JP2017151074A - Reflective encoder scale, reflective encoder scale production method, and encoder unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、物体の変位量または変位方向を検出する反射型エンコーダスケール、反射型エンコーダスケールの製造方法、及びエンコーダユニットに関する。 The present invention relates to a reflective encoder scale that detects the amount or direction of displacement of an object, a method for manufacturing a reflective encoder scale, and an encoder unit.
湾曲可能で、高精度に微小位置変位の測定ができる反射型エンコーダスケールが提案されている（特許文献１）。
特許文献１は、表面から光を入射する透光性樹脂基板と、所定のパターンにて透光性樹脂基板の裏面に形成した光反射用金属膜と、光反射用金属膜で反射されない光を吸収する低反射層とを備えた反射型エンコーダスケールであり、光反射用金属膜を粘着層で覆うことで、光反射用金属膜が外面に露出することを防止し、光反射用金属膜が外面に露出することによる酸化劣化を抑制している。
A reflective encoder scale that can be bent and can measure a minute position displacement with high accuracy has been proposed (Patent Document 1).
Patent Document 1 discloses a translucent resin substrate on which light is incident from the front surface, a light reflecting metal film formed on the back surface of the translucent resin substrate in a predetermined pattern, and light that is not reflected by the light reflecting metal film. It is a reflective encoder scale with a low reflective layer that absorbs, and the light reflecting metal film is covered with an adhesive layer to prevent the light reflecting metal film from being exposed to the outer surface. Oxidation deterioration due to exposure to the outer surface is suppressed.
特許文献１は、粘着層で光反射用金属膜を覆うことで酸化劣化の抑制効果はあるが、高温高湿条件下では、十分な防湿性能を得ることができない。 Patent Document 1 has an effect of suppressing oxidative deterioration by covering the light-reflecting metal film with an adhesive layer. However, sufficient moisture-proof performance cannot be obtained under high-temperature and high-humidity conditions.
本発明は、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる反射型エンコーダスケールを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a reflective encoder scale capable of obtaining sufficient moisture-proof performance even under high temperature and high humidity conditions.
請求項１記載の本発明の反射型エンコーダスケールは、表面から光を入射する透光性樹脂基板と、所定のパターンにて前記透光性樹脂基板の裏面に形成した光反射用金属膜と、前記光反射用金属膜で反射されない前記光を吸収する低反射層とを備えた反射型エンコーダスケールであって、前記光反射用金属膜にレジストを付着させたことを特徴とする。
請求項２記載の本発明は、請求項１に記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記低反射層を、粘着層によって前記レジスト又は前記透光性樹脂基板の前記裏面に貼り合わせ、前記レジストを、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストとしたことを特徴とする。
請求項３記載の本発明は、請求項１に記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記低反射層を、前記レジスト及び前記透光性樹脂基板の前記裏面に形成し、前記レジストを、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストとしたことを特徴とする。
請求項４記載の本発明は、請求項２又は請求項３に記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記低反射層に、更に樹脂層を積層したことを特徴とする。
請求項５記載の本発明は、請求項２から請求項４のいずれかに記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記光反射用金属膜を、アルミニウム蒸着膜としたことを特徴とする。
請求項６記載の本発明は、請求項３に記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記低反射層を、黒色ソルダーレジスト、黒色塗料、黒色蒸着膜、又は黒色めっきとしたことを特徴とする。
請求項７記載の本発明は、請求項２に記載の反射型エンコーダスケールにおいて、前記粘着層として、透明粘着剤を用いたことを特徴とする。
The reflective encoder scale according to the first aspect of the present invention includes a translucent resin substrate on which light is incident from the surface, a light reflecting metal film formed on the back surface of the translucent resin substrate in a predetermined pattern, A reflective encoder scale comprising a low reflective layer that absorbs the light that is not reflected by the light reflecting metal film, wherein a resist is attached to the light reflecting metal film.
The present invention according to claim 2 is the reflective encoder scale according to claim 1, wherein the low reflective layer is bonded to the resist or the back surface of the translucent resin substrate with an adhesive layer, A rubber-based photoresist or an epoxy-based photoresist is used.
