JP2017150981A - 分光装置 - Google Patents
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Description
実施の形態1に係る分光装置100は、干渉縞のラインに平行なD1方向に沿って配列された3つの入射開口110a〜cを有しており、3つの試料から放出された対象光の分光スペクトルを同時に測定する。
次いで、分光装置100における対象光の光路について説明する。3つの試料から放出された対象光の光線は、3本の光ファイバ20により、3つの入射開口110a〜cにそれぞれ導光される。次いで、入射開口110を通過して光束が規定された各対象光の光線は、コリメータレンズ120を透過して平行光となる。平行光となった3つの対象光の光線のうちD1方向の偏光成分のみが、偏光子130をそれぞれ透過する。偏光子130を透過したD1方向の3つの偏光の光線は、偏光分割複屈折素子140を透過して第1偏光および第2偏光にそれぞれ分割される。次いで、3つの第1偏光の光線に含まれているD1方向の第1偏光成分と、3つの第2偏光の光線に含まれているD1方向の第2偏光成分とは、検光子150およびフーリエ変換レンズ160を透過し、互いに重ね合わされる。これにより、検出部170が有する撮像素子171の受光面172上に、3つの干渉縞a〜cが形成される。
以上のとおり、実施の形態1では、3つの干渉縞a〜cが形成される。このとき、図1Aに示されるように、干渉縞a〜cが形成されている干渉縞形成領域の境界形状は、それぞれ、入射開口110の形状により円形状に規定されている。また、干渉縞a〜cは、撮像素子171の受光面172上で入射開口設置面S上の3つの入射開口110a〜cと共役な位置にそれぞれ形成されている。
次いで、分光装置100の光学設計の手順について説明する。
測定対象とする分光スペクトルの波長領域を可視光領域(約300[nm]〜約800[nm])とすると、対象光の波長の下限値は、可視光の最短波長として300[nm]に設定される。すなわち、対象光の波数の上限値は、上記最短波長の逆数をとって、3333[1/mm]となる。サンプリング定理より、対象光の波形を適切にサンプリングするために必要な空間サンプリング周波数は、上記波数の上限値を2倍した、6666[1/mm]となる。また、ピクセルピッチがp[mm]である撮像素子171の空間サンプリング周波数fsは下記式(1)で表される。したがって、上記撮像素子171により対象光を測定するために必要な入射光の波形の拡大率αは、下記式(2)で表される。
測定の高精度化の観点からは、撮像素子171の受光面172上における干渉縞形成領域の面積は、大きいことが好ましい。実施の形態1では、干渉縞形成領域の形状は円形状であるため、干渉縞形成領域の面積は干渉縞形成領域の直径に相当する。撮像素子171の受光面172上における干渉縞形成領域の直径の最大値D[mm]は、干渉縞形成領域の形状および数、ならびに撮像素子171の受光面172の大きさに応じて決定される。同じ形状であり、かつ同じ大きさのn個の干渉縞形成領域内が、長手方向の長さがy[mm]である撮像素子171の受光面172に形成される場合に、受光面上における干渉縞形成領域の直径の最大値D[mm]は、下記式(4)で表される。以下、干渉縞形成領域の直径Dとは、干渉縞形成領域の直径の最大値を意味するものとする。
一般的に、波数分解Δσは、インターフェログラムにおける最大光路差長Lに依存し、下記式(7)で表される。最大光路差長Lは、干渉縞形成領域内に形成された干渉縞における、0次の干渉に基づくラインと、最も高次の干渉に基づくラインとの間隔xに基づいて算出される光路差長である。波長分解Δσは、数値が小さいほど分解能が高く、より高精度に対象光の分光スペクトルを測定できることを意味する。図1Bに示されるように、上記の間隔xは、干渉縞形成領域の半径D/2に相当する。また、両側インターフェログラムにおける最大光路差長Lは、下記式(8)で表されることが知られている。したがって、前述した手順により、偏光分割複屈折素子140の光線分離距離dと、フーリエ変換レンズ160の焦点距離f2と、干渉縞形成領域の直径の最大値Dとは、決定できるため、下記式(7)および下記式(8)に基づいて、分光装置100の波数分解Δσを算出することができる。
