JP2017146237A - 圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】感度を向上できる圧力センサを提供する。
【解決手段】実施形態の圧力センサは、膜部、第1センサ部、第1構造体を含む。膜部は、表面を有し変形可能である。第1センサ部は、表面の外縁の第1部分から離れた表面の一部に固定される。第1センサ部は、複数の第1検知素子を含む。複数の第1検知素子は、第1磁性層と、第1対向磁性層と、第1非磁性中間層と、を含む。第1構造体は、複数の第1検知素子の並ぶ方向に沿って第1センサ部と並ぶ。第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、第1中間構造体層と、を含む。第1構造体層は、第1対向構造体層の電位と同じ電位、及び、第1対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
【選択図】図1
【解決手段】実施形態の圧力センサは、膜部、第1センサ部、第1構造体を含む。膜部は、表面を有し変形可能である。第1センサ部は、表面の外縁の第1部分から離れた表面の一部に固定される。第1センサ部は、複数の第1検知素子を含む。複数の第1検知素子は、第1磁性層と、第1対向磁性層と、第1非磁性中間層と、を含む。第1構造体は、複数の第1検知素子の並ぶ方向に沿って第1センサ部と並ぶ。第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、第1中間構造体層と、を含む。第1構造体層は、第1対向構造体層の電位と同じ電位、及び、第1対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルに関する。
磁性層を用いた圧力センサが提案されている。圧力センサは、例えば、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルなどに応用される。圧力センサにおいて、感度の向上が望まれる。
本発明の実施形態は、感度を向上できる圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルを提供する。
本発明の実施形態によれば、膜部と、第1センサ部と、第1構造体と、を含む圧力センサが提供される。前記膜部は、表面を有し、変形可能である。前記第1センサ部は、前記表面の外縁の第1部分から離れた前記表面の一部に固定される。前記第1センサ部は、前記表面に沿って並ぶ複数の第1検知素子を含む。前記複数の第1検知素子のそれぞれは、第1磁性層と、第1対向磁性層と、第1非磁性中間層と、を含む。前記第1非磁性中間層は、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられる。前記第1構造体は、前記複数の第1検知素子の前記並ぶ方向に沿って前記第1センサ部と並ぶ。前記第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、第1中間構造体層と、を含む。前記第1中間構造体層は、前記第1構造体層と前記第1対向構造体層との間に設けられる。前記第1構造体層は、前記第1対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第1対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
図1(a)〜図1(d)は、第1の実施形態に係る圧力センサを例示する模式図である。
図1(a)は、斜視図である。図1(b)は、図1(a)のA1−A2線断面図である。図1(c)は、図1(a)の矢印ARから見た平面図である。図1(d)は、圧力センサの一部を例示する断面図である。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
図1(a)〜図1(d)は、第1の実施形態に係る圧力センサを例示する模式図である。
図1(a)は、斜視図である。図1(b)は、図1(a)のA1−A2線断面図である。図1(c)は、図1(a)の矢印ARから見た平面図である。図1(d)は、圧力センサの一部を例示する断面図である。
図1(a)に示すように、実施形態にかかる圧力センサ110は、膜部70dと、第1センサ部50aと、第2センサ部50bと、第1〜第4構造体61〜64と、を含む。
膜部70dは、変形可能である。部70dは、表面70uを有する。第1センサ部50aは、表面70uの一部70uaに固定されている。第1センサ部50aは、表面70uの全面には設けられていない。表面70uのこの一部70uaは、表面70uの外縁70rの第1部分から離れている。第1部分は、例えば、後述する第1辺70s1〜第4辺70s4のいずれかである。第1センサ部50aは、複数の第1検知素子51を含む。第2センサ部50bは、表面70uの別の一部70ubに固定されている。第2センサ部50bは、複数の第2検知素子52を含む。このように、複数の検知素子50が設けられる。複数の第1検知素子51は、複数の検知素子50の一部である。複数の第2検知素子52は、複数の検知素子50の一部である。
膜部70dから第1検知素子51に向かう方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。Z軸方向およびX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。
この例では、複数の第1検知素子51は、X軸方向に沿って並ぶ。複数の第2検知素子52は、X軸方向に沿って並ぶ。例えば、第2検知素子52は、第1検知素子と、Y軸方向において並ぶ。例えば、複数の第1検知素子51の少なくとも一部は、互いに直列に接続される。例えば、複数の第2検知素子52の少なくとも一部は、互いに直列に接続される。実施形態において、第1検知素子51の数は、任意である。第2検知素子52の数は、任意である。
膜部70dは、保持部70sに保持される。保持部70sは、外縁70rを保持する。例えば、膜部70d及び保持部70sとなる基板が設けられる。基板は、例えば、シリコン基板である。基板の一部が除去され、基板に空洞70hが設けられる。基板のうちの薄い部分が膜部70dとなる。基板のうちの厚い部分が保持部70sとなる。
図1(b)に示すように、第1検知素子51は、第1磁性層11aと、第1対向磁性層11bと、第1非磁性中間層11cと、を含む。第1非磁性中間層11cは、第1磁性層11aと第1対向磁性層11bとの間に設けられる。第1対向磁性層11bは、実質的にZ軸方向に沿って、第1磁性層11aと離間する。この例では、第1磁性層11aと膜部70dとの間に第1対向磁性層11bが設けられる。実施形態において、第1対向磁性層11bと膜部70dとの間に第1磁性層11aが配置されても良い。
図1(d)に示すように、第2検知素子52は、第2磁性層12aと、第2対向磁性層12bと、第2非磁性中間層12cと、を含む。第2非磁性中間層12cは、第2磁性層12aと第2対向磁性層12bとの間に設けられる。第2対向磁性層12bは、実質的にZ軸方向に沿って、第2磁性層12aと離間する。この例では、第2磁性層12aと膜部70dとの間に第2対向磁性層12bが設けられる。実施形態において、第2対向磁性層12bと膜部70dとの間に第2磁性層12aが配置されても良い。
第1構造体61は、X軸方向において第1センサ部50aと並ぶ。第1構造体61は、第1センサ部50aの一端と第3辺70s3(後述)との間に設けられる。第1構造体61は、第1センサ部50aと電気的に接続されていない。
