JP2017116997A - 部品内蔵デバイス、rfidタグ、および部品内蔵デバイスの製造方法 - Google Patents

部品内蔵デバイス、rfidタグ、および部品内蔵デバイスの製造方法 Download PDF

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誠 長村
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Abstract

【課題】チップ状電子部品が熱可塑性樹脂層の積層体内に埋設された構造の部品内蔵デバイスにおいて、積層体内におけるチップ状電子部品の周囲の構造および電気的接続が安定化された、部品内蔵デバイス、それを備えるRFIDタグを得る。
【解決手段】RFID用ICチップ50は入出力端子を有し、積層体11には、RFID用ICチップ50の入出力端子50Ea,50Ebが接続されるパッド電極21a,21b、およびパッド電極21a,21bを端部電極25a,25bに接続するパッド電極接続導体35a,35bを備え、熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、パッド電極接続導体35a,35bが存在する第2領域Z2a,Z2bは、入出力端子50Ea,50Ebが存在する第1領域Z1a,Z1bよりもRFID用ICチップ50の中央寄りである。
【選択図】図3

Description

本発明は、樹脂層の積層体内にチップ状電子部品を内蔵する部品内蔵デバイス、それを備えるRFIDタグ、および部品内蔵デバイスの製造方法に関する。
物品の情報管理等のために用いられるRFIDタグは、所定の情報の保持および所定の無線信号の処理を行うRFID用ICチップと、高周波信号の送受信を行うアンテナ素子とを備え、管理対象となる種々の物品やその包装材に付与されて使用される。
RFIDシステムとしては、13.56MHz帯を利用したHF帯RFIDシステムや900MHz帯を利用したUHF帯RFIDシステムが一般的である。UHF帯RFIDシステムは、通信距離が比較的長く、複数のタグの一括読取りが可能であることが特徴である。UHF帯RFIDタグとしては、特許文献1に開示された構造のタグが知られている。
特許文献1に示されるRFIDタグは、放射素子が形成されたプリント配線板と、RFICを含む電磁結合モジュールとで構成される。電磁結合モジュールは、例えばセラミック基板による給電回路基板と半導体RFICチップとを備え、給電回路基板の下面に外部端子が設けられ、上面にRFICチップが実装され、さらにこのRFICチップを覆うように、給電回路基板の上面に保護膜が被覆される。
特開2015−133153号公報
特許文献1に示されるような、給電回路基板にICチップを実装した構造のモジュールでは、給電回路基板の厚みとICチップの厚みとが足し合わされた高さより低背化することはできず、RFIDタグの薄型化に限界があった。
一方、熱可塑性樹脂層の積層体に所定の導体パターンを形成するとともに、この積層体の内部にICチップを埋設する構造でも、電気的には上記モジュールと同様のモジュールを構成できる。樹脂シートの積層体によるモジュールは薄型化しやすく、柔軟性があるので、薄型で柔軟性が要求されるRFIDタグに適している。
しかし、熱可塑性樹脂層の積層体内にICチップを埋設する構造では、樹脂シートの一括積層時に、ICチップの入出力端子が導通するパッド電極が変形してパッド電極がICチップの縁に接触するおそれがある。図15(A)(B)、図16にその例を示す。図15(A)はRFIDモジュールの主要部の断面図であり、図15(B)はその部分拡大図である。また、図16は別のRFIDモジュールの主要部の部分拡大断面図である。各樹脂シートには所定の導体パターンが形成されていて、複数の樹脂シートを一括積層した際、特に硬質のICチップ50付近での樹脂層の変形(プレス時の樹脂流動)に伴い、パッド電極21a,21bが変形する。
図15(A)(B)、図16に示す例のように、パッド電極21a,21bがICチップ50の縁に接触すると、パッド電極21a,21bがICチップ50と電気的に導通して、電気的特性が劣化したり、動作不良になったりする。
上述の問題は、RFIDモジュールに限らず、チップ状電子部品が熱可塑性樹脂層の積層体内に埋設された構造の部品内蔵デバイス全般に共通するものである。
本発明の目的は、チップ状電子部品が熱可塑性樹脂層の積層体内に埋設された構造の部品内蔵デバイスにおいて、積層体内におけるチップ状電子部品の周囲の構造および電気的接続が安定化された、部品内蔵デバイス、それを備えるRFIDタグ、および部品内蔵デバイスの製造方法を提供することにある。
(1)本発明の部品内蔵デバイスは、