実施の形態1に係る分光装置100は、複数の試料から放出された複数の対象光の干渉縞に基づいて、複数のインターフェログラムを取得して、対象光の分光スペクトルを同時に測定することができる。
実施の形態2に係る分光装置200は、干渉縞のラインの並び方向に沿うD2方向において、光軸OAに接するように配置されている2つの入射開口210d,eを有しており、2つの試料から放出された対象光の分光スペクトルを同時に測定する。
図2Bは、実施の形態2に係る分光装置200で形成される干渉縞d,eと、干渉縞d,eに基づいて取得されるインターフェログラムとを示す模式図である。実施の形態2に係る分光装置200では、図2Bに示されるように、2つの干渉縞d,eが形成される。これら2つの干渉縞d,eに基づいて2つのインターフェログラムが得られる。2つの干渉縞d,eは、光軸OAを含み、かつD1方向に沿った面である境界面を基準としたときに、いずれか一方の側に形成されている。より具体的には、2つの干渉縞d,eは、上記境界面に接するように形成されている。前述したとおり、D2方向において、光軸OAに近いほど干渉縞の振幅強度は大きく、光軸OAからの遠くなるほど干渉縞の振幅強度は小さくなる。このため、干渉縞d,eに基づいて取得されるインターフェログラムは、上記境界面に相当する基準面から離れるほど振幅強度が小さくなる非対称的な形状となる(以下、「片側インターフェログラム」ともいう)。このように片側インターフェログラムが形成されるのは、偏光分割複屈折素子140で分割された第1偏光および第2偏光の光路差が等しくなる位置、すなわち0次の干渉に基づくラインが形成される位置は、常に光軸OA上となるからである。インターフェログラムは、最大光路差長L(形成された干渉縞における、0次の干渉に基づくラインと、最も高次の干渉に基づくラインとの間隔xに基づいて算出される光路差長)に亘って有効な波形情報となる。このため、両側インターフェログラムと比較した場合に、同じ大きさの干渉縞形成領域が形成されたとしても、片側インターフェログラムでは、2倍の光路差長に相当する情報を得ることができる。
ここで、実施の形態2に係る分光装置200の光学設計について説明する。コリメータレンズ120、偏光分割複屈折素子140およびフーリエ変換レンズ160の各パラメータ、ならびに波数分解Δσは、実施の形態1と同様に決定されうるため、その説明を省略する。
実施の形態2に係る分光装置200は、実施の形態1に係る分光装置100と同様の効果を有する。さらに、分光装置200では、D2方向において入射開口210をオフセット配置し、片側インターフェログラムに基づいて対象光の分光スペクトルを測定する。結果として、より高い分解能で対象光の分光スペクトルを測定することができる。
実施の形態3に係る分光装置300は、干渉縞のラインに平行なD1方向に沿って2列に配列され、かつ干渉縞のラインの並び方向に沿うD2方向において、光軸OAを含み、かつD1方向に沿う面に接するように配置されている合計6つの入射開口110を有しており、6つの試料から放出された対象光の分光スペクトルを同時に測定する。
図3Bは、実施の形態3に係る分光装置300で形成される干渉縞f〜kと、干渉縞f〜kに基づいて取得されるインターフェログラムとを示す模式図である。実施の形態3に係る分光装置300では、図3Bに示されるように、6つの干渉縞f〜kが形成される。これら6つの干渉縞f〜kに基づいて6つの片側インターフェログラムが得られる。前述のとおり、干渉縞f〜kは、D2方向において光軸OAを含み、かつD1方向に沿った面(境界面)から離れるほど振幅強度が小さくなる。しかし、干渉縞f〜kの振幅強度の大きさは、D1方向の位置によらない。このため、D1方向に配列される入射開口310の数が増えても、干渉縞f〜kに基づいて取得されるインターフェログラムから、高精度に対象光の分光スペクトルを測定することができる。
実施の形態3に係る分光装置300は、実施の形態2に係る分光装置200と同様の効果を有する。