第1構造体61は、第1構造体層61aと、第1対向構造体層61bと、第1中間構造体層61cと、を含む。第1中間構造体層61cは、第1構造体層61aと第1対向構造体層61bとの間に設けられる。第1対向構造体層61bは、実質的にZ軸方向に沿って、第1構造体層61aと離間する。この例では、第1構造体層61aと膜部70dとの間に第1対向構造体層61bが設けられる。実施形態において、第1対向構造体層61bと膜部70dとの間に第1構造体層61aが配置されても良い。
第1構造体層61aは、第1対向構造体層61bの電位と同じ電位、及び、第1対向構造体層61bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第1構造体層61aは、例えば、第1磁性層11aに含まれる材料と同じ材料を含む。第1対向構造体層61bは、例えば、第1対向磁性層11bに含まれる材料と同じ材料を含む。第1中間構造体層61cは、例えば、第1非磁性中間層11cに含まれる材料と同じ材料を含む。例えば、第1構造体61の構造は、第1検知素子51の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
例えば、第1構造体層61aは、第1磁性層11aとなる磁性膜から形成される。第1対向構造体層61bは、例えば、第1対向磁性層11bとなる磁性膜から形成される。第1中間構造体層61cは、例えば、第1非磁性中間層11cとなる非磁性膜から形成される。
圧力センサにおいては、センサ部の検知素子50の数を増やすことで、感度を向上させることができる。例えば、複数の検知素子50が直列に接続された場合、検知素子50の数Nに応じて、信号電圧がN倍となり、ノイズがN1/2倍となる。数を増やすことで、SN比SNRが向上する。
一方、センサ部の端に位置する検知素子50の歪量は、センサ部の中央に位置する検知素子50の歪量に比べて小さいことが分かった。例えば、センサ部の端に位置する検知素子50を、センサ部の他の検知素子50と電気的に接続すると、SN比SNRが低下することが分かった。
図2(a)及び図2(b)は、圧力センサの特性を例示するグラフ図である。
図2(a)において、横軸は、検知素子50のそれぞれの位置nを示す。縦軸は、異方性歪εx−y、または、ゲージファクタGFを示す。ゲージファクタGFは、単位歪(dε)あたりの、電気抵抗の変化量(dR/R)である。ゲージファクタGFが高いときに、例えば、感度が高い。
図2(a)において、横軸は、検知素子50のそれぞれの位置nを示す。縦軸は、異方性歪εx−y、または、ゲージファクタGFを示す。ゲージファクタGFは、単位歪(dε)あたりの、電気抵抗の変化量(dR/R)である。ゲージファクタGFが高いときに、例えば、感度が高い。
この例においては、複数の検知素子50が直列に並ぶ。複数の検知素子50の数は、27である。この例において、第1〜第27の位置のそれぞれの検知素子50について、異方性歪εx−yとゲージファクタGFが示されている。特性S1は、異方性歪εx−yを示す。両端の検知素子50においては、中央の検知素子50に比べて異方性歪εx−yが小さい。特性S2は、各検知素子50のゲージファクタGFを示す。両端の検知素子50においては、中央の検知素子50に比べてゲージファクタGFが小さい。例えば、第1、第2、第26及び第27の位置の検知素子50のゲージファクタGFは、基準値GF1よりも低い。基準値GF1以上において、所望の感度(例えば、70dB)が得られる。両端の検知素子50が、中央の検知素子50と接続されると、SN比SNRが低下する。
実施形態においては、例えば、第1の位置の検知素子50の代わりに、第1構造体61が配置される。例えば、第27の位置の検知素子50の代わりに、第2構造体62が配置される。第1構造体61及び第2構造体62は、第2〜第26の位置の検知素子50と電気的に接続されない。実施形態においては、SN比SNRの低下を抑制することができる。これにより、感度が向上できる。
図2(b)において、横軸は、複数の検知素子50の数Nを示す。縦軸は、SN比SNR(dB)を示す。特性S3は、複数の検知素子50の一端に第1構造体61が配置され、他端に第2構造体62が配置されたときのSN比SNRを示す。第1構造体61及び第2構造体62は、数Nに含まれない。特性S4は、複数の検知素子50のみが配置され、第1構造体61及び第2構造体62は配置されていないときのSN比SNRを示す。この例では、数Nを10以上80以下としたときに、特性S3のSN比SNRは、特性S4のSN比SNRよりも相対的に高い。すなわち、第1構造体61及び第2構造体62を配置することで、SN比SNRの低下を抑制できる。
図1(c)に示すように、この例では、膜部70dは、外縁70rを有する。外縁70rは、実質的に多角形(四角形、具体的には長方形)である。外縁70rは、第1辺70s1と、第2辺70s2と、第3辺70s3と、第4辺70s4と、を含む。
膜部70d(外縁70r)には、種々の形状が適用できる。膜部70d(外縁70r)は、例えば、略真円状でも良く、偏平円状(楕円状を含む)でも良く、略正方形状でも良く、長方形状でも良い。例えば、膜部70d(外縁70r)が略正方形状または略長方形状の場合は、4隅の部分(コーナ部)は、曲線状でも良い。
第1辺70s1は、第1方向(この例では、X軸方向)に延びる。第2辺70s2は、第2方向において第1辺70s1と離間する。第2方向は、第1方向と交差する。この例では、第2方向は、Y軸方向である。第2辺70s1は、第1方向(X軸方向)に延びる。第3辺70s3は、第2方向(Y軸方向)に延びる。第4辺70s4は、第1方向(X軸方向)において第3辺70s3と離間し、第2方向(Y軸方向)に延びる。
この例では、第1辺70s1と第2辺70s2との間の第1方向に沿った距離D1は、第3辺70s3と第4辺70s4との間の第2方向に沿った距離D2よりも長い。膜部70dは、実質的に長方形であり、第1辺70s1及び第2辺70s2は、長辺である。第3辺70s3及び第4辺70s4は、短辺である。
図1(c)に例示するように、実施形態において、外縁70rにおける辺と辺との間に曲線部分が設けられても良い。例えば、膜部70d(外縁70r)のコーナー部は、曲線状である。これにより、例えば、膜部70dの強度が向上する。
膜部70dに応力が加わったときに、膜部70dの外縁70rの近傍において、大きな歪(異方性歪)が生じる。検知素子50を膜部70dの外縁70rの近傍に配置することで、大きな歪が検知素子50に加わり、高い感度が得られる。特に、膜部70dの一方の長さが別の方向に長さよりも長いとき(すなわち、形状に異方性がある場合)、外縁70rの内の長軸に沿った部分で、特に大きな歪が生じる。このため、外縁70rの長辺に沿った部分に検知素子50を配置することで、特に高い感度が得られる。
この例では、複数の第1検知素子51は、第1辺70s1に沿って並ぶ。複数の第2検知素子52は、第2辺70s2に沿って並ぶ。膜部70dの一方の長さが、膜部70dの他方の長さより長いとき(形状に異方性がある場合)、膜部70dが等方的な形状を有するときに比べて、膜部70dの短軸側の端部付近で異方的な歪が生じる領域は、広い。
等方的な形状を有する膜部70dの端部よりも、異方性形状を有する膜部70dの短軸側の端部においては、広い領域で、大きな絶対値の異方歪が生じる。異方性形状を有する膜部70dには、等方的な形状を有する膜部70dよりも多くの検知素子50を配置できる。配置する検知素子50は、圧力に対して同様の(例えば同じ極性の)電気抵抗の変化を生じる検知素子50である。これにより、高感度の圧力センサを提供することができる。
複数の検知素子50を直列に接続することで、SN比を改善することができる。実施形態において、圧力が印加されたときに同じ極性の電気信号が得られる複数の検知素子50を配置することができる。これにより、SN比が向上する。