According to a third aspect of the present invention, in the reflective encoder scale according to the first aspect, the low reflective layer is formed on the back surface of the resist and the translucent resin substrate. A resist or an epoxy photoresist is used.
According to a fourth aspect of the present invention, in the reflective encoder scale according to the second or third aspect, a resin layer is further laminated on the low reflective layer.
According to a fifth aspect of the present invention, in the reflective encoder scale according to any one of the second to fourth aspects, the light reflecting metal film is an aluminum vapor deposition film.
According to a sixth aspect of the present invention, in the reflective encoder scale according to the third aspect, the low reflective layer is a black solder resist, a black paint, a black deposited film, or a black plating.
The present invention according to claim 7 is the reflective encoder scale according to claim 2, wherein a transparent adhesive is used as the adhesive layer.
本発明の反射型エンコーダスケールによれば、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。 According to the reflective encoder scale of the present invention, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions.
本発明の第１の実施の形態による反射型エンコーダスケールは、光反射用金属膜にレジストを付着させたものである。本実施の形態によれば、光反射用金属膜にレジストを付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。 The reflective encoder scale according to the first embodiment of the present invention is obtained by attaching a resist to a light reflecting metal film. According to the present embodiment, since the resist is attached to the light reflecting metal film, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions.
本発明の第２の実施の形態は、第１の実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、低反射層を、粘着層によってレジスト又は透光性樹脂基板の裏面に貼り合わせ、レジストを、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストとしたものである。本実施の形態によれば、低反射層を粘着層によって貼り合わせても、レジストによって光反射用金属膜を覆っているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。また、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストは、粘着性酸化防止膜よりも酸素透過性が低く酸化防止効果が高く、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。更に、ゴム系フォトレジストを０．５〜２μｍの薄膜で用いることで微細なパターン形成を得ることができる。 According to a second embodiment of the present invention, in the reflective encoder scale according to the first embodiment, a low reflective layer is bonded to the back surface of a resist or a translucent resin substrate with an adhesive layer, and the resist is made of rubber. It is a photoresist or an epoxy photoresist. According to this embodiment, even if the low reflective layer is bonded by the adhesive layer, the light reflecting metal film is covered with the resist, so that sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions. In addition, the rubber-based photoresist or the epoxy-based photoresist has a lower oxygen permeability and a higher antioxidant effect than the adhesive antioxidant film, and can obtain sufficient moisture-proof performance even under high temperature and high humidity conditions. Furthermore, fine pattern formation can be obtained by using a rubber-based photoresist as a thin film of 0.5 to 2 μm.
本発明の第３の実施の形態は、第１の実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、低反射層を、レジスト及び透光性樹脂基板の裏面に形成し、レジストを、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストとしたものである。本実施の形態によれば、レジストによって光反射用金属膜を覆っているので、低反射層を透光性樹脂基板の裏面に直接形成することができ、光反射用金属膜と低反射層とにギャップがないためセンシング精度が高まる。また、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストは、粘着性酸化防止膜よりも酸素透過性が低く酸化防止効果が高く、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。更に、ゴム系フォトレジストを０．５〜２μｍの薄膜で用いることで微細なパターン形成を得ることができる。 According to a third embodiment of the present invention, in the reflective encoder scale according to the first embodiment, a low reflective layer is formed on the back surface of a resist and a translucent resin substrate, and the resist is a rubber-based photoresist or It is an epoxy photoresist. According to the present embodiment, since the light reflecting metal film is covered with the resist, the low reflection layer can be directly formed on the back surface of the translucent resin substrate, and the light reflecting metal film, the low reflection layer, Sensing accuracy is improved because there is no gap. In addition, the rubber-based photoresist or the epoxy-based photoresist has a lower oxygen permeability and a higher antioxidant effect than the adhesive antioxidant film, and can obtain sufficient moisture-proof performance even under high temperature and high humidity conditions. Furthermore, fine pattern formation can be obtained by using a rubber-based photoresist as a thin film of 0.5 to 2 μm.
