JP2017148763A - Coating application device, coating application method, and method for manufacturing laminate film using the same - Google Patents

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聖 谷野
Kiyoshi Yano
聖 谷野
尚樹 谷
Naoki Tani
尚樹 谷
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Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating application device that can obtain sufficiently and stably a uniform coating film.SOLUTION: The coating application device includes a slit die. The slit die (10) includes: at least one coating liquid discharging slit (13); an uppermost stream side lip (11); and a lowermost stream side lip (12). The lowermost stream side lip (12) has a tip face (12a) and an outer side face (12b) that define an angle (θ) of less than 90 degrees and the outer side face (12b) is coated with a water-repellent film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、スリットダイを備えた塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた積層フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus provided with a slit die, a coating method, and a method for producing a laminated film using the coating device.

スリットダイを備えた塗布装置は、通常、供給口から供給された塗布液をマニホールドで横方向に広げ、マニホールドから押し出された塗布液を吐出用スリットから吐出することによって、基材の表面に塗布膜が形成される。吐出用スリットの先端両側にはそれぞれリップがあり、リップと所定の間隙(クリアランス)で相対搬送する基材に塗布液が塗布される。   A coating device equipped with a slit die is normally applied to the surface of a substrate by spreading the coating solution supplied from the supply port in the horizontal direction at the manifold and discharging the coating solution extruded from the manifold from the discharge slit. A film is formed. There are lips on both sides of the tip of the discharge slit, and the coating liquid is applied to the base material that is relatively conveyed with a predetermined gap (clearance).

スリットダイを備えた塗布装置は、クリアランスに形成されるビード(液溜り)の安定性によって塗布性や塗膜均一性が影響されやすいという問題がある。例えば、図7は従来の塗布装置の模式断面図であるが、図7に示すように、下流側のリップ(12)の外側面(12b)にビード(40)の一部が濡れ広がる(乗り上げる)と、塗布スジや塗布ムラを引き起こすことがある。   The coating apparatus provided with the slit die has a problem that the coating property and the coating film uniformity are easily influenced by the stability of the beads (liquid reservoir) formed in the clearance. For example, FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a conventional coating apparatus. As shown in FIG. 7, a part of the bead (40) spreads on the outer surface (12b) of the downstream lip (12). ) May cause coating stripes and coating unevenness.

上記問題を抑制するために、リップの外側面の塗布液接触角をリップの先端面の塗布液接触角より大きくすること(特許文献1、2)、下流側リップ先端部の水接触角を上流側リップ先端部の水接触角より大きくすること(特許文献3)、リップ側面に撥水性処理層を設けること(特許文献4)が提案されている。   In order to suppress the above problem, the coating liquid contact angle on the outer surface of the lip is made larger than the coating liquid contact angle on the tip surface of the lip (Patent Documents 1 and 2), and the water contact angle of the downstream lip tip is upstream It has been proposed to make it larger than the water contact angle of the tip of the side lip (Patent Document 3) and to provide a water-repellent treatment layer on the side surface of the lip (Patent Document 4).

特開平8−173878号公報JP-A-8-173878 特開2004−50025号公報JP 2004-50025 A 特開2002−248399号公報JP 2002-248399 A 特開2007−330900号公報JP 2007-330900 A

しかしながら、上記したような従来技術では、均一塗膜を十分に安定的に得られるまでには至っていない。例えば、薄膜塗布、高速塗布、あるいは塗布液の種類や物性(粘度や表面張力など)によっては、安定的に均一塗膜が得られないことがある。   However, the conventional techniques as described above have not yet achieved a uniform coating film sufficiently stably. For example, depending on the type and physical properties (viscosity, surface tension, etc.) of thin film coating, high-speed coating, or coating solution, a uniform coating film may not be obtained stably.

従って、本発明の目的は、均一塗膜が十分に安定的に得られる塗布装置および塗布方法を提供することにある。また、本発明の塗布装置および塗布方法を用いた積層フィルムの製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of obtaining a uniform coating film sufficiently stably. Moreover, it is providing the manufacturing method of the laminated | multilayer film using the coating device and coating method of this invention.