実施形態において、第2構造体62を設けるようにしてもよい。第2構造体62は、X軸方向において第1センサ部50aと並ぶ。第2構造体62は、第1センサ部50aの他端と第4辺70s4との間に設けられる。第2構造体62は、第1センサ部50aに電気的に接続されていない。第2構造体62は、第2構造体層62aと、第2対向構造体層62bと、第2中間構造体層62cと、を含む。第2中間構造体層62cは、第2構造体層62aと第2対向構造体層62bとの間に設けられる。第2対向構造体層62bは、実質的にZ軸方向に沿って、第2構造体層62aと離間する。この例では、第2構造体層62aと膜部70dとの間に第2対向構造体層62bが設けられる。実施形態において、第2対向構造体層62bと膜部70dとの間に第2構造体層62aが配置されても良い。第2構造体層62aは、第2対向構造体層62bの電位と同じ電位、及び、第2対向構造体層62bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第2構造体層62aは、例えば、第1磁性層11aに含まれる材料と同じ材料を含む。第2対向構造体層62bは、例えば、第1対向磁性層11bに含まれる材料と同じ材料を含む。第2中間構造体層62cは、例えば、第2非磁性中間層11cに含まれる材料と同じ材料を含む。例えば、第2構造体62の構造は、第1検知素子51の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
第3構造体63を設けてもよい。第3構造体63は、X軸方向において第2センサ部50bと並ぶ。第3構造体63は、第2センサ部50bの一端と第4辺70s4との間に設けられる。第3構造体63は、第2センサ部50bに電気的に接続されていない。第3構造体63は、第3構造体層63aと、第3対向構造体層63bと、第3中間構造体層63cと、を含む。第3中間構造体層63cは、第3構造体層63aと第3対向構造体層63bとの間に設けられる。第3対向構造体層63bは、実質的にZ軸方向に沿って、第3構造体層63aと離間する。この例では、第3構造体層63aと膜部70dとの間に第3対向構造体層63bが設けられる。実施形態において、第3対向構造体層63bと膜部70dとの間に第3構造体層63aが配置されても良い。第3構造体層63aは、第3対向構造体層63bの電位と同じ電位、及び、第3対向構造体層63bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第3構造体層63aは、例えば、第2磁性層12aに含まれる材料と同じ材料を含む。第3対向構造体層63bは、例えば、第2対向磁性層12bに含まれる材料と同じ材料を含む。第3中間構造体層63cは、例えば、第2非磁性中間層12cに含まれる材料と同じ材料を含む。例えば、第3構造体63の構造は、第2検知素子52の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
第4構造体64を設けるようにしてもよい。第4構造体64は、X軸方向において第2センサ部50bと並ぶ。第4構造体64は、第2センサ部50bの他端と第3辺70s3との間に設けられる。第4構造体64は、第2センサ部50bに電気的に接続されていない。第4構造体64は、第4構造体層64aと、第4対向構造体層64bと、第4中間構造体層64cと、を含む。第4中間構造体層64cは、第4構造体層64aと第4対向構造体層64bとの間に設けられる。第4対向構造体層64bは、実質的にZ軸方向に沿って、第4構造体層64aと離間する。この例では、第4構造体層64aと膜部70dとの間に第4対向構造体層64bが設けられる。実施形態において、第4対向構造体層64bと膜部70dとの間に第4構造体層64aが配置されても良い。第4構造体層64aは、第4対向構造体層64bの電位と同じ電位、及び、第4対向構造体層64bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第4構造体層64aは、例えば、第2磁性層12aに含まれる材料と同じ材料を含む。第4対向構造体層64bは、例えば、第2対向磁性層12bに含まれる材料と同じ材料を含む。第4中間構造体層64cは、例えば、第2非磁性中間層12cに含まれる材料と同じ材料である。例えば、第4構造体64の構造は、第2検知素子52の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
第1磁性層11aの磁化は、膜部70dの変形に応じて変化する。第2磁性層12aの磁化は、膜部70dの変形に応じて変化する。第1磁性層11aは、例えば、磁化自由層である。第2磁性層12aは、例えば、磁化自由層である。
例えば、第1対向磁性層11bの磁化は、第1磁性層11aの磁化に比べて変化し難い。第1対向磁性層11bは、例えば、磁化固定層である。例えば、第2対向磁性層12bの磁化は、第2磁性層12aの磁化に比べて変化し難い。第2対向磁性層12bは、例えば、磁化固定層である。
例えば、膜部70dに圧力(検知すべき圧力)が加わる。これにより、検知素子50の磁性層に歪が生じる。歪は例えば、異方性の歪である。この歪により、第1磁性層11aの磁化、及び、第2磁性層12aの磁化のそれぞれが変化する。この変化は、例えば、逆磁歪効果に基づく。これにより、第1磁性層11aの磁化の方向と、第1対向磁性層11bの磁化の方向と、の間の角度が変化する。これにより、第1磁性層11aと第1対向磁性層11bとの間の抵抗が、変化する。一方、第2磁性層12aの磁化の方向と、第2対向磁性層12bの磁化の方向と、の間の角度が変化する。これにより、第2磁性層12aと第2対向磁性層12bとの間の抵抗が、変化する。これらの抵抗の変化は、例えば、磁気抵抗効果(MR効果)に基づく。
すなわち、第1磁性層11aと第1対向磁性層11bとの間の抵抗は、膜部70dの変形に応じて変化する。第2磁性層12aの磁化の方向と、第2対向磁性層12bの磁化の方向と、の間の角度が変化する。これらの抵抗の変化を検知することにより、膜部70dに加えられた圧力が検知される。すなわち、検知対象の圧力が検知される。
抵抗の変化は、例えば、検知素子50に電流を流すことで検知される。
図1(b)に例示するように、第1センサ部50aは、例えば、第1電極58a及び第2電極58bをさらに含む。例えば、第1電極58aと第2電極58bとの間に、第1磁性層11a、第1対向磁性層11b及び第1非磁性中間層11cが配置される。第1電極58aと第2電極58bとの間に電圧を印加することで、第1検知素子51の抵抗が検知される。
図1(d)に例示するように、第2センサ部50bは、例えば、第3電極58c及び第4電極58dをさらに含む。例えば、第3電極58cと第4電極58dとの間に、第2磁性層12a、第2対向磁性層12b及び第2中間層12cが配置される。第3電極58cと第4電極58dとの間に電圧を印加することで、第2検知素子52の抵抗が検知される。
実施形態においては、第1構造体61は、第1導電層58p1と、第2導電層58p2と、をさらに含む。第1導電層58p1は、第1構造体層61aと電気的に接続される。第2導電層58p2は、第1対向構造体層61bと電気的に接続される。第1構造体層61aは、第1導電層58p1と第2導電層58p2との間に設けられる。第1対向構造体層61bは、第1構造体層61aと第2導電層58p2との間に設けられる。第1構造体61は、第1検知素子51と電気的に接続されていないため、電圧は印加されない。
