JP2017137530A - Copper powder and manufacturing method therefor - Google Patents

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大夢 西本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a copper powder having a granular shape, particle diameter of 0.1 μm to 3.0 μm, excellent in oxidation resistance and suitable for wire formation of an electronic material for use for narrowing the wire and a manufacturing method therefor.SOLUTION: The copper powder has average particle diameter of a primary particle measured by a scanning electron microscopy of 0.1 μm to 3.0 μm, relative standard deviation value of the particle diameter, which is a value of standard deviation value of the particle diameter of the primary particle divided by average particle diameter of 0.3 or less and a value of crystalline diameter divided by the average particle diameter of 0.07 or more. The copper powder can be manufactured by mixing a copper compound solution, a hydroxide solution of alkali metal and a dispersant solution to manufacture a copper salt solution and maintaining the copper salt solution and a reductant solution in a range of 50°C to 90°C and mixing them with adding the reductant solution to the copper salt solution.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電子材料の配線形成用として有用な銅粉及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a copper powder useful for forming a wiring of an electronic material and a manufacturing method thereof.

従来より、金属粉末は、導電性ペーストのような電子部品の配線形成材料として、プリント配線、半導体の内部配線、プリント配線板と電子部品との接続等に利用されている。そして近年では、太陽電池用電極やLED等の分野において、配線の細線化に対する需要が高まってきており、そのため、細線化に対応できる導電性ペースト向けの金属粉末が求められている。   Conventionally, metal powder has been used as a wiring forming material for electronic parts such as conductive pastes for printed wiring, semiconductor internal wiring, connection between printed wiring boards and electronic parts, and the like. In recent years, in the fields of solar cell electrodes, LEDs, and the like, demand for thinning of wiring has increased, and therefore metal powders for conductive paste that can cope with thinning are demanded.

導電性ペースト向けの金属粉末として、従来では、銀粉が用いられてきた。しかしながら、銀の地金価格は高価であることから、銅粉への代替が活発に検討されている。   Conventionally, silver powder has been used as a metal powder for a conductive paste. However, since the price of silver bullion is expensive, alternatives to copper powder are being actively investigated.

細線用導電性ペーストに用いられる銅粉に求められる特性としては、用途及び使用条件によって様々であるが、例えば、形状が粒状であり、粒径が0.1μm〜3.0μmと小さく、また均一で、耐酸化性が高いことが重要である。粒径が3.0μmを超えると、配線を細線化できない。また、耐酸化性を高くするためには、結晶子径を大きくすることが有効であることが知られている。   The properties required for the copper powder used in the conductive paste for fine wires vary depending on the application and use conditions. For example, the shape is granular, the particle size is small as 0.1 μm to 3.0 μm, and uniform. It is important that the oxidation resistance is high. If the particle size exceeds 3.0 μm, the wiring cannot be thinned. Further, it is known that increasing the crystallite diameter is effective for increasing the oxidation resistance.

例えば、特許文献1では、BET径が3μm以下であり、真球状で、かつ結晶子サイズが0.1μm〜10μmである金属銅粒子が開示されている。この特許文献1に記載の方法によれば、結晶子径が大きい銅粉を作製することは可能であるが、走査電子顕微鏡写真の観察では、0.3μm〜7μmの粒子が観察されており、粒径が3μmを超える粒子が混在したものとなっている。細線用銅ペーストに用いられる銅粉としては、上述したように、粒径が0.1μm〜3.0μmの銅粒子が求められているため、この文献に記載の銅粒子を用いることは困難となる。さらに、この文献に記載の製造方法は、1120℃以上で溶融させた銅にアンモニアガスを吹き込むという方法であり、高温で有害ガスを使用するという点で、工業的な大量生産に適した製造方法ではない。   For example, Patent Document 1 discloses metallic copper particles having a BET diameter of 3 μm or less, a spherical shape, and a crystallite size of 0.1 μm to 10 μm. According to the method described in Patent Document 1, it is possible to produce a copper powder having a large crystallite diameter, but in observation of a scanning electron micrograph, particles of 0.3 μm to 7 μm are observed, Particles having a particle size exceeding 3 μm are mixed. As described above, since copper particles having a particle size of 0.1 μm to 3.0 μm are required as the copper powder used in the copper paste for fine wires, it is difficult to use the copper particles described in this document. Become. Furthermore, the manufacturing method described in this document is a method in which ammonia gas is blown into copper melted at 1120 ° C. or higher, and a manufacturing method suitable for industrial mass production in that a harmful gas is used at a high temperature. is not.

また、特許文献2には、亜酸化銅粉のスラリーをヒドロキシカルボン酸と硫酸の混合酸と混合する工程と、混合溶液を撹拌保持する工程とからなり、亜酸化銅粉スラリーと混合酸の混合時間が5分未満であって、得られる銅微粉の平均粒径が10nm〜50nmであり、かつ結晶子径と平均粒径との比が0.5以下である銅微粉の製造方法が開示されている。しかしながら、この製造方法では、粒径が50nm以下の銅粒子しか作製できず、50nm以下の粒子は凝集が強いためにペースト化しにくい。よって、この文献に記載の銅粒子を、細線用銅ペーストの銅粉として用いることも困難となる。   Patent Document 2 includes a step of mixing a cuprous oxide powder slurry with a mixed acid of hydroxycarboxylic acid and sulfuric acid, and a step of stirring and holding the mixed solution, and mixing the cuprous oxide powder slurry and the mixed acid. Disclosed is a method for producing copper fine powder in which the time is less than 5 minutes, the average particle diameter of the obtained copper fine powder is 10 nm to 50 nm, and the ratio of the crystallite diameter to the average particle diameter is 0.5 or less. ing. However, in this manufacturing method, only copper particles having a particle size of 50 nm or less can be produced, and particles having a particle size of 50 nm or less are not easily pasted because of strong aggregation. Therefore, it becomes difficult to use the copper particles described in this document as the copper powder of the copper paste for fine wires.

このように、従来の方法では、形状が粒状で、粒径が0.1μm〜3.0μmであって均一であり、耐酸化性に優れた銅粉を、工業的な大量生産に適した製造方法で製造することができなかった。そのため、上述した特性を有し、配線の細線化に適した導電性ペーストに有用な銅粉を効率的に製造でき、工業的な大量生産に適した方法が望まれている。   As described above, in the conventional method, copper powder having a granular shape, a particle size of 0.1 μm to 3.0 μm, uniform, and excellent in oxidation resistance is manufactured suitable for industrial mass production. Could not be produced by the method. Therefore, there is a demand for a method suitable for industrial mass production that can efficiently produce copper powder that has the above-described characteristics and that is useful for a conductive paste suitable for thinning of wiring.

特開2004−124257号公報JP 2004-124257 A 特許第4687599号公報Japanese Patent No. 4687599

本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたものであり、形状が粒状で、粒径が0.1μm〜3.0μmであって均一であり、耐酸化性に優れ、細線化用途の電子材料の配線形成に用いて好適な、銅粉及びその銅粉の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a conventional situation, and has a granular shape, a uniform particle size of 0.1 μm to 3.0 μm, excellent oxidation resistance, and thinning use. An object of the present invention is to provide a copper powder and a method for producing the copper powder, which are suitable for use in forming a wiring of the electronic material.

本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、分散剤を含有させた銅塩溶液を調製し、その銅塩溶液と還元剤水溶液の温度を特定の範囲に制御し、銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加して、その温度条件を維持しながら還元反応を生じさせることで、粒径が0.1μm以上3.0μm以下であって均一で、結晶子径が大きい銅粉を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   This inventor repeated earnest examination in order to solve the subject mentioned above. As a result, a copper salt solution containing a dispersant was prepared, the temperature of the copper salt solution and the reducing agent aqueous solution was controlled within a specific range, the reducing agent solution was added to the copper salt solution, and the temperature The present inventors have found that by causing a reduction reaction while maintaining the conditions, it is possible to obtain a copper powder having a particle size of 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, which is uniform and has a large crystallite size, and completes the present invention. It came to.

(1)本発明の第1の発明は、走査型電子顕微鏡により測定される一次粒子の平均粒径が0.1μm以上3.0μm以下であり、前記一次粒子の粒径の標準偏差値を、前記平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下であり、結晶子径を前記平均粒径で除した値が0.07以上であることを特徴とする銅粉である。   (1) In the first invention of the present invention, the average particle size of primary particles measured by a scanning electron microscope is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, and the standard deviation value of the particle size of the primary particles is A copper having a relative standard deviation value of a particle diameter, which is a value divided by the average particle diameter, of 0.3 or less, and a value obtained by dividing the crystallite diameter by the average particle diameter is 0.07 or more. It is powder.

