JP2017156212A - 検査装置、検査方法及び物品の製造方法 - Google Patents

検査装置、検査方法及び物品の製造方法 Download PDF

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【課題】検査の感度の点で有利な検査装置を提供すること。【解決手段】ワーク10の表面である面100の画像に基づいて表面を検査する検査装置1は、面100を照明する照明部11と、照明部11により照明された面100を撮像して画像を出力する撮像部であるカメラ12と、照明部11とカメラ12とを制御し、カメラ12により出力された複数の画像に基づいて検査画像を生成する演算部15と、を有する。演算部15は、照明部11により面100を照明する方向ごとに、面100を分割して得られる複数の領域それぞれを、それに対して設定された撮像条件でカメラ12に撮像させる。【選択図】図1

Description

本発明は、検査装置、検査方法及び物品の製造方法に関する。
検査装置による対象部品の外観検査では、検査対象物上のスクラッチ状のキズのような立体的欠陥を検出するために、検査対象物を低角度で照明するローアングル照明が一般に使用される。しかし、ローアングル照明では、対象物上での明暗の差が大きくなり、それに伴って撮像部で得られた対象物の画像における階調の差が大きくなりうる。そして、階調レベルの低い部分では、それより階調レベルの高い部分に比較して、S/N比(信号対雑音比)が低くなる。特許文献1は、照明方位の互いに異なる複数の画像を撮像により得て合成する技術を開示している。
特開2014−215217号公報
しかしながら、特許文献1の技術は、複数の画像の中に上記のようなS/N比の低い(部分を含む)画像が含まれていると、それらを合成して得られる画像もS/N比の点で不利となり、もって欠陥検出(検査)の感度の点で不利となりうる。
本発明は、例えば、検査の感度の点で有利な検査装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、対象物の表面の検査を行う検査装置であって、前記表面を照明する照明部と、前記照明部により照明された前記表面を撮像して画像を出力する撮像部と、前記照明部と前記撮像部とを制御し、前記撮像部により出力された複数の画像に基づいて検査画像を生成する処理部と、を有する。前記処理部は、前記照明部により前記表面を照明する方向ごとに、前記表面を分割して得られる複数の領域それぞれを、それに対して設定された撮像条件で前記撮像部に撮像させる。
本発明によれば、例えば、検査の感度の点で有利な検査装置を提供することができる。
検査装置を示す概略図である。 照明部を説明するための概略図である。 照明部を説明するための概略図である。 分割領域と撮像条件の設定フローを示した図である。 検査画像の取得フローを示した図である。 各照明方位に対応した画像と分割領域を示した図である。
(第1実施形態)
本実施形態の検査装置1について、図1を参照しながら説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。図1は、本実施形態の検査装置1を示す概略図である。検査装置1は、例えば、工業製品に利用される金属部品や樹脂部品などのワーク10の検査を行う。本実施形態では、面100を有するワーク10について外観が検査される。検査装置1は、対象物であるワーク10の面100の取得画像に基づいて、面100上の検査領域内に生じている欠陥を検出し、当該ワークを良品と不良品のいずれかに分類する。検査領域は面100の全面に設定されても良いし、検査が不要な領域が除かれた部分に設定されても良い。ワーク10の表面としては梨地面があり、さらにキズや凹凸などの立体的な欠陥が生じていることがある。
検査装置1は、照明部11と、カメラ12と、制御部14と、演算部15と、表示部16と、入力部17を含む。ワーク10は、不図示の搬送装置により所定の位置へ搬送され、照明される。カメラ12は、ワーク10の面100を撮像可能な方向に配置され、照明部11によって照明されたワーク10を撮像して画像を取得する。カメラ12によって取得された面100の画像は、演算部15に転送される。