本発明の第４の実施の形態は、第２又は第３の実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、低反射層に、更に樹脂層を積層したものである。本実施の形態によれば、低反射層を樹脂層で覆うことで、低反射層を保護することができる。 The fourth embodiment of the present invention is a reflection type encoder scale according to the second or third embodiment, in which a resin layer is further laminated on a low reflection layer. According to the present embodiment, the low reflection layer can be protected by covering the low reflection layer with the resin layer.
本発明の第５の実施の形態は、第２から第４のいずれかの実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、光反射用金属膜を、アルミニウム蒸着膜としたものである。本実施の形態によれば、アルミニウムを用いることで広い波長域で高い正反射率を得ることができ、蒸着膜とすることで微細パターンを精度よく形成できる。 The fifth embodiment of the present invention is a reflective encoder scale according to any one of the second to fourth embodiments, wherein the light reflecting metal film is an aluminum vapor deposition film. According to the present embodiment, it is possible to obtain a high regular reflectance in a wide wavelength range by using aluminum, and it is possible to form a fine pattern with high accuracy by using a vapor deposition film.
本発明の第６の実施の形態は、第３の実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、低反射層を、黒色ソルダーレジスト、黒色塗料、黒色蒸着膜、又は黒色めっきとしたものである。本実施の形態によれば、レジストによって光反射用金属膜を覆っているので、低反射層として黒色ソルダーレジスト、黒色塗料、黒色蒸着膜、又は黒色めっきを透光性樹脂基板の裏面に直接形成することができ、光反射用金属膜と低反射層とにギャップがないためセンシング精度が高まる。 In the reflective encoder scale according to the third embodiment, the sixth embodiment of the present invention is such that the low reflective layer is a black solder resist, a black paint, a black deposited film, or a black plating. According to this embodiment, since the metal film for light reflection is covered with the resist, a black solder resist, black paint, black vapor deposition film, or black plating is directly formed on the back surface of the translucent resin substrate as the low reflection layer. Since there is no gap between the light reflecting metal film and the low reflection layer, the sensing accuracy is increased.
本発明の第７の実施の形態は、第２の実施の形態による反射型エンコーダスケールにおいて、粘着層として、透明粘着剤を用いたものである。本実施の形態によれば、レジストによって光反射用金属膜を覆っているので、高い防湿性能を得ることができ、透明粘着剤を用いて低反射層を貼り合わせることができる。 The seventh embodiment of the present invention uses a transparent adhesive as the adhesive layer in the reflective encoder scale according to the second embodiment. According to this embodiment, since the metal film for light reflection is covered with the resist, high moisture-proof performance can be obtained, and the low reflective layer can be bonded using the transparent adhesive.
以下本発明の実施例について図面とともに説明する。
図１は本発明の実施例による反射型エンコーダスケールを示す要部断面図である。
図１（ａ）は、第１実施例による反射型エンコーダスケールであり、表面１１から光を入射する透光性樹脂基板１０と、所定のパターンにて透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成した光反射用金属膜２０と、光反射用金属膜２０で反射されない光を吸収する低反射層３０とを備え、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させたものである。
低反射層３０は、粘着層５０によってレジスト４０及び透光性樹脂基板１０の裏面１２に貼り合わせている。粘着層５０には、透明粘着剤を用いている。
第１実施例によれば、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。
また第１実施例によれば、レジスト４０によって光反射用金属膜２０を覆っているので、高い防湿性能を得ることができ、透明粘着剤５０を用いて低反射層３０を貼り合わせることができる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part showing a reflective encoder scale according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1A shows a reflective encoder scale according to the first embodiment, which is formed on a rear surface 12 of a translucent resin substrate 10 having a predetermined pattern and a translucent resin substrate 10 that receives light from the front surface 11. The light reflecting metal film 20 and the low reflection layer 30 that absorbs light that is not reflected by the light reflecting metal film 20 are provided, and a resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20.