(2)本発明の第2の発明は、第1の発明において、前記結晶子径が、60nm以上である、銅粉である。   (2) 2nd invention of this invention is copper powder whose said crystallite diameter is 60 nm or more in 1st invention.

(3)本発明の第3の発明は、第1又は第2の発明において、前記銅粉の形状が、粒状である、銅粉である。   (3) 3rd invention of this invention is copper powder whose shape of the said copper powder is a granular form in 1st or 2nd invention.

(4)本発明の第4の発明は、第1乃至第3のいずれかの発明において、前記銅粉の炭素含有量が、0.05質量%以上0.5質量%以下である、銅粉である。   (4) A fourth invention of the present invention is the copper powder according to any one of the first to third inventions, wherein the carbon content of the copper powder is 0.05% by mass or more and 0.5% by mass or less. It is.

(5)本発明の第5の発明は、第1乃至第4のいずれかの発明において、熱分析装置を用いた測定による、大気中において室温から10℃/分の昇温速度で加熱したときの0.5%重量増加温度が230℃を超える、銅粉である。   (5) The fifth invention of the present invention is the method according to any one of the first to fourth inventions, wherein heating is performed at a temperature increase rate of 10 ° C./min from room temperature in the atmosphere by measurement using a thermal analyzer. The copper powder has a 0.5% weight increase temperature exceeding 230 ° C.

(6)本発明の第6の発明は、第1乃至第4のいずれかの発明に係る銅粉と、樹脂と、溶媒とを混練してなる、導電性ペーストである。   (6) A sixth invention of the present invention is a conductive paste obtained by kneading a copper powder, a resin, and a solvent according to any one of the first to fourth inventions.

(7)本発明の第7の発明は、銅化合物を含む溶液と、アルカリ金属の水酸化物を含む溶液と、分散剤を含む溶液とを混合して銅塩溶液を作製する銅塩溶液作製工程と、前記銅塩溶液と還元剤溶液とを混合して銅粒子を生成させる銅粒子生成工程とを有し、前記銅粒子生成工程では、前記銅塩溶液及び前記還元剤溶液の温度を50℃以上90℃以下の範囲として、該銅塩溶液へ該還元剤溶液を添加することによって混合することを特徴とする銅粉の製造方法である。   (7) The seventh invention of the present invention is a copper salt solution preparation in which a solution containing a copper compound, a solution containing an alkali metal hydroxide, and a solution containing a dispersant are mixed to prepare a copper salt solution. A copper particle generating step of mixing the copper salt solution and the reducing agent solution to generate copper particles, and in the copper particle generating step, the temperature of the copper salt solution and the reducing agent solution is 50 It is a manufacturing method of the copper powder characterized by mixing by adding this reducing agent solution to this copper salt solution as the range of 90 degreeC or more and 90 degrees C or less.

(8)本発明の第8の発明は、第7の発明において、前記銅塩溶液作製工程において、前記分散剤の添加量を、前記銅化合物中の銅量に対して0.1質量%以上10質量%以下の範囲とする、銅粉の製造方法である。   (8) According to an eighth aspect of the present invention, in the seventh aspect, in the copper salt solution preparation step, the amount of the dispersant added is 0.1% by mass or more based on the amount of copper in the copper compound. It is a manufacturing method of copper powder which makes it the range of 10 mass% or less.

(9)本発明の第9の発明は、第7又は第8の発明において、前記分散剤が、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、変性シリコーンオイル系界面活性剤、及びポリエーテル系界面活性剤から選択される少なくとも1種である、銅粉の製造方法である。   (9) According to a ninth aspect of the present invention, in the seventh or eighth aspect, the dispersant is polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyvinylpyrrolidone, a modified silicone oil surfactant, and a polyether surfactant. It is a manufacturing method of copper powder which is at least 1 sort chosen from.

(10)本発明の第10の発明は、第7乃至第9のいずれかの発明において、前記銅化合物は、硫酸銅五水和物である、銅粉の製造方法である。   (10) A tenth aspect of the present invention is the method for producing copper powder according to any of the seventh to ninth aspects, wherein the copper compound is copper sulfate pentahydrate.

(11)本発明の第11の発明は、第7乃至第10のいずれかの発明において、前記アルカリ金属の水酸化物は、水酸化ナトリウムである、銅粉の製造方法である。   (11) The eleventh invention of the present invention is the method for producing copper powder according to any of the seventh to tenth inventions, wherein the alkali metal hydroxide is sodium hydroxide.

(12)本発明の第12の発明は、第7乃至第11のいずれかの発明において、前記銅粒子生成工程において、前記還元剤の添加量を、前記銅化合物中の銅量に対して1当量以上7当量以下とする、銅粉の製造方法である。   (12) According to a twelfth aspect of the present invention, in any one of the seventh to eleventh aspects, in the copper particle generation step, the amount of the reducing agent added is 1 with respect to the amount of copper in the copper compound. It is a manufacturing method of copper powder which makes it more than equivalent and below 7 equivalent.

(13)本発明の第13の発明は、第7乃至第12のいずれかの発明において、前記還元剤は、アスコルビン酸である、銅粉の製造方法である。   (13) The thirteenth aspect of the present invention is the copper powder manufacturing method according to any one of the seventh to twelfth aspects, wherein the reducing agent is ascorbic acid.

(14)本発明の第14の発明は、第7乃至第13のいずれかの発明において、前記銅粉は、該銅粉の結晶子径を、該銅粉を走査型電子顕微鏡により観察して測定される一次粒子の平均粒径で除した値が0.07以上である、銅粉の製造方法である。   (14) In a fourteenth aspect of the present invention, in any one of the seventh to thirteenth aspects, the copper powder is obtained by observing the crystallite diameter of the copper powder with a scanning electron microscope. It is the manufacturing method of copper powder whose value divided by the average particle diameter of the primary particle to be measured is 0.07 or more.

(15)本発明の第15の発明は、第14の発明において、前記銅粉は、結晶子径が60nm以上である、銅粉の製造方法である。   (15) The fifteenth aspect of the present invention is the copper powder manufacturing method according to the fourteenth aspect, wherein the copper powder has a crystallite diameter of 60 nm or more.

(16)本発明の第16の発明は、第14又は第15の発明において、前記銅粉は、前記銅粉の一次粒子の粒径の標準偏差値を、前記平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下である、銅粉の製造方法である。   (16) In a fourteenth aspect of the present invention, in the fourteenth or fifteenth aspect, the copper powder is a value obtained by dividing a standard deviation value of a particle diameter of primary particles of the copper powder by the average particle diameter. This is a copper powder manufacturing method in which the relative standard deviation value of a certain particle size is 0.3 or less.

(17)本発明の第17の発明は、第14乃至第16のいずれかの発明において、前記銅粉は、炭素含有量が0.05質量%以上0.5質量%以下である、銅粉の製造方法である。   (17) The seventeenth invention of the present invention is the copper powder according to any one of the fourteenth to sixteenth inventions, wherein the copper powder has a carbon content of 0.05% by mass or more and 0.5% by mass or less. It is a manufacturing method.

(18)本発明の第18の発明は、第1乃至第5のいずれかの発明に係る銅粉と、樹脂と、溶媒とを混練することによって製造する、導電性ペーストの製造方法である。   (18) An eighteenth aspect of the present invention is a method for producing a conductive paste, which is produced by kneading a copper powder, a resin, and a solvent according to any one of the first to fifth aspects of the invention.

本発明によれば、形状が粒状で、粒径が0.1μm〜3.0μmであって均一であり、耐酸化性に優れており、細線化用途の電子材料の配線形成に用いて好適な、銅粉及びその銅粉の製造方法を提供することができる。また、本発明に係る銅粉の製造方法によれば、取り扱いが容易であり工業的な大量生産に適した水溶液系において、効率的に銅粉を製造することができ、その工業的価値は極めて大きい。   According to the present invention, the shape is granular, the particle size is 0.1 μm to 3.0 μm, uniform, excellent in oxidation resistance, and suitable for use in forming wiring for electronic materials for thinning applications. , Copper powder and a method for producing the copper powder can be provided. In addition, according to the method for producing copper powder according to the present invention, copper powder can be efficiently produced in an aqueous solution system that is easy to handle and suitable for industrial mass production, and its industrial value is extremely high. large.

実施例1にて得られた銅粉のSEM観察写真図である。2 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Example 1. FIG. 実施例2にて得られた銅粉のSEM観察写真図である。4 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Example 2. FIG. 比較例1にて得られた銅粉のSEM観察写真図である。4 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Comparative Example 1. FIG.