複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体による素子パターン、および前記積層体に埋設されたチップ状電子部品を備える部品内蔵デバイスであって、
前記チップ状電子部品は入出力端子を有し、
前記積層体に、前記チップ状電子部品の入出力端子が直接的または間接的に接続されるパッド電極、および前記パッド電極を前記素子パターンに層間接続するパッド電極接続導体を備え、
前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記チップ状電子部品の中央寄りであることを特徴とする。
上記構成により、平面視で、チップ状電子部品の入出力端子より外側の領域でパッド電極に押圧力が掛からないので、パッド電極の変形による、パッド電極のチップ状電子部品の縁への接触が回避できる。
(2)前記チップ状電子部品は直方体状であり、前記入出力端子は前記チップ状電子部品の底面の中心に対して対称位置に配置されていることが好ましい。これにより、チップ状電子部品のパッド電極に加わる応力が均衡し易くなって、チップ状電子部品の傾きが緩和され、積層体内におけるチップ状電子部品周囲の構造および電気的接続が安定化される。
(3)上記(1)または(2)において、前記パッド電極は、前記入出力端子よりも面積が大きく、前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で前記チップ状電子部品と重ならない領域を有することが好ましい。これにより、各熱可塑性樹脂層(シート)を変更することなく、種々のサイズのチップ状電子部品に適用できる。
(4)本発明のRFIDタグは、
導体パターンによる放射素子を有する可撓性の絶縁体基板と、外部端子を有するRFIDモジュールと、を備え、前記絶縁体基板に前記RFIDモジュールが実装されて、前記外部端子が前記放射素子に接続されたRFIDタグであって、
前記RFIDモジュールは、
複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記外部端子に接続され、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体によるコイル状導体パターン、および前記積層体に埋設されたRFID用ICを備え、
前記RFID用ICは入出力端子を有し、
前記積層体に、前記RFID用ICの入出力端子が直接的または間接的に接続されるパッド電極、および前記パッド電極を前記コイル状導体パターンに層間接続するパッド電極接続導体を備え、
前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記チップ状電子部品の中央寄りであることを特徴とする。
上記構成により、RFID用のICの特性劣化または動作不良が防止された、信頼性の高いRFIDタグが得られる。
(5)上記(4)において、
前記積層体は長手方向を有し、前記コイル状導体パターンは第1コイル状導体パターンおよび第2コイル状導体パターンを含み、第1コイル状導体パターンは前記長手方向の第1端寄りに配置され、第2コイル状導体パターンは前記長手方向の第2端寄りに配置され、前記RFID用ICは、前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記第1コイル状導体パターンと前記第2コイル状導体パターンとの間に配置されることが好ましい。これにより、小型化できるとともに、第1コイル状導体パターンによるコイルと第2コイル状導体パターンによるコイルとの不要結合が抑制される。
(6)本発明の部品内蔵デバイスの製造方法は、複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体による素子パターン、および前記積層体に埋設されたチップ状電子部品を備える部品内蔵デバイスの製造方法であって、
前記チップ状電子部品の入出力端子が接続されるパッド電極を、前記複数の熱可塑性樹脂シートのうち所定の前記熱可塑性樹脂シートに形成する工程と、
前記複数の熱可塑性樹脂シートのうち前記素子パターンと前記パッド電極とを層間接続するパッド電極接続導体形成用の孔を形成し、当該孔に導電ペーストを充填する工程と、
前記チップ状電子部品とともに前記複数の熱可塑性樹脂シートを積層圧着して積層体を形成する工程と、
を備え、
前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体形成用の孔が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記チップ状電子部品の中央寄りであることを特徴とする。
