JP2017157874A - 磁気抵抗素子の製造方法、及び磁気抵抗素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気抵抗素子の製造方法において、フリー層206と、第一の磁性層の下方に配置された固定層204と、フリー層206と固定層204の間に配置され絶縁層である障壁層204とが形成された基板201を準備する工程(左図、中図)と、フリー層206をプラズマエッチングにより加工する工程(右図)と、を有し、障壁層を構成する絶縁層702はTa元素又はTi元素を含有する。
【選択図】図7
Description
総ガス流量:60ccm、処理圧力:0.3Pa、ソース電力:1200W、ウェハバイアス電力:500W
非特許文献2によると、Arガスを用い直径200mmのウェハ上に作製した磁気抵抗素子を加工したところ、絶縁層の貫通により全体の一部からしか良品が得られなかった。同様の構成を用い、直径300mmのウェハ全面から良品が得られる方法を試算したところ、Arガスを用いた絶縁層選択比を3.67倍に増加させる必要がある。そのため、表1のArプロセスの絶縁層選択比1.6から考えると5.9以上の絶縁層選択比が必要である。
第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置され絶縁層である障壁層とが形成された基板を準備する工程と、
前記第一の磁性層をプラズマエッチングにより加工する工程と、を有する磁気抵抗素子
の製造方法において、
前記障壁層は、Ta元素又はTi元素を含有することを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法とする。
前記第二の磁性層の上に、絶縁層を構成する絶縁材料ターゲットと、Ta含有材料ターゲット又はTi含有材料ターゲットと、をスパッタすることによりTa元素又はTi元素を含有する絶縁層である障壁層を形成する工程と、
前記障壁層の上に第一の磁性層を形成する工程と、
前記第一の磁性層をプラズマエッチングにより加工する工程と、を有することを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法とする。
図4は本実施例1に係る磁気抵抗素子の製造方法において、磁気抵抗素子のフリー層をプラズマエッチングにより加工した後の模式図を示している。図4において、符号201はSi基板を、符号202は電極膜を、符号203は固定層の結晶性の制御や固定層の磁化を安定させるための下地層を、符号204は固定層を、符号401はTa含有絶縁層である(MgO)100−xTaxを、符号206はフリー層であるCoFeBを、符号207はフリー層を保護するためのキャップ層を、符号208はハードマスクを示しており、電極膜202から上の各層は基板201の上に順次形成する。又は、各層が形成された基板を準備してもよい。なお、本実施例では電極膜202として厚さ5nmのTa膜と10nmのRu膜との積層膜を、下地層203として厚さ5nmのTa層を、固定層204として厚さ5nmのCoFeB層を、フリー層206として厚さ4nmのCoFeB層を、キャップ層207として厚さ5nmのTa層と5nmのRu層の積層膜を、ハードマスク208として厚さ70nmのTa膜を用いた。また、Ta含有絶縁層401の厚さは2.1nmとした。なお、図4までの工程は基本的には図2と同様であるが、絶縁層205の組成や形成方法が異なる。図4に示す構造とした後、公知の方法により絶縁層以下の下層を加工し、磁気抵抗素子を作製した。
COガス流量:10ccm、NH3ガス流量:50ccm、処理圧力:0.3Pa、ソース電力:1200W、ウェハバイアス電力:300W
図5に示した通り、Ta含有率100vol%の場合は、絶縁層選択比80以上の高い値を示す。また、直径300mmのウェハ全面から良好な特性を示す磁気抵抗素子を作製するには絶縁層選択比5.9以上の達成が望ましいが、図5よりTaを5.1vol%以上含有すれば達成できることがわかる。
以上、本実施例によれば、フリー層に対する絶縁層選択比の高い磁気抵抗素子の製造方法を提供することができる。
以上、本実施例によれば、フリー層に対する絶縁層選択比の高い磁気抵抗素子の製造方法を提供することができる。
(1)外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転可能な磁性層であるフリー層と外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転しない磁性層である固定層と、前記フリー層と固定層に挟まれた絶縁層を含む多層膜構造の磁気抵抗素子において、前記絶縁層がTa元素を含有したTa含有絶縁層からなることを特徴とする。
(2)(1)に記載の磁気抵抗素子において、上記Ta含有絶縁層がMgOとTaを混合した物からなり、Ta含有層内に占めるTaの割合が5.1vol%以上、75.2vol%以下あることを特徴とする。
(3)外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転可能な磁性層であるフリー層と外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転しない磁性層である固定層と、前記フリー層と固定層に挟まれた絶縁層を含む多層膜構造の磁気抵抗素子において、前記絶縁層がTi元素を含有したTi含有絶縁層からなることを特徴とする。
(4)外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転可能な磁性層であるフリー層と外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転しない磁性層である固定層を含む多層膜構造の磁気抵抗素子において、前記固定層とフリー層の間に、2つの絶縁層に挟まれたTa含有層を挿入することを特徴とする。
(5)外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転可能な磁性層であるフリー層と外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転しない磁性層である固定層を含む多層膜構造の磁気抵抗素子において、前記固定層とフリー層の間に、2つのMgO層に挟まれたTa層を挿入することを特徴とする。