以下、本発明の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて適宜変更することができる。なお、本明細書にて、「X〜Y」(X、Yは任意の数値)との表記は、「X以上Y以下」の意味である。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention (hereinafter referred to as “present embodiments”) will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments and does not depart from the gist of the present invention. As long as it can be changed as appropriate. In this specification, “X to Y” (X and Y are arbitrary numerical values) means “X or more and Y or less”.

≪1.銅粉≫
本実施の形態に係る銅粉は、走査型電子顕微鏡(SEM)により測定される一次粒子の平均粒径が0.1μm以上3.0μm以下であり、一次粒子の粒径の標準偏差値を平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下であり、また、結晶子径を平均粒径で除した値が0.07以上であることを特徴としている。
<< 1. Copper powder >>
In the copper powder according to the present embodiment, the average particle size of primary particles measured by a scanning electron microscope (SEM) is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, and the standard deviation value of the particle size of primary particles is averaged. The relative standard deviation value of the particle diameter, which is a value divided by the particle diameter, is 0.3 or less, and the value obtained by dividing the crystallite diameter by the average particle diameter is 0.07 or more.

より具体的に、この銅粉は、粒状の形状を有しており、平均粒径が0.1μm以上3.0μm以下の範囲であり、より好ましくは0.3μm以上2.5μm以下の範囲である。平均粒径をこのような範囲の銅粉であることにより、細線化された配線を形成するのに適した導電性(銅)ペーストとすることができる。   More specifically, the copper powder has a granular shape, and the average particle size is in the range of 0.1 μm to 3.0 μm, more preferably in the range of 0.3 μm to 2.5 μm. is there. By using the copper powder having an average particle diameter in such a range, a conductive (copper) paste suitable for forming a thinned wiring can be obtained.

ここで、平均粒径は、SEMにより一定数の銅粉を観察して、その観察により測定した一次粒子の粒径から求められる平均値である。また、一次粒子は、そのSEM観察像より単位粒子と考えられるものを指し、単位粒子が凝集、結合してできた粒子、いわゆる二次粒子を意味するものではない。   Here, an average particle diameter is an average value calculated | required from the particle size of the primary particle measured by observing a certain number of copper powder by SEM and observing. The primary particles refer to those considered as unit particles from the SEM observation image, and do not mean so-called secondary particles formed by aggregation and bonding of the unit particles.

この銅粉の平均粒径が0.1μm未満であると、粒子が凝集しやすくなり、ペースト化し難くなる。一方で、平均粒径が3.0μmを超えると、その銅粉を含むペーストにより配線を形成させたときに線幅を狭くすることが難しくなり、配線を細線化することが困難となる。   When the average particle size of the copper powder is less than 0.1 μm, the particles are likely to aggregate and difficult to form a paste. On the other hand, when the average particle size exceeds 3.0 μm, it is difficult to narrow the line width when the wiring is formed by the paste containing the copper powder, and it is difficult to make the wiring thin.

また、この銅粉は、一次粒子の粒径の標準偏差値を、上述したSEMにより測定される平均粒径で除した値である、粒径の相対標準偏差値が0.3以下である。この粒径の相対標準偏差値が0.3を超えると、印刷膜中に銅粒子が均一に存在しなくなるため、配線や電極の太さや厚さが不均一となる、またそればかりか、硬化あるいは焼成が不均一となるため、導電膜の抵抗が大きくなったり、導電膜が脆く弱いものになりやすい。   In addition, the copper powder has a relative standard deviation value of 0.3 or less, which is a value obtained by dividing the standard deviation value of the primary particle diameter by the average particle diameter measured by the SEM described above. If the relative standard deviation of this particle size exceeds 0.3, copper particles will not be uniformly present in the printed film, resulting in non-uniform thickness and thickness of the wiring and electrodes, as well as curing. Or since baking becomes non-uniform | heterogenous, the resistance of an electrically conductive film becomes large, or an electrically conductive film tends to become weak and weak.

また、この銅粉は、結晶子径を、上述したSEMにより測定される平均粒径で除した値(結晶子径/平均粒径)が0.07以上である。結晶子径は、X線回折結果からScherrer法を用いて計算することができる。結晶子径/平均粒径で表される指標が高いほど、銅粉を構成する結晶粒の個数が少ないことを意味し、つまり高い結晶性を有しているものとなる。このように、結晶子径/平均粒径が0.07以上の高結晶性を有する銅粉であることにより、結晶粒界が少なくなり、酸化し難くいものとなる。   Moreover, this copper powder has a value (crystallite diameter / average particle diameter) of 0.07 or more obtained by dividing the crystallite diameter by the average particle diameter measured by the SEM described above. The crystallite diameter can be calculated from the X-ray diffraction result using the Scherrer method. The higher the index represented by the crystallite diameter / average particle diameter, the smaller the number of crystal grains constituting the copper powder, that is, the higher the crystallinity. As described above, when the crystallite diameter / average particle diameter is a copper powder having a high crystallinity of 0.07 or more, the crystal grain boundary is reduced and it is difficult to oxidize.

ここで、本実施の形態に係る銅粉の結晶子径は、60nm以上であり、好ましくは130nm以上である。なお、結晶子径の上限値としては、特に限定されないが、900nm以下であることが好ましい。   Here, the crystallite diameter of the copper powder according to the present embodiment is 60 nm or more, preferably 130 nm or more. The upper limit value of the crystallite diameter is not particularly limited, but is preferably 900 nm or less.

また、上述した結晶子径/平均粒径の値として、その上限値は特に限定されないが、0.3以下であることが好ましい。また、結晶子径/平均粒径としては、0.08以上0.3以下であることがより好ましく、0.1以上0.2以下であることが特に好ましい。   Further, the upper limit of the crystallite diameter / average particle diameter is not particularly limited, but is preferably 0.3 or less. The crystallite diameter / average particle diameter is more preferably 0.08 or more and 0.3 or less, and particularly preferably 0.1 or more and 0.2 or less.

また、本実施の形態に係る銅粉は、炭素含有量が0.05質量%以上0.5質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以上0.4質量%以下であることがより好ましい。炭素含有量は、その銅粉表面における分散剤等に由来する有機物の付着量を示すものである。後述するように本実施の形態においては、銅粒子を生成させる際に、生成する銅粒子の凝集を抑制することを目的の1つとして分散剤を用いるが、得られる銅粉においてもその表面に適切な量の分散剤を付着させておくことで、凝集を抑制することができ、またその銅粉を用いて導電性ペーストとしたときの分散性を高めることができる。   Further, the copper powder according to the present embodiment preferably has a carbon content of 0.05% by mass or more and 0.5% by mass or less, and preferably 0.1% by mass or more and 0.4% by mass or less. More preferred. Carbon content shows the adhesion amount of the organic substance derived from the dispersing agent etc. in the copper powder surface. As will be described later, in the present embodiment, when the copper particles are generated, a dispersant is used as one of the purposes to suppress aggregation of the generated copper particles, but the obtained copper powder also has a surface thereof. By attaching an appropriate amount of the dispersant, aggregation can be suppressed, and dispersibility when the copper powder is used as a conductive paste can be enhanced.

銅粉の炭素含有量が0.05質量%未満であると、十分な凝集抑制効果が得られず、導電性ペーストとしたときに所望の分散性が得られない可能性がある。一方で、炭素含有量が多くなると、凝集抑制効果や分散性向上効果等は高まるものの、その銅粉表面に付着した有機物は導電性ペーストを加熱硬化させたときの、銅粉の焼結を阻害する要因となる。このことから、炭素含有量が0.5質量%を超えると、焼結性が低下することがある。   If the carbon content of the copper powder is less than 0.05% by mass, a sufficient aggregation suppressing effect cannot be obtained, and the desired dispersibility may not be obtained when a conductive paste is obtained. On the other hand, when the carbon content increases, the aggregation suppressing effect and the dispersibility improving effect increase, but the organic matter attached to the surface of the copper powder inhibits the sintering of the copper powder when the conductive paste is heat-cured. It becomes a factor to do. From this, when carbon content exceeds 0.5 mass%, sinterability may fall.

また、本実施の形態に係る銅粉は、耐酸化性に優れており、細線用導電性ペーストに用いられる銅粉として好適である。具体的に、その耐酸化性については、例えば、熱分析装置を用いた測定による「0.5%重量増加温度」によって定量的に評価することができ、この銅粉は、好ましくは、大気中において室温から10℃/分の昇温速度で加熱したときの0.5%重量増加温度が230℃を超える。   Moreover, the copper powder which concerns on this Embodiment is excellent in oxidation resistance, and is suitable as a copper powder used for the electrically conductive paste for thin wires. Specifically, the oxidation resistance can be quantitatively evaluated by, for example, “0.5% weight increase temperature” by measurement using a thermal analyzer, and the copper powder is preferably in the air. In this case, the 0.5% weight increase temperature exceeds 230 ° C. when heated from room temperature at a heating rate of 10 ° C./min.

