JP2017154901A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107818559B (zh) * 2017-09-22 2021-08-20 太原理工大学 晶体接种状态检测方法和晶体接种状态图像的采集装置
JP6885301B2 (ja) * 2017-11-07 2021-06-09 株式会社Sumco 単結晶の製造方法及び装置
WO2021124708A1 (ja) * 2019-12-18 2021-06-24 株式会社Sumco 単結晶製造システム及び単結晶製造方法
TWI770661B (zh) * 2020-04-20 2022-07-11 日商Ｓｕｍｃｏ股份有限公司 單結晶製造裝置及單結晶的製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI911856A (fi) * 1990-04-27 1991-10-28 Nippon Kokan Kk Foerfarande och apparat foer bestaemning av diametern hos en enskild silikonkristall.
JP3484758B2 (ja) * 1994-05-17 2004-01-06 三菱住友シリコン株式会社 結晶成長装置及び結晶成長方法
US5922127A (en) * 1997-09-30 1999-07-13 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield for crystal puller
JP4089500B2 (ja) * 2003-05-06 2008-05-28 株式会社Ｓｕｍｃｏ 単結晶引き上げ装置内の融液の液面位置測定方法
JP4918897B2 (ja) * 2007-08-29 2012-04-18 株式会社Ｓｕｍｃｏ シリコン単結晶引上方法
TWI411709B (zh) * 2009-03-27 2013-10-11 Sumco Corp 單晶直徑的控制方法
JP5678635B2 (ja) * 2010-12-13 2015-03-04 株式会社Sumco シリコン単結晶の製造装置、シリコン単結晶の製造方法
JP5664573B2 (ja) * 2012-02-21 2015-02-04 信越半導体株式会社 シリコン融液面の高さ位置の算出方法およびシリコン単結晶の引上げ方法ならびにシリコン単結晶引上げ装置
JP6078974B2 (ja) * 2012-04-04 2017-02-15 株式会社Sumco シリコン単結晶の製造方法
JP5924090B2 (ja) * 2012-04-12 2016-05-25 株式会社Sumco 単結晶引き上げ方法

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