本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
[1]スリットダイを備えた塗布装置であって、該スリットダイ(10)は、少なくとも1つの塗布液吐出用スリット(13)、最上流側リップ(11)、最下流側リップ(12)を有し、前記最下流側リップ(12)の先端面(12a)と外側面(12b)とのなす角度(θ)が90度未満であり、かつ、外側面(12b)が撥水性膜で被覆されていることを特徴とする、塗布装置。
[2]前記最上流側リップ(11)の外側面(11b)が撥水性膜で被覆されている、[1]に記載の塗布装置。
[3]前記撥水性膜が炭素膜である、[1]または[2]に記載の塗布装置。
[4]前記炭素膜がDLC膜である、[3]に記載の塗布装置。
[5]前記DLC膜がフッ素化DLC膜である、[4]に記載の塗布装置。
[6]前記最上流側リップ(11)の先端面(11a)と外側面(11b)とのなす角度(θ)が90度未満である、[1]〜[5]のいずれかに記載の塗布装置。
[7]前記最上流側リップ(11)の先端面(11a)が親水性膜で被覆されている、[1]〜[6]のいずれかに記載の塗布装置。
[8]前記親水性膜が親水性DLC膜である、[7]に記載の塗布装置。
[9]前記スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する、[1]〜[8]のいずれかに記載の塗布装置。
[10][1]〜[9]のいずれかに記載の塗布装置を用いて、水系塗布液を基材に塗布する、塗布方法。
[11][1]〜[9]のいずれかに記載の塗布装置を用いて、23℃での粘度が30mPa・s以下である塗布液を、ウェット膜厚が30μm以下で基材に塗布する、塗布方法。
[12][1]〜[9]のいずれかに記載の塗布装置を用いて、塗布液を基材に塗布して積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
[13][10]または[11]に記載の塗布方法を用いて、塗布液を基材に塗布し、積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
[1] A coating apparatus provided with a slit die, wherein the slit die (10) includes at least one coating liquid discharge slit (13), the most upstream lip (11), and the most downstream lip (12). An angle (θ 1 ) between the distal end surface (12a) of the most downstream lip (12) and the outer surface (12b) is less than 90 degrees, and the outer surface (12b) is a water repellent film A coating apparatus characterized by being coated.
[2] The coating apparatus according to [1], wherein an outer side surface (11b) of the most upstream lip (11) is covered with a water repellent film.
[3] The coating apparatus according to [1] or [2], wherein the water-repellent film is a carbon film.
[4] The coating apparatus according to [3], wherein the carbon film is a DLC film.
[5] The coating apparatus according to [4], wherein the DLC film is a fluorinated DLC film.
[6] Any one of [1] to [5], wherein an angle (θ 2 ) formed between the tip surface (11a) and the outer surface (11b) of the most upstream lip (11) is less than 90 degrees. Coating device.
[7] The coating apparatus according to any one of [1] to [6], wherein a distal end surface (11a) of the most upstream lip (11) is covered with a hydrophilic film.
[8] The coating apparatus according to [7], wherein the hydrophilic film is a hydrophilic DLC film.
[9] The coating apparatus according to any one of [1] to [8], further including a decompression unit upstream of the slit die.
[10] A coating method in which an aqueous coating solution is applied to a substrate using the coating apparatus according to any one of [1] to [9].
[11] Using the coating apparatus according to any one of [1] to [9], a coating solution having a viscosity at 23 ° C. of 30 mPa · s or less is applied to a substrate with a wet film thickness of 30 μm or less. Application method.
[12] A method for producing a laminated film, wherein a coating film is obtained by applying a coating solution to a substrate using the coating apparatus according to any one of [1] to [9].
[13] A method for producing a laminated film, wherein the coating method is applied to a substrate using the coating method according to [10] or [11] to obtain a laminated film.

本発明によれば、均一塗膜が十分に安定的に得られる塗布装置、塗布方法およびそれを用いた積層フィルムの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating device from which a uniform coating film is obtained sufficiently stably, the coating method, and the manufacturing method of a laminated film using the same can be provided.

図1は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the main part of one embodiment of a slit die used in the coating apparatus of the present invention. 図2は図1のAで示した部分の拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by A in FIG. 図3は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a main part of one embodiment of the slit die used in the coating apparatus of the present invention. 図4は図2のBで示した部分の拡大断面図である。4 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by B in FIG. 図5は本発明のスリットダイと減圧ユニットを備えた塗布装置の一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a main part of an embodiment of a coating apparatus provided with the slit die and the decompression unit of the present invention. 図6は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部を模式的に示した断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing the main part of one embodiment of the slit die used in the coating apparatus of the present invention. 図7は従来の塗布装置の模式断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a conventional coating apparatus.

以下、本発明にかかる実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。また、本発明の効果を奏する範囲を逸脱しない範囲で、適宜変更は可能である。なお、図1〜図6に示した矢印Xは、基材30の搬送方向を示す。以下の説明において、基材搬送方向(矢印X)の上流側を単に「上流側」、基材搬送方向(矢印X)の下流側を単に「下流側」と言うことがある。また、図1〜図6は、塗布装置の構成の一部を模式的に示したもので、実際の寸法を示したものではない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following embodiment. Moreover, it can change suitably in the range which does not deviate from the range which has the effect of this invention. In addition, the arrow X shown in FIGS. 1-6 shows the conveyance direction of the base material 30. FIG. In the following description, the upstream side in the substrate conveyance direction (arrow X) may be simply referred to as “upstream side”, and the downstream side in the substrate conveyance direction (arrow X) may be simply referred to as “downstream side”. 1 to 6 schematically show a part of the configuration of the coating apparatus, and do not show actual dimensions.

図1は本発明の塗布装置に用いられるスリットダイの一実施態様の要部の模式断面であり、図2は図1のAで示した部分の拡大断面図である。本発明の塗布装置はスリットダイ10を備え、スリットダイ10は少なくとも1つの塗布液吐出用スリット13、最上流側リップ11、最下流側リップ12を有する。塗布液吐出用スリット13の上方には、図示しないマニホールドを有していることが好ましく、供給口から供給された塗布液はマニホールドで横方向(塗布の幅方向)に広げて塗布液吐出用スリットに供給される。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part of one embodiment of a slit die used in the coating apparatus of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by A in FIG. The coating apparatus of the present invention includes a slit die 10, and the slit die 10 has at least one coating liquid discharge slit 13, the most upstream lip 11, and the most downstream lip 12. It is preferable that a manifold (not shown) is provided above the coating liquid discharge slit 13, and the coating liquid supplied from the supply port is spread in the lateral direction (application width direction) by the manifold, and the coating liquid discharge slit. To be supplied.

本発明にかかるスリットダイ10は、塗布液吐出用スリット13の上流側に最上流側リップ11、下流側に最下流側リップ12を有する。塗布液吐出用スリット13から吐出された塗布液は、最上流側リップ11および最下流側リップ12と基材30との間隙(クリアランス)にビード(液溜り)が形成され、基材30上に塗布される。上記クリアランスの寸法Hは、通常20〜500μm程度であるが、後述する薄膜塗布の場合は、ビードを安定化させるという観点から20〜200μmの範囲が好ましく、30〜150μmの範囲がより好ましく、30〜100μmの範囲が特に好ましい。   A slit die 10 according to the present invention has a most upstream lip 11 on the upstream side of the coating liquid discharge slit 13 and a most downstream lip 12 on the downstream side. The coating liquid discharged from the coating liquid discharge slit 13 forms a bead (liquid reservoir) in the gap (clearance) between the most upstream lip 11 and the most downstream lip 12 and the substrate 30. Applied. The clearance dimension H is usually about 20 to 500 μm, but in the case of thin film coating described later, the range of 20 to 200 μm is preferable from the viewpoint of stabilizing the bead, and the range of 30 to 150 μm is more preferable. A range of ˜100 μm is particularly preferred.