≪2.銅粉の製造方法≫
次に、上述した特徴的な構成を有する銅粉の製造方法について説明する。
≪2. Manufacturing method of copper powder >>
Next, the manufacturing method of the copper powder which has the characteristic structure mentioned above is demonstrated.

本実施の形態に係る銅粉は、銅塩溶液を作製する工程と、作製した銅塩溶液と還元剤溶液とを混合して銅粒子を生成させる工程とを有する。そして、この製造方法においては、銅塩溶液と還元剤溶液とを特定の温度範囲に調整して維持しながら、その銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加して銅粒子を生成させることを特徴としている。   The copper powder which concerns on this Embodiment has the process of producing a copper salt solution, and the process of producing the copper particle by mixing the produced copper salt solution and a reducing agent solution. And in this manufacturing method, while adjusting and maintaining the copper salt solution and the reducing agent solution in a specific temperature range, the reducing agent solution is added to the copper salt solution to produce copper particles. It is a feature.

ここで、従来の銅粉の製造方法では、形状が粒状で、粒径が小さくかつ均一であり、結晶子径が大きい銅粉を工業的な製造に適した方法で製造できないという問題があった。しかしながら、本発明者の研究により、分散剤を含有させた銅塩溶液を調製し、その銅塩溶液と還元剤水溶液の温度を特定の範囲に調整し、原料である銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加していき、その温度条件を維持しながら還元反応を生じさせることで、粒状形状を有し、粒径の小さく、結晶子径が大きい銅粉を得ることができることを見出した。   Here, the conventional method for producing copper powder has a problem that it is impossible to produce copper powder having a granular shape, a small and uniform particle size, and a large crystallite size by a method suitable for industrial production. . However, according to the inventor's research, a copper salt solution containing a dispersant is prepared, the temperature of the copper salt solution and the reducing agent aqueous solution is adjusted to a specific range, and the copper salt solution as a raw material is reduced. It was found that a copper powder having a granular shape, a small particle diameter, and a large crystallite diameter can be obtained by adding an agent solution and causing a reduction reaction while maintaining the temperature condition.

より具体的には、銅塩溶液と還元剤溶液の温度を50℃以上90℃以下の範囲に調整し、それを維持した状態で、銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加して銅粒子を生成させる。このような製造方法によれば、粒状形状で、粒径が小さくかつ均一であり、結晶子径が大きい銅粉であって、配線の細線化に適した導電性ペーストに有用な銅粉を、工業的に製造することができる。   More specifically, the temperature of the copper salt solution and the reducing agent solution is adjusted to the range of 50 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and the copper salt solution is added to the copper salt solution while maintaining the temperature. Is generated. According to such a manufacturing method, a copper powder that is a granular shape, a small and uniform particle diameter, and a large crystallite diameter, which is useful for a conductive paste suitable for thinning a wiring, It can be manufactured industrially.

以下、本実施の形態に係る銅粉の製造方法についてより具体的に説明する。なお、以下の説明においては、銅塩溶液と還元剤溶液とを混合させた後の液を「反応液」ともいう。   Hereinafter, the method for producing copper powder according to the present embodiment will be described more specifically. In the following description, the liquid after the copper salt solution and the reducing agent solution are mixed is also referred to as “reaction liquid”.

(1)銅塩溶液の作製
この銅粉の製造方法においては、先ず、銅粒子を製造する原料溶液である銅塩溶液を作製する。具体的には、銅化合物を含む溶液と、アルカリ金属の水酸化物を含む溶液と、分散剤を含む溶液とを混合して銅塩溶液を作製する。
(1) Production of copper salt solution In this method for producing copper powder, first, a copper salt solution, which is a raw material solution for producing copper particles, is produced. Specifically, a solution containing a copper compound, a solution containing an alkali metal hydroxide, and a solution containing a dispersant are mixed to prepare a copper salt solution.

(銅化合物溶液)
銅化合物を含む溶液に関して、出発原料である銅化合物としては、特に限定されるものではなく、各種の銅化合物を用いることができるが、その中でも、他の銅化合物よりも安価であり高純度のものを入手し易いという点で硫酸銅五水和物を用いることが好ましい。
(Copper compound solution)
With respect to the solution containing the copper compound, the copper compound as a starting material is not particularly limited, and various copper compounds can be used, but among them, it is cheaper and more pure than other copper compounds. It is preferable to use copper sulfate pentahydrate because it is easily available.

また、銅化合物の濃度としては、特に限定されないが、得られる銅塩溶液中における銅濃度として100g/L〜2000g/Lの範囲となるようにすることが好ましい。銅の濃度が低い場合であっても、粒子の成長は生じて銅粒子を得ることができるが、銅塩溶液中において銅濃度が100g/L未満であると、生産性を高めることができず、また排水量が増大してコストが高くなる。一方で、銅の濃度が2000g/Lを越えると、水に対する溶解度に近くなり、十分に溶解しない可能性がある。   Moreover, it is although it does not specifically limit as a density | concentration of a copper compound, It is preferable to make it become the range of 100 g / L-2000 g / L as copper concentration in the obtained copper salt solution. Even if the concentration of copper is low, particle growth occurs and copper particles can be obtained. However, if the copper concentration is less than 100 g / L in the copper salt solution, productivity cannot be increased. In addition, the amount of drainage increases and the cost increases. On the other hand, when the concentration of copper exceeds 2000 g / L, it is close to solubility in water and may not be sufficiently dissolved.

(アルカリ金属の水酸化物溶液)
アルカリ金属の水酸化物を含む溶液に関して、そのアルカリ金属の水酸化物としては、各種の水酸化物を用いることができるが、その中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを用いることが好ましく、水酸化ナトリウムを用いることがより好ましい。これらのアルカリ金属の水酸化物は、入手が容易で、他の水酸化物よりも安価である。
(Alkali metal hydroxide solution)
With respect to a solution containing an alkali metal hydroxide, various hydroxides can be used as the alkali metal hydroxide. Among them, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferably used, It is more preferable to use sodium oxide. These alkali metal hydroxides are readily available and are less expensive than other hydroxides.

また、アルカリ金属の水酸化物の濃度としては、後述する還元剤溶液を銅塩溶液に添加した後にその反応液中で還元剤の還元反応が十分に進行するpHとなるように、その銅塩溶液中の濃度を調整することが好ましい。具体的には、例えば還元剤としてアスコルビン酸を用いる場合は、反応液のpHが3.0以上となるようにすることが好ましい。反応液のpHが3.0未満であると、還元剤であるアスコルビン酸による還元反応が進行しにくくなる可能性がある。   The concentration of the alkali metal hydroxide is such that the copper salt has a pH at which the reduction reaction of the reducing agent proceeds sufficiently in the reaction solution after adding the reducing agent solution described later to the copper salt solution. It is preferable to adjust the concentration in the solution. Specifically, for example, when ascorbic acid is used as the reducing agent, it is preferable that the pH of the reaction solution is 3.0 or more. If the pH of the reaction solution is less than 3.0, the reduction reaction with ascorbic acid that is a reducing agent may not easily proceed.

反応液のpHが高くなると、反応液中に水酸化銅が形成されるようになり、その水酸化銅からの還元反応により銅粒子が生成される。水酸化銅から銅粒子が生成される反応は、銅イオンから銅粒子が生成される反応よりも速度が低下するため、徐々に結晶が成長することになり、高結晶性の銅粒子が得られやすくなる。このことから、反応液のpHが4.0以上となるようにすることがより好ましい。   When the pH of the reaction solution is increased, copper hydroxide is formed in the reaction solution, and copper particles are generated by the reduction reaction from the copper hydroxide. The reaction in which copper particles are produced from copper hydroxide has a lower rate than the reaction in which copper particles are produced from copper ions, so that crystals grow gradually, resulting in highly crystalline copper particles. It becomes easy. For this reason, it is more preferable that the pH of the reaction solution is 4.0 or more.