上記製造方法によれば、積層体内におけるチップ状電子部品周囲の構造および電気的接続が安定化された部品内蔵デバイスが得られる。
本発明によれば、積層体内におけるチップ状電子部品周囲の構造および電気的接続が安定化された、部品内蔵デバイスおよびそれを備えるRFIDタグが得られる。
図1は第1の実施形態に係るRFIDモジュール101の斜視図である。 図2はRFIDモジュール101を構成する、熱可塑性樹脂シートおよびそれらに形成される各種導体パターンの例を示す平面図である。 図3(A)は、図2におけるA−A部分での、RFIDモジュール101の断面図である。図3(B)はRFID用ICチップ50の入出力端子50Ea,50Ebから端部電極25a,25bまでの接続部の構造を示す部分拡大断面図である。 図4はRFIDモジュール101の回路図である。 図5は、第2の実施形態に係るRFIDモジュール102Aの平面図である。 図6は図5におけるA−A部分の縦断面図である。 図7は、第2の実施形態に係る別のRFIDモジュール102Bの平面図である。 図8は第3の実施形態に係るRFIDモジュール103の断面図である。 図9は第4の実施形態に係るRFIDタグ204の斜視図である。 図10は、アンテナ基材91に対するRFIDモジュール101の接続部の構造を示す断面図である。 図11は、RFIDタグ204におけるRFIDモジュール101の作用を示す回路図である。 図12(A)は第5の実施形態に係るRFIDタグ205Aの斜視図である。図12(B)はRFIDモジュール101を分離して、放射素子81a,81bの形状を示す斜視図である。 図13は第5の実施形態に係る別のRFIDタグ205Bの斜視図である。 図14は第5の実施形態に係る更に別のRFIDタグ205Cの斜視図である。 図15(A)は熱可塑性樹脂層の積層体内にICチップを単に埋設した場合のRFIDモジュールの主要部の断面図であり、図15(B)はその部分拡大図である。 図16は熱可塑性樹脂層の積層体内にICチップを埋設した場合の、別のRFIDモジュールの主要部の部分拡大断面図である。
以降、図を参照して幾つかの具体的な例を挙げて、本発明を実施するための複数の形態を示す。各図中には同一箇所に同一符号を付している。要点の説明または理解の容易性を考慮して、便宜上実施形態を分けて示すが、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能である。第2の実施形態以降では第1の実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。
《第1の実施形態》
図1は第1の実施形態に係るRFIDモジュール101の斜視図である。この実施形態のRFIDモジュール101は、代表的には900MHz帯、つまりUHF帯の通信周波数に対応するRFIDモジュールであり、直方体形状の積層体11を有する。積層体11は、液晶ポリマーやポリイミド等の熱可撓性樹脂層を積層したものであり、積層体11自体も可撓性を示す。これらの材料からなる各絶縁層の誘電率は、LTCCに代表されるセラミック基材層の誘電率よりも小さい。
積層体11の実装面(図1における視点で上面)には外部端子24a,24bが形成されている。このRFIDモジュール101は、後述するアンテナ基材に実装される。この実装によって、外部端子24a,24bはアンテナ基材上の放射素子に接続される。
図2はRFIDモジュール101を構成する、熱可塑性樹脂シートおよびそれらに形成される各種導体パターンの例を示す平面図である。
熱可塑性樹脂シート(以下、単に「樹脂シート」)11eには、それぞれ矩形スパイラル状の素子パターン20a,20bが形成されている。素子パターン20aの第1端には端部電極25aが形成されていて、第2端には端部電極22aが形成されている。同様に、素子パターン20bの第1端には端部電極25bが形成されていて、第2端には端部電極22bが形成されている。樹脂シート11dには、2つの矩形スパイラル状部を有する素子パターン20cが形成されている。この素子パターン20cの両端に端部電極23a,23bが形成されている。また、この樹脂シート11dにはパッド電極21a,21bが形成されている。樹脂シート11aには外部端子24a,24bが形成されている。樹脂シート11dと11aとの間には、樹脂シート11bともう一つの樹脂シートが存在する。
素子パターン20aの端部電極22aと素子パターン20cの端部電極23aは層間接続導体31aを介して接続される。素子パターン20bの端部電極22bと素子パターン20cの端部電極23bは層間接続導体31bを介して接続される。素子パターン20cの端部電極23a,23bと外部端子24a,24bとは層間接続導体32a,32b,33a,33b,34a,34bを介して接続される。