図1は、塗布液吐出用スリットが1つのみの態様を示しているが、塗布液吐出用スリットは2以上であってもよい。図6は、2つの塗布液吐出用スリットを有するスリットダイの構成を示したものであり、塗布液吐出用スリット13aと13bとの間に中央リップ14を有する以外は、図1の構成と同じである。   Although FIG. 1 shows an aspect in which only one coating liquid discharge slit is provided, the number of coating liquid discharge slits may be two or more. FIG. 6 shows a configuration of a slit die having two coating liquid discharge slits, which is the same as the configuration of FIG. 1 except that a central lip 14 is provided between the coating liquid discharge slits 13a and 13b. It is.

本発明にかかるスリットダイの特徴は、最下流側のリップ12の先端面12aと外側面12bとのなす角度θが90度未満であり、かつ、外側面12bが撥水性膜(不図示)で被覆されていることにある。最下流側リップ12が上記構成を採ることにより、ビード40を形成する塗布液の一部が外側面12bに濡れ広がる(乗り上げる)ことが抑制され、この現象が起因する塗布スジや塗布ムラが抑制される。その結果、均一な塗膜が安定的に得られる。 Features of the slit die according to the present invention, the angle theta 1 between the front end surface 12a and the outer surface 12b of the lip 12 of the most downstream side is less than 90 degrees, and the outer surface 12b is water-repellent film (not shown) It is in being covered with. When the most downstream lip 12 adopts the above-described configuration, a part of the coating liquid that forms the bead 40 is prevented from spreading (climbing) on the outer surface 12b, and coating stripes and coating unevenness due to this phenomenon are suppressed. Is done. As a result, a uniform coating film can be obtained stably.

最下流側リップ12の先端面12aと外側面12bとのなす角度θは、外側面12bの塗布液による濡れ広がりを抑制するという観点から、さらに、80度以下が好ましく、70度以下がより好ましい。下限の角度は、リップの強度を保持するという観点から30度以上が好ましい。 The angle θ 1 formed between the distal end surface 12a and the outer surface 12b of the most downstream lip 12 is further preferably 80 ° or less, more preferably 70 ° or less, from the viewpoint of suppressing wetting and spreading of the outer surface 12b by the coating liquid. preferable. The lower limit angle is preferably 30 degrees or more from the viewpoint of maintaining the strength of the lip.

本発明にかかるスリットダイは、最下流側リップ12の先端面12aは、撥水性膜で被覆されていないことが好ましい。つまり、先端面12aは、スリットダイの形成材料(例えば、ステンレス鋼)のそのままの状態であることが好ましい。この場合、先端面12aは鏡面仕上げされていることが好ましく、先端面12aの表面の表面粗さは、JIS B 0601−1984に準拠した最大高さRyが0.2S(μm)以下であることが好ましい。   In the slit die according to the present invention, the distal end surface 12a of the most downstream lip 12 is preferably not covered with a water repellent film. That is, it is preferable that the front end surface 12a is in the same state as the slit die forming material (for example, stainless steel). In this case, the tip surface 12a is preferably mirror-finished, and the surface roughness of the tip surface 12a is such that the maximum height Ry in accordance with JIS B 0601-1984 is 0.2S (μm) or less. Is preferred.

外側面12bに被覆される撥水性膜としては、炭素膜、ニッケルメッキ膜、フッ素樹脂含有ニッケルメッキ膜、フッ素樹脂膜、シリコーン樹脂膜、ポリプロピレン樹脂膜、ポリエチレン樹脂膜などが挙げられる。これらの中でも、撥水性が高く、耐摩耗性、耐久性、密着性などが優れていることから、炭素膜が好ましく、さらに炭素膜の中でも、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜が好ましい。   Examples of the water-repellent film coated on the outer surface 12b include a carbon film, a nickel plating film, a fluorine resin-containing nickel plating film, a fluorine resin film, a silicone resin film, a polypropylene resin film, and a polyethylene resin film. Among these, a carbon film is preferable because of its high water repellency and excellent wear resistance, durability, adhesion, and the like, and among the carbon films, a DLC (diamond-like carbon) film is preferable.

撥水性膜の被覆方法としては、被覆する材料に応じて適宜選択されるが、例えば、コーティング、メッキ、焼き付け、蒸着、スパッタ、プラズマCVD、溶射などが挙げられる。   The method for coating the water-repellent film is appropriately selected according to the material to be coated, and examples thereof include coating, plating, baking, vapor deposition, sputtering, plasma CVD, and thermal spraying.

撥水性膜の厚みは、0.1〜20μmの範囲が好ましく、0.3〜10μmの範囲がより好ましく、0.5〜7μmの範囲が特に好ましい。撥水性膜の厚みが0.1μm未満であると、撥水性膜として十分に機能しないことがあり、一方、厚みが20μmを超えると、撥水性膜に亀裂が生じることがある。   The thickness of the water repellent film is preferably in the range of 0.1 to 20 μm, more preferably in the range of 0.3 to 10 μm, and particularly preferably in the range of 0.5 to 7 μm. If the thickness of the water repellent film is less than 0.1 μm, the water repellent film may not function sufficiently. On the other hand, if the thickness exceeds 20 μm, the water repellent film may be cracked.