(分散剤溶液)
本実施の形態に係る銅粉の製造方法においては、銅塩溶液を作製するにあたり、還元剤との還元反応により生成した銅粒子が凝集を起こさないように、分散剤の水溶液を混合させる。また、分散剤は、反応液中の濃度が高くなるほど、還元反応の速度を遅くする作用を有している。このことから、銅塩溶液に分散剤を含有させることで、還元反応の反応速度を低下させ、高結晶性の銅粒子を得ることができる。
(Dispersant solution)
In the method for producing a copper powder according to the present embodiment, when producing a copper salt solution, an aqueous solution of a dispersant is mixed so that copper particles generated by a reduction reaction with a reducing agent do not aggregate. In addition, the dispersant has an effect of slowing down the reduction reaction as the concentration in the reaction solution increases. From this, by making a copper salt solution contain a dispersing agent, the reaction rate of a reductive reaction can be reduced and a highly crystalline copper particle can be obtained.

ここで、結晶粒界が少なく結晶子径が大きい銅粉を得ることが重要であり、そのためには、結晶性が高いことにより銅粒子の各結晶の成長が優先されて結晶粒界が相対的に少なくなる条件とすることが好ましい。このような点から、還元反応の速度を制御することが好ましく、反応液中の分散剤濃度が適切な範囲となるように制御することが好ましい。   Here, it is important to obtain a copper powder having a small crystal grain boundary and a large crystallite diameter. For this purpose, the crystal grain boundary is given priority by the growth of each crystal of the copper particle due to the high crystallinity. It is preferable to set the conditions to be less. From such a point, it is preferable to control the rate of the reduction reaction, and it is preferable to control the concentration of the dispersant in the reaction solution to be within an appropriate range.

具体的に、分散剤の濃度としては、反応液中において銅化合物の銅量に対して0.1質量%以上10質量%以下となるようにすることが好ましく、0.3質量%以上7質量%以下とすることがより好ましく、0.5質量%以上5質量%以下とすることが特に好ましい。分散剤の濃度が反応液中において0.1質量%未満であると、還元反応の速度が速くなり、高結晶性の銅粉が得られない可能性がある。一方で、分散剤の濃度が反応液中において10質量%を超えると、還元反応の速度が低下しすぎて生産性が悪化し、また場合によっては還元反応が進行しない可能性もある。   Specifically, the concentration of the dispersant is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, and 0.3% by mass or more and 7% by mass with respect to the copper amount of the copper compound in the reaction solution. % Or less, more preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less. When the concentration of the dispersing agent is less than 0.1% by mass in the reaction solution, the rate of the reduction reaction is increased, and a highly crystalline copper powder may not be obtained. On the other hand, if the concentration of the dispersant exceeds 10% by mass in the reaction solution, the rate of the reduction reaction is too low, the productivity is deteriorated, and in some cases, the reduction reaction may not proceed.

分散剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、変性シリコーンオイル系界面活性剤、ポリエーテル系界面活性剤等から選択される少なくとも1種であることが好ましい。また、これらの分散剤の2種以上を併用してもよい。   The dispersant is not particularly limited and may be, for example, at least one selected from polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyvinylpyrrolidone, modified silicone oil surfactants, polyether surfactants, and the like. preferable. Two or more of these dispersants may be used in combination.

(2)還元剤の添加による銅粒子の生成
次に、作製した銅塩溶液と還元剤溶液とを混合して銅粒子を生成させる。このとき、本実施の形態に係る銅粉の製造方法では、銅塩溶液と還元剤溶液の温度を特定の範囲に制御し、その原料溶液である銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加していく。
(2) Production of copper particles by addition of reducing agent Next, the produced copper salt solution and the reducing agent solution are mixed to produce copper particles. At this time, in the method for producing copper powder according to the present embodiment, the temperatures of the copper salt solution and the reducing agent solution are controlled within a specific range, and the reducing agent solution is added to the copper salt solution that is the raw material solution. To go.

(還元剤溶液)
還元剤としては、特に限定されないが、比較的還元力の弱い化合物を用いることが好ましく、例えば、アスコルビン酸、あるいはそれに類似のラクトン構造を有する有機化合物を用いることが好ましい。アスコルビン酸は、還元作用が緩やかであり、そのようなラクトン構造を有する有機化合物を用いることによって、結晶性の高い銅粒子を効率的に生じさせることができる。
(Reducing agent solution)
Although it does not specifically limit as a reducing agent, It is preferable to use the compound with comparatively weak reducing power, for example, it is preferable to use the organic compound which has ascorbic acid or its lactone structure similar to it. Ascorbic acid has a slow reducing action, and by using an organic compound having such a lactone structure, highly crystalline copper particles can be efficiently generated.

この銅粉の製造方法においては、上述した還元剤を含有する溶液を銅塩溶液に添加していくが、その還元剤の添加量としては、反応液中において銅化合物の銅量に対して1当量以上7当量以下に相当する量とすることが好ましい。還元剤の添加量を、銅化合物の銅量に対して1当量未満とすると、未還元の銅塩が残留することがあり、一方で、7当量を超えると、製造コストが高くなる。   In this method for producing copper powder, the solution containing the reducing agent described above is added to the copper salt solution. The amount of the reducing agent added is 1 in the reaction solution relative to the copper amount of the copper compound. It is preferable to set the amount corresponding to an equivalent amount or more and 7 equivalents or less. When the amount of the reducing agent added is less than 1 equivalent with respect to the copper amount of the copper compound, an unreduced copper salt may remain, whereas when it exceeds 7 equivalents, the production cost increases.

ここで、本実施の形態に係る銅粉の製造方法においては、原料溶液である銅塩溶液へ還元剤溶液を添加していくことが重要であり、これにより、結晶性の高い銅粒子を効果的に生成させることができる。   Here, in the method for producing copper powder according to the present embodiment, it is important to add a reducing agent solution to a copper salt solution that is a raw material solution, thereby achieving high crystallinity of copper particles. Can be generated automatically.

また、銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加していくに際しては、その銅塩溶液と還元剤溶液の温度を特定の範囲に制御する。具体的には、50℃以上90℃以下の範囲とする。また、好ましく、60℃以上80℃以下の範囲とする。銅塩溶液と還元剤溶液の温度をこのような温度範囲に制御し、この温度範囲を維持して還元反応を生じさせることによって、高い結晶性を有する銅粒子を生成させることができる。反応温度が50℃未満であると、銅粒子の結晶性が低くなる。一方で、反応温度が90℃を超えると、反応速度が速くなるために粒径が不均一になりやすくなる。   Moreover, when adding a reducing agent solution with respect to a copper salt solution, the temperature of the copper salt solution and a reducing agent solution is controlled to a specific range. Specifically, the range is from 50 ° C. to 90 ° C. Moreover, it is preferable to set it as the range of 60 degreeC or more and 80 degrees C or less. By controlling the temperature of the copper salt solution and the reducing agent solution in such a temperature range and maintaining this temperature range to cause a reduction reaction, copper particles having high crystallinity can be generated. When the reaction temperature is less than 50 ° C., the crystallinity of the copper particles is lowered. On the other hand, when the reaction temperature exceeds 90 ° C., the reaction rate increases and the particle size tends to become non-uniform.

また、銅塩溶液に対して還元剤溶液を添加した後の反応液の保持時間としては、特に限定されないが、1時間以上とすることが好ましい。反応液の保持時間が1時間未満であると、還元反応が終了していない可能性があり、未還元の銅塩が残留することがある。一方で、反応液の保持時間の上限としては特に限定されないが、アスコルビン酸のような比較的還元力の弱い還元剤による還元反応が完全に終了するまでという観点から、例えば5時間以内とすることが好ましい。なお、この反応液の保持時間としては、1時間以上4時間以下とすることがより好ましく、2時間以上3時間以下とすることが特に好ましい。   Moreover, the retention time of the reaction solution after adding the reducing agent solution to the copper salt solution is not particularly limited, but is preferably 1 hour or longer. If the retention time of the reaction solution is less than 1 hour, the reduction reaction may not be completed, and an unreduced copper salt may remain. On the other hand, the upper limit of the retention time of the reaction solution is not particularly limited, but it should be, for example, within 5 hours from the viewpoint that the reduction reaction with a reducing agent having a relatively low reducing power such as ascorbic acid is completely completed. Is preferred. The holding time of the reaction solution is more preferably 1 hour or more and 4 hours or less, and particularly preferably 2 hours or more and 3 hours or less.

反応液には、必要に応じてpH調整剤、錯化剤、消泡剤等の添加剤を適宜添加することもできる。これらの添加剤の添加量も、その目的に応じて適宜調整すればよい。   If necessary, additives such as a pH adjuster, a complexing agent, and an antifoaming agent can be appropriately added to the reaction solution. What is necessary is just to adjust suitably the addition amount of these additives according to the objective.

