JP2017139164A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (5)
- 真空チャンバ内にプラズマを発生させるための高周波電力をインピーダンス整合器を介して出力する高周波電源を備えて真空チャンバ内の被処理基板に対して所定のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、
インピーダンス整合器は、静電容量が可変のコンデンサを有し、高周波電力の出力時にこのコンデンサの静電容量を起点とし、プラズマのインピーダンスと高周波電源の出力インピーダンスとが整合するようにこの起点から静電容量を減少または増加させると共に、この整合時の静電容量を次に高周波電力が出力されるときの調整点とし、調整点から静電容量を減少または増加させる制御手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記制御手段は、高周波電力の出力が一旦停止された後、再開されるまでの時間を計測し、この計測した時間が所定値を超えると、起点から調整点までの静電容量の減少分または増加分に応じて、コンデンサの静電容量を補正し、この補正後の静電容量を起点とすることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- プラズマからの反射波電力を測定する測定手段を更に備え、
前記制御手段は、一の被処理基板に対するプラズマ処理時に前記測定手段により測定される反射波電力と時間の積分値が、他の被処理基板に対するプラズマ処理時に予め測定された反射波電力と時間の積分値と一致するように、起点から静電容量を減少または増加させることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。 - プラズマからの反射波電力を測定する測定手段を更に備え、
前記制御手段は、一の被処理基板に対するプラズマ処理時に前記測定手段により測定される反射波電力が、他の被処理基板に対するプラズマ処理時に予め測定された反射波電力の変化に追従するように、起点から静電容量を減少または増加させることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。 - プラズマからの反射波電力を測定する測定手段を更に備え、
前記制御手段は、被処理基板に対するプラズマ処理時に前記測定手段により測定される反射波電力が、予め設定された反射波電力の変化の設定値に追従するように、起点から静電容量を減少または増加させることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
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