さらに、第1導電層58p1は、第2構造体層62aと電気的に接続される。第2導電層58p2は、第2対向構造体層61bと電気的に接続される。第2構造体層62aは、第1導電層58p1と第2導電層58p2との間に設けられる。第2対向構造体層62bは、第2構造体層62aと第2導電層58p2との間に設けられる。第2構造体62は、第1検知素子51と電気的に接続されていないため、電圧は印加されない。
第3構造体63は、第3導電層58p3と、第4導電層58p4と、をさらに含む。第3導電層58p3は、第3構造体層63aと電気的に接続される。第4導電層58p4は、第3対向構造体層63bと電気的に接続される。第3構造体層63aは、第3導電層58p3と第4導電層58p4との間に設けられる。第3対向構造体層63bは、第3構造体層63aと第4導電層58p4との間に設けられる。第3構造体63は、第2検知素子52と電気的に接続されていないため、電圧は印加されない。
さらに、第3導電層58p3は、第4構造体層64aと電気的に接続される。第4導電層58p4は、第4対向構造体層64bと電気的に接続される。第4構造体層64aは、第3導電層58p3と第4導電層58p4との間に設けられる。第4対向構造体層64bは、第4構造体層64aと第4導電層58p4との間に設けられる。第4構造体64は、第2検知素子52と電気的に接続されていないため、電圧は印加されない。
磁性層(第1磁性層11a、第2磁性層12a)は、例えば、Fe、Co、及びNiの少なくとも1つを含む。対向磁性層(第1対向磁性層11b、第2対向磁性層12b)は、例えば、Fe、Co、及びNiの少なくとも1つを含む。非磁性中間層(第1非磁性中間層11c、第2非磁性中間層12c)には、金属または絶縁体を用いることができる。金属の場合、例えば、Cu、Au、及びAgなどが用いられる。絶縁体の場合、例えば、マグネシウム酸化物や、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物などが用いられる。
第1電極58aと膜部70dとの間に絶縁層(図示せず)が設けられている。この絶縁層は、例えば、第1電極58aと第2電極58bとの間にも設けられる。絶縁層は、例えば、第3電極58cと第4電極58dとの間にも設けられる。絶縁層により、電極どうしの電気的な絶縁が得られる。
図1(c)に示すように、制御部68(例えば処理回路)をさらに設けるようにしてもよい。制御部68は、第1検知素子51及び第2検知素子52と電気的に接続される。例えば、制御部68は、第1電極58a、第2電極58b、第3電極58c及び第4電極58dと電気的に接続される。制御部68は、第1検知素子51から得られる信号(第1検知素子51で生じる信号)に応じた信号を出力する。制御部68は、第2検知素子52から得られる信号(第2検知素子52で生じる信号)に応じた信号を出力する。制御部68は、検知素子50に生じる抵抗の変化に対応する信号を出力する。制御部68で得られる信号は、検知すべき圧力に対応する。
図3は、第1の実施形態に係る圧力センサの一部を例示する模式的断面図である。
図3に示すように、第1構造体61は、第1導電層58p1と、第2導電層58p2と、配線層58qと、をさらに含む。第1構造体層61aは、第1導電層58p1と第2導電層58p2との間に設けられる。下側の第2導電層58p2のX軸方向に沿う長さは、上側の第1導電層58p1のX軸方向に沿う長さよりも長い。配線層58qは、第1導電層58p1と第2導電層58p2とを電気的に接続する。第1構造体層61aは、第1対向構造体層61bの電位と同じ電位を有する。第2〜第4構造体62〜64についても同様である。
図3に示すように、第1構造体61は、第1導電層58p1と、第2導電層58p2と、配線層58qと、をさらに含む。第1構造体層61aは、第1導電層58p1と第2導電層58p2との間に設けられる。下側の第2導電層58p2のX軸方向に沿う長さは、上側の第1導電層58p1のX軸方向に沿う長さよりも長い。配線層58qは、第1導電層58p1と第2導電層58p2とを電気的に接続する。第1構造体層61aは、第1対向構造体層61bの電位と同じ電位を有する。第2〜第4構造体62〜64についても同様である。
実施形態によれば、センサ部の端に電気的に接続されない構造体が配置される。構造体は検知素子50として機能させない。このため、SNRの低下を抑制することができる。これにより、感度が向上できる。
(第2の実施形態)
図4(a)及び図4(b)は、第2の実施形態に係る圧力センサの一部を例示する模式図である。
図4(a)は、圧力センサの一部を例示する平面図である。
図4(b)は、圧力センサの一部を例示する断面図である。
図4(a)及び図4(b)は、第2の実施形態に係る圧力センサの一部を例示する模式図である。
図4(a)は、圧力センサの一部を例示する平面図である。
図4(b)は、圧力センサの一部を例示する断面図である。
実施形態に係る圧力センサ111は、第5構造体65と、第6構造体66と、をさらに含む。第5構造体65は、X軸方向において第1センサ部50aと並ぶ。第5構造体65は、第1センサ部50aと電気的に接続されていない。第5構造体65は、第1構造体61と第3辺70s3との間に設けられる。第6構造体66は、X軸方向において第1センサ部50aと並ぶ。第6構造体66は、第1センサ部50aと電気的に接続されていない。第6構造体66は、第2構造体62と第4辺70s4との間に設けられる。
第5構造体65は、第5構造体層65aと、第5対向構造体層65bと、第5中間構造体層65cと、を含む。第5中間構造体層65cは、第5構造体層65aと第5対向構造体層65bとの間に設けられる。第5対向構造体層65bは、実質的にZ軸方向に沿って、第5構造体層65aと離間する。この例では、第5構造体層65aと膜部70dとの間に第5対向構造体層65bが設けられる。実施形態において、第5対向構造体層65bと膜部70dとの間に第5構造体層65aが配置されても良い。第5構造体層65aは、第5対向構造体層65bの電位と同じ電位、及び、第5対向構造体層65bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第5構造体層65aは、例えば、第1磁性層11aに含まれる材料と同じ材料を含む。第5対向構造体層65bは、例えば、第1対向磁性層11bに含まれる材料と同じ材料を含む。第5中間構造体層65cは、例えば、第1非磁性中間層11c含まれる材料と同じ材料を含む。例えば、第5構造体65の構造は、第1検知素子51の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
第6構造体66は、第6構造体層66aと、第6対向構造体層66bと、第6中間構造体層66cと、を含む。第6中間構造体層66cは、第6構造体層66aと第6対向構造体層66bとの間に設けられる。第6対向構造体層66bは、実質的にZ軸方向に沿って、第6構造体層66aと離間する。この例では、第6構造体層66aと膜部70dとの間に第6対向構造体層66bが設けられる。実施形態において、第6対向構造体層66bと膜部70dとの間に第6構造体層66aが配置されても良い。第6構造体層66aは、第6対向構造体層66bの電位と同じ電位、及び、第6対向構造体層66bに対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する。
第6構造体層66aは、例えば、第1磁性層11aに含まれる材料と同じ材料を有する。第6対向構造体層66bは、例えば、第1対向磁性層11bに含まれる材料と同じ材料を含む。第6中間構造体層66cは、例えば、第1非磁性中間層11cに含まれる材料と同じ材料を含む。例えば、第6構造体66の構造は、第1検知素子51の構造と実質的に同じであるが、検知素子50としては機能しない。
第2センサ部50bの一端及び他端のそれぞれに配置される構造体の数は2でもよい。