(3)濾過、洗浄・乾燥
以上のようにして、銅粒子を含む銅粒子スラリーを生成させると、そのスラリーを濾過することによって銅粉を分離し、洗浄して乾燥する。
(3) Filtration, washing and drying When a copper particle slurry containing copper particles is produced as described above, the slurry is filtered to separate the copper powder, washing and drying.

洗浄方法としては、特に限定されないが、例えば、銅粒子を水に投入し、撹拌機又は超音波洗浄器等を使用して撹拌した後、吸引濾過機やフィルタープレス等で濾過して回収する方法により行うことができる。また、その洗浄方法においては、水への投入、撹拌洗浄、及び濾過からなる操作を、数回繰り返して行うことが好ましい。なお、洗浄水としては、銅粉に対して有害な不純物元素を含有しない水、特に純水を用いることが好ましい。   The cleaning method is not particularly limited, but, for example, a method in which copper particles are put into water, stirred using a stirrer or an ultrasonic cleaner, and then collected by filtration with a suction filter or a filter press. Can be performed. Moreover, in the washing | cleaning method, it is preferable to repeat the operation which consists of throwing into water, stirring washing | cleaning, and filtration several times. In addition, as cleaning water, it is preferable to use water which does not contain an impurity element harmful to copper powder, particularly pure water.

また、銅粉の凝集等を防止するために、洗浄処理において洗浄水等に表面処理剤を添加して、その洗浄中に銅粉を表面処理するようにしてもよい。例えば、洗浄処理中にカルボン酸溶液による表面処理を追加することができる。なお、このような表面処理を行った場合には、その後に洗浄及び濾過を行い、余剰な表面処理剤を除去することが好ましい。   Further, in order to prevent aggregation of the copper powder and the like, a surface treatment agent may be added to the washing water or the like in the washing treatment, and the copper powder may be surface treated during the washing. For example, a surface treatment with a carboxylic acid solution can be added during the cleaning treatment. In addition, when such surface treatment is performed, it is preferable to perform washing | cleaning and filtration after that and to remove an excess surface treating agent.

次に、洗浄後の銅粉に対する乾燥処理において、その乾燥方法としては特に限定されず、例えば、洗浄後の銅粒子をステンレスバット上に置き、大気オーブン又は真空乾燥機等の市販の乾燥装置を用いて、40℃〜80℃程度の温度で加熱することにより行うことができる。   Next, in the drying treatment for the washed copper powder, the drying method is not particularly limited. For example, the washed copper particles are placed on a stainless steel bat, and a commercially available drying apparatus such as an atmospheric oven or a vacuum dryer is used. And can be performed by heating at a temperature of about 40 ° C. to 80 ° C.

以上詳細に説明したように、本実施の形態に係る銅粉の製造方法によれば、粒状で、粒径が小さく均一であり、結晶子径の大きい高結晶性の銅粉を製造することができる。   As described above in detail, according to the method for producing copper powder according to the present embodiment, it is possible to produce a highly crystalline copper powder that is granular, has a small particle size, is uniform, and has a large crystallite size. it can.

≪3.導電性ペースト≫
本実施の形態に係る銅粉は、上述したように、SEMにより測定される一次粒子の平均粒径が0.1μm以上3.0μm以下であり、一次粒子の粒径の標準偏差値を平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下であり、また、結晶子径を平均粒径で除した値が0.07以上である。このような銅粉によれば、凝集を抑えながら、配線の細線化に適した導電性ペーストの原料として好適に用いることができる。
≪3. Conductive paste >>
As described above, the copper powder according to the present embodiment has an average particle size of primary particles measured by SEM of 0.1 μm or more and 3.0 μm or less, and the standard deviation value of the particle size of primary particles is the average particle size. The relative standard deviation value of the particle diameter, which is a value divided by the diameter, is 0.3 or less, and the value obtained by dividing the crystallite diameter by the average particle diameter is 0.07 or more. According to such a copper powder, it can be suitably used as a raw material for a conductive paste suitable for thinning wiring while suppressing aggregation.

導電性ペーストは、上述した銅粉と、バインダ樹脂と、溶剤とを混合して、混錬することによって製造することができる。また、必要に応じて、硬化後の導電性を改善するために、酸化防止剤やカップリング剤等の添加剤の配合することもできる。   The conductive paste can be manufactured by mixing and kneading the above-described copper powder, binder resin, and solvent. Moreover, in order to improve the electroconductivity after hardening as needed, additives, such as antioxidant and a coupling agent, can also be mix | blended.

具体的に、バインダ樹脂としては、特に限定されないが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、エチルセルロース樹脂等を用いることができる。また、溶剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ターピネオール等の有機溶剤を用いることができる。また、その有機溶剤の添加量としては、特に限定されないが、スクリーン印刷やディスペンサー等の導電膜形成方法に適した粘度となるように、銅粉の平均粒径を考慮して調整することができる。   Specifically, the binder resin is not particularly limited, but an epoxy resin, a phenol resin, an ethyl cellulose resin, or the like can be used. Moreover, as a solvent, organic solvents, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerol, and terpineol, can be used. The amount of the organic solvent added is not particularly limited, but can be adjusted in consideration of the average particle size of the copper powder so as to have a viscosity suitable for a conductive film forming method such as screen printing or dispenser. .

また、添加剤である酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えばヒドロキシカルボン酸等を挙げることができる。より具体的には、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸が好ましく、銅への吸着力が高いクエン酸又はリンゴ酸が特に好ましい。なお、添加剤としては、その他に、カップリング剤や、粘度調整剤、分散剤、難燃剤、沈降防止剤等を使用することができる。   Moreover, it does not specifically limit as antioxidant which is an additive, For example, a hydroxycarboxylic acid etc. can be mentioned. More specifically, hydroxycarboxylic acids such as citric acid, malic acid, tartaric acid, and lactic acid are preferable, and citric acid or malic acid having a high adsorptive power to copper is particularly preferable. In addition, as the additive, a coupling agent, a viscosity modifier, a dispersant, a flame retardant, an anti-settling agent, and the like can be used.

導電性ペーストを製造するに際しては、上述した構成成分を均一に分散させることができる限り、従来と同様の方法により製造することができる。例えば、上述した各構成成分を、3本ロールミル等を用いて均一に混練することにより製造することができる。   When producing the conductive paste, it can be produced by a method similar to the conventional method as long as the above-described constituent components can be uniformly dispersed. For example, each component described above can be produced by uniformly kneading using a three-roll mill or the like.

なお、添加剤を添加するタイミングについても、特に制限されず、銅粉やバインダ樹脂と同時に溶剤に添加して混練してもよく、あるいは、銅粉とバインダ樹脂とを溶剤に混ぜて混練させ、その後、自公転ミキサ等を用いて添加してもよい。   The timing of adding the additive is not particularly limited, and may be added to the solvent simultaneously with the copper powder and the binder resin and kneaded, or the copper powder and the binder resin are mixed in the solvent and kneaded, Then, you may add using a self-revolving mixer.

以下に、本発明の実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<評価方法>
下記実施例及び比較例にて得られた銅粉について、以下の方法により、平均粒径、結晶子系、形状の観察、0.5%重量増加温度、炭素含有量の測定を行った。
<Evaluation method>
For the copper powders obtained in the following examples and comparative examples, the average particle size, crystallite system, observation of shape, 0.5% weight increase temperature, and carbon content were measured by the following methods.

(平均粒径)
得られた銅粉の平均粒径については、走査型電子顕微鏡(SEM、日本電子株式会社製,JSM−7100F)を用いて観察し、銅粉300個以上の一次粒子の粒径を測長することによって、その平均値を求めて平均粒径とした。
(Average particle size)
About the average particle diameter of the obtained copper powder, it observes using a scanning electron microscope (SEM, the JEOL Co., Ltd. make, JSM-7100F), and measures the particle size of 300 or more primary particles of copper powder. Thus, the average value was obtained to obtain the average particle size.

(結晶子径)
得られた銅粉の結晶子径については、X線回折装置(PAN alytical社製,X‘pert PRO)を用いて測定し、得られたX線回折パターンから、一般にScherrerの式として知られる公知の方法を用いて算出した。
(Crystallite diameter)
The crystallite diameter of the obtained copper powder is measured using an X-ray diffractometer (manufactured by PAN artificial, X'pert PRO), and from the obtained X-ray diffraction pattern, it is generally known as Scherrer's formula It calculated using the method of.