The low reflection layer 30 is bonded to the resist 40 and the back surface 12 of the translucent resin substrate 10 by the adhesive layer 50. A transparent adhesive is used for the adhesive layer 50.
According to the first embodiment, since the resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions.
Further, according to the first embodiment, since the light reflecting metal film 20 is covered with the resist 40, high moisture-proof performance can be obtained, and the low reflective layer 30 can be bonded using the transparent adhesive 50. .
図１（ｂ）は、第２実施例による反射型エンコーダスケールであり、表面１１から光を入射する透光性樹脂基板１０と、所定のパターンにて透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成した光反射用金属膜２０と、光反射用金属膜２０で反射されない光を吸収する低反射層３０とを備え、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させたものである。
低反射層３０は、レジスト４０及び透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成している。低反射層３０には、黒色ソルダーレジスト、黒色塗料（インク）、黒色蒸着膜、又は黒色めっきが適している。低反射層３０として、黒色ソルダーレジスト、黒色塗料、黒色蒸着膜、又は黒色めっきを用いることで、粘着剤を用いずに積層することができる。
第２実施例によれば、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。
また第２実施例によれば、レジスト４０によって光反射用金属膜２０を覆っているので、低反射層３０として黒色ソルダーレジスト、黒色塗料、黒色蒸着膜、又は黒色めっきを透光性樹脂基板１０の裏面１２に直接形成することができ、光反射用金属膜２０と低反射層３０とにギャップがないためセンシング精度が高まる。
FIG. 1B shows a reflective encoder scale according to the second embodiment, which is formed on the rear surface 12 of the translucent resin substrate 10 in a predetermined pattern and the translucent resin substrate 10 that receives light from the front surface 11. The light reflecting metal film 20 and the low reflection layer 30 that absorbs light that is not reflected by the light reflecting metal film 20 are provided, and a resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20.
The low reflection layer 30 is formed on the resist 40 and the back surface 12 of the translucent resin substrate 10. A black solder resist, black paint (ink), black vapor deposition film, or black plating is suitable for the low reflection layer 30. By using a black solder resist, a black paint, a black vapor-deposited film, or a black plating as the low reflective layer 30, the low reflective layer 30 can be laminated without using an adhesive.
According to the second embodiment, since the resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions.
Further, according to the second embodiment, since the light reflecting metal film 20 is covered with the resist 40, a black solder resist, black paint, black vapor deposition film, or black plating is used as the low reflection layer 30. Since the gap between the light reflection metal film 20 and the low reflection layer 30 is not present, the sensing accuracy is improved.
図１（ｃ）は、第３実施例による反射型エンコーダスケールであり、表面１１から光を入射する透光性樹脂基板１０と、所定のパターンにて透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成した光反射用金属膜２０と、光反射用金属膜２０で反射されない光を吸収する低反射層３０とを備え、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させたものである。
低反射層３０は、レジスト４０及び透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成している。低反射層３０には黒色粘着剤を用いる。
透明な樹脂層６０は、低反射層３０となる黒色粘着剤を用いて透光性樹脂基板１０の裏面１２に積層される。
第３実施例によれば、光反射用金属膜２０にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。
また第３実施例によれば、レジスト４０によって光反射用金属膜２０を覆っているので、低反射層３０として黒色粘着剤を透光性樹脂基板１０の裏面１２に直接形成することができ、光反射用金属膜２０と低反射層３０とにギャップがないためセンシング精度が高まる。
また第３実施例によれば、低反射層３０を樹脂層６０で覆うことで、低反射層３０を保護することができる。
FIG. 1C shows a reflective encoder scale according to the third embodiment, which is formed on the rear surface 12 of the translucent resin substrate 10 in a predetermined pattern and the translucent resin substrate 10 that receives light from the front surface 11. The light reflecting metal film 20 and the low reflection layer 30 that absorbs light that is not reflected by the light reflecting metal film 20 are provided, and a resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20.
The low reflection layer 30 is formed on the resist 40 and the back surface 12 of the translucent resin substrate 10. A black adhesive is used for the low reflection layer 30.