実施の形態4に係る分光装置400は、干渉縞のラインに平行なD1方向に沿って2列に配列され、かつ干渉縞のラインの並び方向に沿う方向D2において、光軸OAを含み、かつD1方向に沿う面に接するように配置されている合計12個の入射開口410を有しており、12個の試料から放出された対象光の分光スペクトルを同時に測定する。実施の形態4に係る分光装置400では、干渉縞形成領域はD1方向において圧縮される。
実施の形態4に係る分光装置400では、図4に示されるように、12個の干渉縞が形成される。より具体的には、撮像素子171の受光面172上に形成される12個の干渉縞は、撮像素子171の受光面172上で入射開口設置面S上の12個の入射開口410と共役な位置に形成される。このとき、撮像素子171の受光面172上に形成される12個の干渉縞形成領域の形状は、アナモフィックコンバータ420によってD1方向において圧縮された楕円形状となる。これらの12個の干渉縞により12個の片側インターフェログラムが得られる。アナモフィックコンバータ420により、D1方向において干渉縞を圧縮しても干渉縞の強度分布に変化はないため、取得されるインターフェログラムに影響はない。すなわち、アナモフィックコンバータ420により、撮像素子171の受光面172を効率的に利用して、より多くの対象光の分光スペクトルを測定することができる。
ここで、実施の形態4に係る分光装置400の光学設計について説明する。コリメータレンズ120、偏光分割複屈折素子140およびフーリエ変換レンズ160の各パラメータおよび波数分解Δσは、実施の形態1,2と同様に、決定されうるため、その説明を省略する。ここでは、アナモフィックコンバータ420の決定について説明する。
実施の形態4に係る分光装置400は、実施の形態2に係る分光装置200と同様の効果を有する。さらに、実施の形態4に係る分光装置400では、アナモフィックコンバータ420により、D1方向において干渉縞形成領域を圧縮することができる。これにより、撮像素子171の受光面172に、より多くの干渉縞を形成できる。すなわち、撮像素子171の受光面172を効率的に利用して、より多くの対象光の分光スペクトルを同時に測定することができる。
実施の形態5に係る分光装置500は、2つの分光装置400(実施の形態4参照)を有する。前述のとおり、実施の形態4に係る分光装置400は、12個の試料から放出された対象光の分光スペクトルを測定できる。すなわち、実施の形態5に係る分光装置500は、合計24個の試料から放出された対象光の分光スペクトルを同時に測定することができる。
24個の試料から放出された対象光は、結像光学ユニット510によって24本の光ファイバ20内にそれぞれ導光される。具体的には、24個の試料から放出された対象光は、反射ミラー511で反射して撮影レンズ512に入射する。撮影レンズ512を透過した対象光は、撮影レンズ512の結像面512Sに向けて集光される。次いで、結像面512S上の24本の光ファイバ20内に入射する。24本の光ファイバ20に入射した対象光の半分は、12本の光ファイバ20を介して一方の分光装置400に導光され、対象光の残りは、残り12本の光ファイバ20を介して他方の分光装置400に導光される。
実施の形態5に係る分光装置500は、実施の形態4に係る分光装置400と同様の効果を有する。さらに、複数の分光装置を使用することで、同時に分光スペクトルを測定することができる対象光の数を増やすことができる。
実施の形態6に係る分光装置600では、光軸OAからオフセット配置されている入射開口610の配置に合わせて、検出部170の撮像素子171の受光面172もオフセット配置されている。
実施の形態6に係る分光装置600は、実施の形態2に係る分光装置200と同様の効果を有する。さらに、実施の形態6に係る分光装置600では、光軸OAからオフセット配置されている入射開口610の配置に合わせて、検出部170の撮像素子171の受光面172もオフセット配置されている。これにより、検出部170における撮像素子171の受光面172を効率的に受光に使用することができる。
100〜600 分光装置
110a〜c、210d,e、310f〜k、410、610 入射開口
120 コリメータレンズ