撥水性膜は、水接触角が70度以上であることが好ましく、80度以上であることがより好ましく、90度以上であることが特に好ましい。上限は特に限定されないが、160度程度である。   The water repellent film preferably has a water contact angle of 70 degrees or more, more preferably 80 degrees or more, and particularly preferably 90 degrees or more. The upper limit is not particularly limited, but is about 160 degrees.

[DLC膜]
撥水性膜として好適であるDLC膜について、詳細に説明する。
DLC膜は、既知の方法を用いて形成することができる。例えば、スパッタ法、DCマグネトロンスパッタ法、RFマグネトロンスパッタ法、化学気相堆積法(CVD法)、プラズマCVD法、プラズマイオン注入法、重畳型RFプラズマイオン注入法、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法、レーザーアブレーション法、溶射法等により形成することができる。
[DLC film]
A DLC film suitable as a water repellent film will be described in detail.
The DLC film can be formed using a known method. For example, sputtering, DC magnetron sputtering, RF magnetron sputtering, chemical vapor deposition (CVD), plasma CVD, plasma ion implantation, superimposed RF plasma ion implantation, ion plating, arc ion play It can be formed by a coating method, an ion beam deposition method, a laser ablation method, a thermal spraying method, or the like.

DLC膜を形成するための材料としては、例えば、炭化水素化合物等のガスが挙げられる。かかる炭化水素化合物としては、メタン(CH)、エタン(C)、プロパン(C)、ブタン(C10)等のアルカン、シクロプロパン(C)、シクロブタン(C)等のシクロアルカン、エチレン(C)、プロペン(C)、ブテン(C)等のアルケン、アセチレン(C)等のアルキン、ベンゼン(C)、トルエン(C)等の芳香族炭化水素等が挙げられる。上記の材料で形成されたDLC膜の水接触角は70度以上となる。 Examples of the material for forming the DLC film include gases such as hydrocarbon compounds. Such hydrocarbon compounds include alkanes such as methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8 ), butane (C 4 H 10 ), cyclopropane (C 3 H 6 ), cyclobutane. Cycloalkanes such as (C 4 H 8 ), ethylene (C 2 H 4 ), alkenes such as propene (C 3 H 6 ), butene (C 4 H 8 ), alkynes such as acetylene (C 2 H 2 ), benzene And aromatic hydrocarbons such as (C 6 H 6 ) and toluene (C 7 H 8 ). The water contact angle of the DLC film formed of the above material is 70 degrees or more.

また、DLC膜の撥水性をさらに高めるために、フッ素、アルミニウムもしくはシリコンをDLC膜に含有させることができる。例えば、原料ガス中にフッ化炭化水素、アルコキシド、シラン等のフッ素、アルミニウムもしくはシリコンを含むガスを添加することにより実施できる。   Further, in order to further improve the water repellency of the DLC film, fluorine, aluminum or silicon can be contained in the DLC film. For example, it can be carried out by adding a gas containing fluorine, aluminum, or silicon such as fluorinated hydrocarbon, alkoxide, or silane to the source gas.

本発明にかかる撥水性膜は、撥水性が高い方が好ましく、この観点から、フッ素化DLC膜が好ましい。かかるフッ素化DLC膜は、原料としてフッ素化炭化水素化合物が用いることによって形成することができる。   The water repellent film according to the present invention preferably has a high water repellency. From this viewpoint, a fluorinated DLC film is preferable. Such a fluorinated DLC film can be formed by using a fluorinated hydrocarbon compound as a raw material.

かかるフッ素化炭化水素化合物としては、例えば、フッ素化アルカン、フッ素化シクロアルカン、フッ素化アルケン、フッ素化シクロアルケン、フッ素化芳香族化合物などを挙げることができる。具体的には、4フッ素化炭素(CF)、6フッ素化2炭素(C)、8フッ素化4炭素(C)、フッ素化ベンゼン(モノフルオロベンゼン(CFH)、ジフルオロベンゼン(C)、トリフルオロベンゼン(C)、テトラフルオロベンゼン(C)、ペンタフルオロベンゼン(CH)、ヘキサフルオロベンゼン(C)、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン((CF))等が挙げられる。 Examples of such fluorinated hydrocarbon compounds include fluorinated alkanes, fluorinated cycloalkanes, fluorinated alkenes, fluorinated cycloalkenes, and fluorinated aromatic compounds. Specifically, 4 fluorinated carbon (CF 4 ), 6 fluorinated 2 carbon (C 2 F 6 ), 8 fluorinated 4 carbon (C 4 F 8 H 2 ), fluorinated benzene (monofluorobenzene (C 6) FH 5 ), difluorobenzene (C 6 F 2 H 4 ), trifluorobenzene (C 6 F 3 H 3 ), tetrafluorobenzene (C 6 F 4 H 2 ), pentafluorobenzene (C 6 F 5 H), Hexafluorobenzene (C 6 F 6 ), bis (trifluoromethyl) benzene ((CF 3 ) 2 C 6 H 4 )) and the like.

フッ素化DLC膜の水接触角は80度以上となり、またフッ素含有量を調整すること(増量すること)により90度以上とすることができる。   The water contact angle of the fluorinated DLC film is 80 degrees or more, and can be 90 degrees or more by adjusting (increasing) the fluorine content.

[スリットダイ]
以下、本発明にかかるスリットダイの好ましい態様について説明する。
[Slit die]
Hereinafter, the preferable aspect of the slit die concerning this invention is demonstrated.