The transparent resin layer 60 is laminated on the back surface 12 of the translucent resin substrate 10 using a black adhesive that becomes the low reflection layer 30.
According to the third embodiment, since the resist 40 is attached to the light reflecting metal film 20, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions.
According to the third embodiment, since the light reflecting metal film 20 is covered with the resist 40, the black adhesive can be directly formed on the back surface 12 of the translucent resin substrate 10 as the low reflective layer 30. Since there is no gap between the light reflection metal film 20 and the low reflection layer 30, sensing accuracy is increased.
According to the third embodiment, the low reflection layer 30 can be protected by covering the low reflection layer 30 with the resin layer 60.
各実施例による反射型エンコーダスケールでは、透光性樹脂基板１０には、ポリカーボネート樹脂基板が適しているが、ポリエチレンテレフタレート、アクリルなどの樹脂を用いることができる。透光性樹脂基板１０は、１μｍ〜５００μｍの樹脂フィルム又は樹脂シートで構成される。
光反射用金属膜２０には、アルミニウム膜が適しており、透光性樹脂基板１０に蒸着させて形成することが適している。アルミニウムを用いることで広い波長域で高い正反射率を得ることができ、蒸着膜とすることで微細パターンを精度よく形成できる。
レジスト４０には、ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストが適している。ゴム系フォトレジスト又はエポキシ系フォトレジストは、粘着性酸化防止膜よりも酸素透過性が低く酸化防止効果が高く、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる。更に、ゴム系フォトレジストを０．５〜２μｍの薄膜で用いることで微細なパターン形成を得ることができる。
In the reflective encoder scale according to each embodiment, a polycarbonate resin substrate is suitable for the translucent resin substrate 10, but a resin such as polyethylene terephthalate or acrylic can be used. The translucent resin substrate 10 is composed of a 1 μm to 500 μm resin film or resin sheet.
An aluminum film is suitable for the light reflecting metal film 20, and it is suitable to be formed by vapor deposition on the translucent resin substrate 10. By using aluminum, a high regular reflectance can be obtained in a wide wavelength range, and a fine pattern can be formed with high accuracy by using a deposited film.
A rubber-based photoresist or an epoxy-based photoresist is suitable for the resist 40. A rubber-based photoresist or an epoxy-based photoresist has a lower oxygen permeability and a higher antioxidant effect than an adhesive antioxidant film, and a sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high temperature and high humidity conditions. Furthermore, fine pattern formation can be obtained by using a rubber-based photoresist as a thin film of 0.5 to 2 μm.
本発明による反射型エンコーダユニットは、光源７１と、光センサ７２とを備え、光源７１から反射型エンコーダスケールに照射された光の内、光反射用金属膜２０で反射した反射光を光センサ７２で検出する。このように本発明によれば、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができる反射型エンコーダユニットを提供することができる。 The reflective encoder unit according to the present invention includes a light source 71 and an optical sensor 72. Of the light irradiated from the light source 71 to the reflective encoder scale, the reflected light reflected by the light reflecting metal film 20 is detected by the optical sensor 72. Detect with. As described above, according to the present invention, it is possible to provide a reflective encoder unit capable of obtaining sufficient moisture-proof performance even under high temperature and high humidity conditions.
図２は、第１実施例による反射型エンコーダスケールの製造工程図である。
図２（ａ）は材料、図２（ｂ）はレジストコーティング工程、図２（ｃ）は露光・現像工程、図２（ｄ）はエッチング工程、図２（ｅ）は低反射層形成工程である。光反射用金属膜２０には、アルミニウム層２１を用いている。
FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the reflective encoder scale according to the first embodiment.
2A is a material, FIG. 2B is a resist coating process, FIG. 2C is an exposure / development process, FIG. 2D is an etching process, and FIG. 2E is a low reflection layer forming process. is there. An aluminum layer 21 is used for the light reflecting metal film 20.
