出されて、水供給源2(図1参照)から供給口48を通じて第1貯水タンク11内に水が供給される。これにより、第1貯水タンク11の水位が上限水位L2まで上がったことが上限センサ45に検出されるまでは第1貯水タンク11内の水位が上昇される。
以上のように、本実施の形態の第1、第2貯水タンク11、21では、第1、第2送出ポンプ14、24によってタンク本体41に貯留された水が送出口46から加工装置3に向けて送出される。下限水位L1付近では、タンク本体41の水が送出口46に流れ込むことで水面Sに渦Vが生じ易くなるが、送出口46の上方が渦防止プレート47によって覆われているため水面Sに渦が現れることがない。このため、タンク本体41内の水位が下限水位L1に近づいても、渦Vによって水面Sから気泡が巻き込まれることがなく、第1、第2送出ポンプ14、24への気泡を防止して水処理システム1に対して適切に水を送出することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、上記した実施の形態において、水処理システム1として加工装置3に水を供給する供給システムを例示して説明したが、この構成に限定されない。水処理システムは、水を処理するシステムであればよく、例えば貯水タンクに貯留された排水を濾過して再利用するリサイクルシステムであってもよい。
また、上記した実施の形態において、タンク本体41が上面を開放した箱状に形成されたが、この構成に限定されない。タンク本体41は、水供給源2から供給された水を下限水位L1から上限水位L2までの所定量貯留する構成であればよく、例えば円筒状に形成されていてもよい。
また、上記した実施の形態において、渦防止プレート47は平坦な板状に形成されたが、この構成に限定されない。渦防止プレート47は、タンク本体41内の渦Vを遮るように配設されていれば、どのような形状に形成されていてもよい。例えば、渦防止プレート47は、網状に形成されてもよいし、プレートを貫通するスリットや細孔等が形成されていてもよい。また、渦防止プレート47の材質は限定されず、金属、合成樹脂、その他の材質で形成されてもよい。
また、上記した実施の形態において、渦防止プレート47がタンク本体41の側板42に配設されたが、この構成に限定されない。渦防止プレート47は送出口46の上方に配設されていればよく、例えば渦防止プレート47はタンク本体41の底板43から上方に突出したアームを介して底板43に支持されてもよい。
以上説明したように、本発明は、渦を発生させることなく、送出ポンプで適切に水を送出することができるという効果を有し、特に、切削装置や研削装置等の加工装置用の加工水や冷却水を貯留する貯水タンクに有用である。
1 水処理システム
2 水供給源
3 加工装置
4 スピンドル
11 第1貯水タンク(貯水タンク)
14 第1送出ポンプ(送出ポンプ)
21 第2貯水タンク(貯水タンク)
24 第2送出ポンプ(送出ポンプ)
41 タンク本体
43 タンク本体の底板
46 タンク本体の送出口
47 渦防止プレート
51 送出配管
L1 下限水位
L2 上限水位
2 水供給源
3 加工装置
4 スピンドル
11 第1貯水タンク(貯水タンク)
14 第1送出ポンプ(送出ポンプ)
21 第2貯水タンク(貯水タンク)
24 第2送出ポンプ(送出ポンプ)
41 タンク本体
43 タンク本体の底板
46 タンク本体の送出口
47 渦防止プレート
51 送出配管
L1 下限水位
L2 上限水位
Claims (1)
- 水供給源から供給された水を貯留し、送出ポンプで送出口から水処理する水処理システムへ送出する貯水タンクであって、
水供給源から供給された水を下限水位から上限水位までの所定量貯留するタンク本体と、
該タンク本体の底板に開口し送出ポンプを介して水を水処理システムへ送出する送出配管に連通する送出口と、
少なくとも該送出口を覆うサイズに形成され、該下限水位より下で該タンク本体の底板に接触しない高さで該送出口の上方に配設され、該タンク本体に貯留されている水が該送出口から送出される際に発生する渦を防止する渦防止プレートと、を備える貯水タンク。
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