図2(a)に関して説明したように、センサ部の片側端に設けられた2つの検知素子50は、ゲージファクタGFが小さい。本実施形態においては、これらの検知素子50(数は4)を、電気的に接続されない構造体とする。構造体は、検知素子50として機能しない。例えば、第1の位置の検知素子50の代わりに、第5構造体65が配置される。第2の位置の検知素子50の代わりに、第1構造体61が配置される。第26の位置の検知素子50の代わりに、第2構造体62が配置される。第27の位置の検知素子50の代わりに、第6構造体66が配置される。これらの第1、第2、第5、第6構造体61、62、65、66は、第3〜第25の位置の検知素子50と電気的に接続されない。このため、SNRの低下を抑制することができる。これにより、感度が向上できる。
図5(a)〜図5(c)は、実施形態に係る圧力センサを例示する模式図である。
これらの図は、複数の検知素子50の接続状態の例を示している。
図5(a)において、検知素子50は、第1検知素子51または第2検知素子52など対応する。複数の検知素子50は、直列に接続されている。直列に接続されている複数の検知素子50の数をNとする。このとき、得られる電気信号は、検知素子50の数が1である場合のN倍となる。一方、熱ノイズ及びショットキーノイズは、N1/2倍になる。すなわち、SNRは、N1/2倍になる。直列に接続される検知素子50の数Nを増やすことで、膜部70dのサイズを大きくすることなく、SN比を改善することができる。
これらの図は、複数の検知素子50の接続状態の例を示している。
図5(a)において、検知素子50は、第1検知素子51または第2検知素子52など対応する。複数の検知素子50は、直列に接続されている。直列に接続されている複数の検知素子50の数をNとする。このとき、得られる電気信号は、検知素子50の数が1である場合のN倍となる。一方、熱ノイズ及びショットキーノイズは、N1/2倍になる。すなわち、SNRは、N1/2倍になる。直列に接続される検知素子50の数Nを増やすことで、膜部70dのサイズを大きくすることなく、SN比を改善することができる。
本実施形態では、異方性形状を有する膜部70dを用いることで、その重心付近に集合して配置された複数の検知素子50のそれぞれの、圧力に対する電気抵抗の変化(例えば極性)は、同様である。そのため、複数の検知素子50のそれぞれの信号を加算することが可能である。
1つの検知素子50に加えられるバイアス電圧は、例えば、50ミリボルト(mV)以上150mV以下である。N個の検知素子50を直列に接続した場合は、バイアス電圧は、50mV×N以上150mV×N以下となる。例えば、直列に接続されている検知素子50の数Nが25である場合には、バイアス電圧は、1V以上3.75V以下となる。
バイアス電圧の値が1V以上であると、検知素子50から得られる電気信号を処理する電気回路の設計は容易になり、実用的に好ましい。本実施形態においては、圧力が印加されたときに同じ極性の電気信号が得られる検知素子50を、複数配置することができる。このため、これらを直列に接続して、上記のように、SN比が向上できる。
バイアス電圧(端子間電圧)が10Vを超えると、検知素子50から得られる電気信号を処理する電気回路においては、望ましくない。実施形態においては、適切な電圧範囲になるように、直列に接続される検知素子50の数N、及び、バイアス電圧が設定される。
例えば、複数の検知素子50を電気的に直列に接続したときの電圧は、1V以上10V以下となるのが好ましい。例えば、電気的に直列に接続された複数の検知素子50の端子間(一方の端の端子と、他方の端の端子と、の間)に印加される電圧は、1V以上10V以下である。
この電圧を発生させるためには、1つの検知素子50に印加されるバイアス電圧が50mVである場合、直列に接続される検知素子50の数Nは、20以上200以下が好ましい。1つの検知素子50に印加されるバイアス電圧が150mVである場合、直列に接続される検知素子50の数Nは、7以上66以下であることが好ましい。
図5(b)に示すように、複数の検知素子50の少なくとも一部は、電気的に並列に接続されても良い。
図5(c)に示すように、複数の検知素子50がホイートストンブリッジ回路を形成するように、複数の検知素子50を接続しても良い。これにより、例えば、検出特性の温度補償を行うことができる。
図6(a)〜図6(c)は、実施形態に係る圧力センサを例示する模式的斜視図である。
これらの図は、複数の検知素子50の接続の例を示している。
図6(a)に示すように、複数の検知素子50が電気的に直列に接続される場合において、下部側の第2電極58bと、上部側の第1電極58aと、の間に検知素子50及びビアコンタクト59を設ける。これにより、通電方向は、一方向となる。複数の検知素子50に通電される電流は、下向き、または、上向きである。この接続においては、複数の検知素子50のそれぞれの特性の差を小さくできる。
これらの図は、複数の検知素子50の接続の例を示している。
図6(a)に示すように、複数の検知素子50が電気的に直列に接続される場合において、下部側の第2電極58bと、上部側の第1電極58aと、の間に検知素子50及びビアコンタクト59を設ける。これにより、通電方向は、一方向となる。複数の検知素子50に通電される電流は、下向き、または、上向きである。この接続においては、複数の検知素子50のそれぞれの特性の差を小さくできる。
図6(b)に示すように、ビアコンタクト59が設けられずに、第2電極58bと、第1電極58aと、の間に検知素子50が配置されている。この例では、隣り合う2つの検知素子50のそれぞれに通電される電流の方向は、互いに逆である。この接続においては、複数の検知素子50の配置の密度が高い。
図6(c)に示すように、1つの第2電極58bと、1つの第1電極58aと、の間に、複数の検知素子50が設けられている。複数の検知素子50は、並列に接続されている。
(第3の実施形態)
図7は、第3の実施形態に係る圧力センサシステムを例示する模式的断面図である。
実施形態に係る圧力センサシステム112は、膜部70dと、第1センサ部50aと、第2センサ部50bと、第1〜第4構造体61〜64と、制御部68と、を含む。
図7は、第3の実施形態に係る圧力センサシステムを例示する模式的断面図である。
実施形態に係る圧力センサシステム112は、膜部70dと、第1センサ部50aと、第2センサ部50bと、第1〜第4構造体61〜64と、制御部68と、を含む。
制御部68は、例えば、第1センサ部50a及び第1構造体61と電気的に接続される。制御部68は、第1センサ部50aに電流を供給しながら、第1構造体層61a(図1(b)を参照)と第1対向構造体層61bとを電気的に接続する。制御部68は、第1センサ部50aに電流を供給しながら、第1構造体層61aの電位を、第1対向構造体層61bに対してフローティングとする。
本実施形態のように、制御部68が第1構造体61の電位を制御してもよい。第2〜第6構造体62〜66についても同様の制御が可能である。
図8(a)及び図8(b)は、実施形態に係る圧力センサの電極部分を例示する模式図である。
図8(a)は、電極部分の模式的平面図である。図8(b)は、図8(a)のB1−B2線断面図である。B1−B2線は、膜部70dの外縁70rに沿う。
図8(a)は、電極部分の模式的平面図である。図8(b)は、図8(a)のB1−B2線断面図である。B1−B2線は、膜部70dの外縁70rに沿う。