演算部15は、例えば、CPU15a(Central Processing Unit)、RAM15b(Randam Access Memory)、およびHDD15c(Hard Disk Drive)を含む情報処理装置を有する処理部である。演算部15は、カメラ12によって取得された画像について、後述する画像処理および画像合成により検査画像を生成する。さらに演算部15は、検査画像に基づき評価値を求め、求めた評価値と各グループにおける評価値の範囲(閾値)とに基づいてワークを良品と不良品のいずれかに分類する処理(分類処理)を実行する。CPU15aは、画像処理、画像合成、ワークを良品と不良品に分類するためのプログラムを実行し、RAM15b、HDD15cは、当該プログラムやデータを格納する。
表示部16は、例えばモニタを含み、演算部15によって実行された分類処理の結果を表示する。また、入力部17は、例えばキーボードやマウスなどを含み、ユーザーからの指示を演算部15に送信する。図1においては、上下方向にz軸をとり、z軸に垂直な平面内に互いに直交するx軸y軸をとっている。したがって、ワークを載置する面はxy面となる。
照明部11および撮像部であるカメラ12の詳細について、図2および図3を用いて説明する。図2、図3は照明部11の複数の光源を説明するための概略図であり、図1で示したxyz座標系に対してそれぞれxy面、xz面を見たイメージを表した図である。本実施形態においては照明部11は複数の光源を有するものとし、図2において照明部11には、複数の光源101、102、103、104、105、106、107、108が含まれる。この光源101から108は、例えば、矩形形状の発光面を持つ光源である。図2において複数の光源101から108の光軸をそれぞれ111、112、113、114、115、116、117、118とする。光源101から108は、面100を囲うように並んで配置されている。
また、図3で示すように、照明部11は、それぞれの光軸111から118がほぼ同じ角度で面100に照射するように設定されている。照明部11は傷などのエッジが強調されるローアングル照明で構成され、面100を側方方向から照明する。面100と光軸111〜118との間の角度は0度(水平)に近いほど好ましい。さらにカメラ12は、一点鎖線で示す光軸121が面100に対してほぼ垂直となり、且つ、光軸121が面100の中心を通るように設置される。なお、破線で示す領域122はカメラ12の撮像範囲を示す。本実施形態においては、各光源の光軸とは、発光面の中心近傍から発光面に垂直な方向に伸びる直線をさすものとする。
照明部11としては、リング状の照明を用いてその発光領域を分割して個別に発光できるようなものであっても良い。また、不図示の駆動部により光源101をワーク10を中心に回転させ、光源102〜108の役割を担う構成としても良い。さらに本実施形態では、光源を8つとしたが、光源の数は、ワークの大きさ、形状や光の反射特性などに応じてキズの可視化が可能となるように決めるものとする。
照明方向(照明方位)ごとに、各光源101から108の照明を1つずつまたは複数個同時に点灯し、面100を順次照明させる。そして、照明方向(照明方位)ごとに、複数の分割領域を設定し、その分割領域毎に撮像条件を設定することで、階調値分布の影響を軽減する事ができ、合成画像のノイズを減らす事ができる。撮影条件は、例えば、カメラ12の露光時間(撮像時間、蓄積時間)や光源101〜108の輝度(出力、照明強度)および照明時間のうちの少なくとも一つに関する条件であり、照明方向(照明方位)など露光量に関する条件である。以降の説明では、撮像条件として露光時間を設定する構成を説明する。
次に、分割領域と撮像条件の設定をする工程および検査画像を取得する工程について説明する。まず、分割領域と撮像条件の設定をする工程について図4を用いて説明する。図4は、分割領域と撮像条件の設定をする工程に関わる設定フローである。設定フローが開始されると、ステップS1において、演算部15は、照明方位(照明方向)A(k)および撮像条件出し画像B(k)の番号を示すkを初期化(k=1)する。