本発明にかかるスリットダイは、最上流側に位置するリップ11の外側面11bが撥水性膜(不図示)で被覆されていることが好ましい。これによって、さらにビード40が安定し、塗布スジや塗布ムラの発生が抑制される。特に塗布開始時(塗布液の過剰量吐出時)のビード40の安定化が図られる。   In the slit die according to the present invention, the outer surface 11b of the lip 11 located on the most upstream side is preferably covered with a water repellent film (not shown). This further stabilizes the bead 40 and suppresses the occurrence of coating stripes and coating unevenness. In particular, stabilization of the bead 40 at the start of application (when discharging an excessive amount of application liquid) is achieved.

外側面11bに被覆される撥水性膜は、前述した最下流側リップの外側面12bに被覆される撥水膜と同様のものが用いられる。つまり、外側面11bに被覆される撥水性膜は、炭素膜が好ましく、さらにDLC膜が好ましく、特にフッ素化DLC膜が好ましい。撥水性膜の厚みは0.1〜20μmの範囲が好ましく、0.3〜10μmの範囲がより好ましく、0.5〜7μmの範囲が特に好ましい。撥水性膜の水接触角は70度以上であることが好ましく、80度以上であることがより好ましく、90度以上であることが特に好ましい。上限の水接触角は特に限定されないが160度程度である。   The water-repellent film coated on the outer side surface 11b is the same as the water-repellent film coated on the outermost surface 12b of the most downstream lip described above. That is, the water repellent film coated on the outer surface 11b is preferably a carbon film, more preferably a DLC film, and particularly preferably a fluorinated DLC film. The thickness of the water repellent film is preferably in the range of 0.1 to 20 μm, more preferably in the range of 0.3 to 10 μm, and particularly preferably in the range of 0.5 to 7 μm. The water contact angle of the water repellent film is preferably 70 degrees or more, more preferably 80 degrees or more, and particularly preferably 90 degrees or more. The upper water contact angle is not particularly limited, but is about 160 degrees.

本発明にかかるスリットダイは、さらに図3に示される構成が好ましい。図4は図3のBで示した部分の拡大断面図である。   The slit die according to the present invention preferably further has the configuration shown in FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by B in FIG.

つまり、最上流側のリップ11の先端面11aと外側面11bとのなす角度θが90度未満であることが好ましい。これによって、外側面11bの塗布液による濡れ広がりが抑制され、ビード40が安定する。角度θは、さらに、80度以下が好ましく、70度以下がより好ましい。下限の角度は、リップ11の強度を保持するという観点から30度以上が好ましい。 In other words, it is preferable the angle theta 2 between the distal end surface 11a and the outer surface 11b of the most upstream side of the lip 11 is less than 90 degrees. As a result, spreading of the outer surface 11b by the coating liquid is suppressed, and the bead 40 is stabilized. Further, the angle θ 2 is preferably 80 degrees or less, and more preferably 70 degrees or less. The lower limit angle is preferably 30 degrees or more from the viewpoint of maintaining the strength of the lip 11.

図3の態様において、外側面11bは、上記したように撥水性膜(不図示)で被覆されていることがさらに好ましい。   In the embodiment of FIG. 3, the outer surface 11b is more preferably covered with a water repellent film (not shown) as described above.

また、本発明にかかるスリットダイは、最上流側リップ11の先端面11aが親水性膜(不図示)で被覆されていることが好ましい。かかる親水性膜は、水接触角が60度以下であることが好ましく、50度以下であることがより好ましく、40度以下であることが特に好ましい。下限の水接触角は特に限定されないが10度程度である。
最上流側リップ11の先端面11aが親水性膜で被覆されることにより、さらにビード40が安定となる。
In the slit die according to the present invention, it is preferable that the front end surface 11a of the most upstream lip 11 is covered with a hydrophilic film (not shown). The hydrophilic film preferably has a water contact angle of 60 degrees or less, more preferably 50 degrees or less, and particularly preferably 40 degrees or less. The lower water contact angle is not particularly limited, but is about 10 degrees.
The bead 40 is further stabilized by covering the distal end surface 11a of the most upstream lip 11 with a hydrophilic film.

親水性膜の厚みは、0.1〜20μmの範囲が好ましく、0.3〜10μmの範囲がより好ましく、0.5〜7μmの範囲が特に好ましい。   The thickness of the hydrophilic film is preferably in the range of 0.1 to 20 μm, more preferably in the range of 0.3 to 10 μm, and particularly preferably in the range of 0.5 to 7 μm.

親水性膜としては、たとえば、親水性DLC膜が好ましく例示される。かかる親水性DLC膜は、DLC膜に酸素や窒素を含有させることによって形成することができる。例えば、プラズマCVD法などにより、真空チャンバー内に主原料として炭化水素系ガス(前述のDLC膜を形成するための炭化水素化合物と同様)を供給するとともにOを供給してそれらガスを反応させながら堆積させることによって形成することができる。 For example, a hydrophilic DLC film is preferably exemplified as the hydrophilic film. Such a hydrophilic DLC film can be formed by adding oxygen or nitrogen to the DLC film. For example, a hydrocarbon-based gas (similar to the above-described hydrocarbon compound for forming the DLC film) is supplied into the vacuum chamber by plasma CVD or the like, and O 2 is supplied to react these gases. However, it can be formed by depositing.

親水性DLC膜の水接触角は、例えば、Oの供給量を調整する(多くする)ことによって、60度以下、さらに50度以下、またさらに40度以下にすることができる。 The water contact angle of the hydrophilic DLC film can be adjusted to 60 degrees or less, further 50 degrees or less, or further 40 degrees or less, for example, by adjusting (increasing) the supply amount of O 2 .

本発明にかかる塗布装置は、スリットダイの上流側に減圧ユニットを有することが好ましい。図5は、スリットダイと減圧ユニットを備えた塗布装置の模式断面図である。スリットダイ10の上流側に減圧ユニット20が備えられている。   The coating apparatus according to the present invention preferably has a decompression unit on the upstream side of the slit die. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a coating apparatus including a slit die and a decompression unit. A decompression unit 20 is provided on the upstream side of the slit die 10.