実施形態に係る圧力センサ113は、膜部70dと、複数の検知素子50と、第1電極58aと、第2電極58bと、を含む。図8(b)に示すように、膜部70dは、第1領域r1と、第2領域r2と、第3領域r3と、第4領域r4と、を含む。第1領域r1は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重なる。第2領域r2は、第1電極58aと重なり、検知素子50及び第2電極58bと重ならない。第3領域r3は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重なる。第4領域r4は、第2電極58bと重なり、検知素子50及び第1電極58aと重ならない。第2領域r2は、第1領域r1と第3領域r3との間に位置する。第3領域r3は、第2領域r2と第4領域r4との間に位置する。つまり、膜部70d上において、上側の第1電極58aと、下側の第2電極58bとが導通している。
図9(a)及び図9(b)は、実施形態に係る圧力センサの電極部分を例示する模式図である。
図9(a)は、電極部分の模式的平面図である。図9(b)は、図9(a)のC1−C2線断面図である。C1−C2線は、膜部70dの外縁70rに沿う。
図9(a)は、電極部分の模式的平面図である。図9(b)は、図9(a)のC1−C2線断面図である。C1−C2線は、膜部70dの外縁70rに沿う。
実施形態に係る圧力センサ114は、膜部70dと、複数の検知素子50と、第1電極58aと、第2電極58bと、を含む。図9(b)に示すように、膜部70dは、第1領域r1と、第2領域r2と、第3領域r3と、第4領域r4と、を含む。第1領域r1は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重なる。第2領域r2は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重ならない。第3領域r3は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重なる。第4領域r4は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bと重ならない。第2領域r2は、第1領域r1と第3領域r3との間に位置する。第3領域r3は、第2領域r2と第4領域r4との間に位置する。つまり、膜部70d上において、上側の第1電極58aと、下側の第2電極58bと、は導通していない。この場合、第1電極58aと第2電極58bとは、保持部70s内で導通している。
図10は、圧力センサの特性を例示するグラフ図である。
図10において、横軸は、素子部体積平均応力σave(MPa)を示す。縦軸は、異方性歪傾き|Δε/dP|を示す。素子部体積平均応力σaveは、圧力(音圧)をかけていないときに素子部に生じている単位体積当たりの平均応力を表す。素子部は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bを含む。異方性歪傾き|Δε/dP|は、検知素子50に生じる単位圧力(dP)当たりの歪の変化量(Δε)の絶対値を表す。
図10において、横軸は、素子部体積平均応力σave(MPa)を示す。縦軸は、異方性歪傾き|Δε/dP|を示す。素子部体積平均応力σaveは、圧力(音圧)をかけていないときに素子部に生じている単位体積当たりの平均応力を表す。素子部は、第1電極58a、検知素子50及び第2電極58bを含む。異方性歪傾き|Δε/dP|は、検知素子50に生じる単位圧力(dP)当たりの歪の変化量(Δε)の絶対値を表す。
特性S5は、圧力センサ114における異方性歪傾き|Δε/dP|を示す。特性S6は、圧力センサ113における異方性歪傾き|Δε/dP|を示す。この例では、素子部体積平均応力σaveが+60MPa付近のときに、異方性歪傾き|Δε/dP|がピークとなる。基準値ε1は、例えば、0.5とする。異方性歪傾き|Δε/dP|が基準値ε1以上のときに所望の特性が得られる。
例えば、+60MPa付近の素子部体積平均応力σaveに対して、圧力センサ114における異方性歪傾き|Δε/dP|(特性S5)は、圧力センサ113における異方性歪傾き|Δε/dP|(特性S6)よりも大きい。つまり、圧力センサ114は、圧力センサ113と比べて、より大きな歪量を得ることができる。これは、圧力センサ114の電極構造と、圧力センサ113の電極構造と、の違いに起因すると考えられる。
圧力センサ113の場合、検知素子50は、第1電極58a及び第2電極58bにより逆向きの歪が生じ、歪量が減少する。これに対して、圧力センサ114の場合、検知素子50は、第1電極58a及び第2電極58bにより同じ向きの歪が生じ、歪量は減少しない。このため、圧力センサ114における歪量は、圧力センサ113における歪量よりも大きくなると考えられる。このため、圧力センサ114の電極構造は、圧力センサ113の電極構造よりもより望ましい。
(第4の実施形態)
図11は、第4の実施形態に係るマイクロフォンを例示する模式図である。
図11に示すように、本実施形態に係るマイクロフォン610は、上記の実施形態に係る任意の圧力センサ、または、それらの変形に係る圧力センサを含む。この例では、圧力センサとして、圧力センサ110が用いられている。
図11は、第4の実施形態に係るマイクロフォンを例示する模式図である。
図11に示すように、本実施形態に係るマイクロフォン610は、上記の実施形態に係る任意の圧力センサ、または、それらの変形に係る圧力センサを含む。この例では、圧力センサとして、圧力センサ110が用いられている。
マイクロフォン610は、例えば、携帯情報端末710に設けられる。圧力センサ110の膜部70dは、例えば、携帯情報端末710の表示部620が設けられた面に対して実質的に平行である。膜部70dの配置は、任意である。実施形態によれば、ダイナミックレンジが拡大できるマイクロフォンが提供できる。実施形態に係るマイクロフォン610は、例えば、ICレコーダーやピンマイクロフォンなどに設けられても良い。
図12は、第4の実施形態に係る別のマイクロフォンを例示する模式的断面図である。 本実施形態に係るマイクロフォン320(音響マイクロフォン)は、プリント基板321と、カバー323と、圧力センサと、を含む。圧力センサとして、実施形態に係る任意の圧力センサのいずれか、または、それらの変形が用いられる。この例では、圧力センサとして、圧力センサ110が用いられている。プリント基板321は、例えばアンプなどの回路を含む。カバー323には、アコースティックホール325が設けられる。音329は、アコースティックホール325を通って、カバー323の内部に進入する。マイクロフォン320は、音圧に対して感応する。高感度な圧力センサ110を用いることにより、高感度なマイクロフォン320が得られる。例えば、圧力センサ110をプリント基板321の上に搭載し、電気信号線を設ける。圧力センサ110を覆うように、プリント基板321の上にカバー323が設けられる。ダイナミックレンジが拡大できるマイクロフォンが提供できる。
(第5の実施形態)
図13(a)及び図13(b)は、第5の実施形態に係る血圧センサを例示する模式図である。
図13(a)は、ヒトの動脈血管の上の皮膚を例示する模式的平面図である。図13(b)は、図13(a)のH1−H2線断面図である。
図13(a)及び図13(b)は、第5の実施形態に係る血圧センサを例示する模式図である。
図13(a)は、ヒトの動脈血管の上の皮膚を例示する模式的平面図である。図13(b)は、図13(a)のH1−H2線断面図である。
本実施形態に係る、血圧センサ330は、実施形態に係る任意の圧力センサ、または、それらの変形を含む。この例では、圧力センサとして圧力センサ110が用いられている。圧力センサ110を動脈血管331の上の皮膚333に押し当てる。これにより、血圧センサ330は、連続的に血圧測定を行うことができる。本実施形態によれば、ダイナミックレンジが拡大できる血圧センサが提供できる。高感度で血圧が測定できる。