ステップS2において、演算部15は、予めHDD15cに保持されている照明方位A(k)を呼び出し、制御部14に命令を送付する。制御部14は、各光源101〜108から照明方位A(k)に対応する光源を点灯する。照明方位A(k)に対応する光源は、8つの光源のうちどれか1つであってもよいし、複数の光源を組み合わせたものであってもよい。その後、カメラ12に対して、初期露光時間(撮像条件)の設定を行う。この時、初期露光時間は、カメラ12のセンサにおいて検査領域内で階調値(輝度値)が例えば255を超える飽和状態とならない露光時間に設定する。次に、演算部15は、カメラ12に撮像開始を示すトリガー信号を送信し、カメラ12から出力される画像を撮像条件出し画像B(k)として演算部15のHDD15cに保存する。ステップS3において、撮像条件出し画像B(k)にローパスフィルタをかける。これは、ワーク10の表面が梨地面である場合など、その影響による高周波の階調値ムラを除去するために実施する。
ステップS4〜ステップS10までの処理は、画素毎に分割領域と対応する露光時間を設定する処理である。露光時間は、有効な階調値が得られるよう設定される。有効な階調値を得るために、画像の階調値に基づき画素ごとに階調値ばらつきを算出し、階調値ばらつきと閾値との比較により分割領域を設定し、分割領域ごとに階調値ばらつきが閾値以下となるように露光時間を設定する。ここで閾値は、例えば、各分割領域において有効な階調値が得られる許容範囲内の階調値ばらつきとなるよう設定される。
ステップS4において、分割領域C(k、m)および対応する露光時間T(k、m)の番号を示すmを初期化(m=1)する。さらに撮像条件出し画像B(k)の画素を表す番号nを初期化(n=1)する。以下の説明を簡単にするため、本実施形態においては、画素を表す番号nの順番は、階調値が大きい順番に並んでいるとする。ステップS5において、分割領域C(k、m)に対応した露光時間T(k、m)をステップS2で使用した初期露光時間と同じ値に設定し、演算部15のHDD15cに保存する。
ステップS6において、撮像条件出し画像B(k)のn番目の画素値(階調値)から、最大露光時間Tmax(n)および最小露光時間Tmin(n)を算出する。最大露光時間Tmax(n)は、初期露光時間に、カメラ12の飽和階調値をn番目の画素値で除算した商を乗算し、算出する。一方、最小露光時間Tmin(n)は、予め定めた必要階調値を用いて、初期露光時間に、必要階調値をn番目の画素値で除算した商を乗算し、算出する。最小露光時間Tmin(n)の算出は、必要階調値バラツキと階調値バラツキから算出しても良い。この場合、撮像条件出し画像B(k)を複数枚取得し、画素毎に標準偏差を算出し、階調値バラツキとする。さらに、最小露光時間Tmin(n)は、予め定めた必要階調値バラツキを用いて、初期露光時間に、必要階調値バラツキを階調値バラツキで除算した商の平方根を乗算し、算出する。
ステップS7において、露光時間T(k、m)とステップS6にて算出した最小露光時間Tmin(n)の比較と行い、露光時間T(k、m)が最小露光時間Tmin(n)以上の場合(図中のyes)には、後述するステップS9に進む。一方、露光時間T(k、m)が最小露光時間Tmin(n)以下の場合(図中のno)には、露光時間が不足しており、露光時間を更新するためにステップS8に進む。
ステップS8において、分割領域C(k、m)の番号を示すmを1つ増加させる。更新した分割領域C(k、m)に対する露光時間T(k、m)を最大露光時間Tmin(n)と同じ値となるように設定し、演算部15のHDD15cに保存する。ステップS9において、分割領域C(k、m)のグループにn番目の画素を加え、演算部15のHDD15cに保存する。
ステップS10において、画素を表す番号nを1つ増加させて、画素数との比較を行う。nが画素数より小さい場合(図中のno)は、ステップS6に戻り、ステップS5〜ステップS10の処理を繰り返す。一方、nが画素数より大きい場合(図中のyes)は、次のステップS11に進む。以上の工程で、照明方位A(k)における分割領域C(k、m)の設定と、それに対応した露光時間T(k、m)の設定が完了する。