図２（ａ）に示すように、アルミニウム層２１を一方の面に備えた透光性樹脂基板１０を用いる。
図２（ｂ）に示すレジストコーティング工程では、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させる。
図２（ｃ）に示す露光・現像工程は、レジストコーティング工程の後に行う。
露光・現像工程では、レジスト４０を露光・現像し、一部のレジスト４０を除去することで、所定のレジストパターンを形成する。
図２（ｄ）に示すエッチング工程は露光・現像工程の後に行う。
エッチング工程では、露出したアルミニウム層２１をエッチングする。
図２（ｅ）に示す低反射層形成工程はエッチング工程の後に行う。
低反射層形成工程は、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させた状態で、低反射層３０を透明粘着剤５０によってレジスト４０及び透光性樹脂基板１０に貼り合わせる。
As shown in FIG. 2A, a translucent resin substrate 10 having an aluminum layer 21 on one surface is used.
In the resist coating process shown in FIG. 2B, a resist 40 is attached to the aluminum layer 21.
The exposure / development process shown in FIG. 2C is performed after the resist coating process.
In the exposure / development step, the resist 40 is exposed / developed, and a part of the resist 40 is removed to form a predetermined resist pattern.
The etching process shown in FIG. 2D is performed after the exposure / development process.
In the etching process, the exposed aluminum layer 21 is etched.
The low reflective layer forming step shown in FIG. 2E is performed after the etching step.
In the low reflection layer forming step, the low reflection layer 30 is bonded to the resist 40 and the translucent resin substrate 10 with the transparent adhesive 50 in a state where the resist 40 is attached to the aluminum layer 21.
本実施例によれば、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができ、エッチング工程の後のレジスト剥離工程を経ないために生産性が高いとともに、アルミニウム層２１が薬液に触れることがないために薬液残渣による腐食が生じない。 According to this embodiment, since the resist 40 is attached to the aluminum layer 21, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high-temperature and high-humidity conditions. Since the aluminum layer 21 does not come into contact with the chemical solution, corrosion due to the chemical solution residue does not occur.
図３は、第２実施例による反射型エンコーダスケールの製造工程図である。
図３（ａ）は材料、図３（ｂ）はレジストコーティング工程、図３（ｃ）は露光・現像工程、図３（ｄ）はエッチング工程、図３（ｅ）は低反射層形成工程である。光反射用金属膜２０には、アルミニウム層２１を用いている。
図３（ａ）から図３（ｄ）は、図２（ａ）から図２（ｄ）までと同一であるため説明を省略する。
図３（ｅ）に示す低反射層形成工程は、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させた状態で、低反射層３０をレジスト４０及び透光性樹脂基板１０の裏面１２に形成する。
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of a reflective encoder scale according to the second embodiment.
3A is a material, FIG. 3B is a resist coating process, FIG. 3C is an exposure / development process, FIG. 3D is an etching process, and FIG. 3E is a low reflection layer forming process. is there. An aluminum layer 21 is used for the light reflecting metal film 20.
Since FIG. 3A to FIG. 3D are the same as FIG. 2A to FIG. 2D, description thereof will be omitted.
In the low reflection layer forming step shown in FIG. 3 (e), the low reflection layer 30 is formed on the resist 40 and the back surface 12 of the translucent resin substrate 10 with the resist 40 attached to the aluminum layer 21.
本実施例によれば、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができ、エッチング工程の後のレジスト剥離工程を経ないために生産性が高いとともに、アルミニウム層２１が薬液に触れることがないために薬液残渣による腐食が生じない。また、本実施の形態によれば、レジスト４０によってアルミニウム層２１を覆っているので、低反射層３０を透光性樹脂基板１０の裏面１２に直接形成することができ、アルミニウム層２１と低反射層３０とにギャップがないためセンシング精度が高まる。 According to this embodiment, since the resist 40 is attached to the aluminum layer 21, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high-temperature and high-humidity conditions. Since the aluminum layer 21 does not come into contact with the chemical solution, corrosion due to the chemical solution residue does not occur. Moreover, according to this Embodiment, since the aluminum layer 21 is covered with the resist 40, the low reflection layer 30 can be formed directly on the back surface 12 of the translucent resin substrate 10, and the aluminum layer 21 and the low reflection can be formed. Sensing accuracy is increased because there is no gap with the layer 30.