図3(A)は、図2におけるA−A部分での、RFIDモジュール101の断面図である。図3(A)では厚み方向を誇張して描いている。素子パターン20cのうち左側の矩形スパイラル状部分と素子パターン20aとは実質的に同軸となる関係で重なる。同様に、素子パターン20cのうち右側の矩形スパイラル状部分と素子パターン20bとは実質的に同軸となる関係で重なる。端部電極23aは、層間接続導体32a,33a,34aを介して外部端子24aに接続されている。同様に、端部電極23bは、層間接続導体32b,33b,34bを介して外部端子24bに接続されている。この構造により、素子パターン20cのうち左側の矩形スパイラル状部分と素子パターン20aとで第1コイル状導体パターンを構成し、素子パターン20cのうち右側の矩形スパイラル状部分と素子パターン20bとで第2コイル状導体パターンを構成する。
RFID用ICチップ50は直方体状であり、入出力端子50Ea,50EbはRFID用ICチップ50の底面の対向する2辺に沿った位置に配置されている。入出力端子50Ea,50Ebはパッド電極21a,21bに接続されている。パッド電極接続導体35a,35bはパッド電極21a,21bと端部電極25a,25bとを接続する。
図3(B)はRFID用ICチップ50の入出力端子50Ea,50Ebから端部電極25a,25bまでの接続部の構造を示す部分拡大断面図である。ここでは、熱可塑性樹脂層11a〜11eの積層方向からの平面視で、入出力端子50Ea,50Ebが存在する領域を第1領域Z1a,Z1bで表し、パッド電極接続導体35a,35bが存在する領域を第2領域Z2a,Z2bで表している。図3(B)に表れているように、第2領域Z2a,Z2bは、第1領域Z1a,Z1bよりもRFID用ICチップ50の中央寄りである。
上述の構造により、パッド電極21a,21bが変形しても、その変形によってパッド電極21a,21bがRFID用ICチップ50の縁(図3(B)においてPで示す箇所)への接触することは回避できる。パッド電極21a,21bはパッド電極接続導体35a,35bを介する押圧力によって、RFID用ICチップ50の入出力端子50Ea,50Eb形成面に押しつけられることになるが、RFID用ICチップ50の入出力端子50Ea,50Eb形成面には入出力端子50Ea,50Eb以外の領域が絶縁体膜50Pで被覆されているので、パッド電極21a,21bがRFID用ICチップ50のサブストレートに電気的に接続されることはない。
なお、積層体11は長手方向を有し、上記第1コイル状導体パターンは長手方向の第1端寄りに配置され、上記第2コイル状導体パターンは長手方向の第2端寄りに配置され、RFID用IC50は、熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、第1コイル状導体パターンと第2コイル状導体パターンとの間に配置されている。これにより、RFIDモジュール101が小型化できるとともに、第1コイル状導体パターンによるコイルと第2コイル状導体パターンによるコイルとの不要結合が抑制される。
図4はRFIDモジュール101の回路図である。ここで、インダクタL1,L2は素子パターン20a,20bに相当し、インダクタL3,L4は素子パターン20cに相当する。
本実施形態によれば、パッド電極21a,21bの変形により、パッド電極21a,21bがRFID用ICチップ50の縁に接触することが回避される。
なお、パッド電極21a,21bは、入出力端子50Ea,50Ebよりも面積が大きく、熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視でRFID用ICチップ50と重ならない領域を有する。上述のとおり、パッド電極21a,21bの変形による問題は回避されるので、そのことにより、種々のサイズのRFID用ICチップ50を埋設できる。すなわち、サイズの異なるRFID用ICチップを用いる場合でも、単一種の積層体11を利用できる。
本実施形態のRFIDモジュール101の製造方法は次のとおりである。
(1)片面にCu箔が貼付された熱可塑性樹脂シートを用意し、フォトリソグラフィによりCu箔をパターンニングすることにより、熱可塑性樹脂シート11a〜11eにそれぞれ所定の導体パターンを形成する。すなわち、熱可塑性樹脂シート11eには、素子パターン20a,20bおよび端部電極25a,25bを形成する。熱可塑性樹脂シート11dには素子パターン20cおよびパッド電極21a,21bを形成する。熱可塑性樹脂シート11aには外部端子24a,24bを形成する。その他の熱可塑性樹脂シートにはビア導体が接する電極を形成する。