ステップS11において、照明方位A(k)の番号を表すkを1つ増加させて、照明方位の総数との比較を行う。kが照明方位の総数より小さい場合(図中のno)は、ステップS2に戻り、照明方位を変化させて順次照明させ、kが照明方位の総数より大きくなるまで、ステップS2〜ステップS11を繰り返す。一方、kが照明方位の総数より大きい場合(図中のyes)は、分割領域と撮像条件の設定をする工程を終了する。以上の工程で、全ての照明方位において、必要階調値を満たす条件となる分割領域C(k、m)と対応する露光時間T(k、m)の設定を完了する。
次に、検査画像を取得する工程について、図5を用いて説明する。図5は、検査画像を取得する工程に関わるフローである。ステップS101〜ステップS105において、照明方位毎に複数の露光時間の条件で画像を取得する。その後、ステップS106〜ステップS116において、ステップS101〜ステップS105により得られた画像を用いて合成し、検査画像を作成する。
ステップS101において、照明方位A(k)の番号を示すkおよび露光時間T(k、m)を表す番号mを初期化(k=1、m=1)する。ステップS102において、演算部15は、HDD15cに保持されている照明方位A(k)を呼び出し、制御部14に命令を送付する。制御部14は、各光源101〜108から照明方位A(k)に対応する光源を点灯する。その後、カメラ12に対して、露光時間T(k、m)の設定を行う。次に、演算部15は、カメラ12に撮像開始を示すトリガー信号を送信し、カメラ12から出力される画像を画像D(k、m)として演算部15のHDD15cに保存する。カメラ12で出力する画像は、CMOSなどの機能を用いて、合成画像に使用する領域のみ、例えば、露光時間T(k、m)に対応する分割領域C(k、m)の領域のみ取得しても良い。この場合は、画像転送に掛かる時間が短くなるため、撮像タクトが短くなる利点がある。
ステップS103において、演算部15は、照明部11やカメラ12の特性、面100の光の反射特性に起因する階調値分布に対してシェーディング補正を行う。シェーディング補正は、画像D(k、m)全体が平均的に一様な明るさとなるように、予め照明方位毎に設定した補正値に基づき行う。さらに、演算部15は、シェーディング補正した画像D(k、m)に対して、飽和していない全画素の階調値の標準偏差を算出し、各画素の階調値を標準偏差で除算し、画像D(k、m)を規格化する。
ステップS104において、露光時間T(k、m)の番号を表すmを1つ増加させて、露光時間の総数との比較を行う。mが露光時間の総数より小さい場合(図中のno)は、ステップS102に戻り、ステップS102〜ステップS104の処理を繰り返す。一方、mが露光時間の総数より大きい場合(図中のyes)は、次のステップS105に進む。以上の工程で、一つの照明方位T(k、m)に対応した全ての露光時間T(k、m)における画像D(k、m)を取得する。
ステップS105において、照明方位A(k)の番号を表すkを1つ増加させて、照明方位総数との比較を行う。kが照明方位総数より小さい場合(図中のno)は、ステップS102に戻り、ステップS102〜ステップS105の処理を繰り返す。一方、kが照明方位総数より大きい場合(図中のyes)は、次のステップS106に進む。したがって、一つの照明方位T(k、m)に対応した全ての露光時間T(k、m)における画像D(k、m)の取得を、照明方位を変えて全ての照明方位A(k)について行う。以上の工程で、全ての照明方位A(k)に対応した全ての露光時間T(k、m)における画像D(k、m)の取得を完了する。
次に、取得した画像を入力画像として検査画像の生成を開始する。ステップS106〜ステップS116において、ステップS101〜ステップS105により得られた画像D(k、m)の全てを用いて合成し、検査画像を作成する。ステップS106において、画素を表す番号nを初期化(n=1)する。ステップS107において、照明方位A(k)の番号を示すkおよびn番目の画素の最大階調値および最小階調値を初期化する(k=1、最大階調値=0、最小階調値=飽和階調値)。ステップS108において、照明方位A(k)において、n番目の画素が属する分割領域C(k、m)を特定し、対応する露光時間T(k、m)から演算部15のHDD15cに保存されている画像D(k、m)を特定する。