(第6の実施形態)
図14は、第6の実施形態に係るタッチパネルを例示する模式図である。
本実施形態に係るタッチパネル340は、実施形態に係る任意の圧力センサ、または、それらの変形が用いられる。この例では、圧力センサとして圧力センサ110が用いられている。タッチパネル340において、圧力センサ110が、ディスプレイの内部及びディスプレイの外部の少なくともいずれかに搭載される。
図14は、第6の実施形態に係るタッチパネルを例示する模式図である。
本実施形態に係るタッチパネル340は、実施形態に係る任意の圧力センサ、または、それらの変形が用いられる。この例では、圧力センサとして圧力センサ110が用いられている。タッチパネル340において、圧力センサ110が、ディスプレイの内部及びディスプレイの外部の少なくともいずれかに搭載される。
例えば、タッチパネル340は、複数の第1配線346と、複数の第2配線347と、複数の圧力センサ110と、制御部341と、を含む。
この例では、複数の第1配線346は、Y軸方向に沿って並ぶ。複数の第1配線346のそれぞれは、X軸方向に沿って延びる。複数の第2配線347は、X軸方向に沿って並ぶ。複数の第2配線347のそれぞれは、Y軸方向に沿って延びる。
複数の圧力センサ110のそれぞれは、複数の第1配線346と複数の第2配線347とのそれぞれの交差部に設けられる。圧力センサ110の1つは、検知のための検知要素310eの1つとなる。ここで、交差部は、第1配線346と第2配線347とが交差する位置及びその周辺の領域を含む。
複数の圧力センサ110のそれぞれの一端310aは、複数の第1配線346のそれぞれと接続される。複数の圧力センサ110のそれぞれの他端310bは、複数の第2配線347のそれぞれと接続される。
制御部341は、複数の第1配線346と複数の第2配線347とに接続される。例えば、制御部341は、複数の第1配線346に接続された第1配線用回路346dと、複数の第2配線347に接続された第2配線用回路347dと、第1配線用回路346dと第2配線用回路347dとに接続された制御回路345と、を含む。圧力センサ110は、小型で高感度な圧力センシングが可能である。そのため、高精細なタッチパネルを実現することが可能である。
実施形態によれば、ダイナミックレンジが拡大できるタッチパネルが提供できる。高感度のタッチ入力が可能になる。
実施形態に係る圧力センサは、上記の応用の他に、気圧センサ、または、タイヤの空気圧センサなどに応用されても良い。実施形態に係る圧力センサは、様々な圧力検知に応用することができる。
実施形態によれば、ダイナミックレンジが拡大できる圧力センサ、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルを提供できる。
実施形態によれば、感度を向上できる圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルが提供できる。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、膜部、センサ部及び第1構造体などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての圧力センサ、圧力センサシステム、マイクロフォン、血圧センサ及びタッチパネルも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
11a…第1磁性層、 11b…第1対向磁性層、 11c…第1非磁性中間層、 12a…第2磁性層、 12b…第2対向磁性層、 12c…第2非磁性中間層、 50…検知素子、 50a、50b…第1、第2センサ部、 51、52…第1、第2検知素子、 58a〜58d…第1〜第4電極、 58p1〜58p4…第1〜第4導電層、 58q…配線層、 59…ビアコンタクト、 61〜66…第1〜第6構造体、 61a〜66a…第1〜第6構造体層、 61b〜66b…第1〜第6対向構造体層、 61c〜66c…第1〜第6中間構造体層、 68…制御部、 70d…膜部、 70h…空洞、 70r…外縁、 70s…保持部、 70s1〜70s4…第1〜第4辺、 70u…表面、 70ua、70ub…一部、 110、111、113、114…圧力センサ、 112…圧力センサシステム、 310a…一端、 310b…他端、 310e…検知要素、 320…マイクロフォン、 321…プリント基板、 323…カバー、 325…アコースティックホール、 329…音、 330…血圧センサ、 331…動脈血管、 333…皮膚、 340…タッチパネル、 341…制御部、 345…制御回路、 346…第1配線、 346d…第1配線用回路、 347…第2配線、 347d…第2配線用回路、 610…マイクロフォン、 620…表示部、 710…携帯情報端末、 AR…矢印、 D1、D2…距離、 GF…ゲージファクタ、 GF1、ε1…基準値、 S1〜S6…特性、 SNR…SN比、 r1〜r4…第1〜第4領域
Claims (21)
- 表面を有し変形可能な膜部と、
前記表面の外縁の第1部分から離れた前記表面の一部に固定された第1センサ部であって、前記第1センサ部は、前記表面に沿って並ぶ複数の第1検知素子を含み、前記複数の第1検知素子のそれぞれは、第1磁性層と、第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性中間層と、を含む、前記第1センサ部と、
前記複数の第1検知素子の前記並ぶ方向に沿って前記第1センサ部と並ぶ第1構造体であって、前記第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、前記第1構造体層と前記第1対向構造体層との間に設けられた第1中間構造体層と、を含み、前記第1構造体層は、前記第1対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第1対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、前記第1構造体と、
を備えた圧力センサ。 - 前記第1構造体層は、前記第1磁性層に含まれる材料と同じ材料を含み、
前記第1対向構造体層は、前記第1対向磁性層に含まれる材料と同じ材料を含み、
前記第1中間構造体層は、前記第1非磁性中間層に含まれる材料と同じ材料を含む、請求項1記載の圧力センサ。 - 前記外縁は、
第1方向に延びる第1辺と、
前記第1方向と交差する第2方向において前記第1辺と離間し前記第1方向に延びる第2辺と、
前記第2方向に延びる第3辺と、
前記第1方向において前記第3辺と離間し前記第2方向に延びる第4辺と、
を含み、
前記複数の第1検知素子は、前記第1辺の前記第1方向に並び、
前記第1構造体は、前記第1センサ部の一端と前記第3辺との間に設けられている、請求項1または2に記載の圧力センサ。 - 前記第1辺と前記第2辺との間の前記第1方向に沿った距離は、前記第3辺と前記第4辺との間の前記第2方向に沿った距離よりも長い、請求項3記載の圧力センサ。
- 前記第1構造体は、
前記第1構造体層と電気的に接続された第1導電層と、
前記第1対向構造体層と電気的に接続された第2導電層と、
をさらに含み、
前記第1構造体層は、前記第1導電層と前記第2導電層との間に設けられ、
前記第1対向構造体層は、前記第1構造体層と前記第2導電層との間に設けられた、請求項1〜4のいずれか1つに記載の圧力センサ。 - 前記第1構造体は、前記第1導電層と第2導電層とを電気的に接続する配線層をさらに含む、請求項5記載の圧力センサ。