(2)続いて、レーザー加工法により、熱可塑性樹脂シートの所定位置にビア孔を形成し、スクリーン印刷法等により、そのビア孔内に導電性ペーストを充電する。これら導電性ペーストは、後の加熱・加圧工程でビア導体となる。
(3)RFID用ICチップ50とともに熱可塑性樹脂シート11a〜11eを積層し、加圧、加熱して積層体11を形成する。
(4)以上の各工程は、多数のRFIDモジュール101の集合基板状態で処理され、最後に、個片に分割することで、多数のRFIDモジュール101を得る。
《第2の実施形態》
第2の実施形態では、入出力端子が3つ以上のRFID用ICチップ50を備えるRFIDモジュールの例を示す。
図5は、第2の実施形態に係るRFIDモジュール102Aの平面図である。図6は図5におけるA−A部分の縦断面図である。
この例では、RFID用ICチップ50は4つの入出力端子50Ea,50Eb,50Ec,50Edを備えている。これに伴い、RFIDモジュール102Aは4つのパッド電極21a,21b,21c,21d、4つのパッド電極接続導体35a,35b,35c,35d、および4つの端部電極を含む。図6に表れている端部電極25a,25bは4つの端部電極のうち2つの端部電極である。図5においては、端部電極の図示を省略している。これら4つの端部電極とパッド電極21a,21b,21c,21dとはパッド電極接続導体35a,35b,35c,35dを介して接続されている。
図5、図6から明らかなように、平面視で、入出力端子50Ea,50Eb,50Ec,50Edの形成領域より内側にパッド電極接続導体35a,35b,35c,35dが配置されている。また、平面視でRFID用ICチップ50の中心から放射方向にパッド電極接続導体35a,35b,35c,35dおよび入出力端子50Ea,50Eb,50Ec,50Edが配置されている。
図6においては、熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、入出力端子50Ea,50Eb,50Ec,50Edが存在する領域を第1領域Z1a,Z1bで表し、パッド電極接続導体35a,35b,35c,35dが存在する領域を第2領域Z2a,Z2bで表している。図6に表れているように、第2領域Z2a,Z2bは、第1領域Z1a,Z1bよりもRFID用ICチップ50の中央寄りである。
このように、入出力端子が3つ以上のRFID用ICチップを備えるRFIDモジュールにおいても、RFID用ICチップ50の縁へのパッド電極21a,21b,21c,21dの接触が回避できる。
図7は本実施形態に係る別のRFIDモジュールの平面図である。この例では、RFID用ICチップ50は8つの入出力端子50Ea〜50Ehを備えている。これに伴い、RFIDモジュール102Bは8つのパッド電極21a〜21h、8つのパッド電極接続導体35a〜35h、および8つの端部電極を含む。図7では端部電極の図示は省略している。これら8つの端部電極とパッド電極21a〜21hとはパッド電極接続導体35a〜35hを介して接続されている。
このように、4端子を超える端子数のRFID用ICチップについても、パッド電極接続導体および入出力端子を放射状に配置することで、RFID用ICチップ50の縁へのパッド電極21a〜21hの接触が回避できる。
《第3の実施形態》
第3の実施形態では、RFID用ICチップ50の入出力端子を、層間接続導体を介してパッド電極に接続した例について示す。
図8は第3の実施形態に係るRFIDモジュール103の断面図である。RFID用ICチップ50は直方体状であり、入出力端子50Ea,50EbはRFID用ICチップ50の底面の対向する2辺に沿った位置に配置されている。入出力端子50Ea,50Ebは層間接続導体36a,36bを介してパッド電極21a,21bに接続されている。パッド電極21a,21bと端部電極25a,25bとはパッド電極接続導体35a,35bを介して接続されている。
図8において、熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、入出力端子50Ea,50Ebが存在する領域を第1領域Z1a,Z1bで表し、パッド電極接続導体35a,35bが存在する領域を第2領域Z2a,Z2bで表している。図8に表れているように、第2領域Z2a,Z2bは、第1領域Z1a,Z1bよりもRFID用ICチップ50の中央寄りである。
このように、RFID用ICチップ50の入出力端子が層間接続導体36a,36bを介してパッド電極21a,21bに接続される構成であっても、上述の構造により、パッド電極21a,21bの変形によってパッド電極21a,21bがRFID用ICチップ50の縁へ接触することが回避できる。
《第4の実施形態》
第4の実施形態ではRFIDタグの例を示す。本実施形態のRFIDタグは、例えばリネン管理用のタグ、ユニフォーム管理等に用いられる衣類のラベルタグ、各種ネームタグ等に適用される。