(0.5%重量増加温度)
得られた銅粉の0.5%重量増加温度については、熱分析装置(ブルカー社製,TG−DTA2000SR)を用いて、空気流量を100mL/分とし、10℃/分で昇温させたときの重量増加量を測定し、0.5%重量が増加したときの温度を、0.5%重量増加温度として求めた。
(0.5% weight increase temperature)
About the 0.5% weight increase temperature of the obtained copper powder, when using a thermal analyzer (manufactured by Bruker, TG-DTA2000SR), the air flow rate was 100 mL / min, and the temperature was increased at 10 ° C./min. The weight increase amount was measured, and the temperature at which 0.5% weight increased was determined as the 0.5% weight increase temperature.

(炭素含有量)
得られた銅粉の炭素含有量については、炭素硫黄分析装置(LECO社製,CS−600)を用いて、高周波燃焼−赤外吸収法により測定した。
(Carbon content)
About the carbon content of the obtained copper powder, it measured by the high frequency combustion-infrared absorption method using the carbon sulfur analyzer (the product made by LECO, CS-600).

[実施例1]
硫酸銅五水和物(住友金属鉱山株式会社製)500gを純水3Lに溶解させ、そこへ、25%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学株式会社製)600mLと、分散剤であるポリビニルアルコール(株式会社クラレ製,PVA205)1.28gを純水1Lに溶解させた分散剤溶液とを添加した。さらに、消泡剤(株式会社アデカ製,アデカノールLG−126)を体積比で100倍に希釈し、この消泡剤希釈液10mLを添加した。これにより、銅塩溶液を調製した。
[Example 1]
500 g of copper sulfate pentahydrate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) is dissolved in 3 L of pure water, to which 600 mL of 25% aqueous sodium hydroxide solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and polyvinyl alcohol (stock) A dispersant solution prepared by dissolving 1.28 g of PVA205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) in 1 L of pure water was added. Further, an antifoaming agent (manufactured by Adeka Co., Ltd., Adecanol LG-126) was diluted 100 times by volume, and 10 mL of this antifoaming agent dilution was added. Thereby, a copper salt solution was prepared.

次に、調製した銅塩溶液を撹拌しながら60℃で保持し、そこへ、アスコルビン酸(和光純薬工業株式会社製)881gを純水2Lに溶解させて60℃に加熱した還元剤溶液を投入し、60℃で3時間撹拌しながら保持した。   Next, while maintaining the prepared copper salt solution at 60 ° C. while stirring, a reducing agent solution obtained by dissolving 881 g of ascorbic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 2 L of pure water and heating to 60 ° C. The mixture was added and held at 60 ° C. with stirring for 3 hours.

撹拌終了後、その反応液を、吸引濾過機を使用して濾過し、反応液中の銅粒子を固液分離した。続いて、回収した銅粒子を純水2L中に投入し、そこへ、ステアリン酸エマルジョン(中京油脂株式会社製,セロゾール920)2.5gを添加して15分間撹拌した後、吸引濾過機で濾過して回収した。続いて、回収した銅粒子を純水2L中に投入し、15分間の撹拌による洗浄と吸引濾過機による濾過からなる操作を行った。その後、銅粒子をステンレスバット上に移し、真空乾燥機にて60℃で10時間乾燥して、銅粉を得た。   After completion of the stirring, the reaction solution was filtered using a suction filter, and the copper particles in the reaction solution were separated into solid and liquid. Subsequently, the recovered copper particles are put into 2 L of pure water, and 2.5 g of stearic acid emulsion (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., Cellosol 920) is added thereto and stirred for 15 minutes, followed by filtration with a suction filter. And recovered. Subsequently, the recovered copper particles were put into 2 L of pure water, and an operation including washing by stirring for 15 minutes and filtration by a suction filter was performed. Thereafter, the copper particles were transferred onto a stainless bat and dried at 60 ° C. for 10 hours with a vacuum dryer to obtain copper powder.

図1は、この実施例1で得られた銅粉のSEM観察写真である。図1のSEM写真から分かるように、得られた銅粉は粒状の形状であった。   FIG. 1 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Example 1. As can be seen from the SEM photograph in FIG. 1, the obtained copper powder was in a granular shape.

また、そのSEM像より300個以上の一次粒子の粒径を測長して粒子数で平均することで求めた平均粒径は1.86μmであり、一次粒子の粒径の標準偏差値を平均粒径で除した粒径の相対標準偏差値は0.19であった。また、結晶子径は153nmであり、結晶子径/平均粒径で表される値は0.08であった。   The average particle size obtained by measuring the particle size of 300 or more primary particles from the SEM image and averaging them by the number of particles was 1.86 μm, and the standard deviation value of the particle size of the primary particles was averaged. The relative standard deviation value of the particle size divided by the particle size was 0.19. The crystallite diameter was 153 nm, and the value represented by crystallite diameter / average particle diameter was 0.08.

さらに、得られた銅粉の0.5%重量増加温度は242℃であり、230℃を超えるものとなり、耐酸化性が良好であった。また、得られた銅粉の炭素含有量は0.23質量%であった。   Furthermore, the 0.5% weight increase temperature of the obtained copper powder was 242 ° C. and exceeded 230 ° C., and the oxidation resistance was good. Moreover, the carbon content of the obtained copper powder was 0.23% by mass.

[実施例2]
硫酸銅五水和物(住友金属鉱山株式会社製)25.0gを純水150mLに溶解させ、そこへ、25%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学株式会社製)30mLと、分散剤であるポリビニルアルコール(株式会社クラレ製,PVA205)0.06gを純水50mLに溶解させた分散剤溶液とを添加した。さらに、消泡剤(株式会社アデカ製,アデカノールLG−126)を体積比で100倍に希釈し、この消泡剤希釈液5mLを添加した。これにより、銅塩溶液を調製した。
[Example 2]
25.0 g of copper sulfate pentahydrate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) is dissolved in 150 mL of pure water, and 30 mL of 25% sodium hydroxide aqueous solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and polyvinyl alcohol as a dispersant are added thereto. A dispersant solution in which 0.06 g (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA205) was dissolved in 50 mL of pure water was added. Furthermore, an antifoaming agent (manufactured by Adeka Co., Ltd., Adecanol LG-126) was diluted 100 times by volume, and 5 mL of this antifoaming agent dilution was added. Thereby, a copper salt solution was prepared.

次に、調製した銅塩溶液を撹拌しながら80℃で保持し、そこへ、アスコルビン酸(和光純薬工業株式会社製)44gを純水100mLに溶解させて80℃に加熱した還元剤溶液を投入し、80℃で3時間撹拌しながら保持した。   Next, the prepared copper salt solution is kept at 80 ° C. while stirring, and 44 g of ascorbic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is dissolved in 100 mL of pure water and heated to 80 ° C. The mixture was added and held at 80 ° C. with stirring for 3 hours.

撹拌終了後、その反応液を、吸引濾過機を使用して濾過し、反応液中の銅粒子を固液分離した。続いて、回収した銅粒子を純水200mL中に投入し、そこへ、ステアリン酸エマルジョン(中京油脂株式会社製,セロゾール920)0.13gを添加して15分間撹拌した後、吸引濾過機で濾過して回収した。続いて、回収した銅粒子を純水200mL中に投入し、15分間の撹拌による洗浄と吸引濾過機による濾過からなる操作を行った。その後、銅粒子をステンレスバット上に移し、真空乾燥機にて60℃で10時間乾燥して、銅粉を得た。   After completion of the stirring, the reaction solution was filtered using a suction filter, and the copper particles in the reaction solution were separated into solid and liquid. Subsequently, the recovered copper particles are put into 200 mL of pure water, and 0.13 g of stearic acid emulsion (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., Cellosol 920) is added thereto and stirred for 15 minutes, followed by filtration with a suction filter. And recovered. Subsequently, the recovered copper particles were put into 200 mL of pure water, and an operation consisting of washing with stirring for 15 minutes and filtration with a suction filter was performed. Thereafter, the copper particles were transferred onto a stainless bat and dried at 60 ° C. for 10 hours with a vacuum dryer to obtain copper powder.

図2は、この実施例2で得られた銅粉のSEM観察写真である。図2のSEM写真から分かるように、得られた銅粉は粒状の形状であった。   FIG. 2 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Example 2. As can be seen from the SEM photograph in FIG. 2, the obtained copper powder was in a granular shape.

また、そのSEM像より300個以上の一次粒子の粒径を測長して粒子数で平均することで求めた平均粒径は2.38μmであり、一次粒子の粒径の標準偏差値を平均粒径で除した粒径の相対標準偏差値は0.23であった。また、結晶子径は291nmであり、結晶子径/平均粒径で表される値は0.12であった。   Further, the average particle size obtained by measuring the particle size of 300 or more primary particles from the SEM image and averaging them by the number of particles is 2.38 μm, and the standard deviation value of the particle size of the primary particles is averaged. The relative standard deviation value of the particle size divided by the particle size was 0.23. The crystallite diameter was 291 nm, and the value represented by crystallite diameter / average particle diameter was 0.12.