図４は、第３実施例による反射型エンコーダスケールの製造工程図である。
図４（ａ）は材料、図４（ｂ）はレジストコーティング工程、図４（ｃ）は露光・現像工程、図４（ｄ）はエッチング工程、図４（ｅ）は低反射層形成工程である。光反射用金属膜２０には、アルミニウム層２１を用いている。
図４（ａ）から図４（ｄ）は、図２（ａ）から図２（ｄ）までと同一であるため説明を省略する。
図４（ｅ）に示す低反射層形成工程は、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させた状態で、樹脂層６０を黒色粘着剤３０によってレジスト４０及び透光性樹脂基板１０に貼り合わせる。
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of a reflective encoder scale according to the third embodiment.
4A is a material, FIG. 4B is a resist coating process, FIG. 4C is an exposure / development process, FIG. 4D is an etching process, and FIG. 4E is a low reflection layer forming process. is there. An aluminum layer 21 is used for the light reflecting metal film 20.
4 (a) to 4 (d) are the same as FIGS. 2 (a) to 2 (d), and a description thereof will be omitted.
In the low reflection layer forming step shown in FIG. 4E, the resin layer 60 is bonded to the resist 40 and the translucent resin substrate 10 with the black adhesive 30 in a state where the resist 40 is attached to the aluminum layer 21.
本実施例によれば、アルミニウム層２１にレジスト４０を付着させているので、高温高湿条件下でも十分な防湿性能を得ることができ、エッチング工程の後のレジスト剥離工程を経ないために生産性が高いとともに、アルミニウム層２１が薬液に触れることがないために薬液残渣による腐食が生じない。また、本実施の形態によれば、レジスト４０によってアルミニウム層２１を覆っているので、低反射層３０としての黒色粘着剤を透光性樹脂基板１０の裏面１２に直接用いることができ、アルミニウム層２１と低反射層３０とにギャップがないためセンシング精度が高まる。 According to this embodiment, since the resist 40 is attached to the aluminum layer 21, sufficient moisture-proof performance can be obtained even under high-temperature and high-humidity conditions. Since the aluminum layer 21 does not come into contact with the chemical solution, corrosion due to the chemical solution residue does not occur. Moreover, according to this Embodiment, since the aluminum layer 21 is covered with the resist 40, the black adhesive as the low reflection layer 30 can be directly used for the back surface 12 of the translucent resin substrate 10, and an aluminum layer Since there is no gap between 21 and the low reflection layer 30, sensing accuracy is increased.
本発明の反射型エンコーダスケールは、ロータリエンコーダおよびリニアエンコーダに用いることができる。 The reflective encoder scale of the present invention can be used for a rotary encoder and a linear encoder.
１０ 透光性樹脂基板
１１ 表面
１２ 裏面
２０ 光反射用金属膜
２１ アルミニウム層
３０ 低反射層
４０ レジスト
５０ 粘着層
６０ 樹脂層
７１ 光源
７２ 光センサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Translucent resin substrate 11 Front surface 12 Back surface 20 Metal film for light reflection 21 Aluminum layer 30 Low reflection layer 40 Resist 50 Adhesive layer 60 Resin layer 71 Light source 72 Optical sensor
Claims (7)
所定のパターンにて前記透光性樹脂基板の裏面に形成した光反射用金属膜と、
前記光反射用金属膜で反射されない前記光を吸収する低反射層と
を備えた反射型エンコーダスケールであって、
前記光反射用金属膜にレジストを付着させたことを特徴とする反射型エンコーダスケール。 A translucent resin substrate on which light is incident from the surface;
A light reflecting metal film formed on the back surface of the translucent resin substrate in a predetermined pattern;
A reflective encoder scale comprising a low-reflection layer that absorbs the light that is not reflected by the light-reflecting metal film,
A reflective encoder scale, wherein a resist is attached to the light reflecting metal film.
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