図9は第4の実施形態に係るRFIDタグ204の斜視図である。このRFIDタグ204は、導体パターンによる放射素子81a,81bが形成されたアンテナ基材91と、RFIDモジュール101を備えている。RFIDモジュール101の構成は第1の実施形態で示したとおりである。
放射素子81a,81bはダイポールアンテナを構成する。アンテナ基材91は、PET等の可撓性を有する樹脂シートである。また、放射素子81a,81bは、アルミニウム箔または銅箔等の可撓性を有する導体である。
図10は、アンテナ基材91に対するRFIDモジュール101の接続部の構造を示す断面図である。RFIDモジュール101の外部端子24a,24bは放射素子81a,81bにはんだ38a,38bを介して接続される。RFIDモジュール101は、外部端子24a,24bの形成領域とRFID用ICチップ50の埋設領域はそれぞれリジッド領域であり、それ以外はフレキシブル領域である。そのため、RFIDタグ204が湾曲しても、アンテナ基材91およびRFIDモジュール101は図10に示すように撓んで、RFID用ICチップ50には大きな曲げ応力が掛からない。
図11は、RFIDタグ204におけるRFIDモジュール101の作用を示す回路図である。外部端子24a,24bの間には、RFID用ICチップ50内の容量Cpが存在し、RFIDタグ204では2つの共振が発生する。第1の共振は放射素子81a,81b、インダクタL3,L4で構成される、電流i1で示す電流経路に生じる共振であり、第2の共振は、インダクタL1〜L4および容量Cpで構成される、電流i2で示す電流経路(電流ループ)に生じる共振である。この2つの共振は、各電流経路に共有されるインダクタL3〜L4によって結合される。
上記第1の共振による共振周波数および第2の共振による共振周波数のいずれも、インダクタL3〜L4の影響を受ける。第1の共振による共振周波数と第2の共振による共振周波数との間には数10MHz(具体的には5〜50MHz程度)の差を生じさせている。このように2つの共振を結合させることで、広帯域の共振周波数特性を得る。
《第5の実施形態》
第5の実施形態では、アンテナ基材および放射素子の形状が、第4の実施形態で示したものとは異なる幾つかのRFIDタグについて示す。
図12(A)は第5の実施形態に係るRFIDタグ205Aの斜視図である。図12(B)はRFIDモジュール101を分離して、放射素子81a,81bの形状を示す斜視図である。放射素子82a,82bの長さ方向中央には、長方形の貫通孔HL2が設けられ、さらに外縁から貫通孔HL2に達する切り欠きCT1が設けられる。このように、RFIDモジュールの実装位置に整合用導体パターンを形成してもよい。
図13は第5の実施形態に係る別のRFIDタグ205Bの斜視図である。アンテナ基材92には、一部が開放された方形ループ状の放射素子83が形成されていて、この開放部にRFIDモジュール101の外部端子が接続される。
図14は第5の実施形態に係る更に別のRFIDタグ205Cの斜視図である。アンテナ基材92には、図12(B)に示した放射素子と同様の貫通孔HL2および切り欠きCT1を有する方形ループ状の放射素子84が形成されていて、この切り欠きCT1の両端にRFIDモジュール101の外部端子が接続される。
図12(A)(B)、図14に示すように、放射素子に整合用導体パターンが形成されていてもよい。また、図13、図14に示すように、放射素子はループ状であってもよい。
なお、図3に示した例では、第1領域Z1a,Z1bと第2領域Z2a,Z2bとは一部重なっていて、図8に示した例では、第1領域Z1a,Z1bと第2領域Z2a,Z2bとが隣接しているが、第1領域Z1a,Z1bと第2領域Z2a,Z2bとは離れていてもよい。
なお、以上に示した例では、異なる層に形成されている導体同士を接続する層間接続導体の例としてビア導体を挙げた。ビア導体は、シートにあけた孔(ビアホール導体用孔)に導電性ペースト等の導電材料を充填し、これを金属化したものであるが、層間接続導体としては、その他に、孔の内面にめっき等で金属膜を形成したスルーホール導体や、金属ピンやスタッド状はんだ等の金属体が挙げられる。
最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形および変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。
Cp…容量
CT1…切り欠き
HL2…貫通孔
L1〜L4…インダクタ
Z1a,Z1b…第1領域
Z2a,Z2b…第2領域
11…積層体
11a〜11e…熱可塑性樹脂シート(熱可塑性樹脂層)