ここでステップS108の工程に関して、図6を用いて詳細に説明する。図6は、縦軸に照明方位A(k)とし、横軸に各照明方位に対応した画像D(k、m)と画像D(k、m)中の分割領域C(k、m)を白抜きで示した図である。ステップS108において、n番目の画素が×印の箇所であった場合、照明方位A(1)においては、×印と白抜きの箇所が一致する分割領域C(1、1)が特定でき、画像D(1、1)を使用する画像として特定する。他の照明方位においても同様に、n番目の画素において使用する画像D(k、m)を特定する。×印の画素においては、画像D(1、1)、画像D(2、2)・・・、画像D(8、1)が特定される。
ステップS109において、ステップS108で特定した画像D(k、m)のn番目の画素値と最大階調値の比較を行い、n番目の画素値が最大階調値を上回る場合(図中のyes)には、ステップS110に進む。S110では、最大階調値にn番目の画素値を代入し、更新する。一方、下回る場合(図中のno)には、最大階調値の更新は、行わずに、ステップS111に進む。ここで、最大階調値は、前述の手法により使用する画像D(k、m)を適切に設定する事により、飽和階調値以下となる。
ステップS111において、ステップS108で特定した画像D(k、m)のn番目の画素値と最小階調値の比較を行う。n番目の画素値が最小階調値を下回る場合(図中のyes)には、ステップS112に進み、最小階調値にn番目の画素値を代入し、更新する。一方、上回る場合(図中のno)には、最小階調値の更新は、行わずに、ステップS113に進む。
ステップS113において、照明方位A(k)の番号を表すkを1つ増加させて、照明方位総数との比較を行う。kが照明方位総数より小さい場合(図中のno)は、ステップS108に戻り、ステップS108〜ステップS113の処理を繰り返す。一方、kが照明方位総数より小さい場合(図中のyes)は、次のステップS114に進む。以上の工程で、n番目の画素において、全ての照明方位における最大階調値および最小階調値の取得を完了する。ステップS114において、n番目の画素の最大階調値から最小階調値を減算した「最大−最小階調値」を算出し、演算部15のHDD15cに保存する。
ステップS115において、画素を表す番号nを1つ増加させて、画素の総数との比較を行う。nが画素の総数より小さい場合(図中のno)は、ステップS107に戻り、ステップS107〜ステップS115の処理を繰り返す。一方、nが画素の総数より大きい場合(図中のno)は、次のステップS116に進む。以上の工程で、全ての画素において、「最大−最小階調値」の取得を完了する。
ステップS116において、演算部15は、照明方位ごとに得られた複数の画素から代表値を得て、代表値に基づいて検査画像を生成する。具体的には、全ての画素に対する「最大−最小階調値」を用いて、画像D(k、m)と同じ座標を持つ2次元の座標に並べ替える統合を行い、検査画像の作成を行い、ワーク10の面100の検査画像の取得を行う。ここでは「最大−最小階調値(最大値−最小値)」が代表値である。こうして得られたワーク10の面100の検査画像を演算部15により欠陥の判定が行われる。なお、検査画像(合成画像)の生成について「最大−最小階調値」に基づく方法を説明したが検査画像の生成方法はこれに限られない。例えば、各照明方向における同一座標の画素の階調値のうち最も高い階調値に基づき検査画像を生成してもよいし、各照明方向における同一座標の画素の階調値のうち最も低い階調値に基づき検査画像を生成してもよい。
以上のように、検査画像の合成において、各領域に対して照明方位毎に適した露光時間で撮像した画像で合成する事が可能となり、合成画像である検査画像のノイズを低減した検査装置を提供することが出来る。本実施形態では、ステップS116において、代表値として「最大−最小階調値」を算出したが、最大階調値(最大値)および最小階調値(最小値)をそれぞれもしくは一方を用いてもよい。最大階調値のみを利用する場合は、最小階調値を求める必要がないのでS111およびS112は不要となる。逆に、最小階調値のみを利用する場合は、最大階調値を求める必要がないので、S109およびS110が不要となる。その場合には、演算が少なくなるため検査に要する時間の点で有利となる。