- 前記第1センサ部は、
前記第1磁性層と電気的に接続された第1電極と、
前記第1対向磁性層と電気的に接続された第2電極と、
をさらに含み、
前記第1磁性層は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ、
前記第1対向磁性層は、前記第1磁性層と前記第2電極との間に設けられた、請求項5または6に記載の圧力センサ。 - 前記第1導電層は、前記第1電極に含まれる材料を含み、
前記第2導電層は、前記第2電極に含まれる材料を含む、請求項7記載の圧力センサ。 - 前記第1方向に沿って前記第1センサ部と並び、前記第1センサ部の他端と前記第4辺との間に設けられた第2構造体をさらに備え、
前記第2構造体は、第2構造体層と、第2対向構造体層と、前記第2構造体層と前記第2対向構造体層との間に設けられた第2中間構造体層と、を含み、
前記第2構造体層は、前記第2対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第2対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、請求項3記載の圧力センサ。 - 前記第2辺の前記第1方向に並ぶ複数の第2検知素子を含む第2センサ部であって、前記複数の第2検知素子のそれぞれは、第2磁性層と、第2対向磁性層と、前記第2磁性層と前記第2対向磁性層との間に設けられた第2非磁性中間層と、を含む、前記第2センサ部と、
前記第1方向に沿って前記第2センサ部と並び、前記第2センサ部の一端と前記第4辺との間に設けられた第3構造体であって、第3構造体層と、第3対向構造体層と、前記第3構造体層と前記第3対向構造体層との間に設けられた第3中間構造体層と、を含み、前記第3構造体層は、前記第3対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第3対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、前記第3構造体と、
をさらに備えた、請求項3記載の圧力センサ。 - 前記第1方向に沿って前記第2センサ部と並び、前記第2センサ部の他端と前記第3辺との間に設けられた第4構造体をさらに備え、
前記第4構造体は、第4構造体層と、第4対向構造体層と、前記第4構造体層と前記第4対向構造体層との間に設けられた第4中間構造体層と、を含み、
前記第4構造体層は、前記第4対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第4対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、請求項10記載の圧力センサ。 - 前記第1構造体と前記第3辺との間に設けられた第5構造体と、
前記第2構造体と前記第4辺との間に設けられた第6構造体と、
をさらに備え、
前記第5構造体は、第5構造体層と、第5対向構造体層と、前記第5構造体層と前記第5対向構造体層との間に設けられた第5中間構造体層と、を含み、
前記第6構造体は、第6構造体層と、第6対向構造体層と、前記第6構造体層と前記第6対向構造体層との間に設けられた第6中間構造体層と、を含み、
前記第5構造体層は、前記第5対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第5対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有し、
前記第6構造体層は、前記第6対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第6対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、請求項3記載の圧力センサ。 - 前記第1磁性層は、Fe、Co及びNiの少なくとも1つを含み、
前記第1対向磁性層は、Fe、Co、及びNiの少なくとも1つを含む、請求項1〜12のいずれか1つに記載の圧力センサ。 - 前記複数の第1検知素子は、直列に接続されている、請求項1〜13のいずれか1つに記載の圧力センサ。
- 前記膜部を保持する保持部をさらに備えた、請求項1〜14のいずれか1つに記載の圧力センサ。
- 前記第1磁性層の磁化は、前記膜部の変形に応じて変化する、請求項1〜15のいずれか1つに記載の圧力センサ。
- 表面を有し変形可能な膜部と、
前記表面の外縁の第1部分から離れた前記表面の一部に固定された第1センサ部であって、前記第1センサ部は、前記表面に沿って並ぶ複数の第1検知素子を含み、前記複数の第1検知素子のそれぞれは、第1磁性層と、第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性中間層と、を含む、前記第1センサ部と、
前記複数の第1検知素子の前記並ぶ方向に沿って前記第1センサ部と並ぶ第1構造体であって、前記第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、前記第1構造体層と前記第1対向構造体層との間に設けられた第1中間構造体層と、を含み、前記第1構造体層は、前記第1対向構造体層の電位と同じ電位、及び、前記第1対向構造体層に対するフローティング電位の少なくともいずれかを有する、前記第1構造体と、
を備え、
前記第1センサ部は、
前記第1磁性層と電気的に接続された第1電極と、
前記第1対向磁性層と電気的に接続された第2電極と、
を含み、
前記第1磁性層は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ、
前記第1対向磁性層は、前記第1磁性層と前記第2電極との間に設けられ、
前記膜部は、
前記第1電極、前記第1検知素子及び前記第2電極と重なる第1領域と、
前記第1電極、前記第1検知素子及び前記第2電極と重ならない第2領域と、
前記第1電極、前記第1検知素子及び前記第2電極と重なる第3領域と、
前記第1電極、前記第1検知素子及び前記第2電極と重ならない第4領域と、
を含み、
前記第2領域は、前記第1領域と前記第3領域との間に位置し、
前記第3領域は、前記第2領域と前記第4領域との間に位置する、圧力センサ。 - 表面を有し変形可能な膜部と、
前記表面の外縁の第1部分から離れた前記表面の一部に固定された第1センサ部であって、前記第1センサ部は、前記表面に沿って並ぶ複数の第1検知素子を含み、前記複数の第1検知素子のそれぞれは、第1磁性層と、第1対向磁性層と、前記第1磁性層と前記第1対向磁性層との間に設けられた第1非磁性中間層と、を含む、前記第1センサ部と、
前記複数の第1検知素子の前記並ぶ方向に沿って前記第1センサ部と並ぶ第1構造体であって、前記第1構造体は、第1構造体層と、第1対向構造体層と、前記第1構造体層と前記第1対向構造体層との間に設けられた第1中間構造体層と、を含む、前記第1構造体と、
前記第1センサ部及び前記第1構造体と電気的に接続された制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第1センサ部に電流を供給し、
前記制御部は、前記第1構造体層と前記第1対向構造体層とを電気的に接続する、または、前記第1構造体層の電位を前記第1対向構造体層に対してフローティングとする、圧力センサシステム。 - 請求項1〜17のいずれか1つに記載の圧力センサを備えたマイクロフォン。
- 請求項1〜17のいずれか1つに記載の圧力センサを備えた血圧センサ。
- 請求項1〜17のいずれか1つに記載の圧力センサを備えたタッチパネル。
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