20a,20b,20c…素子パターン
21a〜21h…パッド電極
22a,22b,23a,23b…端部電極
24a,24b…外部端子
25a,25b…端部電極
31a,32a,33a,34a,31b,32b,33b,34b…層間接続導体
35a〜35h…パッド電極接続導体
36a,36b…層間接続導体
50…RFID用ICチップ(チップ状電子部品)
50Ea〜50Eh…入出力端子
50P…絶縁体膜
81a,81b,82a,82b,83,84…放射素子
91,92…アンテナ基材
101,102A,102B,103…RFIDモジュール(部品内蔵デバイス)
204,205A,205B,205C…RFIDタグ

Claims (6)

  1. 複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体による素子パターン、および前記積層体に埋設されたチップ状電子部品を備える部品内蔵デバイスであって、
    前記チップ状電子部品は入出力端子を有し、
    前記積層体に、前記チップ状電子部品の入出力端子が直接的または間接的に接続されるパッド電極、および前記パッド電極を前記素子パターンに層間接続するパッド電極接続導体を備え、
    前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記チップ状電子部品の中央寄りであることを特徴とする、部品内蔵デバイス。
  2. 前記チップ状電子部品は直方体状であり、前記入出力端子は前記チップ状電子部品の底面の中心に対して対称位置に配置されている、請求項1に記載の部品内蔵デバイス。
  3. 前記パッド電極は、前記入出力端子よりも面積が大きく、前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で前記チップ状電子部品と重ならない領域を有する、請求項1または2に記載の部品内蔵デバイス。
  4. 導体パターンによる放射素子を有する可撓性の絶縁体基板と、外部端子を有するRFIDモジュールと、を備え、前記絶縁体基板に前記RFIDモジュールが実装されて、前記外部端子が前記放射素子に接続されたRFIDタグであって、
    前記RFIDモジュールは、
    複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記外部端子に接続され、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体によるコイル状導体パターン、および前記積層体に埋設されたRFID用ICを備え、
    前記RFID用ICは入出力端子を有し、
    前記積層体に、前記RFID用ICの入出力端子が直接的または間接的に接続されるパッド電極、および前記パッド電極を前記コイル状導体パターンに層間接続するパッド電極接続導体を備え、
    前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記RFID用ICの中央寄りであることを特徴とする、RFIDタグ。
  5. 前記積層体は長手方向を有し、
    前記コイル状導体パターンは第1コイル状導体パターンおよび第2コイル状導体パターンを含み、
    第1コイル状導体パターンは前記長手方向の第1端寄りに配置され、第2コイル状導体パターンは前記長手方向の第2端寄りに配置され、前記RFID用ICは、前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記第1コイル状導体パターンと前記第2コイル状導体パターンとの間に配置された、請求項4に記載のRFIDタグ。
  6. 複数の熱可塑性樹脂層の積層体、前記熱可塑性樹脂層に形成された導体による素子パターン、および前記積層体に埋設されたチップ状電子部品を備える部品内蔵デバイスの製造方法であって、
    前記チップ状電子部品の入出力端子が接続されるパッド電極を、前記複数の熱可塑性樹脂シートのうち所定の前記熱可塑性樹脂シートに形成する工程と、
    前記複数の熱可塑性樹脂シートのうち前記素子パターンと前記パッド電極とを層間接続するパッド電極接続導体形成用の孔を形成し、当該孔に導電ペーストを充填する工程と、
    前記チップ状電子部品とともに前記複数の熱可塑性樹脂シートを積層圧着して積層体を形成する工程と、
    を備え、
    前記熱可塑性樹脂層の積層方向からの平面視で、前記パッド電極接続導体形成用の孔が存在する第2領域は、前記入出力端子が存在する第1領域よりも前記チップ状電子部品の中央寄りであることを特徴とする、部品内蔵デバイスの製造方法。
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