(物品の製造方法に係る実施形態)
以上に説明した実施形態に係る検査装置は、物品製造方法に使用しうる。当該物品製造方法は、当該検査装置を用いて物体の表面の検査を行う工程と、当該工程で当該検査を行われた当該物体または当該工程で当該検査を行われるべき当該物体の処理を行う工程と、を含みうる。当該処理は、例えば、加工、切断、搬送、組立(組付)、検査、および選別のうちの少なくともいずれか一つを含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストのうちの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
1 検査装置
10 ワーク
11 照明部
12 カメラ
14 制御部
15 演算部
100 面


Claims (12)

  1. 対象物の表面の検査を行う検査装置であって、
    前記表面を照明する照明部と、
    前記照明部により照明された前記表面を撮像して画像を出力する撮像部と、
    前記照明部と前記撮像部とを制御し、前記撮像部により出力された複数の画像に基づいて検査画像を生成する処理部と、を有し、
    前記処理部は、前記照明部により前記表面を照明する方向ごとに、前記表面を分割して得られる複数の領域それぞれを、それに対して設定された撮像条件で前記撮像部に撮像させることを特徴とする検査装置。
  2. 前記処理部は、前記複数の領域を前記画像の画素ごとの階調値に基づいて設定することを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
  3. 前記処理部は、前記複数の領域それぞれにおける前記階調値のばらつきが許容範囲内になるように前記複数の領域を設定することを特徴とする請求項2に記載の検査装置。
  4. 前記処理部は、前記撮像条件として、前記撮像部への露光量に関する条件を設定することを特徴とする請求項1ないし3のうちいずれか1項に記載の検査装置。
  5. 前記処理部は、各画素について、複数の前記方向に関してそれぞれ得られた複数の画像に基づいて代表値を得ることにより、前記検査画像を生成することを特徴とする請求項1ないし4のうちいずれか1項に記載の検査装置。
  6. 前記処理部は、前記代表値として最大値および最小値のうち少なくとも一方を得ることを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  7. 前記処理部は、前記代表値として最大値と最小値との差を得ることを特徴とする請求項5に記載の検査装置。
  8. 前記照明部は、複数の方位から前記表面を順次照明することを特徴とする請求項1ないし7のうちいずれか1項に記載の検査装置。
  9. 前記撮像部は、前記複数の領域それぞれごとに画像を出力することを特徴とする請求項1ないし8のうちいずれか1項に記載の検査装置。
  10. 前記処理部は、前記撮像部により出力された画像にシェーディング補正を行うことを特徴とする請求項1ないし9のうちいずれか1項に記載の検査装置。
  11. 対象物の表面の検査を行う検査方法であって、
    前記表面を照明する方向ごとに、前記表面を分割して得られる複数の領域それぞれに関し、それに対して設定された撮像条件で撮像を行わせ、
    前記撮像により得られた複数の画像に基づいて検査画像を生成することを特徴とする検査方法。
  12. 請求項1ないし10のうちいずれか1項に記載の検査装置を用いて物体の表面の検査を行う工程と、
    前記工程で前記検査を行われた前記物体または前記工程で前記検査を行われるべき前記物体の処理を行う工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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