さらに、得られた銅粉の0.5%重量増加温度は287℃であり、230℃を超えるものとなり、耐酸化性が良好であった。また、得られた銅粉の炭素含有量は0.22質量%であった。   Furthermore, the 0.5% weight increase temperature of the obtained copper powder was 287 ° C, exceeding 230 ° C, and the oxidation resistance was good. Moreover, the carbon content of the obtained copper powder was 0.22 mass%.

[比較例1]
銅塩溶液、還元剤水溶液、保持時間中の反応液の温度を、それぞれ40℃としたこと以外は、実施例2と同様にして銅粉を製造した。
[Comparative Example 1]
Copper powder was produced in the same manner as in Example 2 except that the temperature of the copper salt solution, the reducing agent aqueous solution, and the reaction solution during the holding time was 40 ° C., respectively.

図3は、この比較例1で得られた銅粉のSEM観察写真である。図3のSEM写真から分かるように、得られた銅粉は粒状の形状であった。   FIG. 3 is a SEM observation photograph of the copper powder obtained in Comparative Example 1. As can be seen from the SEM photograph in FIG. 3, the obtained copper powder was in a granular shape.

また、そのSEM像より300個以上の一次粒子の粒径を測長して粒子数で平均することで求めた平均粒径は1.81μmであり、一次粒子の粒径の標準偏差値を平均粒径で除した粒径の相対標準偏差値は0.29であった。また、結晶子径は97nmであり結晶子径/平均粒径で表される値は0.05であった。   Further, the average particle size obtained by measuring the particle size of 300 or more primary particles from the SEM image and averaging them by the number of particles was 1.81 μm, and the standard deviation value of the particle size of the primary particles was averaged. The relative standard deviation value of the particle size divided by the particle size was 0.29. The crystallite diameter was 97 nm, and the value represented by crystallite diameter / average particle diameter was 0.05.

さらに、得られた銅粉の0.5%重量増加温度は212℃であり、耐酸化性の劣るものであった。また、得られた銅粉の炭素含有量は0.25質量%であった。   Furthermore, the 0.5% weight increase temperature of the obtained copper powder was 212 ° C., which was inferior in oxidation resistance. Moreover, the carbon content of the obtained copper powder was 0.25 mass%.

Claims (18)

走査型電子顕微鏡により測定される一次粒子の平均粒径が0.1μm以上3.0μm以下であり、
前記一次粒子の粒径の標準偏差値を、前記平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下であり、
結晶子径を前記平均粒径で除した値が0.07以上である
ことを特徴とする銅粉。
The average particle size of primary particles measured by a scanning electron microscope is 0.1 μm or more and 3.0 μm or less,
The standard deviation value of the particle size of the primary particles divided by the average particle size is a relative standard deviation value of the particle size of 0.3 or less,
A value obtained by dividing the crystallite diameter by the average particle diameter is 0.07 or more.
前記結晶子径が、60nm以上である
請求項1に記載の銅粉。
The copper powder according to claim 1, wherein the crystallite diameter is 60 nm or more.
前記銅粉の形状が、粒状である
請求項1又は2に記載の銅粉。
The copper powder according to claim 1 or 2, wherein the shape of the copper powder is granular.
前記銅粉の炭素含有量が、0.05質量%以上0.5質量%以下である
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の銅粉。
The copper powder according to any one of claims 1 to 3, wherein a carbon content of the copper powder is 0.05% by mass or more and 0.5% by mass or less.
熱分析装置を用いた測定による、大気中において室温から10℃/分の昇温速度で加熱したときの0.5%重量増加温度が230℃を超える
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の銅粉。
5. The weight increase temperature of 0.5% when heated at a rate of temperature increase of 10 ° C./min from room temperature in the atmosphere, measured by a thermal analyzer, exceeds 230 ° C. 5. The copper powder as described.
請求項1乃至4のいずれかに記載の銅粉と、樹脂と、溶媒とを混練してなる
導電性ペースト。
A conductive paste obtained by kneading the copper powder according to claim 1, a resin, and a solvent.
銅化合物を含む溶液と、アルカリ金属の水酸化物を含む溶液と、分散剤を含む溶液とを混合して銅塩溶液を作製する銅塩溶液作製工程と、
前記銅塩溶液と還元剤溶液とを混合して銅粒子を生成させる銅粒子生成工程と
を有し、
前記銅粒子生成工程では、前記銅塩溶液及び前記還元剤溶液の温度を50℃以上90℃以下の範囲として、該銅塩溶液へ該還元剤溶液を添加することによって混合する
ことを特徴とする銅粉の製造方法。
A copper salt solution preparation step of preparing a copper salt solution by mixing a solution containing a copper compound, a solution containing an alkali metal hydroxide, and a solution containing a dispersant;
A copper particle production step of producing a copper particle by mixing the copper salt solution and the reducing agent solution,
In the copper particle generation step, the temperature of the copper salt solution and the reducing agent solution is set in a range of 50 ° C. or more and 90 ° C. or less, and mixing is performed by adding the reducing agent solution to the copper salt solution. A method for producing copper powder.
前記銅塩溶液作製工程では、前記分散剤の添加量を、前記銅化合物中の銅量に対して0.01質量%以上10質量%以下の範囲とする
請求項7に記載の銅粉の製造方法。
In the said copper salt solution preparation process, the addition amount of the said dispersing agent shall be the range of 0.01 mass% or more and 10 mass% or less with respect to the amount of copper in the said copper compound. Method.
前記分散剤が、ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、変性シリコーンオイル系界面活性剤、及びポリエーテル系界面活性剤から選択される少なくとも1種である
請求項7又は8に記載の銅粉の製造方法。
The said dispersing agent is at least 1 sort (s) selected from polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyvinylpyrrolidone, a modified silicone oil-type surfactant, and a polyether-type surfactant, The manufacture of the copper powder of Claim 7 or 8 Method.
前記銅化合物は、硫酸銅五水和物である
請求項7乃至9のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
The method for producing copper powder according to any one of claims 7 to 9, wherein the copper compound is copper sulfate pentahydrate.
前記アルカリ金属の水酸化物は、水酸化ナトリウムである
請求項7乃至10のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
The method for producing copper powder according to any one of claims 7 to 10, wherein the alkali metal hydroxide is sodium hydroxide.
前記銅粒子生成工程では、前記還元剤の添加量を、前記銅化合物中の銅量に対して1当量以上7当量以下とする
請求項7乃至11のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
In the said copper particle production | generation process, the addition amount of the said reducing agent shall be 1 equivalent or more and 7 equivalent or less with respect to the copper amount in the said copper compound. Manufacture of the copper powder of any one of Claims 7 thru | or 11 Method.
前記還元剤は、アスコルビン酸である
請求項7乃至12のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
The method for producing copper powder according to any one of claims 7 to 12, wherein the reducing agent is ascorbic acid.
前記銅粉は、該銅粉の結晶子径を、該銅粉を走査型電子顕微鏡により観察して測定される一次粒子の平均粒径で除した値が0.07以上である
請求項7乃至13のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
The copper powder has a value obtained by dividing the crystallite diameter of the copper powder by the average particle diameter of primary particles measured by observing the copper powder with a scanning electron microscope. 14. The method for producing copper powder according to any one of 13 above.
前記銅粉は、結晶子径が60nm以上である
請求項14に記載の銅粉の製造方法。
The method for producing copper powder according to claim 14, wherein the copper powder has a crystallite diameter of 60 nm or more.
前記銅粉は、前記銅粉の一次粒子の粒径の標準偏差値を、前記平均粒径で除した値である粒径の相対標準偏差値が0.3以下である
請求項14又は請求項15に記載の銅粉の製造方法。
The copper powder has a relative standard deviation value of 0.3 or less, which is a value obtained by dividing the standard deviation value of the primary particle diameter of the copper powder by the average particle diameter. 15. The method for producing copper powder according to 15.
前記銅粉は、炭素含有量が0.05質量%以上0.5質量%以下である
請求項14乃至16のいずれか1項に記載の銅粉の製造方法。
The method for producing a copper powder according to any one of claims 14 to 16, wherein the copper powder has a carbon content of 0.05 mass% or more and 0.5 mass% or less.
請求項1乃至5のいずれかに記載の銅粉と、樹脂と、溶媒とを混練することによって製造する
導電性ペーストの製造方法。
The manufacturing method of the electrically conductive paste manufactured by knead | mixing the copper powder in any one of Claims 1 thru | or 5, resin, and a solvent.
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