減圧ユニット20は、減圧室21と図示しない減圧手段(真空ポンプ)および空気排出管で構成され、減圧室21が減圧されることにより、ビード40の上流側が減圧されてビード40が安定化する。   The decompression unit 20 includes a decompression chamber 21, decompression means (vacuum pump) (not shown), and an air discharge pipe. When the decompression chamber 21 is decompressed, the upstream side of the bead 40 is decompressed and the bead 40 is stabilized.

ビード40を安定化させるには、ビード40の上流側メニスカス40aは、最上流側リップ11の先端面11aの領域内でピンニングさせることが好ましく、特に先端部11c近傍でピンニングさせることが好ましい。ビード40の上流側メニスカス40aは、減圧ユニット20の減圧条件を制御することにより上記した位置(先端面11aの領域内)にピンニングさせることができる。   In order to stabilize the bead 40, the upstream meniscus 40a of the bead 40 is preferably pinned in the region of the distal end surface 11a of the most upstream lip 11, and is particularly preferably pinned in the vicinity of the distal end portion 11c. The upstream meniscus 40a of the bead 40 can be pinned to the above-described position (in the region of the distal end surface 11a) by controlling the decompression condition of the decompression unit 20.

また、最上流側リップ11の先端面11aが親水性膜で被覆されていることにより、ビード40の上流側メニスカス40aを上記位置(先端面11aの領域内)に安定的にピンニングさせることができる。   Further, since the distal end surface 11a of the most upstream lip 11 is covered with a hydrophilic film, the upstream meniscus 40a of the bead 40 can be stably pinned to the above position (in the region of the distal end surface 11a). .

さらに、最上流側リップ11の外側面11bが撥水性膜で被覆されていることにより、ビード40の上流側メニスカス40aを上記位置(先端面11aの領域内)に安定的にピンニングさせることができる。   Further, since the outer surface 11b of the most upstream lip 11 is covered with a water-repellent film, the upstream meniscus 40a of the bead 40 can be stably pinned to the above position (in the region of the tip surface 11a). .

またさらに、最上流側リップ11の先端面11aと外側面11bとのなす角度θが90度未満であることにより、ビード40の上流側メニスカス40aを上記位置(先端面11aの領域内)に安定的にピンニングさせることができる。 Furthermore, by the angle theta 2 between the distal end surface 11a and the outer surface 11b on the most upstream side lip 11 is less than 90 degrees, the upstream meniscus 40a of the bead 40 the position (the area of the distal end surface 11a) Pinning can be performed stably.

ビード40の上流側メニスカス40aを上記位置(先端面11aの領域内)に安定的にピンニングさせるということは、ビード40が下流側に後退しないことを意味し、最上流側リップ12の外側面12bへの塗布液の濡れ広がりを抑制することに寄与する。   Stable pinning of the meniscus 40a on the upstream side of the bead 40 to the above position (in the region of the front end surface 11a) means that the bead 40 does not retreat downstream, and the outer side surface 12b of the most upstream lip 12 This contributes to the suppression of wetting and spreading of the coating liquid onto the surface.

つまり、本発明の塗布装置の特徴的な構成、即ち、最下流側のリップ12の先端面12aと外側面12bとのなす角度θが90度未満であり、かつ、外側面12bが撥水性膜で被覆されている構成(i)と、下記構成(ii)〜(v)の少なくとも1つの構成とを組み合わせることにより、さらに、最上流側リップ12の外側面12bへの塗布液の濡れ広がりを抑制することができる。 That is, the characteristic configuration of the coating apparatus of the present invention, i.e., the angle theta 1 between the front end surface 12a and the outer surface 12b of the lip 12 of the most downstream side is less than 90 degrees, and the outer surface 12b is water repellent By combining the structure (i) covered with the film and at least one of the following structures (ii) to (v), the wetting spread of the coating liquid on the outer surface 12b of the most upstream lip 12 is further achieved. Can be suppressed.

<構成(ii)>
最上流側リップ11の外側面11bが撥水性膜で被覆されている構成。
<Configuration (ii)>
A configuration in which the outer surface 11b of the most upstream lip 11 is covered with a water repellent film.

<構成(iii)>
最上流側リップ11の先端面11aと外側面11bとのなす角度θが90度未満である構成。
<Configuration (iii)>
Configuration angle theta 2 between the distal end surface 11a and the outer surface 11b on the most upstream side lip 11 is less than 90 degrees.

<構成(iv)>
最上流側リップ11の先端面11aが親水性膜で被覆されている構成。
<Configuration (iv)>
A configuration in which the tip surface 11a of the most upstream lip 11 is covered with a hydrophilic film.

<構成(v)>
スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する構成。
<Configuration (v)>
A configuration having a decompression unit upstream of the slit die.

[撥水性膜および親水性膜の水接触角の測定]
撥水性膜および親水性膜の水接触角は、以下の方法で測定することができる。
[Measurement of water contact angle of water-repellent film and hydrophilic film]
The water contact angle of the water repellent film and the hydrophilic film can be measured by the following method.

<テストピースの作製>
厚みが3mmのステンレス鋼板(HPM38;表面仕上げ0.4S)の表面に、撥水性膜あるいは親水性膜を厚み3μmで被覆してテストピースを作製する。
<Production of test piece>
A test piece is prepared by coating a surface of a stainless steel plate (HPM38; surface finish 0.4S) with a thickness of 3 mm with a water repellent film or a hydrophilic film with a thickness of 3 μm.