(6)外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転可能な磁性層であるフリー層と外部磁場やスピン注入により磁化の向きが反転しない磁性層である固定層を含む多層膜構造の磁気抵抗素子において、前記固定層とフリー層の間に、2つの絶縁層に挟まれたTi含有層を挿入することを特徴とする。
(7)上記(1)〜(6)に記載の磁気抵抗素子の製造方法において、フリー層をNH3ガス、またはCOガス、またはNH3ガスとCOガスとの混合ガス、またはCH3OHガスを用いたプラズマエッチングにより加工することを特徴とする。
また、固定層とフリー層の間に2つの絶縁層に挟まれたTa含有層またはTi含有層を挿入することで、フリー層に対する絶縁層選択比を高くすることができ、ウェハ全面で良好な特性を示す磁気抵抗素子を製造することができる。
Claims (15)
- 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、を成膜する工程を有し、
前記障壁層は、Ti元素を含有する絶縁層を含むことを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記絶縁層は、Ta元素および前記Ti元素以外の金属元素を含有する絶縁膜を成膜するためのターゲットである絶縁ターゲットと前記Ti元素を含有するターゲットであるTi含有ターゲットとをスパッタすることにより成膜されることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 前記絶縁ターゲットは、MgOターゲット、AlOターゲットまたはMgAlOターゲットであることを特徴とする請求項2に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 前記第一の磁性層は、磁化の向きが反転可能なフリー層であって、
前記第二の磁性層は、磁化の向きが反転しない固定層であることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記絶縁層は、さらにMg元素を含有することを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 前記障壁層は、第一の絶縁層と第二の絶縁層をさらに含み、
前記絶縁層は、前記第一の絶縁層と前記第二の絶縁層の間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記障壁層の厚さは、3nm未満であることを特徴とする請求項6に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 前記第一の絶縁層および前記第二の絶縁層がMgO膜であることを特徴とする請求項6に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、を成膜する工程を有し、
前記障壁層は、第一の絶縁層と、前記第一の絶縁層の下方に配置された第二の絶縁層と、前記第二の絶縁層の下方に配置された第三の絶縁層と、Ta元素またはTi元素を含有する第四の絶縁層と、を含み、
前記第四の絶縁層は、前記第一の絶縁層と前記第二の絶縁層の間および前記第二の絶縁層と第三の絶縁層の間に配置されていることを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、を成膜する工程を有し、
前記障壁層は、Mg元素およびTa元素を含有する絶縁層を含み、
前記絶縁層に対する前記Ta元素の含有率は、5.1 vol%以上、かつ、75.2vol%以下であることを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、を成膜する工程を有し、
前記障壁層は、Mg元素およびTa元素を含有する絶縁層を含み、
前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRp、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが反平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRapとしたとき、前記絶縁層に対する前記Ta元素の含有率をMR比={(Rap−Rp)/Rp}×100(%)が150%以上となる含有率とすることを特徴とする磁気抵抗素子の製造方法。 - 前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRp、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが反平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRapとしたとき、前記絶縁層に対する前記Ta元素の含有率をMR比={(Rap−Rp)/Rp}×100(%)が150%以上となる含有率とすることを特徴とする請求項10に記載の磁気抵抗素子の製造方法。
- 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、により構成され、
前記障壁層は、Ti元素を含有する絶縁層を含むことを特徴とする磁気抵抗素子。 - 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、により構成され、
前記障壁層は、Mg元素およびTa元素を含有する絶縁層を含み、
前記絶縁層に対する前記Ta元素の含有率は、5.1 vol%以上、かつ、75.2vol%以下であることを特徴とする磁気抵抗素子。 - 第一の磁性層と、前記第一の磁性層の下方に配置された第二の磁性層と、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の間に配置された障壁層と、により構成され、
前記障壁層は、Mg元素およびTa元素を含有する絶縁層を含み、
前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRp、前記第一の磁性層と前記第二の磁性層の磁化の向きが反平行の場合の前記第一の磁性層と前記第二の磁性層との間の電気抵抗をRapとしたとき、前記絶縁層に対する前記Ta元素の含有率をMR比={(Rap−Rp)/Rp}×100(%)が150%以上となる含有率とすることを特徴とする磁気抵抗素子。
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