130 偏光子(第2偏光子)
140 偏光分割複屈折素子
150 検光子(偏光子)
160 フーリエ変換レンズ
170 検出部
171 撮像素子
172 受光面
180 処理部
420 アナモフィックコンバータ
421 第1レンズ群
422 第2レンズ群
510 結像光学ユニット
511 反射ミラー
512 撮影レンズ
512S 結像面
OA 光軸
S 入射開口設置面
Claims (11)
- 対象光の分光スペクトルを測定するための分光装置であって、
前記対象光の光束を規定するための、1または2以上の入射開口と、
前記入射開口で光束を規定された前記対象光を平行光にするためのコリメータレンズと、
前記コリメータレンズで平行光にされた前記対象光を、偏光方向が互いに異なる第1偏光および第2偏光に分割するための偏光分割複屈折素子と、
前記第1偏光に含まれている、所定の偏光方向の第1偏光成分と、前記第2偏光に含まれている、前記所定の偏光方向と同一方向の第2偏光成分とを透過させる偏光子と、
その光軸が前記コリメータレンズの光軸と重なるように配置され、前記第1偏光成分および前記第2偏光成分を重ね合あわせて、前記第1偏光成分および前記第2偏光成分の干渉縞を形成するためのフーリエ変換レンズと、
前記フーリエ変換レンズにより形成された前記干渉縞の強度分布に基づいて前記対象光のインターフェログラムを取得する検出部と、
を有し、
前記1または2以上の入射開口の少なくとも1つは、前記コリメータレンズの光軸に対してオフセット配置されている、
分光装置。 - 前記入射開口および前記コリメータレンズの間、または前記コリメータレンズおよび前記偏光分割複屈折素子の間に配置されており、前記所定の偏光方向に対して、同一方向の偏光成分または直交方向の偏光成分を透過させるための第2偏光子をさらに有する、請求項1に記載の分光装置。
- 前記1または2以上の入射開口は、前記干渉縞のラインの並び方向に沿う方向において、前記コリメータレンズの光軸を含み、かつ前記干渉縞のラインに平行な方向に沿う面に接するように配置されている、請求項1または請求項2に記載の分光装置。
- 前記入射開口の数は、複数であり、
複数の前記入射開口は、前記干渉縞のラインに平行な方向に沿ってそれぞれ配列されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の分光装置。 - 前記コリメータレンズおよび前記フーリエ変換レンズの間に配置され、前記干渉縞のラインに平行な方向において前記干渉縞が形成される干渉縞形成領域を圧縮するためのアナモフィックコンバータをさらに有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の分光装置。
- 前記入射開口に導光される前記対象光を結像するための結像光学ユニットをさらに有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の分光装置。
- 前記検出部は、前記干渉縞が形成される受光面を含む撮像素子を有し、
前記撮像素子は、前記受光面の中心が、前記干渉縞が形成される干渉縞形成領域の中心に重なるように配置されている、
請求項1〜6のいずれか一項に記載の分光装置。 - 前記偏光分割複屈折素子は、サバール板である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の分光装置。
- 前記インターフェログラムを処理するための処理部をさらに有し、
前記処理部は、前記インターフェログラムをフーリエ変換して、前記対象光の分光スペクトルを算出する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の分光装置。 - 前記対象光は、光ファイバによって前記入射開口に導光され、
前記入射開口は、前記光ファイバの端面である、
請求項1〜9のいずれか一項に記載の分光装置。 - 前記入射開口は、遮光部材に形成された前記対象光を通過させるための開口である、
請求項1〜9のいずれか一項に記載の分光装置。
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