<水接触角の測定>
協和界面科学(株)製の自動接触角計(DM−500)と解析ソフトFAMAS(バージョン3.34)を用いて、テストピースに形成された撥水性膜あるいは親水性膜の水接触角を測定する。
測定には純水を用い、純水の滴下量を2マイクロリットルとする。
5回測定し、最大値と最小値を除く3点の平均値を採用する。
測定環境は、温度23℃、相対湿度55%である。
<Measurement of water contact angle>
Measure water contact angle of water repellent film or hydrophilic film formed on test piece using automatic contact angle meter (DM-500) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. and analysis software FAMAS (version 3.34) To do.
Pure water is used for the measurement, and the dropping amount of pure water is 2 microliters.
Measure five times and adopt the average value of 3 points excluding the maximum and minimum values.
The measurement environment is a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%.

[塗布装置の適用例]
本発明の塗布装置は、塗布液の種類は限定されず、既知の塗布液を塗布するのに適用することができる。特に、本発明の塗布装置は、水系塗布液の塗布に好適である。
[Application example of coating equipment]
In the coating apparatus of the present invention, the type of the coating solution is not limited, and can be applied to apply a known coating solution. In particular, the coating apparatus of the present invention is suitable for coating an aqueous coating solution.

水系塗布液はスリットダイ塗布装置で塗布するとき、最下流側リップ12の外側面12bに濡れ広がりやすい傾向にあるため、濡れ広がりを抑制することができる本発明の塗布装置は有効である。   Since the aqueous coating solution tends to wet and spread on the outer surface 12b of the most downstream lip 12 when coated with a slit die coating apparatus, the coating apparatus of the present invention that can suppress the wetting spread is effective.

水系塗布液とは、溶媒あるいは分散媒として水を主成分(全溶媒に対して水を50質量%以上、さらには60質量%以上含む)とする塗布液を意味する。水系塗布液は、水以外の溶媒、例えば水溶性アルコール(低級アルコール)等を含むことができる。   The aqueous coating solution means a coating solution containing water as a main component (including 50% by mass or more, further 60% by mass or more of water with respect to the total solvent) as a solvent or a dispersion medium. The aqueous coating solution can contain a solvent other than water, such as a water-soluble alcohol (lower alcohol).

水系塗布液としては、例えば、導電性の線状構造体(例えば、カーボンナノチューブ、銀ナノワイヤーなど)を含む塗布液、有機あるいは無機の粒子が分散された塗布液、水溶性ポリマーが溶解された塗布液、疎水性ポリマーの水分散体(エマルジョンなど)を含む塗布液等が挙げられる。   Examples of the aqueous coating solution include a coating solution containing a conductive linear structure (for example, carbon nanotube, silver nanowire, etc.), a coating solution in which organic or inorganic particles are dispersed, and a water-soluble polymer. Examples thereof include a coating solution and a coating solution containing an aqueous dispersion (emulsion etc.) of a hydrophobic polymer.

本発明にかかる塗布装置は、薄膜塗布に好適である。例えば、ウェット膜厚が30μm以下、さらに20μm以下の薄膜塗布に好適である。下限のウェット膜厚は3μm程度である。   The coating apparatus according to the present invention is suitable for thin film coating. For example, it is suitable for thin film coating having a wet film thickness of 30 μm or less, and further 20 μm or less. The lower limit wet film thickness is about 3 μm.

スリットダイ塗布装置を用いた薄膜塗布では、厚膜塗布に比べてビードの安定性が低くなり、最下流側リップ12の外側面12bに濡れ広がりやすくなる傾向にあるが、この濡れ広がりは本発明の塗布装置を用いることにより抑制することができる。   In the thin film coating using the slit die coating apparatus, the stability of the beads is lower than that in the thick film coating, and the outer surface 12b of the most downstream lip 12 tends to wet and spread. It can suppress by using this coating device.

本発明の塗布装置は、低粘度塗布液の塗布に好適である。例えば、23℃粘度が30mPa・s以下、さらには20mPa・s以下の塗布液の塗布に好適である。下限の粘度は0.5mPa・s程度である。ここで、塗布液の粘度は、B型粘度計(ブルックフィールド型粘度計)で、塗布液温度23℃で測定したものである。   The coating apparatus of the present invention is suitable for coating a low-viscosity coating liquid. For example, it is suitable for application of a coating solution having a viscosity at 23 ° C. of 30 mPa · s or less, and further 20 mPa · s or less. The lower limit viscosity is about 0.5 mPa · s. Here, the viscosity of the coating solution is measured with a B-type viscometer (Brookfield viscometer) at a coating solution temperature of 23 ° C.

低粘度塗布液をスリットダイ塗布装置で塗布するとき、高粘度塗布液の塗布に比べてビードの安定性が低くなり、最下流側リップ12の外側面12bに濡れ広がりやすくなる傾向にあるが、この濡れ広がりは本発明の塗布装置を用いることにより抑制することができる。   When applying a low-viscosity coating liquid with a slit die coating apparatus, the stability of the bead is lower than when applying a high-viscosity coating liquid, and it tends to wet and spread on the outer surface 12b of the most downstream lip 12, This wetting and spreading can be suppressed by using the coating apparatus of the present invention.

[基材]
本発明の塗布装置は、塗布液が塗布される基材の種類は限定されず、既知の基材への塗布に適用することができる。
かかる基材としては、例えば、紙、プラスチックフィルム、ガラス、金属箔、およびこれらの複合体が挙げられる。基材の厚みは20〜300μmの範囲が適当である。上記した基材の中でも、可撓性があり、比較的高い強度を有し、かつ幅方向の厚み精度が比較的良好である、プラスチックフィルムが好適である。
[Base material]
In the coating apparatus of the present invention, the type of the substrate to which the coating liquid is applied is not limited, and can be applied to a known substrate.
Examples of such a substrate include paper, plastic film, glass, metal foil, and composites thereof. The thickness of the substrate is suitably in the range of 20 to 300 μm. Among the above-mentioned base materials, a plastic film that is flexible, has a relatively high strength, and has a relatively good thickness accuracy in the width direction is preferable.

プラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、例えばアートン(登録商標)などの耐熱透明樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, and polycarbonate resins such as Arton (registered trademark). Heat-resistant transparent resin such as epoxy resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, and polyether sulfone resin.

[積層フィルムの製造]
本発明の塗布装置、前述の塗布方法および基材を用いることにより、各種積層フィルムを製造することができる。例えば、導電性フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム、帯電防止フィルム、自己修復性フィルム、粘着フィルム、離型フィルムなどの積層フィルムを製造することができる。
[Manufacture of laminated film]
Various laminated films can be manufactured by using the coating apparatus of the present invention, the above-described coating method, and the substrate. For example, laminated films such as a conductive film, a hard coat film, an antireflection film, an antiglare film, an antistatic film, a self-repairing film, an adhesive film, and a release film can be produced.

これらの積層フィルムは、基材に各種機能性層を一層もしくは複数層塗布し積層することによって製造される。機能性層は、上記したような各種機能性フィルムに適した機能を有する層であれば良い。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、自己修復層、粘着剤層、離形層等が挙げられる。   These laminated films are produced by applying and laminating various functional layers on a base material in one or more layers. The functional layer may be a layer having a function suitable for various functional films as described above. Examples of the functional layer include a conductive layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a self-healing layer, an adhesive layer, and a release layer.

10 スリットダイ
11 最上流側リップ
11a 先端面
11b 外側面
11c 上流側先端部
12 最下流側リップ
12a 先端面
12b 外側面
13 塗布液吐出用スリット
14 中央リップ
20 減圧ユニット
21 減圧室
30 基材
40 ビード
40a 上流側メニスカス
10 Slit die
11 Most upstream lip 11a Tip surface 11b Outer surface
11c Upstream side tip portion 12 Most downstream side lip 12a Tip side surface 12b Outer side surface 13 Coating liquid discharge slit
14 Central lip 20 Pressure reducing unit
21 Decompression chamber 30 Base material 40 Bead
40a upstream meniscus

Claims (13)

スリットダイを備えた塗布装置であって、該スリットダイ(10)は、少なくとも1つの塗布液吐出用スリット(13)、最上流側リップ(11)、最下流側リップ(12)を有し、前記最下流側リップ(12)の先端面(12a)と外側面(12b)とのなす角度(θ)が90度未満であり、かつ、外側面(12b)が撥水性膜で被覆されていることを特徴とする、塗布装置。 A coating apparatus provided with a slit die, wherein the slit die (10) has at least one coating liquid discharge slit (13), a most upstream lip (11), and a most downstream lip (12), The angle (θ 1 ) formed by the tip surface (12a) and the outer surface (12b) of the most downstream lip (12) is less than 90 degrees, and the outer surface (12b) is coated with a water repellent film. A coating apparatus characterized by comprising: 前記最上流側リップ(11)の外側面(11b)が撥水性膜で被覆されている、請求項1に記載の塗布装置。   The coating device according to claim 1, wherein the outermost surface (11b) of the most upstream lip (11) is covered with a water repellent film. 前記撥水性膜が炭素膜である、請求項1または2に記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 1, wherein the water repellent film is a carbon film. 前記炭素膜がDLC膜である、請求項3に記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 3, wherein the carbon film is a DLC film. 前記DLC膜がフッ素化DLC膜である、請求項4に記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 4, wherein the DLC film is a fluorinated DLC film. 前記最上流側リップ(11)の先端面(11a)と外側面(11b)とのなす角度(θ)が90度未満である、請求項1〜5のいずれかに記載の塗布装置。 The coating device according to any one of claims 1 to 5, wherein an angle (θ 2 ) formed by a tip surface (11a) and an outer surface (11b) of the most upstream lip (11) is less than 90 degrees. 前記最上流側リップ(11)の先端面(11a)が親水性膜で被覆されている、請求項1〜6のいずれかに記載の塗布装置。   The coating device according to any one of claims 1 to 6, wherein a distal end surface (11a) of the most upstream lip (11) is covered with a hydrophilic film. 前記親水性膜が親水性DLC膜である、請求項7に記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 7, wherein the hydrophilic film is a hydrophilic DLC film. 前記スリットダイの上流側に減圧ユニットを有する、請求項1〜8のいずれかに記載の塗布装置。   The coating apparatus according to claim 1, further comprising a decompression unit upstream of the slit die. 請求項1〜9のいずれかに記載の塗布装置を用いて、水系塗布液を基材に塗布する、塗布方法。   The coating method of apply | coating a water-system coating liquid to a base material using the coating device in any one of Claims 1-9. 請求項1〜9のいずれかに記載の塗布装置を用いて、23℃での粘度が30mPa・s以下である塗布液を、ウェット膜厚が30μm以下で基材に塗布する、塗布方法。   The coating method which apply | coats the coating liquid whose viscosity in 23 degreeC is 30 mPa * s or less to a base material with a wet film thickness of 30 micrometers or less using the coating device in any one of Claims 1-9. 請求項1〜9のいずれかに記載の塗布装置を用いて、塗布液を基材に塗布して積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。 The manufacturing method of a laminated | multilayer film which apply | coats a coating liquid to a base material using the coating device in any one of Claims 1-9, and obtains a laminated | multilayer film. 請求項10または11に記載の塗布方法を用いて、塗布液を基材に塗布し、積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。 The manufacturing method of a laminated | multilayer film which apply | coats a coating liquid to a base material using the coating method of Claim 10 or 11, and obtains a laminated | multilayer film.
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